JP3844151B2 - Surface treatment equipment - Google Patents

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JP3844151B2
JP3844151B2 JP13920397A JP13920397A JP3844151B2 JP 3844151 B2 JP3844151 B2 JP 3844151B2 JP 13920397 A JP13920397 A JP 13920397A JP 13920397 A JP13920397 A JP 13920397A JP 3844151 B2 JP3844151 B2 JP 3844151B2
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シート状、フィルム状,箔状、帯状あるいは板状等の平らな被処理物などに適する大気圧プラズマ放電による表面処理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
シート状、フィルム状、箔状、帯状、板状等の平らな被処理物の表面改質方法としては、塗工処理、酸アルカリ等への浸漬処理等の湿式処理方式、コロナ放電処理、フレーム処理および紫外線等による光改質処理方式、あるいは低温プラズマ処理等の乾式処理方式等が提案されている。このような処理方式の中でも低温プラズマ処理方式は、熱による材料への影響が無く、非接触で、しかも高速かつ均一に処理ができるほか、処理後の洗浄や乾燥などの処置が必要でないため、広く使用されている。なお、ここでいう低温プラズマ処理とは、低温プラズマ状態の処理雰囲気に被処理物の表面を接触させることにより表面改質を行う方法のことをいう。
【0003】
また、低温プラズマ状態とは、「自由に動きうる多数の正イオンと負イオン(電子を含む)が巨視的に電気的中性を保って存在している状態と定義されるプラズマ状態のなかで、プラズマを構成している種のうち電子の平均エネルギーがイオンや中性種の平均エネルギーよりも大きな状態にあるプラズマ状態を指す」と定義されており、非平衡プラズマ状態とも呼ばれている。
【0004】
ところが、低温プラズマは真空中でしか発生しないため装置が大型化し工程が煩雑になる問題があった。また、真空装置中で処理を行うためシート状物等を連続して処理することが難しいという問題もあった。
【0005】
このような問題を解消するため、大気圧プラズマ放電処理方法と呼ばれる処理方法が提案されている。この大気圧プラズマ放電処理方法は、低温プラズマ処理方法の中でも誘電体を備えた対向した電極間をヘリウムガスあるいはヘリウムガスを主成分とした混合ガスで満たし、該電極間に高電圧をかけることで発生する大気圧低温プラズマ放電領域を利用して被処理物の表面を処理するものである。
【0006】
この大気圧低温プラズマ処理は、特開平3−143930号公報に記載されているように、シート状の被処理物を連続的に放電処理する方法として提案されている。
【0007】
は、従来の大気圧プラズマ放電による表面処理装置の概略図である。この図において、処理室101は中空状の立体で構成されており、この処理室101には被処理物通過路102が設けられている。この処理室101の内部には、被処理物通過路102に対向させて誘電体を備えた電極103が設けられている。これら電極103の間には、高圧電源104から高電圧を印加できるようにしてある。前記処理室101には、ガス供給口105と、ガス排気口106が設けられている。このガス供給口105には、ヘリウムガスあるいはヘリウムガスを主成分とする混合ガスが供給できるようにしてある。処理室101の内部のヘリウムガス又は混合ガスはガス排気口106から排気できるようにしてある。そして、被処理物107は、前記被処理物通過路102を通って電極103の間を通過するようになっている。
【0008】
この表面処理装置において、ヘリウムガスあるいはヘリウムガスを主成分とする混合ガスはガス供給口105を介して処理室101に供給され、かつ処理室101の内部のヘリウムガス又は混合ガスはガス排気口106から排気される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の大気圧プラズマ連続処理装置は、特開平3一143930号公報に記載されているように、対向した電極103を備えた放電室101の内部をヘリウムガスあるいはヘリウムガスを主成分とする混合ガスで充満させた状態で放電させる方法をとるため、被処理面の両面に位置するガス組成が必然的に同じとなり、放電状態も同じになるため、被処理物の両面が同時に同一処理されてしまい、両表面の処理効果が異なった被処理物が得られないという問題があった。
【0010】
本発明は、被処理物の片面のみを所望の表面処理することを可能とした表面処理装置を提供することを第1の目的としている。また、本発明は、処理された表裏面の特性が異なる被処理物を得ることができる表面処理装置を提供することを第2の目的としている。
【0018】
【課題を解決するための手段】
上記第の目的を達成するため、請求項記載の発明に係る表面処理装置は、対向して設けた一組の電極間に平らな被処理物を通過可能とし、前記平らな被処理物を雰囲気ガスの雰囲気にさらしつつ当該電極間に高電圧をかけてプラズマ放電領域を発生させて前記被処理物を処理する表面処理装置において、
重ね合わされた被処理物の両端を接合してチューブ状の被処理物とする密着機構と、
この密着機構で密着された被処理物を通し、内部空間を有する立体にチューブ状の被処理物が通過可能な被処理物通過口を設けてなる処理室と、
前記処理室の内部で前記被処理物が通る通路に対向させてそれぞれ配置した電極と、前記各電極を通過したチューブ状の被処理物を圧接する圧接機構部と、
前記密着機構側からチューブ状の被処理物内部に突設してなるガス供給ノズルと、
前記圧接機構部を通過したチューブ状の被処理物の両端接合部を切断する切断機構とを
備えたことを特徴とする。
【0019】
上記第の目的を達成するために、請求項記載の発明に係る表面処理装置は、対向して設けた一組の電極間に平らな被処理物を通過可能とし、前記平らな被処理物を雰囲気ガスの雰囲気にさらしつつ当該電極間に高電圧をかけてプラズマ放電領域を発生させて前記被処理物を処理する表面処理装置において、
重ね合わされた被処理物の両端を接合してチューブ状の被処理物とする密着機構と、
この密着機構で密着された被処理物を通し、内部空間を有する立体にチューブ状の被処理物が通過可能な被処理物通過口を設けてなる処理室と、
前記処理室の内部で前記被処理物が通る通路に対向させてそれぞれ配置した電極と、
前記各電極を通過したチューブ状の被処理物を圧接する圧接機構部と、
前記密着機構側からチューブ状の被処理物内部に突設してなるガス供給ノズルと、
前記処理室に設けたガス吸排気口と、
前記圧接機構部を通過したチューブ状の被処理物の両端接合部を切断する切断機構とを備えたことを特徴とする。
【0034】
【発明の実施の形態】
〔第の実施の形態〕
および図は本発明の第の実施の形態を説明するためのものであり、図は同装置の斜視図、図は同装置の横断面図である。
【0035】
これらの図において、表面処理装置は、密着機構50と、処理室51と、電極53、54と、高圧電源55と、ニップロール部56と、両端切断機構57と、補助ローラ58と、ガス供給ノズル59とを備え、次のように構成されている。上側フィーダー部Rauには第1の被処理物65uが巻かれており、下側フィーダー部Radには第2の被処理物65dが巻かれている。
【0036】
この上側フィーダー部Rauは、密着機構50の図示左上側に配置されている。また、この第2の被処理物65dは、密着機構50の図示左下側に配置されている。これら上側フィーダー部Rauおよび下側フィーダー部Radは図示しない駆動装置により所定の速度で回転させられるようになっており、第1の被処理物65uおよび第2の被処理物65dが所定の速度で繰り出されるようになっている。
【0037】
密着機構50は、第1の被処理物65uおよび第2の被処理物65dを重ね合わせるとともに、それら重ね合わさった被処理物65u、65dの両端部同士を密着してチューブ状に形成できるような構成としてある。この密着機構50では、ヒートシール、インパルスシール、高周波シール等の熱シールや、ホットメルト接着剤の糊を塗布するグルーシール等が採用される。
【0038】
この密着機構50の図示右側には、処理室51が配置されている。この処理室51は、その内部に空間を有し、対向する面にチューブ状の被処理物65u、65dが通過可能な被処理物通過口60をそれぞれ設け、この被処理物通過口60を前記チューブ状の被処理物65u、65dが通過できる。
【0039】
前記第1の被処理物65uおよび第2の被処理物65dの内部には、被処理物65u、65dが移動する通路に対向させて電極53、54がそれぞれ配置されている。この電極53、54は、それぞれ表面をセラミック等の誘電体で覆われている。
【0040】
前記電極53、54の図示右側には、圧接機構部であるニップロール部56が配置されている。このニップロール部56はチューブ状の被処理物65u、65dを圧接してニップロール部56の図示右側に混合ガスが漏れないようにしてある。
【0041】
また、ガス供給ノズル59は、一定の高さに固定されていて、かつ密着機構50の図示左側からチューブ状の被処理物65u、65dの内部であって電極53、54の直前まで突設配置されている。このガス供給ノズル59は、混合ガス供給装置61に連通されている。このガス供給ノズル59は、図では円筒型をしているが、偏平の平らな形状のものであってもよい。
【0042】
また、ニップロール部56の図示右側には、両端切断機構57が配設されている。この両端切断機構57は、チューブ状にされかつ処理を終了した被処理物65u’、65d’の両端を切り裂いて、再び独立した第1の被処理物65u’と第2の被処理物65d’に分離できるようにするための機構である。
【0043】
この両端切断機構57の右側には一対の補助ローラ58、58が配置されており、第1の被処理物65u’と第2の被処理物65d’を圧接し、両端切断機構57の機能を補助するようになっている。
【0044】
この補助ローラ58、58を通過した第1の被処理物65u’と第2の被処理物65d’はそれぞれフィーダー部Rbu、Rbdに巻き取られるようになっている。このフィーダー部Rbu、Rbdは、駆動装置(図示せず)により一定の回転速度で回転できるようになっている。
【0045】
電極53、54は高圧電源55に接続されており、高圧電源55から電力の供給を受けられるようになっている。
【0046】
このように構成された第の実施の形態の動作について説明する。被処理物65u、65dは、フィーダー部Rau、Radから供給される。これら被処理物65u、65dは、密着機構50において重ね合わされるとともに各被処理物65u、65dの両端同士が密着される。これにより、これら被処理物65u、65dはチューブ状に形成される。
【0047】
前記ガス供給ノズル59からはヘリウムガスの単成分ガスまたはヘリウムガスを主成分とする混合ガスの処理ガスがチューブ状の被処理物65u、65dの内部に常に供給されている。この処理ガスは、ヘリウムガスあるいはヘリウムガスを主成分とする混合ガスであることが必要であり、かつ望ましくは、ヘリウムガス50〜100体積%とアルゴン0〜50体積%の組成の不活性ガスが混合ガス全体の95体積%以上であることが好ましい。これらの放電ガスに添加するガスは表面処理目的によって種々のガスから選択することができる。例えば、親水性を高めるためには酸素、炭酸ガス、窒素、水素、一酸化ガス等の無機ガスを添加するとヘリウムガスからなる単成分ガス又はヘリウムガスを主成分とする混合ガスの場合より親水性が増す効果がある。被処理物の処理表面の撥水性を高めるためには、メタン、エチレン等の炭化水素、あるいはCF 等の極性の低いガスを添加するとよい。この処理ガスがチューブ状の被処理物65u、65dに供給されることにより、被処理物65u、65dは図示のごとく所定の幅に膨らんだ状態で電極53、54の間を通過する。
【0048】
また、電極53、54に高圧電源55から高電圧が印加されることにより、被処理物65u、65dの包摂する空間に処理ガスが満たされていることから、被処理物65u、65dの包摂する空間には安定したグロー放電プラズマが発生し、チューブ状の被処理物65u、65dの内側表面のみがグロー放電プラズマにより処理されることになる。
【0049】
そして、処理が終わったチューブ状の被処理物65u’、65d’は、ニップロール部56を通り、両端切断機構57によりチューブ状の被処理物65u’、65d’の両端部が切り取られた後、補助ローラ58を通過して、第1の被処理物65u’はフィーダー部Rbuに、第2の被処理物65d’はフィーダー部Rbdに、それぞれ巻き取られる。
【0050】
このような第の実施の形態によれば、チューブ状の被処理物65u、65dを処理室51内の電極53、54の間を通過させ、単成分ガス又は混合ガスの処理ガスを密着機構50側からガス供給ノズル59を介してチューブ状の被処理物65u、65dの内部に満たし,電極53、54間に高電圧をかけることにより大気圧プラズマ放電領域を被処理物65u、65dの内部の片面のみに発生させて、被処理物65u、65dの片面のみを大気圧プラズマ放電処理をすることができる。
【0051】
上記第の実施の形態では、二つの被処理物65u、65dの両端を密着させてチューブ状の被処理物65u、65dとしていたが、これに代えて1枚の被処理物65を流れ方向に中心から折り、両端をチューブ状に形成してもよい。この場合、ガス供給ノズル59の配置状態を重ね合わせる側から入れるようにする必要がある。
【0052】
また、密着機構50から電極53、54の間にガイドベルトを配置し、被処理物65u、65dの端部同士を上記ガイドベルトで挟み込むことにより被処理物65u、65dのチューブ状にして、被処理物65u、65dで内包する空間を設けるようにしてもよい。この場合には、ガイドベルトおよびガイドベルトを固定する部材を、全て放電に影響しない誘電性素材のものとする必要がある。
【0053】
さらに、上記実施の形態では、圧接機構部は、ニップロール部56がロールで被処理物65u、65dを圧接する方式としたが、これに限らず上記チューブ状の被処理物65u、65dで内包する空間に充填された処理ガスが流出しないような構造であればどのような構造であってもよい。例えばシールバーを設けてシールすることにより、上記チューブ状の被処理物65u、65dで内包する空間に充填された処理ガスが流出するのを防止してもよい。この場合、断続的にシールすることになり、内面だけ表面処理した袋状の構造物を得ることができる。
【0054】
〔第の実施の形態〕
は本発明の第の実施の形態を説明するための断面図である。この第の実施の形態は、第の実施の形態における処理室51にも混合ガスを導入できるようにしたものである。したがって、第の実施の形態と同一構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【0055】
すなわち、第の実施の形態は、処理室51aの一面にガス吸気口67を、処理室51aの他面にガス排気口68を、それぞれ設けたものであり、他の構成は第の実施の形態と全く同一構成としたものである。
この第の実施の形態によれば、ガス吸気口67とガス排気口68とを利用して処理室51aの内部に、チューブ状の被処理物65u、65dの内包する雰囲気内のガスとは組成の異なるガスを充満させることができる。
このため、被処理物65u、65dの表裏面を同時に異なる表面処理を行うことができる。
【0056】
【実施例】
以下.本発明の具体的実施例を説明する。
【0076】
(実施例
被処理基材として、300mm幅の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(25μ)の、両端部分に10mm幅で流れ方向にヒートシールラッカーをパートコートしたフィルム2本を使用し、図2における密着部50で2枚の上記処理基材の両端部同士をヒートシールすることにより、チューブ状とし、誘電体で表面を覆った対向する電極53、54間に通す。該チューブ状被処理基材65u、65dの内包する空間に、表1中の内側処理ガスの項に示す処理雰囲気ガスを、表記の流量にて供給し、図2における処理室51内に、表1中の外側処理ガスの項に示す処理雰囲気ガスを、表記の流量にて供給した.5KHzの高周波電源により上記電極間の該チューブ状被処理基材の包接する空間でグロー放電プラズマを発生させ、或いは該チューブ状被処理基材の内側と外側で異質のグロー放電プラズマを発生させ、大気圧グロー放電プラズマ処理を施した。その後ヒートシール部を両端切断機構57で切り裂いて独立した表面改質基材を得た。加工速度は20m/分とし、放電出力は1.5KWとした。放電状態を表1に示す。
【0077】
比較例1
上記チューブ状被処理基材の内包する空間に供給する処理雰囲気ガスを、表1中に記載するように変更した以外は実施例1と同様に大気圧グロー放電プラズマ処理を行い、表面改質基材を得た。放電状態を表1に示す。
【0078】
比較例2
被処理基材として、300mm幅の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(25μ)を使用し、図3に示す如き大気圧グロー放電プラズマ処理装置を用いて、図3における処理室51内を表1中の外側処理ガスの項に示す処理雰囲気ガスを、表記の流量にて満たし、5KHzの高周波電源により表面を覆った対向する電極間にグロー放電プラズマを発生させ、大気圧グロー放電プラズマ処理を施し、表面処理基材を得た。加工速度は20m/分とし、放電出力は1.5KWとした。放電状態を表1示す。
【0079】
比較例3
比較例3として、表面改質していない二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(25μ)を用いた。
【0080】
こうして得られた表面改質基材について、表裏面の蒸留水の接触角、及び濡れ試験液による表面の濡れ指数を以下に示す方法に従って測定した。結果を表2に示す。なお被処理基材は、チューブ状に成型した際の内側表面をオモテ面、外側表面をウラ面とした。
水接触角 被処理物の各表面の純水の接触角を接触角計(協和界面科学株式会社製、CA−Z型)用いて測定した。単位は角度である。
【0081】
【表1】

Figure 0003844151
【0082】
【表2】
Figure 0003844151
【0083】
以上から、本発明の実施例1、2では、オモテ面のみが効果的に表面改質されており、ウラ面には全く影響がないのが分かる。また放電も安定しており、均一に処理されていることが分かる。一方比較例1では、処理雰囲気ガス中に占めるヘリウムガスの濃度が50%未満であるため、安定したグロー放電プラズマが得られず、処理の均一性が低い。また比較例2ではオモテ面、ウラ面ともに同様の特性を有する表面となり、表裏面の表面特性を異にすることは出来ない。さらに本発明の実施例3では、オモテ面を撥水性に、ウラ面を親水性に同時に表面改質されていることが分かる。加えて本発明の大気圧グロー放電プラズマ処理方法を用いることで、高価な処理雰囲気ガスの使用量を大幅に抑えることが出来ると言える。
【0089】
【発明の効果】
請求項1記載の発明によれば、重ね合わされた被処理物の両端を接合してチューブ状の被処理物とする密着機構と、この密着機構で密着された被処理物を通し、内部空間を有する立体にチューブ状の被処理物が通過可能な被処理物通過口を設けてなる処理室と、前記処理室の内部で前記被処理物が通る通路に対向させてそれぞれ配置した電極と、前記各電極を通過したチューブ状の被処理物を圧接する圧接機構部と、前記密着機構側からチューブ状の被処理物内部に突設してなるガス供給ノズルと、前記圧接機構部を通過したチューブ状の被処理物の両端接合部を切断する切断機構とを備えたので、被処理物の片面のみをプラズマ処理することができる。
【0090】
請求項2記載の発明によれば、重ね合わされた被処理物の両端を接合してチューブ状の被処理物とする密着機構と、この密着機構で密着された被処理物を通し、内部空間を有する立体にチューブ状の被処理物が通過可能な被処理物通過口を設けてなる処理室と、前記処理室の内部で前記被処理物が通る通路に対向させてそれぞれ配置した電極と、前記各電極を通過したチューブ状の被処理物を圧着する圧接機構部と、前記密着機構側からチューブ状の被処理物内部に突設してなるガス供給ノズルと、前記処理室処理室に設けたガス吸排気口と、前記圧接機構部を通過したチューブ状の被処理物の両端接合部を切断する切断機構とを備えたので、被処理物の両面をプラズマ処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態を示す斜視図である。
【図2】同第1の実施の形態を示す横断面図である。
【図3】同第2の実施の形態を示す横断面図である。
【図4】従来装置を示す断面図である。
【符号の説明】
51、51a 処理室
53、54 電極
55 高圧電源
56 圧接機構部
57 両端切断機構
58 補助ローラ
59 ガス供給ノズル
60 被処理物通過口
65u、65d 被処理物[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a surface treatment apparatus using atmospheric pressure plasma discharge suitable for flat objects such as sheets, films, foils, strips or plates.
[0002]
[Prior art]
Surface treatment methods for flat objects such as sheets, films, foils, strips, plates, etc. include wet treatment methods such as coating treatment, immersion treatment in acid alkali, corona discharge treatment, frame There have been proposed photo-modification treatment methods such as treatment and ultraviolet rays, or dry treatment methods such as low-temperature plasma treatment. Among these treatment methods, the low-temperature plasma treatment method has no influence on the material due to heat, can be processed in a non-contact, high-speed and uniform manner, and does not require treatment such as cleaning or drying after treatment. Widely used. Note that the low-temperature plasma treatment here refers to a method of performing surface modification by bringing the surface of an object to be processed into contact with a processing atmosphere in a low-temperature plasma state.
[0003]
In addition, the low-temperature plasma state is “a plasma state defined as a state in which a large number of positive ions and negative ions (including electrons) that can move freely exist macroscopically while maintaining electrical neutrality. It is defined as “a plasma state in which the average energy of electrons among the species constituting the plasma is larger than the average energy of ions and neutral species”, and is also called a non-equilibrium plasma state.
[0004]
However, since low temperature plasma is generated only in vacuum, there is a problem that the apparatus becomes large and the process becomes complicated. In addition, since processing is performed in a vacuum apparatus, there is a problem that it is difficult to continuously process sheet-like materials.
[0005]
In order to solve such a problem, a processing method called an atmospheric pressure plasma discharge processing method has been proposed. This atmospheric pressure plasma discharge treatment method is a method of filling a gap between opposed electrodes with a dielectric with helium gas or a mixed gas containing helium gas as a main component and applying a high voltage between the electrodes. The surface of the object to be processed is processed by using the generated atmospheric pressure low temperature plasma discharge region.
[0006]
This atmospheric pressure low temperature plasma treatment has been proposed as a method for continuously discharging a sheet-like object to be treated as described in JP-A-3-143930.
[0007]
FIG. 4 is a schematic view of a conventional surface treatment apparatus using atmospheric pressure plasma discharge. In this figure, a processing chamber 101 is constituted by a hollow solid body, and a processing object passage path 102 is provided in the processing chamber 101. An electrode 103 provided with a dielectric is provided inside the processing chamber 101 so as to face the workpiece passage 102. A high voltage can be applied between these electrodes 103 from a high-voltage power supply 104. The processing chamber 101 is provided with a gas supply port 105 and a gas exhaust port 106. The gas supply port 105 can be supplied with helium gas or a mixed gas containing helium gas as a main component. The helium gas or mixed gas inside the processing chamber 101 can be exhausted from the gas exhaust port 106. Then, the workpiece 107 passes between the electrodes 103 through the workpiece passage 102.
[0008]
In this surface treatment apparatus, helium gas or a mixed gas containing helium gas as a main component is supplied to the processing chamber 101 via the gas supply port 105, and helium gas or mixed gas inside the processing chamber 101 is supplied to the gas exhaust port 106. Exhausted from.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, the conventional atmospheric pressure plasma continuous processing apparatus has helium gas or helium gas as a main component in the inside of the discharge chamber 101 provided with the opposed electrodes 103 as described in Japanese Patent Laid-Open No. 3143939. Since the discharge is performed in a state of being filled with the mixed gas, the gas composition located on both sides of the surface to be processed is inevitably the same, and the discharge state is also the same. As a result, there is a problem that it is impossible to obtain a workpiece having different treatment effects on both surfaces.
[0010]
The first object of the present invention is to provide a surface treatment apparatus capable of performing a desired surface treatment on only one surface of an object to be treated. Moreover, this invention makes it the 2nd objective to provide the surface treatment apparatus which can obtain the to-be-processed object from which the characteristic of the processed front and back is different.
[0018]
[Means for Solving the Problems]
To achieve the first object, the surface treatment apparatus according to the first aspect of the present invention, and can pass through the flat object to be processed between a pair of electrodes disposed opposite said planar object to be processed In a surface treatment apparatus for treating the object to be processed by generating a plasma discharge region by applying a high voltage between the electrodes while exposing the atmosphere to an atmosphere of an atmosphere gas,
An adhesion mechanism that joins both ends of the superposed workpieces to form a tubular workpiece;
A processing chamber provided with a processing object passage port through which a tube-shaped processing object can pass through a solid body having an internal space through the processing object closely adhered by the adhesion mechanism;
An electrode disposed opposite to a passage through which the object to be processed passes inside the processing chamber, and a pressure contact mechanism unit that presses the tube-shaped object to be processed that has passed through the electrodes,
A gas supply nozzle that protrudes from the contact mechanism side into the tube-shaped workpiece;
And a cutting mechanism that cuts both end joints of the tube-shaped workpiece that has passed through the press-contact mechanism .
[0019]
In order to achieve the second object, a surface treatment apparatus according to a second aspect of the present invention allows a flat workpiece to pass between a pair of electrodes provided opposite to each other, and the flat workpiece. In the surface treatment apparatus for treating the object to be processed by generating a plasma discharge region by applying a high voltage between the electrodes while exposing the object to the atmosphere of the atmosphere gas,
An adhesion mechanism that joins both ends of the superposed workpieces to form a tubular workpiece;
A processing chamber provided with a processing object passage port through which a tube-shaped processing object can pass through a solid body having an internal space through the processing object closely adhered by the adhesion mechanism;
An electrode disposed opposite to a passage through which the object to be processed passes inside the processing chamber;
A pressure-contacting mechanism portion that press-contacts the tube-shaped workpiece that has passed through each of the electrodes;
A gas supply nozzle that protrudes from the contact mechanism side into the tube-shaped workpiece;
A gas inlet / outlet provided in the processing chamber;
And a cutting mechanism that cuts both end joints of the tube-shaped workpiece that has passed through the press-contact mechanism .
[0034]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
First Embodiment
FIG. 1 and FIG. 2 are for explaining a first embodiment of the present invention. FIG. 1 is a perspective view of the apparatus, and FIG. 2 is a transverse sectional view of the apparatus.
[0035]
In these figures, the surface treatment apparatus includes an adhesion mechanism 50, a treatment chamber 51, electrodes 53 and 54, a high voltage power supply 55, a nip roll portion 56, a both-end cutting mechanism 57, an auxiliary roller 58, and a gas supply nozzle. 59, and is configured as follows. A first workpiece 65u is wound around the upper feeder portion Rau, and a second workpiece 65d is wound around the lower feeder portion Rad.
[0036]
The upper feeder portion Rau is disposed on the left upper side of the contact mechanism 50 in the figure. In addition, the second object 65d is disposed on the lower left side of the contact mechanism 50 in the figure. The upper feeder portion Rau and the lower feeder portion Rad are rotated at a predetermined speed by a driving device (not shown), and the first workpiece 65u and the second workpiece 65d are rotated at a predetermined speed. It has come out.
[0037]
The contact mechanism 50 can superimpose the first object 65u and the second object 65d and can form both ends of the overlapped objects 65u and 65d in a tube shape. As a configuration. In the close contact mechanism 50, heat seal such as heat seal, impulse seal, high frequency seal, glue seal for applying hot melt adhesive paste, or the like is employed.
[0038]
A processing chamber 51 is disposed on the right side of the contact mechanism 50 in the figure. The process chamber 51 has a space therein, provided opposite the tubular object to be processed surface 65u, 65d can pass the object to be treated passes through port 60, respectively, said the object to be treated passes through port 60 Tube-shaped workpieces 65u and 65d can pass through.
[0039]
Electrodes 53 and 54 are respectively disposed inside the first object 65u and the second object 65d so as to face the path through which the objects 65u and 65d move. The electrodes 53 and 54 are each covered with a dielectric material such as ceramic.
[0040]
On the right side of the electrodes 53 and 54 in the drawing, a nip roll portion 56 as a pressure contact mechanism portion is disposed. The nip roll portion 56 presses the tube-shaped workpieces 65u and 65d so that the mixed gas does not leak to the right side of the nip roll portion 56 in the figure.
[0041]
Further, the gas supply nozzle 59 is fixed at a certain height, and is provided so as to project from the left side of the contact mechanism 50 to the inside of the tubular objects 65u and 65d and immediately before the electrodes 53 and 54. Has been. The gas supply nozzle 59 is in communication with the mixed gas supply device 61. The gas supply nozzle 59 has a cylindrical shape in the figure, but may have a flat and flat shape.
[0042]
Further, a both-end cutting mechanism 57 is disposed on the right side of the nip roll portion 56 in the drawing. The both-end cutting mechanism 57 cuts both ends of the processed objects 65u ′ and 65d ′ that have been tube-shaped and finished the processing, and again separate the first processed object 65u ′ and the second processed object 65d ′. It is a mechanism for enabling separation.
[0043]
A pair of auxiliary rollers 58, 58 are arranged on the right side of the both end cutting mechanism 57, and press the first object 65 u ′ and the second object 65 d ′ to function the both end cutting mechanism 57. It comes to assist.
[0044]
The first workpiece 65u ′ and the second workpiece 65d ′ that have passed through the auxiliary rollers 58 and 58 are wound around the feeder portions Rbu and Rbd, respectively. The feeder parts Rbu and Rbd can be rotated at a constant rotational speed by a driving device (not shown).
[0045]
The electrodes 53 and 54 are connected to a high voltage power supply 55 so that power can be supplied from the high voltage power supply 55.
[0046]
The operation of the first embodiment configured as described above will be described. The workpieces 65u and 65d are supplied from the feeder units Rau and Rad. These objects to be processed 65u and 65d are overlapped in the contact mechanism 50, and both ends of the objects to be processed 65u and 65d are in close contact with each other. Thereby, these to-be-processed objects 65u and 65d are formed in a tube shape.
[0047]
From the gas supply nozzle 59, a processing gas of a single component gas of helium gas or a mixed gas containing helium gas as a main component is always supplied to the inside of the tubular processing objects 65u and 65d. The processing gas needs to be helium gas or a mixed gas containing helium gas as a main component, and preferably an inert gas having a composition of helium gas 50 to 100% by volume and argon 0 to 50% by volume. It is preferable that it is 95 volume% or more of the whole mixed gas. The gas added to these discharge gases can be selected from various gases depending on the purpose of the surface treatment. For example, in order to increase the hydrophilicity, adding an inorganic gas such as oxygen, carbon dioxide, nitrogen, hydrogen, and monoxide gas makes the hydrophilicity more than a single component gas composed of helium gas or a mixed gas composed mainly of helium gas. Has the effect of increasing. In order to improve the water repellency of the treated surface of the object to be treated, a hydrocarbon such as methane or ethylene, or a gas having a low polarity such as CF 4 may be added. By supplying this processing gas to the tube-shaped workpieces 65u and 65d, the workpieces 65u and 65d pass between the electrodes 53 and 54 in a state of swelling to a predetermined width as shown in the figure.
[0048]
In addition, when a high voltage is applied to the electrodes 53 and 54 from the high-voltage power supply 55, the processing gas is filled in the space that the processing objects 65u and 65d include, so that the processing objects 65u and 65d are included. A stable glow discharge plasma is generated in the space, and only the inner surfaces of the tube-shaped workpieces 65u and 65d are processed by the glow discharge plasma.
[0049]
Then, the tube-shaped workpieces 65u ′ and 65d ′ that have been processed pass through the nip roll portion 56, and both ends of the tube-shaped workpieces 65u ′ and 65d ′ are cut off by the both-end cutting mechanism 57. After passing through the auxiliary roller 58, the first object 65u ′ is wound around the feeder part Rbu and the second object 65d ′ is wound around the feeder part Rbd.
[0050]
According to the first embodiment as described above, the tube-shaped workpieces 65u and 65d are passed between the electrodes 53 and 54 in the processing chamber 51, and the processing gas of the single component gas or the mixed gas is brought into the close contact mechanism. The inside of the tube-shaped workpieces 65u and 65d is filled from the 50 side through the gas supply nozzle 59, and a high voltage is applied between the electrodes 53 and 54 to thereby set the atmospheric pressure plasma discharge region inside the workpieces 65u and 65d. Can be generated only on one side, and only one side of the workpieces 65u, 65d can be subjected to atmospheric pressure plasma discharge treatment.
[0051]
In the first embodiment, both ends of the two workpieces 65u and 65d are brought into close contact with each other to form the tube-like workpieces 65u and 65d. Instead of this, one workpiece 65 is flowed in the flow direction. Alternatively, the two ends may be folded into a tube shape. In this case, it is necessary to insert the arrangement state of the gas supply nozzle 59 from the side to be overlapped.
[0052]
In addition, a guide belt is disposed between the contact mechanism 50 and the electrodes 53 and 54, and the ends of the objects to be processed 65u and 65d are sandwiched between the guide belts so that the objects to be processed 65u and 65d are formed into a tube shape. You may make it provide the space enclosed by the processed material 65u and 65d. In this case, all of the guide belt and the member for fixing the guide belt need to be made of a dielectric material that does not affect the discharge.
[0053]
Further, in the above-described embodiment, the pressure contact mechanism portion is a method in which the nip roll portion 56 presses the workpieces 65u and 65d with a roll, but is not limited thereto, and is included in the tube-shaped workpieces 65u and 65d. Any structure may be used as long as the processing gas filled in the space does not flow out. For example, by providing a seal bar and sealing, the processing gas filled in the space enclosed by the tube-shaped workpieces 65u and 65d may be prevented from flowing out. In this case, sealing is intermittently performed, and a bag-like structure in which only the inner surface is treated can be obtained.
[0054]
Second Embodiment
FIG. 3 is a sectional view for explaining a second embodiment of the present invention. In the second embodiment, a mixed gas can be introduced also into the processing chamber 51 in the first embodiment. Accordingly, the embodiment and the same components of the first embodiment will not be described are denoted by the same reference numerals.
[0055]
That is, in the second embodiment, a gas intake port 67 is provided on one surface of the processing chamber 51a, and a gas exhaust port 68 is provided on the other surface of the processing chamber 51a. The other configuration is the first embodiment. The configuration is exactly the same as the embodiment.
According to the second embodiment, the gas in the atmosphere contained in the tube-shaped workpieces 65u and 65d is formed inside the processing chamber 51a using the gas inlet port 67 and the gas outlet port 68. Gases with different compositions can be filled.
For this reason, different surface treatments can be simultaneously performed on the front and back surfaces of the workpieces 65u and 65d.
[0056]
【Example】
Less than. Specific examples of the present invention will be described.
[0076]
(Examples 1 to 3 )
As the substrate to be treated, two films of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (25 μm) having a width of 300 mm and having both ends coated with a heat seal lacquer in the flow direction with a width of 10 mm are used . By heat-sealing the two end portions of the two processing substrates, a tube shape is formed, and the material is passed between opposing electrodes 53 and 54 whose surfaces are covered with a dielectric. The tubular treated substrate 65u, the space enclosing the 65d, the treatment atmosphere gas shown in the section of the inner process gas in Table 1, was supplied at notation flow into the process chamber 51 in FIG. 2, Table The processing atmosphere gas shown in the section of the outer processing gas in No. 1 was supplied at the indicated flow rate. A glow discharge plasma is generated in a space where the tubular substrate to be treated is enclosed between the electrodes by a high frequency power source of 5 KHz, or a different glow discharge plasma is generated inside and outside the tubular substrate to be treated, Atmospheric pressure glow discharge plasma treatment was applied. Thereafter, the heat-sealed portion was cut with a both-end cutting mechanism 57 to obtain an independent surface-modified base material. The processing speed was 20 m / min, and the discharge output was 1.5 kW. Table 1 shows the discharge state.
[0077]
( Comparative Example 1 )
The atmospheric pressure glow discharge plasma treatment was performed in the same manner as in Example 1 except that the treatment atmosphere gas supplied to the space included in the tubular substrate to be treated was changed as described in Table 1 , and the surface modification group The material was obtained. Table 1 shows the discharge state.
[0078]
( Comparative Example 2 )
As the treated substrate, using the biaxially stretched polyethylene terephthalate film of 300mm width (25.mu.), using an atmospheric pressure glow discharge plasma treatment apparatus as shown in FIG. 3, in Table 1 the processing chamber 51 in FIG. 3 A process atmosphere gas shown in the section of the outer process gas is filled at the indicated flow rate, a glow discharge plasma is generated between opposing electrodes whose surfaces are covered by a high frequency power source of 5 KHz, and an atmospheric pressure glow discharge plasma treatment is performed. A treated substrate was obtained. The processing speed was 20 m / min, and the discharge output was 1.5 kW. Table 1 shows the discharge state.
[0079]
( Comparative Example 3 )
As Comparative Example 3 , a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (25 μm) that was not surface-modified was used.
[0080]
With respect to the surface modified substrate thus obtained, the contact angle of distilled water on the front and back surfaces and the surface wetting index by the wetting test solution were measured according to the following methods . The results are shown in Table 2 . In addition, the to-be-processed base material made the inner surface at the time of shape | molding in tube shape the front surface, and made the outer surface the back surface.
Water contact angle ... The contact angle of pure water on each surface of the workpiece was measured using a contact angle meter (Kyowa Interface Science Co., Ltd., CA-Z type). The unit is an angle.
[0081]
[Table 1]
Figure 0003844151
[0082]
[Table 2]
Figure 0003844151
[0083]
From the above, it can be seen that in Examples 1 and 2 of the present invention, only the front side is effectively surface-modified, and the back side is not affected at all. It can also be seen that the discharge is stable and is uniformly processed. On the other hand, in Comparative Example 1 , since the concentration of helium gas in the processing atmosphere gas is less than 50%, a stable glow discharge plasma cannot be obtained, and the processing uniformity is low. In Comparative Example 2 , both the front and back surfaces have the same characteristics, and the surface characteristics of the front and back surfaces cannot be made different. Further, in Example 3 of the present invention, it can be seen that the front surface is water-repellent and the back surface is hydrophilic at the same time. In addition, it can be said that by using the atmospheric pressure glow discharge plasma processing method of the present invention, the amount of expensive processing atmosphere gas used can be significantly reduced.
[0089]
【The invention's effect】
According to the first aspect of the present invention, a close contact mechanism that joins both ends of the overlapped objects to be processed to form a tube-like object to be processed, and the object to be processed that is in close contact with the close contact mechanism are passed through the internal space. A processing chamber provided with a processing object passage port through which a tube-shaped processing object can pass in a three-dimensional body, electrodes disposed respectively facing a passage through which the processing object passes inside the processing chamber, A pressure- contact mechanism that presses the tube-shaped workpiece that has passed through each electrode, a gas supply nozzle that protrudes from the contact mechanism side into the tube-shaped workpiece, and a tube that has passed through the pressure-contact mechanism. Since the cutting mechanism for cutting the both-end joints of the object to be processed is provided, only one surface of the object to be processed can be plasma-processed.
[0090]
According to the second aspect of the present invention, a close contact mechanism that joins both ends of the overlapped objects to be processed to form a tube-like object to be processed, and the object to be processed that is closely contacted by the close contact mechanism are passed through the internal space. A processing chamber provided with a processing object passage port through which a tube-shaped processing object can pass in a three-dimensional structure, electrodes disposed respectively facing a passage through which the processing object passes inside the processing chamber, and Provided in the processing chamber processing chamber, a press- contact mechanism that crimps the tube-shaped processing object that has passed through each electrode, a gas supply nozzle that protrudes into the tube-shaped processing object from the contact mechanism side, and Since the gas intake / exhaust port and the cutting mechanism for cutting both end joints of the tube-like object to be processed that have passed through the pressure contact mechanism part are provided, both surfaces of the object to be processed can be plasma-treated.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a transverse sectional view showing the first embodiment;
FIG. 3 is a transverse sectional view showing the second embodiment;
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a conventional device.
[Explanation of symbols]
51, 51a Processing chambers 53, 54 Electrodes 55 High-voltage power supply 56 Press-contact mechanism 57 Both-end cutting mechanism 58 Auxiliary roller 59 Gas supply nozzle 60 Processed object passage ports 65u, 65d Processed object

Claims (2)

対向して設けた一組の電極間に平らな被処理物を通過可能とし、前記平らな被処理物を雰囲気ガスの雰囲気にさらしつつ当該電極間に高電圧をかけてプラズマ放電領域を発生させて前記被処理物を処理する表面処理装置において、
重ね合わされた被処理物の両端を接合してチューブ状の被処理物とする密着機構と、
この密着機構で密着された被処理物を通し、内部空間を有する立体にチューブ状の被処理物が通過可能な被処理物通過口を設けてなる処理室と、
前記処理室の内部で前記被処理物が通る通路に対向させてそれぞれ配置した電極と、
前記各電極を通過したチューブ状の被処理物を圧接する圧接機構部と、
前記密着機構側からチューブ状の被処理物内部に突設してなるガス供給ノズルと、
前記圧接機構部を通過したチューブ状の被処理物の両端接合部を切断する切断機構
とを備えたことを特徴とする表面処理装置。
A flat workpiece can be passed between a pair of opposed electrodes, and a plasma discharge region is generated by applying a high voltage between the electrodes while exposing the flat workpiece to an atmosphere of atmospheric gas. In the surface treatment apparatus for treating the object to be treated,
An adhesion mechanism that joins both ends of the superposed workpieces to form a tubular workpiece;
A processing chamber provided with a processing object passage port through which a tube-shaped processing object can pass through a solid body having an internal space through the processing object closely adhered by this adhesion mechanism;
An electrode disposed opposite to a passage through which the object to be processed passes inside the processing chamber;
A pressure-contacting mechanism portion that press-contacts the tube-shaped workpiece that has passed through each electrode;
A gas supply nozzle that protrudes from the contact mechanism side into the tube-shaped workpiece;
A surface treatment apparatus comprising: a cutting mechanism that cuts both end joint portions of a tube-like object to be processed that has passed through the pressure contact mechanism portion .
対向して設けた一組の電極間に平らな被処理物を通過可能とし、前記平らな被処理物を雰囲気ガスの雰囲気にさらしつつ当該電極間に高電圧をかけてプラズマ放電領域を発生させて前記被処理物を処理する表面処理装置において、
重ね合わされた被処理物の両端を接合してチューブ状の被処理物とする密着機構と、
この密着機構で密着された被処理物を通し、内部空間を有する立体にチューブ状の被処理物が通過可能な被処理物通過口を設けてなる処理室と、
前記処理室の内部で前記被処理物が通る通路に対向させてそれぞれ配置した電極と、
前記各電極を通過したチューブ状の被処理物を圧接する圧接機構部と、
前記密着機構側からチューブ状の被処理物内部に突設してなるガス供給ノズルと、
前記処理室に設けたガス吸排気口と、
前記圧接機構部を通過したチューブ状の被処理物の両端接合部を切断する切断機構とを備えたことを特徴とする表面処理装置。
A flat workpiece can be passed between a pair of opposed electrodes, and a plasma discharge region is generated by applying a high voltage between the electrodes while exposing the flat workpiece to an atmosphere of atmospheric gas. In the surface treatment apparatus for treating the object to be treated,
An adhesion mechanism that joins both ends of the superposed workpieces to form a tubular workpiece;
A processing chamber provided with a processing object passage port through which a tube-shaped processing object can pass through a solid body having an internal space through the processing object closely adhered by this adhesion mechanism;
An electrode disposed opposite to a passage through which the object to be processed passes inside the processing chamber;
A pressure-contacting mechanism portion that press- contacts the tube-shaped workpiece that has passed through each electrode;
A gas supply nozzle that protrudes from the contact mechanism side into the tube-shaped workpiece;
A gas inlet / outlet provided in the processing chamber;
A surface treatment apparatus comprising: a cutting mechanism that cuts both end joint portions of a tube-like object to be processed that has passed through the pressure contact mechanism portion .
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