JP3833882B2 - 半導体レーザモジュール - Google Patents

半導体レーザモジュール Download PDF

Info

Publication number
JP3833882B2
JP3833882B2 JP2000246773A JP2000246773A JP3833882B2 JP 3833882 B2 JP3833882 B2 JP 3833882B2 JP 2000246773 A JP2000246773 A JP 2000246773A JP 2000246773 A JP2000246773 A JP 2000246773A JP 3833882 B2 JP3833882 B2 JP 3833882B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
optical feedback
optical
feedback section
laser module
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2000246773A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001160652A5 (ja
JP2001160652A (ja
Inventor
泰 大木
武治 山口
雄一郎 入江
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Original Assignee
THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD. filed Critical THE FURUKAW ELECTRIC CO., LTD.
Priority to JP2000246773A priority Critical patent/JP3833882B2/ja
Publication of JP2001160652A publication Critical patent/JP2001160652A/ja
Publication of JP2001160652A5 publication Critical patent/JP2001160652A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3833882B2 publication Critical patent/JP3833882B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体レーザモジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】
光通信の分野においては、伝送する情報の大容量化を目指して波長分割多重伝送方式(WDM: wavelength division multiplexing)による光伝送方式が発展しており、特に北米を中心として加速的に伸びている。
このWDM方式で用いる光ファイバアンプの励起光源として、1480,980nm帯域のポンプ半導体レーザの需要が高まっている。特に、1480nm帯域では波長合成、980nm帯域ではゲインプロファイルの平坦化、をそれぞれ図るため、ファイバブラッググレーティング(以下、単に「FBG」という)を用いて半導体レーザモジュールにおける出射光の波長を安定させるの必要性が高まっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記半導体レーザモジュールでは、例えば光ファイバアンプの出力制御を図るうえで、半導体レーザにおけるレーザ出力、例えば前方からの出力光、もしくは後方のモニタ光の不安定性が問題となっている。特に、上記半導体レーザモジュールでは、FBGを用いて波長の安定化を図ると、レーザ出力が一層不安定になるという問題がある。
【0004】
本発明は上記の点に鑑みてなされたもので、レーザ出力を安定させることができる半導体レーザモジュールを提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本願発明においては、出力光が出射される前端面を有する半導体レーザと、前記半導体レーザを収容するパッケージと、前記出力光が入射する端部を有する光ファイバと、前記半導体レーザから前記光ファイバを通過して延びる前記出力光の光路に配置され、所定の反射中心波長を有し、前記出力光の一部を前記半導体レーザに向かって帰還させる第1の光帰還部と、前記光路に前記第1の光帰還部から離間して配置され、前記第1の光帰還部の反射中心波長において反射率を有し、前記出力光の一部を前記半導体レーザに向かって帰還させる少なくとも1つの第2の光帰還とを備え、前記第1及び第2の光帰還部は前記パッケージの外部に配置され、かつ、前記半導体レーザの後端面から、前記第1及び第2の光帰還部のうちいずれかの中心位置までの前記出力光の光路に沿ってみた距離が10cm以上であるとともに、前記第1の光帰還部と前記第2の光帰還部のうち隣接する光帰還部間の中心位置の間隔が5mm以上である構成としたのである(請求項1)。
請求項2の本願発明は、前記第2の光帰還部が、所定の反射中心波長を有することを特徴としている。
請求項3の本願発明は、前記第1及び第2の光帰還部は、前記光ファイバに設けられていることを特徴としている。
請求項4の本願発明は、前記第2の光帰還部が、前記第1の光帰還部の反射特性における半値全幅の波長範囲内では前記第1の光帰還部の最大反射率以下となる反射率を有することを特徴としている。
請求項5の本願発明は、前記第1の光帰還部が、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴としている。
請求項6の本願発明は、前記第2の光帰還部が、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴としている。
請求項7の本願発明は、2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、前記第2の光帰還部のそれぞれは、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴としている
請求項の本願発明は、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザから前記第1の光帰還部よりも離れて配置されていることを特徴としている。
請求項の本願発明は、前記第2の光帰還部の反射特性における半値全幅は、前記第1の光帰還置の反射特性における半値全幅以上であることを特徴としている。
請求項1の本願発明は、2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部の最大反射率は、近くに位置する第2の光帰還部の最大反射率以下であることを特徴としている。
請求項1の本願発明は、2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、前記第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、前記第1の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であり、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、近くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であることを特徴としている。
請求項1の本願発明は、前記第1の光帰還部の反射中心波長と前記第2の光帰還部の反射中心波長との差が2nm以内であることを特徴としている。
請求項1の本願発明は、前記第1の光帰還部の反射中心波長と前記第2の光帰還部の反射中心波長との差が0.5nm以内であることを特徴としている。
請求項1の本願発明は、前記光ファイバには、前記半導体レーザと前記第1の光帰還部又は前記第2の光帰還部との間に前記出力光の偏波変動を防止する偏波変動防止手段が設けられていることを特徴としている。
請求項1の本願発明は、前記偏波変動防止手段は複屈折ファイバであることを特徴としている。
請求項1の本願発明は、前記半導体レーザの発振波長は980nm帯であることを特徴としている。
請求項1の本願発明は、前記半導体レーザの発振波長は、前記第1の光帰還部の反射中心波長で決まることを特徴としている。
請求項1の本願発明は、前記第1及び第2の光帰還部は、前記光ファイバに設けられていることを特徴としている。
請求項19の本願発明は、前記第2の光帰還部は、前記第1の光帰還部の反射特性における半値全幅の波長範囲内では前記第1の光帰還部の最大反射率以下となる反射率を有することを特徴としている。
請求項20の本願発明は、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザから前記第1の光帰還部よりも離れて配置されていることを特徴としている。
請求項21の本願発明は、前記光ファイバには、前記半導体レーザと前記第1の光帰還部又は前記第2の光帰還部との間に前記出力光の偏波変動を防止する偏波変動防止手段が設けられていることを特徴としている。
請求項22の本願発明は、前記偏波変動防止手段は複屈折ファイバであることを特徴としている。
請求項23の本願発明は、前記半導体レーザの発振波長は980nm帯であることを特徴としている。
また、上記目的を達成するため本願発明においては、パッケージ内に収容され、出力光が出射される前端面を有する半導体レーザと、前記パッケージの一側壁に取り付けられ、前記出力光が入射する一端部を有し、前記出力光を前記パッケージの外部に導出する光ファイバと、前記パッケージの外部にて前記半導体レーザから前記光ファイバを通過して延びる前記出力光の光路に配置され、所定の反射中心波長を有し、前記出力光の一部を前記半導体レーザに向かって帰還させる第1の光帰還部と、前記パッケージの外部にて前記光路に前記第1の光帰還部から離間して配置され、前記第1の光帰還部の反射中心波長において反射率を有し、前記半導体レーザの出力光が安定化されるように前記半導体レーザに前記出力光の一部を帰還させる少なくとも1つの第2の光帰還部とを備え、前記半導体レーザの後端面から、前記第1及び第2の光帰還部のうちいずれかの中心位置までの前記出力光の光路に沿ってみた距離が10cm以上であるとともに、前記第1の光帰還部と前記第2の光帰還部のうち隣接する光帰還部間の中心位置の間隔が5mm以上である構成としたのである(請求項2)。
請求項2の本願発明は、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザの出力光のコヒーレンシーを低下させるように前記半導体レーザに出力光を帰還させることを特徴としている。
請求項2の本願発明は、前記第2の光帰還部は、前記第1の光帰還部の反射性における半値全幅の波長範囲内では前記第1の光帰還部の最大反射率以下の反射率を有することを特徴としている。
請求項2の本願発明は、前記第1の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴としている。
請求項28の本願発明は、前記第2の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴としている。
請求項29の本願発明は、2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、前記第2の光帰還部のそれぞれは、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴としている。
請求項30の本願発明は、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザから前記第1の光帰還部よりも離れて配置されていることを特徴としている。
請求項3の本願発明は、前記第2の光帰還部は所定の反射中心波長を有し、前記第2の光帰還部の反射特性における半値全幅は、前記第1の光帰還部の反射特性における半値全幅以上であることを特徴としている。
請求項3の本願発明は、2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部の最大反射率は、近くに位置する第2の光帰還部の最大反射率以下であることを特徴としている。
請求項3の本願発明は、2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、前記第2の光帰還部は所定の反射中心波長を有し、前記第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、前記第1の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であり、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、近くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であることを特徴としている。
請求項3の本願発明は、前記光ファイバには、前記半導体レーザと前記第1の光帰還部又は前記第2の光帰還部との間に前記出力光の偏波変動を防止する偏波変動防止手段が設けられていることを特徴としている。
請求項3の本願発明は、前記偏波変動防止手段は複屈折ファイバであることを特徴としている。
請求項3の本願発明は、前記半導体レーザの発振波長は980nm帯であることを特徴としている。
請求項37の本願発明は、前記半導体レーザの発振波長は、前記第1の光帰還部の反射中心波長で決まることを特徴としている。
また、上記目的を達成するため本願発明においては、出力光が出射される前端面を有する半導体レーザと、前記半導体レーザを収容するパッケージと、前記出力光が入射する端部を有する光ファイバと、前記半導体レーザから前記光ファイバを通過して延びる前記出力光の光路に配置され、所定の反射中心波長を有し、前記出力光の一部を前記半導体レーザに向かって帰還させる第1の光帰還部と、前記光路に前記第1の光帰還部から離間して配置され、前記第1の光帰還部の反射中心波長と同一の反射中心波長を有し、前記出力光の一部を前記半導体レーザに向かって帰還させる少なくとも1つの第2の光帰還部とを備え、前記第1及び第2の光帰還部は前記パッケージの外部に配置され、かつ、前記半導体レーザの後端面から、前記第1及び第2の光帰還部のうちいずれかの中心位置までの前記出力光の光路に沿ってみた距離が10cm以上であるとともに、前記第1の光帰還部と前記第2の光帰還部のうち隣接する光帰還部間の中心位置の間隔が5mm以上である構成としたのである(請求項38)。
請求項39の本願発明は、前記第1及び第2の光帰還部は、前記光ファイバに設けられていることを特徴としている。
請求項4の本願発明は、前記第2の光帰還部は、前記第1の光帰還部の反射特性における半値全幅の波長範囲内では前記第1の光帰還部の最大反射率以下となる反射率を有することを特徴としている。
請求項4の本願発明は、前記第1の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴としている。
請求項4の本願発明は、前記第2の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴としている。
請求項4の本願発明は、2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、前記第2の光帰還部のそれぞれは、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴としている
請求項4の本願発明は、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザから前記第1の光帰還部よりも離れて配置されていることを特徴としている。
請求項4の本願発明は、前記第2の光帰還部の反射特性における半値全幅は、前記第1の光帰還置の反射特性における半値全幅以上であることを特徴としている。
請求項46の本願発明は、2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部の最大反射率は、近くに位置する第2の光帰還部の最大反射率以下であることを特徴としている。
請求項47の本願発明は、2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、前記第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、前記第1の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であり、前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、近くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であることを特徴としている。
請求項48の本願発明は、前記光ファイバには、前記半導体レーザと前記第1の光帰還部又は前記第2の光帰還部との間に前記出力光の偏波変動を防止する偏波変動防止手段が設けられていることを特徴としている。
請求項49の本願発明は、前記偏波変動防止手段は複屈折ファイバであることを特徴としている。
請求項50の本願発明は、前記半導体レーザの発振波長は980nm帯であることを特徴としている。
請求項51の本願発明は、前記半導体レーザの発振波長は、前記第1の光帰還部の反射中心波長で決まることを特徴としている。
【0006】
好ましくは、前記第2の光帰還部は、少なくとも第1の光帰還部における半値全幅の波長範囲内では第1の光帰還部の最大反射率以下となる反射率を有するものを用いる。
また好ましくは、前記第1の光帰還部と前記第2の光帰還部との反射中心波長を略同一とする。
【0007】
更に好ましくは、前記第1の光帰還部と前記第2の光帰還部との反射中心波長の差を0.5nm以内に設定する。
好ましくは、前記第1の光帰還部と前記第2の光帰還部は、反射中心波長が異なるものとする。
また好ましくは、前記第2の光帰還部は、実質的に波長依存性のないフラットな反射レベル特性を有し、反射率が前記第1の光帰還部の最大反射率よりも小さいものとする。
【0008】
更に好ましくは、前記第1及び第2の光帰還部のいずれかをファイバブラッググレーティングで構成する。
好ましくは、前記第1及び第2の光帰還部は、隣接する光帰還部間の長手方向中心位置の距離を少なくとも5mm以上に設定する。
また好ましくは、前記第1の光帰還部および前記少なくとも1つの第2の光帰還部のうち、いずれか2つ以上のものが、それぞれの反射特性を重ねあわせた反射特性を有するチャープトブラッググレーティングとする。
【0009】
更に好ましくは、、前記光帰還部を前記パッケージの外部に配置する。
好ましくは、前記光ファイバは、前記半導体レーザと前記光帰還部との間に光の偏波変動を防止する偏波変動防止手段を設ける。
また好ましくは、前記偏波変動防止手段を複屈折ファイバとする。
更に好ましくは、前記複屈折ファイバを、コアに非軸対称性の応力が付与され、応力付与部の断面形状が円形であるPANDAファイバ、断面扇状のボウタイファイバ、断面楕円形状の楕円ジャケットファイバ、あるいはコアの導波構造が非軸対称に設定され、コアの断面形状が楕円形の楕円コアファイバのいずれかとする。
【0010】
好ましくは、前記半導体レーザの後端面から前記第1及び第2の光帰還部のいずれかの光帰還部の長手方向中心位置までの距離を10cm以上とする。
また好ましくは、前記半導体レーザの発振波長を980nm帯とする。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の半導体レーザモジュールに係る実施形態例を図1乃至図12に基づいて詳細に説明する。
ここで、以下に説明する各実施形態においては、同一の構成要素に同一の符号を付すことで、重複した説明を省略する。
【0012】
先ず、第1の実施形態に係る半導体レーザモジュール1は、図1(a),(b)に示すように、パッケージ2、ぺルチェ素子3、ベース4、光ファイバ5、半導体レーザ6及びフォトダイオード7を備えている。
パッケージ2は、ぺルチェ素子3、ベース4、光ファイバ5の一端側、半導体レーザ6及びフォトダイオード7等を収納する。パッケージ2は、底板2a、周壁2b及びカバー2cを有し、周壁2bの上部にカバー2cが被着されている。また、パッケージ2は、周壁2bにスリーブ2dが設けられ、スリーブ2dに光ファイバ5の後述する第2フェルール5bが挿着されている。パッケージ2は、内部が、例えば窒素ガス等の不活性ガス雰囲気とされている。
【0013】
ぺルチェ素子3は、底板2a上に設置され、半導体レーザ6の駆動に伴う発熱を冷却して所定温度に制御する温度制御素子である。ペルチェ素子3の上にベース4が載置されている。ペルチェ素子3は、リード線3aによって駆動電流がパッケージ2の外部から供給される。
ベース4は、図1に示すように、第1キャリア8,ヒートシンク9を介して半導体レーザ6が載置されている。また、ベース4は、半導体レーザ6の後端面6b側に第2キャリア10が、前端面6a側に光ファイバ5の一端に取り付けた第1フェルール5aが、それぞれ配置されている。
【0014】
光ファイバ5は、シングルモードファイバの他、種々の光ファイバが用いられ、レンズドファイバと、FBGを形成した光ファイバとが融着接続されている。前記レンズドファイバは、半導体レーザ6と対向配置される光結合手段としての楔型のレンズ部が一端に形成されている。また、光ファイバ5は、一端側に第1フェルール5aと第2フェルール5bが取り付けられている。光ファイバ5は、第2フェルール5bを介してスリーブ2dからパッケージ2の外へ延出している。第1フェルール5aは、支持部品5c,5dによってベース4に設置されている。
【0015】
更に、光ファイバ5は、図1(b)に示すように、第1あるいは第2の光帰還部となるFBG1,FBG2,………FBGi,………,FBGnが形成されている。FBG1〜FBGnは、どのような並び順で配置しても構わないし、半値全幅の大きさの大小関係も問わない。
ここで、FBG1は本発明の第1の光帰還部として機能し、それ以外のFBG2〜FBGnは、それぞれ第2の光帰還部として機能する。第1の光帰還部(FBG1)は、半導体レーザ6の発振波長を決める所定の反射中心波長に設定されている。一方、第2の光帰還部(FBG2〜FBGn)は、レーザ出力を安定化させるための構成部分であり、1つだけでもよいし複数あってもよい。
【0016】
本実施形態の半導体レーザモジュール1は、FBG1〜FBGnをパッケージ2の外部に配置している。これは、半導体レーザモジュール1に特性不良が生じた場合、高価なFBG1〜FBGnの部分のみを取り外せば、FBG1〜FBGnの部分を他のモジュールに転用できる、という理由からである。
また、波長980nm帯の半導体レーザモジュールの場合、パッケージ2内において半導体レーザ6を前記レンズドファイバと光結合させている。これは、前記レンズドファイバとFBG1〜FBGnとを光ファイバの短い長さの中に作り込むことが困難であるという理由による。
【0017】
ここで、図2(a)〜(d)には、縦軸を反射率R(%)、横軸を波長λ(nm)として、例えば、FBG1,FBG2,FBGi,FBGnの反射特性の一例を示す。このとき、本実施形態の半導体レーザモジュール1においては、FBG1〜FBGnは、それぞれ反射中心波長λc1〜λcnをそれぞれ略同一(例えば波長差2nm以内)とした。
【0018】
即ち、FBG1〜FBGnは、それぞれ反射中心波長λc1〜λcnが略同一(例えば波長差2nm以内)で、半導体レーザ6から最も近い第1番目のFBG1の半値全幅をΔλ1、第2番目に近いFBG2の半値全幅をΔλ2、…………、第i番目に近いFBGiの半値全幅をΔλi、…………、第n番目に近いFBGnの半値全幅をΔλnとすると、Δλ1≦Δλ2≦…………≦Δλi≦…………≦Δλnの関係が同時に成立するように設定した。
【0019】
このとき、FBG1〜FBGn相互間における反射中心波長の差は、好ましくは2nm以内、より好ましくは0.5nm以内、さらに好ましくは0.2nm以内とする。反射中心波長をこのように設定すると、半導体レーザを所望の波長で安定して発振させ易く好ましい。
また、FBG2〜FBGnは、少なくともFBG1における半値全幅の波長範囲内ではFBG1の最大反射率以下の反射率を有するものを使用することが望ましい。
【0020】
更に、他の態様として、図3(a)〜(d)に示すように、FBG1〜FBGnは、縦軸を反射率R(%)、横軸を波長λ(nm)としたときに、それぞれ反射中心波長λc1〜λcnが同一で、半導体レーザ6から最も近い第1番目のFBG1の最大反射率をR1、第2番目に近いFBG2の最大反射率をR2、…………、第i番目に近いFBGiの最大反射率をRi、…………、第n番目に近いFBGnの最大反射率をRnとすると、R1≧R2≧…………≧Ri≧…………≧Rnの関係が同時に成立するように設定してもよい。
【0021】
半導体レーザ6は、例えば、波長980nm帯のレーザ光を前端面6aから光ファイバ5に出射すると共に、後端面6bからフォトダイオード7にモニタ光を出射する。このとき、半導体レーザ6は、例えば活性層と光ファイバ5の光軸との高さ方向の差ができるだけ小さく、好ましくは数μm以内となるように、第1フェルール5aに対して位置決めされる。このとき、第1フェルール5aは、半導体レーザ6から出射される光と光結合効率が略最大になる位置に配置されている。
【0022】
フォトダイオード7は、図1(a)に示すように、受光面を傾けて第2キャリア10上に設けられ、半導体レーザ6の後端面6bから出射されるモニタ光を受光するモニタである。ここで、前方から出力される光を分岐してモニタする構成もあるので、半導体レーザモジュール1ではフォトダイオード7は必須の構成要素ではない。
【0023】
本実施形態の半導体レーザモジュール1は以上のように構成され、以下、半導体レーザモジュール1の動作について説明する。
先ず、半導体レーザ6から出射された光は、光ファイバ5に入射され、FBG1〜FBGnによって元の半導体レーザ6側に帰還される。この帰還動作が繰り返されることで、半導体レーザ6はFBG1の反射中心波長λc1においてレーザ発振する。このレーザ発振によって、半導体レーザ6は、前端面6aから出力光となるレーザ光を、後端面6bからモニタ光となるレーザ光を、それぞれ出射する。
【0024】
このとき、半導体レーザ6からの距離の異なるFBG1〜FBGnからの光帰還によって、半導体レーザ6の発振状態のコヒーレンシーが下がるため、レーザ出力が安定し、フォトダイオード7におけるモニタ電流も安定化する。
図4(a),(b)に、半導体レーザモジュール1について、横軸を時間(秒)、縦軸をモニター電流の変動率(%)としたグラフを示す。ここで、モニター電流の変動率は、600秒測定した間のモニター電流の平均値(=変動率0%)からのずれとして定義される。
【0025】
図4(a)は、本実施形態において、第1の光帰還部が反射中心波長979nm、反射率7%、半値全幅1nmの1つのFBG1であり、第2の光帰還部が反射中心波長979nm、反射率2%、半値全幅2nmのFBG2(すなわちこの例では第2の光帰還部となるFBGが1つのみ)である場合の結果を示す。一方、図4(b)は本実施形態の比較例として、光帰還部が反射中心波長979nm、反射率12%、半値全幅1.5nmのFBG1つのみである場合の結果を示す。
【0026】
図4(b)では、モニター電流の変動率が非常に大きく変動しているのに対し、図4(a)では、モニター電流の変動率が非常に安定していることが分かる。このことから、本実施形態の構成とすることによって、半導体レーザモジュール1は、半導体レーザ6のレーザ出力が安定化することが確認された。
一方、簡単のため第2の光帰還部が1つのときを考え、図5に示す半導体レーザモジュール15のように、光ファイバ5において第1の光帰還部となるFBG1と第2の光帰還部となるFBG2とを距離L(≧5mm)をおいて隣接させて形成する。
【0027】
半導体レーザモジュール15は、上記のように光帰還部がモジュール構成全体で2つあると、発振波長λ、光ファイバの屈折率nで決定される波長間隔λ2/2nL程度の反射率の変動が反射波形に形成される。このとき、半導体レーザモジュール15は、距離Lが短すぎると波長間隔が長くなり過ぎ、第1の光帰還部の中心波長近傍で形成される反射特性内で反射率の大きい部分があらわれる回数が少なくなってしまう。このため、半導体レーザモジュール15は、発振状態が不安定となるものと推定される。このような状況を回避するため、距離Lを5mm以上に設定すると、半導体レーザモジュール15は、更に半導体レーザ6の発振状態のコヒーレンシーを有効に下げることができ、レーザ出力を安定化することができるので好ましい。
【0028】
次に、本発明の第2の実施形態を図6乃至図8に基づいて説明する。
半導体レーザモジュール20は、図6に示すように、光ファイバ5に光帰還部となるFBG5eが形成されている。縦軸を反射率R(%)、横軸を波長λ(nm)としたときに、第1の光帰還部と第2の光帰還部の反射特性を重ねあわせてなる全体として図7に示す反射特性を有するチャープトグレーティングとして形成されている。
【0029】
FBG5eは、第1の光帰還部と第2の光帰還部の反射特性を示す複数のガウシアン関数、例えば、図8(a)〜(d)に示すように、反射中心波長λc1〜λc4がそれぞれ等しく(λc1=λc2=λc3=λc4)、最大反射率がそれぞれR1,R2,R3,R4の4つのガウシアン関数FG1,FG2,FG3,FG4の重ね合わせで表される反射特性を有し、屈折率変化の周期が光ファイバ5の光軸方向に変化するチャープトグレーティングを使用した。
【0030】
なお、チャープトグレーティングは、任意の光帰還部相互を組み合わせた反射波長特性を有するように形成することができる。
以上のように、半導体レーザモジュール20は、複数のFBGの反射特性を重ね合わせたチャープトグレーティングとして形成されたFBG5eを有する光ファイバ5を用いても、半導体レーザ6の発振状態のコヒーレンシーを下げ、モニタ電流を安定させることができた。
【0031】
このように、本発明の半導体レーザモジュールは、第1の光帰還部と第2の光帰還部とを備える構成であるが、これら複数の光帰還部のそれぞれの反射特性を重ねあわせた単一の光帰還部も使用可能である。
次いで、本発明の第3の実施形態を図1(b)及び図9に基づいて説明する。
本実施形態の半導体レーザモジュールは、図1(b)に示す半導体レーザモジュール1において、光ファイバ5の第1の光帰還部を構成するFBG1と第2の光帰還部FBG2,・・・,FBGnに関し、その反射中心波長及びこれらの反射中心波長における反射レベルが相違している点に特徴がある。
【0032】
図9は、光ファイバ5の第1の光帰還部と第2の光帰還部に関する反射率(%)の分布の一例を示す。
図9に示すように、第1の光帰還部であるFBG1は、反射中心波長979nm、反射率R=7%、半値全幅1nmである。第2の光帰還部であるFBG2は、反射中心波長983nm、反射率R=10%、半値全幅5nmである。第2の光帰還部(FBG2)は、反射中心波長における反射率が第1の光帰還部(FBG1)の反射中心波長における反射率より大きい。しかし、第2の光帰還部(FBG2)は、第1の光帰還部(FBG1)における半値全幅の波長範囲内では第1の光帰還部の最大反射率よりも反射率が小さくなる反射特性を有している。
【0033】
一般に、半導体レーザ6が、第1の光帰還部(FBG1)と第2の光帰還部(FBG2〜FBGn)のどちらからの光によって発振するかは損失と利得の関係によって決まる。従って、半導体レーザモジュール1は、波長に対する利得の形状が適切である半導体レーザ6を用いて構成する。
すなわち、半導体レーザ6における活性層の利得係数をg、光の閉じ込め係数をΓとすると、半導体レーザ6の導波構造における実効的な利得はΓgと表すことができる。
【0034】
ここで、半導体レーザ6の共振器長をLre、散乱などによる半導体レーザ内の損失をαin、半導体レーザ6の後端面6bにおける振幅反射率をrbとおく。また、半導体レーザ6の前端面反射率、半導体レーザ6−光ファイバ5間のパワー結合効率、FBG1〜FBGnの反射率等から計算される出射方向の実効反射率(一般に複素数)をrfとおく。
【0035】
このとき、ミラー損失αm
αm=(1/Lre)ln(1/rb|rf|)…………式(1)
と表すことができる。
これらを用いて電界振幅のレーザ発振条件は、損失と利得がつり合う条件で
Γg(λ)=αinm(λ)……………………式(2)
と表すことができる。上式の括弧はレーザ発振条件に波長依存性があることを表している。
【0036】
また、位相のレーザ発振条件は活性層の屈折率n1を用いて
4πn1Lre/λ−2mπ=arg(rf)…………式(3)
と表すことができる。mは整数である。
一般的には、上記式(2)と式(3)によって半導体レーザ6の発振波長が決定される。式(2)をグラフに表すと、左辺は上に凸であり、右辺は下に凸である。よって、両辺の波長依存性のグラフを描いた時にその交点が半導体レーザ6の発振波長となり得る。
【0037】
よって、半導体レーザ6の特性によって決まる式(2)の左辺の波長依存性に対して、FBG1〜FBGnで決定される右辺の波長依存性が第1の光帰還部(FBG1)でのみ交点を持つように、半導体レーザ6とFBGを、選択すれば良い。
このように、半導体レーザ6とFBG1〜FBGnを適切に選定することにより、図9のように、第1の光帰還部(FBG1)よりも第2の光帰還部(FBG2)の方が反射中心波長における反射率が大きい関係になっていたとしても、第1の光帰還部の中心波長のみで発振させることができる。
【0038】
また、図9に示すように、第2の光帰還部は、第1の光帰還部(FBG1)の反射中心波長においては、第1の光帰還部(FBG1)よりも反射率は小さいが反射を生じている。この第2の光帰還部(FBG2)からの光帰還によって、本実施形態の半導体レーザモジュール1は、半導体レーザ6におけるレーザ発振のコヒーレンシーが下がり、モニター電流を安定させることができる。
【0039】
更に、本発明の第4の実施形態例を図10乃至図12に基づいて説明する。
本実施形態の半導体レーザモジュール25は、図10に示すように、第1の光帰還部として、例えばFBG5fを用い、第2の光帰還部として、波長依存性のほとんどないフラットな反射率特性を有し、前記第2の光帰還部の反射率が前記第1の光帰還部の最大反射率よりも小さい光帰還部16を用いる。ここで、第1の光帰還部であるFBG5f及び第2の光帰還部である光帰還部16の反射率(%)の分布を図11に示す。
【0040】
このような光帰還部16としては、例えばFBG5fの反射中心波長を含んだ広い波長帯域内でフラットな反射レベル特性を有する誘電体多層膜、FBGその他の光フィルタ、もしくは所定の反射率に設定された光ファイバの出射端面を用いることができる。
本実施形態では、ファイバ長手方向に対して先端を球面状に研磨、もしくは垂直に切断した光ファイバの出射端面を光帰還部16として有する、例えばPC(Physical Contact)コネクタを用いた場合について説明する。
【0041】
図12(a),(b)には、半導体レーザモジュール25にかかる光出力Po(mW)及びスロープ効率Se(W/A)の注入電流(mA)に対する電流依存性を示す。ここで、第1の光帰還部となるFBG5fとしては反射中心波長979nm、反射率7%、半値全幅1nmのものを用いた。
図12(a)は、本実施形態例の半導体レーザモジュールについて、例えば光帰還部16の反射率が3%である上記PCコネクタの場合の結果を示している。一方、図12(b)は、本実施形態の比較例として、光ファイバの出射端面を第2の光帰還部として有するAPC (Angled Physical Contact)コネクタを用いた場合の結果を示している。APCコネクタは、反射光をファイバに再び結合させないように、突合せ端面に斜め研磨加工が施された光コネクタである。
【0042】
従って、この場合の第2の光帰還部は、光ファイバの出射端面が斜め研磨されているので、反射率が10-6%と非常に小さくなる。
図12(b)のAPCコネクタを用いた半導体レーザモジュールでは、スロープ効率がなだらかではなく、不安定になっていることが分かる。これに対して、図12(a)のPCコネクタを用いた半導体レーザモジュール20では、スロープ効率がなだらかであり、図12(b)のような不安定性が解消されているのが分かる。
【0043】
このように、波長依存性のほとんどないフラットな反射レベル特性を有し、反射率が第1の光帰還部であるFBG5fの最大反射率よりも小さい光帰還部16を用いた場合でも、半導体レーザモジュール25は、発振状態が安定することが確認できた。
ここで、光帰還部16として、誘電体多層膜、FBGその他の光フィルタを用い、これらの光フィルタを通過した光を他のモジュールその他に接続する光コネクタとしてAPCコネクタを用いると、光コネクタでの反射が低く抑えられる。従って、APCコネクタを用いた半導体レーザモジュールは、光フィルタにより所望の反射率で光を半導体レーザ側に反射させることができるという点で好ましい。
【0044】
ここで、上記各実施形態の半導体レーザモジュールは、波長980nm帯の光を出力する半導体レーザ6を使用している。
この種の半導体レーザ6は、一般的に、他の波長帯の光を出力するものに比べて、モニタ光の出力強度の時間的安定性が低いことが知られている。
よって、本発明は、どのような波長の半導体レーザ6にも適用できるものであるが、本発明を波長980nm帯の半導体レーザ6を用いた半導体レーザモジュールに適用することは非常に効果が大きい。
【0045】
また、FBGをパッケージ2の外部に配置することは、共振器長を長くすることも意味する。これにより、半導体レーザモジュールは、レーザ発振のコヒーレンシーをより効果的に下げることができるので、好ましい。本実施形態では、例えば半導体レーザ6の後端面6bから第1の光帰還部の光ファイバ5に沿った長手方向中心位置までの距離を10cm以上とした。
【0046】
更に、上記各実施形態のように、FBGをパッケージ2の外部に配置すると、半導体レーザ6とFBGとの間における光ファイバ5の屈折率の変動等により、半導体レーザモジュールは、レーザ発振が不安定になることが懸念される。
よって、半導体レーザモジュールは、少なくとも半導体レーザ6とFBGとの間では、光ファイバ5として、コアに非軸対称性の応力が付与され、応力付与部の断面形状が円形であるPANDA(polarization-maintaining and absorption-reducing)ファイバ、断面扇状のボウタイファイバ、断面楕円形状の楕円ジャケットファイバ、あるいはコアの導波構造が非軸対称に設定され、コアの断面形状が楕円形の楕円コアファイバ等の複屈折ファイバを使用し、光の偏波変動を抑制する構成とした方が好ましい。
【0047】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明の半導体レーザモジュールは、上記構成に限定されるものではない。一例として、光結合手段については、光ファイバ5に対し、半導体レーザ6の前端面6aから出射されるレーザ光を、大きな接続損失を伴うことなく入射できれば、レンズドファイバの楔型レンズ部に限定されるものでない。例えば、先球ファイバの先球部や単体レンズを用いたレンズ系等、適当な光学系による光結合手段を使用することができる。
【0048】
【発明の効果】
請求項1乃至15の発明によれば、レーザ出力を安定させることができる半導体レーザモジュールを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る半導体レーザモジュールの全体構成を示す断面正面図(a)と、半導体レーザモジュール及び光ファイバに形成される複数のFBGを示す概略構成図(b)である。
【図2】図1の半導体レーザモジュールで使用する光ファイバに形成される複数のFBG1〜FBGnに関し、横軸に波長、縦軸に反射率をとった、反射レベルの波長依存性を示す特性図の一例である。
【図3】図1の半導体レーザモジュールで使用する光ファイバに形成される複数のFBG1〜FBGnに関し、横軸に波長、縦軸に反射率をとった、反射レベルの波長依存性を示す特性図の他の例である。
【図4】図1の半導体レーザモジュールについて、横軸に時間、縦軸にモニタ電流の変動率をとった、モニタ電流の変動率の経時変化を測定した結果を示す計測図で、第1の光帰還部と第2の光帰還部を設けた本実施形態の結果(a)と、第1の光帰還部のみの比較例の結果(b)である。
【図5】本発明の第1の実施形態に係る半導体レーザモジュールの変形例を示す概略構成図である。
【図6】本発明の第2の実施形態に係る半導体レーザモジュール及び光ファイバに形成される光帰還部を示す概略構成図である。
【図7】図6の光ファイバに形成されるFBGに関し、横軸に波長、縦軸に反射率をとった、反射レベルの波長依存性を示す特性図である。
【図8】図6のFBGが有する波長特性を形成する複数のガウシアン関数のそれぞれを反射率と波長との関係で個々に示した、反射レベルの波長依存性を示す特性図である。
【図9】本発明の第3の実施形態に係る半導体レーザモジュールに形成される第1、第2の光帰還部となるFBGに関し、横軸に波長、縦軸に反射率をとった、反射レベルの波長依存性を示す特性図である。
【図10】本発明の第4の実施形態に係る半導体レーザモジュール及び光ファイバに形成される光帰還部を示す概略構成図である。
【図11】半導体レーザモジュールに形成される第1、第2の光帰還部となるFBGに関し、横軸に波長、縦軸に反射率をとった、反射レベルの波長依存性を示す特性図である。
【図12】本発明の第4の実施形態に係る半導体レーザモジュールに関し、横軸に注入電流をとり、縦軸に出力光の電流値とスロープ効率をとった特性図で、第2の光帰還部としてPCコネクタを用いた本実施形態の場合(a)と、第2の光帰還部としてAPCコネクタを用いた比較例の場合である(b)。
【符号の説明】
1 半導体レーザモジュール
2 パッケージ
3 ぺルチェ素子
4 ベース
5 光ファイバ
5e,5f ファイバブラッググレーティング(光帰還部)
6 半導体レーザ
7 フォトダイオード
8 第1キャリア
9 ヒートシンク
10 第2キャリア
15,20,25 半導体レーザモジュール
FBG1〜FBGn ファイバブラッググレーティング(光帰還部)

Claims (51)

  1. 出力光が出射される前端面を有する半導体レーザと、
    前記半導体レーザを収容するパッケージと、
    前記出力光が入射する端部を有する光ファイバと、
    前記半導体レーザから前記光ファイバを通過して延びる前記出力光の光路に配置され、所定の反射中心波長を有し、前記出力光の一部を前記半導体レーザに向かって帰還させる第1の光帰還部と、
    前記光路に前記第1の光帰還部から離間して配置され、前記第1の光帰還部の反射中心波長において反射率を有し、前記出力光の一部を前記半導体レーザに向かって帰還させる少なくとも1つの第2の光帰還部と
    を備え、
    前記第1及び第2の光帰還部は前記パッケージの外部に配置され、かつ、前記半導体レーザの後端面から、前記第1及び第2の光帰還部のうちいずれかの中心位置までの前記出力光の光路に沿ってみた距離が10cm以上であるとともに前記第1の光帰還部と前記第2の光帰還部のうち隣接する光帰還部間の中心位置の間隔が5mm以上であることを特徴とする半導体レーザモジュール。
  2. 前記第2の光帰還部が、所定の反射中心波長を有することを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザモジュール。
  3. 前記第1及び第2の光帰還部は、前記光ファイバに設けられていることを特徴とする請求項2に記載の半導体レーザモジュール。
  4. 前記第2の光帰還部は、前記第1の光帰還部の反射特性における半値全幅の波長範囲内では前記第1の光帰還部の最大反射率以下となる反射率を有することを特徴とする請求項3に記載の半導体レーザモジュール。
  5. 前記第1の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴とする請求項3又は4に記載の半導体レーザモジュール。
  6. 前記第2の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴とする請求項5に記載の半導体レーザモジュール。
  7. 2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、
    前記第2の光帰還部のそれぞれは、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴とする請求項5に記載の半導体レーザモジュール。
  8. 前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザから前記第1の光帰還部よりも離れて配置されていることを特徴とする請求項4に記載の半導体レーザモジュール。
  9. 前記第2の光帰還部の反射特性における半値全幅は、前記第1の光帰還置の反射特性における半値全幅以上であることを特徴とする請求項に記載の半導体レーザモジュール。
  10. 2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、
    前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、
    前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部の最大反射率は、近くに位置する第2の光帰還部の最大反射率以下であることを特徴とする請求項4に記載の半導体レーザモジュール。
  11. 2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、
    前記第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、前記第1の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であり、
    前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、
    前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、近くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であることを特徴とする請求項4に記載の半導体レーザモジュール。
  12. 前記第1の光帰還部の反射中心波長と前記第2の光帰還部の反射中心波長との差が2nm以内であることを特徴とする請求項2乃至11に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  13. 前記第1の光帰還部の反射中心波長と前記第2の光帰還部の反射中心波長との差が0.5nm以内であることを特徴とする請求項12に記載の半導体レーザモジュール。
  14. 前記光ファイバには、前記半導体レーザと前記第1の光帰還部又は前記第2の光帰還部との間に前記出力光の偏波変動を防止する偏波変動防止手段が設けられていることを特徴とする請求項1乃至13に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  15. 前記偏波変動防止手段は複屈折ファイバであることを特徴とする請求項14に記載の半導体レーザモジュール。
  16. 前記半導体レーザの発振波長は980nm帯であることを特徴とする請求項1乃至15に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  17. 前記半導体レーザの発振波長は、前記第1の光帰還部の反射中心波長で決まることを特徴とする請求項1乃至16に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  18. 前記第1の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであり、
    前記第2の光帰還部は、前記光ファイバに設けられた誘電体多層膜からなることを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザモジュール。
  19. 前記第2の光帰還部は、前記第1の光帰還部の反射特性における半値全幅の波長範囲内では前記第1の光帰還部の最大反射率以下となる反射率を有することを特徴とする請求項18に記載の半導体レーザモジュール。
  20. 前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザから前記第1の光帰還部よりも離れて配置されていることを特徴とする請求項19に記載の半導体レーザモジュール。
  21. 前記光ファイバには、前記半導体レーザと前記第1の光帰還部又は前記第2の光帰還部との間に前記出力光の偏波変動を防止する偏波変動防止手段が設けられていることを特徴とする請求項18乃至20に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  22. 前記偏波変動防止手段は複屈折ファイバであることを特徴とする請求項21に記載の半導体レーザモジュール。
  23. 前記半導体レーザの発振波長は980nm帯であることを特徴とする請求項18乃至22に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  24. パッケージ内に収容され、出力光が出射される前端面を有する半導体レーザと、
    前記パッケージの一側壁に取り付けられ、前記出力光が入射する一端部を有し、前記出力光を前記パッケージの外部に導出する光ファイバと、
    前記パッケージの外部にて前記半導体レーザから前記光ファイバを通過して延びる前記出力光の光路に配置され、所定の反射中心波長を有し、前記出力光の一部を前記半導体レーザに向かって帰還させる第1の光帰還部と、
    前記パッケージの外部にて前記光路に前記第1の光帰還部から離間して配置され、前記第1の光帰還部の反射中心波長において反射率を有し、前記半導体レーザの出力光が安定化されるように前記半導体レーザに前記出力光の一部を帰還させる少なくとも1つの第2の光帰還部とを備え、
    前記半導体レーザの後端面から、前記第1及び第2の光帰還部のうちいずれかの中心位置までの前記出力光の光路に沿ってみた距離が10cm以上であるとともに、前記第1の光帰還部と前記第2の光帰還部のうち隣接する光帰還部間の中心位置の間隔が5mm以上であることを特徴とする半導体レーザモジュール。
  25. 前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザの出力光のコヒーレンシーを低下させるように前記半導体レーザに出力光を帰還させることを特徴とする請求項24に記載の半導体レーザモジュール。
  26. 前記第2の光帰還部は、前記第1の光帰還部の反射特性における半値全幅の波長範囲内では前記第1の光帰還部の最大反射率以下の反射率を有することを特徴とする請求項24又は25に記載の半導体レーザモジュール。
  27. 前記第1の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴とする請求項24乃至26に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  28. 前記第2の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴とする請求項27に記載の半導体レーザモジュール。
  29. 2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、
    前記第2の光帰還部のそれぞれは、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴とする請求項27に記載の半導体レーザモジュール。
  30. 前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザから前記第1の光帰還部よりも離れて配置されていることを特徴とする請求項26に記載の半導体レーザモジュール。
  31. 前記第2の光帰還部は所定の反射中心波長を有し、
    前記第2の光帰還部の反射特性における半値全幅は、前記第1の光帰還部の反射特性における半値全幅以上であることを特徴とする請求項30に記載の半導体レーザモジュール。
  32. 2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、
    前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、
    前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部の最大反射率は、近くに位置する第2の光帰還部の最大反射率以下であることを特徴とする請求項26に記載の半導体レーザモジュール。
  33. 2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、
    前記第2の光帰還部は所定の反射中心波長を有し、
    前記第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、前記第1の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であり、
    前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、
    前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、近くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であることを特徴とする請求項26に記載の半導体レーザモジュール。
  34. 前記光ファイバには、前記半導体レーザと前記第1の光帰還部又は前記第2の光帰還部との間に前記出力光の偏波変動を防止する偏波変動防止手段が設けられていることを特徴とする請求項24乃至33に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  35. 前記偏波変動防止手段は複屈折ファイバであることを特徴とする請求項34に記載の半導体レーザモジュール。
  36. 前記半導体レーザの発振波長は980nm帯であることを特徴とする請求項24乃至35に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  37. 前記半導体レーザの発振波長は、前記第1の光帰還部の反射中心波長で決まることを特徴とする請求項24乃至36に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  38. 出力光が出射される前端面を有する半導体レーザと、
    前記半導体レーザを収容するパッケージと、
    前記出力光が入射する端部を有する光ファイバと、
    前記半導体レーザから前記光ファイバを通過して延びる前記出力光の光路に配置され、所定の反射中心波長を有し、前記出力光の一部を前記半導体レーザに向かって帰還させる第1の光帰還部と、
    前記光路に前記第1の光帰還部から離間して配置され、前記第1の光帰還部の反射中心波長と同一の反射中心波長を有し、前記出力光の一部を前記半導体レーザに向かって帰還させる少なくとも1つの第2の光帰還部と
    を備え、
    前記第1及び第2の光帰還部は前記パッケージの外部に配置され、かつ、前記半導体レーザの後端面から、前記第1及び第2の光帰還部のうちいずれかの中心位置までの前記出力光の光路に沿ってみた距離が10cm以上であるとともに前記第1の光帰還部と前記第2の光帰還部のうち隣接する光帰還部間の中心位置の間隔が5mm以上であること
    を特徴とする半導体レーザモジュール。
  39. 前記第1及び第2の光帰還部は、前記光ファイバに設けられていることを特徴とする請求項38に記載の半導体レーザモジュール。
  40. 前記第2の光帰還部は、前記第1の光帰還部の反射特性における半値全幅の波長範囲内では前記第1の光帰還部の最大反射率以下となる反射率を有することを特徴とする請求項39に記載の半導体レーザモジュール。
  41. 前記第1の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴とする請求項39又は40に記載の半導体レーザモジュール。
  42. 前記第2の光帰還部は、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴とする請求項41に記載の半導体レーザモジュール。
  43. 2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、
    前記第2の光帰還部のそれぞれは、前記光ファイバに形成されたファイバブラッググレーティングであることを特徴とする請求項41に記載の半導体レーザモジュール。
  44. 前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザから前記第1の光帰還部よりも離れて配置されていることを特徴とする請求項40に記載の半導体レーザモジュール。
  45. 前記第2の光帰還部の反射特性における半値全幅は、前記第1の光帰還置の反射特性における半値全幅以上であることを特徴とする請求項44に記載の半導体レーザモジュール。
  46. 2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、
    前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、
    前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部の最大反射率は、近くに位置する第2の光帰還部の最大反射率以下であることを特徴とする請求項40に記載の半導体レーザモジュール。
  47. 2つ以上の前記第2の光帰還部を備え、
    前記第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、前記第1の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であり、
    前記第2の光帰還部は、前記半導体レーザからみて前記第1の光帰還部よりも離れた前記光路の領域に互いに離れて配列され、
    前記第2の光帰還部の配列では、前記第1の光帰還部からみて相対的に遠くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅は、近くに位置する第2の光帰還部における反射特性の半値全幅以上であることを特徴とする請求項40に記載の半導体レーザモジュール。
  48. 前記光ファイバには、前記半導体レーザと前記第1の光帰還部又は前記第2の光帰還部との間に前記出力光の偏波変動を防止する偏波変動防止手段が設けられていることを特徴とする請求項38乃至47に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  49. 前記偏波変動防止手段は複屈折ファイバであることを特徴とする請求項48に記載の半導体レーザモジュール。
  50. 前記半導体レーザの発振波長は980nm帯であることを特徴とする請求項38乃至49に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
  51. 前記半導体レーザの発振波長は、前記第1の光帰還部の反射中心波長で決まることを特徴とする請求項38乃至50に記載の何れかの半導体レーザモジュール。
JP2000246773A 1999-09-24 2000-08-16 半導体レーザモジュール Expired - Lifetime JP3833882B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000246773A JP3833882B2 (ja) 1999-09-24 2000-08-16 半導体レーザモジュール

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27093799 1999-09-24
JP11-270937 1999-09-24
JP2000246773A JP3833882B2 (ja) 1999-09-24 2000-08-16 半導体レーザモジュール

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2001160652A JP2001160652A (ja) 2001-06-12
JP2001160652A5 JP2001160652A5 (ja) 2005-03-17
JP3833882B2 true JP3833882B2 (ja) 2006-10-18

Family

ID=26549466

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000246773A Expired - Lifetime JP3833882B2 (ja) 1999-09-24 2000-08-16 半導体レーザモジュール

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3833882B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002341195A (ja) 2001-05-16 2002-11-27 Nec Corp 半導体レーザモジュール
WO2005031930A1 (ja) * 2003-09-26 2005-04-07 The Furukawa Electric Co., Ltd. 半導体レーザ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2001160652A (ja) 2001-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7529021B2 (en) Semiconductor laser module, optical amplifier, and method of manufacturing the semiconductor laser module
US6041072A (en) Apparatus for stabilizing multiple laser sources and their application
CA2309892C (en) Fibre grating stabilized diode laser
US6525872B1 (en) Fiber grating-stabilized, semiconductor pump source
EP1107404B1 (en) Fibre grating stabilized diode laser
EP0860917B1 (en) Semiconductor laser module
US6433920B1 (en) Raman-based utility optical amplifier
US6614823B2 (en) Semiconductor laser device having a diffraction grating on a light reflection side
CA2365952A1 (en) Semiconductor laser device for use in a semiconductor laser module and optical amplifier
US6947463B2 (en) Semiconductor laser device for use in a laser module
JP4629852B2 (ja) 半導体レーザモジュールとそれを用いた光増幅器
EP1087477B1 (en) Semiconductor laser module
JP4712178B2 (ja) 半導体レーザモジュール、レーザユニット、ラマン増幅器、及びラマン増幅器に用いられる光半導体レーザモジュールのブリリュアン散乱抑制および偏光度低減方法
US20030128728A1 (en) Semiconductor laser module and Raman amplifier
JP3833882B2 (ja) 半導体レーザモジュール
US20040057485A1 (en) Semiconductor laser device, semiconductor laser module, and optical fiber amplifier
JP2000183445A (ja) 半導体レ―ザモジュ―ル
EP1318583A2 (en) Semiconductor laser with two active layers and optical fiber amplifier using the same
JP2002374037A (ja) 半導体レーザモジュール、それを用いたファイバ増幅器と光通信システム
JP4809554B2 (ja) 半導体レーザモジュール及びこれを用いたラマン増幅器
JP3752171B2 (ja) 半導体レーザ装置、半導体レーザモジュールおよびこれを用いたラマン増幅器
KR100388355B1 (ko) 안정화된 광섬유격자 반도체 레이저
JP4043929B2 (ja) 半導体レーザ装置、半導体レーザモジュールおよびこれを用いたラマン増幅器
EP1255335A2 (en) Semiconductor laser device having a diffraction grating on a light reflection side
EP1255336A2 (en) Semiconductor laser device having a diffraction grating on a light emission side

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040227

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040408

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050223

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20051012

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051212

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060405

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060605

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20060620

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060712

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060720

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 3833882

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090728

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100728

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110728

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110728

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120728

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120728

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130728

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term