JP3832788B2 - Positive photosensitive composition - Google Patents

Description

【００１１】
本発明で用いられる含フッ素共重合ポリマー中に用いられるこれらのフルオロ脂肪族基含有ビニル単量体の量は、該共重合ポリマーの重量に基づいて３〜７０重量％であり、好ましくは７〜４０重量％の範囲である。
【００１２】
次に一般式（２）の酸性水素含有ビニル単量体について説明する。
ＣＨ₂＝ＣＡ［ＣＯ−Ｗ−Ｒ₁−ＳＯ₂ＮＨ−Ｒ₂］ （２）
式中、Ａは水素原子、またはメチル基を表す。Ｗは酸素、または−ＮＲ₃−であり、Ｒ₃は水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Ｒ₁は置換基を有していてもよいアルキレン基、アリーレン基、Ｒ₂は水素原子、アルキル基、アリール基を表す。
一般式（２）で示されるモノマーの好ましい範囲としては、Ｒ₁は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基、Ｒ₂は水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ₃は水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基を表す。
前記一般式（２）において、Ｒ₁で表されるより好ましいアルキレン基としてはメチレン、エチレン、イソプロピレンなどの炭素数１〜２０のアルキレン基があり、Ｒ₁で表されるより好ましいアリーレン基としてはフェニレン、ナフチレンなどの炭素数６〜１８のアリーレン基がある。
Ｒ₂で表されるアリール基、アルキル基は置換基を有していても良く、置換基としてはフッ素、クロロ、ブロモなどのハロゲン原子、メトキシ、エトキシなどのアルコキシ基、フェノキシなどのアリールオキシ基、シアノ基、アセトアミドなどのアミド基、エトキシカルボニル基のようなアルコキシカルボニル基などのほか炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基などを挙げることができる。
以下に、一般式（２）で表される化合物のの好ましい具体例（２−１）〜（２−１０）を示すが、本発明がこれに限定されるものではない。
【００１３】
【化２】

【００１４】
【化３】

【００１５】
本発明で用いられる含フッ素共重合ポリマー中に用いられるこれらの酸性基を有するビニル単量体の量は、該共重合ポリマーの重量にもとずいて５〜７０重量％であり、好ましくは１０〜５０重量％の範囲である。
【００１６】
一般式（３）のビニル単量体について説明する。
ＣＨ₂＝ＣＡ［ＣＯ−Ｗ−Ｒ₅］ （３）
式中、Ａは水素原子またはメチル基を表す。
Ｗは酸素、または−ＮＲ₃−であり、Ｒ₃は水素原子、アルキル基、アリール基を表す。Ｒ₅は９個以上の炭素原子を有する脂肪族基または２個以上の炭素原子を有する脂肪族基で置換された芳香族基を表す。
一般式（３）で示されるモノマーの好ましい範囲としては、Ｗは酸素、または-NR₃-であり、Ｒ₃は水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ₅は、９個以上の炭素原子を有する脂肪族基、または２個以上の炭素原子を有する脂肪族基で置換された芳香族基を表し、具体例としては、下記のモノマーを挙げることが出来る。
【００１７】
例えばアクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ベヘニル、アクリル酸ジエチルベンジル、アクリル酸エチルベンジル、アクリル酸ｎ−プロピルベンジル、アクリル酸ｉｓｏ−プロピルベンジル、アクリル酸ｎ−ブチルベンジル、アクリル酸ｉｓｏ−ブチルベンジル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、アクリル酸エチルフェニル、アクリル酸ｎ−プロピルフェニル、アクリル酸ｉｓｏ−プロピルフェニル、アクリル酸ｎ−ブチルフェニル、アクリル酸ｉｓｏ−ブチルフェニル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルフェニルである。好ましくはアクリル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ベヘニル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルフェニルである。
【００１８】
更にメタクリル酸エステル類をあげることができる。例えばメタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ベヘニル、メタクリル酸ジエチルベンジル、メタクリル酸エチルベンジル、メタクリル酸ｎ−プロピルベンジル、メタクリル酸ｉｓｏ−プロピルベンジル、メタクリル酸ｎ−ブチルベンジル、メタクリル酸ｉｓｏ−ブチルベンシル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、メタクリル酸エチルフェニル、メタクリル酸ｎ−プロピルフェニル、メタクリル酸ｉｓｏ−プロピルフェニル、メタクリル酸ｎ−ブチルフェニル、メタクリル酸ｉｓｏ−ブチルフェニル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルフェニルである。好ましくはメタクリル酸ラウリル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ベヘニル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルフェニルである。
【００１９】
さらにつぎのようなアクリルアミド類、メタアクリルアミド類を例として挙げることが出来る。
Ｎ−ノニルアクリルアミド、Ｎ−デシルアクリルアミド、Ｎ−ラウリルアクリルアミド、Ｎ−ステアリルアクリルアミド、Ｎ−ノニルメタアクリルアミド、Ｎ−デシルメタアクリルアミド、Ｎ−ラウリルメタアクリルアミド、Ｎ−ステアリルメタアクリルアミド、など。
また、これら９個以上の炭素原子を有する脂肪族基、もしくは２個以上の炭素原子を有する脂肪族基で置換された芳香族基を有するアクリレート、メタクリレート、アクリルアミドまたはメタクリルアミドのうちより好ましいものとしては、１２個以上の炭素原子を有する脂肪族基を有するアクリレート、メタクリレート、アクリルアミドまたはメタクリルアミドを挙げることができる。
【００２０】
本発明の含フッ素共重合ポリマー中に用いられるこれらのビニル単量体の量は、該共重合ポリマーの重量の５〜８０重量％であり、好ましくは１０〜７０重量％の範囲である。
また場合により用いられるその他の付加重合不飽和化合物としては、Polymer Handbook 2nd ed., J.Brandrup, Wiley Interscience (1975) Chapter 2 Page 1〜483記載のものを用いることが出来る。
本発明の含フッ素ポリマーは、公知慣用の方法で製造することができる。例えばフルオロ脂肪族基を有する（メタ）アクリレート、脂肪族基若しくは芳香族基を有する（メタ）アクリレート及び酸性水素原子が窒素原子に結合した酸性基含有ビニル単量体とを、有機溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、熱重合させることにより製造できる。もしくは場合によりその他の付加重合性不飽和化合物とを、添加して上記と同じ方法にて製造することができる。
以下、本発明による含フッ素ポリマーの具体的な構造の例（Ｐ−１）〜（Ｐ−８）を示すが、本発明がこれに限定されるものではない。なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。
【００２１】
【化４】

【００２２】
【化５】

【００２３】
本発明で用いる含フッ素系ポリマーの分子量の範囲は、平均分子量として３，０００〜２００，０００までのものであり、好ましくは６，０００〜１００，０００までのものを用いることができる。
【００２４】
次に本発明のポジ型感光組成物を調整するに際して必要となる他の成分について説明する。
ポジ型感光性組成物としては、露光の前後で現像液に対する溶解性または膨潤性が変化するものならば使用できるが、代表的なものとしては、ｏ−キノンジアジド化合物が挙げられる。例えば、アルカリ可溶性樹脂とｏ−キノンジアジド化合物とを含有するポジ型感光性組成物の場合、ｏ−キノンジアジド化合物は、少なくとも１つのｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、活性光線によりアルカリ水溶液に対する溶解性を増すものが好ましい。
【００２５】
このようなものとしては、種々の構造のものが知られており、例えば、J.KOSAR著「Light-Sensitive Systems」(John Wiley & Sons, Inc, 1965年発行）P.336 〜P.352に詳細に記載されている。
【００２６】
本発明の感光性組成物において、上記ｏ−キノンジアジト化合物は、前記一般式（１）、（２）および（３）で示される構成単位を共重合成分として有する高分子化合物に加えて、必須成分の感光物である。
ポジ型感光性組成物としては、特に種々のヒドロキシル化合物とｏ−ベンゾキノンジアジドあるいはｏ−ナフトキノンジアジドのスルホン酸エステルが好適である。
【００２７】
上記のようなｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとフェノール・ホルムアルデヒド樹脂またはクレゾール・ホルムアルデヒド樹脂とのエステル；米国特許第３，６３５，７０９号明細書に記載されている１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとピロガロール・アセトン樹脂とのエステル；特公昭６３−１３，５２８号公報に記載されている１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとレゾルシン−ベンズアルデヒド樹脂とのエステル；特公昭６２−４４，２５７号公報に記載されている１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとレゾルシン−ピロガロール・アセトン共縮合樹脂とのエステル；特公昭５６−４５，１２７号公報に記載されている末端にヒドロキシル基を有するポリエステルに１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドをエステル化させたもの；特公昭５０−２４，６４１号公報に記載されているＮ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドのホモポリマーまたは他の共重合しうるモノマーとの共重合体に１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドをエステル化させたもの；特公昭５４−２９，９２２号公報に記載されている１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとビスフェノール・ホルムアルデヒド樹脂とのエステル；特公昭５２−３６，０４３号公報に記載されているｐ−ヒドロキシスチレンのホモポリマーまたは他の共重合しうるモノマーとの共重合体に１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドをエステル化させたもの；１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとポリヒドロキシベンゾフェノンとのエステルがある。
【００２８】
その他、本発明に使用できる公知のｏ−キノンジアジド化合物としては、特開昭６３−８０，２５４号、特開昭５８−５，７３７号、特開昭５７−１１１，５３０号、特開昭５７−１１１，５３１号、特開昭５７−１１４，１３８号、特開昭５７−１４２，６３５号、特開昭５１−３６，１２９号、特公昭６２−３，４１１号、特公昭６２−５１，４５９号、特公昭５１−４８３号などの各明細書中に記載されているものなどを上げることができる。
前記のｏ−キノンジアジド化合物の含有量は、感光性組成物の全固形分に対して、通常５〜６０重量％で、より好ましくは１０〜４０重量％である。
【００２９】
また、本発明に使用される感光物は前記ｏ−キノンジアジド化合物に加え、更に、他の感光物および感光性組成物を含有することができる。
ｏ−キノンジアジド以外の感光性組成物としてはアルカリ可溶性基を酸分解基（酸により分解される性質をもつ基）で保護した化合物と光酸発生剤（放射線の商社により酸を生じる化合物）との組み合わせからなる化学増幅系の感光組成物を用いることができる。
化学増幅系で用いられる光酸発生剤としては、公知のものを用いることができる。
【００３０】
たとえば S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal etal,Polymer,21,423(1980)等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3-140,140号等に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker etal,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号等に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello etal,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第339,049号、同第410,201号、特開平2-150,848号、特開平2-296,514号等に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello etal,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello etal.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt etal,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello etal,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello etal,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello etal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693 号、米国特許3,902,114 号，欧州特許第233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同410,201 号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、獨国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号等に記載のスルホ ニウム塩、J.V.Crivello etal,Macromorecules,10(6),1307(1977) 、J.V.Crivello etal,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed., 17,1047(1979) 等に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen etal,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)等 に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第3,905,815号、特公昭46-4605号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開昭60-239736号、特開昭61-169835号、特開昭61-169837号、特開昭62-58241号、特開昭62-212401号、特開昭63-70243号、特開昭63-298339号等に記載の有機ハロゲン化合物、K.Meier etal,J.Rad.Curing,13(4),26(1986)、T.P.Gill etal,Inorg.Chem.,19,3007(1980) 、D.Astruc,Acc.Chem.Res.,19(12),377(1896)、特開平2-161445号等に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、S.Hayase etal,J.Polymer Sci.,25,753(1987)、E.Reichmanis etal,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,23,1(1985)、Q.Q.Zhu etal,J.Photochem.,36,85,39,317(1987)、B.Amit etal,Tetrahedron Lett.,(24)2205(1973)、D.H.R.Barton etal,J.Chem Soc.,3571(1965)、P.M.Collins etal,J.Chem.SoC.,Perkin I,1695(1975)、M.Rudinstein etal,Tetrahedron Lett.,(17),1445(1975)、J.W.Walker etalJ.Am.Chem.Soc.,110,7170(1988)、S.C.Busman etal,J.Imaging Technol.,11(4),191(1985)、H.M.Houlihan etal,Macormolecules,21,2001(1988)、P.M.Collins etal,J.Chem.Soc.,Chem.Commun.,532(1972)、S.Hayase etal,Macromolecules,18,1799(1985)、E.Reichmanis etal,J.Electrochem.Soc.,Solid State Sci.Technol.,130(6)、F.M.Houlihan etal,Macromolcules,21,2001(1988)、 欧州特許 第0290,750号、同046,083号、同156,535号、同271,851号、同0,388,343号、 米国特許第3,901,710号、同4,181,531号、特開昭60-198538号、特開昭53-133022号等に記載の０−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、M.TUNOOKチ etal,Polymer Preprints Japan,35(8)、G.Berner etal,J.Rad.Curing,13(4)、W.J.Mijs etal,Coating Technol.,55(697),45(1983),Akzo、H.Adachi etal,Polymer Preprints,Japan,37(3)、欧州特許第0199,672号、同84515号、同199,672号、同044,115号、同0101,122号、米国特許第4,618,564号、同4,371,605号、同4,431,774号、特開昭64-18143号、特開平2-245756号、特願平3-140109号等に記載のイミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭61-166544号等に記載のジスルホン化合物を挙げることができる。
【００３１】
上記活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物の中で、特に有効に用いられるものについて以下に説明する。
（１）トリハロメチル基が置換した下記一般式（ＰＡＧ１）で表されるオキサゾール誘導体または一般式（ＰＡＧ２）で表されるＳ−トリアジン誘導体。
【００３２】
【化６】

【００３３】
式中、Ｒ¹は置換もしくは未置換のアリール基、アルケニル基、Ｒ²は置換もしくは未置換のアリール基、アルケニル基、アルキル基、−ＣＹ₃をしめす。Ｙは塩素原子または臭素原子を示す。
具体的には以下の化合物を挙げることができるがこれらに限定されるものではない。
【００３４】
【化７】

【００３５】
【化８】

【００３６】
（２）下記の一般式（ＰＡＧ３）で表されるヨードニウム塩、または一般式（ＰＡＧ４）で表されるスルホニウム塩、もしくはジアソニウム塩。
【００３７】
【化９】

【００３８】
ここで式Ａｒ¹ 、Ａｒ² は各々独立に置換もしくは未置換のアリール基を示す。
好ましい置換基としては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基およびハロゲン原子が挙げられる。
【００３９】
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は各々独立に、置換もしくは未置換のアルキル基、アリール基を示す。好ましくは炭素数６〜１４のアリール基、炭素数１〜８のアルキル基およびそれらの置換誘導体である。好ましい置換基としては、アリール基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ基、炭素数１〜８のアルキル基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基である。
【００４０】
Ｚ^- は対アニオンを示し、例えば BF₄ ^-、AsF₆ ^-、PF₆ ^-、SbF₆ ^-、SiF₆ ^2-、ClO₄ ^- 、CF₃SO₃ ^-等のパーフルオロアルカンスルホン酸アニオン、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸アニオン、ナフタレン−１−スルホン酸アニオン等の結合多核芳香族スルホン酸アニオン、アントラキノンスルホン酸アニオン、スルホン酸基含有染料等を挙げることができるがこれらに限定されるものではない。
【００４１】
またＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵のうちの２つおよびＡｒ¹、Ａｒ²はそれぞれの単結合または置換基を介して結合してもよい。
【００４２】
具体例としては以下に示す化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４３】
【化１０】

【００４４】
【化１１】

【００４５】
一般式（ＰＡＧ３）、（ＰＡＧ４）で示される上記オニウム塩は公知であり、たとえばJ. W. Knapczyk etal, J. Am. Chem. Soc., 91, 145(1969)、A. L.Maycok etal, J. Org. Chem., 35, 2532, (1970)、B. Goethas etal, Bull. Soc.Chem. Belg., 73, 546, (1964)、H. M. Leicester, J. Ame. Chem. Soc., 51, 3587(1929)、J. V. Crivello etal, J. Polym. Chem. Ed., 18, 2677(1980)、米国特許第２，８０７，６４８号および同４，２４７，４７３号、特開昭５３−１０１，３３１号等に記載の方法により合成することができる。
【００４６】
（３）下記一般式（ＰＡＧ５）で表されるジスルホン誘導体または一般式（ＰＡＧ６）で表されるイミノスルホネート誘導体。
【００４７】
【化１２】

【００４８】
式中Ａｒ³ 、Ａｒ⁴ は各々独立に置換もしくは未置換のアリール基を示す。Ｒ⁶ は置換もしくは未置換のアルキル基、アリール基を示す。Ａは置換もしくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基を示す。
具体例としては以下に示す化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４９】
【化１３】

【００５０】
【化１４】

【００５１】
これらの活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物の添加量は、感光性組成物の全重量（塗布溶媒を除く）を基準として通常０．００１〜４０重量％の範囲で用いられ、好ましくは０．０１〜２０重量％、更に好ましくは０．１〜５重量％の範囲で使用される。
これらの光酸発生剤の含有量は、感光性組成物の全固形分に対して通常０．１〜３０重量％より好ましくは１〜１０重量％である。
【００５２】
またアルカリ可溶基を酸分解基で保護した化合物としては−Ｃ−Ｏ−Ｃ−または−Ｃ−Ｏ−Ｓｉ−結合を有する化合物であり以下の例をあげることができる。ａ）少なくとも１つのオルトカルボン酸エステルおよび／またはカルボン酸アミドアセタール群を含み、その化合物が重合性を有することができ、上記の群が主鎖中の架橋要素として、または側方置換基として生じ得る様な化合物、
ｂ）主鎖中に反復アセタールおよび／またはケタール群を含むオリゴマー性または重合体化合物、
ｃ）少なくとも一種のエノールエステルまたはＮ−アシルアミノカーボネート群を含む化合物、
ｄ）β−ケトエステルまたはβ−ケトアミドの環状アセタールまたはケタール、
【００５３】
ｅ）シリルエーテル群を含む化合物、
ｆ）シリルエノールエーテル群を含む化合物、
ｇ）アルデヒドまたはケトン成分が、現像剤に対して、０．１〜１００ｇ／リットルの溶解性を有するモノアセタールまたはモノケタール、
ｈ）第三級アルコール系のエーテル、および
ｉ）第三級アリル位またはベンジル位アルコールのカルボン酸エステルおよび炭酸エステル。
【００５４】
照射感応性混合物の成分として酸により開裂し得る種類（ａ）の化合物は、ドイツ特許公開第２，６１０，８４２号および同第２，９２８，６３６号に記載されている。種類（ｂ）の化合物を含む混合物は、ドイツ特許第２，３０６，２４８号および同第２，７１８，２５４号に記載されている。種類（ｃ）の化合物は、ヨーロッパ特許公開第０，００６，６２６号および同第０，００６，６２７号に記載されている。種類（ｄ）の化合物は、ヨーロッパ特許公開第０，２０２，１９６号に記載されており、種類（ｅ）として使用する化合物は、ドイツ特許公開第３，５４４，１６５号および同第３，６０１，２６４号に記載されている。種類（ｆ）の化合物は、ドイツ特許公開第３，７３０，７８５号および同第３，７３０，７８３号に記載されており、種類（ｇ）の化合物は、ドイツ特許公開第３，７３０，７８３号に記載されている。種類（ｈ）の化合物は、例えば米国特許第４，６０３，１０１号に記載されており、種類（ｉ）の化合物は、例えば米国特許第４，４９１，６２８号およびJ. M.Frechetらの論文（J. Imaging Sci. 30，59−64(1986)）にも記載されている。
これらの酸分解性基で保護された化合物の含有量は感光性組成物の全固形分に対して通常１〜６０重量％でより好ましくは５〜４０重量％である。
【００５５】
水不溶でアルカリ性水溶液に可溶の合成樹脂（以下、アルカリ可溶性樹脂という）としては、例えばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、フェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共縮合樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドの共重合体、ハイドロキノンモノメタクリレート共重合体の他、特開平７−２８２４４号公報記載のスルホニルイミド系ポリマー、特開平７−３６１８４号公報記載のカルボキシル基含有ポリマーなどが挙げられる。その他特開昭５１−３４７１１号公報に開示されているようなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、特開平２−８６６号に記載のスルホンアミド基を有するアクリル系樹脂や、ウレタン系の樹脂、等種々のアルカリ可溶性の高分子化合物も用いることができる。これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、重量平均分子量が５００〜２０，０００で数平均分子量が２００〜６０，０００のものが好ましい。
【００５６】
かかるアルカリ可溶性の高分子化合物は１種類あるいは２種類以上を組合せて使用してもよく、全組成物の８０重量％以下の添加量で用いられる。
更に、米国特許第４，１２３，２７９号明細書に記載されているように、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数３〜８のアルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好ましい。かかるアルカリ可溶性樹脂は、通常、組成物全重量の９０重量％以下の添加量で用いられる。
【００５７】
感光性組成物中には、更に必要に応じて、感度を高めるための環状酸無水物、露光後直ちに可視像を得るための焼き出し剤、画像着色剤としての染料、その他のフィラーなどを加えることができる。
【００５８】
本発明における感光性組成物中には、感度を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加することが好ましい。
環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されているように無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−Δ⁴−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸等がある。
フェノール類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４′−トリヒドロキシベンゾフェノン、４，４，４″−トリヒドロキシ−トリフェニルメタン、４，４′，３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
【００５９】
有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル類、カルボン酸類などがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキセン−２，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。
上記の環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、０．０５〜１５重量％が好ましく、より好ましくは、０．１〜５重量％である。
【００６０】
露光後、直ちに可視像を得るための焼き出し剤としては、露光によって酸を放出する感光性化合物と、酸と塩を形成して色調を変える有機染料との組み合わせを挙げることができる。
【００６１】
露光によって酸を放出する感光性化合物としては、例えば、特開昭５０−３６，２０９号公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニド；特開昭５３−３６，２２３号公報に記載されているトリハロメチル−２−ビロンやトリハロメチル−ｓ−トリアジン；特開昭５５−６２，４４４号公報に記載されている種々のｏ−ナフトキノンジアジド化合物；特開昭５５−７７，７４２号公報に記載されている２−トリハロメチル−５−アリール−１，３，４−オキサジアゾール化合物；ジアゾニウム塩などを挙げることができる。これらの化合物は、単独または混合して使用することができ、その添加量は、組成物全重量に対し、０．３〜１５重量％の範囲が好ましい。
【００６２】
本発明における、感光性組成物中には、光分解して酸性物質を発生する化合物の光分解生成物と相互作用することによってその色調を変える有機染料が少なくとも一種類以上用いられる。このような有機染料としては、ジフェニルメタン系、トリアリールメタン系、チアジン系、オキサジン系、フェナジン系、キサンテン系、アントラキノン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系の色素を用いることができる。具体的には次のようなものである。
ブリリアントグリーン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロシンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、フェノールフタレイン、１，３−ジフェニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモールフタレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オレンジIV、ジフェニルチオカルバゾン、２，７−ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α−ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、フエナセタリン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、オイルブルー＃６０３〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルピンク＃３１２〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルレッド５Ｂ〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルスカーレット＃３０８〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルレッドＯＧ〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルレッドＲＲ〔オリエント化学工業（株）製〕、オイルグリーン＃５０２〔オリエント化学工業（株）製〕、スピロンレッドＢＥＨスペシャル〔保土谷化学工業（株）製〕、ビクトリアピュアーブルーＢＯＨ〔保土谷化学工業（株）製〕、パテントピュア−ブルー〔住友三国化学工業（株）製〕、スーダンブルーII〔ＢＡＳＦ社製〕、ｍ−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ファーストアッシドバイオレットＲ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２−カルボキシアニリノ−４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２−カルボステアリルアミノ−４−ｐ−ジヒドロオキシエチル−アミノ−フェニルイミノナフトキノン、ｐ−メトキシベンゾイル−ｐ′−ジエチルアミノ−ｏ′−メチルフェニルイミノアセトアニリド、シアノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノアセトアニリド、１−フェニル−３−メチル−４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノ−５−ピラゾロン、１−β−ナフチル−４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミノ−５−ピラゾロン等。
【００６３】
特に好ましい有機染料は、トリアリールメタン系染料である。トリアリールメタン系染料では、特開昭６２−２９３２４７１号公報、特願平４−１１２８４４号明細書に示されているような対アニオンとしてスルホン酸化合物を有するものが特に有用である。
これらの染料は単独又は混合して使用することができ、添加量は感光性組成物の総重量に対して０．３〜１５重量％が好ましい。また必要に応じて他の染料、顔料と併用でき、その使用量は染料及び顔料の総重量に対して７０重量％以下、より好ましくは５０重量％以下である。
【００６４】
その他本発明の組成物中には、画像のインキ着肉性を向上させるための、疎水基を有する各種樹脂、例えばオクチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ｔ−ブチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ｔ−ブチルフェノール・ベンズアルデヒド樹脂、ロジン変性ノボラック樹脂、及びこれら変性ノボラック樹脂のｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル等；塗膜の可撓性を改良するための可塑剤、例えばフタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、ブチルグリコレート、リン酸トリクレジル、アジピン酸ジオクチル等、種々の目的に応じて各種添加剤を加えることができる。これらの添加量は組成物全重量に対して、０．０１〜３０重量％の範囲が好ましい。
【００６５】
更にこれらの組成物中には、皮膜の耐摩耗性を更に向上させるための公知の樹脂を添加できる。これらの樹脂としては、例えばポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、ナイロン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等があり、単独または混合して使用することができる。添加量は組成物全重量に対して、２〜４０重量％の範囲が好ましい。
【００６６】
また、本発明における感光性組成物中には、現像のラチチュードを広げるために、特開昭６２−２５１７４０号公報や、特開平４−６８３５５号公報に記載されているような非イオン性界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加することができる。
非イオン性界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げられ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、アモーゲンＫ（商品名、第一工業（株）製、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型）、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、レボン１５（商品名、三洋化成（株）製、アルキルイミダゾリン系）などが挙げられる。
上記非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤の感光性組成物中に占める割合は０．０５〜１５重量％が好ましく、より好ましくは、０．１〜５重量％である。
【００６７】
塗布面質の向上；
本発明における感光性組成物中には、塗布面質を向上するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、全感光性組成物の０．００１〜１．０重量％であり、更に好ましくは０．００５〜０．５重量％である。
【００６８】
また、本発明における感光性組成物中には、以下の黄色系染料を添加することができる。
ｅ）一般式〔Ｉ〕、〔II〕あるいは〔III〕で表わされ、４１７ｎｍの吸光度が４３６ｎｍの吸光度の７０％以上である黄色系染料
【００６９】
【化１５】

【００７０】
式〔Ｉ〕中、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アリール基又はアルケニル基を示す。またＲ₁ とＲ₂ は環を形成してもよい。Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₅ はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基を示す。Ｇ₁ 、Ｇ₂ はそれぞれ独立にアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はフルオロアルキルスルホニル基を示す。またＧ₁ とＧ₂ は環を形成してもよい。さらにＲ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、Ｒ₅ 、Ｇ₁ 、Ｇ₂ のうち１つ以上に１つ以上のスルホン酸基、カルボキシル基、スルホンアミド基、イミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、フェノール性水酸基、スルホンイミド基、又はその金属塩、無機又は有機アンモニウム塩を有する。ＹはＯ、Ｓ、ＮＲ（Ｒは水素原子もしくはアルキル基又はアリール基）、Ｓｅ、−Ｃ（ＣＨ₃ ）₂ −、−ＣＨ＝ＣＨ−より選ばれる２価原子団を示し、ｎ₁ は０、１を示す。
【００７１】
【化１６】

【００７２】
〔式中、Ｒ₆及びＲ₇はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヘテロ環基、置換ヘテロ環基、アリル基又は置換アリル基を表わし、また、Ｒ₆とＲ₇とは共にそれが結合している炭素原子と共に環を形成しても良い。
ｎ₂は、０、１又は２を表わす。
Ｇ₃ 及びＧ₄ はそれぞれ独立に、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、アシル基、置換アシル基、アリールカルボニル基、置換アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、フルオロアルキルスルホニル基を表わす。ただし、Ｇ₃ とＧ₄が同時に水素原子となることはない。また、Ｇ₃とＧ₄とはそれが結合している炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成しても良い。〕
さらにＲ₆、Ｒ₇、Ｇ₃、Ｇ₄のうち１つ以上に１つ以上のスルホン酸基、カルボキシル基、スルホンアミド基、イミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、フェノール性水酸基、スルホンイミド基、又はその金属塩、無機又は有機アンモニウム塩を有する。
【００７３】
【化１７】

【００７４】
Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃はそれぞれ同じでも異なっていてもよく水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルコキシル基、ヒドロキシル基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ニトロ基、カルボキシル基、クロル基、ブロモ基を表わす。
【００７５】
本発明のフッ素系界面活性剤を含んだ感光性組成物から平版印刷版用感光材料を得る場合には、まずそれが適当な支持体上に設けられる。本発明のフッ素系界面活性剤を含んだ感光性組成物は、下記の有機溶剤の単独あるいは混合したものに溶解または分散され、支持体に塗布され乾燥される。
【００７６】
有機溶剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、沸点４０℃〜２００℃、特に６０℃〜１６０℃の範囲のものが、乾燥の際における有利さから選択される。勿論、本発明の界面活性剤が溶解するものを選択するのが良い。
【００７７】
有機溶剤としては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−またはイソ−プロピルアルコール、ｎ−またはイソ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルヘキシルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセチルアセトン等のケトン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メトキシベンゼン等の炭化水素類、エチルアセテート、ｎ−またはイソ−プロピルアセテート、ｎ−またはイソ−ブチルアセテート、エチルブチルアセテート、ヘキシルアセテート等の酢酸エステル類、メチレンジクロライド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼン等のハロゲン化物、イソプロピルエーテル、ｎ−ブチルエーテル、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、エチレングリコール、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、ジエチルセロソルブ、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール等の多価アルコールとその誘導体、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の特殊溶剤などが単独あるいは混合して好適に使用される。そして、塗布する組成物中の固形分の濃度は、２〜５０重量％とするのが適当である。
【００７８】
本発明の組成物の塗布方法としては、例えばロールコーティング、ディップコーティング、エアナイフコーティング、グラビアコーティング、グラビアオフセットコーティング、ホッパーコーティング、ブレードコーティング、ワイヤドクターコーティング、スプレーコーティング等の方法が用いられ、乾燥後の重量にして０．３〜４．０ｇ／m²が好ましい。塗布量が小さくなるにつれて画像を得るための露光量は小さくて済むが、膜強度は低下する。塗布量が大きくなるにつれ、露光量を必要とするが感光膜は強くなり、例えば、印刷版として用いた場合、印刷可能枚数の高い（高耐刷の）印刷版が得られる。
【００７９】
支持体上に塗布された感光性組成物の乾燥は、通常加熱された空気によって行われる。加熱は３０℃〜２００℃特に、４０℃〜１４０℃の範囲が好適である。乾燥の温度は乾燥中一定に保たれる方法だけでなく段階的に上昇させる方法も実施し得る。
【００８０】
また、乾燥風は除湿することによって好結果が得られる場合もある。加熱された空気は、塗布面に対し０．１ｍ／秒〜３０ｍ／秒、特に０．５ｍ／秒〜２０ｍ／秒の割合で供給するのが好適である。
【００８１】
マット層；
上記のようにして設けられた感光層の表面には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設けることが好ましい。具体的には、特開昭５０−１２５８０５号、特公昭５７−６５８２号、同６１−２８９８６号の各公報に記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭６２−６２３３７号公報に記載されているような固体粉末を熱融着させる方法などが挙げられる。
【００８２】
感光性平版印刷版等に使用される支持体は、寸度的に安定な板状物であり、これ迄印刷版の支持体として使用されたものが含まれ、好適に使用することができる。かかる支持体としては、紙、プラスチックス（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、例えばアルミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチックスのフイルム、上記のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれるが、特にアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えばけい素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄およびチタンに加えてその他無視し得る程度の量の不純物をも含むものである。
【００８３】
支持体は、必要に応じて表面処理される。例えば感光性平版印刷版の場合には、支持体の表面に、親水化処理が施される。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ましい。また、米国特許第２，７１４，０６６号明細書に記載されているように、砂目立てしたのち珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
【００８４】
また、米国特許第３，６５８，６６２号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。
これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させる為に施されるものである。
アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い。前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われている。
【００８５】
砂目立て方法としては、機械的、化学的および電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸またはこれらの組合せのような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開昭５５−１３７９９３号公報に記載されているような機械的粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。
上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表面の中心線表面粗さ（Ｈａ）が０．３〜１．０μとなるような範囲で施されることが好ましい。
このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗および化学的にエッチングされる。
【００８６】
エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要な被膜を形成するから好ましくない。
これ等のエッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸漬時間１分あたり０．３グラムから４０ｇ／m²になる様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下回るものであっても差支えない。
【００８７】
エッチングは上記エッチング液にアルミニウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５〜１０ｇ／m²の範囲となるように処理されることが好ましい。
上記エッチング剤としては、そのエッチング速度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、ふっ酸、ほうふつ化水素酸等が用いられる。
エッチング処理されたアルミニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来より行なわれている方法で行なうことができる。具体的には、硫酸、りん酸、クロム酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流または交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させることができる。
【００８８】
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変化するので一般には決定され得ないが一般的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０アンペア/dm²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当である。
これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法および米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されている燐酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国特許第２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６１号に開示されているようなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナトリウム水溶液または特公昭３６−２２０６３号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウムおよび米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。
【００８９】
有機下塗層；
本発明の感光性平版印刷版には感光層を塗設する前に有機下塗層を設けることが非画像部の感光層残りを減らす上で好ましい。かかる有機下塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
【００９０】
その他ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）など下記一般式〔IV〕で示される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる少なくとも１種の化合物を用いることができる。
【００９１】
【化１８】

【００９２】
前記一般式〔IV〕において、Ｒ₁は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表すが、好ましくは、水素原子、塩素原子、または炭素数１〜４個のアルキル基を表す。特に好ましくは水素原子またはメチル基を表す。
Ｒ₂とＲ₃は各々独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、芳香族基、置換芳香族基、−Ｒ₄、−ＣＯＯＲ₅、−ＣＯＮＨＲ₆ 、−ＣＯＲ₇もしくは−ＣＮを表すか、またはＲ₂とＲ₃が結合して環を形成しても良い。ここでＲ₄〜Ｒ₇は各々アルキル基または芳香族基を表す。より好ましいＲ₂とＲ₃は、各々独立して、水素原子、水酸基、塩素原子、炭素数１〜４個のアルキル基、フェニル基、−Ｒ₄、−ＣＯＯＲ₅、−ＣＯＮＨＲ₆、−ＣＯＲ₇、−ＣＮであり、ここでＲ₄〜Ｒ₇は炭素数１〜４個のアルキル基またはフェニル基である。特に好ましいＲ₂とＲ₃は、各々独立して、水素原子、水酸基、メチル基またはメトキシ基である。
【００９３】
Ｘは水素原子、金属原子、ＮＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀Ｒ₁₁を表し、ここで、Ｒ₈〜Ｒ₁₁は、各々独立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、芳香族基、置換芳香族基を表すか、またはＲ₈とＲ₉が結合して環を形成しても良い。より好ましいＸは、水素原子、一価の金属原子、ＮＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀Ｒ₁₁であり、ここで、Ｒ₈〜Ｒ₁₁は、各々独立して、水素原子、炭素数１〜４個のアルキル基またはフェニル基である。特に好ましいＸは、水素原子、ナトリウム、カリウムまたはＮＲ₈Ｒ₉Ｒ₁₀Ｒ₁₁を表し、ここで、Ｒ₈〜Ｒ₁₁は、各々独立して、水素原子、メチル基、エチル基を表す。
ｎは１〜３の整数を表すが、好ましくは１または２を表し、より好ましくは１を表す。
【００９４】
この有機下塗層は次のような方法で設けることが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。
【００９５】
これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１〜１２の範囲で使用することもできる。また、感光性平版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。
有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２００mg／m²が適当であり、好ましくは５〜１００mg／m²である。上記の被覆量が２mg／m²より少ないと十分な耐刷性能が得られない。また、２００mg／m²より大きくても同様である。
【００９６】
バックコート；
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物および特開平６−３５１７４号公報記載の有機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Ｓi(ＯＣＨ₃)₄、Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₄、Ｓi(ＯＣ₃Ｈ₇)₄、Ｓi(ＯＣ₄Ｈ₉)₄、などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液特性に優れており特に好ましい。
【００９７】
かくして得られたＰＳ版は透明原画を通してカーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンランプなどを光源とする活性光線により露光された後、現像処理される。
【００９８】
本発明の感光性平版印刷版の現像液として好ましいものは、（ａ）非還元糖から選ばれる少なくとも一種の糖類および（ｂ）少なくとも一種の塩基を含有し、ｐＨが９．０〜１３．５の範囲にある現像液である。
以下この現像液について詳しく説明する。なお、本明細書中において、特にことわりのない限り、現像液とは現像開始液（狭義の現像液）と現像補充液とを意味する。
【００９９】
この現像液は、その主成分が、非還元糖から選ばれる少なくとも一つの化合物と、少なくとも一種の塩基からなり、液のｐＨが９．０〜１３．５の範囲であることが好ましい。
かかる非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体および糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも好適に用いられる。トレハロース型少糖類には、サッカロースやトレハロースがあり、配糖体としては、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。また糖アルコールとしてはＤ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシットおよびアロズルシットなどが挙げられる。更に二糖類の水素添加で得られるマルチトールおよびオリゴ糖の水素添加で得られる還元体（還元水あめ）が好適に用いられる。これらの中で特に好ましい非還元糖は糖アルコールとサッカロースであり、特にＤ−ソルビット、サッカロース、還元水あめが適度なｐＨ領域に緩衝作用があることと、低価格であることで好ましい。
【０１００】
これらの非還元糖は、単独もしくは二種以上を組み合わせて使用でき、それらの現像液中に占める割合は０．１〜３０重量％が好ましく、更に好ましくは、１〜２０重量％である。この範囲以下では十分な緩衝作用が得られず、またこの範囲以上の濃度では、高濃縮化し難く、また原価アップの問題が出てくる。
尚、還元糖を塩基と組み合わせて使用した場合、経時的に褐色に変色し、ｐＨも徐々に下がり、よって現像性が低下するという問題点がある。
【０１０１】
非還元糖に組み合わせる塩基としては従来より知られているアルカリ剤が使用できる。例えば、水酸化ナトリウム、同カリウム、同リチウム、燐酸三ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、燐酸二ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。
【０１０２】
これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いられる。これらの中で好ましいのは水酸化ナトリウム、同カリウムである、その理由は、非還元糖に対するこれらの量を調整することにより広いｐＨ領域でｐＨ調整が可能となるためである。また、燐酸三ナトリウム、同カリウム、炭酸ナトリウム、同カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。
これらのアルカリ剤は現像液のｐＨを９．０〜１３．５の範囲になるように添加され、その添加量は所望のｐＨ、非還元糖の種類と添加量によって決められるが、より好ましいｐＨ範囲は１０．０〜１３．２である。
【０１０３】
現像液には更に、糖類以外の弱酸と強塩基からなるアルカリ性緩衝液が併用できる。かかる緩衝液として用いられる弱酸としては、解離定数（ｐＫａ）が１０．０〜１３．２のものが好ましい。このような弱酸としては、Pergamon Press社発行のIONISATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTIONなどに記載されているものから選ばれ、例えば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール−１（ＰＫａ１２．７４）、トリフルオロエタノール（同１２．３７）、トリクロロエタノール（同１２．２４）などのアルコール類、ピリジン−２−アルデヒド（同１２．６８）、ピリジン−４−アルデヒド（同１２．０５）などのアルデヒド類、サリチル酸（同１３．０）・３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（同１２．８４）、カテコール（同１２．６）、没食子酸（同１２．４）、スルホサリかル酸（同１１．７）、３，４−ジヒドロキシスルホン酸（同１２．２）、３，４−ジヒドロキシ安息香酸（同１１．９４）、１，２，４−トリヒドロキシベンゼン（同１１．８２）、ハイドロキノン（同１１．５６）、ピロガロール（同１１．３４）、ｏ−クレゾール（同１０．３３）、レゾルシノール（同１１．２７）、ｐ−クレゾール（同１０．２７）、ｍ−クレゾール（同１０．０９）などのフェノール性水酸基を有する化合物、
【０１０４】
２−ブタノンオキシム（同１２．４５）、アセトキシム（同１２．４２）、１，２−シクロヘプタンジオンジオキシム（同１２．３）、２−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム（同１２．１０）、ジメチルグリオキシム（同１１．９）、エタンジアミドジオキシム（同１１．３７）、アセトフェノンオキシム（同１１．３５）などのオキシム類、アデノシン（同１２．５６）、イノシン（同１２．５）、グアニン（同１２．３）、シトシン（同１２．２）、ヒポキサンチン（同１２．１）、キサンチン（同１１．９）などの核酸関連物質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸（同１２．３２）、１−アミノ−３，３，３−トリフルオロ安息香酸（同１２．２９）、イソプロピリデンジホスホン酸（同１２．１０）、１，１−エチリデンジホスホン酸（同１１．５４）、１，１−エチリデンジホスホン酸１−ヒドロキシ（同１１．５２）、ベンズイミダゾール（同１２．８６）、チオベンズアミド（同１２．８）、ピコリンチオアミド（同１２．５５）、バルビツル酸（同１２．５）などの弱酸が挙げられる。
【０１０５】
これらの弱酸の中で好ましいのは、スルホサリチル酸、サリチル酸である。
これらの弱酸に組み合わせる塩基としては、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムが好適に用いられる。
これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いられる。
上記の各種アルカリ剤は濃度および組み合わせによりｐＨを好ましい範囲内に調整して使用される。
【０１０６】
現像液には、現像性の促進や現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられる。
【０１０７】
界面活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、Ｎ．Ｎ−ビス−２−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性界面活性剤、
【０１０８】
脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、Ｎ−メチル−Ｎ−オレイルタウリンナトリウム塩、Ｎ−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、オレフィン／無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホべタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含される。
【０１０９】
更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤である。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。
上記の界面活性剤は、単独もしくは２種以上を組み合わせて使用することができ、現像液中に０．００１〜１０重量％、より好ましくは０．０１〜５重量％の範囲で添加される。
【０１１０】
現像液には、種々の現像安定化剤を用いることができる。それらの好ましい例として、特開平６−２８２０７９号公報記載の糖アルコールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチルアンモニウムヒドロキシドなどのテトラアルキルアンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどのホスホニウム塩およびジフェニルヨードニウムクロライドなどのヨードニウム塩が好ましい例として挙げられる。
更には、特開昭５０−５１３２４号公報記載のアニオン界面活性剤または両性界面活性剤、また特開昭５５−９５９４６号公報記載の水溶性カチオニックポリマー、特開昭５６−１４２５２８号公報に記載されている水溶性の両性高分子電解質を挙げることができる。
【０１１１】
更に、特開昭５９−８４２４１号公報のアルキレングリコールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭６０−１１１２４６号公報記載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭６０−１２９７５０号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンを置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭６１−２１５５５４号公報記載の重量平均分子量３００以上のポリエチレングリコール、特開昭６３−１７５８５８号公報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平２−３９１５７号公報の酸またはアルコールに４モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン化合物などが挙げられる。
【０１１２】
現像液には更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤としては、水に対する溶解度が約１０重量％以下のものが適しており、好ましくは５重量％以下のものから選ばれる。例えば、１−フェニルエタノール、２−フェニルエタノール、３−フェニル−１−プロパノール、４−フェニル−１−ブタノール、４−フェニル−２−ブタノール、２−フェニル−１−ブタノール、２−フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、ｏ−メトキシベンジルアルコール、ｍ−メトキシベンジルアルコール、ｐ−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノールおよび４−メチルシクロヘキサノール、Ｎ−フェニルエタノールアミンおよびＮ−フェニルジエタノールアミンなどを挙げることができる。有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して０．１〜５重量％である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
【０１１３】
現像液には更に還元剤を加えることができる。これは印刷版の汚れを防止するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩化合物を含むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有効である、好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、２−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち汚れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、０．０５〜５重量％の範囲で含有される。
【０１１４】
現像液には更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は炭素原子数６〜２０の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数８〜１２のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。
芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具体的には、ｏ−クロロ安息香酸、ｐ−クロロ安息香酸、ｏ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｏ−アミノ安息香酸、ｐ−アミノ安息香酸、２，４−ジヒドロシ安息香酸、２，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ安息香酸、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。
【０１１５】
上記脂肪族および芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好ましい。本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は格別な制限はないが、０．１重量％より低いと効果が十分でなく、また１０重量％以上ではそれ以上の効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像液に対して０．１〜１０重量％であり、より好ましくは０．５〜４重量％である。
【０１１６】
現像液には、更に必要に応じて、防腐剤、着色剤、増粘剤、消泡剤および硬水軟化剤などを含有させることもできる。硬水軟化剤としては例えば、ポリ燐酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロトリ酢酸、１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸および１，３−ジアミノ−２−プロパノールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンヘキサ（メチレンホスホン酸）、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ（メチレンホスホン酸）および１−ヒドロキシタエン−１，１−ジホスホン酸やそれらのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げることができる。
【０１１７】
このような硬水軟化剤はそのキレート化と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液に０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０１〜０．５重量％の範囲である。この範囲より少ない添加量では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。
現像液の残余の成分は水である。現像液は、使用時よりも水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。この場合の濃縮度は、各成分が分離や析出を起こさない程度が適当である。
【０１１８】
本発明の感光性平版印刷版の現像液としてはまた、特開平６−２８２０７９号公報記載の現像液も使用できる。これは、ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ（Ｍはアルカリ金属を示す）のモル比が０．５〜２．０の珪酸アルカリ金属塩と、水酸基を４以上有する糖アルコールに５モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物を含有する現像液である。糖アルコールは糖のアルデヒド基およびケトン基を還元してそれぞれ第一、第二アルコール基としたものに相当する多価アルコールである。糖アルコールの貝体的な例としては、Ｄ，Ｌ−トレイット、エリトリット、Ｄ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズルシット、アロズルシットなどであり、更に糖アルコールを縮合したジ、トリ、テトラ、ペンタおよびヘキサグリセリンなども挙げられる。上記水溶性エチレンオキシド付加化合物は上記糖アルコール１モルに対し５モル以上のエチレンオキシドを付加することにより得られる。さらにエチレンオキシド付加化合物には必要に応じてプロピレンオキシドを溶解性が許容できる範囲でブロック共重合させてもよい。これらのエチレンオキシド付加化合物は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの水溶性エチレンオキシド付加化合物の添加量は現像液（使用液）に対して０．００１〜５重量％が適しており、より好ましくは０．００１〜２重量％である。
【０１１９】
この現像液にはさらに、現像性の促進や現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて、前述の種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
【０１２０】
かかる組成の現像液で現像処理されたＰＳ版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシャーや保護ガム液で後処理を施される。本発明のＰＳ版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
【０１２１】
近年、型版・印刷業界では製版作業の合理化および標準化のため、ＰＳ版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、ＰＳ版を搬送する装置と、各処理液槽およびスプレー装置からなり、露光済みのＰＳ版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像および後処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによってＰＳ版を浸漬搬送させて現像処理する方法や、現像後一定量の少量の水洗水を版面に供給して水洗し、その廃水を現像液原液の希釈水としで再利用する方法も知られている。
【０１２２】
このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼動時間等に応じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０１２３】
【実施例】
以下本発明を合成例および実施例に基づいて更に説明する。ただし本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
（合成例１）
構成単位（１）として前記化合物（１−５）２５．６ｇ、構成単位（２）として前記化合物（２−７）２６．４ｇ、構成単位（３）としてメタアクリル酸ラウリル２０．４ｇおよびジメチルアセトアミド１６０ｇを５００mlの３口フラスコに取り窒素気流下攪拌しながら６５℃に保った。２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）を２．３０ｇ加え攪拌を続けた。４時間後７５℃まで昇温し１時間保った。反応終了後、室温にまで冷却し、反応液を４００ml中の水中に注いだ。折出した固体をろ取し、乾燥した。
収率６８．４ｇ、ＧＰＣによりこの固体は重量平均分子量２．５万の高分子化合物（含フッ素ポリマー、Ｐ−５対応品）であった。
【０１２４】
（合成例２〜４）
合成例１の構成単位（１）、（２）、（３）を変えた以外は合成例１と同様の方法により、第１表に示した共重合ポリマーを得た。また比較例についても第１表に示す素材を用いた以外は、合成例１と同様の方法により、第１表に示した共重合ポリマーを得た。
【０１２５】
【表１】

【０１２６】
〔実施例１〜４、比較例１〜３〕
（下記実施例におけるパーセントは、特に断らない限り、すべて重量％である。）
厚さ０．２４mmのＪＩＳ Ａ １０５０アルミニウム板を、平均粒径約２．１μのパミストンと水の懸濁液をアルミニウム表面に供給しながら、以下に示す回転ナイロンブラシにより、ブラシグレイニング処理した。第１ブラシは毛長１００mm、毛径０．９５mm、植毛密度７０本/cm²であり、第２ブラシは毛長８０mm、毛径０．２９５mm、植毛密度６７０本/cm²であった。ブラシロールの回転はいずれも２５０rpmであった。ブラシグレイニングにひき続きよく水洗した後、１０％水酸化ナトリウムに６０℃で２５秒間浸漬してエッチングし、さらに流水で水洗後２０％硝酸で中和洗浄、水洗した。これらを、Ｖ_A＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて、１％硝酸水溶液中で１６０クローン/dm²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ、０．７９μ（Ｒ_a表示）であった。引き続いて、１％水酸化ナトリウム水溶液に４０℃、３０秒間浸漬後、３０％の硫酸水溶液中に浸漬し、６０℃で４０秒間デスマット処理した後、２０％硫酸水溶液中、電流密度２Ａ/dm²において１．６ｇ／m²の酸化皮膜重量になるように直流で陽極酸化し、基板を調整した。
【０１２７】
このように処理された基板の表面に下記組成の下塗り液（Ａ）を塗布し８０℃、３０秒間乾燥した。
乾燥後の被覆量は１０／m²であった。
下塗り液（Ａ）
β−アラニン ０．１０ ｇ
メタノール ４０ ｇ
純 水 ６０ ｇ
このようにして基板（Ｉ）を作製した。
次にこの基板（Ｉ）上に次の第２表に示す感光液をロッドコーティングで１２ml／m²塗設し、１００℃で１分間乾燥してポジ型感光性平版印刷版を得た。乾燥後の塗布量は１．１５ｇ／m²であった。さらに真空密着時間を短縮させるため、特公昭６１−２８９８６号公報記載のようにしてマット層を形成させた。
【０１２８】
【表２】

【０１２９】
このようにして作製した感光性平版印刷版を以下の方法で評価した。
感度は、富士写真フィルム（株）製ステップウエッジ（各段の濃度差が０．１５）を通して、１ｍの距離から３ｋＷのメタルハライドランプにより１分間露光を行ったのち、富士写真フィルム（株）製ＰＳプロッセッサー９００Ｕを用いて、３０℃１２秒間、ＳｉＯ₂／Ｋ₂Ｏのモル比が１．１６、ＳｉＯ₂濃度が１．４％の水溶液で現像し、クリアー段数（組成物が溶出した段の番号）で表わした。段数が高い程感度が高いことを示す。
階調は、上述の感度評価したサンプルのクリアー段数とベタ段（組成物の溶出がない段の番号）の差を表わした。この値が低い程硬調であることを示す。
現像許容性は、上述の現像液を基準にして、ｐＨを上下に０．２増減させた液を用いた以外は上述の感度と同一な露光、現像を行い、ｐＨによるベタ段数の変化を表わした。この値が小さい程現像許容性は良好であることを示す。
これらの結果を第４表に示す。
【０１３０】
【表３】

【０１３１】
【表４】

【０１３２】
第４表からも分かるように、実施例１〜４は、感度を低下させることなく、硬調化し、かつ現像許容性も良好である。
〔実施例５〜７、比較例４〕
厚さ０．２４mmのＪＩＳ Ａ１０５０アルミニウム板の表面をナイロンブラシと４００メッシュのパミストンの水懸濁液を用い砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後２０％ＨＮＯ₃で中和洗浄、水洗した。これをＶ_A＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で１６０クローン/dm²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ０．６μｍ（Ｒ_a表示）であった。ひきつづいて３０％のＨ₂ＳＯ₄水溶液中に浸漬し５５℃で２分間デスマットした後、２０％Ｈ₂ＳＯ₄水溶液中で電流密度１４Ａ/dm²、陽極酸化皮膜量が２．５ｇ／m²相当になるように陽極酸化し、水洗して基板［Ａ］を作成した。
基板［Ａ］を珪酸ナトリウム２．５ｗｔ％水溶液で３０℃、２０秒処理し、水洗して基板［Ｂ］を作成した。
【０１３３】
このようにして処理した基板［Ｂ］の表面に下記組成の下塗り液（Ｉ）を塗布し７０℃、１０秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は、１５mg／m²であった。
（Ｉ）ポリビニル安息香酸（Mw 42000) 0.3 g
メタノール 100 g
水 1 g
次にこの基板上に実施例１〜４と同一の感光層及びマット層を設けた。
【０１３４】
このようにして作成した感光性平版印刷版を以下の方法で評価した。感度は富士写真フィルム（株）製ステップウエッジ（各段の濃度差が０．１５）を通して１ｍの距離から３ｋＷのメタルハライドランプにより３０秒間露光を行ったのち、富士写真フィルム（株）製ＰＳプロッセッサー９００Ｕを用いて、３０℃１２秒間、下記第５表に示す現像液ａ（ｐＨ約１３．０）を用い現像し、クリアーの段数で表わした。この段数が高い程感度が高いことを示す。
階調は、上述の感度評価したサンプルのクリアー段数とベタ段数の差を表わした。この値が低い程硬調であることを示す。
現像許容性は上述の現像液を基準にして、ｐＨを上下に０．２増減させた液を用いた以外は、上述の感度と同一な露光現像を行いｐＨによるベタ段数の変化を表わした。この値が小さい程現像許容性は良好であることを示す。
【０１３５】
【表５】

【０１３６】
これらの結果を第６表に示す。
【０１３７】
【表６】

【０１３８】
第６表からも分かるように、支持体及び現像液を変えても実施例５〜７は感度を低下させることなく硬調化しかつ現像許容性も良好である。
【０１３９】
【発明の効果】
本発明のポジ型感光性組成物は、特定の含フッ素ポリマーを含有することにより、その感度が低下することなく、硬調な画像形成性を示し、かつ、焼きぼけ、白灯安全性、および現像許容性の広い満足するべきものとなった。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a positive photosensitive composition suitable for the production of lithographic printing plates, IC circuits and photomasks. In particular, the present invention provides a positive photosensitive composition that provides high-sensitivity and high-contrast image formation and is excellent in burnout, white light safety and development tolerance. The present invention relates to a sex composition. More specifically, a specific compound is added to a positive photosensitive composition that has been made highly sensitive by a conventionally known method to show a high-contrast image-forming property without decreasing sensitivity, The present invention relates to a positive photosensitive composition having wide lamp safety and development tolerance.
[0002]
[Prior art]
A photosensitive composition comprising an o-quinonediazide compound has been widely used industrially as a very excellent positive photosensitive composition for the production of lithographic printing plates and for the use of photoresists. Various proposals have been made for techniques for increasing the sensitivity of conventional o-quinonediazide-based positive photosensitive compositions, but they exhibit a high-contrast image-forming property without lowering the sensitivity, and are capable of suppressing blurring. No satisfactory technology has been obtained in terms of white light safety and development tolerance.
For example, if the amount of the o-quinonediazide compound is reduced, the sensitivity naturally increases, but with this, the image becomes soft, and there is a problem that the blurring suppression property, white light safety and development tolerance are deteriorated. It was. In addition, when a binder having high alkali solubility is combined with an o-quinonediazide compound, the sensitivity is increased as described above, but the image is softened accordingly, and the blurring suppression, white light safety and development tolerance are deteriorated. Had the problem.
[0003]
On the other hand, as a system showing higher sensitivity than an o-quinonediazide compound, a chemically amplified photosensitive material in which an alkali-soluble group as described in US Pat. No. 4,491,628 and European Patent 249139 is protected with an acid-decomposable group. Has been proposed and widely used. However, even in this case, a satisfactory image having a high image forming property and a wide development tolerance is not obtained.
Here, that the image is soft means that the difference between the number of steps at which the image begins to remain when exposed and developed through the step wedge and the number of steps at which the film completely remains is large. On the other hand, a high-contrast image means that the difference between the number of steps at which the image begins to remain and the number of steps at which the film remains completely is small.
Burnout occurs because the lith film floats up due to the nitrogen gas generated by the decomposition of quinonediazide, making perfect contact exposure impossible. Generally, when the clear sensitivity is the same, the higher the image is, the more blurred the image is. It is easy to cancel.
[0004]
White light safety indicates the stability of image sensitivity when a printing plate is exposed to white light such as a fluorescent light. The harder the image, the better the white light safety. This was related to the partial decomposition of quinonediazide by white light, and the images with high contrast were not exposed to white light because the quinonediazide did not elute even if it was decomposed in a small amount by whitelight. This is because the image is similar to the above.
The step wedge is a strip-shaped film whose density changes by, for example, 0.15 for each step, and is used when obtaining the relationship between the exposure amount and the remaining amount of the photosensitive layer after development after exposure. The clear sensitivity means the sensitivity when an image starts to be formed after exposure and development.
The development tolerance is a characteristic indicating the degree to which the image sensitivity after exposure and development changes when the concentration of the developer changes, and the smaller the sensitivity fluctuation, the better the development tolerance.
[0005]
Conventionally, techniques for increasing the sensitivity by adding a non-photosensitive compound to a photosensitive composition containing an o-quinonediazide compound have been proposed, but each of them has its own drawbacks. is there.
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-80022 proposes a method for increasing sensitivity by adding a cyclic acid anhydride. However, this method has an effect of increasing the sensitivity, but if an acid anhydride is added to such an extent that a sufficient increase in sensitivity can be obtained, the image becomes soft and the white light safety and development tolerance are greatly deteriorated. JP-A-55-73045 proposes the addition of a condensation product of hydroxybenzophenone and formaldehyde in order to increase the sensitivity. In this case as well, the effect of increasing the sensitivity is recognized as in JP-A-52-80022, but when added to such an extent that a sufficient increase in sensitivity is obtained, the image becomes soft as well, and the white light safety and the development allowance are improved. Deteriorates.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
In order to solve these problems, several methods for adding a surfactant have been proposed. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-121044 discloses a method for widening development tolerance by adding an amphoteric surfactant and an organoboron surfactant to a positive photosensitive composition having a high sensitivity. Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-251740 discloses a method of widening development tolerance by adding a nonionic surfactant to a positive photosensitive composition with high sensitivity. However, each method has an effect of improving the development tolerance to a certain extent, but it is not sufficient, and an attempt to obtain a sufficient effect causes a decrease in sensitivity. In addition, no effect was obtained with respect to the suppression of burning and white light safety. JP-A-62-226143, JP-A-3-172849 and JP-A-8-15858 describe fluoropolymers having a fluoroaliphatic group and a polyoxyalkylene group or an anionic group as a surfactant. ing. However, even if these polymers were used, there was no effect in terms of suppressing blur and white light safety.
Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional technology, exhibit a high-contrast image-forming property without lowering the sensitivity, and also prevent blurring, white light safety, and development tolerance. It is an object of the present invention to provide a positive photosensitive composition that can satisfy all of the above.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
As a result of diligent research, the present inventors have found that the above object can be achieved by adding a specific fluorine-containing polymer to a positive photosensitive composition. That is, the present invention provides a photosensitive composition comprising a copolymer having a component (1) having a fluorine atom, a component (2) having an acidic hydrogen atom, and a component (3) exhibiting lipophilicity as a fluorine-containing polymer. It has been found that when added, a positive photosensitive composition can be obtained that exhibits high-contrast image-forming properties without degrading sensitivity, and has widening of blurring suppression, white light safety, and development tolerance. This means is particularly effective for the high contrast of a positive photosensitive composition which has been highly sensitive by a conventionally known means. By adding the fluorine-containing polymer according to the present invention, a soft image is hardened and printed. It has been found that blur suppression, white light safety, and development tolerance are improved.
[0008]
That is, the object of the present invention can be achieved by the following positive photosensitive composition.
(1) Photosensitivity comprising at least a polymer compound having a structural unit represented by the following general formulas (1), (2) and (3) as a copolymerization component, and an o-quinonediazite compound Composition.
CH₂= CA [COO-R'-R_f] (1)
(In the formula, A represents a hydrogen atom or a methyl group. R ′ represents a single bond, — (CH₂)_m-,-(CH₂)_mNR ″ SO₂-Or-(CH₂)_mNR ″ CO—, m is an integer of 1 to 4, and R ″ represents a hydrogen atom or an alkyl group. R_fIs C_nF_{2n + 1}And n represents an integer of 3 or more. )
CH₂= CA [CO-W-R₁-SO₂NH-R₂] (2)
(In the formula, A represents a hydrogen atom or a methyl group. W represents oxygen or —NR._Three-And R_ThreeRepresents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R₁Is an optionally substituted alkylene group or arylene group, R₂Represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. )
CH₂= CA [CO-W-R_Five] (3)
(In the formula, A represents a hydrogen atom or a methyl group. W represents oxygen or —NR._Three-And R_ThreeRepresents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R_FiveRepresents an aliphatic group having 9 or more carbon atoms or an aromatic group substituted with an aliphatic group having 2 or more carbon atoms. )
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the vinyl monomers represented by the general formulas (1), (2), and (3) that characterize the present invention will be described in more detail.
The fluoroaliphatic group-containing vinyl monomer represented by the general formula (1) will be described.
CH₂= CA [COO-R'-R_f] (1)
In the formula, A represents a hydrogen atom or a methyl group.
R ′ is a single bond, — (CH₂)_m-,-(CH₂)_mNR ″ SO₂-Or-(CH₂)_mNR ″ CO—, m is an integer of 1 to 4, and R ″ represents a hydrogen atom or an alkyl group.
R_fIs C_nF_{2n + 1}And n represents an integer of 3 or more.
R ″ is preferably a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl and the like, and n is preferably an integer of 3 to 20.
Preferred specific examples (1-1) to (1-8) of the compound represented by the general formula (1) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0010]
[Chemical 1]

[0011]
The amount of these fluoroaliphatic group-containing vinyl monomers used in the fluorine-containing copolymer used in the present invention is 3 to 70% by weight based on the weight of the copolymer, preferably 7 to It is in the range of 40% by weight.
[0012]
Next, the acidic hydrogen-containing vinyl monomer represented by the general formula (2) will be described.
CH₂= CA [CO-W-R₁-SO₂NH-R₂] (2)
In the formula, A represents a hydrogen atom or a methyl group. W is oxygen or -NR_Three-And R_ThreeRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R₁Is an optionally substituted alkylene group, arylene group, R₂Represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group.
A preferable range of the monomer represented by the general formula (2) is R₁Is an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, arylene group having 6 to 20 carbon atoms, R₂Represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. R_ThreeRepresents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms.
In the general formula (2), R₁More preferred alkylene groups represented by are alkylene groups having 1 to 20 carbon atoms such as methylene, ethylene, isopropylene, and R₁More preferable arylene groups represented by the formula include arylene groups having 6 to 18 carbon atoms such as phenylene and naphthylene.
R₂The aryl group and alkyl group represented by the formula may have a substituent, such as a halogen atom such as fluorine, chloro and bromo, an alkoxy group such as methoxy and ethoxy, an aryloxy group such as phenoxy, a cyano Group, an amide group such as acetamide, an alkoxycarbonyl group such as ethoxycarbonyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 18 carbon atoms.
Preferred specific examples (2-1) to (2-10) of the compound represented by the general formula (2) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
[0013]
[Chemical 2]

[0014]
[Chemical Formula 3]

[0015]
The amount of the vinyl monomer having these acidic groups used in the fluorine-containing copolymer used in the present invention is 5 to 70% by weight based on the weight of the copolymer, preferably 10 It is in the range of ˜50% by weight.
[0016]
The vinyl monomer of the general formula (3) will be described.
CH₂= CA [CO-W-R_Five] (3)
In the formula, A represents a hydrogen atom or a methyl group.
W is oxygen or -NR_Three-And R_ThreeRepresents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R_FiveRepresents an aliphatic group having 9 or more carbon atoms or an aromatic group substituted with an aliphatic group having 2 or more carbon atoms.
As a preferable range of the monomer represented by the general formula (3), W is oxygen or —NR_Three-And R_ThreeRepresents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms.
R_FiveRepresents an aliphatic group having 9 or more carbon atoms, or an aromatic group substituted with an aliphatic group having 2 or more carbon atoms, and specific examples thereof include the following monomers.
[0017]
For example, nonyl acrylate, decyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, behenyl acrylate, diethylbenzyl acrylate, ethylbenzyl acrylate, n-propylbenzyl acrylate, iso-propylbenzyl acrylate, n-butyl acrylate Benzyl, iso-butylbenzyl acrylate, tert-butylbenzyl acrylate, ethylphenyl acrylate, n-propylphenyl acrylate, iso-propylphenyl acrylate, n-butylphenyl acrylate, iso-butylphenyl acrylate, acrylic Acid tert-butylphenyl. Preferred are lauryl acrylate, stearyl acrylate, behenyl acrylate, tert-butylbenzyl acrylate, and tert-butylphenyl acrylate.
[0018]
Furthermore, methacrylic acid esters can be mentioned. For example, nonyl methacrylate, decyl methacrylate, lauryl methacrylate, stearyl methacrylate, behenyl methacrylate, diethyl benzyl methacrylate, ethyl benzyl methacrylate, n-propyl benzyl methacrylate, iso-propyl benzyl methacrylate, n-butyl methacrylate Benzyl, iso-butyl benzyl methacrylate, tert-butyl benzyl methacrylate, ethyl phenyl methacrylate, n-propyl phenyl methacrylate, iso-propyl phenyl methacrylate, n-butyl phenyl methacrylate, iso-butyl phenyl methacrylate, methacrylic acid tert-Butylphenyl. Preferred are lauryl methacrylate, stearyl methacrylate, behenyl methacrylate, tert-butylbenzyl methacrylate, and tert-butylphenyl methacrylate.
[0019]
Furthermore, the following acrylamides and methacrylamides can be mentioned as examples.
N-nonylacrylamide, N-decylacrylamide, N-laurylacrylamide, N-stearylacrylamide, N-nonylmethacrylamide, N-decylmethacrylamide, N-laurylmethacrylamide, N-stearylmethacrylamide, and the like.
Further, among these acrylates, methacrylates, acrylamides or methacrylamides having an aliphatic group having 9 or more carbon atoms or an aromatic group substituted with an aliphatic group having 2 or more carbon atoms, May include acrylates, methacrylates, acrylamides or methacrylamides having aliphatic groups with 12 or more carbon atoms.
[0020]
The amount of these vinyl monomers used in the fluorine-containing copolymer of the present invention is 5 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, based on the weight of the copolymer.
In addition, as other addition polymerization unsaturated compounds used in some cases, those described in Polymer Handbook 2nd ed., J. Brandrup, Wiley Interscience (1975) Chapter 2 Page 1 to 483 can be used.
The fluorine-containing polymer of the present invention can be produced by a known and usual method. For example, a (meth) acrylate having a fluoroaliphatic group, a (meth) acrylate having an aliphatic group or an aromatic group, and an acidic group-containing vinyl monomer in which an acidic hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom, It can manufacture by adding the radical polymerization initiator of and carrying out thermal polymerization. Alternatively, other addition-polymerizable unsaturated compounds can be added in some cases and produced in the same manner as described above.
Hereinafter, examples (P-1) to (P-8) of specific structures of the fluorine-containing polymer according to the present invention are shown, but the present invention is not limited thereto. In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component.
[0021]
[Formula 4]

[0022]
[Chemical formula 5]

[0023]
The molecular weight range of the fluorine-containing polymer used in the present invention is 3,000 to 200,000 as an average molecular weight, and preferably 6,000 to 100,000.
[0024]
Next, other components necessary for preparing the positive photosensitive composition of the present invention will be described.
The positive photosensitive composition can be used as long as the solubility or swellability in the developer changes before and after exposure, and a typical example is an o-quinonediazide compound. For example, in the case of a positive photosensitive composition containing an alkali-soluble resin and an o-quinonediazide compound, the o-quinonediazide compound is a compound having at least one o-quinonediazide group and is soluble in an alkaline aqueous solution by actinic rays. Increases are preferred.
[0025]
As such a thing, the thing of various structures is known, for example, "Light-Sensitive Systems" by J.KOSAR (John Wiley & Sons, Inc, 1965 issue) P.336-P.352 It is described in detail.
[0026]
In the photosensitive composition of the present invention, the o-quinonediazite compound is an essential component in addition to the polymer compound having the structural unit represented by the general formulas (1), (2) and (3) as a copolymerization component. It is a photosensitive material.
As the positive photosensitive composition, various hydroxyl compounds and o-benzoquinonediazide or sulfonic acid ester of o-naphthoquinonediazide are particularly suitable.
[0027]
Examples of such o-quinonediazide compounds include esters of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and phenol-formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin; U.S. Pat. No. 3,635,709. Esters of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and pyrogallol acetone resin described in the specification; 1,2-naphthoquinone described in JP-B-63-13528 Ester of 2-diazide-5-sulfonyl chloride and resorcin-benzaldehyde resin; 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and resorcin-pyrogallol described in JP-B-62-44,257 With acetone co-condensation resin Ter; polyester having 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride esterified to a polyester having a hydroxyl group at the terminal described in JP-B-56-45,127; JP-B-50-24 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride as a homopolymer of N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide or a copolymer with other copolymerizable monomers described in JP-A-641 Ester of 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and bisphenol-formaldehyde resin described in JP-B-54-29,922; P-hydroxystyrene homopolymers or other copolymers described in US Pat. No. 043 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride esterified to a copolymer with a monomer capable of being combined; 1,2-naphthoquinone-2-diazide-5-sulfonyl chloride and polyhydroxybenzophenone There is an ester.
[0028]
Other known o-quinonediazide compounds that can be used in the present invention include JP-A-63-80,254, JP-A-58-5,737, JP-A-57-111,530, and JP-A-57. -111,531, JP-A-57-114,138, JP-A-57-142,635, JP-A-51-36,129, JP-B-62-3,411, JP-B-62-51 No. 4,459, Japanese Patent Publication No. 51-483, and the like.
Content of the said o-quinonediazide compound is 5 to 60 weight% normally with respect to the total solid of a photosensitive composition, More preferably, it is 10 to 40 weight%.
[0029]
In addition to the o-quinonediazide compound, the photosensitive material used in the present invention can further contain other photosensitive materials and photosensitive compositions.
As a photosensitive composition other than o-quinonediazide, a compound in which an alkali-soluble group is protected with an acid-decomposable group (a group capable of being decomposed by an acid) and a photoacid generator (a compound that generates an acid by a radiation trading company) are used. A chemically amplified photosensitive composition comprising a combination can be used.
Known photoacid generators used in the chemical amplification system can be used.
[0030]
For example, diazonium salts described in SI Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 18,387 (1974), TSBal etal, Polymer, 21,423 (1980), U.S. Pat.Nos. 4,069,055, 4,069,056, JP-A-3-140,140, etc. DCNecker etal, Macromolecules, 17, 2468 (1984), CSWen etal, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.Nos. 4,069,055, 4,069,056 Phosphonium salts described in No., etc., JVCrivello etal, Macromorecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng.News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Patent No. 339,049 No. 410,201, JP-A-2-150,848, JP-A-2-296,514, etc., iodonium salts, JVCrivello etal, Polymer J. 17, 73 (1985), JVCrivello etal. J. Org. Chem. , 43, 3055 (1978), WRWatt etal, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984), JVCrivello etal, Polymer Bull., 14, 279 (1985), JVCrivello etal, Macromorecules, 14 (5), 1141 (1981), JVCrivello etal, J. PolymerSci., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979), State Patent 370,693, US Patent 3,902,114, European Patent 233,567, 297,443, 297,442, US Patent 4,933,377, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827 Sulfonium salts described in Korean Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, 3,604,581, etc., JVCrivello etal, Macromorecules, 10 (6), 1307 (1977), JVCrivello etal, J. PolymerSci., Polymer Chem. Edon, 17, 1047 (1979) etc., selenium salts such as CSWen etal, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988) etc., onium salts such as arsonium salts, U.S. Pat.No. 3,905,815, JP 46-4605, JP 48-36281, JP 55-32070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61- 169837, JP-A 62-58241, JP-A 62-212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339 and the like, K. Meier etal, J. Rad Curing, 13 (4), 26 (1986), TPGill etal, Inorg. Chem., 19, 3007 (19 80), D. Astruc, Acc. Chem. Res., 19 (12), 377 (1896), and organic metal / organic halides described in JP-A-2-16145, S. Hayase etal, J. Polymer Sci. ., 25, 753 (1987), E. Reichmanis etal, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 23, 1 (1985), QQZhu etal, J. Photochem., 36, 85, 39, 317 (1987), B Amit etal, Tetrahedron Lett., (24) 2205 (1973), DHR Barton etal, J. Chem Soc., 3571 (1965), PMCollins etal, J. Chem. SoC., Perkin I, 1695 (1975), M. Rudinstein etal, Tetrahedron Lett., (17), 1445 (1975), JWWalker etal J. Am. Chem. Soc., 110, 7170 (1988), SCBusman etal, J. Imaging Technol., 11 (4) 191 (1985), HM Houlihan etal, Macormolecules, 21, 2001 (1988), PMCollins etal, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 532 (1972), S. Hayase etal, Macromolecules, 18, 1799 (1985), E. Reichmanis etal, J. Electrochem. Soc., Solid State Sci. Technol., 130 (6), FM Houlihan etal, Macromolcules, 21, 2001 (1988), European Patent 0290,750, ibid. No. 046,083, No. 156,535, No. 271,851, No. 0,388,343, US Pat.Nos. 3,901,710, No. 4,181,531, JP-A-60 -198538, JP-A-53-133022, etc., a photoacid generator having a 0-nitrobenzyl-type protecting group, M. TUNOOK et al, Polymer Preprints Japan, 35 (8), G. Berner etal, J Rad.Curing, 13 (4), WJMijs etal, Coating Technol., 55 (697), 45 (1983), Akzo, H. Adachi etal, Polymer Preprints, Japan, 37 (3), European Patent No. 0199, No. 672, No. 84515, No. 199,672, No. 044,115, No. 0101,122, U.S. Pat.No. 4,618,564, No. 4,371,605, No. Examples include compounds that generate sulfonic acid by photolysis, such as iminosulfonate described in Japanese Patent Application No. 3-140109, and disulfone compounds described in JP-A-61-166544.
[0031]
Of the compounds that decompose upon irradiation with actinic rays or radiation to generate an acid, those that are particularly effective are described below.
(1) An oxazole derivative represented by the following general formula (PAG1) substituted with a trihalomethyl group or an S-triazine derivative represented by the general formula (PAG2).
[0032]
[Chemical 6]

[0033]
Where R¹Is a substituted or unsubstituted aryl group, alkenyl group, R²Is a substituted or unsubstituted aryl group, alkenyl group, alkyl group, -CY_ThreeShow. Y represents a chlorine atom or a bromine atom.
Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.
[0034]
[Chemical 7]

[0035]
[Chemical 8]

[0036]
(2) An iodonium salt represented by the following general formula (PAG3), a sulfonium salt represented by the general formula (PAG4), or a diazonium salt.
[0037]
[Chemical 9]

[0038]
Where the formula Ar¹ , Ar² Each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group.
Preferred substituents include alkyl groups, haloalkyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups, alkoxy groups, nitro groups, carboxyl groups, alkoxycarbonyl groups, hydroxy groups, mercapto groups, and halogen atoms.
[0039]
R^Three, R^Four, R^FiveEach independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Preferred are an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms and substituted derivatives thereof. Preferred substituents are an aryl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxy group, and a halogen atom. They are a C1-C8 alkoxy group, a carboxyl group, and an alkoxycarbonyl group.
[0040]
Z^-Indicates a counter anion, for example BF_Four ^-, AsF₆ ^-, PF₆ ^-, SbF₆ ^-, SiF₆ ^2-, ClO_Four ^-, CF_ThreeSO_Three ^-Examples thereof include perfluoroalkanesulfonic acid anions such as pentafluorobenzenesulfonic acid anion, bonded polynuclear aromatic sulfonic acid anions such as naphthalene-1-sulfonic acid anion, anthraquinonesulfonic acid anion, and sulfonic acid group-containing dyes. It is not limited to these.
[0041]
Also R^Three, R^Four, R^FiveTwo of them and Ar¹, Ar²May be bonded via a single bond or a substituent.
[0042]
Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.
[0043]
[Chemical Formula 10]

[0044]
Embedded image

[0045]
The above onium salts represented by the general formulas (PAG3) and (PAG4) are known, for example, JW Knapczyk etal, J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969), ALMaycok etal, J. Org. Chem. ., 35, 2532, (1970), B. Goethas etal, Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546, (1964), HM Leicester, J. Ame. Chem. Soc., 51, 3587 (1929) JV Crivello etal, J. Polym. Chem. Ed., 18, 2677 (1980), U.S. Pat. Nos. 2,807,648 and 4,247,473, and JP-A-53-101,331. It can be synthesized by the method described.
[0046]
(3) A disulfone derivative represented by the following general formula (PAG5) or an iminosulfonate derivative represented by the general formula (PAG6).
[0047]
Embedded image

[0048]
Where Ar^Three , Ar^Four Each independently represents a substituted or unsubstituted aryl group. R⁶ Represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. A represents a substituted or unsubstituted alkylene group, alkenylene group, or arylene group.
Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.
[0049]
Embedded image

[0050]
Embedded image

[0051]
The addition amount of these compounds that decompose upon irradiation with actinic rays or radiation to generate an acid is usually used in the range of 0.001 to 40% by weight based on the total weight of the photosensitive composition (excluding the coating solvent). Preferably, it is used in the range of 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.
The content of these photoacid generators is usually from 0.1 to 30% by weight, more preferably from 1 to 10% by weight, based on the total solid content of the photosensitive composition.
[0052]
In addition, the compound in which an alkali-soluble group is protected with an acid-decomposable group is a compound having a —C—O—C— or —C—O—Si— bond, and the following examples can be given. a) comprising at least one orthocarboxylic acid ester and / or carboxylic acid amide acetal group, the compound of which can be polymerisable, said group occurring as a bridging element in the main chain or as a lateral substituent A compound that can be obtained,
b) oligomeric or polymeric compounds containing repeating acetals and / or ketals in the main chain,
c) a compound comprising at least one enol ester or N-acylamino carbonate group,
d) cyclic acetals or ketals of β-ketoesters or β-ketoamides,
[0053]
e) a compound containing a silyl ether group,
f) a compound containing a silyl enol ether group,
g) a monoacetal or monoketal in which the aldehyde or ketone component has a solubility of 0.1 to 100 g / liter in the developer;
h) tertiary alcohol ethers, and
i) Carboxylic esters and carbonates of tertiary allylic or benzylic alcohols.
[0054]
The compounds of type (a) which can be cleaved by acid as a component of the radiation-sensitive mixture are described in German Patent Publication Nos. 2,610,842 and 2,928,636. Mixtures containing compounds of type (b) are described in German Patents 2,306,248 and 2,718,254. The compounds of type (c) are described in European Patent Publication Nos. 0,006,626 and 0,006,627. The compounds of type (d) are described in European Patent Publication No. 0,202,196, and the compounds used as type (e) are described in German Patent Publication Nos. 3,544,165 and 3,601. , 264. Compounds of type (f) are described in German Patent Publication Nos. 3,730,785 and 3,730,783, and compounds of type (g) are described in German Patent Publication No. 3,730,783. In the issue. Type (h) compounds are described, for example, in US Pat. No. 4,603,101, and type (i) compounds are described, for example, in US Pat. No. 4,491,628 and JMFrechet et al. Imaging Sci.3059-64 (1986)).
The content of the compound protected with these acid-decomposable groups is usually 1 to 60% by weight, more preferably 5 to 40% by weight, based on the total solid content of the photosensitive composition.
[0055]
Synthetic resins that are insoluble in water and soluble in alkaline aqueous solutions (hereinafter referred to as alkali-soluble resins) include, for example, phenol / formaldehyde resins, cresol / formaldehyde resins, phenol / cresol / formaldehyde cocondensation resins, phenol-modified xylene resins, and polyhydroxystyrene. , Polyhalogenated hydroxystyrene, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide copolymer, hydroquinone monomethacrylate copolymer, sulfonylimide polymer described in JP-A-7-28244, JP-A-7-36184 And a carboxyl group-containing polymer described in Japanese Patent Publication. In addition, an acrylic resin containing a phenolic hydroxyl group as disclosed in JP-A-51-34711, an acrylic resin having a sulfonamide group described in JP-A-2-866, a urethane-based resin, Various alkali-soluble polymer compounds such as these can also be used. These alkali-soluble polymer compounds preferably have a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 60,000.
[0056]
Such alkali-soluble polymer compounds may be used alone or in combination of two or more, and are used in an amount of 80% by weight or less of the total composition.
Furthermore, as described in US Pat. No. 4,123,279, phenol and formaldehyde having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin. It is preferable to use a condensate with the above in order to improve the oil sensitivity of the image. Such an alkali-soluble resin is usually used in an addition amount of 90% by weight or less of the total weight of the composition.
[0057]
In the photosensitive composition, if necessary, a cyclic acid anhydride for increasing sensitivity, a print-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a dye as an image coloring agent, other fillers, and the like. Can be added.
[0058]
In the photosensitive composition of the present invention, it is preferable to add cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids in order to increase sensitivity.
As cyclic acid anhydrides, as described in US Pat. No. 4,115,128, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-Δ^Four-Tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride, etc.
Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 4,4,4 ". -Trihydroxy-triphenylmethane, 4,4 ', 3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5,3', 5'-tetramethyltriphenylmethane and the like.
[0059]
Examples of organic acids include sulfonic acids, sulfinic acids, alkylsulfuric acids, phosphonic acids, phosphinic acids, phosphoric esters, and carbonic acids described in JP-A-60-88942 and JP-A-2-96755. Specific examples include acids such as p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfuric acid, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid. Acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexene-2,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid Etc.
The proportion of the cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids in the photosensitive composition is preferably 0.05 to 15% by weight, and more preferably 0.1 to 5% by weight.
[0060]
Examples of the print-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure include a combination of a photosensitive compound that releases an acid by exposure and an organic dye that forms a salt with the acid to change the color tone.
[0061]
Examples of the photosensitive compound that releases an acid upon exposure include o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide described in JP-A-50-36,209; JP-A-53-36223. Trihalomethyl-2-bilone and trihalomethyl-s-triazine described in JP-A-55-62,444, various o-naphthoquinonediazide compounds described in JP-A-55-77,742 2-trihalomethyl-5-aryl-1,3,4-oxadiazole compounds described in Japanese Patent Publication No .; diazonium salts and the like. These compounds can be used alone or as a mixture, and the addition amount thereof is preferably in the range of 0.3 to 15% by weight based on the total weight of the composition.
[0062]
In the photosensitive composition according to the present invention, at least one organic dye that changes its color tone by interacting with a photodecomposition product of a compound that generates an acidic substance upon photolysis is used. As such organic dyes, diphenylmethane, triarylmethane, thiazine, oxazine, phenazine, xanthene, anthraquinone, iminonaphthoquinone, and azomethine dyes can be used. Specifically, it is as follows.
Brilliant green, eosin, ethyl violet, erythrosine B, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, phenolphthalein, 1,3-diphenyltriazine, alizarin red S, thymolphthalein, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, Thymolsulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, orange IV, diphenylthiocarbazone, 2,7-dichlorofluorescein, paramethyl red, Congo red, benzopurpurin 4B, α-naphthyl red, Nile blue 2B, Nile blue A , Phenacetalin, methyl violet, malachite green, parafuchsin, oil blue # 603 [manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.], oil pink # 312 [Ori ENT CHEMICAL CO., LTD.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Victoria Pure Blue BOH [Hodogaya Chemical Industry ( Co., Ltd.], Patent Pure-Blue (manufactured by Sumitomo Sangoku Chemical Co., Ltd.), Sudan Blue II (manufactured by BASF), m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, first acid violet R, sulfo Rhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphtho 2-carboxyanilino-4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carbostearylamino-4-p-dihydrooxyethyl-amino-phenyliminonaphthoquinone, p-methoxybenzoyl-p'-diethylamino-o'- Methylphenyliminoacetanilide, cyano-p-diethylaminophenyliminoacetanilide, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4-p-diethylaminophenylimino-5 Pyrazolone etc.
[0063]
Particularly preferred organic dyes are triarylmethane dyes. Among triarylmethane dyes, those having a sulfonic acid compound as a counter anion as shown in JP-A-62-2932471 and Japanese Patent Application No. 4-112844 are particularly useful.
These dyes can be used alone or in combination, and the addition amount is preferably 0.3 to 15% by weight based on the total weight of the photosensitive composition. Further, if necessary, it can be used in combination with other dyes and pigments, and the amount used is 70% by weight or less, more preferably 50% by weight or less, based on the total weight of the dyes and pigments.
[0064]
In addition, in the composition of the present invention, various resins having a hydrophobic group, for example, octylphenol / formaldehyde resin, t-butylphenol / formaldehyde resin, t-butylphenol / benzaldehyde resin, rosin, are used to improve the ink inking property of the image. Modified novolak resins, and o-naphthoquinone diazide sulfonic acid esters of these modified novolak resins, etc .; plasticizers for improving the flexibility of the coating film, such as dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, butyl glycolate, tricresyl phosphate, Various additives such as dioctyl adipate can be added depending on various purposes. These addition amounts are preferably in the range of 0.01 to 30% by weight relative to the total weight of the composition.
[0065]
Further, a known resin for further improving the abrasion resistance of the film can be added to these compositions. Examples of these resins include polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, epoxy resin, vinyl chloride resin, nylon, polyester resin, acrylic resin, and the like, which can be used alone or in combination. The addition amount is preferably in the range of 2 to 40% by weight based on the total weight of the composition.
[0066]
Further, in the photosensitive composition of the present invention, in order to widen the development latitude, nonionic surface activity as described in JP-A-62-251740 and JP-A-4-68355 is used. An amphoteric surfactant as described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149 can be added.
Specific examples of nonionic surfactants include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan trioleate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene sorbitan monooleate, polyoxyethylene nonylphenyl ether, etc. Specific examples of the activator include alkyldi (aminoethyl) glycine, alkylpolyaminoethylglycine hydrochloride, Amogen K (trade name, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd., N-tetradecyl-N, N-betaine type), 2- Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethyl imidazolinium betaine, Levon 15 (trade name, manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd., alkyl imidazoline series) and the like can be mentioned.
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the photosensitive composition is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.
[0067]
Improvement of coating surface quality;
In the photosensitive composition of the present invention, a surfactant for improving the coating surface quality, for example, a fluorosurfactant as described in JP-A-62-170950 may be added. it can. A preferable addition amount is 0.001 to 1.0% by weight of the total photosensitive composition, and more preferably 0.005 to 0.5% by weight.
[0068]
Moreover, the following yellow dye can be added in the photosensitive composition in this invention.
e) A yellow dye represented by the general formula [I], [II] or [III], wherein the absorbance at 417 nm is 70% or more of the absorbance at 436 nm.
[0069]
Embedded image

[0070]
In the formula [I], R₁And R₂Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group or an alkenyl group. Also R₁ And R₂ May form a ring. R_Three , R_Four , R_Five Each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. G₁ , G₂ Each independently represents an alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, arylcarbonyl group, alkylthio group, arylthio group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group or fluoroalkylsulfonyl group. G₁ And G₂ May form a ring. R₁ , R₂ , R_Three , R_Four , R_Five , G₁ , G₂ One or more of them have one or more sulfonic acid groups, carboxyl groups, sulfonamido groups, imide groups, N-sulfonylamido groups, phenolic hydroxyl groups, sulfonimide groups, or metal salts thereof, inorganic or organic ammonium salts. . Y is O, S, NR (R is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group), Se, —C (CH_Three )₂ A divalent atomic group selected from-, -CH = CH-, and n₁ Indicates 0 or 1.
[0071]
Embedded image

[0072]
[In the formula, R₆And R₇Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a heterocyclic group, a substituted heterocyclic group, an allyl group or a substituted allyl group, and R₆And R₇Together with the carbon atom to which it is attached may form a ring.
n₂Represents 0, 1 or 2.
G_Three And G_Four Each independently represents a hydrogen atom, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a substituted aryloxycarbonyl group, an acyl group, a substituted acyl group, an arylcarbonyl group, a substituted arylcarbonyl group, an alkylthio group, An arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a fluoroalkylsulfonyl group are represented. However, G_Three And G_FourAre not simultaneously hydrogen atoms. G_ThreeAnd G_FourMay form a ring composed of a nonmetallic atom together with the carbon atom to which it is bonded. ]
R₆, R₇, G_Three, G_FourOne or more of them have one or more sulfonic acid groups, carboxyl groups, sulfonamido groups, imide groups, N-sulfonylamido groups, phenolic hydroxyl groups, sulfonimide groups, or metal salts thereof, inorganic or organic ammonium salts. .
[0073]
Embedded image

[0074]
R₈, R₉, R_Ten, R₁₁, R₁₂, R₁₃Each may be the same or different, a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an alkoxyl group, a hydroxyl group, an acyl group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a nitro group, Represents a carboxyl group, a chloro group and a bromo group.
[0075]
When obtaining a photosensitive material for a lithographic printing plate from a photosensitive composition containing the fluorosurfactant of the present invention, it is first provided on a suitable support. The photosensitive composition containing the fluorosurfactant of the present invention is dissolved or dispersed in the following organic solvent alone or in a mixture, coated on a support and dried.
[0076]
Any known organic solvent can be used, but an organic solvent having a boiling point in the range of 40 ° C. to 200 ° C., particularly 60 ° C. to 160 ° C. is selected from the advantages in drying. Of course, it is preferable to select one that dissolves the surfactant of the present invention.
[0077]
Examples of the organic solvent include alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n- or iso-propyl alcohol, n- or iso-butyl alcohol, diacetone alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, and methyl amyl. Ketones such as ketone, methyl hexyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, acetylacetone, hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane, methoxybenzene, ethyl acetate, n- or iso-propyl acetate, Acetic esters such as n- or iso-butyl acetate, ethyl butyl acetate, hexyl acetate, methylene dichloride, ethylene dichloride, mono Halides such as rolbenzene, ethers such as isopropyl ether, n-butyl ether, dioxane, dimethyl dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol, methyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve, diethyl cellosolve, cellosolve acetate, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, methoxymethoxy Ethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol Polyhydric alcohols such as dimethyl monoethyl acetate, propylene glycol monobutyl ether and 3-methyl-3-methoxybutanol and derivatives thereof, and special solvents such as dimethyl sulfoxide and N, N-dimethylformamide are preferably used alone or in combination. Is done. The solid content in the composition to be applied is suitably 2 to 50% by weight.
[0078]
Examples of the method for applying the composition of the present invention include roll coating, dip coating, air knife coating, gravure coating, gravure offset coating, hopper coating, blade coating, wire doctor coating, spray coating, and the like. 0.3 to 4.0 g / m in weight²Is preferred. As the coating amount decreases, the exposure amount for obtaining an image can be reduced, but the film strength decreases. As the coating amount increases, the exposure amount is required, but the photosensitive film becomes stronger. For example, when used as a printing plate, a printing plate having a high printable number (high printing durability) can be obtained.
[0079]
Drying of the photosensitive composition coated on the support is usually performed with heated air. The heating is preferably in the range of 30 ° C to 200 ° C, particularly 40 ° C to 140 ° C. Not only a method in which the drying temperature is kept constant during drying, but also a method in which the temperature is raised stepwise can be carried out.
[0080]
Also, good results may be obtained by dehumidifying the dry air. The heated air is preferably supplied at a rate of 0.1 m / second to 30 m / second, particularly 0.5 m / second to 20 m / second, with respect to the coated surface.
[0081]
Mat layer;
It is preferable to provide a mat layer on the surface of the photosensitive layer provided as described above in order to shorten the time for evacuation during contact exposure using a vacuum printing frame and to prevent burning blur. Specifically, a method for providing a mat layer as described in JP-A-50-125805, JP-B-57-6582, and JP-A-61-2986, and JP-B-62-62337. And a method of heat-sealing the solid powder as described above.
[0082]
The support used for the photosensitive lithographic printing plate or the like is a dimensionally stable plate-like material, and includes those that have been used as a support for a printing plate so far and can be suitably used. Such supports include paper, paper laminated with plastics (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), eg, a metal plate such as aluminum (including aluminum alloys), zinc, iron, copper, etc., eg, diacetic acid Cellulose, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose butyrate acetate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Although vapor-deposited paper or plastic film is included, an aluminum plate is particularly preferable. Aluminum plates include pure aluminum plates and aluminum alloy plates. Various aluminum alloys can be used. For example, an alloy of aluminum such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, and nickel is used. These compositions contain some iron and titanium as well as other negligible amounts of impurities.
[0083]
The support is surface-treated as necessary. For example, in the case of a photosensitive lithographic printing plate, a hydrophilic treatment is performed on the surface of the support.
Further, in the case of a support having a surface of metal, particularly aluminum, surface treatment such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluoride zirconate, phosphate or the like, or anodization treatment is performed. Preferably it is. Further, as described in US Pat. No. 2,714,066, an aluminum plate which has been grained and then immersed in an aqueous sodium silicate solution is described in US Pat. No. 3,181,461. As described above, an aluminum plate that has been anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used. The anodizing treatment is performed by, for example, an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or an aqueous solution or a non-aqueous solution of these salts, or an electrolytic solution that is a combination of two or more. It is carried out by passing an electric current using an aluminum plate as an anode.
[0084]
Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective.
These hydrophilization treatments are performed to make the surface of the support hydrophilic, in order to prevent harmful reactions with the photosensitive composition provided thereon, and to improve adhesion to the photosensitive layer. It is given to improve.
Prior to graining the aluminum plate, the surface may be pretreated if necessary to remove the rolling oil on the surface and expose a clean aluminum surface. For the former, a solvent such as trichlene, a surfactant or the like is used. For the latter, a method using an alkali / etching agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is widely used.
[0085]
As the graining method, any of mechanical, chemical and electrochemical methods is effective. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a blast polishing method, a brush polishing method in which an aqueous dispersion slurry of an abrasive such as pumice is rubbed with a nylon brush, and a chemical method is disclosed in JP-A No. 54-31187. A method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in the publication is suitable, and as an electrochemical method, a method of alternating current electrolysis in an acidic electrolyte such as hydrochloric acid, nitric acid or a combination thereof Is preferred. Among such surface roughening methods, in particular, a surface roughening method combining mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening as described in JP-A-55-137993, This is preferable because of its strong adhesion to the support.
Graining by the method as described above is preferably performed in such a range that the center line surface roughness (Ha) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm.
The grained aluminum plate is washed with water and chemically etched as necessary.
[0086]
The etching treatment liquid is usually selected from an aqueous solution of a base or acid that dissolves aluminum. In this case, a film different from aluminum derived from the etching solution component should not be formed on the etched surface. Examples of preferable etching agents include sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, dipotassium phosphate, etc. as basic substances; sulfuric acid, persulfuric acid as acidic substances Phosphoric acid, hydrochloric acid and salts thereof, and the like, but metals such as zinc, chromium, cobalt, nickel, and copper, which have a lower ionization tendency than aluminum, are not preferable because an unnecessary film is formed on the etched surface.
With these etching agents, the dissolution rate of the aluminum or alloy used varies from 0.3 g to 40 g / m / min.²Although it is most preferable to carry out so that it becomes, it may be above or below this.
[0087]
Etching is performed by immersing an aluminum plate in the above etching solution or by applying an etching solution to the aluminum plate. The etching amount is 0.5 to 10 g / m.²It is preferable to process so that it may become this range.
As the etching agent, it is desirable to use an aqueous solution of a base because of its high etching rate. In this case, since a smut is generated, a normal desmut process is performed. As the acid used for the desmut treatment, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, hydrofluoric acid, and the like are used.
The etched aluminum plate is washed with water and anodized as necessary. Anodization can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when direct current or alternating current is applied to aluminum in an aqueous solution or non-aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc., or a combination of two or more thereof, aluminum support An anodized film can be formed on the body surface.
[0088]
Since the anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used, it cannot generally be determined, but in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. ~ 60A / dm²A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes are suitable.
Among these anodizing treatments, in particular, the method of anodizing at high current density in sulfuric acid described in British Patent 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661. A method of anodizing the described phosphoric acid as an electrolytic bath is preferred.
The roughened and further anodized aluminum plate as described above may be subjected to a hydrophilic treatment as required. Preferred examples thereof include US Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181. 461, for example, an aqueous solution of sodium silicate or potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and disclosed in US Pat. No. 4,153,461 There is a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described.
[0089]
Organic subbing layer;
An organic undercoat layer is preferably provided on the photosensitive lithographic printing plate of the present invention before the photosensitive layer is applied in order to reduce the remaining photosensitive layer in the non-image area. Examples of the organic compound used in the organic undercoat layer include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid optionally having a substituent, and naphthyl. Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, organic such as phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphonic acid which may have a substituent Phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and organic phosphinic acids such as glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and triethanolamine hydrochloride Hydro Although selected from such as hydrochloric acid salt of an amine having a group, it may be used as a mixture of two or more thereof.
[0090]
In addition, at least one compound selected from the group of polymer compounds having in the molecule a structural unit represented by the following general formula [IV] such as poly (p-vinylbenzoic acid) can be used.
[0091]
Embedded image

[0092]
In the general formula [IV], R₁Represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, preferably a hydrogen atom, a chlorine atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Particularly preferably, it represents a hydrogen atom or a methyl group.
R₂And R_ThreeEach independently represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aromatic group, a substituted aromatic group, -R_Four, -COOR_Five, -CONHR₆ , -COR₇Or represents -CN, or R₂And R_ThreeMay combine to form a ring. Where R_Four~ R₇Each represents an alkyl group or an aromatic group. More preferred R₂And R_ThreeAre each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a chlorine atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, -R_Four, -COOR_Five, -CONHR₆, -COR₇, -CN, where R_Four~ R₇Is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group. Particularly preferred R₂And R_ThreeAre each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a methyl group or a methoxy group.
[0093]
X is a hydrogen atom, a metal atom, NR₈R₉R_TenR₁₁Where R₈~ R₁₁Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aromatic group, a substituted aromatic group, or R₈And R₉May combine to form a ring. More preferable X is a hydrogen atom, a monovalent metal atom, NR.₈R₉R_TenR₁₁Where R₈~ R₁₁Are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group. Particularly preferred X is a hydrogen atom, sodium, potassium or NR.₈R₉R_TenR₁₁Where R₈~ R₁₁Each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.
n represents an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2, and more preferably 1.
[0094]
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is dissolved and applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. The organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to immerse the aluminum compound by immersing the aluminum plate, and then washed with water and dried to provide an organic undercoat layer. Is the method. In the former method, a solution having a concentration of 0.005 to 10% by weight of the organic compound can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
[0095]
The solution used for this can be used in a pH range of 1 to 12 by adjusting the pH with a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate.
The coating amount of the organic undercoat layer after drying is 2 to 200 mg / m²Is suitable, preferably 5 to 100 mg / m²It is. The above coating amount is 2 mg / m²If it is less, sufficient printing durability cannot be obtained. 200mg / m²It is the same even if it is larger.
[0096]
Back coat;
A back coat is provided on the back surface of the support as necessary. As such a back coat, a coating layer comprising a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Is preferably used.
Of these coating layers, Si (OCH_Three)_Four, Si (OC₂H_Five)_Four, Si (OC_ThreeH₇)_Four, Si (OC_FourH₉)_FourSilicone alkoxy compounds such as are easily available at low cost, and a metal oxide coating layer obtained therefrom is particularly preferred because of its excellent developer resistance.
[0097]
The PS plate thus obtained is exposed to actinic rays using a carbon arc lamp, mercury lamp, metal halide lamp, xenon lamp, tungsten lamp or the like as a light source through a transparent original, and then developed.
[0098]
The developer for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention preferably contains (a) at least one saccharide selected from non-reducing sugars and (b) at least one base, and has a pH of 9.0 to 13.5. The developer is in the range.
Hereinafter, the developer will be described in detail. In the present specification, unless otherwise specified, the developing solution means a developing start solution (a developing solution in a narrow sense) and a developing replenisher.
[0099]
The main component of the developer is preferably composed of at least one compound selected from non-reducing sugars and at least one base, and the pH of the solution is in the range of 9.0 to 13.5.
Such non-reducing sugars are saccharides that do not have a free aldehyde group or ketone group and do not exhibit reducing properties, and are trehalose-type oligosaccharides in which reducing groups are bonded to each other, and glycosides in which a reducing group of saccharides and non-saccharides are bonded. It is classified into sugar alcohols reduced by hydrogenating the body and saccharides, and any of them is preferably used. Trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of glycosides include alkyl glycosides, phenol glycosides, mustard oil glycosides, and the like. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, durisit and allozulcit. Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide and a reduced form (reduced water candy) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide are preferably used. Among these, sugar alcohol and saccharose are particularly preferred non-reducing sugars, and D-sorbite, saccharose, and reduced syrup are particularly preferred because they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.
[0100]
These non-reducing sugars can be used alone or in combination of two or more thereof, and the proportion of the non-reducing sugar in the developer is preferably 0.1 to 30% by weight, more preferably 1 to 20% by weight. Below this range, a sufficient buffering effect cannot be obtained, and when the concentration is above this range, it is difficult to achieve high concentration, and the problem of increased costs arises.
In addition, when reducing sugar is used in combination with a base, there is a problem that the color changes to brown over time, the pH gradually decreases, and thus developability decreases.
[0101]
A conventionally known alkaline agent can be used as the base to be combined with the non-reducing sugar. For example, sodium hydroxide, potassium, lithium, trisodium phosphate, potassium, ammonium, disodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium Inorganic alkaline agents such as sodium borate, potassium, and ammonium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.
[0102]
These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Among these, sodium hydroxide and potassium are preferred because the pH can be adjusted in a wide pH range by adjusting these amounts relative to the non-reducing sugar. Trisodium phosphate, potassium, sodium carbonate, potassium, and the like are also preferable because they have a buffering action.
These alkali agents are added so that the pH of the developer is in the range of 9.0 to 13.5, and the addition amount is determined by the desired pH, the type and addition amount of the non-reducing sugar, and more preferable pH. The range is 10.0 to 13.2.
[0103]
Further, an alkaline buffer composed of a weak acid other than sugars and a strong base can be used in combination with the developer. As the weak acid used as such a buffer, one having a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2 is preferable. Such a weak acid is selected from those described in IONISATION CONSTANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTION published by Pergamon Press, for example, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1 (PKa 12.74) , Alcohols such as trifluoroethanol (12.37) and trichloroethanol (12.24), aldehydes such as pyridine-2-aldehyde (12.68) and pyridine-4-aldehyde (12.05) , Salicylic acid (13.0), 3-hydroxy-2-naphthoic acid (12.84), catechol (12.6), gallic acid (12.4), sulfosalicyclic acid (11. 7), 3,4-dihydroxysulfonic acid (12.2), 3,4-dihydroxybenzoic acid (11.94), 1,2,4-trihydroxyben (11.82), hydroquinone (11.56), pyrogallol (11.34), o-cresol (10.33), resorcinol (11.27), p-cresol (10.27). ), A compound having a phenolic hydroxyl group such as m-cresol (10.09),
[0104]
2-butanone oxime (12.45), acetoxime (12.42), 1,2-cycloheptanedione dioxime (12.3), 2-hydroxybenzaldehyde oxime (12.10), dimethylglyoxime (11.9), ethanediamide dioxime (11.37), oximes such as acetophenone oxime (11.35), adenosine (12.56), inosine (12.5), guanine (same) 12.3), nucleic acid-related substances such as cytosine (12.2), hypoxanthine (12.1), xanthine (11.9), diethylaminomethylphosphonic acid (12.32), 1- Amino-3,3,3-trifluorobenzoic acid (12.29), isopropylidenediphosphonic acid (12.10), 1,1-ethylidene Phosphonic acid (11.54), 1,1-ethylidene diphosphonic acid 1-hydroxy (11.52), benzimidazole (12.86), thiobenzamide (12.8), picoline thioamide (12) .55) and weak acids such as barbituric acid (12.5).
[0105]
Of these weak acids, sulfosalicylic acid and salicylic acid are preferred.
As the base to be combined with these weak acids, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium are preferably used.
These alkali agents are used alone or in combination of two or more.
The above various alkali agents are used by adjusting the pH within a preferable range depending on the concentration and combination.
[0106]
Various surfactants and organic solvents can be added to the developer as needed for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants.
[0107]
Preferred examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan Fatty acid partial esters, pentaerythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, poly Glycerin fatty acid partial esters, polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acids Ethanol amides, N. Nonionic surfactants such as N-bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, trialkylamine oxides,
[0108]
Fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkanesulfonic acid salts, alkanesulfonic acid salts, dialkylsulfosuccinic acid ester salts, linear alkylbenzenesulfonic acid salts, branched alkylbenzenesulfonic acid salts, alkylnaphthalenesulfonic acid salts, alkylphenoxypolyoxyethylene Propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alkylpheny Ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride copolymers Partial saponified products of olefins, partially saponified products of olefin / maleic anhydride copolymers, anionic surfactants such as naphthalene sulfonate formalin condensates, quaternary ammonium salts such as alkylamine salts and tetrabutylammonium bromide , Cationic surfactants such as polyoxyethylene alkylamine salts, polyethylene polyamine derivatives, carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, imidazolines What amphoteric surfactants. Among the surfactants listed above, those having polyoxyethylene can be read as polyoxyalkylenes such as polyoxymethylene, polyoxypropylene and polyoxybutylene, and these surfactants are also included.
[0109]
A more preferred surfactant is a fluorosurfactant containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Such fluorosurfactants include perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, anionic types such as perfluoroalkyl phosphates, amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines, and perfluoroalkyltrimethylammonium salts. Cationic and perfluoroalkylamine oxides, perfluoroalkyl ethylene oxide adducts, perfluoroalkyl group and hydrophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl group and lipophilic group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, hydrophilic groups and lipophilic groups Nonionic types such as group-containing oligomers, perfluoroalkyl groups, and lipophilic group-containing urethanes can be mentioned.
Said surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types, and is added in 0.001 to 10 weight% in a developing solution, More preferably, it is added in 0.01 to 5 weight%.
[0110]
Various development stabilizers can be used in the developer. Preferred examples thereof include polyethylene glycol adducts of sugar alcohols described in JP-A-6-282079, tetraalkylammonium salts such as tetrabutylammonium hydroxide, phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium bromide, and iodonium such as diphenyliodonium chloride. A salt is a preferred example.
Further, anionic surfactants or amphoteric surfactants described in JP-A-50-51324, water-soluble cationic polymers described in JP-A-55-95946, and JP-A-56-142528 are described. And water-soluble amphoteric polymer electrolytes that have been used.
[0111]
Furthermore, an organic boron compound to which an alkylene glycol is added as described in JP-A-59-84241, a polyoxyethylene / polyoxypropylene block polymerization type water-soluble surfactant as described in JP-A-60-111246, An alkylenediamine compound substituted with polyoxyethylene / polyoxypropylene disclosed in JP-A-60-129750, a polyethylene glycol having a weight average molecular weight of 300 or more described in JP-A-61-215554, and a cation described in JP-A-63-175858 And a water-soluble ethylene oxide addition compound obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide to an acid or alcohol disclosed in JP-A-2-39157, a water-soluble polyalkylene compound, and the like.
[0112]
If necessary, an organic solvent is further added to the developer. As such an organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by weight or less are suitable, and preferably those having a solubility in water of 5% by weight or less are selected. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenyl-1-propanol, 4-phenyl-1-butanol, 4-phenyl-2-butanol, 2-phenyl-1-butanol, 2-phenoxyethanol, 2- Benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and 4-methylcyclohexanol, N-phenylethanol Examples thereof include amines and N-phenyldiethanolamine. The content of the organic solvent is 0.1 to 5% by weight with respect to the total weight of the used solution. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable to increase the amount of surfactant as the amount of organic solvent increases. This is because the amount of the surfactant is small, and when the amount of the organic solvent is large, the organic solvent is not completely dissolved, so that it is impossible to expect good developability.
[0113]
A reducing agent can be further added to the developer. This is to prevent stains on the printing plate, and is particularly effective when developing a negative photosensitive lithographic printing plate containing a photosensitive diazonium salt compound. Preferred organic reducing agents include thiosalicylic acid, hydroquinone, and metol. And phenol compounds such as methoxyquinone, resorcin and 2-methylresorcin, and amine compounds such as phenylenediamine and phenylhydrazine. More preferable inorganic reducing agents include sodium, potassium and ammonium salts of inorganic acids such as sulfurous acid, bisulfite, phosphorous acid, hydrogen phosphite, dihydrogen phosphite, thiosulfuric acid and dithionite. A salt etc. can be mentioned. Among these reducing agents, sulfites are particularly excellent in the antifouling effect. These reducing agents are preferably contained in the range of 0.05 to 5% by weight with respect to the developer at the time of use.
[0114]
An organic carboxylic acid can also be added to the developer. Preferred organic carboxylic acids are aliphatic carboxylic acids and aromatic carboxylic acids having 6 to 20 carbon atoms. Specific examples of the aliphatic carboxylic acid include caproic acid, enanthylic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid and stearic acid, and particularly preferred are alkanoic acids having 8 to 12 carbon atoms. . Further, it may be an unsaturated fatty acid having a double bond in the carbon chain or a branched carbon chain.
The aromatic carboxylic acid is a compound in which a carboxyl group is substituted on a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring or the like, and specifically includes o-chlorobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid, p- Hydroxybenzoic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, 2,4-dihydrobenzoic acid, 2,5-dihydroxybenzoic acid, 2,6-dihydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 3, There are 5-dihydroxybenzoic acid, gallic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 1-naphthoic acid, 2-naphthoic acid and the like. Naphthoic acid is particularly effective.
[0115]
The aliphatic and aromatic carboxylic acids are preferably used as sodium salts, potassium salts or ammonium salts in order to enhance water solubility. The content of the organic carboxylic acid in the developer used in the present invention is not particularly limited, but if it is less than 0.1% by weight, the effect is not sufficient, and if it is 10% by weight or more, the effect cannot be further improved. In addition, dissolution may be hindered when other additives are used in combination. Therefore, the preferable addition amount is 0.1 to 10% by weight, and more preferably 0.5 to 4% by weight with respect to the developing solution in use.
[0116]
The developer may further contain a preservative, a colorant, a thickener, an antifoaming agent, a hard water softening agent, and the like, if necessary. Examples of the water softener include polyphosphoric acid and its sodium salt, potassium salt and ammonium salt, ethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, nitrilotriacetic acid, 1,2-diaminocyclohexanetetra Aminopolycarboxylic acids such as acetic acid and 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid and their sodium, potassium and ammonium salts, aminotri (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetra (methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta (methylene Phosphonic acid), triethylenetetramine hexa (methylenephosphonic acid), hydroxyethylethylenediaminetri (methylenephosphonic acid) and - hydroxy data ene-1,1-diphosphonic acid and their sodium salts, potassium salts and ammonium salts.
[0117]
The optimum value of such a hard water softener varies depending on its chelation and the hardness of the hard water used and the amount of hard water. %, More preferably in the range of 0.01 to 0.5% by weight. If the addition amount is less than this range, the intended purpose is not sufficiently achieved. If the addition amount is more than this range, adverse effects on the image area such as color loss will occur.
The remaining component of the developer is water. It is advantageous in terms of transportation that the developer is a concentrated solution having a water content less than that in use and is diluted with water when in use. In this case, the degree of concentration is appropriate such that each component does not cause separation or precipitation.
[0118]
As the developer for the photosensitive lithographic printing plate of the present invention, a developer described in JP-A-6-282079 can also be used. This is SiO₂/ M₂Water-soluble ethylene oxide addition obtained by adding 5 mol or more of ethylene oxide to an alkali metal silicate having a molar ratio of O (M represents an alkali metal) of 0.5 to 2.0 and a sugar alcohol having 4 or more hydroxyl groups A developer containing a compound. Sugar alcohols are polyhydric alcohols corresponding to those obtained by reducing aldehyde groups and ketone groups of sugars to form primary and secondary alcohol groups, respectively. Examples of sugar alcohol shells include D, L-trait, erythritol, D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, Examples thereof include L-talit, dulcit, and allozulcit, and di-, tri-, tetra-, penta-, and hexaglycerin condensed with a sugar alcohol. The water-soluble ethylene oxide addition compound can be obtained by adding 5 mol or more of ethylene oxide to 1 mol of the sugar alcohol. Further, propylene oxide may be block-copolymerized in the ethylene oxide addition compound as required within a range where solubility is acceptable. These ethylene oxide addition compounds may be used alone or in combination of two or more.
The addition amount of these water-soluble ethylene oxide addition compounds is suitably 0.001 to 5% by weight, more preferably 0.001 to 2% by weight, based on the developing solution (working solution).
[0119]
The developer may further contain the above-described various surfactants and organic solvents as necessary for the purpose of promoting developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area.
[0120]
The PS plate developed with the developer having such a composition is post-treated with a washing water, a rinse solution containing a surfactant, a finisher mainly composed of gum arabic, a starch derivative, or the like, or a protective gum solution. Various combinations of these treatments can be used for the post-treatment of the PS plate of the present invention.
[0121]
In recent years, automatic developing machines for PS plates have been widely used in the stencil and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of an apparatus for transporting the PS plate, each processing liquid tank and a spray device, and the exposed PS plate is pumped up while being transported horizontally. Each processing solution is sprayed from a spray nozzle to develop and post-process. In addition, recently, a PS plate is immersed and transported in a processing solution tank filled with a processing solution by a guide roll in the solution, and a small amount of washing water after development is supplied to the plate surface for washing. A method is also known in which the waste water is reused as dilution water for the developer stock solution.
[0122]
In such automatic processing, each processing solution can be processed while being replenished with each replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.
The planographic printing plate obtained by such processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
[0123]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be further described based on synthesis examples and examples. However, the present invention is not limited to these examples.
(Synthesis Example 1)
25.6 g of the compound (1-5) as the structural unit (1), 26.4 g of the compound (2-7) as the structural unit (2), 20.4 g of lauryl methacrylate and dimethylacetamide as the structural unit (3) 160 g was placed in a 500 ml three-necked flask and kept at 65 ° C. with stirring under a nitrogen stream. 2.30 g of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added and stirring was continued. After 4 hours, the temperature was raised to 75 ° C. and maintained for 1 hour. After completion of the reaction, the reaction solution was cooled to room temperature, and the reaction solution was poured into 400 ml of water. The folded solid was collected by filtration and dried.
The solid was a polymer compound (fluorine-containing polymer, P-5 compatible product) having a weight average molecular weight of 25,000 according to GPC with a yield of 68.4 g.
[0124]
(Synthesis Examples 2 to 4)
Copolymers shown in Table 1 were obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that the structural units (1), (2), and (3) in Synthesis Example 1 were changed. Moreover, also about the comparative example, the copolymer shown in Table 1 was obtained by the same method as the synthesis example 1 except having used the raw material shown in Table 1.
[0125]
[Table 1]

[0126]
[Examples 1-4, Comparative Examples 1-3]
(All percentages in the examples below are by weight unless otherwise specified.)
A JIS A 1050 aluminum plate having a thickness of 0.24 mm was subjected to brush graining using a rotating nylon brush as described below while supplying a suspension of pumiston and water having an average particle diameter of about 2.1 μ to the aluminum surface. The first brush has a hair length of 100mm, a hair diameter of 0.95mm, and a flocking density of 70 / cm²The second brush has a hair length of 80 mm, a hair diameter of 0.295 mm, and a hair density of 670 / cm²Met. The rotation of each brush roll was 250 rpm. After brush graining, it was washed thoroughly with water, etched by immersion in 10% sodium hydroxide at 60 ° C. for 25 seconds, further washed with running water, neutralized with 20% nitric acid, and washed with water. These are V_A= 160 clones / dm in 1% aqueous nitric acid solution using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of 12.7V²Electrolytic surface roughening treatment was performed with the amount of electricity at the time of anode. The surface roughness was measured and found to be 0.79 μ (R_aDisplay). Subsequently, after being immersed in a 1% aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 30 seconds, immersed in a 30% sulfuric acid aqueous solution and desmutted at 60 ° C. for 40 seconds, the current density was 2 A / dm in a 20% aqueous sulfuric acid solution.²1.6 g / m²The substrate was prepared by anodizing with a direct current so that the weight of the oxide film was as follows.
[0127]
An undercoat liquid (A) having the following composition was applied to the surface of the substrate thus treated and dried at 80 ° C. for 30 seconds.
The coating amount after drying is 10 / m²Met.
Undercoat liquid (A)
β-alanine 0.10 g
40 g of methanol
60 g of pure water
Thus, the substrate (I) was produced.
Next, the photosensitive solution shown in the following Table 2 is applied to the substrate (I) by rod coating at 12 ml / m 2.²This was coated and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a positive photosensitive lithographic printing plate. The coating amount after drying is 1.15 g / m²Met. In order to further shorten the vacuum adhesion time, a mat layer was formed as described in Japanese Patent Publication No. 61-28986.
[0128]
[Table 2]

[0129]
The photosensitive lithographic printing plate thus produced was evaluated by the following method.
The sensitivity was 1 minute exposure from a 1 m distance through a 3 kW metal halide lamp through a Fuji Photo Film Co., Ltd. step wedge (0.15 density difference at each stage), and then Fuji Photo Film Co., Ltd. PS Using processor 900U, SiO2 at 30 ° C for 12 seconds₂/ K₂The molar ratio of O is 1.16, SiO₂Development was performed with an aqueous solution having a concentration of 1.4%, and the number of clear plates (the number of the step where the composition was eluted) was expressed. The higher the number of steps, the higher the sensitivity.
The gradation represents the difference between the number of clear stages and the solid stage (the number of the stage where the composition does not elute) of the sample whose sensitivity was evaluated. It shows that it is so hard that this value is low.
The development tolerance refers to the change in the number of solids due to the pH, with the same exposure and development as described above, except that a solution whose pH is increased or decreased by 0.2 is used based on the developer described above. It was. The smaller this value, the better the development tolerance.
These results are shown in Table 4.
[0130]
[Table 3]

[0131]
[Table 4]

[0132]
As can be seen from Table 4, Examples 1 to 4 are hardened without deteriorating the sensitivity, and the development tolerance is also good.
[Examples 5 to 7, Comparative Example 4]
The surface of a 0.24 mm thick JIS A1050 aluminum plate was grained using a nylon brush and a 400 mesh Pamiston water suspension, and then thoroughly washed with water. Etching by dipping in 10% sodium hydroxide at 70 ° C for 60 seconds, washing with running water, and 20% HNO_ThreeAnd neutralized and washed with water. This is V_A= 160 clones / dm in 1% aqueous nitric acid solution using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of 12.7V²Electrolytic surface roughening treatment was performed with the amount of electricity at the time of anode. The surface roughness was measured to be 0.6 μm (R_aDisplay). Continuously 30% H₂SO_FourAfter dipping in an aqueous solution and desmutting at 55 ° C. for 2 minutes, 20% H₂SO_FourCurrent density 14A / dm in aqueous solution²The amount of anodized film is 2.5 g / m²The substrate [A] was prepared by anodizing so as to be equivalent and washing with water.
Substrate [A] was treated with a 2.5 wt% sodium silicate aqueous solution at 30 ° C. for 20 seconds, and washed with water to prepare substrate [B].
[0133]
An undercoat liquid (I) having the following composition was applied to the surface of the substrate [B] thus treated and dried at 70 ° C. for 10 seconds. The coating amount after drying is 15 mg / m²Met.
(I) Polyvinylbenzoic acid (Mw 42000) 0.3 g
Methanol 100 g
1 g of water
Next, the same photosensitive layer and matte layer as in Examples 1 to 4 were provided on this substrate.
[0134]
The photosensitive lithographic printing plate thus prepared was evaluated by the following method. The sensitivity is as follows. After exposure for 30 seconds with a 3 kW metal halide lamp from a distance of 1 m through a step wedge manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. (the difference in density of each step is 0.15), PS processor 900U manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. Was developed using developer a (pH about 13.0) shown in Table 5 below at 30 ° C. for 12 seconds, and expressed in terms of the number of clear stages. The higher the number of steps, the higher the sensitivity.
The gradation represents the difference between the number of clear stages and the number of solid stages of the samples whose sensitivity was evaluated. It shows that it is so hard that this value is low.
With respect to the development tolerance, the same exposure development as that described above was performed, except that a solution whose pH was increased or decreased by 0.2 on the basis of the above-described developer was used, and the change in the number of solid plates due to the pH was expressed. The smaller this value, the better the development tolerance.
[0135]
[Table 5]

[0136]
These results are shown in Table 6.
[0137]
[Table 6]

[0138]
As can be seen from Table 6, even if the support and the developer are changed, Examples 5 to 7 are hardened without lowering the sensitivity, and the development tolerance is also good.
[0139]
【The invention's effect】
The positive photosensitive composition of the present invention contains a specific fluorine-containing polymer, exhibits a high-contrast image-forming property without lowering its sensitivity, and is also capable of burning, white light safety, and development. Satisfied with wide tolerance.

Claims (1)

A photosensitive composition comprising a polymer compound having at least a structural unit represented by the following general formulas (1), (2) and (3) as a copolymerization component, and an o-quinonediazite compound.
_{CH 2 = CA [COO-R'} -R f] (1)
(In the formula, A represents a hydrogen atom or a methyl group. R ′ represents a single bond, — (CH ₂ ) _m —, — (CH ₂ ) _m NR ″ SO ₂ —, or — (CH ₂ ) _m NR ″ CO. -, m is an integer from 1 4, R "is .R _f represents a hydrogen atom or an alkyl group is C _n F _{2n + 1, n} is an integer of 3 or more).
CH ₂ = CA [CO—W—R ₁ —SO ₂ NH—R ₂ ] (2)
(In the formula, A represents a hydrogen atom or a methyl group. W represents oxygen or —NR ₃ —, R ₃ represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R ₁ may have a substituent. A good alkylene group or arylene group, R ₂ represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
_{CH 2 = CA [CO-W} -R 5] (3)
(In the formula, A represents a hydrogen atom or a methyl group. W represents oxygen or —NR ₃ —, R ₃ represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R ₅ has 9 or more carbon atoms. And represents an aromatic group substituted with an aliphatic group or an aliphatic group having two or more carbon atoms.)