JP3791722B2

JP3791722B2 - Lithographic printing plate support and method for producing a lithographic printing plate support

Info

Publication number: JP3791722B2
Application number: JP19446097A
Authority: JP
Inventors: 彰男上杉; 雅弘遠藤; 博和榊
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1997-07-18
Filing date: 1997-07-18
Publication date: 2006-06-28
Anticipated expiration: 2017-07-18
Also published as: JPH1134523A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、平版印刷版用支持体の製造方法及び得られた平版印刷版支持体に関するものであり、特にアルミニウム、アルミニウム合金を用いた平版印刷版支持体の製造方法及び得られた平版印刷版支持体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
印刷版用アルミニウム支持体、特に平版印刷版用支持体としては、アルミニウム、アルミニウム合金が用いられている。
一般に、アルミニウム板（アルミニウム合金板を含む）を平版印刷版基板として使用するためには、感光剤との適度な密着性と保水性を有し、更に均一に粗面化されていることが必要である。均一に粗面化されているということは、生成されたピットの大きさが適度に揃っており、かつその様なピットが全面均一に生成していることが必要である。また、このピットは、版材の印刷性能である汚れ難さ、耐刷性等著しい影響を及ぼし、その良否は版材製造上重要な要素になっている。
特開平６−９２０５２においては、機械的粗面化処理に引き続いて、０．５〜３０g/m²の範囲でエッチングし、２００〜６００c/dm²のパルス通電で行う工程で構成されている発明が提案されている。また、特開平７−９７７６では、機械的粗面化後、エッチング処理を１〜５g/m²行い、交流電気量３００〜８００c/dm²として電気化学的粗面化を行うことを提案している。あるいは、特開平６−２４１６６では、機械的粗面化処理に引き続いて、０．５〜３０g/m²の範囲でエッチングし、２００〜６００c/dm²の交流電解を行う工程で構成されている発明が提案されている。また、基板の粗面化方法としては、機械的粗面化、化学的粗面化、電気化学的粗面化等あり、特開平６−２４１６６でも、機械的粗面化、化学的エッチング、電気化学的粗面化の諸条件を変化させた発明が提案されている。つまり、機械的に粗面化した後０．５〜３０g/m²化学エッチングし、適当な電流密度、電気量を付与して電気化学的に粗面化を施しその後０．１〜１０g/m²の間でエッチングして角を滑らかに仕上げ、陽極酸化を施すことが提案されている。上記発明は、優れた発明であるが、最近の客先のニーズからより局所的な不均一部のない品質の高い印刷版が求められており、そのニーズに合った平版印刷版基板の提供が求められていると共に、生産コストを最大限にミニマムにすることが必要である。特開平６−９２０５２、特開平６−２４１６６では、予備研磨をおこなわない為、局所的な凹部がある元アルミニウムを機械的粗面化、化学エッチング電気化学的粗面化を行った場合、凹部の部分に均一な化学エッチング、電気化学的粗面化が出来ず、その部分の耐刷力の低下、また凹部にインキが引っかかり汚れ難さが劣化する等不具合が発生していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記問題点を解決し、均一な品質を得ると共に、生産コストを最小限にし、しかも耐刷性に優れた平版印刷版を得ることができる、平版印刷版用支持体並びにその製造方法を提供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、以下に述べる本発明によって上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成した。即ち、本発明は；
（１）不織布に平均粒径５〜４０μｍの研磨材を含有させたロールを用いて予備研磨を行い、アルミニウム板の圧延方向に対して垂直に取った２次元表面粗さ曲線の中心線からの凹部の幅５０μｍ以内、深さ２μｍ以内、また凹部の長さが圧延方向と水平方向に５００μｍ以内にした後、機械的粗面化、化学エッチング、電気化学的粗面化の少なくとも１つによって、粗面化を行った後、陽極酸化を施すことを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法、
（２）前記予備研磨において５〜２０００回 /min のオシレートを行うことを特徴とする上記（１）に記載の平版印刷版用支持体の製造方法、
（３）前記予備研磨を、局所的な凹部がある元アルミニウム板に対して行うことを特徴とする、上記（１）または（２）に記載の平版印刷版用支持体の製造方法、
（４）前記予備研磨後の前記凹部の幅が３０〜５０μｍであり、かつ前記凹部の長さが３５０〜５００μｍであることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の平版印刷版用支持体の製造方法、
（５）前記粗面化として、少なくとも機械的粗面化を行うことを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の平版印刷版用支持体の製造方法、
（６）上記（１）〜（５）のいずれかに記載の製造方法によって得られた平版印刷版用支持体、
に関する。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明に於て、使用されるアルミニウム板には、純アルミニウム、アルミニウム合金が含まれる。アルミニウム合金としては、種々な物が使用出来、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ニッケル、ビスマス等の合金とアルミニウムの合金が用いられる。アルミニウム合金は、種々あるが、オフセット印刷用版材として例えば、特公昭５８−６６３５号公報では、ＦｅとＳｉ成分を限定し、金属間化合物を特定している。また、特公昭５５−２８８７４号公報では、冷間圧延率、中間鈍純を行い、電解粗面化の電圧印加方法を限定している。特公昭６２−４１３０４、特公平１−４６５７７、特公平１−４６５７８、特公平１−４７５４５、特公平１−３５９１０、特公昭６３−６０８２３、特公昭６３−６０８２４、特公平４−１３４１７、特公平４−１９２９０、特公平４−１９２９１、特公平４−１９２９３、特公昭６２−５０５４０、特開昭６１−２７２３５７、特開昭６２−７４０６０、特開昭６１−２０１７４７、特開昭６３−１４３２３４、特開昭６３−１４３２３５、特開昭６３−２５５３３８、特開平１−２８３３５０各号公報、ＥＰ２７２５２８、米国特許４９０２３５３、同４８１８３００、ＥＰ３９４８１６、米国特許５０１９１８８、西ドイツ特許３２３２８１０、米国特許４３５２３０、ＥＰ２３９９９５、米国特許４８２２７１５、西ドイツ特許３５０７４０２、米国特許４７１５９０３、西ドイツ特許３５０７４０２、ＥＰ２８９８４４、米国特許５００９７２２、同４９４５００４、西ドイツ特許３７１４０５９、米国特許４６８６０８３、同４８６１３９６、ＥＰ１５８９４１各号明細書等に示されているアルミニウム合金のみならず、一般的なものもすべて含まれる。板材の製造方法としては、熱間圧延を使用した方法とともに連続鋳造で行なう方法も最近出願されている。例えば東ドイツ特許２５２７９９号明細書では、双ロール方式で行なわれた板材が紹介されている。ＥＰ２２３７３７，米国特許４８０２９３５，同４８００９５０号各明細書では、微量合金成分を限定した形で出願されている。ＥＰ４１５２３８号明細書では、連鋳、連鋳＋熱延を提案している。
本発明では、このようなアルミニウム板に各種表面処理、転写等を行い、均一な凹凸を有する印刷原板を得ることが出来、その上に、ジアゾ化合物等の感光層を設けることにより、優れた感光性平版印刷版を得ることが出来る。何れにおいても、適切な材料を選ぶことが必要である。
【０００６】
また、場合によっては、まず脱脂を行ってもよい。脱脂処理を行う場合は、トリクレン等の溶剤、界面活性剤が用いられるか、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリエッチング剤を用いる方法が広く用いられている。特開平２−０２６７９３号公報では、脱脂処理について記載がされている。例えば、溶剤脱脂方法としては、ガソリン、ケロシン、ベンジン、ソルベントナフサ、ノルマルヘキサン等の石油系溶剤を用いる方法、トルクロルエチレン、メチレンクロライド、パークロルエチレン、１，１，１−トリクロルエタン等の塩素系溶剤を用いる方法がある。アルカリ脱脂方法としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム等のソーダ塩の水溶液を用いる方法、オルトケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、二号ケイ酸ナトリウム、三号ケイ三ナトリウム等のケイ酸塩の水溶液を用いる方法、第一燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等の燐酸塩水溶液を用いる方法等がある。アルカリ脱脂方法を用いる場合、処理時間、処理温度によって、アルミニウム表面が溶解する可能性があり得るので、脱脂処理については、溶解現象が伴わないようにする必要がある。界面活性剤による脱脂処理としては、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、非イオン性界面活性剤、及び両性活性剤の水溶液が用いられ、各種の市販品等を用いることが出来る。脱脂方法としては、浸漬法、吹き付け法、液を布等に含ませて擦る方法等用いることが出来る。また、浸漬や吹き付け法には、超音波を用いてもよい。
【０００７】
予備研磨を行うには、不織布に、平均粒径５〜４０μｍの研磨材を含有させて作ったローラによって予備研磨することが好ましい。予備研磨する条件としては、ローラ径はφ２００〜１０００ｍｍで、周速３００〜３０００m/minの条件で、均一な面質を維持する為、原板の圧延方向と垂直方向に、連続処理の場合はライン方向と垂直に、５〜２０００回/minのオシレートをすることが望ましい。いずれにしても、予備研磨により、アルミニウム板の圧延方向に対して垂直に取った２次元表面粗さ曲線の中心線からの凹部の幅５０μｍ以内、深さ２μｍ以内、また凹部の長さが圧延方向と水平方向に５００μｍ以内にする事が必要である。特に、上記した凹部の幅３００μｍ以内、深さ１．５μｍ以内、また凹部の長さが圧延方向と水平方向に２００μｍ以内にする事が好ましい。
使用される不織布は、主としてナイロン、ポリアミド、ポリエステル、レーヨン等で構成されたものが好ましい。
この２次元表面粗さは、例えば東京精密（株）の表面粗さ計で、レンジ３ｍｍ、トレーシングスピード０．３ｍｍ／ｓｅｃ、カットオフ０．８ｍｍの条件で測定される。
【０００８】
機械的粗面化には、また、転写、ブラシ、液体ホーニング等種々の方法があり、生産性等を考慮して選択することが重要である。
【０００９】
凹凸面をアルミニウム板に圧接する転写方法としては、種々の方法を使用することが出来る。即ち、前述の特開昭５５−７４８９８号，特開昭６０−３６１９５号，特開昭６０−２０３４９６号各公報の他、転写を数回行うことを特徴とした特開平６−５５８７１号公報，表面が弾性であることを特徴とした特開平６−２４１６８号公報に開示の方法も適用可能である。
また、放電加工・ショットブラスト・レーザー・プラズマエッチングなどを用いて、微細な凹凸を食刻したローラを用いて繰り返し転写をおこなうことや、微細粒子を塗布した凹凸のある面を、アルミニウム板に接面させ、その上より複数回繰返し圧力を加え、アルミニウム板に微細粒子の平均直径に相当する凹凸パターンを複数回繰り返し転写させても良い。
転写ローラへ微細な凹凸を付与する方法としては、特開平３−０８６３５号、特開平３−０６６４０４号、特開昭６３−０６５０１７号各公報などが公知となっている。また、ローラ表面にダイス、バイトまたはレーザーなどを使って２方向から微細な溝を切り、表面に角形の凹凸をつけてもよい。このローラ表面は、公知のエッチング処理などをおこなって、形成した角形の凹凸が丸みを帯びるような処理をおこなってもよい。表面の硬度を上げるために焼き入れ、ハードクロムメッキなどを行なってもよいことは勿論である。
【００１０】
また、ブラシによる粗面化としては、ナイロンブラシによる粗面化の他、ワイヤーブラシによる粗面化等も含まれる。また高圧水による粗面化としては特開昭５９−２１４６９号公報，特開昭６０−１９５９５号公報，特開昭６０−１８３９０号公報等に示されている。
【００１１】
この様に機械的粗面化によって作成したのち必要に応じて、アルミニウム板の平滑化、均斉化等を目的として、アルミニウム表面を酸、アルカリで化学処理する。特に、電気化学的粗面化を行なう場合には転写後そのまま引き続いて行なう場合、粗面化が不均一になる。この様な化学処理に使用される酸、アルカリの具体例としては、燐酸、硫酸、塩酸、硝酸、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム等のソーダ塩の水溶液を用いる方法、オルトケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、二号ケイ酸ナトリウム、三号ケイ酸ナトリウム等のケイ酸塩の水溶液を用いる方法、第一燐酸ナトリウム、第三燐酸ナトリウム、第二燐酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等の燐酸塩水溶液を用いる方法等がある。処理条件としては、濃度０．０１％〜５０重量％、温度２０℃〜９０℃、時間５秒〜５分間から適時選択される。エッチング量としては、アルミニウムの材質や、求める品質により適時選択される。特開昭５４−６５６０７、特開昭５５−１２５２９９各号公報では、電気化学的粗面化の前処理を提案している。特開昭６３−２３５５００、特開昭６３−３０７９９０、特開平１−１２７３８８、特開平１−１６０６９０、特開平１−１３６７８９、特開平１−１３６７８８、特開平１−１７８４９７、特開平１−３０８６８９、特開平３−１２６８７１、特開平３−１２６９００、特開平３−１７３８００各号公報等に各種前処理が含まれているが、本発明は、これらに限っているわけではない。しかしながら、この様に、酸、アルカリの水溶液によりアルミニウム表面を化学処理すると、その表面に不溶解残渣部すなわちスマットが生成する。このスマットは、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸または、これらの混合物により除去することが出来る。本発明に於いて、電気化学的粗面化処理されるアルミニウム表面は、スマットの無い清浄な面であることが望ましい。しかし、電解液が酸であり、デスマット作用を持つ場合等これを省くことができる。
【００１２】
この様にして処理されたアルミニウム板に、電気化学的粗面化が行なわれ、電解粗面化の間に電解液と同じ成分でスマット除去を行う。電気化学的粗面化については、特公昭４８−２８１２３号公報、英国特許８９６５６３号明細書に記載されている。上記電解グレイニングは、従来正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭５２−５８６０２号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開昭５５−１５８２９８、特開昭５６−２８８９８、特開昭５２−５８６０２、特開昭５２−１５２３０２、特開昭５４−８５８０２、特開昭６０−１９０３９２、特開昭５８−１２０５３１、特開昭６３−１７６１８７各号公報、特開平１−５８８９、特開平１−２８０５９０、特開平１−１１８４８９、特開平１−１４８５９２、特開平１−１７８４９６、特開平１−１８８３１５、特開平１−１５４７９７、特開平２−２３５７９４、特開平３−２６０１００、特開平３−２５３６００、特開平４−７２０７９、特開平４−７２０９８、特開平３−２６７４００、特開平１−１４１０９４各号公報に記載の方法も適用できる。
周波数としては、前述の他に、電解コンデンサーにて提案されているものも使用できる。例えば、米国特許４２７６１２９，同４６７６８７９号明細書等である。
【００１３】
電解液としては、硝酸、塩酸等前述の他、米国特許４６７１８５９，同４６６５７６，同４６６１２１９，同４６１８４０５，同４６２６２８，同４６００４８２，同４５６６９６０，同４５６６９５８，同４５６６９５９，同４４１６９７２，同４３７４７１０，同４３３６１１３，同４１８４９３２各号明細書等の電解液も使用できる。電解槽、電源としては、色々提案されているが、米国特許４２０３６３７号明細書、特開昭５６−１２３４００、特開昭５７−５９７７０、特開昭５３−１２７３８、特開昭５３−３２８２１、特開昭５３−３２８２２、特開昭５３−３２８２３、特開昭５５−１２２８９６、特開昭５５−１３２８８４、特開昭６２−１２７５００各号公報、特開平１−５２１００号公報、特開平１−５２０９８号公報、特開昭６０−６７７００号公報、特開平１−２３０８００号公報、特開平３−２５７１９９号公報等がある。また、上述した特許以外にも、色々提案されている。例えば、特開昭５２−５８６０２、特開昭５２−１５２３０２、特開昭５３−１２７３８、特開昭５３−１２７３９、特開昭５３−３２８２１、特開昭５３−３２８２２、特開昭５３−３２８３３、特開昭５３−３２８２４、特開昭５３−３２８２５、特開昭５４−８５８０２、特開昭５５−１２２８９６、特開昭５５−１３２８８４、特公昭４８−２８１２３、特公昭５１−７０８１、特開昭５２−１３３８３８、特開昭５２−１３３８４０、特開昭５２−１３３８４４、特開昭５２−１３３８４５、特開昭５３−１４９１３５、特開昭５４−１４６２３４各号公報に記載のもの等ももちろん適用できる。
【００１４】
スマット除去は、前記したように電解液と同じ成分に液で行う。電解液と異なる成分の液でスマット除去を行うと、スマット除去工程後に水洗工程が必要となり、コストアップの要因となるばかりか、電解グレイン性にも影響を及ぼす。また、同じ成分であれば、温度や濃度が変化した系で行っても、電解粗面化工程で温度・濃度管理や制御が可能である。スマット除去方法としては、化学的に溶解させる方法等があるが、スプレー等で液を高速にウエブに衝突させ、強制的にスマット除去させてもよい。いずれにしても、生産性、設備コスト、電解粗面化のセル形状等総合的に考慮して選択すればよい。いずれの方式についてもスマット量を５％〜７０％除去することが大切である。電解粗面化で発生するスマット量としては、電解条件で、０．２ｇ／ｍ² 〜５ｇ／ｍ² 程度変化するので、目的とする品質性能で除去すべくスマット量をこの範囲で変化させればよい。
【００１５】
かくして得られたアルミニウム板に必要に応じて、アルカリまたは、酸にて処理を行なう。特開昭５６−５１３８８号公報のようにアルカリ処理し、特開昭５３−１２７３９号公報のように硫酸によってデスマット処理を行なう。また、特開昭５３−１１５３０２号公報のように燐酸処理したり、特開昭６０−８０９１、特開昭６３−１７６１８８、特開平１−３８２９１、特開平１−１２７３８９、特開平１−１８８６９９、特開平３−１７７６００、特開平３−１２６８９１、特開平３−１９１１００各号公報等も用いることが出来る。
【００１６】
この様に得られたアルミニウム支持体の表面に、陽極酸化皮膜を形成させるのが好ましい。電解液としては、硫酸、燐酸、クロム酸、しゅう酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいは、これら２種類以上組み合わせた水溶液または非水溶液中で、アルミニウムを陽極として電流を流すと、アルミニウム表面に、陽極酸化皮膜を形成させることが出来る。陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によって種々変化するので、一概にいえないが一般的には、電解液の濃度が、１〜８０重量％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０Ａ／ｃｍ² 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１５秒〜５０分が適当である。電解装置としては、特開昭４８−２６６３８、特開昭４７−１８７３９、特公昭５８−２４５１７各号公報等に紹介されている。また、特開昭５４−８１１３３、特開昭５７−４７８９４、特開昭５７−５１２８９、特開昭５７−５１２９０、特開昭５７−５４３００、特開昭５７−１３６５９６、特開昭５８−１０７４９８、特開昭６０−２００２５６、特開昭６２−１３６５９６、特開昭６３−１７６４９４、特開平４−１７６８９７、特開平４−２８０９９７、特開平６−２０７２９９、特開平５−３２０８３、特開平５−１２５５９７、特開平５−１９５２９１各号公報に記載されている方法ももちろん使用できる。処理液としては、特開平３−２５３５９６、特開昭６２−８２０８９、特開平１−１３３７９４、特開昭５４−３２４２４、特開平５−４２７８３各号公報等の液ももちろん使用できる。
【００１７】
上述の様に、陽極酸化皮膜を形成した後、各支持体と感光組成物との密着を最適なものとするために、陽極酸化皮膜をエッチングした後、水蒸気並びに、熱水で封孔処理をして、経時安定性の良い、現像性の良好な、非画像部の汚れのない感光性印刷版を与える支持体の封孔処理装置があり、（特公昭５６−１２５１８号公報）この様な装置で皮膜生成後処理を行なっても良い。また、特開平４−４１９４号、特開平５−２０２４９６、特開平５−１７９４８２各号公報等の装置、方法で封孔処理を行なっても良い。
【００１８】
他に、米国特許第２９４６６３８号明細書に記載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第３２０１２４７号明細書に記載されているホスホモリブデート処理英国特許第１１０８５５９号に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第１０９１４３３号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第１１３４０９３号明細書や英国特許第１２３０４４７号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭４４−６４０９号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第３３０７９５１号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭５８−１６８９３号や特開昭５８−１８２９１号の各公報に記載されている親油性有機高分子化合物と２価の金属との塩による処理や、米国特許第３８６０４２６号明細書に記載されているように、水溶性金属塩（例えば酢酸亜鉛など）を含む親水性セルロース（例えばカルボキシメチルセルロースなど）の下塗り層を設けたり、特開昭５９−１０１６５１号公報に記載されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗りによって親水化処理を行ったものや、特開昭６２−０１９４９４号公報に記載されているリン酸塩、特開昭６２−０３３６９２号公報に記載されている水溶性エポキシ化合物、特開昭６２−０９７８９２号公報に記載のリン酸変性デンプン、特開昭６３−０５６４９８号公報に記載のジアミン化合物、特開昭６３−１３０３９１号公報記載のアミノ酸の無機または有機酸、特開昭６３−１４５０９２号公報に記載のカルボキシル基または水酸基を含む有機ホスホン酸、特開昭６３−１６５１８３号公報に記載のアミノ基とホスホン酸基を有する化合物、特開平２−３１６２９０号公報に記載の特定のカルボン酸誘導体、特開平１−２７２５９４号公報に記載のリン酸エステル、特開平３−２６１５９２号公報に記載の１個のアミノ基とリンの酸素酸基１個を持つ化合物、特開平３−２１５０９５号公報に記載のリン酸エステル、特開平５−２４６１７１号公報に記載のフェニルホスホン酸などの脂肪族または芳香族ホスホン酸、特開平１−３０７７４５号公報に記載のチオサリチル酸のようなＳ原子を含む化合物、特開平４−２８２６３７号公報に記載のリンの酸素酸のグループを持つ化合物などの下塗りや、特開昭６０−６４３５２号公報に記載されている酸性染料による着色を行なう事もできる。
【００１９】
本発明の支持体には、以下に例示する感光層を設けて感光性平版印刷版とすることができる。
〔Ｉ〕ｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルおよびフェノール・クレゾール混合のノボラック樹脂を含有する感光層を設ける場合。
ｏ−キノンジアジド化合物はｏ−ナフトキノンジアジド化合物であり、例えば、米国特許第２，７６６，１１８号、同第２，７６７，０９２号、同第２，７７２，９７２号、同第２，８５９，１１２号、同第３，１０２，８０９号、同第３，１０６，４６５号、同第３，６３５，７０９号、同第３，６４７，４４３号の各明細書をはじめ、多数の刊行物に記されており、これらは、好適に使用することができる。これらの内でも、特に芳香族ヒドロキシ化合物のｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルまたはｏ−ナフトキノンジアジドカルボン酸エステル、及び芳香族アミノ化合物のｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドまたはｏ−ナフトキノンジアジドカルボン酸アミドが好ましく、特に米国特許第３，６３５、７０９号明細書に記されているピロガロールとアセトンとの縮合物にｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸をエステル反応させたもの、米国特許第４，０２８，１１１号明細書に記されている末端にヒドロキシ基を有するポリエステルにｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸、またはｏ−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエステル反応させたもの、英国特許第１，４９４，０４３号明細書に記されているようなｐ−ヒドロキシスチレンのホモポリマーまたはこれと他の共重合し得るモノマーとの共重合体にｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸、またはｏ−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエステル反応させたもの、米国特許第３，７５９，７１１号明細書に記されているようなｐ−アミノスチレンと他の共重合し得るモノマーとの共重合体にｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸、またはｏ−ナフトキノンジアジドカルボン酸をアミド反応させたものは非常に優れている。
【００２０】
これらのｏ−キノンジアジド化合物は、単独で使用することができるが、アルカリ可溶性樹脂と混合して用いた方が好ましい。好適なアルカリ可溶性樹脂には、ノボラック型フェノール樹脂が含まれ、具体的には、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｏ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが含まれる。さらに米国特許第４，０２８，１１１号明細書に記されているように上記のようなフェノール樹脂と共に、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数３〜８のアルキル基で置換されたフェノールまたはクレゾールとホルムアルデヒドとの縮合物を併用すると、より一層好ましい。
また、露光により可視像を形成するためにｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロライド、ｐ−ジアゾジフェニルアミンの無機アニオン塩、トリハロメチルオキサジアゾール化合物、ベンゾフラン環を有するトリハロメチルオキサジアゾール化合物等の化合物などが添加される。一方画像の着色剤としては、ビクトリアブル−ＢＯＨ、クリスタルバイオレット、オイルブルー、等のトリフェニルメタン染料が用いられる。また、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料は特に好ましい。
さらに、感脂化剤として特公昭５７−２３２５３号公報に記載されているような炭素数３〜１５のアルキル基で置換されたフェノール、例えばｔ−ブチルフェノール、Ｎ−オクチルフェノール、ｔ−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとを縮合させたノボラック樹脂、または、このようなノボラック樹脂のｏ−ナフトキノンジアジド−４−または−５−スルホン酸エステル（例えば、特開昭６１−２４２４４６号公報に記載されている）を含有させることができる。
また、現像性を良化させるためにさらに特開昭６２−２５１７４０号公報に記載されているような非イオン界面活性剤を含有させることができる。
以上の組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、水、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセトンアルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。
これらの成分からなる感光性組成物が、固形分として０．５〜３．０ｇ／ｍ² 設けられる。
【００２１】
〔ＩＩ〕ジアゾ樹脂と水不溶性かつ親油性高分子化合物を含有する感光層を設ける場合。
ジアゾ樹脂としては、例えばｐ−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドの縮合物と、ヘキサフルオロリン酸塩、テトラフルオロホウ酸塩との有機溶媒可溶の反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩、また米国特許第３，３００，３０９号明細書に記載されているような、前記縮合物とスルホン酸類例えばＰ−トルエンスルホン酸またはその塩、ホスフィン酸類例えばベンゼンホスフィン酸またはその塩、ヒドロキシル基含有化合物例えば、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸またはその塩等の反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂有機酸塩等が挙げられる。
本発明において、好適に用いることができる他のジアゾ樹脂は、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、リンの酸素酸基およびヒドロキシル基のうち少なくとも一つの有機基を有する芳香族化合物と、ジアゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾニウム化合物とを構造単位として含む共縮合体である。
そして上記の芳香族環としては、好ましくはフェニル基、ナフチル基をあげることができる。
前述のカルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、リンの酸素酸基、及びヒドロキシル基のうち少なくとも一つを含有する芳香族化合物としては種々のものが挙げられるが、好ましいのは、４−メトキシ安息香酸、３−クロロ安息香酸、２，４−ジメトキシ安息香酸、ｐ−フェノキシ安息香酸、４−アニリノ安息香酸、フェノキシ酢酸、フェニル酢酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、１−ナフタレンスルホン酸、フェニルリン酸、フェニルホスホン酸である。前述の共縮合ジアゾ樹脂の構成単位をなす芳香族ジアゾニウム化合物には、例えば特公昭４９−４８００１号公報に挙げられているようなジアゾニウム塩を用いることができるが、特に、ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩類が好ましい。
ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩類は、４−アミノ−ジフェニルアミン類から誘導されるが、このような４−アミン−ジフェニルアミン類としては、４−アミノジフェニルアミン、４−アミノ−３−メトキシジフェニルアミン、４−アミノ−２−メトキシジフェニルアミン、４’−アミノ−２−メトキシジフェニルアミン、４’−アミノ−４−メトキシジフェニルアミン、４−アミノ−３−メチルジフェニルアミン、４−アミノ−３−エトキシジフェニルアミン、４−アミノ−３−β−ヒドロキシエトキシジフェニルアミン、４−アミノ−ジフェニルアミン−２−スルホン酸、４−アミノ−ジフ−ニルアミン−２−カルボン酸、４−アミノ−ジフェニルアミン−２’−カルボン酸等が挙げられ、特に好ましくは、３−メトキシ−４−アミノ−４−ジフェニルアミン、４−アミノジフェニルアミンである。
また、酸基を有する芳香族化合物との共縮合ジアゾ樹脂以外のジアゾ樹脂として、特開平４−１８５５９、特開平３−１６３５５１、及び特開平３−２５３８５７各号公報に記載された酸基を含有するアルデヒドまたはそのアセタール化合物で縮合したジアゾ樹脂も好ましく用いることができる。
ジアゾ樹脂の対アニオンとしては、ジアゾ樹脂と安定に塩を形成し、かつ該樹脂を有機溶媒に可溶となすアニオンを含む。これらは、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸及びスルホン酸を含み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、トルフルオロメタンスルホン酸などのフルオロアルカンスルホン酸、ラウリルスルホン酸、ジオクチルスルホコハク酸、ジシクロヘキシルスルホコハク酸、カンファースルホン酸、トリルオキシ−３−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−３−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−４−ブタンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−３−プロパンスルホン酸、ジアミルフェノキシ−３−プロパンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−３−プロパンスルホン酸、ジブチルフェノキシ−４−ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキシ−４−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸、２，５−ジクロロベンゼンスルホン酸、スルホサルチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、ｐ−アセチルベンゼンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−クロロ−５−ニトロベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ブトキシベンゼンスルホン酸、ドデシルオキシベンゼンスルホン酸、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、イソプロピルナフヘタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン酸、ドデシルオキシナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、トリブチルナフタレンスルホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、ナフタリン−１−スルホン酸、ナフタリン−２−スルホン酸、１，８−ジニトロ−ナフタレン−３，６−ジスルホン酸、ジメチル−５−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳香族スルホン酸、２，２’，４，４’−テトラヒドキシベンゾフェノン、１，２，３−トリヒドロシキシベンゾフェノン、２，２’４−トリヒドロキシベンゾフェノン等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、ＨＣｌＯ₄ ，ＨＩＯ₄ 等の過ハロゲン酸等が挙げられるが、これに限られるものではない。これらの中で、特に好ましいものは、ブチルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、ヘキサフルオロリン酸、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸である。
【００２２】
本発明に使用するジアゾ樹脂は、各単量体のモル比及び縮合条件を種々変えることにより、その分子量は任意の値として得ることができるが、本発明の目的とする使途に有効に供するためには分子量が約４００〜１００，０００のもの、好ましくは、約８００〜８，０００のものが適当である。
水不溶性かつ親油性高分子化合物としては、下記（１）〜（１５）に示すモノマーをその構造単位とする通常１〜２０万の分子量をもつ共重合体が挙げられる。
（１）芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類及びヒドロキシスチレン類、例えばＮ−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたはＮ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−，ｍ−，ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−，ｍ−，ｐ−ヒドロキシフェニル−アクリレートまたはメタクリレート、
（２）脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類、例えば２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート
（３）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸、
（４）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等の（置換）アルキルアクリレート、
【００２３】
（５）メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の（置換）アルキルメタクリレート、
（６）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド類、
（７）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類、
（８）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、
（９）スチレン、α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類、（１０）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、
【００２４】
（１１）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類、
（１２）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等
（１３）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセケチルメタクルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド、
（１４）Ｎ（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノ）スルホニルフェニルメタクリルアミド、Ｎ−（１−（３−アミノスルホニル）ナフチル）メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノスルホニルエチル）メタクリルアミド等のメタクリル酸アミド類、及び上記と同様の置換基を有するアクリルアミド類、また、ｏ−アミノスルホニルフェニルフメタクリレート、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、１−（３−アミノスルホニルナフチル）メタクリレート等のメタクリル酸エステル類、及び上記と同様の置換基を有するアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド
（１５）Ｎ−（２−（メタクリロイルオキシ）−エチル）−２，３−ジメチルマレイミド、ビニルシンナメート、などの、側鎖に、架橋性基を有する不飽和モノマー。更に、上記モノマーと共重合し得るモノマーを共重合させてもよい。
（１６）米国特許第３，７５１，２５７号明細書に記載されているフェノール樹脂および例えばポリビニルフォルマール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂のようなポリビニルアセタール樹脂。
（１７）ポリウレタンをアルカリ可溶化した特公昭５４−１９７７３号、特開昭５７−９０４７４７号、同６０−１８２４３７号、同６２−５８２４２号、同６２−１２３４５２号、同６２−１２３４５３号、同６３−１１３４５０号、特開平２−１４６０４２号に記載された高分子化合物。
また上記共重合体には必要に応じて、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加してもよい。
【００２５】
本発明の支持体に用いる感光性組成物には、露光による可視画像と現像後の可視画像を得ることを目的としてさらに色素を用いることができる。
該色素としては、例えば、ビクトリアピュアブル−ＢＯＨ〔保土ヶ谷化学社製〕、オイルブルー＃６０３〔オリエント化学工業社製〕，パテントピュアブルー〔住友三国化学社製〕、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチルグリーン、エリスロシンＢ、ベイシックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、ｍ−クレゾールパープル、ローダミンＢ、オーラミン、４−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シアノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の例として挙げられる。
一方、無色から有色に変化する変色剤としては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジフェニルアミン、ｏ−クロロアニリン、１，２，３−トリフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェニルメタン、ｐ，ｐ’−ビス−ジメチルアミノジフェニルアミン、１，２−ジアニリノエチレン、ｐ，ｐ’，ｐ”−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、ｐ，ｐ’−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミン、ｐ，ｐ’，ｐ”−トリアミノ−ｏ−メチルトリフェニルメタン、ｐ，ｐ’−ビス−ジメチルアミノジフェニル−４−アニリノナフチルメタン、ｐ，ｐ’，ｐ”−トリアミノトリフェニルメタンに代表される第１級または第２級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好ましくは、トリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色素が有効に用いられ、さらに好ましくはトリフェニルメタン系色素であり、特にビクトリアピュアブルーＢＯＨである。
【００２６】
本発明の支持体に用いられる感光性組成物には、更に種々の添加物を加えることができる。
例えば、塗布性を改良するためのアルキルエーテル類（例えばエチルセルロース、メチルセルロース）、フッ素系界面活性剤類や、ノニオン系界面活性剤（特にフッ素系界面活性剤が好ましい）、塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤（例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタン酸ジブチル、フタン酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー、この中で特にリン酸トリクレジルが好ましい）、画像部の感脂性を向上させるための感脂化剤（例えば特開昭５５−５２７号公報記載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールによるハーフエステル化物、ｐ−ｔ−ブチルフェノール−ホルムアルデヒド樹脂などのノボラック樹脂、ｐ−ヒドロキシスチレンの５０％脂肪酸エステル等）、安定剤｛例えば、リン酸、亜リン酸、有機酸（クエン酸、シュウ酸、ジピコリン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルホサリチル酸、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、酒石酸等）｝、現像促進剤（例えば高級アルコール、酸無水物等）等が好ましく用いられる。
【００２７】
上述の感光性組成物を支持体上に設けるには、感光性ジアゾ樹脂、親油性高分子化合物、及び必要に応じて種々の添加剤の所定量を適当な溶媒（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、メチルセロソルブアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレンジクロライド、ジメチルスルホキシド、水またはこれらの混合物等）中に溶解させ感光性組成物の塗布液を調整し、これを支持体上に塗布、乾燥すればよい。
用いられる溶媒は単独でもよいが、メチルセロソルブ、１−メトキシ−２−プロパノール、乳酸メチルのような高沸点溶媒と、メタノール、メチルエチルケトンのような低沸点溶媒との混合物とするとさらに好ましい。
塗布する際の感光性組成物の固形分濃度は１〜５０重量％の範囲とすることが望ましい。この場合、感光性組成物の塗布量は、おおむね、０．２〜１０ｇ/m² （乾燥重量）程度とすればよくさらに好ましくは、０．５〜３ｇ／ｍ² とするとよい。
【００２８】
〔ＩＩＩ〕光二量化型感光性組成物及び光重合性感光性組成物をふくむ感光層を設ける場合
光二量化型感光性組成物としてはマレイミド基やシンナミル基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミリデンアセチル基やカルコン基などを側鎖、または主鎖に有するポリマーが挙げられ、マレイミド基を側鎖に有するポリマーとして、特開昭５２−９８８号（対応米国特許４，０７９，０４１号）公報や、独国特許第２，６２６，７６９号明細書、ヨーロッパ特許第２１，０１９号明細書、ヨーロッパ特許第３，５５２号明細書や、ディー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケミー（Die Angewandte Makromolekulare Chemie)１１５（１９８３）の１６３〜１８１ページに記載されているポリマーや、特開昭４９−１２８９９１号、同４９−１２８９９２号、同４９−１２８９９３号、同５０−５３７６号、同５０−５３７７号、同５０−５３７９号、同５０−５３７８号、同５０−５３８０号、同５３−５２９８号、同５３−５２９９号、同５３−５３００号、同５０−５０１０７号、同５１−４７９４０号、同５２−１３９０７号、同５０−４５０７６号、同５２−１２１７００号、同５０−１０８８４号、同５０−４５０８７号各公報、独国特許第２，３４９，９４８号、同第２，６１６，２７６号各明細書に記載されているポリマーなどを挙げることができる。
これらのポリマーを、アルカリ水に可溶性または膨潤性とするためには、カルボン酸・スルホン酸、リン酸、ホスホン酸、及びこれらのアルカル金属塩やアンモニウム塩、及びアルカリ水に対し解離するｐＫａが６〜１２の酸基などを、ポリマー中に含めたものが有用である。必要により上記酸基を有するモノマー１３種類と、マレイミド基を有するモノマーを共重合させることもできる。
【００２９】
酸基を有するマレイミドポリマーの酸価は３０〜３００の範囲が好ましく、このような酸価を有するポリマーの中でも、ディー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケミー（Die Angewandte Makromolekulare Chemie)１２８（１９８４）の７１〜９１ページに記載されているような、Ｎ−〔２−（メタクリロイルオキシ）エチル〕−２，３−ジメチルマレイミドとメタクリル酸あるいはアクリル酸との共重合体が有用である。更にこの共重合体の合成に際して第３成分のビニルモノマーを共重合することによって目的に応じた多元共重合体を容易に合成することができる。例えば、第３成分のビニルモノマーとして、そのホモポリマーのガラス転移点が室温以下のアルキルメタアクリレートやアルキルアクリレートを用いることによって、共重合体に柔軟性を与えることができる。
【００３０】
シンナミル基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミリデンアセチル基やカルコン基などを側鎖、または主鎖に有する光架僑性ポリマーとしては、米国特許第３，０３０，２０８号、米国特許出願７０９，４９６号、同第８２８，４５５号の各明細書の記載されている感光性ポリエステルがある。
これらの光架橋性ポリマーをアルカリ水可溶化したものとしては、次のようなものがあげられる。
即ち、特開昭６０−１９１２４４号公報中に記載されているような感光性ポリマーを挙げることができる。
更に、特開昭６２−１７５７２９号、特開昭６２−１７５７３０号、特開昭６３−２５４４３号、特開昭６３−２１８９４４号、特開昭６３−２１８９４５号の各公報に記載されている感光性ポリマーなどを挙げることができる。
また、これらを含む感光層には増感剤を使用することが出来るが、そのような増感剤としてはベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロン誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合物、ナフトチアゾリン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体、チオキサントン類、ナフトチアゾール誘導体、ケトクマリン化合物、ベンゾチアゾール誘導体、ナフトフラノン化合物、ビリリウム塩、チアビリリウム塩などを挙げることが出来る。このような感光層には必要に応じて塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル、アクリル酸アルキルエステル、アクリロニトリル、塩化ビニル、スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少なくとも一種との共重合体、ポリアミド、メチルセルロース、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体などの結合剤や、ジブチルフタレート、ジヘキシルフタレートなどのフタル酸ジアルキルエステル、オリゴエチレングリコールアルキルエステル、リン酸エステルなどの可塑剤などを使用することが出来る。また、感光層の着色を目的として、染料もしくは顔料や焼出し剤としてｐＨ支持薬等を添加するものも好ましい。
【００３１】
光重合性感光性組成物としては、不飽和カルボン酸及びその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミドなどが挙げられる。
光重合開始剤としては、ビシナ−ルポリタケタルドニル化合物、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−位が炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリルイミダゾールダイマー／ｐ−アミノフェニルケトンの組み合わせ、ベンゾチアゾール系化合物、トリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、アクリジン及びフェナジン化合物、オキサジアゾール化合物などが含まれ、これらとともに、アルカリ水可溶性または膨潤性で、かつフィルム形成可能な高分子重合体としては、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸メチル（またはメタクリル酸エステル）共重合体、無水マレイン酸共重合体にペンタエリスリトールトリアクリレートを半エステル化で付加させたものや酸性ビニル共重合体などが挙げられる。
【００３２】
〔ＩＶ〕電子写真用感光層
例えば、米国特許第３，００１，８７２号明細書に開示さているＺｎＯ感光層を用いることもできる。また、特開昭５６−１６１５５０号、特開昭６０−１８６８４７号、特開昭６１−２３８０６３号各公報などに記載されている電子写真感光体を用いた感光層を用いてもよい。
支持体上に設けられる感光層の量は、塗布後の乾燥重量で、薬０．１〜約７ｇ／ｍ² 、好ましくは０．５〜４ｇ／ｍ² の範囲である。
【００３３】
本発明による平版印刷版用支持体の製造方法において、支持体と感光層との密着性を高めるためや、現像後に感光層が残らないようにするため、またはハレーションを防止するなどの目的で、必要に応じて中間層を設けてもよい。
密着性向上のためには、一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミに吸着するリン酸化合物、アミノ化合物、カルボン酸化合物などからなっている。現像後に感光層が残存しないように溶解性の高い物質からなる中間層は、一般に溶解性の良好なポリマーや、水溶性ポリマーからなっている。更にハレーション防止のためには、中間層は一般に染料やＵＶ吸収剤を含む。中間層の厚さは任意であり、露光した時に、上層の感光層と均一な結合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通常、乾燥固体で約１〜１００ｍｇ／ｍ² の塗布割合がよく、５〜４０ｍｇ／ｍ² が特に良好である。
【００３４】
塗布された感光層上には相互に独立して設けられた突起物により構成されるマット層を設けることもできる。
マット層の目的は密着露光におけるネガ画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良することにより、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止することである。
マット層の塗布方法としては、特開昭５５−１２９７４号公報に記載されているパウダリングされた固体粉末を熱融着する方法、特開昭５８−１８２６３６号公報に記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる方法などがあり、どの方法でもよいが、マット層自体が実質的に有機溶剤を含まない水性アルカリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可能な物が望ましい。
【００３５】
以上のようにして作成された感光性平版印刷版は、画像露光された後、常法により現像を含む処理によって樹脂画像が形成される。例えば、前記〔Ｉ〕の感光層を有する感光性平版印刷版の場合は、画像露光後、米国特許第４，２５９，４３４号明細書に記載されているようなアルカリ水溶液で現像することにより露光部分が除去されて、平版印刷版が得られ、〔ＩＩ〕の感光層を有する感光性平版印刷版の場合には、画像露光後、米国特許第４，１８６，００６号明細書に記載されているような現像液で、未露光部の感光層が現像により除去されて平板印刷版が得られる。また、特開昭５９−８４２４１号、特開昭５７−１９２９５２号、及び特開昭６２−２４２６３号の各公報に記載されているようなポジ型平版印刷版を現像する際に用いられる水性アルカリ現像液組成物を使用することもできる。
【００３６】
【実施例】
次に本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
実施例１
ＪｌＳ１０５０材を、ナイロン製の不織布の中に平均１０μｍの粒度のアルミナ研磨剤を含有させたφ４００のロールにより、周速９００m/min、オシレート２００回/minで、研磨をおこなった。その時のＡＬ表面の凹凸を調べた所、ＡＬ板の圧延方向に対して垂直に取った２次元表面粗さ曲線の中心線からの凹部の幅４０μｍ、深さ１．９μｍ、また凹部の長さが圧延方向と水平方向に４００μｍであった。特公昭５０−４００４７公報に記載の装置で、回転数３５０rpmで機械的砂目立てを行った。苛性ソーダの濃度２５％一定とし、温度は５５℃で、処理時間は６ｇ/m²エッチング量になる様エッチング量を調節した。そ，モの後水洗を行い、下記液でスマット除去を行い特開平３−７９７９９の電源波形で１２．５g/lの硝酸て５g/lＡＬの濃度でかつ５０℃の温度にて陽極電気量が２１０c/dm²になる様粗面化を行い水洗後第２エッチングを行う。苛性ソーダの濃度は第１エッチングと同じ条件とし、温度は４０℃、処理時間は０．８g/m²エッチング量になる様調節した。その後水洗を行い下記液でデスマット処理を行い、硫酸１２０g/l、液温４５℃にて、陽極酸化皮膜量が２．５g/m²になる様に皮膜を生成させた。
【００３７】
実施例２
ＪｌＳ１０５０材を、ナイロン製の不織布の中に平均５μｍの粒度のアルミナ研磨剤を含有させたφ６００のロールにより、周速７００m/min、オシレート４００回/minで、研磨をおこなった。ＡＬ表面の凹凸を調べた所、ＡＬ板の圧延方向に対して垂直に取った２次元表面粗さ曲線の中心線からの凹部の幅４８μｍ、深さ１．２μｍ、また凹部の長さが圧延方向と水平方向に４８０μｍであった。特公昭５０−４００４７公報に記載の装置で、回転数３５０rpmで機械的砂自立てを行った。苛性ソーダの濃度２５％一定とし、温度は５５℃で、処理時間は６g/m²エッチング量になる様エッチング量を調節した。その後水洗を行い、下記液でスマット除去を行い特開平３−７９７９９の電源波形で１２．５g/lの硝酸で５g/lＡＬの濃度でかつ５０℃の温度にて陽極電気量が２１０c/dm²になる様粗面化を行い水洗後第２エッチングを行う。苛性ソ−ダの濃度は第１エッチングと同じ条件とし、温度は４０℃、処埋時間は０．８g/m²エッチング量になる様調節した。その後水洗を行い下記液でデスマット処理を行い、硫酸１２０g/l、液温４５℃にて、陽極酸化皮膜量が２．５g/m²になる様に皮膜を生成させた。
【００３８】
実施例３
ＪＩＳ１０５０材を、ナイロン製の不織布の中に平均３９μｍの粒度のアルミナ研磨剤を含有させたφ６００のロールにより、周速８００m/minで、研磨をおこなった。ＡＬ表面の凹凸を調べた所、ＡＬ板の圧延方向に対して垂直に取った２次元表面粗さ曲線の中心線からの凹部の幅３０μｍ、深さ２．０μｍ、また凹部の長さが圧延方向と水平方向に３５０μｍであった。特公昭５０−４００４７公報に記載の装置で、回転数３５０rpmで機械的砂目立てを行った。苛性ソーダの濃度２５％一定とし、温度は５５℃で、処理時間は６g/m²エッチング量になる様エッチング量を調節した。その後水洗を行い、下記液でスマット除去を行い特開平３−７９７９９の電源波形で１２．５g/lの硝酸で５g/lＡＬの濃度でかつ５０℃の温度にて陽極電気量が２１０c/dm²になる様粗面化を行い水洗後第２エッチングを行う。苛性ソーダの濃度は第１エッチングと同じ条件とし、温度は４０℃、処理時間は０．８g/m²エッチング量になる様調節した。その後水洗を行い下記液てデスマット処理を行い、硫酸１２０g/l、液温４５℃にて、陽極酸化皮膜量が２．５g/m²になる様に皮膜を生成させた。
【００３９】
比較例１
ＪｌＳ１０５０材の凹凸を調べた所、ＡＬ板の圧延方向に対して垂直に取った２次元表面粗さ曲線の中心線からの凹部の幅１００μｍ、深さ２．８μｍ、また凹部の長さが圧延方向と水平方向に２０００μｍであった。特公昭５０−４００４７公報に記載の装置で、回転数３５０rpmで機械的砂目立てを行った。苛性ソーダの濃度２５％一定とし、温度は５５℃で、処理時間は６g/m²エッチング量になる様エッチング量を調節した。その後水洗を行い、下記液でスマット除去を行い特開平３−７９７９９の電源波形で１２．５g/lの硝酸で５g/lＡＬの濃度でかつ５０℃の温度にて陽極電気量が２１０c/dm²になる様粗面化を行い水洗後第２エッチングを行う。苛性ソーダの濃度は第１エッチングと同じ条件とし、温度は４０℃、処理時間は０．８g/m²エッチング量になる様調節した。その後水洗を行い下記液でデスマット処理を行い、硫酸１２０g/l、液温４５℃にて、陽極酸化皮膜量が３．０g/m²になる様に皮膜を生成させた。
【００４０】
比較例２
ＪｌＳｌ０５０材をリン酸５０％温度６０℃の液で、交流電源を用い、電流密度２５A/dm²、電気量５００００c/dm²にて処理を行った。ＪｌＳ１０５０材の凹凸を調べた所、ＡＬ板の圧延方向に対して垂直に取った２次元表面粗さ曲線の中心線からの凹部の幅４０μｍ、深さ２．３μｍ、また凹部の長さが圧延方向と水平方向に４００μｍであった。特公昭５０−４００４７公報に記載の装置で、回転数３５０rpmで機械的砂目立てを行った。苛性ソーダの濃度２５％一定とし、温度は５５℃で、処理時間は６g/m²エッチング量になる様エッチング量を調節した。その後水洗を行い、下記液でスマット除去を行い特開平３−７９７９９の電源波形で１２．５g/lの硝酸で５g/lＡＬの濃度でかつ５０℃の温度にて陽極電気量が２１０c/dm²になる様粗面化を行い水洗後第２エッチングを行う。苛性ソーダの濃度は第１エッチングと同じ条件とし、温度は４０℃、処理時間は０．８g/m²エッチング量になる様調節した。その後水洗を行い下記液でデスマット処理を行い、硫酸１２０g/l、液温４５℃にて、陽極酸化皮膜量が２．５g/m²になる様に皮膜を生成させた。
【００４１】
比較例３
ＪｌＳ１０５０材を、ナイロン製の不織布の中に平均２μｍの粒度のアルミナ研磨剤を含有させたφ５００のロールにより、周速５００m/min、オシレート１０回/minで、研磨をおこなった。ＪｌＳ１０５０材の凹凸を調べた所、アルミニウム板の圧延方向に対して垂直に取った２次元表面粗さ曲線の中心線からの凹部の幅８００μｍ、深さ１．９μｍ、また凹部の長さが圧延方向と水平方向に４００μｍであった。特公昭５０−４００４７公報に記載の装置で、回転数３５０rpmで機械的砂目立てを行った。苛性ソーダの濃度２５％一定とし、温度は５５℃で、処理時間は６g/m²エッチング量になる様エッチング量を調節した。その後水洗を行い、下記液でスマット除去を行い特開平３−７９７９９の電源波形で１２．５g/lのｌ硝酸で５g/lＡＬの濃度でかつ５０℃の温度にて陽極電気量が２１０c/dm²になる様粗面化を行い水洗後第２エッチングを行う。苛性ソーダの濃度は第１エッチングと同じ条件とし、温度は４０℃、処理時間は０．８g/m²エッチング量になる様調節した。その後水洗を行い下記液でデスマット処理を行い、硫酸１２０g/l、液温４５℃にて、陽極酸化皮膜量が３．０g/m²になる様に皮膜を生成させた。
【００４２】
比較例４
ＪｌＳ３００５材を、ナイロン製の不織布の中に平均５０μｍの粒度のアルミナ研磨剤を含有させたφ５００のロールにより、周速５００m/min、オシレート１０００回/minで、研磨をおこなった。ＪｌＳ１０５０材の凹凸を調べた所、アルミニウム板の圧延方向に対して垂直に取った２次元表面粗さ曲線の中心線からの凹部の幅３００μｍ、深さ１．８μｍ、また凹部の長さが圧延方向と水平方向に１０００μｍであった。苛性ソーダの濃度２５％一定とし、温度は５５℃で、処理時間は６g/m²エッチング量になる様エッチング量を調節した。その後水洗を行い、下記液でスマット除去を行い特開平３−７９７９９の電源波形で１２．５g/lの硝酸で５g/lＡＬの濃度でかつ５０℃の温度にて陽極電気量が２６０c/dm²になる様粗面化を行い水洗後第２エッチングを行う。苛性ソーダの濃度は第１エッチングと同じ条件とし、温度は４０℃、処理時間は０．１g/m²エッチング量になる様調節した。その後水洗を行い下記液でデスマット処理を行い、硫酸１２０g/l、液温４５℃にて、陽極酸化皮膜量が３．０g/m²になる様に皮膜を生成させた。
【００４３】
以上実施例１〜３、比較例１〜４について、基板に下記組成物を乾燥後の塗布重量が２．０g/m²になる様に塗布して感光層を設け、マットコーティングした。
感光層組成
ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとピロガロール、アセトン樹脂とのエステル化合物米国特許３６３５７０９号明細書実施例−１記載のもの・・・０．７５ｇ
クレゾールノボラック樹脂・・・２．００ｇ
オイルブルー６０３（オリエント化学）・・・０．０４ｇ
エチレンジクロライド・・・１６ｇ
２−メトキシエチルアセテート・・・１２ｇ
このサンプルを用いて印刷したところ、実施例１〜３については、汚れもなく、７万枚印刷しても良好な印刷物が得られたのに対して、比較例１〜４については、非画像部に局所的凹部に汚れが発生し、かつ５万枚刷ったところで、画像部の局所的凹部に印刷不良が発生した。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、最小限の生産コストで、均一な品質を有する平版印刷版支持体を得ることができ、この支持体を用いると、耐刷性に優れた平版印刷版を得ることができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate support and the obtained lithographic printing plate support, and in particular, a method for producing a lithographic printing plate support using aluminum and an aluminum alloy, and the obtained lithographic printing plate. It relates to a support.
[0002]
[Prior art]
Aluminum and aluminum alloys are used as an aluminum support for printing plates, particularly as a support for lithographic printing plates.
In general, in order to use an aluminum plate (including an aluminum alloy plate) as a lithographic printing plate substrate, it is necessary to have appropriate adhesion and water retention with a photosensitizer and to be evenly roughened. It is. The fact that the surface is uniformly roughened requires that the generated pits have an appropriate size and that such pits are generated uniformly over the entire surface. In addition, the pits have a significant influence on the printing performance of the plate material, such as the stain resistance and the printing durability, and the quality is an important factor in the production of the plate material.
In JP-A-6-92052, following the mechanical surface roughening treatment, 0.5 to 30 g / m.²Etching in the range of 200-600c / dm²There has been proposed an invention comprising a process performed by pulse energization. In JP-A-7-9776, the etching treatment is performed at 1 to 5 g / m after mechanical roughening.²AC quantity of electricity 300 ~ 800c / dm²As an electrochemical surface roughening. Alternatively, in JP-A-6-24166, subsequent to the mechanical surface roughening treatment, 0.5 to 30 g / m.²Etching in the range of 200-600c / dm²The invention comprised of the process of performing the alternating current electrolysis is proposed. Further, the roughening method of the substrate includes mechanical roughening, chemical roughening, electrochemical roughening and the like. Japanese Patent Laid-Open No. 6-24166 also discloses mechanical roughening, chemical etching, Inventions in which various conditions of chemical roughening are changed have been proposed. That is, 0.5 to 30 g / m after mechanical roughening²Chemical etching, applying an appropriate current density and electric quantity, and electrochemically roughening, then 0.1-10 g / m²It has been proposed that the corners be smoothed by etching and anodized. Although the above invention is an excellent invention, there has been a demand for a high-quality printing plate free from local non-uniformity due to recent customer needs, and the provision of a lithographic printing plate substrate that meets the needs is provided. There is a need and it is necessary to minimize the production cost. In JP-A-6-92052 and JP-A-6-24166, since preliminary polishing is not performed, when the original aluminum with local recesses is subjected to mechanical surface roughening, chemical etching and electrochemical surface roughening, A uniform chemical etching or electrochemical roughening could not be performed on the portion, and the printing durability of the portion was lowered, and the ink was caught in the concave portion and the stain resistance was deteriorated.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention solves the above-mentioned problems, obtains a uniform quality, minimizes production costs, and obtains a lithographic printing plate excellent in printing durability, and a lithographic printing plate support and a method for producing the same Is intended to provide.
[0004]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that the above object can be achieved by the present invention described below, and have completed the present invention. That is, the present invention is:
(1)Perform preliminary polishing using a roll containing an abrasive with an average particle size of 5 to 40 μm in a nonwoven fabric,The width of the recess from the center line of the two-dimensional surface roughness curve taken perpendicular to the rolling direction of the aluminum plate was within 50 μm, the depth was within 2 μm, and the length of the recess was within 500 μm in the rolling direction and the horizontal direction. A method for producing a support for a lithographic printing plate, wherein the surface is roughened by at least one of mechanical roughening, chemical etching, and electrochemical roughening, and then anodized;
(2)5 to 2000 times in the preliminary polishing / min The method for producing a support for a lithographic printing plate as described in (1) above, wherein
(3) The method for producing a lithographic printing plate support according to (1) or (2) above, wherein the preliminary polishing is performed on an original aluminum plate having a local recess.
(4) The width of the concave portion after the preliminary polishing is 30 to 50 μm, and the length of the concave portion is 350 to 500 μm, according to any one of (1) to (3), A method for producing a lithographic printing plate support;
(5) The method for producing a lithographic printing plate support according to any one of (1) to (4), wherein at least mechanical roughening is performed as the roughening,
(6) A lithographic printing plate support obtained by the production method according to any one of (1) to (5) above,
About.
[0005]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the present invention, the aluminum plate used includes pure aluminum and aluminum alloy. Various materials can be used as the aluminum alloy, for example, an alloy of aluminum such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, nickel, bismuth and the like is used. There are various types of aluminum alloys, but as an offset printing plate material, for example, Japanese Patent Publication No. 58-6635 discloses Fe and Si components and specifies an intermetallic compound. In Japanese Examined Patent Publication No. 55-28874, the cold rolling rate and intermediate dullness are performed, and the voltage application method for electrolytic surface roughening is limited. JP-B-62-41304, JP-B 1-46577, JP-B 1-46578, JP-B 1-47545, JP-B 1-35910, JP-B 63-60823, JP-B 63-60824, JP-B 4-13417, JP-B 4-19290, JP-B-4-19291, JP-B-4-19293, JP-B-62-50540, JP-A-61-272357, JP-A-62-74060, JP-A-61-201747, JP-A-63-143234, JP-A-63-143235, JP-A-63-255338, JP-A-1-283350, JP272528, U.S. Pat.No. 4,902,353, U.S. Pat. No. 4,818,300, EP394816, U.S. Pat. 4822715, West German Patent 3 07402, U.S. Pat. No. 4,715,903, West German Patent 3507402, EP 289844, U.S. Patent 5,0097,22, 494504, West German Patent 3714059, U.S. Pat. Nos. 4,860,603, 4,861,396, EP 158941, etc. Everything is included. As a method for producing a plate material, a method of performing continuous casting as well as a method using hot rolling has recently been filed. For example, in East German Patent No. 252799, a plate material made by a twin roll method is introduced. EP 223737, US Pat. Nos. 4,802,935 and 4,800,050 have been filed in a limited form with respect to trace alloy components. In the specification of EP415238, continuous casting, continuous casting + hot rolling is proposed.
In the present invention, it is possible to obtain a printing original plate having uniform unevenness by performing various surface treatments, transfer, etc. on such an aluminum plate, and by providing a photosensitive layer such as a diazo compound thereon, excellent photosensitivity. A sex lithographic printing plate can be obtained. In any case, it is necessary to select an appropriate material.
[0006]
In some cases, degreasing may be performed first. When performing the degreasing treatment, a method using a solvent such as trichlene or a surfactant, or an alkali etching agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is widely used. Japanese Patent Laid-Open No. 2-026793 describes degreasing treatment. For example, solvent degreasing methods include methods using petroleum solvents such as gasoline, kerosene, benzine, solvent naphtha, and normal hexane, chlorine such as torquerol ethylene, methylene chloride, perchlorethylene, 1,1,1-trichloroethane, and the like. There is a method using a solvent. Alkaline degreasing methods include methods using aqueous solutions of soda salts such as sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium sulfate, sodium orthosilicate, sodium metasilicate, No. 2 sodium silicate, No. 3 trisodium sodium, etc. There are a method using an aqueous solution of silicate, a method using an aqueous solution of phosphate such as monobasic sodium phosphate, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, sodium tripolyphosphate, sodium pyrophosphate and sodium hexametaphosphate. When the alkaline degreasing method is used, the aluminum surface may be dissolved depending on the treatment time and the treatment temperature. Therefore, the degreasing treatment needs not to be accompanied by a dissolution phenomenon. As the degreasing treatment with a surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, and an aqueous solution of an amphoteric surfactant can be used, and various commercially available products can be used. As a degreasing method, a dipping method, a spraying method, a method of rubbing a liquid in a cloth or the like can be used. Moreover, you may use an ultrasonic wave for the immersion or spraying method.
[0007]
In order to perform preliminary polishing, it is preferable to perform preliminary polishing with a roller made of a nonwoven fabric containing an abrasive having an average particle size of 5 to 40 μm. As pre-polishing conditions, the roller diameter is 200 to 1000 mm and the peripheral speed is 300 to 3000 m / min. In order to maintain a uniform surface quality, in the direction perpendicular to the rolling direction of the original plate, in the case of continuous processing, a line is used. It is desirable to oscillate 5 to 2000 times / min perpendicular to the direction. In any case, by pre-polishing, the width of the recess from the center line of the two-dimensional surface roughness curve taken perpendicular to the rolling direction of the aluminum plate is within 50 μm, the depth is within 2 μm, and the length of the recess is rolled. It is necessary to be within 500 μm in the horizontal direction. In particular, it is preferable that the width of the recess is within 300 μm and the depth is within 1.5 μm, and the length of the recess is within 200 μm in the rolling direction and the horizontal direction.
The nonwoven fabric used is preferably composed mainly of nylon, polyamide, polyester, rayon or the like.
This two-dimensional surface roughness is measured with, for example, a surface roughness meter manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. under conditions of a range of 3 mm, a tracing speed of 0.3 mm / sec, and a cutoff of 0.8 mm.
[0008]
There are various methods for mechanical surface roughening, such as transfer, brushing, and liquid honing. It is important to select in consideration of productivity and the like.
[0009]
Various methods can be used as a transfer method for pressing the uneven surface against the aluminum plate. That is, in addition to the above-mentioned JP-A-55-74898, JP-A-60-36195, and JP-A-60-20396, JP-A-6-55871 characterized in that the transfer is performed several times. The method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-24168, characterized in that the surface is elastic, is also applicable.
In addition, by using electrical discharge machining, shot blasting, laser, plasma etching, etc., it is possible to repeat transfer using a roller with engraved fine irregularities, or to contact the aluminum plate with irregular surfaces coated with fine particles. Then, a concavo-convex pattern corresponding to the average diameter of the fine particles may be repeatedly transferred to the aluminum plate a plurality of times by applying pressure repeatedly on the surface and applying the pressure a plurality of times.
As methods for imparting fine irregularities to the transfer roller, JP-A-3-08635, JP-A-3-064044, JP-A-63-065017 and the like are known. Further, a fine groove may be cut from two directions using a die, a cutting tool, a laser, or the like on the roller surface, and the surface may be provided with square irregularities. This roller surface may be subjected to a known etching process or the like so that the formed square irregularities are rounded. It goes without saying that quenching and hard chrome plating may be performed to increase the surface hardness.
[0010]
Further, roughening with a brush includes roughening with a nylon brush as well as roughening with a wire brush. Further, roughening with high-pressure water is disclosed in JP-A-59-21469, JP-A-60-19595, JP-A-60-18390, and the like.
[0011]
In this way, the surface of the aluminum is chemically treated with an acid or an alkali for the purpose of smoothing, homogenizing, etc. the aluminum plate, if necessary, after being prepared by mechanical roughening. In particular, when the electrochemical surface roughening is performed, the surface roughening becomes non-uniform when it is continuously performed after the transfer. Specific examples of acids and alkalis used in such chemical treatment include phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium sulfate, and other soda salt aqueous solutions. Method using an aqueous solution of silicate such as sodium phosphate, sodium metasilicate, sodium disilicate silicate, sodium trisilicate, sodium monophosphate, sodium triphosphate, sodium diphosphate, sodium tripolyphosphate, pyrophosphoric acid There is a method using a phosphate aqueous solution such as sodium or sodium hexametaphosphate. The treatment conditions are appropriately selected from a concentration of 0.01% to 50% by weight, a temperature of 20 ° C. to 90 ° C., and a time of 5 seconds to 5 minutes. The etching amount is appropriately selected according to the material of aluminum and the required quality. Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 54-65607 and 55-125299 propose pretreatments for electrochemical surface roughening. JP-A-63-235500, JP-A-63-307990, JP-A-1-127388, JP-A-1-160690, JP-A-1-136789, JP-A-1-136788, JP-A-1-178497, JP-A-1-308689, Various pretreatments are included in JP-A-3-126871, JP-A-3-126900, JP-A-3-173800, etc., but the present invention is not limited to these. However, when the aluminum surface is chemically treated with an aqueous solution of acid or alkali in this way, an insoluble residue, that is, smut is generated on the surface. This smut can be removed with phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or mixtures thereof. In the present invention, the aluminum surface to be electrochemically roughened is preferably a clean surface without smut. However, this can be omitted when the electrolyte is an acid and has a desmutting action.
[0012]
The aluminum plate thus treated is subjected to electrochemical roughening, and smut removal is performed with the same components as the electrolyte during the electrolytic roughening. Electrochemical roughening is described in Japanese Patent Publication No. 48-28123 and British Patent 896563. The electrolytic graining conventionally uses an alternating current having a sinusoidal waveform, but may be performed using a special waveform as described in JP-A-52-58602. JP-A-55-158298, JP-A-56-28898, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-54-85802, JP-A-60-190392, JP-A-58-120531. JP-A-63-176187, JP-A-1-5889, JP-A-1-280590, JP-A-1-118489, JP-A-1-148592, JP-A-1-178596, JP-A-1-188315, JP-A-1-188315. -154947, JP-A-2-235794, JP-A-3-260100, JP-A-3-253600, JP-A-4-72079, JP-A-4-72098, JP-A-3-267400, and JP-A-1-141994. Methods can also be applied.
As the frequency, in addition to the above, those proposed for electrolytic capacitors can be used. For example, U.S. Pat. Nos. 4,276,129 and 4,676,879.
[0013]
As the electrolytic solution, nitric acid, hydrochloric acid, etc. In addition to the above, U.S. Pat. Nos. 4,671,859, 4,466,576, 4,661,219, 4,618,405, 4,626,628, 4,600,722, 4,566,960, 4,566958, 4,466,972, 4,436,710, The electrolyte solution described in each specification of JP-A-4184932 can also be used. Various electrolyzers and power sources have been proposed, such as U.S. Pat. No. 4,023,637, JP-A-56-123400, JP-A-57-59770, JP-A-53-12738, JP-A-53-32821. Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 53-32822, 53-32823, 55-122896, 55-132894, 62-127500, 1-52100, 1-52098 No. 1, JP-A-60-67700, JP-A-1-230800, JP-A-3-257199, and the like. Besides the above-mentioned patents, various proposals have been made. For example, Japanese Patent Laid-Open Nos. 52-58602, 52-152302, 53-12738, 53-12739, 53-32821, 53-32822, 53-32833 JP-A 53-32824, JP-A 53-32825, JP-A 54-85802, JP-A 55-122896, JP-A 55-132894, JP-B 48-28123, JP-B 51-7081, Of course, those described in JP-A-52-13338, JP-A-52-133840, JP-A-52-133844, JP-A-52-133845, JP-A-53-149135, JP-A-54-146234 are also applicable. it can.
[0014]
As described above, the smut removal is performed with the same component as the electrolytic solution. If smut removal is performed with a liquid having a component different from the electrolytic solution, a water washing step is required after the smut removal step, which not only increases the cost but also affects the electrolytic grain properties. In addition, if the components are the same, temperature / concentration management and control can be performed in the electrolytic surface-roughening process even if the system is performed in a system in which the temperature and concentration are changed. As a smut removing method, there is a method of chemically dissolving, etc., but the smut may be forcibly removed by causing the liquid to collide with the web at high speed by spraying or the like. In any case, the selection may be made in consideration of productivity, equipment cost, cell shape of electrolytic surface roughening, and the like. In any method, it is important to remove the smut amount by 5% to 70%. The amount of smut generated by electrolytic surface roughening is 0.2 g / m2 under electrolysis conditions.² ~ 5g / m² Since it changes to some extent, the amount of smut may be changed within this range to be removed with the desired quality performance.
[0015]
The aluminum plate thus obtained is treated with an alkali or an acid as necessary. Alkali treatment is carried out as in JP-A-56-51388, and desmut treatment is carried out with sulfuric acid as in JP-A-53-12739. Further, phosphoric acid treatment as in JP-A-53-115302, JP-A-60-8091, JP-A-63-176188, JP-A-1-38291, JP-A-1-127389, JP-A-1-188699, JP-A-3-177600, JP-A-3-126891, JP-A-3-191100 and the like can also be used.
[0016]
It is preferable to form an anodized film on the surface of the aluminum support thus obtained. As an electrolytic solution, when an electric current is passed with aluminum as an anode in sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid or the like, or an aqueous solution or non-aqueous solution of a combination of two or more of these, An anodized film can be formed. Since the treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, it cannot be generally specified, but in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0. .5-60A / cm² A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 15 seconds to 50 minutes are suitable. The electrolysis apparatus is introduced in JP-A-48-26638, JP-A-47-18739, JP-B-58-24517, and the like. Also, JP-A-54-81133, JP-A-57-47894, JP-A-57-51289, JP-A-57-51290, JP-A-57-54300, JP-A-57-136596, JP-A-58-107498. JP-A-60-200366, JP-A-62-136596, JP-A-63-176494, JP-A-4-17697, JP-A-4-280997, JP-A-6-207299, JP-A-5-32083, JP-A-5-32083. Of course, the methods described in Japanese Patent Nos. 1255597 and 5-195291 can also be used. Of course, liquids such as those described in JP-A-3-253596, JP-A-62-282089, JP-A-1-133794, JP-A-54-32424, and JP-A-5-42783 can also be used.
[0017]
As described above, after forming the anodic oxide film, in order to optimize the adhesion between each support and the photosensitive composition, the anodic oxide film is etched and then sealed with water vapor and hot water. In addition, there is a support sealing device that gives a photosensitive printing plate having good stability over time, good developability, and no non-image area stains (Japanese Patent Publication No. 56-12518). You may perform a film | membrane post-process with an apparatus. Further, the sealing treatment may be performed by an apparatus or method described in JP-A-4-4194, JP-A-5-20296, JP-A-5-179482, or the like.
[0018]
In addition, treatment with potassium zirconate hydrofluoride described in US Pat. No. 2,946,638, treatment with phosphomolybdate described in US Pat. No. 3,201,247, and alkyl titanate described in British Patent No. 1108559 Treatment, polyacrylic acid treatment described in German Patent No. 1091433, polyvinylphosphonic acid treatment described in German Patent No. 1134093 and British Patent No. 1230447, JP-B 44- The phosphonic acid treatment described in US Pat. No. 6409, the phytic acid treatment described in US Pat. No. 3,307,951, and Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 58-16893 and 58-18291. Treatment with a salt of a lipophilic organic polymer compound and a divalent metal, or US Pat. No. 3,860. As described in the specification of No. 26, an undercoat layer of a hydrophilic cellulose (for example, carboxymethyl cellulose) containing a water-soluble metal salt (for example, zinc acetate) is provided, or described in JP-A-59-101651. The water-soluble polymer having a sulfonic acid group that has been subjected to a hydrophilic treatment by undercoating, a phosphate described in JP-A No. 62-019494, or JP-A No. 62-033692 Water-soluble epoxy compounds described, phosphoric acid-modified starch described in JP-A-62-097892, diamine compounds described in JP-A-63-056498, amino acids described in JP-A-63-130391 Inorganic or organic acids, organic phosphonic acids containing carboxyl groups or hydroxyl groups described in JP-A-63-145092, A compound having an amino group and a phosphonic acid group described in JP-A-63-165183, a specific carboxylic acid derivative described in JP-A-2-316290, a phosphate ester described in JP-A-1-272594, A compound having one amino group and one oxygen acid group of phosphorus described in JP-A-3-261592, a phosphoric ester described in JP-A-3-215095, and a phenyl described in JP-A-5-246171 An aliphatic or aromatic phosphonic acid such as phosphonic acid, a compound containing an S atom such as thiosalicylic acid described in JP-A-1-307745, and a group of phosphorus oxyacids described in JP-A-4-282737 It is also possible to perform undercoating with a compound or the like having coloring or coloring with an acid dye described in JP-A-60-64352.
[0019]
The support of the present invention can be provided with a photosensitive layer exemplified below to form a photosensitive lithographic printing plate.
[I] When a photosensitive layer containing a novolak resin mixed with o-naphthoquinonediazide sulfonate and phenol / cresol is provided.
The o-quinonediazide compound is an o-naphthoquinonediazide compound, for example, U.S. Pat. Nos. 2,766,118, 2,767,092, 2,772,972, and 2,859,112. No. 3,102,809, 3,106,465, 3,635,709, 3,647,443, and many other publications. These can be preferably used. Of these, o-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester of aromatic hydroxy compound or o-naphthoquinone diazide carboxylic acid ester, and o-naphthoquinone diazide sulfonic acid amide or o-naphthoquinone diazide carboxylic acid amide of aromatic amino compound are particularly preferable. In particular, a condensate of pyrogallol and acetone described in US Pat. No. 3,635,709 is ester-reacted with o-naphthoquinonediazide sulfonic acid, US Pat. No. 4,028,111 A polyester having a hydroxy group at the end described in the above, and an ester reaction of o-naphthoquinone diazide sulfonic acid or o-naphthoquinone diazide carboxylic acid, described in British Patent 1,494,043 P-hydroxy like US Pat. No. 3,759,711 obtained by ester-reacting o-naphthoquinone diazide sulfonic acid or o-naphthoquinone diazide carboxylic acid to a homopolymer of styrene or a copolymer thereof with another copolymerizable monomer A copolymer of p-aminostyrene and other copolymerizable monomer as described in the specification is amide-reacted with o-naphthoquinone diazide sulfonic acid or o-naphthoquinone diazide carboxylic acid. Are better.
[0020]
These o-quinonediazide compounds can be used alone, but are preferably used by mixing with an alkali-soluble resin. Suitable alkali-soluble resins include novolac type phenol resins, specifically, phenol formaldehyde resin, o-cresol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin and the like. Further, as described in U.S. Pat. No. 4,028,111, phenol or cresol substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as t-butylphenol formaldehyde resin together with the above phenol resin. It is more preferable to use a condensate of aldehyde with formaldehyde.
Moreover, in order to form a visible image by exposure, o-naphthoquinonediazide-4-sulfonyl chloride, inorganic anion salt of p-diazodiphenylamine, trihalomethyloxadiazole compound, trihalomethyloxadiazole compound having a benzofuran ring, etc. Compounds etc. are added. On the other hand, triphenylmethane dyes such as Victoria Bull-BOH, Crystal Violet, and Oil Blue are used as the colorant for the image. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred.
Furthermore, phenols substituted with an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms as described in JP-B-57-23253 as a sensitizer, such as t-butylphenol, N-octylphenol, t-butylphenol and formaldehyde Or a novolak resin such as o-naphthoquinonediazide-4- or -5-sulfonic acid ester (for example, described in JP-A-61-242446) Can do.
Further, in order to improve developability, a nonionic surfactant as described in JP-A No. 62-251740 can be further contained.
The above composition is dissolved in a solvent that dissolves each of the above components and applied onto a support. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, lactic acid Examples include methyl, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide, dimethylformamide, water, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl alcohol, acetone, diacetone alcohol, methanol, ethanol, isopropanol, diethylene glycol dimethyl ether. Use by mixing.
The photosensitive composition comprising these components has a solid content of 0.5 to 3.0 g / m.² Provided.
[0021]
[II] A case where a photosensitive layer containing a diazo resin and a water-insoluble and lipophilic polymer compound is provided.
Examples of the diazo resin include diazo resin inorganic salts which are organic solvent-soluble reaction products of a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde or acetaldehyde with hexafluorophosphate and tetrafluoroborate, and US patents. As described in US Pat. No. 3,300,309, the condensates and sulfonic acids such as P-toluenesulfonic acid or salts thereof, phosphinic acids such as benzenephosphinic acid or salts thereof, hydroxyl group-containing compounds such as 2 , 4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid or organic acid-soluble diazo resin organic acid salt which is a reaction product thereof.
Other diazo resins that can be suitably used in the present invention include an aromatic compound having at least one organic group among a carboxyl group, a sulfonic acid group, a sulfinic acid group, an oxygen acid group and a hydroxyl group of phosphorus, and diazonium. It is a cocondensate containing a compound, preferably an aromatic diazonium compound, as a structural unit.
And as said aromatic ring, Preferably a phenyl group and a naphthyl group can be mention | raise | lifted.
Examples of the aromatic compound containing at least one of the carboxyl group, sulfonic acid group, sulfinic acid group, phosphorus oxygen acid group, and hydroxyl group include various compounds, but 4-methoxy is preferable. Benzoic acid, 3-chlorobenzoic acid, 2,4-dimethoxybenzoic acid, p-phenoxybenzoic acid, 4-anilinobenzoic acid, phenoxyacetic acid, phenylacetic acid, p-hydroxybenzoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, benzene Sulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, 1-naphthalenesulfonic acid, phenylphosphoric acid, and phenylphosphonic acid. As the aromatic diazonium compound constituting the constituent unit of the above-mentioned co-condensed diazo resin, for example, diazonium salts such as those described in JP-B-49-48001 can be used, and in particular, diphenylamine-4-diazonium salts. Is preferred.
Although diphenylamine-4-diazonium salts are derived from 4-amino-diphenylamines, such 4-amine-diphenylamines include 4-aminodiphenylamine, 4-amino-3-methoxydiphenylamine, 4-amino- 2-methoxydiphenylamine, 4′-amino-2-methoxydiphenylamine, 4′-amino-4-methoxydiphenylamine, 4-amino-3-methyldiphenylamine, 4-amino-3-ethoxydiphenylamine, 4-amino-3-β -Hydroxyethoxydiphenylamine, 4-amino-diphenylamine-2-sulfonic acid, 4-amino-diphenylamine-2-carboxylic acid, 4-amino-diphenylamine-2'-carboxylic acid, and the like are particularly preferable. -Methoxy-4-a Bruno 4-diphenylamine, 4-aminodiphenylamine.
Further, as diazo resins other than co-condensed diazo resins with aromatic compounds having acid groups, the acid groups described in JP-A-4-185559, JP-A-3-163551, and JP-A-3-253857 are contained. A diazo resin condensed with an aldehyde or an acetal compound thereof can also be preferably used.
The counter anion of the diazo resin includes an anion that stably forms a salt with the diazo resin and makes the resin soluble in an organic solvent. These include organic carboxylic acids such as decanoic acid and benzoic acid, organic phosphoric acids such as phenyl phosphoric acid, and sulfonic acids. Typical examples include fluoroalkane sulfonic acids such as methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid. , Laurylsulfonic acid, dioctylsulfosuccinic acid, dicyclohexylsulfosuccinic acid, camphorsulfonic acid, tolyloxy-3-propanesulfonic acid, nonylphenoxy-3-propanesulfonic acid, nonylphenoxy-4-butanesulfonic acid, dibutylphenoxy-3-propanesulfone Acid, diamylphenoxy-3-propanesulfonic acid, dinonylphenoxy-3-propanesulfonic acid, dibutylphenoxy-4-butanesulfonic acid, dinonylphenoxy-4-butanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluene Phosphonic acid, mesitylenesulfonic acid, p-chlorobenzenesulfonic acid, 2,5-dichlorobenzenesulfonic acid, sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, p-acetylbenzenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-chloro-5-nitrobenzenesulfonic acid, butylbenzenesulfonic acid, octylbenzenesulfonic acid, decylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, Butoxybenzenesulfonic acid, dodecyloxybenzenesulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, isopropylnaphthalenesulfonic acid, butylnaphthalenesulfonic acid, hexylnaphthalene Phosphonic acid, octylnaphthalenesulfonic acid, butoxynaphthalenesulfonic acid, dodecyloxynaphthalenesulfonic acid, dibutylnaphthalenesulfonic acid, dioctylnaphthalenesulfonic acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, tributylnaphthalenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, naphthalene −1-sulfonic acid, naphthalene-2-sulfonic acid, 1,8-dinitro-naphthalene-3,6-disulfonic acid, aliphatic and aromatic sulfonic acids such as dimethyl-5-sulfoisophthalate, 2,2 ′, Hydroxyl-containing aromatic compounds such as 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 1,2,3-trihydroxyoxybenzophenone and 2,2′4-trihydroxybenzophenone, halogens such as hexafluorophosphoric acid and tetrafluoroboric acid Louis Sulfuric acid, HClO_Four , HIO_Four Perhalogen acid such as, but not limited to. Of these, butylnaphthalenesulfonic acid, dibutylnaphthalenesulfonic acid, hexafluorophosphoric acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, and dodecylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.
[0022]
The diazo resin used in the present invention can be obtained in any desired molecular weight by variously changing the molar ratio of each monomer and the condensation conditions. However, the diazo resin is effectively used for the intended purpose of the present invention. For this, a molecular weight of about 400 to 100,000, preferably about 800 to 8,000 is suitable.
Examples of the water-insoluble and lipophilic polymer compound include copolymers having a molecular weight of usually 1 to 200,000 having monomers shown in the following (1) to (15) as structural units.
(1) Acrylamides, methacrylamides, acrylic esters, methacrylic esters and hydroxystyrenes having an aromatic hydroxyl group, such as N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide or N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide O-, m-, p-hydroxystyrene, o-, m-, p-hydroxyphenyl-acrylate or methacrylate,
(2) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate
(3) unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, itaconic acid,
(4) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N -(Substituted) alkyl acrylates such as dimethylaminoethyl acrylate,
[0023]
(5) (Substituted) alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl methacrylate,
(6) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenyl Acrylamide or methacrylamide such as acrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide,
(7) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether,
(8) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, vinyl benzoate,
(9) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, chloromethylstyrene, (10) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone,
[0024]
(11) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene,
(12) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile, etc.
(13) unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide,
(14) N (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-amino) sulfonylphenyl methacrylamide, N- (1- (3-aminosulfonyl) naphthyl ) Methacrylamides such as methacrylamide and N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide, and acrylamides having the same substituents as above, o-aminosulfonylphenyl methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate , P-aminosulfonylphenyl methacrylate, methacrylic acid esters such as 1- (3-aminosulfonylnaphthyl) methacrylate, and unsaturated sulfonamides such as acrylic acid esters having the same substituents as described above
(15) Unsaturated monomers having a crosslinkable group in the side chain, such as N- (2- (methacryloyloxy) -ethyl) -2,3-dimethylmaleimide and vinyl cinnamate. Furthermore, a monomer that can be copolymerized with the monomer may be copolymerized.
(16) Phenol resins described in US Pat. No. 3,751,257 and polyvinyl acetal resins such as polyvinyl formal resins and polyvinyl butyral resins.
(17) JP-B-54-19773, JP-A-57-904747, JP-A-60-182437, JP-A-62-258242, JP-A-62-212352, JP-A-62-2123453, 63 -113450, and polymer compounds described in JP-A-2-146604.
Moreover, you may add a polyvinyl butyral resin, a polyurethane resin, a polyamide resin, an epoxy resin, a novolak resin, a natural resin etc. to the said copolymer as needed.
[0025]
In the photosensitive composition used for the support of the present invention, a dye can be further used for the purpose of obtaining a visible image by exposure and a visible image after development.
Examples of the dye include Victoria Pure-BOH (Hodogaya Chemical Co., Ltd.), Oil Blue # 603 (Orient Chemical Co., Ltd.), Patent Pure Blue (Sumitomo Sangoku Chemical Co., Ltd.), Crystal Violet, Brilliant Green, Ethyl Violet, Tris represented by methyl violet, methyl green, erythrosine B, basic fuchsin, malachite green, oil red, m-cresol purple, rhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminaftquinone, cyano-p-diethylaminophenylacetanilide, etc. Phenylmethane, diphenylmethane, oxazine, xanthene, iminonaphthoquinone, azomethine, or anthraquinone dyes from colored to colorless or different color tone It mentioned as examples of discoloring agents changing.
On the other hand, examples of the color changing agent that changes from colorless to colored include leuco dyes and, for example, triphenylamine, diphenylamine, o-chloroaniline, 1,2,3-triphenylguanidine, naphthylamine, diaminodiphenylmethane, p, p'-bis. -Dimethylaminodiphenylamine, 1,2-dianilinoethylene, p, p ', p "-tris-dimethylaminotriphenylmethane, p, p'-bis-dimethylaminodiphenylmethylimine, p, p', p"- Primary or secondary represented by triamino-o-methyltriphenylmethane, p, p′-bis-dimethylaminodiphenyl-4-anilinonnaphthylmethane, p, p ′, p ″ -triaminotriphenylmethane Secondary arylamine dyes, particularly preferably triphenylmethane dyes Enirumetan based dye effectively used, more preferably a triphenylmethane dyes, in particular Victoria Pure Blue BOH.
[0026]
Various additives can be further added to the photosensitive composition used in the support of the present invention.
For example, alkyl ethers (for example, ethyl cellulose and methyl cellulose) for improving coating properties, fluorosurfactants, nonionic surfactants (especially preferred are fluorosurfactants), flexibility of coating films, Plasticizers for imparting abrasion (eg, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, oleic acid Tetrahydrofurfuryl, oligomers and polymers of acrylic acid or methacrylic acid, of which tricresyl phosphate is particularly preferred), and a sensitizing agent for improving the sensitization of the image area (for example, described in JP-A-55-527) Of styrene-maleic anhydride copolymer Half-esterified product by alcohol, novolak resin such as pt-butylphenol-formaldehyde resin, 50% fatty acid ester of p-hydroxystyrene, stabilizer (for example, phosphoric acid, phosphorous acid, organic acid (citric acid, Acid, dipicolinic acid, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, sulfosalicylic acid, 4-methoxy-2-hydroxybenzophenone-5-sulfonic acid, tartaric acid, etc.)}, development accelerators (eg higher alcohols, acid anhydrides, etc.) Preferably used.
[0027]
In order to provide the above-mentioned photosensitive composition on a support, a predetermined amount of a photosensitive diazo resin, a lipophilic polymer compound, and various additives as required is added to an appropriate solvent (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, dimethoxy). Ethane, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, methyl cellosolve acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, dimethylformamide, dimethylacetamide, cyclohexanone, dioxane, tetrahydrofuran, methyl lactate, ethyl lactate, ethylene dichloride, dimethyl sulfoxide , Water or a mixture thereof, etc.) to prepare a coating solution for the photosensitive composition, which is then coated on a support and dried.
Although the solvent used may be independent, it is more preferable to use a mixture of a high boiling point solvent such as methyl cellosolve, 1-methoxy-2-propanol and methyl lactate and a low boiling point solvent such as methanol and methyl ethyl ketone.
It is desirable that the solid content concentration of the photosensitive composition when applied is in the range of 1 to 50% by weight. In this case, the coating amount of the photosensitive composition is generally 0.2 to 10 g / m.² (Dry weight) is sufficient, and more preferably 0.5 to 3 g / m.² It is good to do.
[0028]
[III] When a photodimer-type photosensitive composition and a photosensitive layer including the photopolymerizable photosensitive composition are provided
Examples of the photodimerization type photosensitive composition include a polymer having a maleimide group, a cinnamyl group, a cinnamoyl group, a cinnamylidene group, a cinnamylideneacetyl group or a chalcone group in a side chain or a main chain. Examples of polymers having JP-A 52-988 (corresponding US Pat. No. 4,079,041), German Patent 2,626,769, European Patent 21,019, European Patent No. 3,552, the polymers described in pages 163 to 181 of Die Angewandte Makromolekulare Chemie 115 (1983), and JP-A 49-128991 49-128992, 49-128993, 50-5376, 50-5377, 5 No. 5379, No. 50-5378, No. 50-5380, No. 53-5298, No. 53-5299, No. 53-5300, No. 50-50107, No. 51-47940, No. 52-13907. No. 50-45076, No. 52-121700, No. 50-10884, No. 50-45087, German Patent No. 2,349,948, No. 2,616,276 Can be mentioned.
In order to make these polymers soluble or swellable in alkaline water, the pKa that dissociates from carboxylic acid / sulfonic acid, phosphoric acid, phosphonic acid, and their alkali metal salts and ammonium salts, and alkaline water is 6 Those containing ˜12 acid groups or the like in the polymer are useful. If necessary, 13 types of monomers having an acid group and a monomer having a maleimide group can be copolymerized.
[0029]
The acid value of the maleimide polymer having an acid group is preferably in the range of 30 to 300. Among polymers having such an acid value, 71 of Die Angewandte Makromolekulare Chemie 128 (1984). Copolymers of N- [2- (methacryloyloxy) ethyl] -2,3-dimethylmaleimide and methacrylic acid or acrylic acid as described on page 91 are useful. Furthermore, a multi-component copolymer can be easily synthesized according to the purpose by copolymerizing a vinyl monomer as the third component when synthesizing this copolymer. For example, the copolymer can be made flexible by using, as the third component vinyl monomer, an alkyl methacrylate or alkyl acrylate whose homopolymer has a glass transition point of room temperature or lower.
[0030]
Examples of the photo-crosslinking polymer having a cinnamyl group, a cinnamoyl group, a cinnamylidene group, a cinnamylidene acetyl group or a chalcone group in a side chain or main chain include U.S. Pat. No. 3,030,208, U.S. Pat. There are photosensitive polyesters described in the specifications of Nos. 496 and 828,455.
Examples of these photocrosslinkable polymers solubilized with alkaline water include the following.
That is, there can be mentioned a photosensitive polymer as described in JP-A-60-191244.
Further, photosensitive materials described in JP-A Nos. 62-175729, 62-175730, 63-25443, 63-218944, and 63-218945 are disclosed. May be mentioned.
Sensitizers can be used in the photosensitive layer containing these, and examples of such sensitizers include benzophenone derivatives, benzanthrone derivatives, quinones, aromatic nitro compounds, naphthothiazoline derivatives, and benzothiazoline derivatives. Thioxanthones, naphthothiazole derivatives, ketocoumarin compounds, benzothiazole derivatives, naphthofuranone compounds, bililium salts, thiabililium salts, and the like. In such a photosensitive layer, if necessary, a copolymer with at least one monomer such as chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polyacrylic acid alkyl ester, acrylic acid alkyl ester, acrylonitrile, vinyl chloride, styrene, butadiene, Binders such as polyamide, methylcellulose, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, dialkyl phthalates such as dibutyl phthalate and dihexyl phthalate, oligoethylene glycol alkyl esters Further, a plasticizer such as phosphate ester can be used. In addition, for the purpose of coloring the photosensitive layer, a dye or pigment or a pH support agent or the like added as a printing-out agent is also preferable.
[0031]
Examples of the photopolymerizable photosensitive composition include unsaturated carboxylic acids and salts thereof, esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds, amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds, and the like. It is done.
Photopolymerization initiators include vicinal polytaketaldonyl compounds, α-carbonyl compounds, acyloin ethers, aromatic acyloin compounds in which the α-position is substituted with hydrocarbons, polynuclear quinone compounds, triallylimidazole dimer / p -Combinations of aminophenyl ketones, benzothiazole compounds, trihalomethyl-s-triazine compounds, acridine and phenazine compounds, oxadiazole compounds, etc., together with these are soluble in alkaline water or swellable and capable of film formation Examples of the high molecular weight polymer include benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other addition polymerizable vinyl monomer copolymer as required, methacrylic acid / methyl methacrylate (or methacrylate ester) copolymer, Maleic anhydride copolymer with pen Examples include those obtained by adding half-esterified taerythritol triacrylate and acidic vinyl copolymers.
[0032]
[IV] Photosensitive layer for electrophotography
For example, a ZnO photosensitive layer disclosed in US Pat. No. 3,001,872 may be used. Further, a photosensitive layer using an electrophotographic photosensitive member described in JP-A-56-161550, JP-A-60-186847, JP-A-61-238063 and the like may be used.
The amount of the photosensitive layer provided on the support is 0.1 to about 7 g / m in dry weight after coating.² , Preferably 0.5-4 g / m² Range.
[0033]
In the method for producing a lithographic printing plate support according to the present invention, in order to increase the adhesion between the support and the photosensitive layer, to prevent the photosensitive layer from remaining after development, or to prevent halation, An intermediate layer may be provided as necessary.
In order to improve the adhesion, the intermediate layer is generally composed of a diazo resin, for example, a phosphate compound, an amino compound, a carboxylic acid compound, etc. adsorbed on aluminum. The intermediate layer made of a highly soluble substance so that the photosensitive layer does not remain after development is generally composed of a polymer having good solubility or a water-soluble polymer. Further, to prevent halation, the intermediate layer generally contains a dye and a UV absorber. The thickness of the intermediate layer is arbitrary, and it must be a thickness capable of performing a uniform bond forming reaction with the upper photosensitive layer when exposed. Usually about 1 to 100 mg / m dry solid² The application rate of 5-40 mg / m is good² Is particularly good.
[0034]
A mat layer composed of protrusions provided independently of each other can be provided on the coated photosensitive layer.
The purpose of the matte layer is to improve the vacuum adhesion between the negative image film and the photosensitive lithographic printing plate in contact exposure, thereby shortening the evacuation time and preventing the collapse of minute dots during exposure due to poor contact. That is.
As a coating method of the mat layer, a method of heat-sealing the powdered solid powder described in JP-A No. 55-12974, or a polymer-containing water described in JP-A No. 58-182636 is disclosed. Any method may be used, but it is desirable that the mat layer itself be dissolved in an aqueous alkaline developer substantially free of an organic solvent or removed by this.
[0035]
The photosensitive lithographic printing plate prepared as described above is subjected to image exposure, and then a resin image is formed by a process including development by a conventional method. For example, in the case of a photosensitive lithographic printing plate having the photosensitive layer [I], exposure is performed by developing with an alkaline aqueous solution as described in US Pat. No. 4,259,434 after image exposure. In the case of the photosensitive lithographic printing plate having the photosensitive layer of [II], after image exposure, it is described in US Pat. No. 4,186,006. With such a developer, the unexposed photosensitive layer is removed by development to obtain a lithographic printing plate. Further, aqueous alkalis used for developing positive type lithographic printing plates as described in JP-A-59-84241, JP-A-57-192952, and JP-A-62-24263 are also disclosed. Developer compositions can also be used.
[0036]
【Example】
EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited to a following example.
Example 1
The JlS1050 material was polished at a peripheral speed of 900 m / min and an oscillating rate of 200 times / min with a φ400 roll containing an alumina abrasive having an average particle size of 10 μm in a nylon nonwoven fabric. When the unevenness of the AL surface at that time was examined, the width of the recess 40 μm from the center line of the two-dimensional surface roughness curve taken perpendicular to the rolling direction of the AL plate, the depth 1.9 μm, and the length of the recess Was 400 μm in the rolling direction and in the horizontal direction. Mechanical graining was performed at a rotational speed of 350 rpm using the apparatus described in Japanese Patent Publication No. 50-40047. The concentration of caustic soda is fixed at 25%, the temperature is 55 ° C., and the treatment time is 6 g / m.²The etching amount was adjusted so as to be the etching amount. Then, after washing with water, removing smut with the following solution, the electric power of the anode is 12.5 g / l nitric acid at a concentration of 5 g / l AL and a temperature of 50 ° C. with a power waveform of JP-A-3-79799. 210c / dm²Then, the surface is roughened so that the second etching is performed. The concentration of caustic soda is the same as in the first etching, the temperature is 40 ° C, and the treatment time is 0.8 g / m.²The amount of etching was adjusted. Then, it was washed with water and desmutted with the following liquid, and the amount of anodized film was 2.5 g / m at a sulfuric acid of 120 g / l and a liquid temperature of 45 ° C.²A film was formed so that
[0037]
Example 2
The JlS1050 material was polished at a peripheral speed of 700 m / min and an oscillating rate of 400 times / min with a φ600 roll containing an alumina abrasive having an average particle size of 5 μm in a nylon non-woven fabric. When the surface roughness of the AL was examined, the width of the recess was 48 μm, the depth was 1.2 μm, and the length of the recess was rolled from the center line of the two-dimensional surface roughness curve taken perpendicular to the rolling direction of the AL plate. 480 μm in the horizontal direction. Mechanical sand self-standing was performed at a rotational speed of 350 rpm with the apparatus described in Japanese Patent Publication No. 50-40047. Caustic soda concentration is fixed at 25%, temperature is 55 ° C, and processing time is 6g / m²The etching amount was adjusted so as to be the etching amount. Thereafter, it is washed with water, smut is removed with the following solution, and the electric power of the anode is 210 c / dm at a power waveform of JP-A-3-79799 with a concentration of 5 g / l AL with 12.5 g / l nitric acid and a temperature of 50 ° C.²Then, the surface is roughened so that the second etching is performed. The concentration of caustic soda is the same as in the first etching, the temperature is 40 ° C., and the processing time is 0.8 g / m.²The amount of etching was adjusted. Then, it was washed with water and desmutted with the following liquid, and the amount of anodized film was 2.5 g / m at a sulfuric acid of 120 g / l and a liquid temperature of 45 ° C.²A film was formed so that
[0038]
Example 3
The JIS 1050 material was polished at a peripheral speed of 800 m / min with a φ600 roll containing an alumina abrasive having an average particle size of 39 μm in a nylon non-woven fabric. When the irregularities on the surface of the AL were examined, the width of the recess from the center line of the two-dimensional surface roughness curve taken perpendicular to the rolling direction of the AL plate was 30 μm, the depth was 2.0 μm, and the length of the recess was rolled The horizontal and horizontal directions were 350 μm. Mechanical graining was performed at a rotational speed of 350 rpm using the apparatus described in Japanese Patent Publication No. 50-40047. Caustic soda concentration is fixed at 25%, temperature is 55 ° C, and processing time is 6g / m²The etching amount was adjusted so as to be the etching amount. Thereafter, it is washed with water, smut is removed with the following solution, and the electric power of the anode is 210 c / dm at a power waveform of JP-A-3-79799 with a concentration of 5 g / l AL with 12.5 g / l nitric acid and a temperature of 50 ° C.²Then, the surface is roughened so that the second etching is performed. The concentration of caustic soda is the same as in the first etching, the temperature is 40 ° C, and the treatment time is 0.8 g / m.²The amount of etching was adjusted. Thereafter, it was washed with water and desmutted with the following liquid, sulfuric acid 120 g / l, liquid temperature 45 ° C., and the amount of anodized film was 2.5 g / m.²A film was formed so that
[0039]
Comparative Example 1
When the unevenness of the JlS1050 material was examined, the width of the recess from the center line of the two-dimensional surface roughness curve taken perpendicular to the rolling direction of the AL plate was 100 μm, the depth was 2.8 μm, and the length of the recess was rolled. It was 2000 μm in the horizontal direction. Mechanical graining was performed at a rotational speed of 350 rpm using the apparatus described in Japanese Patent Publication No. 50-40047. Caustic soda concentration is fixed at 25%, temperature is 55 ° C, and processing time is 6g / m²The etching amount was adjusted so as to be the etching amount. Thereafter, it is washed with water, smut is removed with the following solution, and the electric power of the anode is 210 c / dm at a power waveform of JP-A-3-79799 with a concentration of 5 g / l AL with 12.5 g / l nitric acid and a temperature of 50 ° C.²Then, the surface is roughened so that the second etching is performed. The concentration of caustic soda is the same as in the first etching, the temperature is 40 ° C, and the treatment time is 0.8 g / m.²The amount of etching was adjusted. Thereafter, it was washed with water and desmutted with the following solution. At 120 g / l of sulfuric acid and at a liquid temperature of 45 ° C., the amount of anodized film was 3.0 g / m.²A film was formed so that
[0040]
Comparative Example 2
JlSl050 material is a solution of phosphoric acid 50% temperature 60 ° C, using an AC power source, current density 25A / dm², Electricity 50000c / dm²Was processed. When the unevenness of the JlS1050 material was examined, the width of the recess was 40 μm and the depth was 2.3 μm from the center line of the two-dimensional surface roughness curve taken perpendicular to the rolling direction of the AL plate, and the length of the recess was rolled. The horizontal and horizontal directions were 400 μm. Mechanical graining was performed at a rotational speed of 350 rpm using the apparatus described in Japanese Patent Publication No. 50-40047. Caustic soda concentration is fixed at 25%, temperature is 55 ° C, and processing time is 6g / m²The etching amount was adjusted so as to be the etching amount. Thereafter, it is washed with water, smut is removed with the following solution, and the electric power of the anode is 210 c / dm at a power waveform of JP-A-3-79799 with a concentration of 5 g / l AL with 12.5 g / l nitric acid and a temperature of 50 ° C.²Then, the surface is roughened so that the second etching is performed. The concentration of caustic soda is the same as in the first etching, the temperature is 40 ° C, and the treatment time is 0.8 g / m.²The amount of etching was adjusted. Then, it was washed with water and desmutted with the following liquid, and the amount of anodized film was 2.5 g / m at a sulfuric acid of 120 g / l and a liquid temperature of 45 ° C.²A film was formed so that
[0041]
Comparative Example 3
The JlS1050 material was polished at a peripheral speed of 500 m / min and an oscillating rate of 10 times / min with a φ500 roll containing an alumina abrasive having an average particle size of 2 μm in a nylon non-woven fabric. When the unevenness of the JlS1050 material was examined, the width of the recess from the center line of the two-dimensional surface roughness curve taken perpendicular to the rolling direction of the aluminum plate was 800 μm, the depth was 1.9 μm, and the length of the recess was rolled. The horizontal and horizontal directions were 400 μm. Mechanical graining was performed at a rotational speed of 350 rpm using the apparatus described in Japanese Patent Publication No. 50-40047. Caustic soda concentration is fixed at 25%, temperature is 55 ° C, and processing time is 6g / m²The etching amount was adjusted so as to be the etching amount. Thereafter, it is washed with water, smut is removed with the following liquid, and the electric power of the anode is 210 c / dm at a concentration of 5 g / l AL with 12.5 g / l l nitric acid at a power waveform of JP-A-3-79799 and a temperature of 50 ° C.²Then, the surface is roughened so that the second etching is performed. The concentration of caustic soda is the same as in the first etching, the temperature is 40 ° C, and the treatment time is 0.8 g / m.²The amount of etching was adjusted. Thereafter, it was washed with water and desmutted with the following solution. At 120 g / l of sulfuric acid and at a liquid temperature of 45 ° C., the amount of anodized film was 3.0 g / m.²A film was formed so that
[0042]
Comparative Example 4
The JlS3005 material was polished at a peripheral speed of 500 m / min and an oscillating rate of 1000 times / min with a φ500 roll containing an alumina abrasive with an average particle size of 50 μm in a nylon nonwoven fabric. When the unevenness of the JlS1050 material was examined, the width of the recess was 300 μm from the center line of the two-dimensional surface roughness curve taken perpendicular to the rolling direction of the aluminum plate, the depth was 1.8 μm, and the length of the recess was rolled. It was 1000 μm in the horizontal direction. Caustic soda concentration is fixed at 25%, temperature is 55 ° C, and processing time is 6g / m²The etching amount was adjusted so as to be the etching amount. Thereafter, it is washed with water, smut is removed with the following liquid, and the electric power of the anode is 260 c / dm at a power waveform of JP-A-3-79799 with a concentration of 5 g / l AL with 12.5 g / l nitric acid and a temperature of 50 ° C.²Then, the surface is roughened so that the second etching is performed. The concentration of caustic soda is the same as in the first etching, the temperature is 40 ° C., and the treatment time is 0.1 g / m.²The amount of etching was adjusted. Thereafter, it was washed with water and desmutted with the following solution. At 120 g / l of sulfuric acid and at a liquid temperature of 45 ° C., the amount of anodized film was 3.0 g / m.²A film was formed so that
[0043]
For Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 above, the coating weight after drying the following composition on the substrate was 2.0 g / m.²Then, a photosensitive layer was provided and mat-coated.
Photosensitive layer composition
Ester compound of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyl chloride and pyrogallol, acetone resin As described in Example 1 of US Pat. No. 3,635,709 0.75 g
Cresol novolac resin 2.00g
Oil Blue 603 (Orient Chemical) ・・・ 0.04g
Ethylene dichloride ... 16g
2-Methoxyethyl acetate 12g
When printing was performed using this sample, Examples 1 to 3 were free from smudges and good prints were obtained even after printing 70,000 sheets, whereas Comparative Examples 1 to 4 were non-imaged. Staining occurred in the local recesses in the area, and when 50,000 sheets were printed, printing failure occurred in the local recesses in the image area.
[0044]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, a lithographic printing plate support having uniform quality can be obtained at a minimum production cost, and lithographic printing excellent in printing durability can be obtained by using this support. You can get a version.

Claims

The width of the concave portion from the center line of the two-dimensional surface roughness curve obtained by performing preliminary polishing using a roll containing an abrasive having an average particle size of 5 to 40 μm in a nonwoven fabric and taking it perpendicular to the rolling direction of the aluminum plate The surface is roughened by at least one of mechanical roughening, chemical etching, and electrochemical roughening after the length is within 50 μm, the depth is within 2 μm, and the length of the recess is within 500 μm in the rolling direction and the horizontal direction. A method for producing a support for a lithographic printing plate, comprising anodizing after the step.

5 to 2000 times in the preliminary polishing / min The method for producing a lithographic printing plate support according to claim 1, wherein:

The method for producing a lithographic printing plate support according to claim 1 or 2, wherein the preliminary polishing is performed on an original aluminum plate having a local recess.

The lithographic printing plate support according to any one of claims 1 to 3, wherein the width of the concave portion after the preliminary polishing is 30 to 50 µm, and the length of the concave portion is 350 to 500 µm. Manufacturing method.

The method for producing a lithographic printing plate support according to any one of claims 1 to 4, wherein at least mechanical roughening is performed as the roughening.

A support for a lithographic printing plate obtained by the production method according to claim 1.