JP3782801B2 - Planar antenna and manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、アンテナ及び製造方法に係り、特に、アンテナのスロットパターンの形成方法に関する。本発明は、例えば、50GHz以上の周波数帯域で使用される導波空間を利用した平面アンテナに好適である。   The present invention relates to an antenna and a manufacturing method, and more particularly, to a method for forming a slot pattern of an antenna. The present invention is suitable, for example, for a planar antenna using a waveguide space used in a frequency band of 50 GHz or more.

近年、高度情報化社会を背景に無線を利用した通信システムが汎用されており、とりわけ情報量の多いマイクロ波やミリ波領域を使用した通信システムの発展が著しい。このような通信システムにおいて、平面アンテナは短波長無線システムの入出力装置として好適であり、例えば、無線LANや自動車における衝突防止用レーダのように複数の分野での応用が期待されている。ところでアンテナの大きさは電(磁)波の波長の大きさにあわせて作る必要があり、波長を短波長化すると入出力装置であるアンテナの形状も小型化する必要がある。これにより、近年のアンテナではアンテナの寸法精度も微細加工技術が要求されるようになっている。   In recent years, communication systems using radio have been widely used against the background of highly information-oriented society, and the development of communication systems using microwave and millimeter wave regions with a large amount of information is particularly remarkable. In such a communication system, the planar antenna is suitable as an input / output device for a short-wavelength wireless system, and is expected to be applied in a plurality of fields, such as a wireless LAN or a radar for collision prevention in an automobile. By the way, the size of the antenna needs to be made in accordance with the wavelength of the electric (magnetic) wave, and when the wavelength is shortened, the shape of the antenna as the input / output device needs to be miniaturized. As a result, in recent antennas, the dimensional accuracy of the antenna is required to have a fine processing technique.

従来のアンテナは、例えば、公開特許昭和56年32807号公報における誘電体アンテナや、公開特許平成6年77723号公報における連続スタブ素子を有するアンテナ等を含む。   Conventional antennas include, for example, a dielectric antenna disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 32807, and an antenna having a continuous stub element disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 777723.

しかし、短波長化に適用可能なアンテナに関し従来の製造方法では高精度且つ安価で生産性に優れた平面アンテナを提供することが困難になってきた。従来ではエッチング技術を用いてアンテナの例えばスロットパターンやパッチパターンを形成していたが、微細加工がそのアンテナ特性に大きく影響を与えるため、エッチング技術では精度良く大量に生産できないという欠点を有する。特に、ミリ波における寸法精度は少なくとも波長の1%以上は必要とされ、例えば、50GHzにおいては数十μmの精度が必要とされる。また、共振スロットやパッチパターンを多数アレイ化して配置したとき、その指向性を維持するためにはさらに厳しく寸法精度をコントロールすることが求められる。このような要求に対しLSIの製造工程に適用可能な微細加工技術を適用することも考えられるが、かかる技術では安価なアンテナを製造することができない。   However, with respect to antennas applicable to shorter wavelengths, it has become difficult to provide a planar antenna with high accuracy, low cost, and excellent productivity by conventional manufacturing methods. Conventionally, antennas such as slot patterns and patch patterns have been formed using an etching technique. However, since microfabrication greatly affects the antenna characteristics, the etching technique has a drawback that it cannot be produced in large quantities with high accuracy. In particular, the dimensional accuracy in the millimeter wave is required to be at least 1% of the wavelength. For example, an accuracy of several tens of μm is required at 50 GHz. In addition, when a large number of resonance slots and patch patterns are arranged in an array, it is required to control the dimensional accuracy more strictly in order to maintain the directivity. It is conceivable to apply a microfabrication technique applicable to the LSI manufacturing process for such a request, but such a technique cannot manufacture an inexpensive antenna.

また、従来の平面アンテナは、エッチングにより例えばスロットを形成していた。つまり図14(a)パターン断面図に示すように、従来の平面アンテナ300は、平板状誘電体310の上に導体320を被覆し、導体320に被覆されていない部分(凹部)330にスロットを形成していた。ここで、図14(a)は、従来の平面アンテナの表面付近の部分概略断面図である。同図に示すように、スロット330は導体320によって規定されていた。しかし、図14(b)に示すように、凹部330に水340が溜まると導体320が腐食して、図14(c)に示すように、点線で示す導体320は実線で示す導体320Aに劣化する。点線間の矢印と実線間の矢印を比較すると理解されるように、スロット330の間隔が変化して平面アンテナ300の特性が変化する。ここで、図14(b)は、図14(a)に示すスロット330に水340が溜まった様子を示す概略断面図であり、図14(c)は、図14(b)の結果、平面アンテナ300のスロット330の幅が変化した様子を示す概略断面図である。   Further, in the conventional planar antenna, for example, a slot is formed by etching. That is, as shown in the pattern cross-sectional view of FIG. 14A, the conventional planar antenna 300 covers the conductor 320 on the flat dielectric 310 and slots in the portion (concave portion) 330 not covered by the conductor 320. Was forming. Here, FIG. 14A is a partial schematic cross-sectional view near the surface of a conventional planar antenna. As shown in the figure, the slot 330 was defined by the conductor 320. However, as shown in FIG. 14B, when the water 340 accumulates in the recess 330, the conductor 320 corrodes, and as shown in FIG. 14C, the conductor 320 indicated by the dotted line deteriorates to the conductor 320A indicated by the solid line. To do. As can be understood by comparing the arrows between the dotted lines and the arrows between the solid lines, the spacing of the slots 330 changes and the characteristics of the planar antenna 300 change. Here, FIG. 14B is a schematic cross-sectional view showing a state where water 340 is accumulated in the slot 330 shown in FIG. 14A, and FIG. 14C is a plan view as a result of FIG. 14B. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state where the width of a slot 330 of the antenna 300 is changed.

なお、公開特許昭和56年32807号公報に開示されたアンテナにおいては、同公報の図6(d)に示されているように、スロット部の周りの導体部が水平であり、水が溜まり易く、スロット部の腐食を招き易い。この結果、上述と同様にスロットの間幅が変化するという問題がある。また、公開特許平成6年77723号公報に開示されたアンテナは、共振スロットを有さずに長いスロットが一方向に延びる連続横断スタブ素子である。かかるスタブ素子では、スロットが長手方向に部分的に腐食されてスロット長さが変化しても他の部分のスロット間隔は失われないためにアンテナとしての機能は失われない。このため、スタブ素子は、ある程度の耐腐食性を有する。しかし、スロットの長手方向に対しても耐腐食性が求められるアンテナ、例えば、共振スロットを有する平面アンテナには別個の対策が必要である。   In the antenna disclosed in Japanese Patent Publication No. 32807 (Showa 56), as shown in FIG. 6D, the conductor around the slot is horizontal, and water tends to accumulate. It is easy to cause corrosion of the slot portion. As a result, there is a problem that the width between slots changes as described above. The antenna disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 777773 is a continuous transverse stub element in which a long slot extends in one direction without having a resonance slot. In such a stub element, even if the slot is partially corroded in the longitudinal direction and the slot length is changed, the slot interval of other portions is not lost, and thus the function as an antenna is not lost. For this reason, the stub element has a certain degree of corrosion resistance. However, an antenna that requires corrosion resistance in the longitudinal direction of the slot, for example, a planar antenna having a resonance slot, requires a separate measure.

そこで、このような課題を解決する新規かつ有用な平面アンテナ及び製造方法を提供することを本発明の概括的目的とする。   Accordingly, it is a general object of the present invention to provide a new and useful planar antenna and a manufacturing method for solving such problems.

より特定的には、本発明は、短波長に適用可能の平面アンテナであって、寸法精度によく安価かつ生産性に優れる平面アンテナ及び製造方法を提供することを本発明の例示的目的とする。   More specifically, the present invention has an exemplary object of the present invention to provide a planar antenna applicable to a short wavelength, a planar antenna having good dimensional accuracy, low cost, and excellent productivity. .

また、本発明は、腐食などの経時的変化に対して特性劣化の少ない平面アンテナ及び製造方法を提供することを本発明の例示的目的とする。   The present invention also provides an exemplary object of the present invention to provide a planar antenna and a manufacturing method with little characteristic deterioration against changes with time such as corrosion.

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての平面アンテナの製造方法は、誘電体を導体で被覆してなる平面アンテナにおいて前記誘電体の導体被覆面の一部に前記導体で覆われないパターンを有する平面アンテナの製造方法であって、前記パターンを有する金型を用いて前記誘電体と前記パターンとを射出成形法により一体に成形するステップを有する。かかる製造方法によれば、導体で覆われないパターンと誘電体を射出成形法により一体に成形することが可能であり、当該パターンをミクロン単位の高精度で誘電体に一体に形成することができる。かかるパターンは平面アンテナの例えばスロットやパッチとして機能可能であり、短波長化に好適な小型のアンテナを寸法精度よく製造することができる。更に、射出成形法で誘電体を作成することは一度所定のパターンを含む誘電体の金型を作成してしまえばアンテナの量産が容易であり、安価にアンテナを成形することができる。前記成形ステップにより成形された前記所定のパターンは凸型形状又は凹型形状を有することができるが、導体が被覆される領域を凸型形状又は凹型形状としてもよい。 In order to achieve the above object, a planar antenna manufacturing method according to one aspect of the present invention includes a planar antenna formed by coating a dielectric with a conductor, and a conductor covering surface of the dielectric is covered with the conductor. A method of manufacturing a planar antenna having a non-pattern, comprising the step of integrally forming the dielectric and the pattern by an injection molding method using a mold having the pattern. According to such a manufacturing method, it is possible to integrally form a pattern that is not covered with a conductor and a dielectric by an injection molding method, and the pattern can be integrally formed on the dielectric with a high accuracy in units of microns. . Such a pattern can function as, for example, a slot or a patch of a planar antenna, and a small antenna suitable for shortening the wavelength can be manufactured with high dimensional accuracy. Further, when the dielectric is formed by the injection molding method, once the dielectric mold including a predetermined pattern is prepared, the mass production of the antenna is easy, and the antenna can be formed at low cost. The predetermined pattern formed by the forming step may have a convex shape or a concave shape, but a region covered with the conductor may be a convex shape or a concave shape.

上述した製造方法は、前記成形ステップにより成形された前記誘電体に前記導体を形成するステップと、前記所定のパターンに形成された前記導体を除去するステップとを更に有する。かかるステップによれば、成形された誘電体に導体を形成し、更に誘電体に成形された導体のうちパターンに形成された導体を除去することで、かかるパターン(即ち、スロットやパッチ)を電気的なアンテナパターンとすることができる。 The manufacturing method described above further includes a step of forming the conductor on the dielectric formed by the forming step, and a step of removing the conductor formed in the predetermined pattern. According to such a step, forming a conductor in the molded dielectric, further by removing the conductor formed on the pattern of molded conductors in the dielectric, electrically such patterns (i.e., slots or patches) Antenna pattern.

また、上述した製造方法は、前記成形ステップにより成形された前記誘電体に無電解メッキ処理、蒸着法又はスパッタリング法を用い第1の導体薄膜を形成するステップと、前記形成ステップにより前記第1の導体が形成された前記誘電体に第2の導体を形成するステップとを有する。かかる製造方法によれば、成形された誘電体に導体膜を形成することができる。例示的に、前記第2の導体は電気メッキ処理により形成され、前記第2の導体を形成するステップは前記の第一の導体膜形成手法に加え、前記電気メッキ処理により形成される前記第2の導体の膜厚を制御するステップを更に有してもよい。これにより第2の導体の膜厚を制御することができ、電磁気特性としての表皮効果を満たすべく適当な厚さとなるように第2の導体を形成することができる。なお、前記パターンが凹型形状を有する場合、前記第1の導体を形成するステップは蒸着法又はスパッタリング法であり当該第1の導体を形成するステップは、前記パターンが形成された面を前記第1の導体の蒸着又はスパッタリング法による導体材料噴出方向に対し斜めに配置するステップを有してもよい。これにより、導体の除去が困難な凹型形状を有するパターンであっても、その底部に導体が膜付けされることを導体膜を形成する時点で防止することができる。また、前記第2の導体を形成するステップは、例えばアルミの蒸着又はスパッタにより形成されるが、銅や銀、ニッケル等の導体金属であっても機能する。 The manufacturing method described above, electroless plating on the dielectric molded by the molding step, a step of forming a first conductive thin film by vapor deposition or sputtering, the first by the formation step Forming a second conductor on the dielectric on which the conductor is formed. According to this manufacturing method, a conductor film can be formed on the molded dielectric. Exemplarily, the second conductor is formed by an electroplating process, and the step of forming the second conductor includes the second conductor formed by the electroplating process in addition to the first conductor film forming method. The method may further include a step of controlling the film thickness of the conductor. Thereby, the film thickness of the second conductor can be controlled, and the second conductor can be formed to have an appropriate thickness to satisfy the skin effect as electromagnetic characteristics. When the pattern has a concave shape, the step of forming the first conductor is a vapor deposition method or a sputtering method, and the step of forming the first conductor is the step of forming the first pattern on the surface on which the pattern is formed. There may be a step of arranging the conductors at an angle with respect to the direction in which the conductor material is ejected by vapor deposition or sputtering. Thereby, even if the pattern has a concave shape in which it is difficult to remove the conductor, it is possible to prevent the conductor from being attached to the bottom of the pattern at the time of forming the conductor film. The step of forming the second conductor is formed, for example, by vapor deposition or sputtering of aluminum. However, the step of forming the second conductor also functions with a conductive metal such as copper, silver, or nickel.

更に、前記所定のパターンが凹型形状に形成される場合、前記形成ステップにより形成された前記誘電体の前記所定のパターンに所定の材料を埋め込むステップと、前記所定の材料が埋め込まれた前記誘電体に前記導体を形成するステップと、前記所定の材料を前記所定のパターンより取り除くことにより前記誘電体を前記所定のパターンより剥離するステップとを有する。かかる製造方法によれば、上述と同様に、凹型形状を有する所定のパターンの内部に導体を形成しないように誘電体に導体を形成することができ、所定のパターンを電気的なパターンとして得ることができる。前記所定の材料は常温で固体であり当該常温より加温することで気化し膨張する特性を有し、前記剥離ステップは前記導体が形成された誘電体を過熱するステップを有する。かかるステップによれば、前記所定の材料が埋め込まれた且つ導体が形成された誘電体を加熱することで、前記所定の材料が膨張し所定のステップに形成された導体膜を剥離することができる。例えば、前記所定の材料は、例えば、ワセリンなどである。 Further, when the predetermined pattern is formed in a concave shape, a step of embedding a predetermined material in the predetermined pattern of the dielectric formed by said forming step, the dielectric in which the predetermined material is embedded Forming the conductor, and removing the predetermined material from the predetermined pattern to peel the dielectric from the predetermined pattern. According to this manufacturing method, as described above, the conductor can be formed on the dielectric so as not to form the conductor inside the predetermined pattern having the concave shape, and the predetermined pattern can be obtained as an electrical pattern. Can do. The predetermined material is solid at normal temperature and has a property of vaporizing and expanding when heated from the normal temperature, and the peeling step includes a step of heating the dielectric on which the conductor is formed. According to this step, by heating the dielectric in which the predetermined material is embedded and the conductor is formed, the predetermined material expands and the conductor film formed in the predetermined step can be peeled off. . For example, the predetermined material is, for example, petrolatum.

また、本発明の別の側面としての平面アンテナは、上述した製造方法により製造される。かかる平面アンテナによれば、上述の製造方法により得られ同様の作用を奏する。なお、本発明が、かかる製造方法により製造される平面アンテナとして機能することは言うまでもない。   Moreover, the planar antenna as another aspect of the present invention is manufactured by the above-described manufacturing method. According to such a planar antenna, the same effect is obtained by the above-described manufacturing method. Needless to say, the present invention functions as a planar antenna manufactured by such a manufacturing method.

本発明の別の側面としての平面アンテナは、平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する平面アンテナであって、前記誘電体は、前記所定の位置において断面凸形状を有し、前記断面凸形状を有する前記誘電体の周囲に当該誘電体とほぼ同じ高さで配置される前記導体は、前記断面凸形状を有する前記誘電体と共に断面凸形状を形成することを特徴とする。かかる平面アンテナは、共振スロット部では導体と誘電体がほぼ同じ高さであること、また、凸形状によりスロット部に水が溜まりにくいことから腐食の影響を受けにくい。この結果、かかる平面アンテナは、耐候性に優れ、長期間に亘って安定した特性を維持することができる。   A planar antenna according to another aspect of the present invention includes a flat dielectric and a conductor covering the surface of the dielectric, and a predetermined pattern at a predetermined position of the dielectric not covered with the conductor. The dielectric has a convex cross section at the predetermined position, and the dielectric having the convex cross section has a height substantially equal to the dielectric. The conductor arranged in (1) forms a convex cross section together with the dielectric having the convex cross section. In such a planar antenna, the conductor and the dielectric are almost the same height in the resonance slot portion, and water is not easily collected in the slot portion due to the convex shape, so that it is not easily affected by corrosion. As a result, such a flat antenna has excellent weather resistance and can maintain stable characteristics over a long period of time.

前記誘電体は、前記所定の位置において断面凸形状を有し、前記断面凸形状を有する前記誘電体の周囲に配置される前記導体は、前記誘電体と密着し、前記断面凸形状を有する前記誘電体と共に断面凸形状を形成してもよい。かかる平面アンテナは密着により水分の浸入を防止して安定した特性の維持を図ることができる。なお、誘電体にはプラズマ処理を施すことでより誘電体と導体との密着性が改善できる。   The dielectric has a convex cross section at the predetermined position, and the conductor disposed around the dielectric having the convex cross section is in close contact with the dielectric and has the convex cross section. A convex cross section may be formed together with the dielectric. Such a planar antenna can prevent moisture from entering due to close contact and maintain stable characteristics. Note that the adhesion between the dielectric and the conductor can be improved by subjecting the dielectric to plasma treatment.

前記誘電体は、撥水性材料から構成され、前記所定の位置において断面凸形状を有し、前記断面凸形状を有する前記誘電体の周囲に配置される前記導体は、前記断面凸形状を有する前記誘電体と共に断面凸形状を形成してもよい。かかる平面アンテナは、撥水性材料(例えば、低誘電率の樹脂)により、耐水性、耐腐食性を高めることができる。低誘電率の樹脂は、一般に分子内に親水性の高い極性基を持たないため、飽和吸水量が小さく疎水性である。また、多孔質でもないために、アルミナなどの無機材料と比較して撥水性である。具体的な材料としては、エチレン-テトラフルオロエチレン共重合体等のフッ素系樹脂、ポリスチレン等の芳香族系樹脂、ポリプロピレン、ポリプエチレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネンなどのポリオレフィン系樹脂を挙げることができる。コスト、プロセス等を考慮すると、炭化水素系樹脂が特に好ましい。なお、これらの材料には熱膨張率の調整などのため必要に応じ二酸化ケイ素などのフィラーやファイバー、シートを混入することも可能である。50GHz以上の高周波での使用を考えた場合、ジメタノナフタレン系樹脂が優れている。   The dielectric is made of a water-repellent material, has a convex cross section at the predetermined position, and the conductor disposed around the dielectric having the convex cross section has the convex convex shape. A convex cross section may be formed together with the dielectric. Such a planar antenna can be improved in water resistance and corrosion resistance by a water repellent material (for example, a low dielectric constant resin). Low dielectric constant resins generally do not have polar groups with high hydrophilicity in the molecule, and therefore have a small saturated water absorption amount and are hydrophobic. Moreover, since it is not porous, it is water repellent compared with inorganic materials, such as an alumina. Specific examples of the material include fluorine resins such as ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, aromatic resins such as polystyrene, and polyolefin resins such as polypropylene, polyethylene, polymethylpentene, and norbornene. In view of cost, process, etc., hydrocarbon resins are particularly preferable. These materials may be mixed with fillers such as silicon dioxide, fibers, and sheets as necessary for adjusting the coefficient of thermal expansion. When considering use at a high frequency of 50 GHz or more, dimethanonaphthalene resin is excellent.

前記誘電体は、吸水率が0.01%以下である材料から構成され、前記所定の位置において断面凸形状を有し、前記断面凸形状を有する前記誘電体の周囲に配置される前記導体は、前記断面凸形状を有する前記誘電体と共に断面凸形状を形成してもよい。かかる平面アンテナは、吸水率が0.01%以下である材料から構成されるので、耐水性、耐腐食性を高めることができる。   The dielectric is made of a material having a water absorption rate of 0.01% or less, has a convex cross-section at the predetermined position, and the conductor disposed around the dielectric having the convex cross-section. A convex cross section may be formed together with the dielectric having the convex cross section. Since such a planar antenna is made of a material having a water absorption rate of 0.01% or less, it can improve water resistance and corrosion resistance.

前記誘電体は、熱膨張率が7×10−5以下である材料から構成され、前記所定の位置において断面凸形状を有し、前記断面凸形状を有する前記誘電体の周囲に配置される前記導体は、前記断面凸形状を有する前記誘電体と共に断面凸形状を形成されてもよい。かかる平面アンテナは、熱膨張率が7×10−5以下である材料から構成されるので、耐水性、耐腐食性を高めることができる。 The dielectric is made of a material having a coefficient of thermal expansion of 7 × 10 −5 or less, has a convex cross section at the predetermined position, and is disposed around the dielectric having the convex cross section. The conductor may have a convex cross section along with the dielectric having the convex cross section. Since such a planar antenna is made of a material having a thermal expansion coefficient of 7 × 10 −5 or less, it can improve water resistance and corrosion resistance.

前記誘電体は、前記所定の位置において断面凸形状を有する柱形状を形成し、前記断面凸形状を有する前記誘電体の周囲に配置される前記導体は、前記断面凸形状を有する前記誘電体と共に断面凸形状を形成されてもよい。アンテナのスロット部を形成する導体部が腐食された場合でも、凸部の誘電体が柱状(断面積がほぼ一定)であればスロット形状の同一性は保たれ、長期間に亘って安定した特性を維持することができる。   The dielectric forms a column shape having a convex cross-section at the predetermined position, and the conductor disposed around the dielectric having the convex cross-section has the dielectric having the convex cross-section. A convex cross section may be formed. Even when the conductor forming the slot of the antenna is corroded, if the convex dielectric is columnar (the cross-sectional area is almost constant), the slot shape remains the same and stable over a long period of time. Can be maintained.

本発明の別の側面としての平面アンテナは、平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する平面アンテナであって、前記誘電体の前記所定の位置に前記所定のパターンを形成する多数の孤立した凸部群を配置し、アレイアンテナとして動作することを特徴とする。かかる平面アンテナによれば、アレイの形状や寸法のみならずアレイ間の位置関係も良好に維持することができる。アンテナの所定パターンが相対的に位置ずれを起こしにくく環境の変化に関わらず安定したアンテナ特性を持続することが可能である。かかる平面アンテナは、特に、50GHz以上の高周波用アレイアンテナとして好適である。   A planar antenna according to another aspect of the present invention includes a flat dielectric and a conductor covering the surface of the dielectric, and a predetermined pattern at a predetermined position of the dielectric not covered with the conductor. A planar antenna for forming a resonance slot having a plurality of isolated protrusions forming the predetermined pattern at the predetermined position of the dielectric, and operating as an array antenna . According to such a planar antenna, not only the shape and size of the array but also the positional relationship between the arrays can be maintained well. It is possible to maintain stable antenna characteristics regardless of environmental changes because the predetermined pattern of the antenna is less likely to cause a positional shift. Such a planar antenna is particularly suitable as a high frequency array antenna of 50 GHz or higher.

本発明の別の側面としての平面アンテナは、平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する平面アンテナであって、前記誘電体は第1の面と当該第1の面に対向する第2の面とを有し、前記第1の面において、前記誘電体の前記所定の位置に断面凸形状の前記所定のパターンを多数形成し、前記第2の面において、前記第1の面の前記多数の所定のパターンの中心に対応する部分を中心とする別のパターンを形成して前記導体で周囲を被覆し、前記別のパターンの先端には前記導体が被覆されずに前記誘電体が露出し、電磁波信号の出入り口を構成したことを特徴とする。また、前記別のパターンは給電整合のため断面凹又は凸形状を有することが好ましい。かかる平面アンテナは、第1及び第2のパターン群の中心を一致させることで、給電中心からの放射パターンへの距離が一定になり、各アレイアンテナ素子の放射時の相対位相差を制御することができて、安定した特性を持続することができる。また、特に、給電部のパターンが凹又は凸部であれば、これらの形状を利用した給電部のアンテナパターンへのインピーダンス整合を図ることができる。   A planar antenna according to another aspect of the present invention includes a flat dielectric and a conductor covering the surface of the dielectric, and a predetermined pattern at a predetermined position of the dielectric not covered with the conductor. The dielectric has a first surface and a second surface opposite to the first surface, wherein the dielectric has a first surface and a second surface facing the first surface. A plurality of the predetermined patterns having a convex cross section are formed at the predetermined position, and another pattern centering on a portion of the second surface corresponding to the center of the plurality of predetermined patterns on the first surface. The periphery is covered with the conductor, and the dielectric is exposed at the tip of the other pattern without being covered with the conductor, thereby forming an entrance / exit of an electromagnetic wave signal. The another pattern preferably has a concave or convex cross section for power feeding matching. In such a planar antenna, the distance from the feeding center to the radiation pattern becomes constant by matching the centers of the first and second pattern groups, and the relative phase difference during radiation of each array antenna element is controlled. And stable characteristics can be maintained. In particular, when the pattern of the power feeding unit is concave or convex, impedance matching to the antenna pattern of the power feeding unit using these shapes can be achieved.

あるいは、前記平面アンテナは、平板状の誘電体の表面に、多数の所定のパターンの凹部群を二次元的に配し、前記誘電体の表面の凹部群はそれぞれ導体被覆膜を有し、前記凹部群以外の領域には前記導体被覆膜が設けられておらず前記誘電体が露出してパッチパターンを構成し、パッチアレイアンテナとして動作してもよい。かかる平面アンテナは、導体が被覆された凹部の表面を平坦にすることができ、凹部に低吸湿性樹脂を充填して、環境に対し安定した特性を維持することができる。   Alternatively, the planar antenna two-dimensionally arranges a plurality of concave groups of a predetermined pattern on the surface of a flat dielectric, each of the concave groups on the surface of the dielectric has a conductor coating film, The conductor coating film may not be provided in a region other than the concave group, and the dielectric may be exposed to form a patch pattern, which may operate as a patch array antenna. Such a planar antenna can flatten the surface of the concave portion covered with the conductor, and can maintain a stable characteristic with respect to the environment by filling the concave portion with a low hygroscopic resin.

本発明の別の側面としての平面アンテナは、平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する平面アンテナであって、前記誘電体は、前記所定の位置において断面凸形状を有し、前記断面凸形状を有する前記誘電体の周囲に当該誘電体とほぼ同じ高さで配置される前記導体は、前記断面凸形状を有する前記誘電体と共に断面凸形状を形成し、前記導体の前記所定の位置以外の場所の厚みをd、前記誘電体を伝播する電波の波長をλgとすると、前記断面凸形状を有する前記誘電体の高さhは、d≦h≦λg/10を満足することを特徴とする。λg/10以下にすることにより、凸部より放出する電磁波の位相ずれを限定し、指向性が鋭いアンテナ特性が得られる。また、凸部は、導体皮膜の厚みdよりも高くすること、つまり、凹部ではならないことを要する。前記平面アンテナは、例えば前記電磁波の周波数が50GHzの帯域であれば電磁気的な表皮効果を充分考慮して導体皮膜の厚みdは、3μmに設定することができる。   A planar antenna according to another aspect of the present invention includes a flat dielectric and a conductor covering the surface of the dielectric, and a predetermined pattern at a predetermined position of the dielectric not covered with the conductor. The dielectric has a convex cross section at the predetermined position, and the dielectric having the convex cross section has a height substantially equal to the dielectric. The conductor arranged in the above form a convex shape in cross section with the dielectric having the convex shape in cross section, d is the thickness of a place other than the predetermined position of the conductor, and the wavelength of the radio wave propagating through the dielectric Assuming that λg, the height h of the dielectric having the convex cross section satisfies d ≦ h ≦ λg / 10. By setting it to λg / 10 or less, the phase shift of the electromagnetic wave emitted from the convex portion is limited, and antenna characteristics with sharp directivity can be obtained. Further, the convex portion needs to be higher than the thickness d of the conductor film, that is, it must not be a concave portion. In the planar antenna, for example, when the frequency of the electromagnetic wave is in a band of 50 GHz, the thickness d of the conductor film can be set to 3 μm in consideration of the electromagnetic skin effect.

本発明の別の側面としての平面アンテナは、平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する平面アンテナであって、前記誘電体は、前記所定の位置において断面凸形状を有し、前記断面凸形状を有する前記誘電体の周囲に当該誘電体とほぼ同じ高さで配置される前記導体は、前記断面凸形状を有する前記誘電体と共に断面凸形状を形成し、前記断面凸形状を有する前記誘電体の高さhは、25μm≦h≦250μmを満足することを特徴とする。かかる平面アンテナは、上述のhの範囲をミリ波領域における絶対数値で表しており、上述の平面アンテナと同様の作用を奏する。   A planar antenna according to another aspect of the present invention includes a flat dielectric and a conductor covering the surface of the dielectric, and a predetermined pattern at a predetermined position of the dielectric not covered with the conductor. The dielectric has a convex cross section at the predetermined position, and the dielectric having the convex cross section has a height substantially equal to the dielectric. The conductor arranged in the above form a convex cross section with the dielectric having the convex cross section, and the height h of the dielectric having the convex cross section satisfies 25 μm ≦ h ≦ 250 μm. Features. Such a planar antenna represents the range of h described above with an absolute value in the millimeter wave region, and has the same effect as the above-described planar antenna.

前記誘電体は第1の面と当該第1の面に対向する第2の面とを有し、前記第1の面において、前記誘電体の前記所定の位置に断面凸形状の前記所定のパターンを放射アレイパターンとして形成し、前記第2の面において、前記第1の面の前記放射アレイパターンの中心に対応する部分とのずれがλ/50である中心を有する給電パターンから構成される給電部を形成してもよい。かかる平面アンテナは、アレイを構成し、各アンテナ素子の表面凸部(共振スロット)からの放射電磁波の位相のずれは給電中心からの距離を等しくすることで抑えることにより、それら放射電磁波が合成されて形成するアンテナ全体としての放射パターンが適正なものとなり、例えば指向性の鋭いアンテナを得ることができる。   The dielectric has a first surface and a second surface facing the first surface, and the predetermined pattern having a convex cross section at the predetermined position of the dielectric on the first surface. Is formed as a radiating array pattern, and the second surface includes a feeding pattern having a center with a deviation of λ / 50 from a portion of the first surface corresponding to the center of the radiating array pattern. A part may be formed. Such planar antennas constitute an array, and the radiated electromagnetic waves from the surface convex portions (resonant slots) of each antenna element are suppressed by equalizing the distance from the feeding center to synthesize the radiated electromagnetic waves. As a result, the radiation pattern of the antenna as a whole is appropriate, and for example, an antenna with sharp directivity can be obtained.

本発明の別の側面としての平面アンテナは、平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する平面アンテナであって、前記誘電体は第1の面と当該第1の面に対向する第2の面とを有し、前記第1の面において、前記誘電体の前記所定の位置に断面凸形状の前記所定のパターンを形成し、前記第2の面において、断面凸形状の給電部を形成したことを特徴とする。かかる平面アンテナは、凹又は凸部でかつアンテナ放射部を構成する基板と一体化した給電部を設けることにより、アンテナと供給側のインピーダンス整合を行うことができ、アンテナ効率の向上を図ることができる。また、誘電体と一体であるので一体成形が可能であり、製造上効率的である。   A planar antenna according to another aspect of the present invention includes a flat dielectric and a conductor covering the surface of the dielectric, and a predetermined pattern at a predetermined position of the dielectric not covered with the conductor. The dielectric has a first surface and a second surface opposite to the first surface, wherein the dielectric has a first surface and a second surface facing the first surface. The predetermined pattern having a convex cross section is formed at the predetermined position, and a power feeding section having a convex cross section is formed on the second surface. Such a planar antenna can provide impedance matching between the antenna and the supply side by providing a feeding part that is concave or convex and integrated with the substrate that constitutes the antenna radiation part, thereby improving antenna efficiency. it can. Further, since it is integral with the dielectric, it can be integrally molded, and is efficient in manufacturing.

本発明の別の側面としての平面アンテナの製造方法は、平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロット又はパッチパターンを形成する平面アンテナの製造方法であって、前記所定のパターンが前記誘電体の断面凸形状によって規定されるように、前記共振スロット又はパッチパターンに対応する凹凸部を有する金型に前記誘電体材料を充填、固化及び成形するステップと、前記誘電体の表面を前記導体で被覆するステップと、前記所定の位置において前記誘電体と前記導体とを共に除去することによって前記共振スロット又はパッチパターンを成形するステップとを有する。かかる方法は、金型成形により全てのスロットの寸法及び各アンテナ素子や給電部との位置関係を高い精度で形成することができる。   According to another aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a planar antenna, comprising: a flat dielectric material; and a conductor covering the surface of the dielectric material; and a predetermined position of the dielectric material not covered by the conductor. A method of manufacturing a planar antenna for forming a resonant slot or patch pattern having a predetermined pattern, wherein the predetermined pattern corresponds to the resonant slot or patch pattern such that the predetermined pattern is defined by a convex cross-section of the dielectric. Filling, solidifying, and molding the dielectric material into a mold having an uneven portion, covering the surface of the dielectric with the conductor, and removing both the dielectric and the conductor at the predetermined position Forming the resonance slot or patch pattern. Such a method can form the dimensions of all slots and the positional relationship with each antenna element and the power feeding portion with high accuracy by molding.

本発明の更なる目的又はその他の特徴は添付図面を参照して説明される好ましい実施例において明らかにされるであろう。   Further objects or other features of the present invention will become apparent in the preferred embodiments described with reference to the accompanying drawings.

本発明の平面アンテナ及び製造方法は、基板上の導体を被膜しない領域である所定のパターンと基板とを射出成形法により一体に形成することができる。かかる所定のパターンは平面アンテナのスロットを形成可能であり、当該スロットを寸法精度よく形成することが可能となる。射出成形法で誘電体を作成することは一度所定のパターンを含む誘電体の金型を成形してしまえばアンテナの量産が容易であり、安価にアンテナを成形することができる。また、射出成形法はミクロン単位で所定のパターンを成形可能であり、短波長化に好適な小型のアンテナを提供することができる。 According to the planar antenna and the manufacturing method of the present invention, a predetermined pattern, which is a region not covering the conductor on the substrate, and the substrate can be integrally formed by an injection molding method. Such a predetermined pattern can form a slot of a planar antenna, and the slot can be formed with high dimensional accuracy. Creating a dielectric by an injection molding method makes it easy to mass-produce an antenna once a dielectric mold including a predetermined pattern is formed, and the antenna can be molded at low cost. Further, the injection molding method can mold a predetermined pattern in units of microns, and can provide a small antenna suitable for shortening the wavelength.

以下、添付図面を参照して、本発明の一側面としての平面アンテナ100について説明する。なお、添付図面の各図において、同一の参照番号を付した部材は同一部材を表すものとし、重複説明は省略する。ここで、図1は、平面アンテナ100の表面の概略斜視図である。図2は、平面アンテナ100の裏面の概略斜視図である。図3(a)は、平面アンテナ100の概略断面図である。図3(b)は、平面アンテナ100の部分拡大断面図である。平面アンテナ100は、平板状の誘電体からなる基板100と、基板100の表面を被覆する導体(膜)120とを有し、導体120で覆われない基板100の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する。   Hereinafter, a planar antenna 100 as one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, in each figure of an accompanying drawing, the member which attached | subjected the same reference number represents the same member, and duplication description is abbreviate | omitted. Here, FIG. 1 is a schematic perspective view of the surface of the planar antenna 100. FIG. 2 is a schematic perspective view of the back surface of the planar antenna 100. FIG. 3A is a schematic sectional view of the planar antenna 100. FIG. 3B is a partially enlarged cross-sectional view of the planar antenna 100. The planar antenna 100 includes a substrate 100 made of a flat dielectric and a conductor (film) 120 that covers the surface of the substrate 100, and a predetermined pattern is formed at a predetermined position on the substrate 100 that is not covered by the conductor 120. Having a resonant slot.

図3(a)に示すように、平面アンテナ100は基板110と、導体膜120とを有し、かかる基板110には導体膜120が表皮効果を考慮して所定の厚さに形成されている。但し、平面アンテナ100において、導体膜120は基板110の所定の領域(後述するスロットパターン114及び給電用スロットパターン116)には形成されておらず、この所定の領域をスロットとすることでアンテナとして機能する。なお、図1乃至図3において、平面アンテナ100の理解を補助するためスロットパターン114及び給電用スロットパターン116はその大きさが誇張しかつ一部省略して描かれている。   As shown in FIG. 3A, the planar antenna 100 includes a substrate 110 and a conductor film 120. The conductor film 120 is formed on the substrate 110 in a predetermined thickness in consideration of the skin effect. . However, in the planar antenna 100, the conductor film 120 is not formed in a predetermined region (a slot pattern 114 and a power feeding slot pattern 116 described later) of the substrate 110, and this predetermined region is used as a slot to serve as an antenna. Function. 1 to 3, the slot pattern 114 and the power feeding slot pattern 116 are exaggerated in size and partially omitted in order to assist understanding of the planar antenna 100.

平面アンテナ100は、例示的に、直径30乃至50mm、厚さ1mmのディスク形状を有し、小型のラジアルスロットアンテナとして実現されている。しかし、本発明の平面アンテナ100の適用はこれに限定されるものではなく、例えば、パッチアンテナ、マイクロストリップアンテナなど導体被覆面106の一部に導体を被覆しない領域を有する誘電体として構成されるいかなるアンテナに関しも適用することができ、またその大きさにおいて限定を有するものではない。平面アンテナ100は、小型であっても寸法精度よく製造することができるという長所を有する。 The planar antenna 100 exemplarily has a disk shape with a diameter of 30 to 50 mm and a thickness of 1 mm, and is realized as a small radial slot antenna. However, the application of the planar antenna 100 of the present invention is not limited to this, and is configured as a dielectric having a region where the conductor is not covered on a part of the conductor covering surface 106 such as a patch antenna or a microstrip antenna. It can be applied to any antenna and is not limited in size. The planar antenna 100 has an advantage that it can be manufactured with high dimensional accuracy even if it is small.

基板110は所定の厚みを有し、かかる厚み部分が導波路となって各スロットへの給電回路として機能する。基板110は基板本体112と、スロットパターン114と、給電用スロットパターン116とを有する。なお、本明細書において、基板110のスロットパターン114及び給電用スロットパターン116を除き導体膜120が形成される部分を導体被覆面106と定義する。図1乃至図3に示されるように、平面アンテナ100は表面(放射面)102側にスロットパターン114が、裏面(給電面)104側に給電用スロットパターン116が凸型形状としてそれぞれ基板110と一体に構成されている。   The substrate 110 has a predetermined thickness, and the thickness portion serves as a waveguide and functions as a power feeding circuit to each slot. The substrate 110 has a substrate body 112, a slot pattern 114, and a power supply slot pattern 116. In this specification, a portion where the conductor film 120 is formed except for the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 of the substrate 110 is defined as the conductor covering surface 106. As shown in FIGS. 1 to 3, the planar antenna 100 has a slot pattern 114 on the front surface (radiating surface) 102 side and a power supply slot pattern 116 on the back surface (feeding surface) 104 side as a convex shape. It is constructed integrally.

但し、後述するように給電用パターン116は凹型形状となるように構成されてもよい。基板110は図1及び図2に示すように表裏(放射面102及び給電面104)でパターン(スロットパターン114及び給電用スロットパターン116)が異なる。また、後述する製造方法で説明されるように、表裏パターン(スロットパターン114及び給電用スロットパターン116)の位置合わせが必要になる場合が通常である。よって、基板110は、表パターン成形基板(例えば、スロットパターン114を有する基板)と裏パターン成形基板(例えば、給電用スロットパターン116を有する基板)を別々に成形し、その後両基板を貼り合わせて一体化する製造工程をとることもできる。もちろん、基板110は、本実施形態のように表裏パターン(スロットパターン114及び給電用スロットパターン116)から一体形成される基板と製造できることは言うまでもない。   However, as described later, the power feeding pattern 116 may be configured to have a concave shape. As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate 110 has different patterns (slot pattern 114 and power supply slot pattern 116) on the front and back surfaces (radiation surface 102 and power supply surface 104). In addition, as described in the manufacturing method described later, it is usual that the front and back patterns (slot pattern 114 and power supply slot pattern 116) need to be aligned. Therefore, the substrate 110 is formed by separately forming a front pattern forming substrate (for example, a substrate having the slot pattern 114) and a back pattern forming substrate (for example, a substrate having the power supply slot pattern 116), and then bonding the both substrates together. An integrated manufacturing process can also be taken. Of course, it goes without saying that the substrate 110 can be manufactured as a substrate integrally formed from front and back patterns (slot pattern 114 and power supply slot pattern 116) as in this embodiment.

基板110は、導体被覆面106上に導体膜120が形成されないスロットパターン114及び給電用スロットパターン116が基板110に一体に構成されている。本実施形態においてスロットパターン114及び給電用パターン116を含む基板110は誘電体、例えば、作用帯域で低誘電板の材料であるプラスチック等の樹脂を用い射出成形法により一体に成形されている。上述したように、スロットパターン114は平面アンテナのスロットを構成するものであるが、射出成形法はサブミクロン精度でスロットパターン114及び給電用スロットパターン116を成形することができる。例えば、射出成形によって成形される例示的なものとして光ディスクが上げられるが、かかる光ディスク(例えば、DVD)では、幅0.3μm、長さ0.4μm、深さ0.04μmのピットを高精度で成形することができる。このような高精度にて成形可能な成形技術を本発明の基板110を用いることは寸法精度のよいアンテナ100のスロットとなり、短波長化に好適な小型のアンテナ100を精度良く成形することができる。また、射出成形法による誘電体形成技術を用い、スロットパターン114及び給電用スロットパターン116を含む基板110の金型を作成してしまえばアンテナ100の量産が容易であり、安価にアンテナ100を製造することができる。 In the substrate 110, a slot pattern 114 in which the conductor film 120 is not formed on the conductor covering surface 106 and a power supply slot pattern 116 are integrally formed on the substrate 110. In this embodiment, the substrate 110 including the slot pattern 114 and the power feeding pattern 116 is integrally formed by an injection molding method using a dielectric material, for example, a resin such as plastic which is a material of a low dielectric plate in the working band. As described above, the slot pattern 114 constitutes the slot of the planar antenna. However, the injection molding method can form the slot pattern 114 and the feeding slot pattern 116 with submicron accuracy. For example, an optical disk can be raised as an example formed by injection molding. However, in such an optical disk (for example, DVD), a pit having a width of 0.3 μm, a length of 0.4 μm, and a depth of 0.04 μm can be formed with high accuracy. Can be molded. Using the substrate 110 of the present invention for such a molding technique that can be molded with high accuracy results in a slot of the antenna 100 with good dimensional accuracy, and a small antenna 100 suitable for shortening the wavelength can be molded with high accuracy. . Further, if a mold for the substrate 110 including the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 is created by using a dielectric forming technique by an injection molding method, the antenna 100 can be easily mass-produced, and the antenna 100 can be manufactured at a low cost. can do.

スロットパターン114はアンテナ100のスロットとして機能する導体膜120を被覆しない領域を形成するためのパターンである。図4に示されるようにスロットパターン114は複数アレイ化して配置される。このようなアレイアンテナでは、各アレイの寸法及び形状と、アレイ間の位置関係を高精度に維持する必要があるが、上述したように射出成形により基板110と一体に形成されるスロットパターン114は寸法精度良く形成されているためアンテナ100の指向性を良好に維持することが可能となる。後述するように、スロット114が凸形状を有するので、導体被覆膜を固定し、熱膨張、収縮あるいはそれの繰り返しによる環境条件においてもアンテナの所定パターンが相対的な位置ずれを起こしにくく、共振スロット114の形状も一定に保たれることにより、寒暖や吸湿等の環境変化にかかわらず安定したアンテナ特性を維持することができる。このようなアレイアンテナは、例えば、50GHz以上の高周波用アレイアンテナとして動作することができる。誘電体基板の膨張係数を7x10−5(/℃)とすると、例えば、温度範囲として−10〜+50℃)で動作させる場合にアレイアンテナ間隔の伸縮は4.2x10−3程度になる。アレイアンテナにおける素子間隔ずれ量として計算すると50GHzにおける誘電体内波長λgは、比誘電率を2.5とした場合に3.8mmであって、温度伸縮による誘電体内波長に対する割合は0.001λgである。アンテナ素子間の寸法精度を0.01λg以内に収めることを考慮すれば約10波長分の長さを有するアレイアンテナの構成を可能にする。これは最大約78素子のアンテナ素子を構成することに相当し、アンテナの指向性と利得を自由に設計できる。 The slot pattern 114 is a pattern for forming a region that does not cover the conductor film 120 that functions as a slot of the antenna 100. As shown in FIG. 4, a plurality of slot patterns 114 are arranged in an array. In such an array antenna, it is necessary to maintain the size and shape of each array and the positional relationship between the arrays with high accuracy. However, as described above, the slot pattern 114 formed integrally with the substrate 110 by injection molding is used. Since it is formed with high dimensional accuracy, the directivity of the antenna 100 can be maintained well. As will be described later, since the slot 114 has a convex shape, the conductor coating film is fixed, and the predetermined pattern of the antenna is less likely to cause a relative positional shift even under environmental conditions due to thermal expansion, contraction, or repetition thereof. By keeping the shape of the slot 114 constant, it is possible to maintain stable antenna characteristics regardless of environmental changes such as temperature and moisture absorption. Such an array antenna can operate as an array antenna for high frequency of 50 GHz or more, for example. Assuming that the expansion coefficient of the dielectric substrate is 7 × 10 −5 (/ ° C.), for example, when operating at a temperature range of −10 to + 50 ° C., the expansion / contraction of the array antenna interval is about 4.2 × 10 −3 . When calculated as the element spacing deviation amount in the array antenna, the dielectric wavelength λg at 50 GHz is 3.8 mm when the relative dielectric constant is 2.5, and the ratio to the dielectric wavelength due to temperature expansion and contraction is 0.001 λg. . Considering that the dimensional accuracy between the antenna elements is within 0.01 λg, it is possible to construct an array antenna having a length of about 10 wavelengths. This corresponds to constructing an antenna element having a maximum of about 78 elements, and the antenna directivity and gain can be designed freely.

本実施形態においてスロットパターン114は一対のパターン114a及び114bより構成され、スロットパターン114が基板本体112上にスパイラル状に形成されるが、同心円状配置でも構成可能である。ここで、図4は、図1に実線で囲んだV字領域を示す基板110の一部拡大斜視図である。しかし、図4に示すスロットパターン114の形態は例示的であり、かかるスロットパターン114がアンテナ100のスロットとして機能するよう成形されるに足りるものである。なお、スパイラルと同心円状では特性の異なるアンテナ100を得ることができる。   In this embodiment, the slot pattern 114 is composed of a pair of patterns 114a and 114b, and the slot pattern 114 is formed in a spiral shape on the substrate body 112, but can also be configured in a concentric arrangement. Here, FIG. 4 is a partially enlarged perspective view of the substrate 110 showing the V-shaped region surrounded by a solid line in FIG. However, the form of the slot pattern 114 shown in FIG. 4 is exemplary, and the slot pattern 114 need only be shaped to function as a slot of the antenna 100. Note that the antenna 100 having different characteristics can be obtained in a spiral and concentric shape.

パターン114a及び114bはミリ波における寸法精度は少なくとも波長の1%以上は必要とされ、例えば、50GHzにおいては、数十μmの精度が必要とされる。上述したように光ディスクの成形においてパターン形状は深さの差として実現されるが、これをアンテナ100では導体の有無として表現しなければならない。例えば、スロットアンテナはパターン部分の導体を除いて開口部とする、パッチアンテナはパターン部分の導体を残してアンテナとする等である。成形による深さの差は光ディスクの場合、0.03μm乃至0.07μm程度であり非常に浅い。しかし、この深さの差で導体の有無を差別化して設けることは単純には困難である。よって本発明において、パターン114a及び114bの高さは数μm以上数十μmにして形成することに留意する必要があり、かかる高さの差で導体の有無を差別化することを可能としている。なお、パターン114a及び114bの高さは基板110に形成される導体膜120厚が厚くなればその分高さを高くする必要がある。   The patterns 114a and 114b are required to have a dimensional accuracy of at least 1% of the wavelength in the millimeter wave. For example, an accuracy of several tens of μm is required at 50 GHz. As described above, the pattern shape is realized as a difference in depth in the formation of an optical disc, but this must be expressed as the presence or absence of a conductor in the antenna 100. For example, the slot antenna is an opening except for the conductor of the pattern portion, and the patch antenna is an antenna leaving the conductor of the pattern portion. In the case of an optical disc, the difference in depth due to molding is about 0.03 μm to 0.07 μm, which is very shallow. However, it is simply difficult to differentiate the presence or absence of a conductor based on the difference in depth. Therefore, in the present invention, it is necessary to pay attention to the fact that the heights of the patterns 114a and 114b are several μm or more and several tens of μm, and the presence / absence of the conductor can be differentiated by the difference in height. Note that the heights of the patterns 114a and 114b need to be increased as the thickness of the conductive film 120 formed on the substrate 110 increases.

図3(b)に示すように、誘電体からなる基板100は、共振スロット114部において断面凸形状を有する。また、断面凸形状を有するスロット114の周囲には、スロット114とほぼ同じ高さ(面一)で導体120が配置され、導体120は、断面凸形状を有する誘電体と共に断面凸形状を形成する。上述した図14に示す従来例は、スロット330が凹部になっていたため水分340が溜まり、腐蝕により共振スロット330の寸法が変化し、長期間、一定のアンテナ特性を維持できなかった。これに対して、本実施形態の平面アンテナ100は、スロット114では導体120と誘電体がほぼ同じ高さであり、導体120が凹部を形成しないこと、また、導体120と誘電体が共に凸形状であることからスロット114に水が溜まりにくいことから腐食の影響を受けにくい。即ち、スロット114付近で導体120と誘電体が同じ高さになるように形成すれば良い。   As shown in FIG. 3B, the substrate 100 made of a dielectric has a convex cross section at the resonance slot 114. In addition, a conductor 120 is disposed around the slot 114 having a convex cross section at substantially the same height (level) as the slot 114. The conductor 120 forms a convex cross section with a dielectric having a convex cross section. . In the conventional example shown in FIG. 14 described above, since the slot 330 is a recess, moisture 340 accumulates, and the dimensions of the resonance slot 330 change due to corrosion, and it is impossible to maintain constant antenna characteristics for a long period of time. On the other hand, in the planar antenna 100 of this embodiment, the conductor 120 and the dielectric are almost the same height in the slot 114, the conductor 120 does not form a recess, and the conductor 120 and the dielectric are both convex. Therefore, it is difficult for water to collect in the slot 114, so that it is not easily affected by corrosion. That is, the conductor 120 and the dielectric may be formed at the same height near the slot 114.

図3(b)に示すように、導体120のスロット114付近以外の場所の厚みをd、誘電体を伝播する電波の波長をλgとすると、スロット114の高さhは、d≦h≦λg/10を満足することが好ましい。hをλg/10以下に設定することにより、スロット114より放出する波の位相がずれることがなく、指向性が鋭いアンテナ特性がえられる。また、凸部は、導体皮膜の厚みdよりも高くすること、つまり、凹部ではならないとしたのは上述の理由からである。このような、平面アンテナは、前記電波の周波数が50GHz以上の帯域で特に好適である。導体120の厚みdは、例えば、3μmである。また、上述のhの範囲をミリ波の範囲で絶対数値で表した場合、高さhは、25μm≦h≦250μmを満足することが好ましい。真空中の波長をλ(mm)、周波数をf(GHz)、誘電体内の波長をλg(mm)、誘電体の比誘電率をεrとすると、λ=300/f、λg=λ/(√εr)となる。アンテナに適した材料の範囲を表にすると以下の表1及び表2のようになる。 As shown in FIG. 3B, when the thickness of the conductor 120 other than the vicinity of the slot 114 is d and the wavelength of the radio wave propagating through the dielectric is λg, the height h of the slot 114 is d ≦ h ≦ λg. / 10 is preferably satisfied. By setting h to λg / 10 or less, the phase of the wave emitted from the slot 114 is not shifted, and an antenna characteristic with sharp directivity can be obtained. Further, the reason why the convex portion is made higher than the thickness d of the conductor film, that is, it should not be the concave portion is as described above. Such a planar antenna is particularly suitable in a band where the frequency of the radio wave is 50 GHz or more. The thickness d of the conductor 120 is 3 μm, for example. Moreover, when the range of h described above is expressed as an absolute value in the millimeter wave range, the height h preferably satisfies 25 μm ≦ h ≦ 250 μm. Assuming that the wavelength in vacuum is λ 0 (mm), the frequency is f (GHz), the wavelength in the dielectric is λg (mm), and the relative dielectric constant of the dielectric is εr, λ 0 = 300 / f, λg = λ 0 / (√εr). Tables 1 and 2 below show the ranges of materials suitable for the antenna.

上述のように、高さhの最小値は導体120の膜厚dよりも大きい値で決定されるが、それは導体膜厚dが動作周波数における電磁気的な表皮効果を考慮して決定される。表皮効果は導体膜120を流れる電流密度が周波数高くなると導体120の表面部分に集中して流れる現象をいい、膜厚が厚いからといって高周波における抵抗値が小さいわけではない。電流 密度が導体表面における値より1/e(0.37倍)になる厚さをスキンデプスと称し、この値は周波数の平方根に反比例して小さくなる。導体膜を銅とした場合に、12GHzにおけるスキンデプスは0.6μmで表皮抵抗は29Ω、50GHzにおいてはスキンデプス0.3μmで表皮抵抗は58Ωになる。この表皮効果の影響を考慮し、電流のほとんどが伝導する範囲としてスキンデプスの10倍程度を想定する必要がある。つまり50GHzにおいては導体膜厚dとして3.0μmを少なくとも確保して表皮抵抗を小さくしておかないと伝送損失としてアンテナの放射効率を低下させてしまう。凸部の高さは誘電体の平坦部からの高さ、つまり導体膜の底面部からの高さであって、その値は導体膜の厚さdより大きいものでなければならない。その高さは誘電体内を伝搬する波長の少なくとも1/10以下に構成されることで凸部の高さ方向に共振回路を構成することもなく、またアレイ構成にする場合のエレメント間の放射位相バラツキを少なくともλ/10以下に限定することができる利点がある。 As described above, the minimum value of the height h is determined as a value larger than the film thickness d of the conductor 120. The conductor film thickness d is determined in consideration of the electromagnetic skin effect at the operating frequency. The skin effect refers to a phenomenon in which when the current density flowing through the conductor film 120 increases in frequency, it flows in a concentrated manner on the surface portion of the conductor 120, and just because the film thickness is thick does not mean that the resistance value at high frequencies is small. The thickness at which the current density is 1 / e (0.37 times) the value at the conductor surface is called skin depth, and this value becomes smaller in inverse proportion to the square root of the frequency. When the conductor film is copper, the skin depth at 12 GHz is 0.6 μm and the skin resistance is 29Ω, and at 50 GHz, the skin depth is 0.3 μm and the skin resistance is 58Ω. Considering the influence of the skin effect, it is necessary to assume about 10 times the skin depth as a range in which most of the current is conducted. That is, at 50 GHz, unless the conductor thickness d is at least 3.0 μm and the skin resistance is not reduced, the radiation efficiency of the antenna is reduced as a transmission loss. The height of the convex portion is the height from the flat portion of the dielectric, that is, the height from the bottom portion of the conductor film, and the value must be larger than the thickness d of the conductor film. The height is configured to be at least 1/10 or less of the wavelength propagating in the dielectric, so that no resonance circuit is formed in the height direction of the convex portion, and the radiation phase between elements in the case of an array configuration. There is an advantage that the variation can be limited to at least λ / 10.

スロット114において、断面凸形状を有する誘電体の周囲に配置される導体120は、誘電体と密着している。かかる密着により、平面アンテナ100は、水分の浸入を防止して安定した特性の維持を図ることができる。なお、誘電体にはプラズマ処理を施すことがより好ましい。   In the slot 114, the conductor 120 disposed around the dielectric having a convex cross section is in close contact with the dielectric. With such close contact, the planar antenna 100 can prevent moisture from entering and maintain stable characteristics. It is more preferable to subject the dielectric to plasma treatment.

スロット114を構成する誘電体は、本実施形態では、撥水性材料から構成されている。撥水性材料(例えば、低誘電率の樹脂)により、耐水性、耐腐食性を高めることができる。低誘電率の樹脂は、一般に分子内に親水性の高い極性基を持たないため、飽和吸水量が小さく疎水性である。また、多孔質でもないために、アルミナなどの無機材料と比較して撥水性である。具体的な材料としては、エチレン-テトラフルオロエチレン共重合体等のフッ素系樹脂、ポリスチレン等の芳香族系樹脂、ポリプロピレン、ポリプエチレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネンなどのポリオレフィン系樹脂を挙げることができる。コスト、プロセス等を考慮すると、炭化水素系樹脂が特に好ましい。なお、これらの材料には熱膨張率の調整などのため必要に応じ二酸化ケイ素などのフィラーやファイバー、シートを混入することも可能である。50GHz以上の高周波での使用を考えた場合、ジメタノナフタレン系樹脂が優れている。   In the present embodiment, the dielectric constituting the slot 114 is made of a water repellent material. A water repellent material (for example, a low dielectric constant resin) can enhance water resistance and corrosion resistance. Low dielectric constant resins generally do not have polar groups with high hydrophilicity in the molecule, and therefore have a small saturated water absorption amount and are hydrophobic. Moreover, since it is not porous, it is water repellent compared with inorganic materials, such as an alumina. Specific examples of the material include fluorine resins such as ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, aromatic resins such as polystyrene, and polyolefin resins such as polypropylene, polyethylene, polymethylpentene, and norbornene. In view of cost, process, etc., hydrocarbon resins are particularly preferable. These materials may be mixed with fillers such as silicon dioxide, fibers, and sheets as necessary for adjusting the coefficient of thermal expansion. When considering use at a high frequency of 50 GHz or more, dimethanonaphthalene resin is excellent.

誘電体は、吸水率が0.01%以下である材料から構成されてもよい。これにより、耐水性、耐腐食性を高めることができる。このような材料には、例えば、ポリプロピレン、ポリプエチレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネンなどのポリオレフィン系樹脂が含まれる。   The dielectric may be made of a material having a water absorption rate of 0.01% or less. Thereby, water resistance and corrosion resistance can be improved. Such materials include, for example, polyolefin resins such as polypropylene, polyethylene, polymethylpentene, and norbornene.

前記誘電体は、熱膨張率が7×10−5以下である材料から構成されてもよい。これにより、耐水性、耐腐食性を高めることができる。このような材料には、例えば、ジメタノナフタレン系樹脂が含まれる。 The dielectric may be made of a material having a thermal expansion coefficient of 7 × 10 −5 or less. Thereby, water resistance and corrosion resistance can be improved. Such materials include, for example, dimethanonaphthalene-based resins.

図3(a)及び図3(b)に示すように、スロット114において、誘電体は、柱形状を有することが好ましい。断面積がほぼ一定の柱状であれば、図3(c)に示すように、スロット114が腐食した場合でも、スロット形状の同一性は保たれ、長期間に亘って安定した特性を維持することができるからである。   As shown in FIGS. 3A and 3B, in the slot 114, the dielectric preferably has a column shape. If the cross-sectional area is a substantially constant column shape, as shown in FIG. 3C, even if the slot 114 is corroded, the slot shape remains the same, and stable characteristics are maintained over a long period of time. Because you can.

給電用パターン116はアンテナ100の給電用スロットとして機能する導体膜120を被覆しない領域を形成するためのパターンである。給電用パターン116は、例えば、円筒形状を有し、基板112の中心に形成されている。なお、かかる給電用スロットパターン116が機能する給電用スロットはアンテナ100のスロットの中心に給電できないと放射電力パターンが偏った特性となるため、かかる給電用パターン116は上述したスロット114のパターンのスパイラル状の中心に精度良く設けられている。   The feeding pattern 116 is a pattern for forming a region that does not cover the conductive film 120 that functions as a feeding slot of the antenna 100. The power supply pattern 116 has, for example, a cylindrical shape and is formed at the center of the substrate 112. Note that the power supply slot in which the power supply slot pattern 116 functions has a characteristic that the radiated power pattern is biased if power cannot be supplied to the center of the slot of the antenna 100. Therefore, the power supply pattern 116 is a spiral of the slot 114 pattern described above. The center of the shape is provided with high accuracy.

本実施形態では、給電用パターン116は断面凸部形状を有する。凸部でかつ平板と一体化した給電部を設けることにより、アンテナと供給側のインピーダンス整合を行うことができ、アンテナ効率の向上を図ることができる。また、誘電体と一体であるので一体成形が可能であり、製造上効率的である。   In the present embodiment, the power feeding pattern 116 has a cross-sectional convex shape. By providing a feeding portion that is a convex portion and integrated with a flat plate, impedance matching between the antenna and the supply side can be performed, and the antenna efficiency can be improved. Further, since it is integral with the dielectric, it can be integrally molded, and is efficient in manufacturing.

本実施形態では、スロット114のパターンの中心と給電中心(電位的意味の中心)のずれがλ/50以内であることが好ましい。共振スロット114からの放射電磁波の位相のずれを抑えることにより、それら放射電磁波が合成されることにより形成される放射パターンが良好なものとなる。   In the present embodiment, it is preferable that the deviation between the center of the pattern of the slot 114 and the feeding center (center of potential meaning) is within λ / 50. By suppressing the phase shift of the radiated electromagnetic wave from the resonance slot 114, the radiation pattern formed by synthesizing the radiated electromagnetic wave is improved.

代替的に断面凸形状を有するパターン116は、電波の出入り口として機能してもよい。パターン116は、パターン114の中心と一致しているので熱膨張、収縮あるいはそれの繰り返しなどの環境の変化があっても表裏のパターンが相対的に位置ずれをおこしにくく、安定した特性を持続することができる。また、パターン116は凹部であってもよいが、凸部であることが好ましい。これにより、凸部を利用したインピーダンス整合を図ることができる。   Alternatively, the pattern 116 having a convex cross section may function as an entrance / exit for radio waves. Since the pattern 116 coincides with the center of the pattern 114, the front and back patterns are relatively less likely to be displaced even when there is an environmental change such as thermal expansion, contraction, or repetition thereof, and stable characteristics are maintained. be able to. The pattern 116 may be a concave portion, but is preferably a convex portion. Thereby, the impedance matching using a convex part can be aimed at.

導体膜120は基板110上に設けられる導体部分であり、基板110の導体被覆面106に表皮効果の影響を受けないようにしかるべく所定の厚さに形成されている。導体材料としては銅や銀、ニッケルが一般的であるが、導体膜120は必要に応じて導体を複層構造とすることができる。図示しないが、基板110に直接形成される導体膜120は無電解で構築する部分であり無電解メッキ処理、スパッタリング法や蒸着法により形成可能であり、クロムやニッケル、銅、銀、金などで構成される(第1の導体)。そして、次に覆う導体は電気メッキ処理による部分で導体膜120の厚みの大部分を構成する(第2の導体)。かかる導体は電流密度や電解液温度でその密度や電気特性も異なる。上述したように、導体膜120、即ち第2の導体は表皮効果を避けるべく厚みを確保するため電流値やメッキ時間の制御で導体厚みをコントロールされている。なお、この層をさらに複層膜として、電流の多く流れる誘電体との界面層は銀や銅の層として形成し誘電体から遠く位置する層はコストや耐酸性などを考慮して金やニッケル材料を使うことも可能である。   The conductor film 120 is a conductor portion provided on the substrate 110 and is formed to have a predetermined thickness so that the conductor covering surface 106 of the substrate 110 is not affected by the skin effect. Copper, silver, and nickel are generally used as the conductor material, but the conductor film 120 can have a conductor having a multilayer structure as necessary. Although not shown, the conductive film 120 formed directly on the substrate 110 is a portion that is constructed electrolessly and can be formed by electroless plating, sputtering, or vapor deposition, such as chromium, nickel, copper, silver, or gold. Configured (first conductor). Then, the conductor to be covered next constitutes a large part of the thickness of the conductor film 120 by the portion by the electroplating process (second conductor). Such conductors also have different densities and electrical characteristics depending on current density and electrolyte temperature. As described above, the conductor thickness of the conductor film 120, that is, the second conductor is controlled by controlling the current value and the plating time in order to ensure the thickness to avoid the skin effect. In addition, this layer is further formed into a multilayer film, the interface layer with the dielectric material through which a large amount of current flows is formed as a silver or copper layer, and the layer located far from the dielectric material is made of gold or nickel in consideration of cost and acid resistance. It is also possible to use materials.

平面アンテナ100は導体膜120を保護する目的で樹脂をコートしてアンテナ100の保護層とすることも可能である(ここでは図示していない)。かかる保護層は、錆びや傷からの保護を目的とし、例えばレドーム等のカバー材を使用しないでアンテナ100を設置する場合の防塵対策として必要になる。但し、コート層はアンテナ100の電気特性的に誘電体損の小さい材料が求められるが、UV硬化樹脂をコーティングする方法を適用することも可能である。   The planar antenna 100 can be coated with a resin to protect the conductor film 120 to form a protective layer for the antenna 100 (not shown here). Such a protective layer is intended to protect against rust and scratches, and is required as a dust-proof measure when the antenna 100 is installed without using a cover material such as a radome, for example. However, although the coating layer is required to be a material having a small dielectric loss in terms of the electrical characteristics of the antenna 100, a method of coating a UV curable resin can also be applied.

平面アンテナは、パターンに給電してパターンに共振を起こさせるパッチアンテナであってもよい。以下、本実施形態のパッチアンテナを図13を参照して説明する。ここで、図13(a)及び図13(b)は、それぞれ、パッチアンテナ100A及び100Bの平面図である。図13(a)に示すように、パッチアンテナ100Aは、平板状の誘電体110Aと、導体(被覆膜)120Aと、給電部140Aとを有する。また、図13(b)に示すように、パッチアンテナ100Bは、給電部140Aの代わりに給電部140Bを有する以外はパッチアンテナ100Aと同様である。パッチアンテナ100A及び100Bは、平板状の誘電体110Aの表面に、多数の所定のパターンの凹部群を二次元的に配し、誘電体110Aの表面の凹部群はそれぞれ導体被覆膜120Aを有し、凹部群以外の領域には導体被覆膜120が設けられておらず誘電体110Aが露出し、パッチパターンを構成し、アレイアンテナとして動作する。図13(c)はパッチアンテナ100Aの断面図を、図13(d)はパッチアンテナ100Bの断面図を示している。図13(c)及び図13(d)に示すように、パッチアンテナ100A及び100Bの表面は平坦にすることも可能で、水分が溜まるなどの問題は図3(b)と同様に解消している。また、図13(e)に示すように、導体厚みより凹部の深さがある場合には、低吸湿性樹脂を充填してもよい。   The planar antenna may be a patch antenna that feeds power to the pattern and causes the pattern to resonate. Hereinafter, the patch antenna of the present embodiment will be described with reference to FIG. Here, FIGS. 13A and 13B are plan views of the patch antennas 100A and 100B, respectively. As shown in FIG. 13A, the patch antenna 100A includes a flat dielectric 110A, a conductor (coating film) 120A, and a power feeding unit 140A. As shown in FIG. 13B, the patch antenna 100B is the same as the patch antenna 100A except that the patch antenna 100B includes a power feeding unit 140B instead of the power feeding unit 140A. The patch antennas 100A and 100B are two-dimensionally arranged with a plurality of concave groups having a predetermined pattern on the surface of the flat dielectric 110A, and each of the concave groups on the surface of the dielectric 110A has a conductor coating film 120A. However, the conductor coating film 120 is not provided in the region other than the concave group, and the dielectric 110A is exposed to form a patch pattern, which operates as an array antenna. FIG. 13C shows a cross-sectional view of the patch antenna 100A, and FIG. 13D shows a cross-sectional view of the patch antenna 100B. As shown in FIGS. 13 (c) and 13 (d), the surfaces of the patch antennas 100A and 100B can be flattened, and problems such as moisture accumulation can be solved as in FIG. 3 (b). Yes. Moreover, as shown in FIG.13 (e), when there exists a depth of a recessed part from conductor thickness, you may fill with a low hygroscopic resin.

次に、図5乃至図9を参照するに、上述したアンテナ100の製造方法について説明する。ここで、図5は、図1に示すアンテナ100の製造方法を示すフローチャートである。図6は、図5に示すステップ1000の詳細を示す図であり、図7は、図5に示すステップ1005の詳細を示す図である。図8は、図5に示すステップ1010の詳細を示すフローチャートである。図9(a)は導体膜120が剥離される前の状態を示した図4に対応する概略斜視図であり、(b)は(a)に示す状態から導体膜120が剥離された状態を示す図4に対応する概略斜視図である。図10(a)は図5に示す製造方法により製造されるアンテナ100の放射面102を示す概略斜視図であり、図10(b)は図9(a)に示すアンテナ100の放射面104を示す概略斜視図である。なお、図9及び図10では、導体膜120の有無を明瞭とするため例示的に導体膜120が形成されている部分を黒く塗りつぶした状態で描かれている。また、本実施形態では射出成形法によって平面アンテナ100を製造するが、本発明はプレス加工による製造方法を排除するものではない。   Next, with reference to FIGS. 5 to 9, a method for manufacturing the antenna 100 described above will be described. Here, FIG. 5 is a flowchart showing a method of manufacturing the antenna 100 shown in FIG. FIG. 6 is a diagram showing details of step 1000 shown in FIG. 5, and FIG. 7 is a diagram showing details of step 1005 shown in FIG. FIG. 8 is a flowchart showing details of step 1010 shown in FIG. FIG. 9A is a schematic perspective view corresponding to FIG. 4 showing a state before the conductor film 120 is peeled off, and FIG. 9B shows a state where the conductor film 120 is peeled from the state shown in FIG. FIG. 5 is a schematic perspective view corresponding to FIG. 4 shown. 10A is a schematic perspective view showing the radiation surface 102 of the antenna 100 manufactured by the manufacturing method shown in FIG. 5, and FIG. 10B shows the radiation surface 104 of the antenna 100 shown in FIG. It is a schematic perspective view shown. In FIGS. 9 and 10, in order to clarify the presence or absence of the conductor film 120, the portion where the conductor film 120 is formed is illustrated in a blackened state. In the present embodiment, the planar antenna 100 is manufactured by an injection molding method, but the present invention does not exclude a manufacturing method by press working.

まず、上述したように、アンテナ100の基板110を射出成形法により成形するため、スロットパターン114及び給電用パターン116を有する基板110を成形するための金型を作成する(ステップ1000)。なお、かかるステップ1000において、金型は基板110の放射面102側及び給電面104側の2つが作成される。金型の、例えば、上型には共振スロット114のパターンに対応する凹部を含む凹凸部がキャビティ側に形成される。   First, as described above, in order to form the substrate 110 of the antenna 100 by the injection molding method, a mold for forming the substrate 110 having the slot pattern 114 and the feeding pattern 116 is created (step 1000). In step 1000, two molds are created on the radiation surface 102 side and the power feeding surface 104 side of the substrate 110. An uneven portion including a recess corresponding to the pattern of the resonance slot 114 is formed on the cavity side of the upper die of the mold, for example.

ステップ1000をより詳細に説明するには、まず初めに露光レジストを塗布した原盤Mを用意する(図6(a))。原盤はガラス製の平坦な面を有するものを使用し、その上に露光レジストRを塗布する(図6(b))。次いで、このレジスト塗布した原盤に露光装置などを使用しパターンマスクmを通して露光する(図6(c))。パターンマスクmは予めCADにより設計したスロットパターン114又は給電用スロットパターン116を表したもので、シミュレーションした結果を踏まえて作成したパターンマスクmを用いることが好ましい(図6(c)には、放射面102、即ち、スロットパターン114を表したパターンマスクmが描かれている)。   In order to describe step 1000 in more detail, first, a master M coated with an exposure resist is prepared (FIG. 6A). A master having a flat surface made of glass is used, and an exposure resist R is applied thereon (FIG. 6B). Next, the resist-coated master is exposed through a pattern mask m using an exposure apparatus or the like (FIG. 6C). The pattern mask m represents the slot pattern 114 or the power supply slot pattern 116 designed in advance by CAD, and it is preferable to use the pattern mask m created based on the simulation result (FIG. 6C shows a radiation pattern). A pattern mask m representing the surface 102, that is, the slot pattern 114 is depicted).

露光後(図6(d))、原盤Mを現像してスロットパターン114又は給電用スロットパターン115に応じたパターンを浮かび出させる。より詳細には、露光された原盤Mを現像することによって露光部又は非露光部のみが現像液に溶解するので、露光部又は非露光部のレジスト層が除去され、これによりスロットパターン114又は給電用スロットパターン115に対応した(反転した)パターンが図6(e)に示すように形成される。なお、かかるパターンは実際に作成するスロットパターン114及び給電用スロットパターン116より大きめに形成されており、成形後の収縮を考慮して形状寸法を決定している。従って収縮率の設定が異なるとアンテナの物理的寸法が異なり所望の特性が得られなくなるので留意する必要がある。また、スロットパターン114及び給電用スロットパターン116部分はかかる高さの差で導体の有無を差別化して加工できるよう本発明においてスロットパターン114及び給電用スロットパターン116の高さは、アンテナ100の使用波長の1%程度、数十μm程度となるように原盤Mのパターンを形成される必要があることに留意しなければならず、この点において光ディスクの製造方法と異なる。そして、原盤を現像した後、クロム膜を形成して電気メッキを行うことで金型Sを作ることができる。なお、図6には、放射面102側の金型Sのみが図示されているが、これと同様に給電面104側の金型Sも作成される。 After the exposure (FIG. 6D), the master M is developed to reveal a pattern corresponding to the slot pattern 114 or the power supply slot pattern 115. More specifically, by developing the exposed master M, only the exposed portion or the non-exposed portion is dissolved in the developer, so that the resist layer in the exposed portion or the non-exposed portion is removed, thereby the slot pattern 114 or the power supply. A pattern corresponding to (inverted) the slot pattern 115 is formed as shown in FIG. This pattern is formed to be larger than the actually created slot pattern 114 and power supply slot pattern 116, and the shape dimension is determined in consideration of shrinkage after molding. Therefore, it should be noted that if the shrinkage rate is set differently, the physical dimensions of the antenna differ and desired characteristics cannot be obtained. Further, in the present invention, the height of the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 is determined by the use of the antenna 100 so that the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 can be processed by differentiating the presence or absence of the conductor. It should be noted that the pattern of the master M needs to be formed so as to be about 1% of the wavelength and about several tens of μm. In this respect, it differs from the optical disk manufacturing method. Then, after developing the master, it is possible to make a mold S 1 by performing electroplating to form a chromium film. Incidentally, in FIG. 6, only the mold S 1 emitting surface 102 side is shown, which as well as the feeding surface 104 side of the mold S 2 is also created.

上述したように、かかる工程で作成された金型S及びSでは、基板110の放射面102及び給電面104に対応する部分は凹型形状となっており、かかる部分は基板110上で凸型形状を有するパターンを形成することができる。なお、放射面102及び給電面104を含む基板110の金型S及びSを成形してしまえばアンテナ100の量産が容易であり、安価にアンテナ100を成形することができる。 As described above, in the molds S 1 and S 2 created in this process, the portions corresponding to the radiation surface 102 and the power feeding surface 104 of the substrate 110 have a concave shape, and such portions are convex on the substrate 110. A pattern having a mold shape can be formed. Note that if the molds S 1 and S 2 of the substrate 110 including the radiation surface 102 and the feeding surface 104 are formed, the antenna 100 can be easily mass-produced, and the antenna 100 can be formed at low cost.

次いで、図7(a)を参照するに、かかる金型S及びSを使用し基板110を成形する(ステップ1005)。基板110は、周知の射出圧縮成形装置を使用して、成形樹脂材料を成形装置に送り、例えば、約350℃まで加熱して均一に溶解し、スタンパー金型S及びS内へ高圧で注入、充填、固化することによって成形される(図7(b))。なお、図7(b)では射出圧縮成形装置の図示は省略されている。この結果、放射面102及び給電面104が一体に形成された基板110が形成される(図7(c))。かかるスロットパターン114及びスロットパターン116は突出した直方体がアレイ化して配列するパターンになる。射出成形法では、このスロットパターン114及び給電用スロットパターン116の大きさや配置を忠実に再現することが可能であり、精度の高い又アンテナ100の指向性に優れる基板110を作成することができる。 Then, referring to FIG. 7 (a), using such mold S 1 and S 2 forming a substrate 110 (step 1005). The substrate 110 is sent to the molding apparatus using a well-known injection compression molding apparatus, and is heated to about 350 ° C. to be uniformly melted, for example, at a high pressure into the stamper molds S 1 and S 2 . It is formed by pouring, filling, and solidifying (FIG. 7B). In addition, illustration of the injection compression molding apparatus is abbreviate | omitted in FIG.7 (b). As a result, the substrate 110 in which the radiation surface 102 and the power feeding surface 104 are integrally formed is formed (FIG. 7C). The slot pattern 114 and the slot pattern 116 are patterns in which protruding cuboids are arranged in an array. In the injection molding method, the size and arrangement of the slot pattern 114 and the feeding slot pattern 116 can be faithfully reproduced, and the substrate 110 with high accuracy and excellent directivity of the antenna 100 can be produced.

なお、このステップ1005で注意したいのは、放射面102側の金型と給電面104側の金型の中心位置合わせを精度良く一致させなければならないことである。スパイラル状のスリットパターン114の中心に給電できないと放射電力パターンに偏った特性ができる要因となってしまう。よって、対象性の良いスロットを有するアンテナ100を作るためには、金型S及びSの中心位置合わせが重要となる。また、本実施形態では、基板110は金型S及びSを同時に用いて放射面102及び給電面104のパターンを一体成形した。但し、上述したように金型S及びSを各々単独に使用し射出成形することで放射面102及び給電面104を有する2の基板を作成し、それら2の基板を張り合わせることで基板110を得ても良い。当然、かかる2の基板はスロットパターン114及び給電用スロットパターン116が一体成形された基板110の半分の厚さに射出成形されることが好ましい。 It should be noted that in step 1005, the center alignment of the mold on the radiation surface 102 side and the mold on the power feeding surface 104 side must be matched with high accuracy. If power cannot be supplied to the center of the spiral slit pattern 114, a characteristic biased to the radiated power pattern may occur. Therefore, in order to make the antenna 100 having a slot with good objectivity, the center alignment of the molds S 1 and S 2 is important. In the present embodiment, the substrate 110 is formed by integrally forming the patterns of the radiation surface 102 and the power feeding surface 104 using the molds S 1 and S 2 at the same time. However, the substrate by creating a second substrate having an emitting surface 102 and the feeding surface 104 by respectively used alone injection molding mold S 1 and S 2 as described above, laminating them second substrate 110 may be obtained. Of course, it is preferable that the two substrates are injection-molded to have a thickness half that of the substrate 110 on which the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 are integrally formed.

次に、ステップ1005で成形された基板110に導体膜120を形成する(ステップ1010)。図8を参照するに、第一に無電解処理、例えば蒸着法やスパッタリング法による導体膜付けや無電解メッキ処理を用いて(第1の)導体薄膜が形成される(ステップ1012)。かかる導体は、銅、クロムやニッケル、銀、金等で構成される。次に、かかる導体の上から表皮効果を避けるべく所定の厚さとなるように更に(第2の)導体を成形する。かかる形成手段は、例えば、電解メッキにより形成可能であり、所定の膜厚となるよう電流値やメッキ(通電)時間を制御することで導体膜120の表皮効果を避けるべく第2の導体が形成される(ステップ1014乃至1016)。電解メッキ方法とは、目的の金属イオンを含む水溶液中へ被処理体を浸漬し、これを還元反応が起こる電極のカソードとし、一方、適当な可溶性又は不溶性のアノード(酸化反応が起こる電極)との間に順方向直流電流を流し、被処理体の表面に目的金属の膜を電解析出する方法である。導体膜120の厚さは、通電後の経過時間、通電中の電流値などを測定することによって直接的又は間接的に知ることができる。通電後の経過時間や通電中の電流値によって導体膜120の厚さを検出する場合には予めシミュレーションによって得たデータを利用することができる。一般に、導体膜120の膜厚が少なければ少ないほど電流値は低くなることが予想される。かかるシミュレーションは、金属イオンの濃度、水溶液の温度、湿度などのパラメータを考慮して行われることになるであろう。なお、上述した導体の形成方法は当業者によって容易に理解可能であるため、ここでの詳細な説明は省略する。   Next, the conductor film 120 is formed on the substrate 110 formed in Step 1005 (Step 1010). Referring to FIG. 8, first, a (first) conductor thin film is formed by using an electroless process, for example, a conductor film deposition or an electroless plating process by vapor deposition or sputtering (step 1012). Such a conductor is made of copper, chromium, nickel, silver, gold or the like. Next, a (second) conductor is further formed on the conductor so as to have a predetermined thickness so as to avoid the skin effect. Such a forming means can be formed by, for example, electrolytic plating, and the second conductor is formed so as to avoid the skin effect of the conductor film 120 by controlling the current value and the plating (energization) time so as to obtain a predetermined film thickness. (Steps 1014 to 1016). In the electrolytic plating method, the object to be treated is immersed in an aqueous solution containing a target metal ion, and this is used as a cathode of an electrode in which a reduction reaction takes place, while an appropriate soluble or insoluble anode (an electrode in which an oxidation reaction takes place) In this method, a forward direct current is passed between the electrodes and a target metal film is electrolytically deposited on the surface of the object to be processed. The thickness of the conductor film 120 can be directly or indirectly known by measuring the elapsed time after energization, the current value during energization, and the like. When the thickness of the conductor film 120 is detected based on the elapsed time after energization or the current value during energization, data obtained by simulation in advance can be used. In general, the smaller the thickness of the conductor film 120, the lower the current value. Such a simulation will be performed in consideration of parameters such as the concentration of metal ions, the temperature of the aqueous solution, and the humidity. The conductor forming method described above can be easily understood by those skilled in the art, and thus detailed description thereof is omitted here.

ステップ1010(即ち、ステップ1012乃至ステップ1016)を経て、導体膜120はスロットパターン114及び給電用パターン116と基板本体112に一様に形成される。なお、この状態ではスロットパターン114及び給電用パターン116は導体を被膜した凹凸のパターンであって電気的なアンテナパターンは得られていない(図9(a))。そこで、この状態からスロットパターン114及び給電用スロットパターン116の導体膜120を剥離する(ステップ1015)。かかるステップ1015は、機械的な手段、例えば、研削や研磨作業を行いスロットパターン114及び給電用スロットパターン116に付着した導体膜120を剥離することができる。この際、誘電体表面の凸部を被覆する部分の導体金属と誘電体凸部の先端部を同時に除去することにより誘電体と導体120の高さをほぼ同じにすることができる。もちろん本発明は、導体120のみを剥離することを排除するものではないが、製造の容易性のために誘電体と導体120の両方の先端部を除去している。この際、上述したように、スロット径が変化しないように誘電体は柱状であることが好ましい。   Through step 1010 (that is, step 1012 to step 1016), the conductor film 120 is uniformly formed on the slot pattern 114, the power supply pattern 116, and the substrate body 112. In this state, the slot pattern 114 and the power feeding pattern 116 are uneven patterns coated with a conductor, and an electric antenna pattern is not obtained (FIG. 9A). Therefore, the conductor film 120 of the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 is peeled from this state (step 1015). In this step 1015, the conductive film 120 attached to the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 can be peeled off by mechanical means, for example, grinding or polishing. At this time, the height of the dielectric and the conductor 120 can be made substantially the same by simultaneously removing the conductor metal in the portion covering the convex portion on the dielectric surface and the tip of the dielectric convex portion. Of course, the present invention does not exclude removing only the conductor 120, but the tip portions of both the dielectric and the conductor 120 are removed for ease of manufacture. At this time, as described above, the dielectric is preferably columnar so that the slot diameter does not change.

なお、放射面102の平坦性が充分でないと研磨は偏ってしまいうまく剥離できない。そのため変形しない成形条件で成形することは重要である。また多少の片減りを許容するために無電解メッキの状態から電解メッキに移して導体膜120の膜厚を厚くした方が作業性が良い。導体膜120の膜厚とスロットパターン114及び給電用スロットパターン116の高さの関係は導体膜厚が厚くなればその分高さを高くする必要がある。従って、研磨するプロセスは電気メッキ後よりも導体膜厚の薄い無電解処理のメッキ段階で研磨したほうが効率的であり、またスロットパターン114及び給電用スロットパターン116の高さを低くすることができる。   In addition, if the flatness of the radiation surface 102 is not sufficient, the polishing is biased and cannot be peeled off well. Therefore, it is important to mold under molding conditions that do not deform. Also, in order to allow a slight reduction in the thickness, the workability is better when the thickness of the conductor film 120 is increased by shifting from electroless plating to electrolytic plating. The relationship between the film thickness of the conductor film 120 and the height of the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 needs to be increased as the conductor film thickness increases. Therefore, the polishing process is more efficient when the electroless plating is performed with a thin conductor film than after electroplating, and the height of the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 can be reduced. .

上述したステップ1000乃至1015を経て、アンテナ100は図9(b)及び図10に示すように基板100上の所定の領域(スロット及び給電用スロット)に導体膜120が被覆されないスロットアンテナとして構成される。なお、図9(b)ではスロットパターン114のみを示したが、図10(b)に示すように給電面104の給電用スロットパターン116においても導体120が除去されているものである。   Through steps 1000 to 1015 described above, the antenna 100 is configured as a slot antenna in which the conductor film 120 is not covered in predetermined regions (slots and power supply slots) on the substrate 100 as shown in FIGS. 9B and 10. The 9B shows only the slot pattern 114, the conductor 120 is also removed from the power supply slot pattern 116 on the power supply surface 104 as shown in FIG. 10B.

なお、本実施形態では、スロットパターン114の部分に導体のないスロットアンテナを例に実施例を示したが、例えば、パッチアンテナではスロットパターン114が導体膜120として構成されるだけでその他において製造方法に変わりは無い。また、基板110の側面は導体膜120で被膜されるが、かかる側面の導体を研磨で取れば開放型のアンテナになる。なお、詳細しないがアンテナの保護の目的でコーティング処理することは当然であるが、特に放射面102側に対しては電気特性との関連が発生するため慎重な対応が必要になる。   In the present embodiment, the slot antenna without a conductor in the slot pattern 114 has been described as an example. However, for example, in the case of a patch antenna, the slot pattern 114 is merely configured as the conductor film 120, and the manufacturing method is otherwise used. There is no change. Further, the side surface of the substrate 110 is coated with the conductor film 120. If the conductor on the side surface is removed by polishing, an open antenna is obtained. Although not described in detail, it is natural to perform a coating process for the purpose of protecting the antenna. However, since there is a relation with the electrical characteristics particularly on the radiation surface 102 side, careful handling is required.

本実施形態の製造方法によれば、金型成形により全てのスロット114の寸法及び位置関係を高い精度で均一化することができるので、指向性の鋭い、特性の良好なアンテナを得ることができる。また、量産性に優れるため、製造コストの削減をもたらすことができる。   According to the manufacturing method of the present embodiment, the dimensions and positional relationships of all the slots 114 can be made uniform with high precision by molding, so that an antenna with sharp directivity and good characteristics can be obtained. . Moreover, since it is excellent in mass productivity, the manufacturing cost can be reduced.

以上の説明はスロットパターン114が凸型形状になっている場合であるが、上述したようにスロットパターン114は凹型形状にしても可能である。但し、凹型形状にパターン形成しては研磨でパターン形成をすることはできないが、導体膜を形成する段階で工夫してパターン化することができる。以下、図11及び図12を参照して、かかる方法について説明する。ここで、図11及び図12は、本発明のアンテナ100の別の製造方法を示すフローチャートである。なお、上述した方法と重複するステップにおいては説明を省略する。   Although the above description is about the case where the slot pattern 114 has a convex shape, as described above, the slot pattern 114 can also have a concave shape. However, pattern formation in a concave shape cannot be performed by polishing, but it can be devised and patterned at the stage of forming a conductor film. Hereinafter, such a method will be described with reference to FIGS. 11 and 12. Here, FIG.11 and FIG.12 is a flowchart which shows another manufacturing method of the antenna 100 of this invention. In addition, description is abbreviate | omitted in the step which overlaps with the method mentioned above.

上述したように、アンテナ100の基板110を射出成形法により成形するため、ステップ1000と同様にスロットパターン114及び給電用パターン116を有する基板110を成形するための金型を作成する(ステップ2000)。なお、かかるステップにおいて、金型は基板110の放射面102及び給電面104の2つが作成される。ステップ1000とは異なり、かかる工程で作成された原盤において、基板110のスロットパターン114(及び給電用スロットパターン116)に対応する部分は凸型形状となっており、かかる部分は基板110上で凹型形状を有するパターンとして成形される。なお、後述する工程からも明らかとなるように、かかる凸状部分は基板110のスロットパターン114がある程度深くなるように形成することが好ましく、かかる深さはスロットパターン114の底部に導体を被膜しにくくする効果を奏する。   As described above, in order to form the substrate 110 of the antenna 100 by the injection molding method, a mold for forming the substrate 110 having the slot pattern 114 and the power feeding pattern 116 is created in the same manner as in Step 1000 (Step 2000). . In this step, two dies, that is, the radiation surface 102 and the power feeding surface 104 of the substrate 110 are created. Unlike the step 1000, in the master produced in such a process, a portion corresponding to the slot pattern 114 (and the power supply slot pattern 116) of the substrate 110 has a convex shape, and this portion is a concave shape on the substrate 110. It is formed as a pattern having a shape. As will be apparent from the process described later, it is preferable that the convex portion is formed so that the slot pattern 114 of the substrate 110 is deepened to some extent. The depth is such that a conductor is coated on the bottom of the slot pattern 114. Has the effect of making it difficult.

次いで、かかる金型を使用し基板110を成形する(ステップ2005)。この結果、スロットパターン114及び給電用スロットパターン116が一体に形成された基板110が形成されるが、上述したようにスロットパターン114及び給電用スロットパターン116と各々有する基板を貼り合わせる事により基板110を作成しても良い。かかるスロットパターン114(及びスロットパターン116)は直方体状に窪んだパターンになる。射出成形法では、このスロットパターン114及び給電用スロットパターン116の大きさや配置を忠実に再現することが可能である。なお、かかるステップで注意したいのは、上述の工程と同様に、放射面102側の金型と給電面104側の金型の中心位置合わせを精度良く一致させなければならないことである。スパイラル状のスリットパターン114の中心に給電できないと放射電力パターンに偏った特性ができる要因となってしまう。よって、対象性の良いスロットを有するアンテナ100を作るためには、かかる金型の中心位置合わせが重要である。   Next, the substrate 110 is formed using such a mold (step 2005). As a result, the substrate 110 in which the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 are integrally formed is formed. As described above, the substrate 110 is bonded by bonding the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 to each other. May be created. The slot pattern 114 (and the slot pattern 116) is a concave pattern in a rectangular parallelepiped shape. In the injection molding method, the size and arrangement of the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 can be faithfully reproduced. It should be noted that in this step, as in the above-described steps, the center alignment of the mold on the radiation surface 102 side and the mold on the power feeding surface 104 side must be matched with high accuracy. If power cannot be supplied to the center of the spiral slit pattern 114, a characteristic biased to the radiated power pattern may occur. Therefore, in order to make the antenna 100 having a slot with good objectivity, it is important to align the center of the mold.

次に、ステップ2005で成形された基板110に導体膜120を形成する。より詳細には、まず基板110に近い部分を無電解で導体を構築する(第1の導体)。かかる導体は、例えば蒸着法やスパッタリング法により導体を形成可能である。なお、このとき留意しなければないらないのは、スロットパターン114及び給電用スロットパターンの底面に導体が膜付けされないようにすることである。そこで、本発明の方法では、飛来する導体粒の影にスロットパターン114(及び給電用スロットパターン116)の底面が配置されるように、基板110を導体粒の飛来方向に対して斜めに配置している(ステップ2010)。そして、かかる状態において、蒸着法又はスパッタリング法により導体を噴出する(ステップ2015)。なお、このとき導体の噴出口と基板110との距離が近いと基板110の一部に膜厚のむらが発生するため、基板110と噴出口とは十分に距離をおいて成膜することが好ましい。かかる導体は、クロムやニッケル、銀、金等で構成される。次に、かかる導体の上から表皮効果を得るべく所定の厚さとなるように更に(第2の)導体を成形する(ステップ2020)。第2の導体は、例えば、アルミの蒸着又はスパッタにより形成可能である。   Next, the conductor film 120 is formed on the substrate 110 formed in Step 2005. More specifically, a conductor is first constructed electrolessly in a portion close to the substrate 110 (first conductor). Such a conductor can be formed, for example, by vapor deposition or sputtering. At this time, it should be noted that the conductor is not formed on the bottom surfaces of the slot pattern 114 and the power supply slot pattern. Therefore, in the method of the present invention, the substrate 110 is disposed obliquely with respect to the flying direction of the conductor grains so that the bottom surface of the slot pattern 114 (and the feeding slot pattern 116) is placed in the shadow of the flying conductor grains. (Step 2010). In such a state, a conductor is ejected by vapor deposition or sputtering (step 2015). At this time, if the distance between the jet port of the conductor and the substrate 110 is short, unevenness of the film thickness occurs in a part of the substrate 110. Therefore, it is preferable to form a film with a sufficient distance between the substrate 110 and the jet port. . Such a conductor is made of chromium, nickel, silver, gold or the like. Next, a (second) conductor is further formed from above the conductor so as to obtain a predetermined thickness so as to obtain a skin effect (step 2020). The second conductor can be formed by, for example, aluminum vapor deposition or sputtering.

このようなステップ2000乃至2020を経て、アンテナ100は基板100上の所定の領域(スロット及び給電用スロット)に導体膜120が被覆されないスロットアンテナとして構成される。   Through these steps 2000 to 2020, the antenna 100 is configured as a slot antenna in which the conductor film 120 is not covered in predetermined regions (slots and power supply slots) on the substrate 100.

一方、図11を参照するに、ステップ2000乃至2020の工程は、以下に示す方法によって代替されても良い。まず、上述の工程と同様、アンテナ100の基板110を射出成形法により成形するため、スロットパターン114及び給電用パターン116を有する基板110を成形するための金型を作成する(ステップ3000)。なお、かかるステップにおいて、金型は基板110の放射面102及び給電面104の2つが作成される。かかる工程で作成された原盤において、基板110のスロットパターン114(及び給電用スロットパターン116)に対応する部分は凸型形状となっており、かかる部分は基板110上で凹型形状を有するパターンとして成形されが、上述したようにスロットパターン114及び給電用スロットパターン116と各々有する基板を貼り合わせる事により基板110を作成しても良い。   On the other hand, referring to FIG. 11, steps 2000 to 2020 may be replaced by the following method. First, in the same manner as described above, in order to form the substrate 110 of the antenna 100 by injection molding, a mold for forming the substrate 110 having the slot pattern 114 and the power feeding pattern 116 is created (step 3000). In this step, two dies, that is, the radiation surface 102 and the power feeding surface 104 of the substrate 110 are created. In the master produced in this process, a portion corresponding to the slot pattern 114 (and the power supply slot pattern 116) of the substrate 110 has a convex shape, and the portion is formed as a pattern having a concave shape on the substrate 110. However, as described above, the substrate 110 may be formed by bonding the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 to each other.

次いで、かかる金型を使用し基板110を成形する(ステップ3005)。この結果、スロットパターン114及び給電用スロットパターン116が一体に形成された基板110が形成される。かかるスロットパターン114(及びスロットパターン116)は直方体状に窪んだパターンになる。射出成形法では、このスロットパターン114及び給電用スロットパターン116の大きさや配置を忠実に再現することが可能である。なお、かかるステップで注意したいのは、放射面102側の金型と給電面104側の金型の中心位置合わせを精度良く一致させなければならないことである。スパイラル状のスリットパターン114の中心に給電できないと放射電力パターンに偏った特性ができる要因となってしまう。よって、対象性の良いスロットを有するアンテナ100を作るためには、かかる金型の中心位置合わせが重要である。   Next, the substrate 110 is formed using such a mold (step 3005). As a result, the substrate 110 in which the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 are integrally formed is formed. The slot pattern 114 (and the slot pattern 116) is a concave pattern in a rectangular parallelepiped shape. In the injection molding method, the size and arrangement of the slot pattern 114 and the power supply slot pattern 116 can be faithfully reproduced. In this step, it should be noted that the center alignment of the mold on the radiation surface 102 side and the mold on the power feeding surface 104 side must be matched with high accuracy. If power cannot be supplied to the center of the spiral slit pattern 114, a characteristic biased to the radiated power pattern may occur. Therefore, in order to make the antenna 100 having a slot with good objectivity, it is important to align the center of the mold.

次に、かかる基板110のスロットパターン114にダミー部材を埋め込む(ステップ3010)。上述の方法では、基板110のスロットパターン114に導体膜が形成されることを防止すべく、基板110に対する導体の成膜方法を工夫したが、本実施形態ではかかる基板110の凹状部分にダミー部材を埋め込む工程を設けることでかかる問題を解決している。スロットパターン114の凹部に埋め込むダミー材料は、導体が成膜された後でかかるダミー材料を取り除いて結果的に凹部の導体膜120を剥離するものである。よって、ダミー材料は凹部のみに残り平坦部には残さないように処置する必要がある。また、ダミー材料は導体膜形成後に取り出す必要があり、その取り出し時に導体膜120を破裂して飛び出すようにすることが好ましい。ダミー材料としては常温では固体であり、加温により気体となって膨張する材料が良く、例えばワセリン等を利用することができる。   Next, a dummy member is embedded in the slot pattern 114 of the substrate 110 (step 3010). In the above-described method, the conductor film forming method for the substrate 110 is devised to prevent the conductor film from being formed on the slot pattern 114 of the substrate 110. However, in this embodiment, a dummy member is formed on the concave portion of the substrate 110. Such a problem is solved by providing a process of embedding. The dummy material embedded in the concave portion of the slot pattern 114 is such that after the conductor is formed, the dummy material is removed and the conductive film 120 in the concave portion is peeled off. Therefore, it is necessary to treat the dummy material so that it remains only in the recess and not in the flat portion. Moreover, it is necessary to take out the dummy material after forming the conductor film, and it is preferable that the conductor film 120 is ruptured and popped out at the time of taking out the dummy material. As the dummy material, a material that is solid at normal temperature and expands into a gas by heating is good, and for example, petroleum jelly or the like can be used.

次に、ステップ3010で成形された基板110に導体膜120を形成する(ステップ3015)。この基板110は、図8に示すステップ1012乃至1016で説明したように無電解メッキ手段、例えば蒸着法やスパッタリング法による導体膜付けや無電解メッキ処理を用いて、導体を形成する。かかる導体は、銅、クロムやニッケル、銀、金等で構成される。次に、かかる導体は表皮効果を避けるべく所定の厚さ以上となるように厚みを厚くして形成する。かかる形成手段は、例えば、電解メッキにより形成可能であり、電流値やメッキ時間を制御することで導体の厚みをコントロールすることができる。なお、かかる導体の形成方法は上述したとおりであって、ここでの詳細な説明は省略する。   Next, the conductor film 120 is formed on the substrate 110 formed in Step 3010 (Step 3015). As described in steps 1012 to 1016 shown in FIG. 8, the substrate 110 forms a conductor by using an electroless plating means, for example, a conductor film formation or an electroless plating process by vapor deposition or sputtering. Such a conductor is made of copper, chromium, nickel, silver, gold or the like. Next, such a conductor is formed to be thicker than a predetermined thickness so as to avoid the skin effect. Such forming means can be formed by, for example, electrolytic plating, and the thickness of the conductor can be controlled by controlling the current value and the plating time. In addition, since the formation method of this conductor is as above-mentioned, detailed description here is abbreviate | omitted.

そして、ダミー部材を取り除くことによりスロットパターン114上の導体膜120を剥離する(ステップ3020)。上述したように、ダミー部材にワセリン等を使用した場合、導体膜120が形成された基板110を加温することでワセリンが気化し、それにより導体膜120の内部に閉じ込められたワセリンが破裂することで導体膜120を剥離することができる。   Then, the conductor film 120 on the slot pattern 114 is removed by removing the dummy member (step 3020). As described above, when petrolatum or the like is used for the dummy member, the petrolatum is vaporized by heating the substrate 110 on which the conductive film 120 is formed, thereby rupturing the petrolatum trapped inside the conductive film 120. Thus, the conductive film 120 can be peeled off.

かかるステップ3000乃至3020を経て、アンテナ100は基板100上の所定の領域(スロット及び給電用スロット)に導体膜120が被覆されないスロットアンテナとして構成される。   Through these steps 3000 to 3020, the antenna 100 is configured as a slot antenna in which the conductor film 120 is not covered in predetermined regions (slots and feeding slots) on the substrate 100.

以上説明した製造方法は、スロットパターン114及び給電用スロット116と基板本体112とを射出成形法により一体に形成することができる。かかるスロットパターン114は平面アンテナのスロットととして機能する部分であり、射出成形法はサブミクロン単位で所定のパターンを成形可能である。よって、上述の製造方法は当該スロットを寸法精度よく形成することが可能となり、短波長化に好適な小型のアンテナを成形することができる。なお、射出成形法で基板110を作成することは一度所定のパターンを含む誘電体の金型を成形してしまえばアンテナの量産が容易であり、安価にアンテナを成形することができる。
In the manufacturing method described above, the slot pattern 114, the power supply slot 116, and the substrate body 112 can be integrally formed by an injection molding method. The slot pattern 114 is a portion that functions as a slot of a planar antenna, and the injection molding method can form a predetermined pattern in submicron units. Therefore, the above-described manufacturing method can form the slot with high dimensional accuracy, and can form a small antenna suitable for shortening the wavelength. Note that, when the substrate 110 is formed by an injection molding method, once a dielectric mold including a predetermined pattern is molded, mass production of the antenna is easy, and the antenna can be molded at low cost.

本発明のアンテナ100は、ミリ波帯(周波数30乃至300GHz、波長1乃至10mmの電波)に適した小型な平面アンテナである。特に、この帯域では、この特徴に加え酸素による吸収減衰が大きく、遠くまで到達しないなどの物理特性を有し、大容量で低コストな多様な無線システムに適用可能である。アンテナ100は、例えば、自動車衝突防止用のレーダ、短距離通信システム、無線LAN、及び家庭の屋内配線の無線化などに好適である。   The antenna 100 of the present invention is a small planar antenna suitable for the millimeter wave band (frequency 30 to 300 GHz, wavelength 1 to 10 mm). In particular, in this band, in addition to this characteristic, absorption attenuation due to oxygen is large, and it has physical characteristics such as not reaching far, and can be applied to various wireless systems with large capacity and low cost. The antenna 100 is suitable for, for example, a radar for automobile collision prevention, a short-range communication system, a wireless LAN, and a wireless indoor wiring at home.

以上、本発明の好ましい実施例を説明したが、本発明はその要旨の範囲内で様々な変形や変更が可能である。   Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention can be modified and changed in various ways within the scope of the gist thereof.

本発明の平面アンテナの一の面を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows one surface of the planar antenna of this invention. 図1に示す平面アンテナの他方の面を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the other surface of the planar antenna shown in FIG. 図1に示す平面アンテナの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the planar antenna shown in FIG. 図1に実線で囲んだV字領域を示す基板の一部拡大斜視図である。FIG. 2 is a partially enlarged perspective view of a substrate showing a V-shaped region surrounded by a solid line in FIG. 1. 図1に示すアンテナの製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the antenna shown in FIG. 図5に示すステップ1000の詳細を示す図である。It is a figure which shows the detail of step 1000 shown in FIG. 図5に示すステップ1005の詳細を示す図である。It is a figure which shows the detail of step 1005 shown in FIG. 図8に示すステップ1010の詳細を示す図である。It is a figure which shows the detail of step 1010 shown in FIG. (a)は導体膜120が剥離される前の状態を示した図4に対応する概略斜視図であり、(b)は(a)に示す状態から導体膜120が剥離された状態を示す図4に対応する概略斜視図である。(A) is a schematic perspective view corresponding to FIG. 4 which showed the state before the conductor film 120 peeled, (b) is a figure which shows the state from which the conductor film 120 was peeled from the state shown to (a). 4 is a schematic perspective view corresponding to FIG. (a)は図5に示す製造方法により製造されるアンテナの放射面を示す概略斜視図であり、(b)は(a)に示すアンテナの放射面を示す概略斜視図である。(A) is a schematic perspective view which shows the radiation surface of the antenna manufactured by the manufacturing method shown in FIG. 5, (b) is a schematic perspective view which shows the radiation surface of the antenna shown to (a). 本発明のアンテナの別の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows another manufacturing method of the antenna of this invention. 本発明のアンテナの別の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows another manufacturing method of the antenna of this invention. 本発明のパッチアンテナの平面図及び断面図である。It is the top view and sectional drawing of the patch antenna of this invention. 従来の平面アンテナの問題点を説明するための部分拡大概略断面図である。It is a partial expansion schematic sectional drawing for demonstrating the problem of the conventional planar antenna.

符号の説明Explanation of symbols

100 アンテナ
102 放射面
104 給電面
106 導体被覆面
110 基板(誘電体)
112 基板本体
114 スロットパターン
116 給電用スロットパターン
120 導体膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Antenna 102 Radiation surface 104 Feeding surface 106 Conductor coating surface 110 Substrate (dielectric)
112 Substrate body 114 Slot pattern 116 Power supply slot pattern 120 Conductor film

Claims (7)

樹脂成分を含む平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する複数の導波路を有する平面アンテナであって、
前記誘電体は吸水率0.01%以下である樹脂成分を含み、前記誘電体の前記所定の位置に前記所定のパターンを形成する多数の孤立した凸部群を二次元的に配置し、前記導体は前記誘電体と共に断面凸形状を形成し、前記導体の厚さは表皮効果を満たす厚さであって、50GHz以上の高周波用アレイアンテナとして動作することを特徴とする平面アンテナ。
A plurality of plate-like dielectrics including a resin component and a conductor covering the surface of the dielectric, and forming a resonance slot having a predetermined pattern at a predetermined position of the dielectric not covered by the conductor A planar antenna having a plurality of waveguides,
The dielectric includes a resin component having a water absorption of 0.01% or less, and a plurality of isolated convex groups that form the predetermined pattern are two-dimensionally arranged at the predetermined position of the dielectric, A planar antenna characterized in that a conductor forms a convex shape in cross section with the dielectric, and the thickness of the conductor satisfies a skin effect, and operates as an array antenna for high frequency of 50 GHz or more.
樹脂成分を含む平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する平面アンテナであって、
前記誘電体は吸水率0.01%以下である樹脂成分を含み、第1の面と当該第1の面に対向する第2の面とを有し、
前記第1の面において、前記誘電体の前記所定の位置に断面凸形状の前記所定のパターンを多数形成し、
前記第2の面において、前記第1の面の前記多数の所定のパターンの中心に対応する部分を中心とするパターンを形成して前記導体で周囲を被覆し、前記第2の面のパターンの先端には前記導体が被覆されずに前記誘電体が露出し、電磁波信号の出入り口を構成したことを特徴とする平面アンテナ。
A plane having a flat dielectric including a resin component and a conductor covering the surface of the dielectric, and forming a resonance slot having a predetermined pattern at a predetermined position of the dielectric not covered by the conductor An antenna,
The dielectric includes a resin component having a water absorption of 0.01% or less, and has a first surface and a second surface facing the first surface,
In the first surface, a plurality of the predetermined patterns having a convex cross section are formed at the predetermined positions of the dielectric,
Forming a pattern centered on a portion of the first surface corresponding to the center of the plurality of predetermined patterns on the first surface and covering the periphery with the conductor; A planar antenna characterized in that the dielectric is exposed without being covered with the conductor at the tip, thereby constituting an entrance / exit of an electromagnetic wave signal.
前記平面アンテナの内部は樹脂成分を含む誘電体のみで構成され、複数の共振スロットを有する第1の面に対向した前記第2の面に形成される給電パターンは断面凹形状または断面凸形状を有することを特徴とする請求項2記載の平面アンテナ。 The inside of the planar antenna is composed only of a dielectric containing a resin component, and the feeding pattern formed on the second surface facing the first surface having a plurality of resonance slots has a concave cross-section or a convex cross-section. The planar antenna according to claim 2, wherein the planar antenna is provided. 樹脂成分を含む平板状の誘電体の表面に、多数の所定のパターンの凹部群を設け、それぞれの凹部に導体被覆膜を有し、前記誘電体は吸水率0.01%以下である樹脂成分を含み、前記凹部群以外の領域には前記導体被覆膜を設けず前記誘電体が露出し、凹部が共振パッチを構成し、二次元的に配したアレイアンテナとして動作することを特徴とする平面アンテナ。 A resin in which a large number of recesses having a predetermined pattern are provided on the surface of a flat dielectric material containing a resin component, and each of the recesses has a conductor coating film, and the dielectric has a water absorption of 0.01% or less. The dielectric is exposed without providing the conductor coating film in a region other than the recess group, and the recess constitutes a resonant patch and operates as a two-dimensional array antenna. Planar antenna. 樹脂成分を含む平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する平面アンテナであって、
前記誘電体は吸水率0.01%以下である樹脂成分を含み、第1の面と当該第1の面に対向する第2の面とを有し、
前記第1の面において、前記誘電体の前記所定の位置に断面凸形状の前記所定のパターンを放射アレイパターンとして形成し、
前記第2の面において、前記第1の面の前記放射アレイパターンの中心に対応する部分とのずれがλ/50以内である中心を有するパターンから構成される給電部を成形技術により形成したことを特徴とする平面アンテナ。
A plane having a flat dielectric including a resin component and a conductor covering the surface of the dielectric, and forming a resonance slot having a predetermined pattern at a predetermined position of the dielectric not covered by the conductor An antenna,
The dielectric includes a resin component having a water absorption of 0.01% or less, and has a first surface and a second surface facing the first surface,
Forming the predetermined pattern having a convex cross section at the predetermined position of the dielectric as a radiation array pattern on the first surface;
In the second surface, a power feeding part constituted by a pattern having a center whose deviation from a portion corresponding to the center of the radiation array pattern of the first surface is within λ / 50 is formed by a molding technique. A planar antenna characterized by.
樹脂成分を含む平板状の誘電体と、当該誘電体の表面を被覆する導体とを有し、前記導体で覆われない前記誘電体の所定の位置に所定のパターンを有する共振スロットを形成する平面アンテナであって、
前記平面アンテナの内部は吸水率0.01%以下である樹脂成分を含む誘電体のみで構成され、複数の共振スロットを有する第1の面に対向した第2の面に形成される給電パターンを有し、
前記第1の面において、前記誘電体の前記所定の位置に断面凸形状の前記所定のパターンを形成し、
前記第2の面において、断面凸形状の前記給電パターンを形成したことを特徴とする平面アンテナ。
A plane having a flat dielectric including a resin component and a conductor covering the surface of the dielectric, and forming a resonance slot having a predetermined pattern at a predetermined position of the dielectric not covered by the conductor An antenna,
The planar antenna includes only a dielectric including a resin component having a water absorption of 0.01% or less, and a power feeding pattern formed on a second surface facing the first surface having a plurality of resonance slots. Have
Forming the predetermined pattern having a convex cross section at the predetermined position of the dielectric on the first surface;
A planar antenna, wherein the feeding pattern having a convex cross section is formed on the second surface.
前記導体は、メッキ膜であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項記載の平面アンテナ。
The planar antenna according to claim 1, wherein the conductor is a plated film.
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