JP3772562B2 - Semiconductor device - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体装置に関する。特に、MESFETのような電界効果型半導体素子やそれらの素子を有する集積回路(IC)等の半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体MMICのスイッチング素子には、高アイソレーション、低損失、小スペース化(小型集積化)が要求されている。これらの要求を実現する方法の一つとして、オーミック電極間に2本以上のショットキー電極を形成したデュアルゲートFETやマルチゲートFET等があり、スイッチング用ICに用いられている。
【0003】
図1は従来例によるデュアルゲートFET1の構造を示しており、半導体基板2の表層部に形成された活性層3の上にソース電極及びドレイン電極となるオーミック電極4a,4bを形成し、パッド部5から延出された2本のショットキー電極(ゲート電極)6を当該オーミック電極4a,4b間に配置したものである。このようなデュアルゲートFETやマルチゲートFETを採用すれば、シングルゲートFETを複数個並べた多段FETスイッチと類似のスイッチング特性が得られる。つまり、デュアルゲートFETによれば、高アイソレーションを維持しつつ、IC面積の小型化を図ることができる。また、FETを低損失化するためには、FETのオン時におけるショットキー電極間の抵抗Ronを小さくしなければならない。これには、図2に示すデュアルゲートFET7のように、ショットキー電極6とショットキー電極6との中間領域において活性層3内に低抵抗領域8を形成することにより、低損失化する方法が一般的に用いられている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、図1及び図2に示した従来のデュアルゲートFET7では、ショットキー電極間の領域(中間領域)がフロート状態(電位が固定されていない状態)にあるため、中間領域の両サイドに位置するショットキー電極6、6に印加される電圧の変動の影響を受け、中間領域の電位まで変動してしまう(この変動は、中間領域に低抵抗領域が形成されている場合に特に顕著に生じる)。このようにして中間領域の電位が、ショットキー電極6、6の電位につられて変動すると、両者間の電位差は小さくなるが、この電位差が小さくなるとFETのピンチオフ特性は劣化することになる。これは、電位差の小さい領域間には空乏層が広がりにくくなるためである。この結果、スイッチング素子のON/OFF特性が劣化するという問題が生じる。
【0005】
また、中間領域の電位がショットキー電極6、6の電位につられて変動すると、本来2つのゲート領域を用いてスイッチングを行なっているにも拘らず、2つのゲート領域とそのゲート領域に電位の近い中間領域とであたかも1つのゲート領域を構成しているかのように動作する。この結果、デュアルゲート構成とすることによって低減されるはずのCoff値を十分に低減できない事態が生じる。なお、このCoff値とは、FETがピンチオフしているときにソース・ドレイン電極間に生じる電気容量のことであり、この容量値が大きいほど、ピンチオフしているにも拘らず、ソース電極側からドレイン電極側に漏れ流れる高周波信号が多くなる(すなわち、アイソレーションが低くなる)。
【0006】
本発明は上述の技術的問題点を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、半導体基板上に形成されたオーミック電極間に2本以上のショットキー電極を備えた電界効果型の半導体装置において、それぞれのショットキー電極間の領域(中間領域)の電位を一定に保つことができるようにすることにある。
【0007】
請求項1に記載した半導体装置は、半導体基板上でドレイン電極とソース電極の間に複数本のショットキー電極を配置された電界効果型の半導体装置において、ショットキー電極間の領域を動作時の電圧が安定した領域と直流的にほぼ同電位に保持する手段を備え、前記動作時の電圧が安定した領域は、ドレインあるいはソース電極もしくはドレインあるいはソース電極の下の活性層領域であり、ショットキー電極間の領域と動作時の電圧が安定した領域とを直流的にほぼ同電位に保持する前記手段は、ショットキー電極間の活性層領域から引き出されて動作時の電圧が安定した領域に接続された導電層であることを特徴としている。
【0008】
本発明の半導体装置は、ショットキー領域間の領域(中間領域)を半導体装置の動作時に電位の安定している領域に直流的に接続することにより、中間領域の電位を安定した領域の電位に固定(安定)させ、ショットキー電極の電圧の変動の影響による中間領域の電位の変動を抑制し、もって半導体装置のピンチオフ特性を良好なものとするものである。これにより、Coff値を本来の意図通りに低減させることができ、半導体装置のアイソレーションを高めることができる。さらに、半導体装置の設計時に中間領域の電位の変動を考慮する必要がなくなるので、その設計を容易ならしめることができる。
【0010】
ショットキー電極間の領域をドレイン電極あるいはソース電極等に接続するようにすれば、ショットキー電極間の領域を動作時の電圧が安定した領域と直流的にほぼ同電位に保持する手段を短くでき、半導体装置を小型化できる。
【0012】
さらに、ショットキー電極間の領域を動作時の電圧が安定した領域と直流的にほぼ同電位に保持する手段を導電層によって形成しているので、導電層を活性層で形成する場合、ショットキー電極間の領域を動作時の電圧が安定した領域と直流的にほぼ同電位に保持する手段を活性層と同時に作成することができ、製造工程を簡略化することができる。
【0013】
請求項2に記載の実施態様は、請求項1に記載した半導体装置において、ショットキー電極間の活性層領域は、高周波信号を遮断できる抵抗を介して、前記導電層により動作時の電圧が安定した領域に接続されていることを特徴としている。
【0014】
この実施態様では、ショットキー電極間の活性層領域を動作時の電圧が安定した領域と直流的にほぼ同電位に保持する手段が高周波信号を遮断できる抵抗を備えているので、動作時の電圧が安定した領域からショットキー電極間の活性層領域へ、あるいはショットキー電極間の活性層領域から動作時の電圧が安定した領域へ高周波信号が漏れるのを防ぐことができる。
【0015】
請求項3に記載の実施態様は、請求項1に記載した半導体装置において、ショットキー電極間の活性層領域は、インダクタを介して、前記導電層により動作時の電圧が安定した領域に接続されており、ショットキー電極間の領域とオーミック電極とは直流的にはほぼ同電位で、高周波信号は遮断されていることを特徴としている。
【0016】
この実施態様では、ショットキー電極間の活性層領域を動作時の電圧が安定した領域と直流的にほぼ同電位に保持する手段が高周波信号を遮断できるインダクタを備えているので、動作時の電圧が安定した領域からショットキー電極間の活性層領域へ、あるいはショットキー電極間の活性層領域から動作時の電圧が安定した領域へ高周波信号が漏れるのを防ぐことができる。
【0017】
請求項6に記載の実施態様は、請求項1ないし3のいずれかに記載した半導体装置において、ショットキー電極間に低抵抗領域を有し、当該低抵抗領域から前記導電層が引き出されていることを特徴としている。
【0018】
この実施態様では、ショットキー電極間に低抵抗領域を形成しているから、半導体装置を低損失化することができる。さらに、接続用パターンでショットキー電極間の領域の電位を安定化しているため、従来低抵抗領域を設けることにより生じていたアイソレーションの低下も改善することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
(第1の実施形態)
図3は本発明の一実施形態によるデュアルゲートFET11の構造を示す平面図である。このデュアルゲートFET11にあっては、GaAs半絶縁性基板12上の表層部に活性層13が形成されており、活性層13の両端部上面には、ソース電極となるオーミック電極14aとドレイン電極となるオーミック電極14bが形成されている。オーミック電極14a,14b間の領域において活性層13の上面には、2本の微細な線幅のショットキー電極(ゲート電極)15が形成されており、活性層13の外部(素子領域外)においてショットキー電極15の端部には電極パッド16が設けられている。さらに、基板12の表層部には、活性層13のうちショットキー電極15間の領域から引き出されるようにして接続用パターン17が設けられており、接続用パターン17は活性層13の外部を迂回するようにして他端を一方のオーミック電極14a(ソース電極)の下面で再び活性層13とつながれている。この接続用パターン13は、活性層13と同一の方法によって同時に形成するのが望ましいが、別々に形成してもよい。
【0020】
接続用パターン17は高周波カット(RFカット)用のハイインピーダンス線路となっており、接続用パターン17を通じてショットキー電極15間の領域(活性層領域)の直流電位がオーミック電極14aの設けられている領域(活性層領域)と同電位になるが、高周波信号は遮断されるようにしている。接続用パターン17と活性層13が同時に形成されていて、両者のシート抵抗が等しい場合には、接続用パターン17の長さを長くして両端間の抵抗値が大きくなるようにすることが望ましい。その場合、小さな面積で両端間の抵抗値を大きくするためには、接続用パターン17を曲りくねった蛇行形状(メアンダ型の形状)にすればよい。あるいは、活性層13と接続用パターン17を別々に形成する場合には、接続用パターン17のシート抵抗が活性層13のシート抵抗よりも大きくなるようにすればよい。これらの点は以下の他の実施形態についても当てはまる。
【0021】
また、図示例では、ショットキー電極15間の領域から引き出された接続用パターン17の他端は一方のオーミック電極14aの下面で活性層13と導通しているが、両方のオーミック電極14a,14bの下面で活性層13と導通していてもよい。あるいは、ショットキー電極間の領域から引き出された接続用パターン17の他端の接続先は、必ずしもオーミック電極14a,14bの形成されている領域に限るものではなく、後述の実施形態のように変動するショットキー電圧の影響を受け難い部分であれば良い。
【0022】
また、ショットキー電極15間の領域とオーミック電極14aの下面領域とを接続する接続用パターン17は、活性層13と同じ導電層によって連続的に形成することが接続用パターン製作の簡易さからは望ましいが、基板12の上に形成した金属配線によって接続パターン17を形成しても差し支えない。
【0023】
次に、上記デュアルゲートFETの製造方法を説明する。まず、MBE法もしくはMOCVD法により、図4(a)に示すようにGaAs半絶縁性基板12の各素子形成領域に活性層13を形成する。例えば、ドーズ種としてSiを用いてドーズ量5×1017/cm2で活性層13を成長させ、シート抵抗が700Ω/口の活性層13を得る。
【0024】
この後、図4(b)に示すように、基板12の表面をレジスト膜18で覆ってフォトリソグラフィにより素子分離用のパターンを形成し、ウエットエッチングで基板12に素子分離溝19を形成して素子分離を行う。ここでウエットエッチング液には、例えば燐酸:過酸化水素水:水=1:1:100の水溶液を用い、エッチング時間10分で素子分離を完了する。
【0025】
こうして素子分離することによって1素子領域をパターニングする際、図4(c)に示すように、活性層13のショットキー電極15間の領域となる位置といずれか一方のオーミック電極14a(例えば、ソース電極)が形成される領域とが、活性層13の外側を迂回してつながるように接続用パターン17を形成する。従って、この接続用パターン17は、活性層13と同一の導電層であり、活性層13と同一の物理的性質を有しており、例えば線幅5μm、長さ100μmに形成する。
【0026】
ついで、活性層13の上面に2つのオーミック電極14a,14bを形成する。この工程においては、基板12上にレジスト膜を塗布した後、フォトリソグラフィによりレジスト膜をパターニングし、Au-Ge/Ni等のGaAs半絶縁性基板12とオーミック接合する電極材料をパターニングされたレジスト膜の上から基板12上に蒸着させ、レジスト膜を剥離させることにより、図4(d)のようにリフトオフ法で所望パターンのオーミック電極14a,14bを得る。
【0027】
次に、活性層13の上にショットキー電極15を形成する。この工程においては、図4(e)に示すように、基板12の上にレジスト膜を形成し、フォトリソグラフィによってレジスト膜をパターニングし、ショットキー電極形成領域をリセスエッチングする。ついで、Al等のGaAs半絶縁性基板12とショットキー接合する電極材料を蒸着させた後、レジスト膜を基板12から剥離させることによりリフトオフ法でリセス20内にショットキー電極15を形成する。
【0028】
ついで、基板12の上に絶縁膜を形成し、フォトリソグラフィ及びエッチングで絶縁膜に電極部分を開口し、さらにフォトリソグラフィ及び金属蒸着にてショットキー電極及びオーミック電極の上に上層電極を形成する。この結果、図3に示したようなデュアルゲートFET11が得られる。
【0029】
このデュアルゲートFET11は、上記のように接続パターン17を介してショットキー電極15間の領域(中間領域)をFET動作時に電位の安定しているオーミック電極14aに接続しているから、ショットキー電極15間の領域の直流電位を安定もしくは固定させることができ、ピンチオフ特性の劣化を招くことなく、Coffの値を低減することができる。また、後述の測定例でも示すように、ショットキー電極15間の領域の直流電位を固定してもショットキー電極15間の抵抗Ronはあまり影響せず、ショットキー電極15間の抵抗値Ronは従来のデュアルゲートFETと同等レベルに保つことができる。この結果、デュアルゲートFET11の低損失、小スペースという特徴を維持したまま、アイソレーションを向上させることができる。
【0030】
(第2の実施形態)
図5は本発明の別な実施形態によるデュアルゲートFET21の構造を示す平面図、図6(a)〜(c)はその製造工程を示す平面図である。このデュアルゲートFET21では、オーミック電極14a,14bの形成される領域及びショットキー電極15間となる領域にそれぞれ低抵抗活性層22,23を形成し、一方のオーミック電極14aの形成される低抵抗活性層22とショットキー電極15間となる低抵抗活性層23とを接続用パターン17で接続している。
【0031】
以下、この実施形態によるデュアルゲートFETの製造方法を図6(a)〜(c)及び図5に従って説明する。まず、図6(a)に示すように、選択イオン注入によりGaAs半絶縁性基板12の表層部に活性層13及び接続用パターン17を形成する。選択イオン注入を行なうには、イオン注入機を用いマスクを通して例えば70keV、5×1012/cm2の面密度でSiイオンを注入することにより所望パターンの活性層13及び接続用パターン17を形成する。図6(a)に示す接続用パターン17では、両端と活性層13との間に隙間をあけて形成されている。ここでは、ショットキー電極15間の活性層領域とオーミック電極14aとを接続するための接続用パターン17と活性層13とは同時に形成したが、それぞれ別の条件により形成してもよい。
【0032】
つぎに、図6(b)に示すように、選択イオン注入により基板12上に前記活性層13よりも低抵抗の低抵抗活性層22,23を形成する。この低抵抗活性層22,23は、オーミック電極14a,14bが形成される領域と、ショットキー電極15間となる領域とに形成する。すなわち、活性層13のうちショットキー電極15を形成する領域を避けて形成する。また、低抵抗活性層22,23は接続パターン17の両端に達して導通するように形成される。この低抵抗活性層22,23は、イオン注入機により例えば200keV、5×1013/cm2の面密度でSiイオンを注入して形成する。
【0033】
この後、820℃、20分間の活性化アニールを行ない、シート抵抗が約700Ω/口の活性層13及び接続用パターン17と、シート抵抗が約70Ω/口の低抵抗活性層22,23を得る。このようにして、ショットキー電極15間となる低抵抗活性層23から活性層13の外側へ引き出し、オーミック電極14aを形成する低抵抗活性層22に接続するように接続用パターン17が形成される。この接続用パターン17もRFカットのハイインピーダンス線路となるものであって、たとえば幅5μm、長さ100μmに形成する。
【0034】
つぎに、図6(c)に示すように両端の低抵抗活性層22の上にオーミック電極14a,14bを形成する。オーミック電極形成工程では、基板12上にレジスト膜を形成した後、フォトリソグラフィによりレジスト膜をパターニングし、Au−Ge/Ni等のGaAs半絶縁性基板12とオーミック接合する電極材料をレジスト膜の上から蒸着により形成し、レジスト膜を剥離することによりリフトオフ法で所望パターンのオーミック電極14a,14bを得る。
【0035】
ついで、オーミック電極14a,14b間の活性層13の上にショットキー電極15を形成する。ショットキー電極形成工程においても、基板12上にレジスト膜を形成した後、フォトリソグラフィによりレジスト膜をパターニングし、Al等のGaAs半絶縁性基板12とショットキー接合する電極材料をレジスト膜の上から蒸着により形成し、レジスト膜を剥離することにより、図5のようにリフトオフ法で所望パターンのショットキー電極15を得る。
【0036】
最後に、基板12上に絶縁膜を形成し、フォトリソグラフィ及びエッチングで絶縁膜に電極部分を開口し、さらにフォトリソグラフィ及び金属蒸着にてショットキー電極15及びオーミック電極14a,14bの上に上層電極を形成する。この結果、この実施形態のデュアルゲートFET21が得られる。
【0037】
この実施形態のデュアルゲートFET21にあっても、ショットキー電極15間の領域の直流電位をFET動作時に電位の安定している低抵抗活性層22に接続して安定させることにより、ピンチオフ特性を良好にし、Coffの値を小さくできるので、高アイソレーションのスイッチング用IC等を実現できる。また、この実施形態では、ショットキー電極15間の領域に低抵抗活性層23を設けているので、より一層低損失化することができる。
【0040】
(第3の実施形態)
図7は本発明のさらに別な実施形態によるデュアルゲートFET31の構造を示す平面図である。この実施形態にあっては、ショットキー電極15間の低抵抗活性層23から引き出された接続用パターン17の途中に巻線状のインダクタ部32を形成したものである。このインダクタ部32は活性層13と同じ構造で基板12内に作り込んであってもよく、電極配線によって基板12上に形成してあってもよい。なお、33はインダクタ部32の交差部分で絶縁を図るための絶縁層である。このインダクタ部32は、直流電位についてはショットキー電極15間の低抵抗活性層23がオーミック電極14aの設けられている低抵抗活性層22と同電位になるが、高周波信号は遮断されるように選定している。また、この実施形態では、基板12上もしくは基板12内にインダクタ部32を形成しているが、基板外部で個別部品のインダクタを接続する構造としてもよい。
【0041】
この実施形態によれば、インダクタ部32のインダクタンスを任意に調整することができ、デュアルゲートFET31の接続パターン17の設計が容易になる。
【0042】
(測定例)
ゲート電極(ショットキー電極)間の距離を2.4μm、2.8μm、3.2μmに変化させて図1に示したような構造の従来のデュアルゲートFETを製作した。同様に、ゲート電極(ショットキー電極)間の距離を2.4μm、2.8μm、3.2μmに変化させて図3に示したような構造の本発明のデュアルゲートFETを製作した。そして、従来例のデュアルゲートFETにおけるショットキー電極間の抵抗RonとCoff値を測定した。また、本発明のデュアルゲートFETでは、ショットキー電極間の領域を接続用パターンを通じて接地させ、ショットキー電極間の抵抗RonとCoff値を測定した。
【0043】
図8は、このRon及びCoffの測定結果を(本発明のデュアルゲートFETにおける測定値)/(従来のデュアルゲートFETにおける測定値)の比として表わしたものである。この測定結果から分かるように、本発明のようにショットキー電極間の領域の直流電位を固定することにより、ピンチオフ特性の劣化を招かず、Coffの値を約11%低減することができた。また、ショットキー電極間の領域の直流電位を固定してもショットキー電極間の抵抗Ronにはあまり影響がなく、従来のデュアルゲートFETと同等レベルのRonを得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来のデュアルゲートFETの構造を示す平面図である。
【図2】 従来の別なデュアルゲートFETの構造を示す平面図である。
【図3】 本発明の一実施形態によるデュアルゲートFETの構造を示す平面図である。
【図4】 (a)〜(e)は同上のデュアルゲートFETの製造工程を示す概略断面図である。
【図5】 本発明の別な実施形態によるデュアルゲートFETの構造を示す平面図である。
【図6】 (a)(b)(c)は同上のデュアルゲートFETの製造工程を示す平面図である。
【図7】 本発明のさらに別な実施形態によるデュアルゲートFETの構造を示す平面図である。
【図8】 本発明によるデュアルゲートFETと従来例のデュアルゲートFETのRon比とCoff比とを示す図である。
【符号の説明】
12 GaAs半絶縁性基板
13 活性層
14a,14b オーミック電極
15 ショットキー電極
17 接続用パターン
22,23 低抵抗活性層
32 インダクタ部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor device. In particular, the present invention relates to a field effect semiconductor element such as MESFET and a semiconductor device such as an integrated circuit (IC) having such elements.
[0002]
[Prior art]
A switching element of a semiconductor MMIC is required to have high isolation, low loss, and small space (small integration). One method for realizing these requirements is a dual gate FET, a multi gate FET, or the like in which two or more Schottky electrodes are formed between ohmic electrodes, and is used in a switching IC.
[0003]
FIG. 1 shows the structure of a
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional
[0005]
If the potential of the intermediate region fluctuates according to the potential of the
[0006]
The present invention has been made to solve the above technical problems, and an object of the present invention is to provide a field effect having two or more Schottky electrodes between ohmic electrodes formed on a semiconductor substrate. In the type semiconductor device, the potential of the region (intermediate region) between the respective Schottky electrodes can be kept constant.
[0007]
The semiconductor device according to
[0008]
The semiconductor device of the present invention is to galvanically connect the region between the Schottky region (intermediate region) realm is stable potential during the operation of the semiconductor device, a stable area of potential the potential of the intermediate region Thus, the fluctuation of the potential of the intermediate region due to the influence of the fluctuation of the voltage of the Schottky electrode is suppressed, so that the pinch-off characteristic of the semiconductor device is improved. Thereby, the Coff value can be reduced as originally intended, and the isolation of the semiconductor device can be increased. Furthermore, since it is not necessary to consider fluctuations in the potential of the intermediate region when designing the semiconductor device, the design can be facilitated.
[0010]
If the region between the sheet Yottoki electrodes so as to be connected to the drain electrode or the source electrode or the like, the voltage of the operation area between the Schottky electrode can be shortened means for retaining the galvanically substantially the same potential as the stable region The semiconductor device can be downsized.
[0012]
Further , the means for holding the region between the Schottky electrodes at substantially the same potential as the region where the voltage during operation is stable is formed by the conductive layer. Therefore, when the conductive layer is formed of the active layer, the Schottky is used. Means for holding the region between the electrodes at substantially the same potential as the region where the voltage during operation is stable can be formed simultaneously with the active layer, and the manufacturing process can be simplified.
[0013]
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first aspect, in the active layer region between the Schottky electrodes, a voltage during operation is stabilized by the conductive layer via a resistor capable of blocking a high frequency signal. It is characterized by being connected to the selected area.
[0014]
In this embodiment, the means for holding the active layer region between the Schottky electrodes at substantially the same DC potential as the region in which the voltage at the time of operation is stable is provided with a resistor that can cut off the high-frequency signal. it can be prevented and stable from the region to the active layer region between the Schottky electrode or the high-frequency signal from leaking from the active layer region between the Schottky electrode voltage during operation to a stable region.
[0015]
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first aspect, the active layer region between the Schottky electrodes is connected to a region where a voltage during operation is stabilized by the conductive layer via an inductor. The region between the Schottky electrodes and the ohmic electrode are substantially the same potential in terms of direct current, and the high frequency signal is cut off.
[0016]
In this embodiment, the means for holding the active layer region between the Schottky electrodes at substantially the same DC potential as the region where the voltage during operation is stable includes an inductor that can cut off the high-frequency signal. it can be prevented and stable from the region to the active layer region between the Schottky electrode or the high-frequency signal from leaking from the active layer region between the Schottky electrode voltage during operation to a stable region.
[0017]
According to an embodiment of the present invention, in the semiconductor device according to any one of the first to third aspects, a low resistance region is provided between the Schottky electrodes, and the conductive layer is drawn from the low resistance region. It is characterized by that.
[0018]
In this embodiment, since the low resistance region is formed between the Schottky electrodes, the loss of the semiconductor device can be reduced. Furthermore, since the potential of the region between the Schottky electrodes is stabilized by the connection pattern, it is possible to improve the decrease in isolation that has been caused by providing the low resistance region.
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
(First embodiment)
FIG. 3 is a plan view showing the structure of the
[0020]
The
[0021]
In the illustrated example, the other end of the
[0022]
Further, the
[0023]
Next, a method for manufacturing the dual gate FET will be described. First, the
[0024]
Thereafter, as shown in FIG. 4B, the surface of the
[0025]
When patterning one element region by separating the elements in this way, as shown in FIG. 4C, a position serving as a region between the
[0026]
Next, two
[0027]
Next, the
[0028]
Next, an insulating film is formed on the
[0029]
Since the
[0030]
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a plan view showing the structure of a dual gate FET 21 according to another embodiment of the present invention, and FIGS. 6A to 6C are plan views showing the manufacturing process thereof. In the dual gate FET 21, low resistance
[0031]
Hereinafter, a method of manufacturing the dual gate FET according to this embodiment will be described with reference to FIGS. First, as shown in FIG. 6A, the
[0032]
Next, as shown in FIG. 6B, low resistance
[0033]
Thereafter, activation annealing is performed at 820 ° C. for 20 minutes to obtain the
[0034]
Next, as shown in FIG. 6C,
[0035]
Next, a
[0036]
Finally, an insulating film is formed on the
[0037]
Even in the dual gate FET 21 of this embodiment, the pinch-off characteristic is improved by connecting and stabilizing the DC potential in the region between the
[0040]
( Third embodiment)
FIG. 7 is a plan view showing the structure of a
[0041]
According to this embodiment, the inductance of the
[0042]
(Measurement example)
A conventional dual gate FET having a structure as shown in FIG. 1 was fabricated by changing the distance between the gate electrodes (Schottky electrodes) to 2.4 μm, 2.8 μm, and 3.2 μm. Similarly, the dual gate FET of the present invention having the structure shown in FIG. 3 was manufactured by changing the distance between the gate electrodes (Schottky electrodes) to 2.4 μm, 2.8 μm, and 3.2 μm. The resistance Ron and Coff value between the Schottky electrodes in the conventional dual gate FET were measured. In the dual gate FET of the present invention, the region between the Schottky electrodes was grounded through the connection pattern, and the resistance Ron and Coff values between the Schottky electrodes were measured.
[0043]
FIG. 8 shows the measurement results of Ron and Coff as a ratio of (measured value in the dual gate FET of the present invention) / (measured value in the conventional dual gate FET). As can be seen from the measurement results, by fixing the DC potential in the region between the Schottky electrodes as in the present invention, it was possible to reduce the Coff value by about 11% without causing deterioration of the pinch-off characteristics. Further, even if the DC potential in the region between the Schottky electrodes is fixed, the resistance Ron between the Schottky electrodes is not significantly affected, and Ron having the same level as that of the conventional dual gate FET can be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing a structure of a conventional dual gate FET.
FIG. 2 is a plan view showing the structure of another conventional dual gate FET.
FIG. 3 is a plan view showing a structure of a dual gate FET according to an embodiment of the present invention.
FIGS. 4A to 4E are schematic cross-sectional views showing the manufacturing process of the dual gate FET of the above.
FIG. 5 is a plan view showing a structure of a dual gate FET according to another embodiment of the present invention.
FIGS. 6A, 6B, and 6C are plan views showing a manufacturing process of the dual gate FET of the above. FIGS.
FIG. 7 is a plan view showing a structure of a dual gate FET according to still another embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a diagram showing Ron ratio and Coff ratio of a dual gate FET according to the present invention and a conventional dual gate FET.
[Explanation of symbols]
12
3 2 Inductor section
Claims (4)
ショットキー電極間の領域を動作時の電圧が安定した領域と直流的にほぼ同電位に保持する手段を備え、
前記動作時の電圧が安定した領域は、ドレインあるいはソース電極もしくはドレインあるいはソース電極の下の活性層領域であり、
ショットキー電極間の領域と動作時の電圧が安定した領域とを直流的にほぼ同電位に保持する前記手段は、ショットキー電極間の活性層領域から引き出されて動作時の電圧が安定した領域に接続された導電層であることを特徴とする半導体装置。 In a field effect semiconductor device in which a plurality of Schottky electrodes are arranged between a drain electrode and a source electrode on a semiconductor substrate,
A means for holding the region between the Schottky electrodes substantially at the same potential as the region where the voltage during operation is stable is provided ,
The region where the voltage during operation is stable is the drain or source electrode or the active layer region under the drain or source electrode,
The above-mentioned means for maintaining the region between the Schottky electrodes and the region where the voltage during operation is stable at a substantially same potential in terms of DC is drawn from the active layer region between the Schottky electrodes and the region where the voltage during operation is stable A semiconductor device comprising a conductive layer connected to the semiconductor device.
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