JP3747242B2 - 光パルス繰り返し周波数逓倍装置 - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，光パルス繰り返し周波数逓倍装置に関するものであり，特に，アクティブ・ハーモニカリ・モードロック・ファイバリングレーザ（ＭＬ−ＦＲＬ）に関するものである。アクティブ・ハーモニカリ・モードロック・ファイバリングレーザ（ＭＬ−ＦＲＬ）において生成された光パルス列の繰り返し周波数を逓倍するとともに光パルスを安定化させるものである。
【０００２】
本発明は，高速度光通信システム，光時分割多重システム（ＯＴＤＭ）のための光パルス発生源に使用できるようにしたものであり，そのために必要とされる高い繰り返し周波数の光パルス列を安定化するものである。あるいは，本発明はマイクロ波周波数帯，ミリ波周波数帯，およびそれ以上の周波数帯での繰り返し周波数の光パルス列を安定化するものである。
【０００３】
【従来の技術】
アクティブ・ハーモニカリ・モードロック・ファイバリングレーザ（ＭＬ−ＦＲＬ）は高い繰り返し周波数の光パルスを生成することができるために，高速度光通信におけるＯＴＤＭ／ＷＤＭのための非常に一般的なパルス源になってきた（参考文献１，２等）。ここに，キャビティ共振周波数の高調波のＲＦ変調信号は，キャビティ内部におかれたマッハ・ツェンダ強度変調器（ＭＺＭ）のＲＦポートに印加され，そしてその伝送特性曲線のクワドゥラチュールポイントにバイアスされる。それにより，印加された変調信号の周波数に等しい繰り返し周波数の光パルスを生成する。しかし，そのようなレーザ装置においては，最大パルス繰り返し周波数は，ドライブするエレクトロニクス機器の周波数特性および変調器の周波数バンド幅等により制限される。そのような高速度光通信システムのためには，もとになる光パルスの繰り返し周波数が高いことが重要である。ＭＬ−ＦＲＬにおいてパルス繰り返し周波数を増大するために様々な方法が提案されて，バンド幅の大きい変調器を用意する，あるいは高い周波数を発生できるエレクトロニクス機器を用意する等の要求を緩和した。例えば，キャビティ内部にマッハ・ツェンダ強度変調器（ＭＺＭ）を置くことによる周波数逓倍があり，変調器の非線形周波数特性がパルス繰り返し周波数の増大に利用されている（参考文献３，４）。あるいは，キャビティ内部にファイバ・ファブリ−ペロフィルタ（ＦＦＰフィルタ）を置くことによる光フィルタリングする方法があり，ＦＦＰフィルタにより縦振動モードを選択的にフィルタリングすることでＭＬ−ＦＲＬのパルス繰り返し周波数を増大できる（参考文献５，６等）。他の方法として，ＭＬ−ＦＲＬにおいてｐｆm の繰り返し周波数の光パルス列を連続発振動作で生成するために変調周波数を±ｆc ／ｐだけデチューニングすることにより高い繰り返し周波数の光パルス列を生成できる（参考文献７，８，９等）。
【０００４】
図１１（ａ）は従来のアクティブ・ハーモニカリ・モードロック・ファイバリングレーザ（ＭＬ−ＦＲＬ）の構成を示す。図１１（ａ）において，Ａは光増幅器であり，励起光源と光利得性能をもつ利得媒体により構成したものである。１は利得媒体であり，エルビウムドープファイバ（ＥＤＦ）であって，Ｅｒ／Ｙｂドープファイバである。２は励起光源である。３はカップラ（光結合器）である。４は変調器であって，マッハ・ツェンダ変調器である。５，６，７は光アイソレータである。８はポーラライゼーションコントローラ（ＰＣ）である。９は光結合器であって，９０：１０の割合で光ファイバリングの発振光を光検出器２３に分岐するものある（光ファイバリングの発振光の１０％が光検出器２３を通過する）。１２は光ファイバである。２１は電気発振器であって，高周波電気信号を発生するものである。２２は電気増幅器である。２３は光検出器であって，光信号を電気信号に変換するものである。２４は測定器であって，電気信号に変換された信号を測定するものである。
【０００５】
図１１（ａ）において，励起光源２で発生したレーザ光は利得媒体１であるエルビウムドープファイバ（ＥＤＦ）を励起し，光ファイバリングにおいてその共振周波数ｆc およびその整数倍のレーザ光（スーパーハーモニックモード）が発振する。電気発振器２１は，ｆc の整数倍の周波数ｆm の電気信号を発生し，変調器（マッハ・ツェンタ光強度変調器）４に印加する。変調器４には電圧Ｖb のバイアス電圧を印加する。
【０００６】
図１１（ａ）の構成で，変調器４は，伝送特性曲線のクワドゥラチールボント（伝送特性曲線における最大伝送点）に対応する電圧Ｖb にバイアスされ，印加変調周波数ｆm に等しい繰り返し周波数の光パルス列を光ファイバリングに生成する。図１１（ｂ）はそのように生成されて出力された繰り返し周波数ｆm の光パルス列を示す。
【０００７】
ＭＬ−ＦＲＬにおいてスーパーモードノイズを抑制する手段として複合キャビティを使用することはすでに知られている（参考文献１０）。また，前述したように，ＭＬ−ＦＲＬにおいてパルス繰り返し周波数を増大する方法としてＫ×ｆm に等しい自由空間周波数領域（ＦＳＲ）をもつＦＦＰフィルタをＭＬ−ＦＲＬキャビティに挿入し，ＭＬ−ＦＲＬのキャビティにおいて光フィルタリングすることにより，ＦＳＲの周波数間隔で支配される共振モードをエンハンスメントする方法がある（Ｋは整数，ｆm は印加変調周波数）。この方法により，ＭＬ−ＦＲＬによりＦＳＲに等しい繰り返し周波数での光パルス列を連続発振動作で生成することができる。しかし，このＦＦＰフィルタを使用する方法では，最大パルス繰り返し周波数は内部キャビティＦＦＰフィルタのＦＳＲに制限される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように，従来のＭＬ−ＦＲＬでは生成される光パルスの繰り返し周波数がｆm の整数倍に限られていた。また，生成される光パルスも振幅が不安定である等の問題があった。
【０００９】
本発明は，従来のＭＬ−ＦＲＬで得られる光パルスの繰り返し周波数を簡単な構成で逓倍でき，しかも光パルスの振幅等を安定化させることのできる光パルス繰り返し周波数逓倍装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は，アクティブ・ハーモニカリ・モードロック・ファイバリングレーザにおいて，印加変調周波数ｆm の整数倍の自由空間周波数領域（ＦＳＲ＝Ｋｆm ）をもつＦＦＰフィルタと，キャビティの長さの異なる複数のキャビティをもつ複合キャビティをメインキャビティに備えるようにした。ＦＦＰフィルタによるキャビティ内部の光フィルタリングと複合キャビティの複数キャビティのそれぞれの共振周波数の高調波のうちの共通の高調波をエンハンスメントすることにより繰り返し周波数の増大を図るようにした。本発明によれば，ＦＦＰフィルタと複合キャビティの組合せにより，キャビティの長さを調整する簡単な操作により，パルス繰り返し周波数を逓倍させることができる。
【００１１】
本発明の原理についてさらに詳述する。ＦＦＰフィルタのＦＳＲより高いパルス繰り返し周波数にさらに増大するために，ＦＳＲより高い繰り返し周波数をもつ高次キャビティ共振モードの振動をエンハンスメントすることが大切である。これを達成するために，本発明は，内部光フィルタリングと複合キャビティによりパルス繰り返し周波数を高くするようにした（図２参照）。ここに，複合キャビティは異なる長さの複数の光ファイバ（パッチコード）と５０／５０光結合器により構成される。キャビティの長さは複合キャビティの長さＬ1 とＬ2 をもつ一組のパッチコードＰ1 とＰ2 により調整される。Ｌ1 とＬ2 （Ｌ1 ＞Ｌ2 ）の長さは，長いキャビティと短いキャビティのキャビティ共振周波数ｆ’c1とｆ’c2がＦＳＲの倍数の高調波に等しくなるように，その最も低い共通周波数で干渉するように選ばれる。その結果，内部ＦＦＰを組み込んだ複合キャビティＭＬ−ＦＲＬは，Ｐ×ＦＳＲもしくはＰ×ｆm の間隔の周波数の間隔の支配的なキャビティ共振モードをエンハンスメントする。これは，複合キャビティＭＬ−ＦＲＬがｆ’composite ＝Ｐ×Ｋ×ｆm のような仮想的共振周波数ｆ’composite をもつことを表すものである。アクティブ・ハーモニック・モードロック動作のもとで，変調周波数ｆm がＭＺＭに印加された時，位相マッチする支配的な縦モードはＰ×ＦＳＲの間隔の周波数である。定常状態の条件のもとで，これはＰ×ＦＳＲの繰り返し周波数をもつ光パルスを生成する。それは，従来のＭＬ−ＦＲＬのものに比べて，複合キャビティをもつＭＬ−ＦＲＬにおいてパルス繰り返し周波数がＰ×Ｋ×ｆm に増加することを意味する。キャビティ内部にＦＦＰフィルタを挿入したことのおもな利点は，Ｐ×ＦＳＲの周波数間隔をもつ支配的な縦モードがフィルタの各Ｐ番目の伝送ピークで通過し，一方，それ以外の強度の小さいランダムに振動するキャビティモードと中間モードはブロックされ，そのために生成された光パルス列の安定性が増大するということである。
【００１２】
図１を参照して，本発明の原理をさらに説明する。本発明は，上記のようにアクティブ・ハーモニカリ・モードロック・ファイバリングレーザ（ＭＬ−ＦＲＬ）において主縦方向モードを適切に選択したことにより安定な光パルス列のパルス繰り返し周波数を増大させるようにしたものであり，ＦＦＰフィルタと複合キャビティの共鳴モードとによりランダムに振動する中間モードを選択的にフィルタリングするものである。
【００１３】
図１（ａ）はキャビティに生成される光パルスの周波数スペクトルを示し，キャビティ共振モードである基本共振周波数ｆc の整数倍の高調波（スーパーハーモニッグモード）のスペクトルと変調器に印加された変調周波数ｆm によりエンハンスメントされた周波数ｆm の間隔の縦モードの周波数スペクトルを示す。
【００１４】
図１（ｂ）はＦＦＰフィルタの伝送特性を示し，この特性によりＦＳＲ＝Ｋ×ｆm の信号は通過し，他の信号は除去される。
【００１５】
図１（ｃ）はＦＦＰフィルタにさらに複合キャビティをファイバリングに挿入した場合の特性を示し，Ｐ×ＦＳＲの周波数スペクトルが逓倍されることを示している。
【００１６】
図１（ｄ）は，パルス繰り返し周波数ＰＲＦ＝Ｐ×ＦＳＲ＝Ｐ×Ｋ×ｆm の繰り返し周波数で出力される光れパルス列を示す。
【００１７】
通常のアクティブ・ハーモニカリ・モードロック・ファイバリングレーザは図１（ａ）に示すように，レーザキャビティにランダムに振動するｆc の整数倍の周波数の振動のうち周波数間隔ｆm の周波数の位相マッチした縦モードの振動をエンハンスメントする。この場合，ＦＳＲ＝Ｋｆm のＦＦＰフィルタが，ＭＬ−ＦＲＬに挿入されると，図１（ｂ）に示すＦＦＰの特性によりｆm の周波数間隔をもつメイン縦モードは，ＦＦＰフィルタの伝送ピークに一致し，そしてフィルタを通過するが，一方，共鳴キャビティモードと中間縦モードはブロックされ，トレース２に示されるようにＫｆm に等しい繰り返し周波数の振動がエンハンスメントされる。さらに，複合キャビティを含む場合，Ｐ×ＦＳＲ（Ｐは整数）のさらに高い周波数の間隔のモードの振動を生成することが可能であり，そのエンハンスメントされた光スペクトルがトレース３（図１（ｃ））に矢印で示されている。これは，ＦＦＰフィルタのＰ番目の伝送ピークに一致する高次の縦モードはフィルタを通過するが，他方の強度の小さい中間モードは阻止される。そのため，Ｐ×ＦＳＲもしくはＰ×Ｋ×ｆm をもつ周波数の光パルスがエンハンスメントされ，Ｐ×Ｋ×ｆm の繰り返し周波数をもつ光パルス列だけを出力させることができる。これは，通常のＭＬ−ＦＲＬに比較してＰ×Ｋｆm だけパルス繰り返し周波数が逓倍されたことであり，図１（ｄ）はこのように出力される光パルス列を示す。
【００１８】
【発明の実施の形態】
図２は本発明の実施の形態１であり，光フィルタと複合キャビティを導入したアクティブ・ハーモニック・モードロック・ファイバレーザの構成を示す。図２（ａ）において，図１１と共通の参照番号は共通部分を示す。Ａは光増幅器であり，増幅特性を有する光ファイバと励起光源により構成されるものである。光増幅器は半導体光増幅器と電源により構成されるものであっても良い（図１０参照）。図２の構成において，利得媒体は，光ファイバにエルビウム（Ｅｒ），ツリウム（Ｔｍ），ネオジウム（Ｎｄ），プラセオジム（Ｐｒ）等の希土類元素をドープすることにより光増幅性能をもつようにしたものである。あるいはフロライド系の光ファイバでも良い。あるいは光増幅器としては，励起光源と光ファイバのラマン増幅を利用することもできる。２５はファブリ−ペロフィルタ（ＦＦＰフィルタ）である。２６は複合キャビティである。２７は光パルス列の繰り返し周波数逓倍部であって，ＦＦＰフィルタ２５と複合キャビティ２６を備えるものである。２８は光遅延線である。
【００１９】
以下の説明では，エルビウムドープ光ファイバ（ＥＤＦ）もしくはＥｒ／Ｙｂ共ドープ光ファイバを使用した場合を例として説明する。１は利得媒体であり，エルビウムドープ光ファイバ（ＥＤＦ）である。なお，光ファイバおよび複合キャビティ２６の各ファイバはいずれもシングルモード光ファイバである。
【００２０】
図２のレーザ装置において，利得媒体１は，１０６４ｎｍのポンプ光をＷＤＭ３で分岐して励起される。３．４８ＧＨｚのＦＳＲをもつＦＦＰフィルタ，１０ＧＨｚのマッハ・ツェンタ強度変調器４および２．５ｎｍの３ｄＢバンド幅をもつ光バンドパスフィルタ１０がレーザキャビティに挿入される。光遅延線２８がキャビティ長のわずかの調整のために使用される。レーザ出力は１０％の光を出力する光結合器９により得られる。複合キャビティ２６は，２つの５０／５０光カップラー（図示せず）および２０１．９６８ｃｍと２００ｃｍの長さの一組のファイバパッチコードＰ1 とＰ2 により構成される。これは，複合キャビティ２６の２つのキャビティのうち，長いキャビティは長さＬ1 ＝６０１０．１３９１ｃｍで短いキャビティは長さＬ2 ＝６００８．１７１１ｃｍをもつ。それぞれのキャビティの共振周波数ｆ’c1＝３．４１８８ＭＨｚ，そして ｆ’c2＝３．４２ＭＨｚであり，そしてその最も低い共通の高調波の周波数は１０．４４１ＭＨｚであり，それはｆ’c1とｆ’c2の３０５４次および３０５３次の高調波である。従って，複合キャビティ２６をもつＭＬ−ＦＲＬ（以下複合キャビティＭＬ−ＦＲＬと称する）において，支配的なキャビティモードは１０．４４ＧＨｚの周波数であり，それは複合キャビティＭＬ−ＦＲＬの周波数ｆ’composite が１０．４４ＧＨｚであることである。このように複合キャビティＭＬ−ＦＲＬに内部キャビティを設けて光フィルタリングすることにより連続発振動作で繰り返し周波数１０．４４ＧＨｚの光パルス列を得ることができる。
【００２１】
図３はそのようにして得られた光パルス出力のＲＦスペクトルを示す。図３に示されるように，１０．４４ＧＨｚの間隔で高調波が生成されていることが示されている。
【００２２】
実験は次のように行なった。まず，ＦＦＰフィルタ（Ｋ＝１に対する）の３．４８ＧＨｚにほぼ等しく３次高調波が複合キャビティ共振周波数の３次高調波に相当する３．４７７５４５Ｈｚの＋２０ｄＢの変調信号を伝送特性曲線のクワドゥラチュールポイントにバイアスしたＭＺＭ４に印加した。キャビティ長は光遅延線２８により精密に調整し，印加変調周波数の３倍（Ｋ＝１，Ｐ＝３）の１０．４３３ＧＨｚの繰り返し周波数をもつ光パルスを発生させた。生成された光パルス列はサンプリングヘッドＳＤ−２６（１７．４ｐｓの立ち上がり時間）をもつサンプリングオシロスコープ（テクトロニクスＣＳＡ）で観測した。
【００２３】
図４（ａ）はそのようにして得られた観測波形を示す。１０．４３３ＧＨｚパルスは永続的に振幅が等しく，小さい振幅ノイズとタイミングジッタの小さいすぐれた安定性をもつことが示されている。
【００２４】
さらに高い繰り返し周波数の逓倍ファクタＰ×Ｋ＞３を検証するために，ＦＳＲの値とｆ’composite を一定に維持した状態で，印加変調周波数をフィルタのＦＳＲのサブハーモニクスに対応するように減少させた。伝送特性曲線のクワドゥラチュールポイントにＭＺＭをバイアスして，ｆm ＝１．７３８５（Ｋ＝２，Ｐ＝３に対する）とｆm ＝１．１５９（Ｋ＝３，Ｐ＝３に対する）の変調信号を印加した。
【００２５】
図４（ｂ）と図４（ｃ）はそのようにして得られた観測波形をそれぞれ示す。それぞれの観測結果から示されるように，１０．４３３ＧＨｚの一定の繰り返し周波数が連続的に生成された。生成されたパルスは小さい振幅ノイズとタイミングジッターの小さい永続的な安定したモードであることが，図４（ｂ）と図４（ｃ）から明瞭である。このことは，本発明により，従来のＭＬ−ＦＲＬから得られるパルスに対して繰り返し周波数がその６倍と９倍に逓倍した光パルスを安定に得られることを示している。
【００２６】
さらに，本発明の構成により得られる繰り返し周波数が１０．４３３ＧＨｚの光パルス列の光スペクトルを，高解像度の光スペトラムアナライザ（０．０１ｎｍの解像度）により観察した。
【００２７】
図５はこのようにして観測した波形を示す。３．４７７５４５ＧＨｚ，１．７３８５ＧＨｚおよび１．１５９ＧＨｚの変調信号を使用して，それぞれ３次，６次および９次の光パルスにより得られた１０．４３３ＧＨｚの光スペクトルを示す。図５からわかるように，縦モードは１０．４３３ＧＨｚのパルス繰り返し周波数にほぼ対応する０．０８３ｎｍ間隔のスペクトルが得られている。測定されたＦＷＨＭ（半値幅）の３次，６次および９次のパルス列の測定されたＦＷＨＭスペクトルバンド幅はそれぞれ０．１９７ｎｍ，０．１６１ｎｍおよび０．１４３ｎｍであった。
【００２８】
図６はＳＨＧオートコリレータにより測定したパルスを示し，３次，６次および９次の光パルス列のそれぞれに対して１５ｐｓ，１７．９０ｐｓおよび２９．８０ｐｓのＦＷＨＭのＳｅｃｈ2 プロファイルに似ていることを示している。それは，それぞれ０．３７，０．３６および０．３７の時間バンド幅積であり，伝送限界に近いことを示している。
【００２９】
さらに，ミリ波スペクトルアナライザと高速度４５ＧＨｚのフォトディテクタを使用し，合成キャビティＭＬ−ＦＲＬで生成される高次光パルス列を観測した。
【００３０】
図７（ａ），（ｂ），（ｃ）はそのように検出された３つの場合のＲＦスペクトルを示す。図７（ａ），（ｂ），（ｃ）に示されるように，ｆm ，２ｆm ，・・・等の印加変調周波数の高調波は，それぞれ３次，６次および９次のパルス列において２７ｄＢ，２６ｄＢおよび２３ｄＢ以上だけ抑制されていることが明らかである。
【００３１】
図８（ａ），（ｂ），（ｃ）は，それぞれ１０．４３３ＧＨｚのＲＦスペクトルを拡大したものであり，各図から示されるように高い解像度をもつバンド幅が観測された。スーパーモードノイズは３次において４０ｄＢ以上，６次において３８ｄＢ以上，そして９次において３２ｄＢ以上，それぞれの光スペクトルにおいて抑制されたことが図８から示される。これらの測定データは，本発明がパルス繰り返し周波数の逓倍を良好に達成できることを示している。
【００３２】
１０．４３３ＧＨｚの光パルス列の振幅ノイズおよび位相ノイスおよびタイミングジッタを，さらにスペクトル領域技術（参考文献１１参照）により観測した。測定されたシングルサイドバンドノイズスペクトルパワー密度分布Ｌ（ｆ）において，３次光パルス列は，１０．４３３ＧＨｚからのオフセット周波数の１０ｋＨｚと１００ｋＨｚにおいてそれぞれ−８８．１７ｄＢｃ／Ｈｚと−９８．４３ｄＢｃ／Ｈｚを示し，一方，１０ｋＨｚと１００ｋＨｚのオフセット周波数において，６次の光パルス列において位相ノイズは−７８．３３ｄＢｃ／Ｈｚと−８４．９５ｄＢｃ／Ｈｚ，および９次の光パルス列に対して位相ノイズは−７３．６７ｄＢｃ／Ｈｚと−８１．０１ｄＢｃ／Ｈｚであった。
【００３３】
図９は１０．４３３ＧＨｚの基本周波数成分で測定された３次，６次および９次のパルス列のＬ（ｆ）分布を示す。さらに，振幅ノイズと位相ノイズの双方を含む全パルスノイズが，１０．４３３ＧＨｚのキャリアから大きいオフセットの周波数領域１００Ｈｚ−１ＭＨｚに渡って積分されたＬ（ｆ）分布から測定された。測定全パルスノイズデータから，０．１７％，０．８％と１．２５％の低い振幅ノイズ，および０．３４ｐｓ，１．０ｐｓおよび１．５ｐｓが，３次，６次および９次のパルス列に対してそれぞれ観測された。通常，タイミングジッタは高次数の高調波での測定位相ノイズから測定され，位相ノイズが支配的である（参考文献１１参照）。しかし，１０．４３３ＧＨｚの高調波の高次数の繰り返し周波数は検出装置の制限バンド幅のために検出できなかった。
【００３４】
アクティブ・ハーモニック・モードロック・ファイバリングにおいて光フィルタと複合キャビティによるパルス繰り返し周波数を逓倍する新規な構成をもつ本発明により，１０．４３３ＧＨｚの繰り返し周波数をもつ３次，６次および９次のスペクトル観測することができることが確認された。また，その低振幅ノイズ，位相ノイズおよびタイミングジッタはいずれも小さくて安定したすぐれた光パルス列であることが確認された。
【００３５】
図１０は本発明の実施の形態２であって光増幅器として半導体光増幅器を使用する場合の構成を示す。図１０において，図２と共通の番号は共通部分を表す。図１０において，Ａは光増幅器である。１７は半導体光増幅器である。１８は電源であって，半導体光増幅器に励起電流を供給するものである。図１０のシステムにおいて半導体光増幅器１７がレーザ光を発生するとともに光増幅する点以外は図５のシステムの動作と同じである。
【００３６】
【発明の効果】
本発明によれば，高次のパルス繰り返し周波数をもつ光パルス列をアクティブ・ハーモニカリ・モードロック・ファイバリングレーザにおいて生成することができる。本発明では，ファイバ ファブリ−ペロフィルタと，わずかに異なる長さの２つの光ファイバで構成される複合キャビティをファイバリングキャビティに挿入する。生成される光パルス列はスペクトル純度の高い安定なものである。そのため，本発明によれば，（ｉ）図２（ａ）に示されるように，電気発振器２１，電気増幅器２２およびマッハ・ツェンダ強度変調器４のような比較的に周波数の低いドライブ電子機器を使用して，非常に高い繰り返し周波数の光パルス列を生成することができる，また，（ii）高い安定性と高い光繰り返し周波の光パルスを必要とする通信システムを簡単な構成で作ることができる。
【００３７】
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（９）K.K. Gupta, N. Onodera, and M. Hyodo, "Technique to generate equal amplitude, higher-order optical pulses in rational harmonically modelocked fibre ring laser," Electron. Lett., vol. 37, no. 15, pp. 948-950, 2001.
（１０）N. Onodera, "Supermode beat suppression in harmonically mode-locked erbium-doped fibre ring lasers with composite cavity structure," Electron. Lett., vol. 33, no. 11, pp. 962-963, 1997.
（１１）D.Von der Linde, "Characterisation of noise in continuously operating mode-locked laser," Appl. Phys. B, vol 39, pp. 201-217, 1986.
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の原理を説明する図である。
【図２】本発明の実施の形態１の構成を示す図である。
【図３】本発明で出力される光パルスのＲＦスペクトルを示す図である。
【図４】本発明で生成された光パルスをサンプリングオシロスコープで観測した例を示す図である。
【図５】本発明で生成された光パルスのスペクトルをサンプリングオシロスコープで観測した例を示す図である。
【図６】本発明で生成された光パルスをＳＨＧオートコリレータで測定したスペクトルを示す図である。
【図７】本発明で生成された光パルスのスペクトルの例を示す図である。
【図８】本発明で生成された光パルスのスペクトルの例を示す図である。
【図９】本発明で生成された光パルスのシングルサイドバンドスペクトルノイズ分布の測定結果を示す図である。
【図１０】本発明の実施の形態２の構成を示す図である。
【図１１】従来のＭＬ−ＦＲＬの構成を示す図である。
【符号の説明】
Ａ：光増幅器
１：利得媒体
２：光源
３：光結合器
４：変調器
５，６，７：光アイソレータ
８：ポーラライゼーションコントローラ
９：光結合器
１０：光バンドパスフィルタ
１２: 光ファイバ
２１：電気発振器
２２：電気増幅器
２３：光検出器
２４：測定器
２５：ファブリ−ペロフィルタ
２６：複合キャビティ
２７：光パルス繰り返し周波数逓倍部
２８：光遅延線

Claims (7)

  1. 光ファイバと光増幅器と光変調をする変調器により構成される光ファイバリングと，高周波電気信号を発生する電気発振器とを備え，該変調器に周波数ｆm の電気信号を印加した時，繰り返し周期がｆm の整数倍となる光パルス列を生成する光パルス繰り返し周波数逓倍装置であって、
    該印加周波数ｆm の整数倍の周波数を通過させるフィルタと長さの異なる光ファイバを並列に接続した複合キャビティをそれぞれ該光ファイバリングに備え，
    該複合キャビティの長さの長いほうのキャビティで決められる光ファイバリングの共振周波数ｆc 1 と該複合キャビティの長さの短いほうのキャビティで決められる光ファイバリングの共振周波数ｆc 2 との共通高調波の最も低い高調波をｆc ’とし，該フィルタにより決められる通過周波数をＫｆm （Ｋは整数）と表すならば，
    ｆc ’はＫｆm の整数倍であり，生成される光パルスの繰り返し周波数がＰ×Ｋ×ｆm （Ｐは整数）であることを特徴とする光パルス繰り返し周波数逓倍装置。
  2. 該フィルタはファブリ−ペロフィルタであることを特徴とする請求項１に記載の光パルス繰り返し周波数逓倍装置。
  3. 該変調器はマッハ・ツェンダ変調器であり，伝送特性曲線のクワドゥラチュールポイントの電圧にバイアスされ，印加する変調信号周波数のサイドバンドを生成することを特徴とする請求項１もしくは２に記載の光パルス繰り返し周波数逓倍装置。
  4. 光増幅器は光増幅特性を有する光ファイバと励起光源により構成されることを特徴とする請求項１，２もしくは３に記載の光パルス繰り返し周波数逓倍装置。
  5. 該光ファイバは稀土類元素をドープしたものであることを特徴とする請求項４に記載の光パルス繰り返し周波数逓倍装置。
  6. 光増幅器はラマン増幅を利用したものであることを特徴とする請求項４に記載の光パルス繰り返し周波数逓倍装置。
  7. 光増幅器は半導体レーザ増幅器と励起電流の電源により構成されることを特徴とする請求項１，２もしくは３に記載の光パルス繰り返し周波数逓倍装置。
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