JP3736224B2 - Piezoelectric vibrating piece processing method and processing apparatus - Google Patents

Piezoelectric vibrating piece processing method and processing apparatus Download PDF

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  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、圧電振動片をパッケージに内蔵した圧電振動子の製造工程における周波数調整方法等に利用される圧電振動片の加工方法及び加工装置の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、HDD(ハード・ディスク・ドライブ)、モバイルコンピュータ、あるいはICカード等の小型の情報機器や、携帯電話、自動車電話、あるいはページングシステム等の移動体通信機器において装置の小型薄型化がめざましく、それらに用いられる圧電振動子等の圧電デバイスも小型薄型化が要求されている。
またそれとともに、装置の回路基板に両面実装が可能な表面実装タイプの圧電振動子が求められている。
【0003】
そこで、従来の圧電振動子の一例を、圧電振動片に音叉型の水晶振動片を用いた図8(a),(b)の構造図で示される低中周波水晶振動子を用いて説明する。低中周波水晶振動子とは、代表的な時計用の32.768KHz及びICカードやページャ等に用いられる数KHz〜数百KHzの周波数を有する水晶振動子である。
【0004】
図8(a),(b)において、圧電振動片2は、水晶基板から音叉型に形成され、その表面に駆動用の金属電極を設けた水晶振動片として形成されている。
【0005】
この水晶振動片2は、セラミックの積層基板で形成されたベース3の台座部4に導電性の接着剤5等でマウント接合されている。そして、ベース3の内部空間を上から塞ぐように、透明なガラス材で形成されたリッド6により真空雰囲気中で封止されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述の圧電振動子1では、上記のように、リッド6により真空封止した後において、更にレーザ等によりガラス製のリッド6越しにトリミング加工がされ、周波数の調整がされている。ここでは、図9に示されているように、圧電振動片2の先端に、電極の上に重ねて予め金属被覆により設けられた周波数調整部2aに対して、リッド6を透過してレーザ光Lが照射されることにより、この金属被覆部がレーザ光の集光スポットに対応した箇所で高温に加熱され蒸散される。
【0007】
これにより、圧電振動片2は、その分軽くなり、周波数性能で、700ppm程度のずれ量から50ppmのずれ量程度まで調整される。
【0008】
しかしながら、従来のレーザ光による周波数調整では、図9に示すように、レーザ光による光ビームLは、周波数調整部2aのみならず、透明な水晶材料を透過して裏面側の金属被覆部2bまで加熱してしまう場合があった。
【0009】
これにより、裏面側の金属被覆部2bの金属が飛散して、ベース3の内面に付着したり、これが衝撃等により剥がれて絶縁されている電極部等の間に付着したりしてショートの原因になったりする不都合があった。
【0010】
さらに、レーザ光による加工の際に1工程(1ショット)で、5ppmないし10ppm程度周波数が変動することから、封止後の全体のバラツキが50ppmないし100ppmと大きくなってしまい、不良品となることで歩留りが低下するという問題があった。
【0011】
本発明の目的は、以上の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、レーザ光による周波数調整の際の1工程における周波数のずれ量を小さくして、精密に周波数調整でき、高精度の圧電振動子等を得るための加工方法と加工装置を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、請求項1記載の発明にあっては、圧電振動片をパッケージ内に収納し、前記圧電振動片の所定の金属被覆部の金属被膜に対してレーザ光を照射してトリミング加工することにより周波数調整する加工方法であって、レーザ光発生手段からの波長700nm以下のレーザパワーを減少させるよう調整するとともに、前記レーザ光を短焦点の光集束手段により前記金属被膜に集光させる、圧電振動片の加工方法により、達成される。
【0013】
請求項1の構成によれば、パワーを減少させるよう調整したレーザ光を前記短焦点の光集束手段により、前記圧電振動片の表面側の金属被膜に適切なスポット径にて集束させることができる。これにより、圧電振動片の表面側だけにトリミング加工を行うことがことができる。
【0014】
すなわち、光集束手段の焦点距離が長いと、加工すべき圧電振動片の表面側のスポット径と、この光ビームが圧電振動片の材料をその厚み方向に透過して裏側へぬける場合、この裏側のスポット径が表側のスポット径とがあまり変わらずに、同様のスポット径で集光されてしまうために、表側と裏側が同時に加工されてしまう。このため、請求項1の発明では、光集束手段を短焦点とするとともに、レーザ光の波長を700nm以下に設定することで、加工すべき圧電振動片の表面側に適切な小さなビームスポットを形成することができる。
【0015】
ここで、レーザ光は、その波長により、照射された金属面における反射率が異なり、700nm以下では、反射率が低下して、吸収されやすくなる。このため、加工すべき圧電振動片の表面側に小さなビームスポットを形成してもより多くのエネルギーが加工すべき金属面に吸収されるので、有効に加工することが可能である。
【0016】
しかも、レーザ光のパワーを減少させるよう調整することで、加工すべき表側だけに、加工に必要なパワーを集光させ、このレーザ光は、圧電振動片の裏側では、スポット径が大きく、かつパワーが小さくなるために、加工されない。
【0017】
このため、1回の加工による周波数の調整量を小さくすることができ、精密な調整が可能となる。しかも、圧電振動片の裏側の金属被膜は蒸散されないという作用を発揮する。
【0018】
請求項2の発明は請求項1の構成において、前記レーザ光は、YAGレーザ,YVOレーザまたはYLFレーザにより生成され、そのレーザ光の波長は、前記YAGレーザ,YVOレーザまたはYLFレーザの高調波が利用されることを特徴とする。
【0019】
請求項2の構成によれば、YAGレーザ,YVOレーザまたはYLFレーザの高調波を用いれば、短焦点で集束するレーザ光を容易に得ることができる。
【0020】
請求項3の発明は、請求項1または2のいずれかの構成において、前記レーザ光のスポット径が、圧電振動片に対する照射位置にて、ほぼ5μmであることを特徴とする。
【0021】
請求項3の構成によれば、圧電振動片に対する照射位置,すなわち、圧電振動片の表面側の金属被膜に約5μmのスポット径にてレーザ光を照射することにより、さらに水晶材料を透過した裏側では、スポット径は大きくなり、圧電振動片の裏側の金属被膜は蒸散されない。
【0022】
請求項4の発明は、請求項1ないし3のいずれかの構成において、前記レーザ光による加工中に少なくとも加工部周辺を冷却することを特徴とする。
【0023】
請求項4の構成によれば、レーザ光の集束した加工箇所の高温が周辺に伝わることを防止でき、圧電振動片が加工中に熱で周波数変化することを防止できる。
【0024】
請求項5の発明は、請求項1ないし4のいずれかの構成において、前記圧電振動片の所定の金属被膜に、短焦点の光集束手段により集束された、波長が700nm以下のレーザ光を第1のパワーにて照射し、前記圧電振動片の表面の前記金属被膜を蒸散させるとともに、この圧電振動片を透過して裏面の前記金属被膜を蒸散させ、次いで、前記レーザ光を第1のパワーより小さい第2のパワーにして前記圧電振動片の表面に照射して、この表面の前記金属被膜のみをさらに蒸散させることにより、微調整がおこなわれることを特徴とする。
【0025】
先ず、圧電振動片の表裏両面をレーザ光により加工して、周波数を粗調整し、次いで、圧電振動片の表面側の金属被膜だけ蒸散させて、精密に周波数を合わせこむことができる。
【0026】
また、上記目的は、請求項6記載の発明にあっては、波長700nm以下のレーザ光を発生するレーザ光発生手段と、前記レーザ光のパワーを減少させるよう調整する手段と、調整された前記レーザ光を圧電振動片の所定の照射位置に集束するための短焦点の光集束手段とを備える、圧電振動片の加工装置により、達成される。
【0027】
請求項6の構成によれば、前記レーザ光発生手段からの光ビームのパワーを減少させ、短焦点の光集束手段にて、前記圧電振動片の表面側の金属被膜に適切なスポット径にてレーザ光を集束させることができ、これにより、圧電振動片の表面側だけにトリミング加工を行うことがことができる。このため、1回の加工による周波数の調整量を小さくすることができ、精密な調整を行うことができる。
【0028】
請求項7の発明は請求項5または6の構成において、前記光集束手段の前段に、光分割手段を配置することにより複数本の光ビームを生成するようにしたことを特徴とする。
【0029】
請求項7の構成によれば、光分割手段にて、光源からの前記波長のレーザ光を複数の光ビームに分割することで、適切なパワーの複数本の光ビームを得ることができ、各分割された光ビームを利用することで、ひとつの圧電振動片の複数の箇所を同時にトリミング加工することができる。
【0030】
【発明の実施の形態】
図面を参照して、本発明の圧電振動子の実施の形態を説明する。
【0031】
図1及び図2は、例えば圧電振動片として、音叉型の水晶振動片を用いた、時計用の32.768KHz水晶振動子の例であり、図1は、その縦断面図、図2は、平面図である。
【0032】
これらの図に示すように、圧電振動子10においては、3層のセラミック基板11a,11b,11cで内部空間Sを形成するようにベース11が設けられている。このうち、2層のセラミック基板11a,11bが積層されたベース11上の一端部に、金属でメタライズされ表面にNi及びAuメッキが施された電極部12a、12bが形成されている。このベース11の電極部12a、12b上に、駆動用の金属電極が表面に形成された圧電振動片としての例えば音叉型の水晶振動片13の電極部(図示せず)を、アライメントしてマウントし、導電性の接着剤15,15で電気的に接続固定している。ここで、水晶振動片13は、先端側で2つに分かれた振動腕13a,13aを備えている。そして、振動腕13aの先端部には、予め、スパッタリング等の手法により、AuあるいはAg等の金属被膜部13bが形成されている。
【0033】
さらに、透光材料,例えばガラスで形成したリッド(蓋)16をベース11にアライメントして封止材17を用いて、例えば加熱炉等により、封止材17を溶かして第1の封止により封止固定されている。
【0034】
このようにして、圧電振動片13はベース11とリッド16でなるパッケージ18に封入されている。
【0035】
このベース11の底面には、図1に示されているように、パッケージ18の内部と、外部を連通する開口部19が形成されている。そして、後述する周波数調整後に、この開口部19を用いて、第2の封止が行われる。
【0036】
図3は、上記第1の封止の次の加工工程である周波数調整工程を示している。第1の封止が行われた圧電振動子10を図示のように配置し、その上に後述する加工装置20を配置する。そして、この圧電振動子10内に封止されている圧電振動片13の周波数調整部(粗・微調部)である金属被膜部13bに対して、図示のように加工用のレーザ光Lを照射して、高温によりこの金属被膜部13bの金属被膜をトリミング加工により、蒸発させ、振動腕13aの重さを軽くして、周波数が高くなる方向へ周波数調整する。
【0037】
図4は、このような加工装置20の概略構成を示す光学ブロック図である。
【0038】
図において、加工装置20は、レーザ光発生手段21と、このレーザ光発生手段21から出射される光ビームL1が入射するパワー減少手段22と、このパワー減少手段22から出射する光ビームL2の光路を変更する光路変換手段23と、光路変換手段23からの光ビームが入射する光集束手段24とを備えている。レーザ光発生手段21は、レーザ光源を有している。この場合レーザ光源としては、例えばYAG(yttrium aluninum garnet)レーザやYVOレーザまたはYLFレーザ等が利用される。
【0039】
ここで、YAGレーザは、YAl12の母体結晶にネオジウムイオンや、ホロニウムイオンをドープしたYAGレーザロッド等を用いた固体レーザとして広く使用されており、通常、発振波長は1064nmである。本実施形態では、特に、この波長をそのまま用いることなく、好適には、このYAGレーザの第2高調波を用いる。
【0040】
すなわち、例えばレーザ光発生手段21は、上記YAGレーザの第2高調波を発生する手段を内蔵している。ここで、所定のパワー密度を有するレーザ光は、透明な媒質を通過する際に、数次の高調波を発生する。この性質を利用して、レーザ光発生手段21には、位相整合可能な2次の非線形媒質,例えば、KDPやLiNbO3等を波長変換素子とした公知の2次高調波発生手段SHG(second homonic generater)が備えられている。
【0041】
これにより、例えばレーザ光発生手段21から出射される光ビームL1は、YAGレーザの第2高調波として、532nmの波長に波長変換されている。ここで、加工に利用されるレーザ光は、YAGレーザの第2高調波だけでなく、波長700nm以下であれば、本実施形態の方法に使用することができるが、このようにYAGレーザの第2高調波を利用することによって、加工に適した波長の光ビームを比較的容易に得ることができる。
【0042】
パワー減少手段22は、例えばアッテネータが用いられ、パワー調整して10〜20mW(ミリワット)の光ビームL2を出射する。
【0043】
そして、光路変換手段23は、例えば反射ミラーを利用した光路折り曲げミラーが使用され、光ビームL2の光路を90度折り曲げることによって、装置全体の構成を小さくすることができる。
【0044】
そして、光ビームL2が入射する光集束手段24は、例えば図5のように構成される。
【0045】
光集束手段24は、特に短焦点のものが利用されており、好適には、その焦点距離は、50mm以下である。光集束手段24の焦点距離fが長いと、加工すべき圧電振動片13の振動腕13aの表面側の金属被膜13bに集光するスポット径と、この光ビームL3が圧電振動片13の材料をその厚み方向に透過して裏側へぬける場合、この裏側の金属被膜13cにおけるスポット径が表側のスポット径とがあまり変わらずに、同様に集光されてしまうために、表側と裏側が同時に加工されてしまうからである。この点、圧電振動片13の材料の厚みは、100μm程度であることから、この焦点距離を短く設定することは特に重要である。光集束手段24は、この実施形態では、例えば、短焦点の凸レンズが使用されている。光集束手段24は、光ビームL2を圧電振動片13の振動腕13aに形成した金属被膜13bに集束させる機能を果たせば、他の光学素子,例えばホログラム素子等適宜利用することが可能である。
【0046】
この場合、上記凸レンズ24は、レンズ形D=16mm、焦点距離=100mm、そして、入射する光ビームL2の波長λ=532nmとした時に、スポット径d=5μmとすることができ、光ビームL2として好適な加工用スポットを得ることができた。この時のレーザ光発生手段21によるレーザパワーは、パルス発振の繰り返し数が3kHzのとき、ほぼ10mWないし15mWで、1ショットに60ns程度の時間を設定した。
【0047】
ここで、光集束手段24から出射する光ビームL3の波長は、上述のようにλ=532nmで、700nm以下に設定されている。このように設定したのは、レーザ光が、その波長により、照射された金属面における反射率が異なり、700nm以下では、反射率が低下して、吸収されやすく、また、小さなビームスポットを形成することができるからである。このため、加工すべき圧電振動片13の表面側の金属被膜13bに小さなビームスポットを形成しても有効に加工することができる。
【0048】
かくして、上述のような加工装置20を用いて、図3に示したようにレーザ光による周波数調整を行うことにより、圧電振動片13の表面側の金属被膜13bだけを蒸散させることができ、裏側の金属被膜13cは加工されない。
【0049】
これにより、1ショットの加工で、0.1ppm程度の周波数調整が可能で、真空中により、図1の開口部19を塞いだ第2の封止後の性能においても、周波数性能のばらつきをプラスマイナス2ppm程度におさめることができ、精密な周波数調整を実現することが可能である。
【0050】
ここで、少なくとも圧電振動片13の先端近傍に、開口部19を利用して窒素等を吹きつけながら、上記レーザ加工を行うと、さらに好ましい。これにより、レーザ光の集束した加工箇所の高温が周辺に伝わることを防止でき、圧電振動片が加工中に熱で周波数変化することを防止できる。
【0051】
図6は、加工装置20の変形例の要部を示す図であり、この場合、光源からの光ビームL4は、図4の場合と同じく、例えば、YAGレーザやYVOレーザまたはYLFレーザの高調波等を使用することができる。
【0052】
この光ビームL4は、光路上に配置された1/2波長板25に入射され、1/2波長板25から出射された光は、その後段の光分離手段,例えば偏光分離手段としての偏光ビームスプリッタ26に入射され、この偏光ビームスプリッタ26から出射された光ビームL6が、図4の光集束手段24に入射されるようになっている。
【0053】
上記1/2波長板25は、レーザ光L4の直線偏光に関して、P偏光成分とS偏光成分との比率を変換する。
【0054】
偏光ビームスプリッタ26は、例えば、2つの三角プリズムの突き合わされた各斜辺の間に誘電体多層膜でなる偏光分離膜26aを有するキュービック状のビームスプリッタである。これにより、直線偏光の光ビームL5が、所定の角度で偏光分離膜26aに入射されることにより、その光学作用によって、直線偏光成分のうちのP偏光成分とS偏光成分とが所定の割合で偏光分離される。すなわち、偏光分離膜26aに関して、予め設計された透過,反射特性に基づいて、適当なパワーの波長700nm以下の偏光成分が偏光分離膜26aを透過(もしくは反射)されて取り出される。この偏光成分でなる光ビームL6は、偏光分離膜26aの機能により、偏光分離されることによって、パワーが減少されている。
【0055】
このように,この変形例では、1/2波長板25及び偏光ビームスプリッタ26が、光源からのレーザ光のパワーを減少させる手段を構成している。
【0056】
したがって、この光ビームL6を、図3で説明したように、圧電振動子10の金属被膜13bに照射することにより、図4の周波数調整装置を同等の機能を発揮する。
【0057】
尚、偏光ビームスプリッタ26の代わりに、同等の機能を備える偏光性ホログラム素子等の偏光分離手段を用いてもよい。また、1/2波長板25及び偏光ビームスプリッタ26の代わりに、例えば、ウォラストンプリズム等を用いて、光源からの光ビームL4を常光と異常光とに光分離して、同等の機能を発揮するように構成してもよい。
【0058】
図7は、図4の加工装置20のさらに異なる変形例を示している。
【0059】
図において、光集束手段24の前段には、光分割手段27が配置された構成が示されている。
【0060】
すなわち、図7のように光集束手段24の前段に配置された光分割手段27には、レーザ光発生手段21から、波長700nm以下の光ビームL1が入射される。光分割手段27は、例えば位相格子(回折格子−グレーティング)であり、上記レーザ光L1を回折されない0次光と回折作用により位相がずれた回折光とに分割し、光集束手段24により集束される光ビームが複数本,図では、少なくとも3本の光ビームとなるようにすることができる。
【0061】
これにより、3本の光ビームL8,L8,L8は、その分レーザ光L1よりもパワーが小さくなっている。しかも、3本の光ビームL8,L8,L8は、同時に3箇所S1,S2,S3の照射位置にて、圧電振動片の3つの箇所を加工することが可能となり、その分加工効率が向上する。
【0062】
尚、この場合、光分割手段27としては、回折格子だけでなく、所定の回折作用により光ビームを分割できる例えばホログラム素子等を利用するようにしてもよい。
【0063】
さらに、上述の加工方法において、圧電振動片13に対して、最初は、デフォーカスしたり、レーザ照射時間を長くしたりして、従来と同じレーザ加工を行い、次いで、レーザ光を圧電振動片の表面に照射して、表面の金属被覆のみをさらに蒸散させることにより、微調整を行うようにしてもよい。
【0064】
これにより、圧電振動片13の表裏両面をレーザ光により加工して、周波数を粗調整し、次いで、圧電振動片13の表面側の金属被膜13bだけ蒸散させて、精密に周波数を合わせこむことができる。
【0065】
本発明は上述の実施形態や各変形例の個別の態様に限定されず、その構成は任意に組み合わせることができる。
【0066】
また、圧電振動子に限らず、パッケージに発振回路等を有するICチップと水晶振動子を内蔵した水晶発振器や、リアルタイムクロックオシレータ、加速度センサ等にも上述の加工方法を適用することができる。
【0067】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、レーザ光による周波数調整の際の1工程における周波数の調整量を小さくして、精密に周波数調整でき、高精度の圧電振動子等を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る加工方法が適用される圧電振動子の縦断面図。
【図2】本発明の実施形態に係る加工方法が適用される圧電振動子の平面図。
【図3】図1及び図2の圧電振動子のレーザ加工工程を示す概略図。
【図4】本発明の実施形態に係る加工方法に使用される加工装置の光学系の概略構成を示すブロック図。
【図5】図4の加工装置に使用される光集束手段の一例を示す説明図。
【図6】図4の加工装置の変形例の要部を示す説明図。
【図7】図4の加工装置の他の変形例の要部を示す説明図。
【図8】圧電振動子の一例を示すの構造図であり、(a)はその平面図、(b)はその概略側断面図。
【図9】図8の圧電振動子の圧電振動片を加工する様子を示す要部拡大図。
【符号の説明】
10 圧電振動子
11 ベース
13 圧電振動片
13b 金属被膜(粗・微調部)
13c 金属被膜(裏面/粗調部)
16 リッド(蓋)
21 レーザ光発生手段
22 パワー減少手段
23 光路変換手段
24 光集束手段
25 1/2波長板
26 偏光分離手段
27 位相格子
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to, for example, an improvement in a processing method and a processing apparatus for a piezoelectric vibrating piece used in a frequency adjusting method or the like in a manufacturing process of a piezoelectric vibrator having a piezoelectric vibrating piece incorporated in a package.
[0002]
[Prior art]
In recent years, miniaturization and thinning of devices have been remarkable in small information devices such as HDDs (hard disk drives), mobile computers, and IC cards, and mobile communication devices such as mobile phones, car phones, and paging systems. Piezoelectric devices such as piezoelectric vibrators used in the industry are also required to be small and thin.
At the same time, there is a need for a surface mount type piezoelectric vibrator that can be mounted on both sides of the circuit board of the apparatus.
[0003]
Therefore, an example of a conventional piezoelectric vibrator will be described using a low-medium-frequency crystal vibrator shown in the structural diagram of FIGS. 8A and 8B in which a tuning-fork type crystal vibrating piece is used as the piezoelectric vibrating piece. . The low-medium frequency crystal resonator is a crystal resonator having a frequency of 32.768 KHz for a typical timepiece and a frequency of several KHz to several hundred KHz used for an IC card or a pager.
[0004]
8A and 8B, the piezoelectric vibrating piece 2 is formed as a tuning fork type from a quartz substrate, and is formed as a quartz vibrating piece provided with a driving metal electrode on the surface thereof.
[0005]
The quartz crystal resonator element 2 is mounted and joined to a pedestal portion 4 of a base 3 formed of a ceramic laminated substrate with a conductive adhesive 5 or the like. And it is sealed in a vacuum atmosphere by a lid 6 formed of a transparent glass material so as to close the internal space of the base 3 from above.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in the above-described piezoelectric vibrator 1, as described above, after vacuum sealing with the lid 6, trimming is further performed through the glass lid 6 with a laser or the like to adjust the frequency. Here, as shown in FIG. 9, the laser beam is transmitted through the lid 6 to the frequency adjusting portion 2a that is provided on the electrode at the tip of the piezoelectric vibrating piece 2 and is previously provided with a metal coating. By irradiating with L, this metal coating portion is heated to a high temperature at a location corresponding to the focused spot of the laser beam and evaporated.
[0007]
Thereby, the piezoelectric vibrating piece 2 is lightened by that amount, and is adjusted from about 700 ppm to about 50 ppm in terms of frequency performance.
[0008]
However, in the conventional frequency adjustment by the laser beam, as shown in FIG. 9, the light beam L by the laser beam transmits not only the frequency adjustment unit 2a but also the transparent quartz material to the metal coating unit 2b on the back side. There was a case where it was heated.
[0009]
As a result, the metal of the metal cover portion 2b on the back surface is scattered and adheres to the inner surface of the base 3, or it adheres between the insulated electrode portions by peeling off due to impact or the like. There was an inconvenience.
[0010]
Furthermore, since the frequency fluctuates by about 5 ppm to 10 ppm in one step (one shot) during processing with laser light, the overall variation after sealing becomes as large as 50 ppm to 100 ppm, resulting in a defective product. There was a problem that the yield decreased.
[0011]
The object of the present invention has been made to solve the above-mentioned problems. The object of the present invention is to reduce the amount of frequency deviation in one step when adjusting the frequency by laser light, and to precisely adjust the frequency. It is to provide a processing method and a processing apparatus for obtaining a highly accurate piezoelectric vibrator and the like that can be adjusted.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
According to the first aspect of the present invention, the piezoelectric vibrating piece is housed in a package, and trimming is performed by irradiating a metal film on a predetermined metal coating portion of the piezoelectric vibrating piece with a laser beam. A processing method for adjusting the frequency by adjusting the laser power to a wavelength of 700 nm or less from the laser light generating means, and condensing the laser light on the metal film by a short-focus light focusing means. This is achieved by a method for processing a piezoelectric vibrating piece.
[0013]
According to the configuration of the first aspect, the laser beam adjusted to reduce the power can be focused on the metal film on the surface side of the piezoelectric vibrating piece with an appropriate spot diameter by the short-focus light focusing means. . Thereby, trimming can be performed only on the surface side of the piezoelectric vibrating piece.
[0014]
That is, if the focal length of the light focusing means is long, the spot diameter on the surface side of the piezoelectric vibrating piece to be processed, and this back side when the light beam penetrates the material of the piezoelectric vibrating piece in the thickness direction and passes to the back side. Since the spot diameter is not changed much from the spot diameter on the front side and is condensed with the same spot diameter, the front side and the back side are processed at the same time. Therefore, in the first aspect of the invention, an appropriate small beam spot is formed on the surface side of the piezoelectric vibrating piece to be processed by setting the light focusing means to a short focal point and setting the wavelength of the laser light to 700 nm or less. can do.
[0015]
Here, the reflectance of the irradiated metal surface differs depending on the wavelength of the laser beam. When the laser beam is 700 nm or less, the reflectance is lowered and is easily absorbed. For this reason, even if a small beam spot is formed on the surface side of the piezoelectric vibrating piece to be processed, more energy is absorbed by the metal surface to be processed, so that it can be processed effectively.
[0016]
Moreover, by adjusting so as to reduce the power of the laser beam, the power necessary for processing is condensed only on the front side to be processed, and this laser beam has a large spot diameter on the back side of the piezoelectric vibrating piece, and Because the power is small, it is not processed.
[0017]
For this reason, the amount of adjustment of the frequency by one process can be made small, and precise adjustment becomes possible. In addition, the metal film on the back side of the piezoelectric vibrating piece exhibits the effect that it is not evaporated.
[0018]
According to a second aspect of the invention in the configuration of claim 1, wherein the laser beam is a YAG laser, is generated by a YVO 4 laser or a YLF laser, a wavelength of the laser beam, the YAG laser, harmonic of a YVO 4 laser or a YLF laser Waves are used.
[0019]
According to the second aspect of the present invention, if the harmonics of the YAG laser, the YVO 4 laser, or the YLF laser are used, it is possible to easily obtain laser light that is focused at a short focal point.
[0020]
According to a third aspect of the present invention, in the configuration of the first or second aspect, the spot diameter of the laser beam is approximately 5 μm at the irradiation position with respect to the piezoelectric vibrating piece.
[0021]
According to the configuration of the third aspect, the irradiation position on the piezoelectric vibrating piece, that is, the back side that further transmits the quartz material by irradiating the metal film on the surface side of the piezoelectric vibrating piece with a spot diameter of about 5 μm. Then, the spot diameter becomes large, and the metal film on the back side of the piezoelectric vibrating piece is not evaporated.
[0022]
According to a fourth aspect of the present invention, in the structure of any one of the first to third aspects, at least the periphery of the processing portion is cooled during the processing by the laser beam.
[0023]
According to the configuration of the fourth aspect, it is possible to prevent the high temperature of the processing spot where the laser beam is focused from being transmitted to the periphery, and it is possible to prevent the piezoelectric vibrating piece from changing in frequency due to heat during processing.
[0024]
According to a fifth aspect of the present invention, in the configuration according to any one of the first to fourth aspects, a laser beam having a wavelength of 700 nm or less focused on a predetermined metal film of the piezoelectric vibrating piece by a short-focusing light focusing means. Irradiation with a power of 1 causes the metal film on the surface of the piezoelectric vibrating piece to evaporate, and allows the laser beam to pass through the piezoelectric vibrating piece to evaporate the metal film on the back surface. The fine adjustment is performed by irradiating the surface of the piezoelectric vibrating piece with a smaller second power and further evaporating only the metal film on the surface.
[0025]
First, the front and back surfaces of the piezoelectric vibrating piece are processed with laser light to roughly adjust the frequency, and then only the metal film on the surface side of the piezoelectric vibrating piece is evaporated to adjust the frequency precisely.
[0026]
Further, in the invention according to claim 6, the object is to generate laser light having a wavelength of 700 nm or less, means for adjusting to reduce the power of the laser light, and the adjusted This is achieved by a piezoelectric vibrating piece processing apparatus comprising a short-focus light focusing means for focusing laser light on a predetermined irradiation position of the piezoelectric vibrating piece.
[0027]
According to the configuration of the sixth aspect, the power of the light beam from the laser light generating means is reduced, and the spot diameter appropriate for the metal film on the surface side of the piezoelectric vibrating piece is reduced by the short-focusing light focusing means. The laser beam can be focused, so that trimming can be performed only on the surface side of the piezoelectric vibrating piece. For this reason, the amount of frequency adjustment by one processing can be reduced, and precise adjustment can be performed.
[0028]
A seventh aspect of the invention is characterized in that, in the configuration of the fifth or sixth aspect, a plurality of light beams are generated by disposing a light splitting means in front of the light focusing means.
[0029]
According to the configuration of claim 7, by dividing the laser light of the wavelength from the light source into a plurality of light beams by the light dividing means, a plurality of light beams with appropriate power can be obtained, By using the divided light beam, a plurality of portions of one piezoelectric vibrating piece can be trimmed simultaneously.
[0030]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An embodiment of a piezoelectric vibrator of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0031]
1 and 2 are examples of a 32.768 KHz quartz crystal resonator for a watch using a tuning fork type quartz crystal vibrating piece as a piezoelectric vibrating piece, for example, FIG. 1 is a longitudinal sectional view thereof, and FIG. It is a top view.
[0032]
As shown in these drawings, in the piezoelectric vibrator 10, a base 11 is provided so as to form an internal space S with three layers of ceramic substrates 11a, 11b, and 11c. Of these, electrode portions 12a and 12b, which are metallized with metal and plated with Ni and Au, are formed at one end on a base 11 on which two layers of ceramic substrates 11a and 11b are laminated. An electrode portion (not shown) of a tuning-fork type crystal vibrating piece 13 as a piezoelectric vibrating piece having a driving metal electrode formed on the surface thereof is aligned and mounted on the electrode portions 12a and 12b of the base 11. The conductive adhesives 15 and 15 are electrically connected and fixed. Here, the crystal vibrating piece 13 includes two vibrating arms 13a and 13a that are divided into two on the tip side. A metal coating 13b such as Au or Ag is formed in advance on the tip of the vibrating arm 13a by a technique such as sputtering.
[0033]
Further, a lid (lid) 16 formed of a light transmitting material, for example, glass is aligned with the base 11 and the sealing material 17 is used. For example, the sealing material 17 is melted by a heating furnace or the like and the first sealing is performed. It is sealed and fixed.
[0034]
In this manner, the piezoelectric vibrating piece 13 is sealed in the package 18 including the base 11 and the lid 16.
[0035]
As shown in FIG. 1, an opening 19 is formed on the bottom surface of the base 11 to communicate the inside of the package 18 with the outside. Then, after the frequency adjustment described later, the second sealing is performed using the opening 19.
[0036]
FIG. 3 shows a frequency adjustment step which is a processing step subsequent to the first sealing. The piezoelectric vibrator 10 subjected to the first sealing is arranged as shown in the figure, and a processing device 20 described later is arranged thereon. Then, the laser beam L for processing is irradiated to the metal coating portion 13b, which is a frequency adjustment portion (coarse / fine adjustment portion) of the piezoelectric vibrating piece 13 sealed in the piezoelectric vibrator 10, as shown in the figure. Then, the metal film of the metal film part 13b is evaporated by trimming at a high temperature, the weight of the vibrating arm 13a is reduced, and the frequency is adjusted in the direction of increasing the frequency.
[0037]
FIG. 4 is an optical block diagram showing a schematic configuration of such a processing apparatus 20.
[0038]
In the drawing, a processing apparatus 20 includes a laser beam generating unit 21, a power reducing unit 22 on which a light beam L 1 emitted from the laser beam generating unit 21 is incident, and an optical path of the light beam L 2 emitted from the power reducing unit 22. And a light focusing means 24 on which a light beam from the light path changing means 23 is incident. The laser light generating means 21 has a laser light source. In this case, as a laser light source, for example, a YAG (yttrium aluminum garnet) laser, a YVO 4 laser, a YLF laser, or the like is used.
[0039]
Here, the YAG laser is widely used as a solid-state laser using a YAG laser rod doped with neodymium ions or holonium ions in a Y 3 Al 5 O 12 base crystal, and the oscillation wavelength is usually 1064 nm. is there. In the present embodiment, the second harmonic of this YAG laser is preferably used without using this wavelength as it is.
[0040]
That is, for example, the laser beam generating means 21 incorporates means for generating the second harmonic of the YAG laser. Here, a laser beam having a predetermined power density generates several harmonics when passing through a transparent medium. Utilizing this property, the laser light generating means 21 includes a second-order nonlinear generator capable of phase matching, for example, a known second harmonic generating means SHG (second homogenator) using a wavelength conversion element such as KDP or LiNbO3. ) Is provided.
[0041]
Thereby, for example, the light beam L1 emitted from the laser light generating means 21 is wavelength-converted to a wavelength of 532 nm as the second harmonic of the YAG laser. Here, the laser beam used for processing is not limited to the second harmonic of the YAG laser but can be used in the method of the present embodiment as long as the wavelength is 700 nm or less. By utilizing the second harmonic, a light beam having a wavelength suitable for processing can be obtained relatively easily.
[0042]
For example, an attenuator is used as the power reducing means 22 and the power is adjusted to emit a light beam L2 of 10 to 20 mW (milliwatt).
[0043]
For the optical path conversion means 23, for example, an optical path bending mirror using a reflecting mirror is used. By bending the optical path of the light beam L2 by 90 degrees, the overall configuration of the apparatus can be reduced.
[0044]
The light focusing means 24 on which the light beam L2 is incident is configured as shown in FIG. 5, for example.
[0045]
As the light focusing means 24, a short focal point is used, and the focal length is preferably 50 mm or less. When the focal length f of the light focusing means 24 is long, the spot diameter focused on the metal film 13b on the surface side of the vibrating arm 13a of the piezoelectric vibrating piece 13 to be processed, and the light beam L3 changes the material of the piezoelectric vibrating piece 13. When passing through the thickness direction and passing through to the back side, the spot diameter on the metal film 13c on the back side does not change much from the spot diameter on the front side, and is similarly condensed, so the front side and the back side are processed simultaneously. Because it will end up. In this respect, since the thickness of the material of the piezoelectric vibrating piece 13 is about 100 μm, it is particularly important to set this focal length short. In this embodiment, for example, a short focus convex lens is used as the light focusing means 24. If the light converging means 24 has a function of converging the light beam L2 onto the metal film 13b formed on the vibrating arm 13a of the piezoelectric vibrating piece 13, other optical elements such as a hologram element can be used as appropriate.
[0046]
In this case, the convex lens 24 can have a spot diameter d = 5 μm when the lens shape D = 16 mm, the focal length = 100 mm, and the wavelength λ = 532 nm of the incident light beam L2, and the light beam L2 A suitable processing spot could be obtained. At this time, the laser power by the laser light generating means 21 was about 10 mW to 15 mW when the number of repetitions of pulse oscillation was 3 kHz, and a time of about 60 ns was set for one shot.
[0047]
Here, the wavelength of the light beam L3 emitted from the light focusing unit 24 is set to λ = 532 nm and 700 nm or less as described above. The reason why the laser beam is set in this way is that the reflectivity of the irradiated metal surface differs depending on the wavelength of the laser beam. When the laser beam is 700 nm or less, the reflectivity is reduced and is easily absorbed, and a small beam spot is formed. Because it can. For this reason, even if a small beam spot is formed on the metal film 13b on the surface side of the piezoelectric vibrating piece 13 to be processed, it can be processed effectively.
[0048]
Thus, by using the processing apparatus 20 as described above and adjusting the frequency by the laser beam as shown in FIG. 3, only the metal coating 13b on the surface side of the piezoelectric vibrating piece 13 can be evaporated, and the back side The metal coating 13c is not processed.
[0049]
As a result, it is possible to adjust the frequency to about 0.1 ppm by one-shot processing, and in the performance after the second sealing in which the opening 19 in FIG. It can be set to about minus 2 ppm, and precise frequency adjustment can be realized.
[0050]
Here, it is more preferable to perform the laser processing while blowing nitrogen or the like at least near the tip of the piezoelectric vibrating piece 13 using the opening 19. As a result, it is possible to prevent the high temperature of the processing spot where the laser beam is focused from being transmitted to the periphery, and it is possible to prevent the piezoelectric vibrating piece from changing in frequency due to heat during processing.
[0051]
FIG. 6 is a diagram illustrating a main part of a modification of the processing apparatus 20. In this case, the light beam L4 from the light source is, for example, a harmonic of a YAG laser, a YVO 4 laser, or a YLF laser, as in FIG. Waves etc. can be used.
[0052]
The light beam L4 is incident on a half-wave plate 25 disposed on the optical path, and the light emitted from the half-wave plate 25 is a polarized light beam as a subsequent light separation unit, for example, a polarization separation unit. A light beam L6 incident on the splitter 26 and emitted from the polarization beam splitter 26 is incident on the light focusing means 24 of FIG.
[0053]
The half-wave plate 25 converts the ratio of the P-polarized component and the S-polarized component with respect to the linearly polarized light of the laser light L4.
[0054]
The polarization beam splitter 26 is, for example, a cubic beam splitter having a polarization separation film 26a made of a dielectric multilayer film between the oblique sides where two triangular prisms are abutted. As a result, the linearly polarized light beam L5 is incident on the polarization separation film 26a at a predetermined angle, so that the optical action causes the P-polarized component and the S-polarized component of the linearly polarized components to be at a predetermined ratio. Polarized light is separated. That is, with respect to the polarization separation film 26a, a polarized light component having an appropriate power wavelength of 700 nm or less is transmitted through (or reflected from) the polarization separation film 26a based on transmission and reflection characteristics designed in advance. The light beam L6 composed of this polarization component is polarized and separated by the function of the polarization separation film 26a, so that the power is reduced.
[0055]
Thus, in this modification, the half-wave plate 25 and the polarizing beam splitter 26 constitute a means for reducing the power of the laser light from the light source.
[0056]
Therefore, by irradiating the light beam L6 onto the metal coating 13b of the piezoelectric vibrator 10 as described with reference to FIG. 3, the frequency adjusting device of FIG.
[0057]
Instead of the polarization beam splitter 26, a polarization separation means such as a polarization hologram element having an equivalent function may be used. Further, instead of the half-wave plate 25 and the polarizing beam splitter 26, for example, a Wollaston prism or the like is used to separate the light beam L4 from the light source into ordinary light and extraordinary light, thereby exhibiting an equivalent function. You may comprise.
[0058]
FIG. 7 shows still another modification of the processing apparatus 20 of FIG.
[0059]
In the figure, a configuration in which the light splitting means 27 is arranged in the preceding stage of the light focusing means 24 is shown.
[0060]
That is, as shown in FIG. 7, a light beam L1 having a wavelength of 700 nm or less is incident from the laser light generating means 21 to the light splitting means 27 arranged in the preceding stage of the light focusing means 24. The light splitting means 27 is, for example, a phase grating (diffraction grating-grating), splits the laser light L1 into zero-order light that is not diffracted and diffracted light whose phase is shifted by the diffraction action, and is focused by the light focusing means 24. A plurality of light beams, in the figure, at least three light beams can be provided.
[0061]
As a result, the power of the three light beams L8, L8, and L8 is smaller than that of the laser beam L1. Moreover, the three light beams L8, L8, and L8 can simultaneously process the three locations of the piezoelectric vibrating piece at the irradiation positions of the three locations S1, S2, and S3, and the processing efficiency is improved accordingly. .
[0062]
In this case, as the light splitting means 27, not only a diffraction grating but also a hologram element or the like that can split a light beam by a predetermined diffraction action may be used.
[0063]
Further, in the above-described processing method, first, the piezoelectric vibrating piece 13 is defocused or laser irradiation time is extended to perform the same laser processing as before, and then the laser beam is applied to the piezoelectric vibrating piece. Fine adjustment may be performed by irradiating only the surface of the metal coating and further evaporating only the metal coating on the surface.
[0064]
As a result, both the front and back surfaces of the piezoelectric vibrating piece 13 are processed with laser light to roughly adjust the frequency, and then only the metal coating 13b on the surface side of the piezoelectric vibrating piece 13 is evaporated to precisely adjust the frequency. it can.
[0065]
The present invention is not limited to the individual embodiments of the above-described embodiments and modifications, and the configurations can be arbitrarily combined.
[0066]
Further, the above processing method can be applied not only to the piezoelectric vibrator but also to a crystal oscillator, a real-time clock oscillator, an acceleration sensor, and the like in which an IC chip having an oscillation circuit or the like in a package and a crystal vibrator are incorporated.
[0067]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the amount of frequency adjustment in one step at the time of frequency adjustment using laser light, and to provide a highly accurate piezoelectric vibrator and the like that can precisely adjust the frequency. it can.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a piezoelectric vibrator to which a processing method according to an embodiment of the present invention is applied.
FIG. 2 is a plan view of a piezoelectric vibrator to which a processing method according to an embodiment of the present invention is applied.
3 is a schematic view showing a laser processing step of the piezoelectric vibrator of FIGS. 1 and 2. FIG.
FIG. 4 is a block diagram showing a schematic configuration of an optical system of a processing apparatus used in a processing method according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is an explanatory view showing an example of light focusing means used in the processing apparatus of FIG. 4;
6 is an explanatory view showing a main part of a modification of the processing apparatus of FIG.
7 is an explanatory view showing a main part of another modification of the processing apparatus of FIG. 4;
8A and 8B are structural views showing an example of a piezoelectric vibrator, in which FIG. 8A is a plan view and FIG. 8B is a schematic side sectional view thereof.
9 is an enlarged view of a main part showing a state of processing a piezoelectric vibrating piece of the piezoelectric vibrator of FIG. 8;
[Explanation of symbols]
10 Piezoelectric vibrator 11 Base 13 Piezoelectric vibrating piece 13b Metal coating (coarse / fine adjustment)
13c Metal coating (back / rough adjustment)
16 Lid
21 Laser light generating means 22 Power reducing means 23 Optical path changing means 24 Light focusing means 25 1/2 wavelength plate 26 Polarization separating means 27 Phase grating

Claims (7)

圧電振動片をパッケージ内に収納し、前記圧電振動片の所定の金属被覆部の金属被膜に対してレーザ光を照射してトリミング加工することにより周波数調整する加工方法であって、
レーザ光発生手段からの波長700nm以下のレーザパワーを減少させるよう調整するとともに、前記レーザ光を短焦点の光集束手段により前記金属被膜に集光させる
ことを特徴とする圧電振動片の加工方法。
A method of adjusting a frequency by housing a piezoelectric vibrating piece in a package and performing trimming by irradiating a laser beam to a metal film of a predetermined metal coating portion of the piezoelectric vibrating piece,
A method for processing a piezoelectric vibrating piece, wherein adjustment is made to reduce laser power having a wavelength of 700 nm or less from the laser light generating means, and the laser light is condensed on the metal film by short-focus light focusing means.
前記レーザ光は、YAGレーザ,YVO4 レーザまたはYLFレーザにより生成され、そのレーザ光の波長は、前記YAGレーザ,YVO4 レーザまたはYLFレーザの高調波が利用される請求項1に記載の圧電振動片の加工方法。The laser beam is a YAG laser, it is generated by a YVO 4 laser or a YLF laser, a wavelength of the laser beam, the piezoelectric vibration according to claim 1, wherein the YAG laser, harmonic YVO 4 laser or a YLF laser is used Processing method of the piece. 前記レーザ光のスポット径が、圧電振動片に対する照射位置にて、ほぼ5μmである、請求項1または2のいずれかに記載の圧電振動片の加工方法。  3. The method for processing a piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein a spot diameter of the laser beam is approximately 5 μm at an irradiation position on the piezoelectric vibrating piece. 前記レーザ光による加工中に少なくとも加工部周辺を冷却する請求項1ないし3のいずれかに記載の圧電振動片の加工方法。  The method for processing a piezoelectric vibrating piece according to claim 1, wherein at least the periphery of the processing portion is cooled during processing by the laser beam. 前記圧電振動片の所定の金属被膜に、短焦点の光集束手段により集束された、波長が700nm以下のレーザ光を第1のパワーにて照射し、
前記圧電振動片の表面の前記金属被膜を蒸散させるとともに、この圧電振動片を透過して裏面の前記金属被膜を蒸散させ、
次いで、前記レーザ光を第1のパワーより小さい第2のパワーにして前記圧電振動片の表面に照射して、この表面の前記金属被膜のみをさらに蒸散させることにより、微調整がおこなわれる請求項1ないし4のいずれかに記載の圧電振動片の加工方法。
Irradiating a predetermined metal film of the piezoelectric vibrating piece with a first power with a laser beam having a wavelength of 700 nm or less, which is focused by a short focus light focusing means,
The transpiration of the metal film on the surface of the piezoelectric vibrating piece, the transpiration of the metal film on the back surface through the piezoelectric vibrating piece,
Next, fine adjustment is performed by irradiating the surface of the piezoelectric vibrating piece with the laser beam at a second power smaller than the first power and further evaporating only the metal film on the surface. 5. A method for processing a piezoelectric vibrating piece according to any one of 1 to 4.
波長700nm以下のレーザ光を発生するレーザ光発生手段と、
前記レーザ光のパワーを減少させるよう調整する手段と、
調整された前記レーザ光を圧電振動片の所定の照射位置に集束するための短焦点の光集束手段と
を備えることを特徴とする、圧電振動片の加工装置。
Laser light generating means for generating laser light having a wavelength of 700 nm or less;
Means for adjusting to reduce the power of the laser beam;
An apparatus for processing a piezoelectric vibrating piece, comprising: a short-focusing light focusing means for focusing the adjusted laser beam on a predetermined irradiation position of the piezoelectric vibrating piece.
前記光集束手段の前段に、光分割手段を配置することにより複数本の光ビームを生成するようにした請求項6に記載の圧電振動片の加工装置。  The apparatus for processing a piezoelectric vibrating piece according to claim 6, wherein a plurality of light beams are generated by disposing a light splitting unit in front of the light focusing unit.
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