JP3734075B2 - Compound memory - Google Patents

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はフローティングゲートを有し、他の半導体記憶装置の不良アドレスを記憶することが可能な不揮発性半導体記憶装置と、外部からの信号により冗長救済用のスペアメモリにアクセスすることが可能な半導体記憶装置とを、同一パッケージ内に封入した複合メモリに関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体記憶装置の製造工程では、歩留りを向上させるためにテストで不良となったメモリセルをスペアのメモリセルと置き換える冗長救済を行い、最終的に良品とする手法が用いられる。これは、一般的にはウエハテスト工程において、不良となったメモリセルのアドレスが入力された場合にスペアのメモリセルを選択するように、ヒューズをトリマなどでトリミングすることにより行われる。
【0003】
図7に、従来の半導体記憶装置のウエハテストフローを示す。まず、プリテスト工程において冗長救済のためのデータを収集する。そして、次のトリミング工程において、図8に示すような半導体記憶装置のチップ内に設けられたヒューズを切断するためにトリミングを行う。このヒューズが切断されると、冗長救済信号がLOWレベルになり、スペアのメモリセルがアクセスされる。その後、不良となったメモリセルがスペアのメモリセルと置き換わったかどうかを確認するために、ポストテスト工程を行う場合がある。
【0004】
しかし、このような冗長救済方法では、パッケージ後にバーンインなどにより不良となったり、図7のポストテスト工程を行っていない場合にスペアのメモリセルが不良であったときには、半導体記憶装置の冗長救済を行うことができない。また、ウエハテスト工程においてトリミングを行う必要があるため、テスト工数が増え、製品のコストアップにつながる。さらに、ヒューズを切断しないとスペアのメモリセルにアクセスすることができないので、ウエハテスト時にスペアのメモリセルを試験することは非常に困難である。従って、ヒューズ切断後に不良となったメモリセルをスペアのメモリセルに置き換えても、スペアのメモリセルが不良である場合があるので、救済率を低下させることになり、半導体記憶装置の歩留り低下につながる。
【0005】
このような問題を解決するために、特開平8−16486に開示されているような方法が考案されている。これは、冗長救済用に新たなLSIを開発して半導体記憶装置と同一パッケージ内に封入し、半導体記憶装置の不良部分と置き換えるというものである。また、特開平10−149694に開示されているような方法も考案されている。これは、半導体記憶装置の内部にEEPROMを設けて不良アドレスをEEPROMに書き込み、パッケージ後も半導体記憶装置の冗長救済を可能としたものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平8−16486に開示されているような方法では、新たに冗長救済用のLSIを開発する必要があり、また、その冗長救済用のLSIの試験も必要である。さらに、従来では半導体記憶装置を1チップのみパッケージ内に封入していたものに、冗長救済用のLSIを同一パッケージ内に封入するための新たな技術や材料が必要となり、製品のコストアップにつながる。また、特開平10−149694に開示されているような方法では、例えばSRAMの冗長救済を行う場合には、SRAMとEEPROMでは製造プロセスが全く異なるため、技術的に大変困難であり、特性も異なってくる。すなわち、新たにプロセスの構築が必要になるために、コストが掛かり、開発期間も長くなるという問題があった。
【0007】
本発明は、このような従来技術の課題を解決するためになされたものであり、パッケージ後に冗長救済を行うことができ、製造コストを低減すると共にプロセス的な問題や特性の変化も防ぐことができる複合メモリを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の複合メモリは、それぞれがフローティングゲートを有する複数の不揮発性メモリセルによってアレイ状に構成された不揮発性半導体記憶素子と、それぞれが揮発性メモリセルによってアレイ状に構成された冗長救済用半導体記憶素子とが同一のパッケージ内に封入された複合メモリであって、前記冗長救済用半導体記憶素子は、前記揮発性メモリセルのアレイによって構成されて、該アレイを構成する前記各揮発性メモリセルにデータがそれぞれ記憶される揮発性通常メモリ部と、前記揮発性メモリセルのアレイによって構成されて、前記通常メモリ部における揮発性メモリセルに不良が発生した場合に使用されるスペアメモリ部とを有し、前記不揮発性半導体記憶素子は、前記不揮発性メモリセルのアレイによって構成されて、該不揮発性メモリセルのアレイを構成する各不揮発性メモリセルにデータがそれぞれ記憶される不揮発性通常メモリ部と、前記不揮発性メモリセルのアレイによって構成されて、前記冗長救済用半導体記憶素子における揮発性通常メモリ部の揮発性メモリに不良が発生した場合に、該不良の揮発性メモリセルのアドレスである不良アドレスを記憶する冗長救済アドレス記憶用メモリ部と、外部から入力されるアドレスが、前記不良アドレスと一致した場合に前記冗長救済用半導体記憶素子に冗長救済信号を出力する冗長救済信号出力部とを有し、前記冗長救済用半導体記憶素子は、前記冗長救済信号が入力される冗長救済信号入力部を有し、該冗長救済信号入力部に前記冗長救済信号が入力されたときに、前記揮発性通常メモリの代わりに前記スペアメモリを選択するようになっていることを特徴とする
【0009】
前記冗長救済用半導体記憶素子からのデータ読み出し時および書き込み時に、前記不揮発性半導体記憶素子における前記不揮発性通常メモリ部に供給される電源電圧とは異なる第2の電源電圧が供給されてもよい
【0010】
前記不揮発性半導体記憶素子における前記冗長救済アドレス記憶用メモリ部に、前記第2の電源電圧が供給されてもよい
【0011】
以下、本発明の作用について説明する。
【0012】
近年、フローティングゲートを有する不揮発性半導体記憶素子と、他の半導体記憶素子とを同一パッケージ内に封入した複合メモリが開発されている。例えば、FLASHメモリとSRAMとを同一パッケージ内に封入したものがある。そこで、本発明では、フローティングゲートを有する不揮発性半導体記憶素子において、他の半導体記憶素子の不良アドレスを記憶する部分を設ける。また、他の半導体記憶素子において、外部から冗長救済信号が入力された場合に、スペアのメモリセルがアクセスされるように回路を設ける。これら2つの半導体記憶素子を同一パッケージ内に封入し、他の半導体記憶素子における不良アドレスが入力された場合に、不揮発性半導体記憶素子から冗長救済信号を出力し、その冗長救済信号を他の半導体記憶素子に入力して、通常のメモリセルの代わりにスペアのメモリセルにアクセスすることにより、冗長救済が可能となる。ここで、上記不揮発性半導体記憶素子は、電気的に書き換え可能な不揮発性半導体記憶素子である必要があるため、マスクROM等の書き換えできないものは除く。また、他の半導体記憶素子は、揮発性であっても不揮発性であってもよい。
【0013】
上記不揮発性半導体記憶素子に、冗長救済アドレス記憶用メモリ部に加えて、通常メモリ部を設けることにより、通常の複合メモリとして携帯電話等のメモリにも使用することができる。
【0014】
さらに、他の半導体記憶素子からのデータ読み出し時および書き込み時に、冗長救済アドレス記憶用メモリ部に通常メモリセルアレイとは別に電源電圧が供給されようにすれば、不揮発性半導体記憶装置がスタンド状態のときでも冗長救済アドレス記憶用メモリ部を動作させることができる。この電源電圧としては、他の半導体記憶素子と共通の電源電圧を用いることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【0016】
図1に、本発明の一実施形態である複合メモリのブロック図を示す。この複合メモリは、フローティングゲートを有する不揮発性半導体記憶素子FM(本実施形態ではFLASHメモリ)、冗長救済機能を有する半導体記憶素子MEM(本実施形態ではSRAM)とを同一パッケージ内に封入したものである。
【0017】
不揮発性半導体記憶素子FMは、通常のメモリセルアレイFMCと、各々半導体記憶素子MEMの不良アドレスが記憶される冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNを有している。通常のメモリセルアレイFMCには電源FVCCより電圧が供給され、冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNには電源SVCCから電圧が供給される。
【0018】
アドレスADRは、不揮発性半導体記憶素子FMおよび半導体記憶素子MEMに共通に入力される。不揮発性半導体記憶素子FMに入力されるアドレスADRは、通常のメモリセルアレイFMCおよび冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNに共通に入力される。
【0019】
不揮発性半導体記憶素子FMと半導体記憶素子MEMを同時に動作させることはできないので、各素子はチップイネーブル端子FCEおよびチップイネーブル端子SCEによりそれぞれ動作状態が制御される。不揮発性半導体記憶素子FMのチップイネーブル端子FCEがHIGHレベルのときには不揮発性半導体記憶素子FMの通常のメモリセルアレイFMCはスタンバイ状態であり、LOWレベルのときには動作状態である。同様に、半導体記憶素子MEMのチップイネーブル端子SCEがHIGHレベルのときには半導体記憶素子MEMはスタンバイ状態であり、LOWレベルのときには動作状態である。ここで、不揮発性半導体記憶素子FMは、半導体記憶素子MEMが動作状態にあるときに冗長救済信号RSを出力する必要があり、不揮発性半導体記憶素子FMの通常のメモリセルアレイFMC以外の部分は、半導体記憶素子MEMが動作状態のときに動作させる必要がある。従って、電源SVCCは半導体記憶素子MEMと不揮発性半導体記憶素子FMの通常のメモリセルアレイFMC以外の部分で共通の電源となり、冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNのチップイネーブル端子は半導体記憶素子MEMのチップイネーブル端子SCEと共通になっている。不揮発性半導体記憶素子FMの通常のメモリセルアレイFMCをアクセスするときには、冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNと半導体記憶素子MEMはスタンバイ状態なので、使用上で何等不都合は生じない。
【0020】
この複合メモリにおいて、メモリテスタなどにより半導体記憶素子MEMの試験を行って半導体記憶素子MEMが不良と判断され、なおかつ救済可能となった場合には、チップイネーブル端子SCEをLOWレベルにし、アドレスADRよりコマンドを入力して冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNを書き込み状態にする。そして、ライトイネーブル信号FWEにクロックを入力し、カウンタCNTをカウントアップして、デマルチプレクサDMUXにより冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCAからRCNまでを順次選択し、救済するべき不良アドレスを書き込む。図2に、デマルチプレクサDMUXの真理値表を示す。デマルチプレクサDMUXはカウンタCNTの出力(図2(a)および図2(b)ではデマルチプレクサDMUXの入力A〜N)の内容(LOWレベル(L)であるかHIGHレベル(H)であるか)により、その出力Y0〜YnのLOWレベルがシフトする構造となっている。このデマルチプレクサDMUXの例としては、SN74LS139(Texas Instruments社 TTL データブック参照)などがある。
【0021】
冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNのゲートGTA〜GTNは、LOWレベルが入力された場合に開くゲートであり、ゲート選択スイッチ回路SWA〜SWNにより選択されてデータが書き込まれる。図3に、ゲート選択スイッチ回路SWA〜SWNの回路図を示す。このゲート選択スイッチ回路において、P型トランジスタTR1およびTR2はLOWレベルがトランジスタのゲートに印加されるとONする。そして、ライトイネーブル信号FWEがLOWレベルのときにはP型トランジスタTR1がONし、抵抗R3を介して上記図2に示したデマルチプレクサDMUXの出力レベルがそのままゲートGTA〜GTNに入力される。このとき、図1に示した冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNに書き込まれる救済すべき不良アドレスのデータは、アドレスADRから入力される。一方、ライトイネーブル信号FWEがHIGHレベルで、なおかつリードイネーブル信号FOEがLOWレベルのときには、図3に示したP型トランジスタTR2がONし、プルダウン抵抗R4により全てのゲートGTA〜GTNにLOWレベルが与えられる。これにより、全てのゲートGTA〜GTNが開き、冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNに書き込まれているデータが全て冗長救済データ比較回路COMPに出力される。なお、図3に示した論理和回路ORにおいて、ライトイネーブル信号FWEは負入力になっているので、ライトイネーブル信号FWEとリードイネーブル信号FOEが同時にHIGHレベルになっても、P型トランジスタTR1およびTR2が両方同時にONすることはない。
【0022】
半導体記憶素子MEMのアドレスがアドレスADRに入力されると、冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNに書き込まれた冗長救済アドレスデータと入力されたアドレスADRは冗長救済データ比較回路COMPにより比較され、両者が一致した場合には冗長救済信号RSがLOWレベルとなる。
【0023】
図4に、本実施形態における冗長救済データ比較回路COMPの回路図を示す。冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNに書き込まれた各データは、入力されたアドレスADRと排他的論理和回路XORA〜XORNにより一致・不一致が判定され、一致した場合には論理和回路ORA〜ORNによりLOWレベルが出力される。論理和回路ORA〜ORNは論理積回路ANDにより論理積が取られ、論理和回路ORA〜ORNまでのいずれか一つでもLOWレベルを出力すると、論理積回路ANDはLOWレベルとなる。この論理積回路ANDの出力が冗長救済信号RSとなる。例えば、冗長救済記憶用メモリセルアレイRCAのそれぞれのビットRCA1〜RCAnがアドレスADRのそれぞれのビットADRA1〜ADRAnと排他的論理和回路XORA1〜XORAnで比較される。そして、ビットRCA1〜RCAnのデータとビットADRA1〜ADRAnのデータが全て一致した場合には、排他的論理和回路XORA1〜XORAnが全てLOWレベルとなり、論理和回路ORAの出力はLOWレベルとなる。ORAの出力がLOWレベルになると、論理積回路ANDから出力される冗長救済信号RSもLOWレベルとなる。
【0024】
図1において、半導体記憶素子MEMは、通常のメモリセルSMCと冗長救済用のスペアのメモリセルSCを有している。そして、冗長救済信号RSがLOWレベルになると、半導体記憶素子MEMに入力されるアドレスADRは、冗長救済用のスペアのメモリセルSCをアクセスし、不良となった通常のメモリセルをスペアのメモリセルに置き換える。通常は、冗長救済信号RSはプルアップ抵抗R1によりHIGHレベルであるので、半導体記憶素子MEMの通常のメモリセルSMCにアクセスすることになる。また、冗長救済アドレス記憶用アドレスRCA〜RCNに記憶された冗長救済アドレスデータの初期値が例えば0であったとしても、それはアドレスADRに0が入力されたときに冗長救済用のスペアのメモリセルSCがアクセスされるだけであり、使用上で何等不都合は生じない。なお、冗長救済信号RSは書き込み時および読み出し時の両方に出力されるので、書き込み時および読み出し時のいずれの場合にも半導体記憶素子MEMのスペアメモリセルが選択される。
【0025】
以下に、上記不揮発性半導体記憶素子FMおよび半導体記憶素子MEMの各々について、構成および動作を説明する。
【0026】
図5に、本実施形態のフローティングゲートを有する不揮発性半導体記憶素子のブロック図を示す。この不揮発性半導体記憶装置FMは、通常のメモリセルアレイFMC(例えば携帯電話等に通常のFLASHメモリとして使用される)と冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNを有している。通常のメモリセルアレイFMCとそれ以外の部分は別電源になっており、各々の電源FVCCと電源SVCCから電圧が供給される。
【0027】
冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNに冗長救済アドレスデータを書き込むときには、ライトイネーブル信号FWEからクロックを入力してカウンタCNTをカウントアップし、カウンタCNTの出力がデマルチプレクサDMUXに入力される。そして、デマルチプレクサDMUXの出力によって、ゲート選択スイッチ回路SWA〜SWNがゲートGTA〜GTNを選択し、ゲートGTA〜GTNが順次開いて、冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNに冗長救済アドレスデータが書き込まれる。
【0028】
リードイネーブル信号FOEがLOWレベルで、なおかつライトイネーブル信号FWEがHIGHレベルになると、ゲートGTA〜GTNに同時にLOWレベルが入力されてゲートGTA〜GTNが全て開く。これにより、冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNに書き込まれたデータが全て同時に出力される。冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNから出力されたデータは、冗長救済データ比較回路COMPにより、アドレスADRと比較される。そして、冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイRCA〜RCNのデータのうちの一つでもアドレスADRと一致した場合には、冗長救済信号RSがLOWレベルとなる。この冗長救済信号RSは、通常はプルアップ抵抗R2によりHIGHレベルとなっている。なお、上記通常のメモリセルアレイFMCへの読み出しおよび書き込みは、通常のFLASHメモリと同様にコマンド入力等により行われる。
【0029】
図6に、本実施形態の冗長救済機能を有する半導体記憶素子のブロック図を示す。半導体記憶素子MEMにアドレスADRが入力されたとき、冗長救済信号RSの状態によって、デコーダーを介して通常のメモリセルSMCにアクセスされるか、または、冗長救済用のスペアのメモリセルSCにアクセスされるかが決定される。冗長救済信号RSによって、SMCのアドレスからSCのアドレスを選択するための制御方法については、通常のSRAM等の冗長救済方法と同様であるので、ここでは説明を省略する。
【0030】
この冗長救済信号RSは、図8に示した従来技術における冗長救済信号と同じ役割をするものであり、通常はプルアップ抵抗R1によりHIGHレベルとなっている。例えば、ウエハテスト時に冗長救済信号RSをLOWレベルとすることにより、従来ではヒューズ切断による以外にはアクセスすることができなかったスペアのメモリセルSCに対してもアクセスすることができるため、スペアのメモリセルSCの試験を行うことが可能となる。
【0031】
なお、上記実施の形態において、フローティングゲートを有する不揮発性半導体記憶素子FMとしては、FLASHメモリ以外にも強誘電体メモリ(FeRAM)、EEPROM、磁性体メモリ(MRAM)等を用いることが可能である。また、冗長救済機能を有する半導体記憶素子MEMとしては、SRAM以外にもDRAM、マスクROM等を用いることが可能である。
【0032】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、従来はウエハ状態で行っていた半導体記憶素子の冗長救済をパッケージ後に行うことができるため、バーンイン等で不良となったメモリセルが発生しても冗長救済することにより良品とすることができ、歩留りが向上する。また、半導体記憶素子のウエハテスト時に冗長救済を行う必要がなくなるため、ウエハテスト工数を削減することができ、製造コストを低廉化することができる。また、従来から用いられている複合メモリを用いることができるため、新たな技術開発を行う必要もない。さらに、救済に使用するスペアのメモリセルとして、同じ半導体記憶素子のものを使用するため、特性の変化もない。また、冗長救済のための不良アドレスを記憶する記憶部についても、従来から使用されている複合メモリのフローティングゲートを用いた不揮発性半導体記憶素子に設けるため、プロセス的にも問題はなく、特性の変化もない。また、ウエハテスト時に半導体記憶素子に冗長救済信号を入力することにより、スペアのメモリセル部分へのアクセスが可能となる。よって、ウエハテスト時に冗長救済可能であってもスペアのメモリセルに不良が存在するようなチップをスクリーニングすることが可能となり、パッケージ後の冗長救済により不良となるのを防ぐことができる。特に、複合メモリでは、パッケージ後に不良となると、同時に封入された不揮発性半導体記憶素子が良品であっても、複合メモリとして不良となって不良品として処理されるので、パッケージ封入前に不良品をスクリーニングすることは大変重要であり、大幅なコストダウンにつながる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態であるフローティングゲートを有する不揮発性半導体記憶素子と冗長救済機能を有する半導体記憶素子とを同一パッケージ内に封入した複合メモリのブロック図である。
【図2】(a)および(b)は本発明の一実施形態である複合メモリにおけるデマルチプレクサの真理値表である。
【図3】本発明の一実施形態である複合メモリにおけるゲート選択スイッチ回路である。
【図4】本発明の一実施形態である複合メモリにおける冗長救済データ比較回路である。
【図5】本発明の一実施形態である複合メモリにおけるフローティングゲートを有する不揮発性半導体記憶素子のブロック図である。
【図6】本発明の一実施形態である複合メモリにおける冗長救済機能を有する半導体記憶素子のブロック図である。
【図7】従来の半導体記憶装置のウエハテストフローである。
【図8】ヒューズのトリミングにより冗長救済を行う従来の半導体記憶装置について説明するための図である。
【符号の説明】
A〜N デマルチプレクサの入力
ADR アドレス
ADRA1〜ADRAn、ADRB1〜ADRN1 アドレスのそれぞれのビット
AND 論理積回路
CNT カウンタ
COMP 冗長救済データ比較回路
DMUX デマルチプレクサ
FCE 不揮発性半導体記憶素子のチップイネーブル端子
FM 不揮発性半導体記憶素子
FMC 不揮発性半導体記憶素子の通常のメモリセルアレイ
FOE リードイネーブル信号
FVCC 電源FVCC
FWE ライトイネーブル信号
GTA〜GTN ゲート
MEM 半導体記憶素子
OR 論理和回路
ORA〜ORN 論理和回路
R1、R2、R3、R4 抵抗
RCA〜RCN 冗長救済アドレス記憶用メモリセルアレイ
RCA1〜RCAn、RCB1〜RCN1 冗長救済記憶用メモリセルアレイのそれぞれのビット
RS 冗長救済信号
SC 半導体記憶素子の通常のメモリセル
SCE 半導体記憶素子のチップイネーブル端子
SMC 半導体記憶素子の冗長救済用のスペアのメモリセル
SVCC 電源
SWA〜SWN ゲート選択スイッチ回路
TR1、TR2 P型トランジスタ
XORA〜XORN、XORA1〜XORAn、XORB1〜XORN1 排他的論理和回路
Y0〜Yn デマルチプレクサの出力
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device having a floating gate and capable of storing a defective address of another semiconductor memory device, and a semiconductor capable of accessing a spare memory for redundancy relief by an external signal The present invention relates to a composite memory in which a storage device is enclosed in the same package.
[0002]
[Prior art]
In the manufacturing process of a semiconductor memory device, a technique is used in which redundant repair is performed by replacing a memory cell that has become defective in a test with a spare memory cell in order to improve yield, and finally a non-defective product is used. This is generally performed by trimming a fuse with a trimmer or the like so that a spare memory cell is selected when an address of a defective memory cell is input in a wafer test process.
[0003]
FIG. 7 shows a wafer test flow of a conventional semiconductor memory device. First, data for redundant relief is collected in the pretest process. Then, in the next trimming process, trimming is performed to cut the fuse provided in the chip of the semiconductor memory device as shown in FIG. When this fuse is blown, the redundancy relief signal becomes LOW level and the spare memory cell is accessed. Thereafter, a post-test process may be performed to check whether the defective memory cell has been replaced with a spare memory cell.
[0004]
However, in such a redundant remedy method, when a defect is caused by burn-in after packaging, or when the spare memory cell is defective when the post-test process of FIG. 7 is not performed, redundant remedy of the semiconductor memory device is performed. I can't do it. In addition, since it is necessary to perform trimming in the wafer test process, the number of test steps increases and the cost of the product increases. Further, since it is impossible to access the spare memory cell unless the fuse is cut, it is very difficult to test the spare memory cell during the wafer test. Therefore, even if a defective memory cell is replaced with a spare memory cell after the fuse is blown, the spare memory cell may be defective, so that the repair rate is reduced and the yield of the semiconductor memory device is reduced. Connected.
[0005]
In order to solve such a problem, a method as disclosed in JP-A-8-16486 has been devised. This is to develop a new LSI for redundancy relief, encapsulate it in the same package as the semiconductor memory device, and replace it with a defective portion of the semiconductor memory device. A method as disclosed in JP-A-10-149694 has also been devised. This is because an EEPROM is provided inside the semiconductor memory device, a defective address is written in the EEPROM, and the semiconductor memory device can be redundantly repaired after packaging.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 8-16486, it is necessary to newly develop an LSI for redundant relief, and it is also necessary to test the LSI for redundant relief. Further, in the past, a semiconductor memory device was encapsulated in only one chip, but a new technique or material for encapsulating a redundant relief LSI in the same package is required, leading to an increase in product cost. . Further, in the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 10-149694, for example, when performing redundancy repair of SRAM, since the manufacturing process is completely different between SRAM and EEPROM, it is technically very difficult and the characteristics are also different. Come. That is, since it is necessary to construct a new process, there is a problem that costs are increased and a development period is extended.
[0007]
The present invention has been made to solve such problems of the prior art, and can provide redundant relief after packaging, thereby reducing manufacturing costs and preventing process problems and changes in characteristics. An object is to provide a composite memory that can be used.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The composite memory according to the present invention includes a nonvolatile semiconductor memory element configured in an array by a plurality of nonvolatile memory cells each having a floating gate , and a redundant relief semiconductor configured in an array by volatile memory cells. A composite memory in which a storage element is enclosed in the same package, wherein the redundant relief semiconductor storage element is constituted by an array of the volatile memory cells, and each of the volatile memory cells constituting the array the volatile normal memory unit in which data are stored, respectively, is constituted by an array of said volatile memory cell, a spare memory unit failure in the volatile memory cell in the normal memory unit is used in the event of has the non-volatile semiconductor memory device is constituted by an array of the nonvolatile memory cell, the A nonvolatile normal memory unit data in each non-volatile memory cell of the array of volatile memory cells are stored respectively, are constituted by an array of the nonvolatile memory cells, volatile in the redundancy repair semiconductor memory device When a defect occurs in the volatile memory of the normal memory unit, a redundant relief address storage memory unit that stores a defective address that is an address of the defective volatile memory cell, and an address input from the outside include the defect A redundancy relief signal output unit for outputting a redundancy relief signal to the redundancy relief semiconductor memory element when the address matches the address, and the redundancy relief semiconductor memory element receives the redundancy relief signal an input unit, when the redundancy repair signal is input to the redundant repair signal input unit, wherein in place of the volatile normal memory Characterized in that it adapted to select the spare memory.
[0009]
A second power supply voltage different from the power supply voltage supplied to the nonvolatile normal memory section in the nonvolatile semiconductor memory element may be supplied at the time of reading and writing data from the redundant relief semiconductor memory element.
[0010]
The second power supply voltage may be supplied to the redundant relief address storage memory unit in the nonvolatile semiconductor memory element .
[0011]
The operation of the present invention will be described below.
[0012]
In recent years, a composite memory in which a nonvolatile semiconductor memory element having a floating gate and another semiconductor memory element are enclosed in the same package has been developed. For example, there is one in which a FLASH memory and an SRAM are enclosed in the same package. Therefore, in the present invention, a portion for storing a defective address of another semiconductor memory element is provided in the nonvolatile semiconductor memory element having a floating gate. In another semiconductor memory element, a circuit is provided so that a spare memory cell is accessed when a redundant relief signal is input from the outside. When these two semiconductor memory elements are enclosed in the same package and a defective address in another semiconductor memory element is input, a redundant relief signal is output from the nonvolatile semiconductor memory element, and the redundant relief signal is transferred to another semiconductor By inputting to the storage element and accessing a spare memory cell instead of a normal memory cell, redundant relief can be achieved. Here, since the non-volatile semiconductor memory element needs to be an electrically rewritable non-volatile semiconductor memory element, non-rewritable elements such as a mask ROM are excluded. Further, other semiconductor memory elements may be volatile or non-volatile.
[0013]
By providing a normal memory unit in addition to the redundant relief address storage memory unit in the nonvolatile semiconductor memory element, it can be used as a normal composite memory in a memory such as a mobile phone.
[0014]
Further, when the power supply voltage is supplied to the redundant relief address storage memory unit separately from the normal memory cell array at the time of reading and writing data from other semiconductor memory elements, the nonvolatile semiconductor memory device can be in the stand state. However, the redundant relief address storage memory unit can be operated. As this power supply voltage, a power supply voltage common to other semiconductor memory elements can be used.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0016]
FIG. 1 shows a block diagram of a composite memory according to an embodiment of the present invention. This composite memory includes a non-volatile semiconductor memory element FM (FLASH memory in this embodiment) having a floating gate and a semiconductor memory element MEM (SRAM in this embodiment) having a redundancy relief function enclosed in the same package. is there.
[0017]
The nonvolatile semiconductor memory element FM includes a normal memory cell array FMC and redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN each storing a defective address of the semiconductor memory element MEM. The normal memory cell array FMC is supplied with voltage from the power supply FVCC, and the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN are supplied with voltage from the power supply SVCC.
[0018]
The address ADR is input in common to the nonvolatile semiconductor memory element FM and the semiconductor memory element MEM. The address ADR input to the nonvolatile semiconductor memory element FM is input in common to the normal memory cell array FMC and the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN.
[0019]
Since the nonvolatile semiconductor memory element FM and the semiconductor memory element MEM cannot be operated at the same time, the operation state of each element is controlled by the chip enable terminal FCE and the chip enable terminal SCE. When the chip enable terminal FCE of the nonvolatile semiconductor memory element FM is at the HIGH level, the normal memory cell array FMC of the nonvolatile semiconductor memory element FM is in the standby state, and when it is at the LOW level, it is in the operating state. Similarly, the semiconductor memory element MEM is in a standby state when the chip enable terminal SCE of the semiconductor memory element MEM is at a HIGH level, and is in an operating state when it is at a LOW level. Here, the nonvolatile semiconductor memory element FM needs to output the redundancy relief signal RS when the semiconductor memory element MEM is in an operating state, and the portions other than the normal memory cell array FMC of the nonvolatile semiconductor memory element FM are: It is necessary to operate the semiconductor memory element MEM when it is in an operating state. Accordingly, the power supply SVCC serves as a common power supply in parts other than the normal memory cell array FMC of the semiconductor memory element MEM and the nonvolatile semiconductor memory element FM, and the chip enable terminals of the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN are connected to the semiconductor memory element MEM. The chip enable terminal SCE. When the normal memory cell array FMC of the nonvolatile semiconductor memory element FM is accessed, the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN and the semiconductor memory element MEM are in a standby state, so that there is no inconvenience in use.
[0020]
In this composite memory, when the semiconductor memory element MEM is tested as defective by a memory tester or the like and is remedied, the chip enable terminal SCE is set to the LOW level and the address ADR is used. A command is input to set the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN to the write state. Then, the clock is input to the write enable signal FWE, the counter CNT is counted up, the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN are sequentially selected by the demultiplexer DMUX, and the defective address to be repaired is written. FIG. 2 shows a truth table of the demultiplexer DMUX. The demultiplexer DMUX outputs the contents of the output of the counter CNT (in FIG. 2 (a) and FIG. 2 (b), the inputs A to N of the demultiplexer DMUX) (whether they are LOW level (L) or HIGH level (H)). Thus, the LOW level of the outputs Y0 to Yn is shifted. An example of the demultiplexer DMUX is SN74LS139 (see Texas Instruments TTL data book).
[0021]
The gates GTA to GTN of the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN are gates that are opened when a LOW level is input, and are selected by the gate selection switch circuits SWA to SWN and written with data. FIG. 3 shows a circuit diagram of the gate selection switch circuits SWA to SWN. In this gate selection switch circuit, the P-type transistors TR1 and TR2 are turned ON when a LOW level is applied to the gate of the transistor. When the write enable signal FWE is at the LOW level, the P-type transistor TR1 is turned on, and the output level of the demultiplexer DMUX shown in FIG. 2 is input to the gates GTA to GTN as it is through the resistor R3. At this time, the defective address data to be repaired written in the redundant repair address storage memory cell arrays RCA to RCN shown in FIG. 1 is input from the address ADR. On the other hand, when the write enable signal FWE is at the HIGH level and the read enable signal FOE is at the LOW level, the P-type transistor TR2 shown in FIG. 3 is turned on, and the LOW level is given to all the gates GTA to GTN by the pull-down resistor R4. It is done. As a result, all the gates GTA to GTN are opened, and all the data written in the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN are output to the redundant relief data comparison circuit COMP. In the OR circuit OR shown in FIG. 3, since the write enable signal FWE is a negative input, even if the write enable signal FWE and the read enable signal FOE simultaneously become HIGH level, the P-type transistors TR1 and TR2 Are not turned on at the same time.
[0022]
When the address of the semiconductor memory element MEM is inputted to the address ADR, the redundancy relief address data written in the redundancy relief address storage memory cell arrays RCA to RCN and the inputted address ADR are compared by the redundancy relief data comparison circuit COMP, When the two match, the redundant relief signal RS becomes LOW level.
[0023]
FIG. 4 shows a circuit diagram of the redundancy repair data comparison circuit COMP in the present embodiment. Each data written to the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN is determined to match or not match by the input address ADR and the exclusive OR circuits XORA to XORN. The LOW level is output by ORN. The logical sum circuits ORA-ORN are logically ANDed by a logical product circuit AND, and if any one of the logical sum circuits ORA-ORN outputs a LOW level, the logical product circuit AND becomes a LOW level. The output of the AND circuit AND becomes the redundancy relief signal RS. For example, the respective bits RCA1 to RCAn of the redundant relief storage memory cell array RCA are compared with the respective bits ADRA1 to ADRAn of the address ADR by the exclusive OR circuits XORA1 to XORAn. When the data of the bits RCA1 to RCAn and the data of the bits ADRA1 to ADRAn all match, the exclusive OR circuits XORA1 to XORAn are all set to the LOW level, and the output of the OR circuit OR is set to the LOW level. When the output of ORA becomes LOW level, the redundancy relief signal RS output from the AND circuit AND also becomes LOW level.
[0024]
In FIG. 1, the semiconductor memory element MEM has a normal memory cell SMC and a spare memory cell SC for redundancy relief. When the redundancy relief signal RS becomes LOW level, the address ADR input to the semiconductor memory element MEM accesses the spare memory cell SC for redundancy relief, and replaces the defective normal memory cell with the spare memory cell. Replace with Normally, since the redundancy relief signal RS is at the HIGH level by the pull-up resistor R1, the normal memory cell SMC of the semiconductor memory element MEM is accessed. Further, even if the initial value of the redundant relief address data stored in the redundant relief address storage addresses RCA to RCN is 0, for example, it is a spare memory cell for redundancy relief when 0 is input to the address ADR. The SC is only accessed, and there is no inconvenience in use. Since the redundancy relief signal RS is output both at the time of writing and at the time of reading, the spare memory cell of the semiconductor memory element MEM is selected in both cases of writing and reading.
[0025]
Hereinafter, the configuration and operation of each of the nonvolatile semiconductor memory element FM and the semiconductor memory element MEM will be described.
[0026]
FIG. 5 is a block diagram of a nonvolatile semiconductor memory element having a floating gate according to this embodiment. The nonvolatile semiconductor memory device FM has a normal memory cell array FMC (for example, used as a normal FLASH memory in a mobile phone or the like) and redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN. The normal memory cell array FMC and other portions are separate power sources, and voltages are supplied from the respective power sources FVCC and SVCC.
[0027]
When writing redundant relief address data to the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN, a clock is input from the write enable signal FWE to count up the counter CNT, and the output of the counter CNT is input to the demultiplexer DMUX. Then, according to the output of the demultiplexer DMUX, the gate selection switch circuits SWA to SWN select the gates GTA to GTN, and the gates GTA to GTN are sequentially opened, so that the redundant relief address data is stored in the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN. Written.
[0028]
When the read enable signal FOE is at the LOW level and the write enable signal FWE is at the HIGH level, the LOW level is simultaneously input to the gates GTA to GTN, and the gates GTA to GTN are all opened. As a result, all the data written in the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN are simultaneously output. Data output from the redundant relief address storage memory cell arrays RCA to RCN is compared with the address ADR by the redundancy relief data comparison circuit COMP. If even one of the data in the memory cell arrays RCA to RCN for redundant relief address coincides with the address ADR, the redundant relief signal RS becomes LOW level. This redundant relief signal RS is normally at a HIGH level by the pull-up resistor R2. Note that reading and writing to the normal memory cell array FMC are performed by command input or the like as in the normal FLASH memory.
[0029]
FIG. 6 is a block diagram of a semiconductor memory element having a redundant relief function according to this embodiment. When the address ADR is input to the semiconductor memory element MEM, the normal memory cell SMC is accessed via the decoder or the spare memory cell SC for redundancy relief is accessed depending on the state of the redundancy relief signal RS. Is decided. Since the control method for selecting the SC address from the SMC address by the redundancy repair signal RS is the same as the redundancy repair method for a normal SRAM or the like, the description thereof is omitted here.
[0030]
This redundant relief signal RS plays the same role as the redundant relief signal in the prior art shown in FIG. 8, and is normally at the HIGH level by the pull-up resistor R1. For example, by setting the redundancy relief signal RS to the LOW level at the time of the wafer test, it is possible to access the spare memory cell SC that could not be accessed except by fuse cutting. It becomes possible to test the memory cell SC.
[0031]
In the above embodiment, as the nonvolatile semiconductor memory element FM having a floating gate, a ferroelectric memory (FeRAM), EEPROM, magnetic memory (MRAM) or the like can be used in addition to the FLASH memory. . In addition to the SRAM, a DRAM, a mask ROM, or the like can be used as the semiconductor memory element MEM having a redundant relief function.
[0032]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, since it is possible to perform redundancy relief of a semiconductor memory element, which has been conventionally performed in a wafer state, after packaging, even if a defective memory cell occurs due to burn-in or the like. By redundant relief, it can be made non-defective and the yield is improved. Further, since it is not necessary to perform redundant relief during the wafer test of the semiconductor memory element, the number of wafer test steps can be reduced, and the manufacturing cost can be reduced. In addition, since a conventionally used composite memory can be used, it is not necessary to develop a new technology. Furthermore, since the same memory cell is used as a spare memory cell used for relief, there is no change in characteristics. In addition, since a storage unit for storing a defective address for redundancy relief is provided in a nonvolatile semiconductor storage element using a floating gate of a composite memory that has been conventionally used, there is no problem in terms of process, and characteristics of There is no change. Further, by inputting a redundant relief signal to the semiconductor memory element during the wafer test, it becomes possible to access the spare memory cell portion. Therefore, even if redundancy repair is possible at the time of a wafer test, it is possible to screen a chip in which a defect exists in a spare memory cell, and it is possible to prevent a failure due to redundancy repair after packaging. In particular, in the case of a composite memory, if it becomes defective after packaging, even if the non-volatile semiconductor memory element enclosed at the same time is a non-defective product, the composite memory becomes defective and is processed as a defective product. Screening is very important and leads to significant cost reduction.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram of a composite memory in which a nonvolatile semiconductor memory element having a floating gate and a semiconductor memory element having a redundancy relief function according to an embodiment of the present invention are enclosed in the same package.
FIGS. 2A and 2B are truth tables of a demultiplexer in a composite memory according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a gate selection switch circuit in the composite memory according to the embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a redundant relief data comparison circuit in the composite memory according to the embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a block diagram of a nonvolatile semiconductor memory element having a floating gate in the composite memory according to one embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a block diagram of a semiconductor memory element having a redundant relief function in a composite memory according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a wafer test flow of a conventional semiconductor memory device.
FIG. 8 is a diagram for explaining a conventional semiconductor memory device that performs redundancy relief by trimming fuses;
[Explanation of symbols]
A to N Demultiplexer input ADR addresses ADRA1 to ADRAn, ADRB1 to ADRN1 address bits AND logical product circuit CNT counter COMP redundant relief data comparison circuit DMUX demultiplexer FCE chip enable terminal FM nonvolatile semiconductor memory Memory element FMC Normal memory cell array FOE of nonvolatile semiconductor memory element Read enable signal FVCC Power supply FVCC
FWE Write enable signal GTA to GTN Gate MEM Semiconductor memory element OR OR circuit OR to ORN OR circuit R1, R2, R3, R4 Resistor RCA to RCN Redundant relief address storage memory cell arrays RCA1 to RCAn, RCB1 to RCN1 Redundant relief memory Each bit RS of the memory cell array Redundancy relief signal SC Normal memory cell SCE of the semiconductor memory element Chip enable terminal SMC of the semiconductor memory element Spare memory cell SVCC for redundancy relief of the semiconductor memory element Power supply SWA to SWN Gate selection switch circuit TR1, TR2 P-type transistors XORA to XORN, XORA1 to XORAn, XORB1 to XORN1 Exclusive OR circuit Y0 to Yn Output of demultiplexer

Claims (3)

それぞれがフローティングゲートを有する複数の不揮発性メモリセルによってアレイ状に構成された不揮発性半導体記憶素子と、それぞれが揮発性メモリセルによってアレイ状に構成された冗長救済用半導体記憶素子とが同一のパッケージ内に封入された複合メモリであって、
前記冗長救済用半導体記憶素子は、前記揮発性メモリセルのアレイによって構成されて、該アレイを構成する前記各揮発性メモリセルにデータがそれぞれ記憶される揮発性通常メモリ部と、前記揮発性メモリセルのアレイによって構成されて、前記通常メモリ部における揮発性メモリセルに不良が発生した場合に使用されるスペアメモリ部とを有し、
前記不揮発性半導体記憶素子は、前記不揮発性メモリセルのアレイによって構成されて、該不揮発性メモリセルのアレイを構成する各不揮発性メモリセルにデータがそれぞれ記憶される不揮発性通常メモリ部と、前記不揮発性メモリセルのアレイによって構成されて、前記冗長救済用半導体記憶素子における揮発性通常メモリ部の揮発性メモリに不良が発生した場合に、該不良の揮発性メモリセルのアドレスである不良アドレスを記憶する冗長救済アドレス記憶用メモリ部と、外部から入力されるアドレスが、前記不良アドレスと一致した場合に前記冗長救済用半導体記憶素子に冗長救済信号を出力する冗長救済信号出力部とを有し、
前記冗長救済用半導体記憶素子は、前記冗長救済信号が入力される冗長救済信号入力部を有し、該冗長救済信号入力部に前記冗長救済信号が入力されたときに、前記揮発性通常メモリの代わりに前記スペアメモリを選択するようになっていることを特徴とする複合メモリ。
Nonvolatile semiconductor memory elements each configured in an array by a plurality of nonvolatile memory cells each having a floating gate, and redundant relief semiconductor memory elements each configured by an array of volatile memory cells in the same package A composite memory encapsulated in,
The semiconductor memory element for redundancy repair is constituted by an array of the volatile memory cells, and a volatile normal memory unit in which data is stored in each of the volatile memory cells constituting the array, and the volatile memory A spare memory unit configured by an array of cells and used when a failure occurs in a volatile memory cell in the normal memory unit ;
The nonvolatile semiconductor memory element is constituted by an array of nonvolatile memory cells, and a nonvolatile normal memory unit in which data is stored in each nonvolatile memory cell constituting the array of nonvolatile memory cells, When a failure occurs in the volatile memory of the volatile normal memory unit in the redundant relief semiconductor memory element , which is constituted by an array of nonvolatile memory cells , a defective address which is an address of the defective volatile memory cell is A redundant relief address storage memory unit for storing, and a redundant relief signal output unit for outputting a redundant relief signal to the redundant relief semiconductor memory element when an externally input address matches the defective address ,
The redundancy repair for the semiconductor memory device has a redundancy repair signal input portion to which the redundancy repair signal is input, when the redundancy repair signal is input to the redundant repair signal input section, of the volatile normal memory composite memory, characterized in that is adapted to select said spare memory instead.
前記冗長救済用半導体記憶素子からのデータ読み出し時および書き込み時に、前記不揮発性半導体記憶素子における前記不揮発性通常メモリ部に供給される電源電圧とは異なる第2の電源電圧が供給される請求項1に記載の複合メモリ。 2. The second power supply voltage different from the power supply voltage supplied to the nonvolatile normal memory section in the nonvolatile semiconductor memory element is supplied at the time of reading and writing data from the redundant relief semiconductor memory element. Compound memory described in 1. 前記不揮発性半導体記憶素子における前記冗長救済アドレス記憶用メモリ部に、前記第2の電源電圧が供給される請求項2に記載の複合メモリ。The composite memory according to claim 2, wherein the second power supply voltage is supplied to the redundant relief address storage memory unit in the nonvolatile semiconductor memory element .
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