JP3730651B2 - Semiconductor manufacturing apparatus and method - Google Patents
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Description
本発明は、縦型CVD拡散装置等の半導体製造装置及び方法に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus and method such as a vertical CVD diffusion apparatus.
半導体素子の製造プロセスの1つにCVD処理がある。これは所要枚数のシリコンのウェーハをCVD装置内で加熱し、化学気相堆積(CVD)させるものであるが、CVD処理の均質化を図る為、製品用ウェーハを挾む様に列の両端部には各複数枚のダミーウェーハが配列されており、更に製品用ウェーハの途中、所要の間隔で検査用のモニタウェーハが各1枚配列されている。これを図3により略述する。 One of the processes for manufacturing semiconductor devices is a CVD process. In this method, a required number of silicon wafers are heated in a CVD apparatus and subjected to chemical vapor deposition (CVD), but in order to homogenize the CVD process, both end portions of the row are sandwiched between product wafers. A plurality of dummy wafers are arranged in each, and one monitor wafer for inspection is arranged at a predetermined interval in the middle of the product wafers. This is outlined by FIG.
拡散炉内ではウェーハ1はボート2によって支持される様になっており、拡散炉で前記ウェーハ1をCVD処理する場合は、先ず、前記ボート2に前記ウェーハ1が所要の配列となる様挿入し、該ウェーハ1が挿入されたボート2を拡散炉内に装入する。一般には拡散炉内は全域に亘って均一な温度分布にはなってなく、従って該ボート2には処理すべきウェーハ数に対し充分余裕のある数(例えばウェーハの処理枚数の1.5倍の数)だけのウェーハ収納スペースを備えており、前記ウェーハ1を処理する場合は温度分布の均一な箇所に対応させ、或はウェーハの枚数に応じて前記ボート2のウェーハ収納位置を選定する様になっている。
The
該ボート2のウェーハ配列の上端部、下端部にはそれぞれ適宜数のダミーウェーハ1bからなるダミーウェーハ群3、4が収納され、モニタウェーハ1cを挾んで所定枚数の製品用ウェーハ1aからなる製品用ウェーハ群5が収納され、更に前記モニタウェーハ1cを挾んで順次前記製品用ウェーハ群5が収納されている。最下部の該製品用ウェーハ群5と前記ダミーウェーハ群4との間には前記モニタウェーハ1cが挿入されている。ウェーハ移載装置はカセットに装填されたウェーハを前記ボートへ移載し、又処理後のウェーハを空のカセットへ装填する一連の作業を行うものである。従来のウェーハ移載装置について図4に於いて説明する。
Dummy wafer groups 3 and 4 each including an appropriate number of
図4に示されるものは、枚葉式(1枚ずつ移送する方式)のウェーハ移載装置を示しており、ハンドリングユニット6の周囲には前記ウェーハ1が装填されたカセット7が同一円周上に所要数配置され、又前記ハンドリングユニット6に隣接して移載用エレベータ8、ロード・アンロードエレベータ9が設けられ、前記移載用エレベータ8のボート受台10は前記円周を含む円筒面の母線に沿って昇降する様になっており、前記ロード・アンロードエレベータ9のボート受台11の上方には縦型拡散炉12が設けられている。又、移載用エレベータ8とロード・アンロードエレベータ9との間にはボート2の移替えを行う移替えユニット13が設けられている。
FIG. 4 shows a wafer transfer apparatus of a single wafer type (a method of transferring one sheet at a time), and a
前記ハンドリングユニット6は前記円周の中心を中心に回転し且つ昇降する回転アーム14と該回転アーム14に沿って半径方向に進退するウェーハ吸着チャック15を備え、前記カセット7に装填されたウェーハ1を一枚ずつ吸着して取出し、前記移載用エレベータ8に乗置されたボート2に上側から順次移載していく。前記移載用エレベータ8は前記ウェーハ1の移載の進行に追従して、一段ずつ下降する。
The handling unit 6 includes a
該ウェーハ1の移載の完了したボート2は前記移替えユニット13によって前記移載用エレベータ8から前記ロード・アンロードエレベータ9へ移替えられ、該ロード・アンロードエレベータ9は前記ボート2を前記拡散炉12内へ装入する。
The
CVD処理が完了すると前記ボート2が前記拡散炉12より取出され、更に前記移替えユニット13により前記移載用エレベータ8に移替えられ、前記ハンドリングユニット6により上記と逆の手順で前記カセット7へ装填される。
When the CVD process is completed, the
上記した従来の移載装置は枚葉式であったが、図5に示す様に一括式のものもある。 Although the above-described conventional transfer apparatus is a single wafer type, there is a batch type as shown in FIG.
これは、前記ウェーハ吸着チャック15が25組の吸着プレート16を備え、カセット7に装填されている25枚のウェーハ1を全部一括してチャッキングしボート2へ移載を行うものである。
In this case, the
然し、上記した従来の枚葉方式の移載装置、一括方式の移載装置には以下に述べる様な不具合がある。 However, the above-described conventional single-wafer transfer device and batch transfer device have the following problems.
前記したボート2に挿入されるウェーハの配列、上段、下段のダミーウェーハの枚数を各何枚にするか、あるいはモニタウェーハを製品用ウェーハの何枚目毎に且つ何枚設けるかは処理を行う条件、或は顧客の処理仕様によって異なる。前者の枚葉方式はウェーハを一枚ずつ移載していくので、ウェーハの如何なる配列にも対応できる。然し、動作回数が著しく多く、その為移載時間が長くなり、効率が悪い。又、動作回数が多いということは発塵の可能性が確率的に増大し、製品品質に悪影響を与える。
The number of wafers to be inserted into the
これに対し、後者一括方式は、移載時間が短く、極めて能率的であるという利点はあるが、25枚一括で処理している為、ウェーハ移載時にウェーハの配列を整えることはできない。従って、カセットにウェーハを装填する際に所定の配列となる様、ダミーウェーハ、モニタウェーハ、製品用ウェーハを混在させる様にしている。カセットへのウェーハの装填作業は手作業であり、種類の異なるウェーハを所定の配列となる様装填する作業は非常に煩雑であり、能率も悪く、又誤挿入も避けられないのが現状であった。 On the other hand, the latter batch method has the advantage that the transfer time is short and extremely efficient, but since the 25 sheets are processed in batch, the wafer arrangement cannot be arranged at the time of wafer transfer. Therefore, dummy wafers, monitor wafers, and product wafers are mixed so that a predetermined arrangement is obtained when wafers are loaded into the cassette. Loading wafers into the cassette is a manual operation, and loading the wafers of different types into a predetermined arrangement is very complicated, inefficient, and erroneous insertion is unavoidable. It was.
本発明は斯かる実情に鑑み、半導体製造装置に於いて枚葉移載方式の長所と一括移載方式の長所とを充分に発揮させ得る半導体製造装置及び方法を提供しようとするものである。 In view of such circumstances, the present invention intends to provide a semiconductor manufacturing apparatus and method capable of fully exhibiting the advantages of the single wafer transfer system and the batch transfer system in the semiconductor manufacturing apparatus.
本発明は、ウェーハ処理室と、
カセットとボートとの間でウェーハを移載するウェーハ移載機と、
ウェーハ移載機によりウェーハをカセットからボートヘ、ボートからカセットヘ移載する際にボートが載置される第1のボート位置と、ウェーハ処理室ヘボートを挿入出する際にボートが待機するウェーハ処理室の下方に位置する第2のボート位置との問で、ボートを移し替える移し替え機構と、
を含む半導体製造装置であって、
ウェーハ移載機は、
回転、昇降可能な回転台と、
それぞれがウェーハ載置部を持つ複数ウェーハ移載用の複数プレートと、ウェーハ載置部を持つ枚葉移載用のプレートと、を具えると共に、上記回転台の半径方向に進退可能に取り付けたウェーハ把持部と、
上記複数プレートの先端面を、把持部を基準に定まる第1の位置に維持させる第1の機構と、
上記枚葉用のプレートの先端面を、上記第1の位置、及びこの第1の位置から前方に、少なくともウェーハの載置部だけ、突出した第2の位置に選択して設定する第2の機構と、
を備えると共に、
枚葉プレートと複数プレートとを合わせての複数ウェーハの移載のときには、上記第1の機構によって複数プレートの先端面を上記第1の位置に維持させた状態で、上記第2の機構によって枚葉移載用のプレートの先端面を上記第1の位置に設定し、枚葉のウェーハ移載のときには、第1の機構によって複数プレートの先端面を上記第1の位置に維持させた状態で、上記第2の位置に設定し、前記設定後にカセットからボートヘ、ボートからカセットヘのウェーハ移載動作を行うものとした半導体製造装置を開示する。
The present invention includes a wafer processing chamber,
A wafer transfer machine for transferring wafers between the cassette and the boat;
The first boat position where the boat is placed when the wafer is transferred from the cassette to the boat and from the boat to the cassette by the wafer transfer machine, and the wafer processing chamber where the boat waits when the boat is inserted into and removed from the wafer processing chamber. A transfer mechanism for transferring the boat in relation to the second boat position located below;
A semiconductor manufacturing apparatus including:
Wafer transfer machine
A turntable that can be rotated and raised,
Each plate has a plurality of wafer transfer plates each having a wafer mounting portion and a single wafer transfer plate having a wafer mounting portion, and is attached to be movable in the radial direction of the rotating table. A wafer gripping part;
A first mechanism for maintaining the front end surfaces of the plurality of plates at a first position determined with respect to the gripping portion;
The front end surface of the plate for the single wafer is selected and set to the first position and the second position protruding forward from the first position by at least the wafer mounting portion. Mechanism,
With
When transferring a plurality of wafers together with a single wafer plate and a plurality of plates, the second mechanism is used to transfer a plurality of wafers while maintaining the leading end surfaces of the plurality of plates at the first position by the first mechanism. The front end surface of the leaf transfer plate is set at the first position, and when transferring a single wafer, the front end surfaces of the plurality of plates are maintained at the first position by the first mechanism. A semiconductor manufacturing apparatus is disclosed in which the wafer is transferred from the cassette to the boat and from the boat to the cassette after the setting.
更に本発明は、ウェーハ処理室と、
カセットとボートとの間でウェーハを移載するウェーハ移載機と、
ウェーハ移載機によりウェーハをカセットからボートヘ、ボートからカセットヘ移載する際にボートが載置される第1のボート位置と、ウェーハ処理室ヘボートを挿入出する際にボートが待機するウェーハ処理室の下方に位置する第2のボート位置との問で、ボートを移し替える移し替え機構と、
を含む半導体製造装置による半導体製造方法であって、
ウェーハ移載機は、
回転、昇降可能な回転台と、
それぞれがウェーハ載置部を持つ複数ウェーハ移載用の複数プレートと、ウェーハ載置部を持つ枚葉移載用のプレートと、を具えると共に、上記回転台の半径方向に進退可能に取り付けたウェーハ把持部と、
上記複数プレートの先端面を、把持部を基準に定まる第1の位置に維持させる第1の機構と、
上記枚葉用のプレートの先端面を、上記第1の位置、及びこの第1の位置から前方に、少なくともウェーハの載置部だけ、突出した第2の位置に選択して設定する第2の機構と、
を備え、
枚葉プレートと複数プレートとを合わせての複数ウェーハの移載のときには、上記第1の機構によって複数プレートの先端面を上記第1の位置に維持させた状態で、上記第2の機構によって枚葉移載用のプレートの先端面を上記第1の位置に設定し、枚葉のウェーハ移載のときには、第1の機構によって複数プレートの先端面を上記第1の位置に維持させた状態で、上記第2の位置に設定し、前記設定後にカセットからボートヘ、ボートからカセットヘのウェーハ移載動作を行うものとした半導体製造装置による半導体製造方法を開示する。
The present invention further includes a wafer processing chamber,
A wafer transfer machine for transferring wafers between the cassette and the boat;
The first boat position where the boat is placed when the wafer is transferred from the cassette to the boat and from the boat to the cassette by the wafer transfer machine, and the wafer processing chamber where the boat waits when the boat is inserted into and removed from the wafer processing chamber. A transfer mechanism for transferring the boat in relation to the second boat position located below;
A semiconductor manufacturing method using a semiconductor manufacturing apparatus including:
Wafer transfer machine
A turntable that can be rotated and raised,
Each plate has a plurality of wafer transfer plates each having a wafer mounting portion and a single wafer transfer plate having a wafer mounting portion, and is attached to be movable in the radial direction of the rotating table. A wafer gripping part;
A first mechanism for maintaining the front end surfaces of the plurality of plates at a first position determined with respect to the gripping portion;
The front end surface of the plate for the single wafer is selected and set to the first position and the second position protruding forward from the first position by at least the wafer mounting portion. Mechanism,
With
When transferring a plurality of wafers together with a single wafer plate and a plurality of plates, the second mechanism is used to transfer a plurality of wafers while maintaining the leading end surfaces of the plurality of plates at the first position by the first mechanism. The front end surface of the leaf transfer plate is set at the first position, and when transferring a single wafer, the front end surfaces of the plurality of plates are maintained at the first position by the first mechanism. A semiconductor manufacturing method using a semiconductor manufacturing apparatus is disclosed in which the wafer is transferred from the cassette to the boat and from the boat to the cassette after the setting.
以上述べた如く本発明によれば、ウェーハを複数枚一括で移送すること及び1枚ずつ移送することが適宜選択して行え、ウェーハの移送を能率よく行えると共にウェーハの任意の配列に対応することができ、又ウェーハの収納ピッチが変更された場合にでも容易に対応できるという優れた効果を発揮する。 As described above, according to the present invention, it is possible to selectively transfer a plurality of wafers at a time and to transfer one wafer at a time, efficiently transfer the wafer, and cope with an arbitrary arrangement of the wafers. In addition, it has an excellent effect that it can easily cope with a change in the wafer storage pitch.
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1、図2で示すものは本実施例に係るウェーハ移載装置の、特にウェーハ把持部18を示しており、該ウェーハ把持部18は回転台、例えば図4、図5で示す回転アーム14に半径方向に進退可能に設けられるものである。
1 and 2 show a
以下、前記把持部18について説明する。
Hereinafter, the
ベースプレート19に垂直基板20を固着すると共に図示しない支柱を介して上基板21を固着する。
The
該上基板21にガイドブロック22を固着し、該ガイドブロック22に左右各1対のスライダ23、24、25、26を摺動自在に取付ける。該スライダ23、24、25、26は前記上基板21に回転自在に設けたスクリューロッド27、28にそれぞれ螺合し、該スクリューロッド27、28の上端には被動ギア29、30を嵌着する。
A
該両被動ギア29、30の間にピッチ変更モータ31を取付け、該ピッチ変更モータ31の出力軸に嵌着した駆動ギア32を前記両被動ギア29、30に噛合させる。
A
前記スライダ23、24、25、26にはそれぞれ逆L字状のプレートホルダ34、35、36、37を固着し、該プレートホルダ34、35、36、37の先端にウェーハ支持プレート39、40、41、42を取付ける。各ウェーハ支持プレート38、39、40、41、42の上面にはウェーハを載置可能な凹部43が形成されている。又、前記プレートホルダ34、35、36、37は、前記ウェーハ支持プレート39、40、41、42を上下方向に適当な間隔をもって支持し得る形状となっており、且つ前記プレートホルダ34、35、36、37が固着されているスライダ23、24、25、26と前記スクリューロッド27、28との螺合関係は、下から2段目の支持プレート39を支持するプレートホルダ34が固着されているスライダ23が螺合している螺子ピッチに対して、下から3段目の支持プレート40を支持するプレートホルダ35が固着されているスライダ24が螺合している部分の螺子ピッチは2倍、同様に4段目のスライダ25の螺子ピッチは3倍、5段目のスライダ26の螺子ピッチは4倍となっており、前記ピッチ変更モータ31を駆動した場合、前記スクリューロッド27、28を介して前記スライダ23、24、25、26が、各ウェーハ支持プレート38、39、40、41、42間のピッチが等しいという関係を保持して、ピッチの拡大、縮小を行い得る様になっている。
Inverted L-shaped
1段目の支持プレート(枚葉支持プレート)38は進退機構44に取付けられたプレートホルダ33に固着され、上下方向の変位がなく、前進、後退される様になっている。
The first-stage support plate (single-wafer support plate) 38 is fixed to a
以下、進退機構44について説明する。
Hereinafter, the advance /
前記垂直基板20に平行揺動リンク45、46を枢着し、該平行揺動リンク45、46にそれぞれ遊動平行リンク47、48の中途部を枢着する。該遊動平行リンク47、48の上端を前記1段目のプレートホルダ33に枢着し、前記遊動平行リンク47、48の下端は滑動子49に枢着する。該滑動子49はガイド50を介して前記垂直基板20に摺動自在に設ける。
Parallel swing links 45 and 46 are pivotally attached to the
而して、前記平行揺動リンク45、46の回転半径と遊動平行リンク47、48の前記プレートホルダ33の枢着点についての回転半径を等しくし、両平行リンク45、46、47、48の回転動により上下方向の変位が相殺される様にする。
Thus, the rotational radius of the
前記プレートホルダ33には最下段の枚葉ウェーハ支持プレート38が取付けてある。
The lowermost single
前記平行揺動リンクのうち一方の46に固着された枢軸51は前記垂直基板20を貫通して突出しており、この突出端にプーリ52を固着する。前記垂直基板20の反平行揺動リンク側にモータ支持金具53を介して進退モータ54を固着し、該進退モータ54の出力軸には駆動プーリ55を嵌着し、該駆動プーリ55と前記プーリ52とをタイミングベルト56で連結する。
A
而して、前記進退モータ54の正逆回転で枚葉ウェーハ支持プレート38を前進、後退させることができ、又該枚葉ウェーハ支持プレート38の前進量は、前記上側のウェーハ支持プレート39、40、41、42より完全に突出するものとする。
Thus, the single
尚、図中57、58は前記遊動平行リンク47、48の行程端を検出するセンサ、59、60は該センサ47、48を作動させる為の検知片である。
In the figure, 57 and 58 are sensors for detecting the stroke end of the floating
以下、作動を説明する。 The operation will be described below.
全てのウェーハ支持プレート38、39、40、41、42で一度にウェーハを支持して移載する場合は、該ウェーハ支持プレート38、39、40、41、42を図2中、実線の位置とする。
In the case where all the
次に、5枚以下のウェーハ1を移送する端数処理を行う場合は、前記進退モータ54を駆動し、駆動プーリ55、タイミングベルト56、プーリ52を介して前記平行揺動リンク45、46を図2中時計方向に揺動させる。該平行揺動リンク45、46の揺動により、前記遊動平行リンク47、48は下方へ下りながら、反時計運動の回動をして、プレートホルダ33を送出す。前記センサ57が遊動平行リンク47、48の行程端を検出したところで進退モータ54が停止される。
Next, when performing fraction processing for transferring five or
而して、最下段の枚葉ウェーハ支持プレート38のみがウェーハを移載できる状態となり(図2中二点鎖線で示す)、ウェーハを1枚ずつ移載することが可能となる。
Thus, only the lowermost single
端数処理が完了し、再びウェーハ1を5枚同時に移載する場合には、前記進退モータ54を逆転駆動し、最下段の枚葉ウェーハ支持プレート38を後退させ図2中実線の位置に戻す。
When the fraction processing is completed and five
次に、ウェーハのサイズによりウェーハ収納時のウェーハ間のピッチが異なるが、この場合前記ウェーハ支持プレート38、39、40、41、42のピッチ調整を行う。
Next, the pitch between the wafers when the wafers are stored differs depending on the size of the wafer. In this case, the pitch of the
前記ピッチ変更モータ31を駆動し、駆動ギア32、被動ギア29、30を介し、前記スクリューロッド27、28を回転する。該スクリューロッド27、28の回転により、プレートホルダが固着されている前記スライダ23、24、25、26が移動する。該スライダ23、24、25、26が螺合している部分は、前記した様に螺子ピッチが等倍で変化しているので、最下段の枚葉ウェーハ支持プレート38を基準に上側のウェーハ支持プレート39、40、41、42が等間隔の関係を維持して移動し、ピッチ調整がなされる。
The
尚、上記実施例ではウェーハカセットに収納されるウェーハの枚数が25枚であることを考慮し、支持プレートの枚数を“25”の約数である“5”としたが、支持プレートの枚数を25枚としてもよい。 In the above embodiment, considering that the number of wafers stored in the wafer cassette is 25, the number of support plates is set to “5” which is a divisor of “25”. It is good also as 25 sheets.
更に、ウェーハ支持プレートを真空吸着法で行なうプレートとする等、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得ることは勿論である。 Further, it goes without saying that various changes can be made without departing from the gist of the present invention, such as using a vacuum support method as the wafer support plate.
1 ウェーハ
18 ウェーハ把持部
27 スクリューロッド
28 スクリューロッド
31 ピッチ変更モータ
38 枚葉ウェーハ支持プレート
39 ウェーハ支持プレート
40 ウェーハ支持プレート
41 ウェーハ支持プレート
42 ウェーハ支持プレート
44 進退機構
54 進退モータ
DESCRIPTION OF
Claims (2)
カセットとボートとの間でウェーハを移載するウェーハ移載機と、
ウェーハ移載機によりウェーハをカセットからボートヘ、ボートからカセットヘ移載する際にボートが載置される第1のボート位置と、ウェーハ処理室ヘボートを挿入出する際にボートが待機するウェーハ処理室の下方に位置する第2のボート位置との問で、ボートを移し替える移し替え機構と、
を含む半導体製造装置であって、
ウェーハ移載機は、
回転、昇降可能な回転台と、
それぞれがウェーハ載置部を持つ複数ウェーハ移載用の複数プレートと、ウェーハ載置部を持つ枚葉移載用のプレートと、を具えると共に、上記回転台の半径方向に進退可能に取り付けたウェーハ把持部と、
上記複数プレートの先端面を、把持部を基準に定まる第1の位置に維持させる第1の機構と、
上記枚葉用のプレートの先端面を、上記第1の位置、及びこの第1の位置から前方に、少なくともウェーハの載置部だけ、突出した第2の位置に選択して設定する第2の機構と、
を備えると共に、
枚葉プレートと複数プレートとを合わせての複数ウェーハの移載のときには、上記第1の機構によって複数プレートの先端面を上記第1の位置に維持させた状態で、上記第2の機構によって枚葉移載用のプレートの先端面を上記第1の位置に設定し、枚葉のウェーハ移載のときには、第1の機構によって複数プレートの先端面を上記第1の位置に維持させた状態で、上記第2の位置に設定し、前記設定後にカセットからボートヘ、ボートからカセットヘのウェーハ移載動作を行うものとした半導体製造装置。 A wafer processing chamber;
A wafer transfer machine for transferring wafers between the cassette and the boat;
The first boat position where the boat is placed when the wafer is transferred from the cassette to the boat and from the boat to the cassette by the wafer transfer machine, and the wafer processing chamber where the boat waits when the boat is inserted into and removed from the wafer processing chamber. A transfer mechanism for transferring the boat in relation to the second boat position located below;
A semiconductor manufacturing apparatus including:
Wafer transfer machine
A turntable that can be rotated and raised,
Each plate has a plurality of wafer transfer plates each having a wafer mounting portion and a single wafer transfer plate having a wafer mounting portion, and is attached to be movable in the radial direction of the rotating table. A wafer gripping part;
A first mechanism for maintaining the front end surfaces of the plurality of plates at a first position determined with respect to the gripping portion;
The front end surface of the plate for the single wafer is selected and set to the first position and the second position protruding forward from the first position by at least the wafer mounting portion. Mechanism,
With
When transferring a plurality of wafers together with a single wafer plate and a plurality of plates, the second mechanism is used to transfer a plurality of wafers while maintaining the leading end surfaces of the plurality of plates at the first position by the first mechanism. The front end surface of the leaf transfer plate is set at the first position, and when transferring a single wafer, the front end surfaces of the plurality of plates are maintained at the first position by the first mechanism. A semiconductor manufacturing apparatus which is set to the second position and performs wafer transfer operation from the cassette to the boat and from the boat to the cassette after the setting.
カセットとボートとの間でウェーハを移載するウェーハ移載機と、
ウェーハ移載機によりウェーハをカセットからボートヘ、ボートからカセットヘ移載する際にボートが載置される第1のボート位置と、ウェーハ処理室ヘボートを挿入出する際にボートが待機するウェーハ処理室の下方に位置する第2のボート位置との問で、ボートを移し替える移し替え機構と、
を含む半導体製造装置による半導体製造方法であって、
ウェーハ移載機は、
回転、昇降可能な回転台と、
それぞれがウェーハ載置部を持つ複数ウェーハ移載用の複数プレートと、ウェーハ載置部を持つ枚葉移載用のプレートと、を具えると共に、上記回転台の半径方向に進退可能に取り付けたウェーハ把持部と、
上記複数プレートの先端面を、把持部を基準に定まる第1の位置に維持させる第1の機構と、
上記枚葉用のプレートの先端面を、上記第1の位置、及びこの第1の位置から前方に、少なくともウェーハの載置部だけ、突出した第2の位置に選択して設定する第2の機構と、
を備え、
枚葉プレートと複数プレートとを合わせての複数ウェーハの移載のときには、上記第1の機構によって複数プレートの先端面を上記第1の位置に維持させた状態で、上記第2の機構によって枚葉移載用のプレートの先端面を上記第1の位置に設定し、枚葉のウェーハ移載のときには、第1の機構によって複数プレートの先端面を上記第1の位置に維持させた状態で、上記第2の位置に設定し、前記設定後にカセットからボートヘ、ボートからカセットヘのウェーハ移載動作を行うものとした半導体製造装置による半導体製造方法。 A wafer processing chamber;
A wafer transfer machine for transferring wafers between the cassette and the boat;
The first boat position where the boat is placed when the wafer is transferred from the cassette to the boat and from the boat to the cassette by the wafer transfer machine, and the wafer processing chamber where the boat waits when the boat is inserted into and removed from the wafer processing chamber. A transfer mechanism for transferring the boat in relation to the second boat position located below;
A semiconductor manufacturing method using a semiconductor manufacturing apparatus including:
Wafer transfer machine
A turntable that can be rotated and raised,
Each plate has a plurality of wafer transfer plates each having a wafer mounting portion and a single wafer transfer plate having a wafer mounting portion, and is attached to be movable in the radial direction of the rotating table. A wafer gripping part;
A first mechanism for maintaining the front end surfaces of the plurality of plates at a first position determined with respect to the gripping portion;
The front end surface of the plate for the single wafer is selected and set to the first position and the second position protruding forward from the first position by at least the wafer mounting portion. Mechanism,
With
When transferring a plurality of wafers together with a single wafer plate and a plurality of plates, the second mechanism is used to transfer a plurality of wafers while maintaining the leading end surfaces of the plurality of plates at the first position by the first mechanism. The front end surface of the leaf transfer plate is set at the first position, and when transferring a single wafer, the front end surfaces of the plurality of plates are maintained at the first position by the first mechanism. A semiconductor manufacturing method by a semiconductor manufacturing apparatus in which the wafer transfer operation is performed from the cassette to the boat and from the boat to the cassette after the setting is set at the second position.
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