JP3720490B2 - Active vibration isolator - Google Patents

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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、床振動の除振台への伝播を抑制する能動的除振装置に関する。本発明は、特に、露光用XYステージを搭載してなる半導体露光装置の一構成ユニットとして好適に使用される能動的除振装置であって、空気バネアクチュエータを用いた空気バネ式能動的除振装置に好適に適用される。
【0002】
【従来の技術】
除振台上には振動を嫌う機器群が搭載される。例えば、光学顕微鏡や露光用XYステージなどである。特に、ステップアンドリピート方式の半導体露光装置における露光用XYステージの場合、適切かつ迅速な露光が行なわれるべく外部から伝達する振動を極力排除した除振台上に同ステージは搭載されねばならない。なぜならば、露光は露光用XYステージが完全停止の状態で行なわれねばならないからである。さらに、露光用XYステージはステップアンドリピートという間欠運動を動作モードとして持ち、繰り返しのステップ振動を自身が発生しこれが除振台の揺れを惹起せしめることにも注意せねばならない。この種の振動が整定しきれないで残留する場合にも、露光動作に入ることは不可能である。したがって、除振台には、外部振動に対する除振と、搭載機器自身の運動に起因した強制振動に対する制振性能をバランスよく実現することが求められる。
【0003】
なお、近年XYステージを完全停止させてから同ステージ上搭載のシリコンウエハに対して露光光を照射するステップアンドリピート方式の半導体露光装置に代わって、XYステージなどをスキャンさせながら露光光をシリコンウエハ上に照射するスキャン方式の半導体露光装置も登場してきた。このような装置に使われる除振台に対しても、外部振動の除振と、搭載機器の運動に起因した強制振動に対する制振性能とをバランスよく満たすことが求められることは同様である。
【0004】
さて、周知のように除振台は受動的なものと能動的なものとに実現形態が分類される。除振台上の搭載機器に求められる高精度位置決め、高精度スキャン、高速移動などへの要求に応えるべく近年は能動的除振装置を用いる傾向にある。それに用いられるアクチュエータとしては空気バネ、VCM(ボイスコイルモータ)、圧電素子などが知られている。ここでは、先ず、空気バネをアクチュエータとした能動的除振装置を対象にして具体的説明を行なう。
【0005】
図6は、空気バネをアクチュエータとする従来の能動的除振装置の構成を示す。同図において、1はXYステージなどの精密機器を搭載する除振台、2a〜dは空気バネと動作流体の空気を給排気するサーボバルブ(不図示)とを含めた空気バネアクチュエータ、3a〜dは鉛直方向の変位を計測する位置検出手段、4a〜dは鉛直方向の振動を検出する振動検出手段である。位置検出手段3a〜dとしては、渦電流式変位センサ、静電容量センサ、光電変換素子を応用した位置検出センサなどが、振動検出手段4a〜dとしては加速度センサやジオフォンセンサなどが使用できる。除振台1の4隅には、上述の空気バネアクチュエータ2a〜d、位置検出手段3a〜dおよび振動検出手段4a〜dなどを主たる構成要素として内蔵する空気バネ式支持脚5a〜dを配置し除振台1とその上に搭載する機器とを支持している。なお、除振台1を水平方向に支持する主構成要素については不図示であるが、上述した鉛直方向と同様になる。
【0006】
次に、空気バネ式支持脚5a〜dに対するフィードバック装置の構成とその動作を説明する。まず、加速度センサなどの振動検出手段4a〜dの出力は、適切な増幅度と時定数とを有するゲイン補償器6a〜dを介して空気バネアクチュエータに含めたサーボバルブ(不図示)の弁開閉用の電圧電流変換器7a〜dの前段に負帰還している。この加速度フィードバックループによりダンピングが付与され機構の安定化が図られている。さらに、位置検出手段3a〜dの出力は変位増幅器8a〜dを通って比較9a〜dへの入力となっている。ここでは、目標電圧入力端子10a〜dに設定した電圧との比較が行なわれて位置偏差信号(ea ,eb ,ec ,ed )を生成する。目標電圧入力端子10a〜dに設定する電圧は、空気バネ式支持脚5a〜dの設置面を基準にした除振台1の平衡位置と等価なものである。続いて、位置偏差信号はPI補償器11a〜dを通り、この信号と加速度フィードバックループの負帰還信号とを加算してなる駆動信号で電圧電流変換器7a〜dをドライブする。すると、サーボバルブの弁開閉によって空気バネの内圧が調整されて除振台1は目標電圧入力端子10a〜dで設定した所望の位置に定常偏差なく保持できる。ここで、PI補償器のPは比例を、Iは積分動作をそれぞれ意味する。空気バネアクチュエータを有する空気バネ式支持脚5a〜dは、大重量物を搭載する除振台を支持する能力がある。
【0007】
図7は、除振台1の上に搭載され強烈な加減速運転を行うXYステージ12の構造を示す。同図において、13はXステージ、14はXステージ13の上に搭載するシリコンウエハ15を微細に位置決めするための微動ステージ、16はYステージ、17YRと17YLはともにYステージ16を駆動するリニアモータの可動子(Xステージ13の可動子は不図示)、18XはXステージ13を駆動するリニアモータの固定子であるコイル、19YRと19YLはYステージ16を駆動するために左右に配置したリニアモータの固定子であるコイル、20はステージ定盤、21XはX軸計測用のバーミラ、21YはY軸計測用のバーミラである。
【0008】
さて、空気バネ式能動的除振装置は、応答性は悪いが荷重支持能力が高いという特徴がある。対して、ボイスコイルモータに代表される電磁式アクチュエータを用いた能動的除振装置は、速い応答性を持つものの支持荷重能力は高くない。上述した空気バネ式能動的除振装置の特徴を踏まえ図8の実験事実を観察する。同図(A)は、除振台搭載のXYステージ12がステップアンドリピート駆動したときの、空気バネ式能動的除振装置の位置偏差信号の一例である。XYステージのステップ駆動に原因した過渡現象としての先鋭的な揺動に、ステップ駆動が繰り返され且つその極性が反転することに原因した低周波の大きなうねりが重畳した位置偏差信号になっている。このような挙動は適切な数学モデルを使った数値実験でも確認できる。同図(B),(C)に数値実験の一例を示すが、実測結果と同様の傾向が模擬できていることが分かる。
【0009】
ここで、位置偏差信号の振る舞いを定性的に解釈する。まず、XYステージ12を略一定周期で急激に加減速する際のパルス状波形(以下、「バンバン状の波形」と称する)によるステップ駆動によって空気バネ式能動的除振装置の固有周期で過渡現象が引き起こされる。この過渡現象の零への収束は時間が掛かるが、位置偏差信号が零に収束しきれないうちに次のステップ駆動がなされ再び過渡現象が生起される。その現象も収束が不十分な状態となり、次々とステップ駆動を受けるので収束しきれない位置偏差が蓄積していき、結果として位置偏差信号のシフトが生じる。位置偏差信号のシフトには、上述した収束性の悪さに原因するものに加え、ステップアンドリピートによってXYステージ12の可動部が移動するという移動荷重によっても引き起こされることに注意したい。
【0010】
さて、位置偏差信号のシフトは、もちろん除振台を含めた本体装置が目標電圧で指定した平衡位置からずれることを意味する。例えば、図8に示す位置偏差信号がX方向の位置偏差信号である場合には、除振台を含めた本体装置が初期の平衡位置から徐々にX方向に移動してしまったことを意味する。また、その位置偏差信号がx軸回りの回転である場合には、除振台を含めた本体装置が初期の平衡位置から徐々にx軸回りに傾いたことを意味する。
【0011】
このような現象抑制のため、XYステージの駆動信号を適切に補償しそれを能動的除振装置のアクチュエータにフィードフォワードする技術が開示されている。例えば、特開平6−216003号『ステージ装置』が挙げられる。しかし、空気バネ式能動的除振装置の応答は緩慢でありフィードフォワードによって図8(A)の如き位置偏差信号の揺動が抑制できるものではない。また、ボイスコイルモータなどの電磁アクチュエータを使用する能動的除振装置の場合、XYステージのステップ駆動に原因する除振台の過渡現象を抑制する能力はあるものの、除振台のシフトを補正して平衡位置に戻す能力は持ち合わせていない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
空気バネ式能動的除振装置における課題を整理すると以下の通りである。
同能動的除振台に搭載される機器の中でXYステージは、ステップアンドリピートという間欠運転を動作モードとして持つ。この動作は強烈な駆動反力を除振台に与える。また、スループット(生産性)向上のため、ステップアンドリピートの周期は徐々に短縮化されている。このとき、除振台の固有周波数は例えば2〜3Hzといった低周波域にあり、それよりも格段に速い周期でXYステージが駆動されること、およびXYステージの連続駆動によって除振台に対する荷重が移動するということに起因した問題が発生する。
【0013】
除振台の固有周期よりもはるかに早い周期の運転がなされると、ステップ駆動に起因した過渡現象が減衰しきれないうちに次々とステップ駆動がなされ、結果として位置偏差信号のマクロトレンドがシフトしてしまう。時変の移動荷重があると、その影響を抑制する駆動力は発生するが、これも応答が間に合わず位置偏差信号のシフトを引き起こすのである。
【0014】
極低周波のシフト成分の存在は、除振台の平衡位置からの移動、あるいは回転があることを意味する。ステップアンドリピート中の除振台のシフトと回転は、除振台を含めた本体に静的動的な歪を与え、半導体露光装置の場合には投影光学系(不図示)を歪ませることにつながり装置性能の劣化を招く。また、除振台を含めた装置全体あるいは不図示の精密機器の設置規準を侵害することがあった。
【0015】
本発明は、上述の従来例における問題点に鑑みてなされたもので、除振台の目標位置からのずれを防止することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段および作用】
上記目的を達成するため、本発明では、除振台と、除振台に駆動力を付与する空気バネアクチュエータと、前記除振台の振動を検出する振動検出手段と、前記除振台の位置を検出する位置検出手段と、前記振動検出手段の出力によってダンピングを与える加速度フィードバックループと、前記位置検出手段の出力と目標電圧入力端子に入力された目標電圧に基づいて位置偏差信号を生成して補償を掛ける位置ループとを有し、前記除振台を所望の位置に位置決めする能動的除振装置において、前記除振台に搭載されるXYステージのステップアンドリピート駆動により発生する前記位置偏差信号のオフセットを修正するために、前記XYステージがステップ駆動の繰り返しによりある一方向に駆動されている間は、前記目標電圧入力端子に入力され目標電圧に、前記XYステージのステップ駆動の繰り返しによって前記除振台がオフセット状に変位する方向とは逆方向に該除振台を変位させるように一定値の補正電圧パターンを重畳する手段を設けたことを特徴とする。
【0017】
本発明では、ステップアンドリピート駆動で発生する位置偏差信号のオフセットの様子が特徴的であることを利用している。連続するバンバン状のステップ駆動の極性が反転するごとに、概ね一定なオフセットの極性も反転する。そこでステップ駆動の極性反転を周期とする一定電圧の補正電圧を、除振台を位置決めする目標電圧に重畳させている。したがって、補正分圧の印加により、オフセットをキャンセルするように作用する。
【0018】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、参考例を含めて説明する。
【0019】
図8(A)の実測結果および同図(B),(C)の数値実験結果を参照して明らかなように、ステップアンドリピート中の位置偏差信号を観察すると、ステップ駆動に起因する過渡現象波形と、その連続駆動および移動荷重に原因したシフトが重畳したものになっている。
ここで、本発明の実施例を説明する前に、空気バネ式能動除振装置に関する参考例について説明する。以下に説明する参考例1では、後者の現象を位置フィードバックの補償器を変えることによって抑制する装置構成を与える。
【0020】
[参考例1]
図1に参考例1に係る空気バネ式能動的除振装置の構成を示す。図1の装置では、ステップアンドリピート駆動を受けたとき、オフセットが生じやすい運動モードを選択し、この運動モード偏差信号の補償を行なう補償器を従来のPI補償器からPI2 補償器に変更している。ここで、PI補償器のPは比例を、Iは積分動作をそれぞれ意味することは周知のことであり、一般的に次式の伝達関数を持つ補償器である。
【0021】
【数1】

Figure 0003720490
ただし、k1 は比例ゲイン、k2 は積分ゲインである。
【0022】
また、ここでPI2と呼称する補償器は次式のように(1)式に対して積分器を1個追加した伝達関数を持つ補償器である。
【0023】
【数2】
Figure 0003720490
【0024】
実験事実によれば、オフセットは、特にX軸およびY軸回りの回転の運動モード偏差信号に重畳する。その理由は、ステップアンドリピート駆動時には除振台1上のXYステージ12の位置決め場所が逐次移動するので、これが除振台1を傾かせるよう支配的に作用するからである。
【0025】
以下、図1を参照しながら動作説明をする。まず、位置検出手段3a〜dの出力は変位増幅器8a〜dによって電気信号に変換され、比較器9a〜dへの入力となっている。目標電圧入力端子10a〜dに加える電圧と変位増幅器8a〜dの出力とを比較して位置偏差信号(ea,eb,ec,ed)を得る。次いで、これら位置偏差信号は除振台1の並進や回転といった運動モードを表わす運動モード偏差信号(Sz,Sθx,Sθy)を抽出する運動モード抽出手段22に導かれる。ここで、Sz はZ軸方向の並進運動を、SθxはX軸回りの回転運動を、SθyはY軸回りの回転運動を示す運動モード偏差信号である。運動モード偏差信号(Sz,Sθx,Sθy)は位置ループに対する安定化補償器23に入力されている。より具体的には、Szに対してはPI補償器24Zが、SθxとSθyに対してはPI2補償器24X,24Yが準備されており、補償信号(Cz,Cθx,Cθy)を生成している。
【0026】
一方、振動検出手段4a〜dの出力である電気信号は、加速度に関する運動モード信号を抽出する運動モード抽出手段25に導かれ(az,aθx,aθy)を演算出力する。ここで、az はZ軸方向の並進を、aθx はX軸回りの回転を、aθy はY軸回りの回転を示す加速度に関するそれぞれの運動モード信号である。(az,aθx,aθy )はゲインとフィルタリング機能を併せ持つゲイン補償器26Z,26X,26Yに導かれ、運動モード別の負帰還信号(Az ,Aθx ,Aθy )を生成する。(Az ,Aθx ,Aθy )は補償信号(Cz ,Cθx ,Cθy )と合成され運動モード別の駆動信号z ,Dθx ,Dθy )となる。(Dz ,Dθx ,Dθy )は、空間的に配置された各空気バネ式支持脚内の空気バネアクチュエータ2a〜dのドライブ信号を生成する運動モード分配手段27への入力となり、運動モード分配手段27の出力は電圧電流変換器7a〜dを介して空気バネアクチュエータ2a〜dに印加される。
【0027】
さて、空気バネ式能動的除振装置に対しては、除振と制振の両性能を満たすパラメータ調整がなされている。位置フィードバックループの補償器をPIからPI2 へ単純に変更することは従来のパラメータ調整状態を崩す。何故ならば、制御ループに積分器を1個追加という単純な行為ではあるが、その安定性に及ぼす影響は大きいからである。すなわち、運動モード別のフィードバックループを有する図1の能動的除振装置において、運動モードに対する位置の補償器全部をPIからPI2 へと置換することは、従来装置での除振制振性能を対象にしたパラメータ調整の状態を崩すので再調整の必要がある。しかし、ステップアンドリピート駆動において位置偏差信号にオフセットが生じる運動モードは、X軸回りおよびY軸回りの回転運動モードのみであり、Z軸方向の並進運動にはほとんど生じていない。したがって、本参考例のようにPI補償器からPI2 補償器への変更は問題とするオフセットが生じている運動モードにのみ挿入することでパラメータ再調整は軽微となる。あるいは、選択的にPI2 補償器を挿入したので、従来のパラメータ調整における性能からのずれは僅少であり、ほとんど無調整で済ますこともできる。
【0028】
参考例1の有効性を示す数値実験は図2に与える。同図(A)はステップアンドリピート駆動信号を、(B)は位置偏差信号をそれぞれ示す。(B)の中で、一点鎖線は、補償器24X,24YをPI補償器とした場合の応答を、実線は従来のPI補償器に代えPI2 補償器を使用した場合の応答をそれぞれ示す。連続する5回のバンバン状波形によるステップ駆動の後に、極性が反転したステップ駆動が5回入力する。後者の駆動で、すなわちステップアンドリピートの駆動が進行するにしたがって位置偏差信号のオフセットが除去されてバイポーラな信号に漸近することが分かる。したがって、これが回転運動モードの位置偏差信号である場合、ステップアンドリピート駆動の進行に応じて本体装置の傾きが修正されて平衡位置に漸近することが分かる。したがって、これが回転運動モードの位置偏差信号である場合、ステップアンドリピート駆動の進行に応じて本体装置の傾きが修正されて平衡位置に漸近することを示すのである。
【0029】
[参考例2]
図1の装置では、X軸およびY軸回りの運動モード偏差信号に対してのみPI2 補償器を使用した。勿論、Z軸並進運動に対してもPI2 補償器を使用し、結局のところ全運動モードに対してPI補償器に代えてPI2 補償器を使用することもできる。また、図1では位置および加速度の信号は並進や回転といった運動モードに基づいて制御ループが構成されているが、一般的である各軸独立の制御ループを持つ従来の空気バネ式能動的除振装置に対し、PI補償器に代えてPI2 補償器を使用することもできる。この各軸独立の制御ループを持つ装置構成は図3に示す。図6のPI補償器11a〜dは、図3の安定化補償器23に置換されており、その中身はPI2 補償器23a〜dである。
【0030】
なお、PI補償器に積分器を1個追加してPI2 補償器とした場合、安定性確保のため必要に応じ位相進み補償などの位相回復手段をPI2 補償器の中に同時に組み込むことは妨げられない。
【0031】
[実施例]
次に、図4および5を参照して本発明の実施例を説明する。
実施例は、駆動パターンの時系列が極性反転する周期で概ね一定なオフセットの極性も反転することに注目したものであり、上記の各参考例で説明した目標電圧入力端子10a〜dに加える電圧を操作した装置構成を与える。すなわち、図1または図3に示した除振台1を所望の位置に位置決めする目標の電圧に、ステップアンドリピート駆動中に発生する位置偏差信号のオフセットを修正するための補正電圧を重畳する。例えば、Yステージ16がY軸方向にステップアンドリピートする場合を考える。図4を参照して紙面手前側に連続ステップ駆動がなされたとき、除振台1にX軸回りの回転が生じる。位置検出手段3aと3bは除振台1の接近(沈み込み)を、3cと3dはその逆(浮き)を検出する。しかも、バンバン状のステップ駆動が連続する期間の低周波成分としての回転量は概ね一定なので、空気バネアクチュエータ2a,2bにはより大きな駆動力を付与し、逆に空気バネアクチュエータ2c,2dの駆動力は抜く操作を行なえば、位置偏差信号のオフセットがキャンセルできるのである。
【0032】
より具体的に、図4を参照しながら説明する。図中、先に説明した他の図と同一符号をつけた箇所の説明は省略する。図4において、28はXYステージ12のY軸方向の位置計測用のレーザ干渉計であり、出射する光線をY軸計測用のバーミラ21Y(図7参照)に当てYステージ16の移動量が計測される。この信号は位置検出手段29を通って位置信号となり、Yステージ16への位置目標端子30の値と比較して位置偏差信号となる。位置偏差信号は、PID補償器に代表される補償器31に導かれ、その出力信号でYステージ16を位置決め駆動するリニアモータの固定子19YR,19YLに電流を通電する電力アンプ32をドライブする。Xステージ13に対する制御系もYステージ16に対する上述した制御系と同様の構成である。さて、位置目標端子30に印加するYステージ16へのステップアンドリピート指令はプロファイラ33から供給されている。このステップアンドリピートの駆動パターン34は予め既知であることに注意したい。本実施例では既知の駆動パターン34から、バンバン状のステップ駆動が連続する期間を半周期とする補正電圧のパターン35を生成している。補正電圧のパターン35は分配器36に導かれ、その出力は目標電圧設定手段37a〜dの電圧を印加する目標電圧入力端子10a〜dに加算されている。分配器36では各軸にとって適切な振幅と極性を有する補正電圧を生成している。
【0033】
上述したように、除振台1に対するXYステージ12の駆動方向によって、空気バネ式能動的除振装置における位置偏差信号に重畳するオフセットの極性は一意に定まり、その大きさもほぼ一定している。そこで、極性同一のバンバン状のステップ駆動信号の時系列が入力されている期間だけ目標電圧入力端子10a〜dに、除振台1を所望位置に位置決めする目標電圧の他に、オフセットを除去するに足る一定電圧の補正電圧を重畳することにしたのである。なお、実施例の場合、安定化補償器23は必ずしもPI2 補償器である必要はなく、従来通りPI補償器でよい。
【0034】
実施例の有効性を示す数値実験を図5に与える。図中、(A)はステップアンドリピート駆動信号を、(B)は補正電圧とその印加タイミングを、(C)は補正電圧の有無による位置偏差信号を示す。(C)の中で一点鎖線は補正電圧なしの場合を、実線は目標電圧入力端子10a〜dに補正電圧を重畳した場合の応答を示す。補正電圧の印加により、位置偏差信号の大きなうねりが平坦化されていることが分かる。すなわち、この位置偏差信号が除振台1の回転運動のものである場合、傾斜に偏りを発生させることなく、常に目標電圧で指定した平衡姿勢の周りに除振台を位置させることができているのである。
【0035】
【発明の効果】
本発明によれば以下の効果がもたらされる。
(1)除振台に搭載されるXYステージのステップアンドリピート駆動により発生する位置偏差信号のオフセットを修正するために、XYステージがステップ駆動の繰り返しによりある一方向に駆動されている間は、目標電圧入力端子に入力される目標電圧に、XYステージのステップ駆動の繰り返しによって除振台がオフセット状に変位する方向とは逆方向に該除振台を変位させるように一定値の補正電圧パターンを重畳することにより、空気バネ式支持脚に対する制御ループの骨格を変えずに、XYステージのステップアンドリピート駆動による位置偏差信号のオフセットをキャンセルすることができる。したがって、除振台を含めた本体装置に無用の歪を与えることがない、という効果がある。しかも、コストアップは招かない。
(2)ステップアンドリピート駆動に原因した本体装置の位置ずれを抑制することができるので、装置の設置規準等を緩和することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 参考に係る空気バネ式能動的除振装置の構成図である。
【図2】 図1の装置の有効性を示す数値実験結果を表わす波形図である。
【図3】 参考に係る空気バネ式能動的除振装置の構成図である。
【図4】 本発明の実施例に係る空気バネ式能動的除振装置の構成図である。
【図5】 図4の装置の効果を示す数値実験結果を表わす波形図である。
【図6】 従来の空気バネ式能動的除振装置を示す図である。
【図7】 XYステージの構造を示す図である。
【図8】 ステップアンドリピート駆動時の位置偏差信号の一例を示す実測結果と数値実験結果である。
【符号の説明】
1:除振台、2,2a〜d:空気バネアクチュエータ、3,3a〜d:位置検出手段、4,4a〜d:振動検出手段、5,5a〜d:空気バネ式支持脚、6,6a〜d:ゲイン補償器、7,7a〜d:電圧電流変換器、8,8a〜d:変位増幅器、9,9a〜d:比較、10,10a〜d:目標電圧入力端子、11,11a〜d:PI補償器、12:XYステージ、13:Xステージ、14:微動ステージ、15:シリコンウエハ、16:Yステージ、17YR,17YL:リニアモータの可動子、18X:リニアモータの固定子であるコイル、19YR,19YL:リニアモータの固定子であるコイル、20:ステージ定盤、21X:X軸計測用のバーミラ、21Y:Y軸計測用のバーミラ、22:運動モード抽出手段、23:安定化補償器、23a〜d:PI2 補償器、24Z:PI補償器、24X,24Y:PI2 補償器、25:運動モード抽出手段、26Z,26X,26Y:ゲイン補償器、27:運動モード分配手段、28:レーザ干渉計、29:位置検出手段、30:位置目標端子、31:PID補償器、32:電力アンプ、33:プロファイラ、34:駆動パターン、35:補正電圧のパターン、36:分配器、37a〜d:目標電圧設定手段。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an active vibration isolator that suppresses propagation of floor vibration to a vibration isolation table. In particular, the present invention is an active vibration isolator suitably used as a constituent unit of a semiconductor exposure apparatus having an exposure XY stage mounted thereon, and is an air spring type active vibration isolator using an air spring actuator. It is suitably applied to the device.
[0002]
[Prior art]
A group of devices that dislikes vibration are mounted on the vibration isolation table. For example, an optical microscope or an XY stage for exposure is used. In particular, in the case of an XY stage for exposure in a step-and-repeat semiconductor exposure apparatus, the stage must be mounted on a vibration isolation table that eliminates vibrations transmitted from the outside as much as possible so that appropriate and quick exposure can be performed. This is because the exposure must be performed with the exposure XY stage completely stopped. Furthermore, it must be noted that the XY stage for exposure has an intermittent motion called step-and-repeat as an operation mode, and it generates repeated step vibration itself, which causes shaking of the vibration isolation table. Even if this type of vibration cannot be settled and remains, it is impossible to enter the exposure operation. Therefore, the vibration isolation table is required to achieve a good balance between vibration isolation with respect to external vibration and vibration suppression performance with respect to forced vibration caused by the movement of the mounted device itself.
[0003]
In recent years, instead of a step-and-repeat type semiconductor exposure apparatus that irradiates exposure light onto a silicon wafer mounted on the stage after the XY stage is completely stopped, the exposure light is transferred while scanning the XY stage. A scanning type semiconductor exposure apparatus that irradiates the surface has also appeared. It is the same that the vibration isolation table used in such a device is also required to satisfy the vibration isolation performance of the external vibration and the vibration suppression performance against the forced vibration caused by the movement of the mounted equipment in a balanced manner.
[0004]
As is well known, the implementation forms of vibration isolation tables are classified into passive and active. In recent years, there has been a tendency to use an active vibration isolator in order to meet the demands for high precision positioning, high precision scanning, high speed movement, and the like required for equipment mounted on the vibration isolation table. As an actuator used therefor, an air spring, a VCM (voice coil motor), a piezoelectric element, and the like are known. Here, first, a specific description will be given targeting an active vibration isolator using an air spring as an actuator.
[0005]
FIG. 6 shows a configuration of a conventional active vibration isolator using an air spring as an actuator. In the figure, reference numeral 1 denotes a vibration isolation table on which precision equipment such as an XY stage is mounted, 2a to d are air spring actuators including an air spring and a servo valve (not shown) for supplying and exhausting air of working fluid, 3a to d is position detecting means for measuring the displacement in the vertical direction, and 4a to 4d are vibration detecting means for detecting the vibration in the vertical direction. As the position detection means 3a to d, an eddy current displacement sensor, a capacitance sensor, a position detection sensor using a photoelectric conversion element, or the like can be used. As the vibration detection means 4a to d, an acceleration sensor or a geophone sensor can be used. . At the four corners of the vibration isolation table 1, air spring type support legs 5a to d including the above-described air spring actuators 2a to 2d, position detecting means 3a to d and vibration detecting means 4a to d as main components are arranged. The vibration isolation table 1 and the equipment mounted thereon are supported. In addition, although not shown in figure about the main component which supports the vibration isolator 1 in a horizontal direction, it becomes the same as that of the perpendicular direction mentioned above.
[0006]
Next, the configuration and operation of the feedback device for the air spring type support legs 5a to 5d will be described. First, the outputs of vibration detecting means 4a to 4d such as acceleration sensors are opened and closed by servo valves (not shown) included in an air spring actuator via gain compensators 6a to 6d having appropriate amplification degrees and time constants. Negative feedback is performed before the voltage-current converters 7a to 7d. Damping is applied by this acceleration feedback loop to stabilize the mechanism. Further, the outputs of the position detection means 3a to d are compared through the displacement amplifiers 8a to 8d.vesselInput to 9a-d. Here, a comparison is made with the voltages set at the target voltage input terminals 10a to 10d, and the position deviation signal (ea , Eb , Ec , Ed ) Is generated. The voltage set to the target voltage input terminals 10a to 10d is equivalent to the equilibrium position of the vibration isolation table 1 with respect to the installation surface of the air spring type support legs 5a to 5d. Subsequently, the position deviation signal passes through the PI compensators 11a to 11d, and the voltage / current converters 7a to 7d are driven by a drive signal obtained by adding this signal and the negative feedback signal of the acceleration feedback loop. Then, the internal pressure of the air spring is adjusted by opening and closing the servo valve, and the vibration isolation table 1 can be held at a desired position set by the target voltage input terminals 10a to 10d without a steady deviation. Here, P of the PI compensator means proportionality, and I means integration operation. The air spring type support legs 5a to 5d having an air spring actuator have the ability to support a vibration isolation table on which a heavy object is mounted.
[0007]
FIG. 7 shows the structure of an XY stage 12 that is mounted on the vibration isolation table 1 and performs intense acceleration / deceleration operation. In this figure, 13 is an X stage, 14 is a fine movement stage for finely positioning a silicon wafer 15 mounted on the X stage 13, 16 is a Y stage, and 17YR and 17YL are both linear motors that drive the Y stage 16. (X stage 13 mover is not shown), 18X is a coil that is a stator of a linear motor that drives the X stage 13, 19YR and 19YL are linear motors that are arranged on the left and right to drive the Y stage 16. 20 is a stage surface plate, 21X is a bar mirror for X-axis measurement, and 21Y is a bar mirror for Y-axis measurement.
[0008]
Now, the air spring type active vibration isolator has a feature that the load carrying ability is high although the response is poor. On the other hand, an active vibration isolator using an electromagnetic actuator typified by a voice coil motor has a quick response, but does not have a high support load capacity. The experimental fact of FIG. 8 is observed based on the characteristics of the air spring type active vibration isolator described above. FIG. 2A is an example of a position deviation signal of the air spring type active vibration isolator when the XY stage 12 mounted with the vibration isolation table is driven step-and-repeat. This is a position deviation signal in which a large swell of a low frequency caused by repeated step driving and reversing the polarity is superimposed on a sharp swing as a transient phenomenon caused by step driving of the XY stage. Such behavior can be confirmed by numerical experiments using an appropriate mathematical model. FIGS. (B) and (C) show an example of a numerical experiment, which shows that the same tendency as the actual measurement result can be simulated.
[0009]
Here, the behavior of the position deviation signal is qualitatively interpreted. First, a transient phenomenon occurs in the natural period of the air spring type active vibration isolator by step driving with a pulse-like waveform (hereinafter referred to as “bang-bang-like waveform”) when the XY stage 12 is accelerated / decelerated suddenly at a substantially constant period. Is caused. Although it takes time to converge this transient phenomenon to zero, the next step drive is performed before the position deviation signal has converged to zero, and the transient phenomenon occurs again. This phenomenon is also insufficiently converged, and since step driving is successively performed, position deviations that cannot be converged are accumulated, resulting in a shift of the position deviation signal. It should be noted that the shift of the position deviation signal is caused by a moving load in which the movable part of the XY stage 12 is moved by step-and-repeat in addition to the above-described poor convergence.
[0010]
Now, the shift of the position deviation signal means that the main unit including the vibration isolation table deviates from the equilibrium position specified by the target voltage. For example, when the position deviation signal shown in FIG. 8 is a position deviation signal in the X direction, it means that the main unit including the vibration isolation base has gradually moved in the X direction from the initial equilibrium position. . Further, when the position deviation signal is rotation about the x axis, it means that the main body apparatus including the vibration isolation table is gradually inclined about the x axis from the initial equilibrium position.
[0011]
In order to suppress such a phenomenon, a technique for appropriately compensating the drive signal of the XY stage and feeding it forward to the actuator of the active vibration isolator is disclosed. For example, JP-A-6-216003 “Stage device” can be mentioned. However, the response of the air spring type active vibration isolator is slow and the feedforward cannot suppress the fluctuation of the position deviation signal as shown in FIG. In the case of an active vibration isolator using an electromagnetic actuator such as a voice coil motor, it has the ability to suppress the transient phenomenon of the vibration isolation table caused by the step drive of the XY stage, but it corrects the shift of the vibration isolation table. Have no ability to return to the equilibrium position.
[0012]
[Problems to be solved by the invention]
The problems in the air spring type active vibration isolator are summarized as follows.
Among the devices mounted on the active vibration isolation table, the XY stage has an intermittent operation called step-and-repeat as an operation mode. This operation gives a strong driving reaction force to the vibration isolation table. Further, the step and repeat cycle is gradually shortened in order to improve throughput (productivity). At this time, the natural frequency of the vibration isolation table is in a low frequency range of, for example, 2 to 3 Hz, the XY stage is driven at a much faster cycle than that, and the load on the vibration isolation table is increased by continuous driving of the XY stage. To moveAndThe resulting problem occurs.
[0013]
If operation with a period much faster than the natural period of the vibration isolation table is performed, stepping is performed one after another before the transient phenomenon caused by stepping is fully attenuated, resulting in a shift of the macro trend of the position deviation signal. Resulting in. When there is a time-varying moving load, a driving force that suppresses the influence is generated, but this also fails to respond in time and causes a shift of the position deviation signal.
[0014]
The presence of a very low frequency shift component means that there is a movement or rotation from the equilibrium position of the vibration isolation table. The shift and rotation of the vibration isolation table during step-and-repeat gives static dynamic distortion to the main body including the vibration isolation table, and in the case of a semiconductor exposure apparatus, the projection optical system (not shown) is distorted. Connection device performance is degraded. In addition, the entire equipment including the vibration isolation table or the installation standard of precision equipment (not shown) may be infringed.
[0015]
The present invention has been made in view of the problems in the above-described conventional example, and an object thereof is to prevent deviation of the vibration isolation table from the target position.
[0016]
[Means and Actions for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention provides a vibration isolation table,TheAn air spring actuator for applying a driving force to the vibration isolation table;SaidVibration detecting means for detecting vibration of the vibration isolation table;SaidPosition detecting means for detecting the position of the vibration isolation table;SaidAn acceleration feedback loop that provides damping by the output of the vibration detection means;SaidA position loop for generating a position deviation signal based on the output of the position detection means and the target voltage input to the target voltage input terminal and applying compensation, and actively removing the position of the vibration isolation table at a desired position. In the vibration device,SaidIn order to correct the offset of the position deviation signal generated by the step-and-repeat drive of the XY stage mounted on the vibration isolation table,While the XY stage is driven in one direction by repeating step drive,Input to the target voltage input terminalRuTarget voltageSaidXY stageStepDriveBy repeating the above, a certain value is set so that the vibration isolation table is displaced in the direction opposite to the direction in which the vibration isolation table is displaced in an offset mannerOverlay the correction voltage patternProvided meansIt is characterized by that.
[0017]
The present invention utilizes the fact that the offset of the position deviation signal generated by step-and-repeat driving is characteristic. Each time the polarity of the continuous bang-bang step drive is reversed, the polarity of the substantially constant offset is also reversed. Therefore, a correction voltage having a constant voltage with a cycle of polarity reversal of step drive is superimposed on a target voltage for positioning the vibration isolation table. Therefore, the offset is canceled by applying the correction partial pressure.
[0018]
【Example】
Examples of the present inventionIncluding reference examplesexplain.
[0019]
As is clear from the actual measurement result in FIG. 8A and the numerical experiment results in FIG. 8B and FIG. 8C, when the positional deviation signal during step-and-repeat is observed, a transient phenomenon caused by step driving is observed. The waveform and the shift caused by the continuous drive and moving load are superimposed.
Here, before describing an embodiment of the present invention, a reference example related to an air spring type active vibration isolator will be described. Reference explained belowExample 1 provides a device configuration that suppresses the latter phenomenon by changing the position feedback compensator.
[0020]
[Reference Example 1]
Figure 1referenceThe structure of the air spring type | formula active vibration isolator which concerns on Example 1 is shown. In the apparatus shown in FIG. 1, when a step-and-repeat drive is received, a motion mode in which an offset is likely to occur is selected, and a compensator for compensating the motion mode deviation signal is changed from a conventional PI compensator to a PI.2  Change to compensator. Here, it is well known that P in the PI compensator means proportionality, and I means integral operation, and is generally a compensator having a transfer function of the following equation.
[0021]
[Expression 1]
Figure 0003720490
Where k1 Is the proportional gain, k2 Is the integral gain.
[0022]
Also here PI2The compensator called is a compensator having a transfer function in which one integrator is added to the equation (1) as in the following equation.
[0023]
[Expression 2]
Figure 0003720490
[0024]
According to experimental facts, the offset is superimposed on the motion mode deviation signal, especially for rotation around the X and Y axes. This is because the positioning location of the XY stage 12 on the vibration isolation table 1 sequentially moves during step-and-repeat driving, and this acts dominantly to tilt the vibration isolation table 1.
[0025]
The operation will be described below with reference to FIG. First, the outputs of the position detectors 3a to 3d are converted into electric signals by the displacement amplifiers 8a to 8d and input to the comparators 9a to 9d. By comparing the voltage applied to the target voltage input terminals 10a to 10d with the output of the displacement amplifiers 8a to 8d, the position deviation signal (ea, Eb, Ec, Ed) Next, these position deviation signals are motion mode deviation signals (S) representing motion modes such as translation and rotation of the vibration isolation table 1.z, Sθx, Sθy) Is extracted by the motion mode extracting means 22 for extracting. Where Sz Is the translational motion in the Z-axis direction, SθxIs the rotational motion around the X axis, SθyIs a motion mode deviation signal indicating rotational motion about the Y axis. Movement mode deviation signal (Sz, Sθx, Sθy) Is input to the stabilization compensator 23 for the position loop. More specifically, SzIs compensated by the PI compensator 24Z.xAnd SθyFor PI2Compensators 24X and 24Y are prepared and the compensation signal (Cz, Cθx, Cθy) Is generated.
[0026]
On the other hand, the electrical signals that are the outputs of the vibration detection means 4a to 4d are led to the motion mode extraction means 25 that extracts the motion mode signal related to acceleration (az, Aθx, Aθy) Is output. Where az Is the translation in the Z-axis direction, aθx Is the rotation around the X axis, aθy Are respective motion mode signals relating to acceleration indicating rotation about the Y axis. (Az, Aθx, Aθy ) Is led to gain compensators 26Z, 26X, and 26Y having both a gain and a filtering function, and negative feedback signals (Az , Aθx , Aθy ) Is generated. (Az , Aθx , Aθy ) Is the compensation signal (Cz , Cθx , Cθy ) And drive signals for each motion mode(Dz , Dθx , Dθy ) (Dz , Dθx , Dθy ) Is an input to the motion mode distribution means 27 that generates drive signals for the air spring actuators 2a to 2d in each of the air spring type support legs that are spatially arranged, and the output of the motion mode distribution means 27 is a voltage-current conversion. The air spring actuators 2a to 2d are applied via the devices 7a to 7d.
[0027]
Now, for the air spring type active vibration isolator, parameter adjustments satisfying both the vibration isolation performance and the vibration suppression performance are made. Compensator for position feedback loop from PI to PI2 Simply changing to the conventional parameter adjustment state is destroyed. This is because it is a simple act of adding one integrator to the control loop, but its influence on the stability is large. That is, in the active vibration isolator of FIG. 1 having a feedback loop for each motion mode, all the position compensators for the motion mode are changed from PI to PI.2 Substituting for (2) breaks the state of parameter adjustment for the vibration isolation and damping performance of the conventional device, and therefore requires readjustment. However, the motion mode in which the position deviation signal is offset in the step-and-repeat drive is only the rotational motion mode around the X axis and the Y axis, and hardly occurs in the translational motion in the Z-axis direction. So bookreferenceFrom the PI compensator as shown in the example2 The change to the compensator is only inserted in the motion mode in which the offset in question occurs, so that the parameter readjustment becomes minor. Alternatively, selectively PI2 Since a compensator is inserted, the deviation from the performance in the conventional parameter adjustment is very small, and almost no adjustment is required.
[0028]
referenceA numerical experiment showing the effectiveness of Example 1 is given in FIG. FIG. 4A shows a step-and-repeat drive signal, and FIG. 4B shows a position deviation signal. In (B), the alternate long and short dash line represents the response when the compensators 24X and 24Y are PI compensators, and the solid line represents PI instead of the conventional PI compensator.2 The response when the compensator is used is shown. After step driving with five consecutive bang-bang waveforms, step driving with reversed polarity is input five times. It can be seen that with the latter driving, that is, as the step-and-repeat driving proceeds, the offset of the position deviation signal is removed and the signal becomes asymptotic to a bipolar signal. Therefore, when this is a position deviation signal in the rotational motion mode, it can be seen that the inclination of the main body apparatus is corrected as the step-and-repeat drive proceeds, and asymptotically approaches the equilibrium position. Therefore, when this is a position deviation signal in the rotational motion mode, it indicates that the inclination of the main unit is corrected as the step-and-repeat drive proceeds, and asymptotically approaches the equilibrium position.
[0029]
[Reference Example 2]
In the apparatus of FIG. 1, PI is only applied to motion mode deviation signals around the X and Y axes.2 A compensator was used. Of course, PI is also applied to Z-axis translation.2 Using a compensator, eventually replacing the PI compensator for all modes of motion2 You can also use a compensatorCanThe In FIG. 1, the control loop is configured based on the motion mode such as translation and rotation for the position and acceleration signals. However, the conventional air spring type active vibration isolation having a general control loop independent of each axis. For the device, instead of PI compensator, PI2 You can also use a compensatorCanThe FIG. 3 shows an apparatus configuration having an independent control loop for each axis. The PI compensators 11a to 11d in FIG. 6 are replaced with the stabilizing compensator 23 in FIG.2 Compensators 23a-d.
[0030]
Note that one integrator is added to the PI compensator and PI2 In the case of a compensator, phase recovery means such as phase lead compensation are used as necessary to ensure stability.2 The simultaneous incorporation into the compensator is not prevented.
[0031]
[Example]
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
BookImplementationAn example is, Attention is paid to the fact that the polarity of a substantially constant offset is also reversed in the period in which the time series of the driving pattern is reversed.Explained in each reference example aboveA device configuration in which a voltage applied to the target voltage input terminals 10a to 10d is operated is given. That is,As shown in FIG. 1 or FIG.A correction voltage for correcting an offset of a position deviation signal generated during step-and-repeat driving is superimposed on a target voltage for positioning the vibration isolation table 1 at a desired position. For example, consider a case where the Y stage 16 performs step-and-repeat in the Y-axis direction. Referring to FIG. 4, when continuous step driving is performed on the front side of the sheet, rotation about the X axis occurs in the vibration isolation table 1. The position detecting means 3a and 3b detect the approach (sinking) of the vibration isolation table 1, and 3c and 3d detect the reverse (floating). In addition, since the rotation amount as a low frequency component during the period when the bang-bang step drive continues is substantially constant, a larger driving force is applied to the air spring actuators 2a and 2b, and conversely, the air spring actuators 2c and 2d are driven. If the force is removed, the offset of the position deviation signal can be canceled.
[0032]
More specific description will be given with reference to FIG. In the figure, the description of the parts having the same reference numerals as those of the other figures described above is omitted. In FIG. 4, 28 is a laser interferometer for measuring the position of the XY stage 12 in the Y-axis direction, and the amount of movement of the Y stage 16 is measured by applying the emitted light beam to the Y-axis measuring bar mirror 21Y (see FIG. 7). Is done. This signal becomes a position signal through the position detection means 29 and becomes a position deviation signal compared with the value of the position target terminal 30 to the Y stage 16. The position deviation signal is guided to a compensator 31 typified by a PID compensator, and the output signal drives a power amplifier 32 that supplies current to the stators 19YR and 19YL of the linear motor that positions and drives the Y stage 16. The control system for the X stage 13 has the same configuration as the control system for the Y stage 16 described above. A step and repeat command to the Y stage 16 to be applied to the position target terminal 30 is supplied from the profiler 33. Note that this step-and-repeat drive pattern 34 is known in advance. In this embodiment, a correction voltage pattern 35 is generated from a known drive pattern 34 with a half cycle of a period in which bang-bang step driving continues. The correction voltage pattern 35 is led to the distributor 36, and the output is added to the target voltage input terminals 10a to 10d to which the voltages of the target voltage setting means 37a to 37d are applied. The distributor 36 generates a correction voltage having an appropriate amplitude and polarity for each axis.
[0033]
As described above, the polarity of the offset superimposed on the position deviation signal in the air spring type active vibration isolation device is uniquely determined by the driving direction of the XY stage 12 with respect to the vibration isolation table 1, and the magnitude thereof is substantially constant. Therefore, the offset is removed in addition to the target voltage for positioning the vibration isolation table 1 at a desired position in the target voltage input terminals 10a to 10d only during the period when the time series of the bang-bang step drive signals having the same polarity are input. Therefore, a correction voltage of a constant voltage sufficient for the above is superposed. In addition,BookImplementationExampleThe stabilization compensator 23 is not necessarily PI2 The compensator need not be a PI compensator as in the past.
[0034]
BookImplementationExampleA numerical experiment showing the effectiveness is given in FIG. In the figure, (A) shows a step-and-repeat drive signal, (B) shows a correction voltage and its application timing, and (C) shows a position deviation signal based on the presence or absence of the correction voltage. In (C), the alternate long and short dash line indicates the case where there is no correction voltage, and the solid line indicates the response when the correction voltage is superimposed on the target voltage input terminals 10a to 10d. It can be seen that the large waviness of the position deviation signal is flattened by applying the correction voltage. That is, when this position deviation signal is for the rotational movement of the vibration isolation table 1, the vibration isolation table can always be positioned around the equilibrium posture specified by the target voltage without causing a bias in the inclination. It is.
[0035]
【The invention's effect】
According to the present invention,The following effects are brought about.
(1) Vibration isolation tableMounted onXY stageIn order to correct the offset of the position deviation signal generated by step-and-repeat driving, while the XY stage is driven in one direction by repeating step driving, the target voltage input to the target voltage input terminal is set to XY A constant value is set so that the vibration isolation table is displaced in a direction opposite to the direction in which the vibration isolation table is displaced in an offset manner by repeating the step drive of the stage.By superimposing the correction voltage pattern, it is possible to cancel the offset of the position deviation signal due to the step-and-repeat driving of the XY stage without changing the skeleton of the control loop for the air spring type support leg. Therefore, there is an effect that unnecessary distortion is not given to the main body device including the vibration isolation table. In addition, there is no cost increase.
(2) Since the position shift of the main body device caused by the step-and-repeat drive can be suppressed, the installation criteria for the device can be relaxed.
[Brief description of the drawings]
[Figure 1]referenceExample1It is a block diagram of the air spring type active vibration isolator which concerns on.
FIG. 2 is a waveform diagram showing the results of numerical experiments showing the effectiveness of the apparatus of FIG.
[Fig. 3]referenceExample2It is a block diagram of the air spring type active vibration isolator which concerns on.
FIG. 4 of the present inventiononeIt is a block diagram of the air spring type active vibration isolator which concerns on an Example.
FIG. 5 is a waveform diagram showing the results of a numerical experiment showing the effect of the apparatus of FIG.
FIG. 6 is a view showing a conventional air spring type active vibration isolator.
FIG. 7 is a diagram showing a structure of an XY stage.
FIG. 8 shows an actual measurement result and a numerical experiment result showing an example of a position deviation signal during step-and-repeat driving.
[Explanation of symbols]
1: vibration isolation table, 2, 2a to d: air spring actuator, 3, 3a to d: position detection means, 4, 4a to d: vibration detection means, 5, 5a to d: air spring type support legs, 6, 6a to d: gain compensator, 7, 7a to d: voltage-current converter, 8, 8a to d: displacement amplifier, 9, 9a to d: comparisonvessel10, 10a to d: target voltage input terminal, 11, 11a to d: PI compensator, 12: XY stage, 13: X stage, 14: fine movement stage, 15: silicon wafer, 16: Y stage, 17YR, 17YL : Mover of linear motor, 18X: Coil that is a stator of linear motor, 19YR, 19YL: Coil that is a stator of linear motor, 20: Stage surface plate, 21X: Bar mirror for X axis measurement, 21Y: Y axis Vermila for measurement, 22: motion mode extraction means, 23: stabilization compensator, 23a to d: PI2 Compensator, 24Z: PI compensator, 24X, 24Y: PI2 Compensator, 25: Motion mode extraction means, 26Z, 26X, 26Y: Gain compensator, 27: Motion mode distribution means, 28: Laser interferometer, 29: Position detection means, 30: Position target terminal, 31: PID compensator 32: power amplifier, 33: profiler, 34: drive pattern, 35: correction voltage pattern, 36: distributor, 37a to d: target voltage setting means.

Claims (4)

除振台と、該除振台に駆動力を付与する空気バネアクチュエータと、前記除振台の振動を検出する振動検出手段と、前記除振台の位置を検出する位置検出手段と、前記振動検出手段の出力によってダンピングを与える加速度フィードバックループと、前記位置検出手段の出力と目標電圧入力端子に入力された目標電圧に基づいて位置偏差信号を生成して補償を掛ける位置ループとを有し、前記除振台を所望の位置に位置決めする能動的除振装置において、
前記除振台に搭載されるXYステージのステップアンドリピート駆動により発生する前記位置偏差信号のオフセットを修正するために、前記XYステージがステップ駆動の繰り返しによりある一方向に駆動されている間は、前記目標電圧入力端子に入力され目標電圧に、前記XYステージのステップ駆動の繰り返しによって前記除振台がオフセット状に変位する方向とは逆方向に該除振台を変位させるように一定値の補正電圧パターンを重畳する手段を設けたことを特徴とする能動的除振装置。
A vibration isolation table, an air spring actuator that applies a driving force to the vibration isolation table, vibration detection means that detects vibration of the vibration isolation table, position detection means that detects a position of the vibration isolation table, and the vibration An acceleration feedback loop that provides damping by the output of the detection means; and a position loop that generates a position deviation signal based on the output of the position detection means and the target voltage input to the target voltage input terminal and performs compensation. In an active vibration isolation device for positioning the vibration isolation table at a desired position,
To correct the offset of the position deviation signal generated by the step-and-repeat operation of the XY stage mounted on the anti-vibration table, while the XY stage is driven in one direction in the repetition of steps driven the target voltage input target voltage that will be inputted to the terminal, the predetermined value so as to displace the該除vibration table in a direction opposite to the anti-vibration table by repeating the step driving of the XY stage to the direction to displace the offset shape active anti-vibration apparatus is characterized in that a means for superimposing a correction voltage pattern.
前記振動検出手段は加速度センサであることを特徴とする請求項1に記載の能動的除振装置。2. The active vibration isolator according to claim 1, wherein the vibration detecting means is an acceleration sensor. 前記補正電圧パターンは、予め既知である前記XYステージの駆動パターンに基づいて生成されることを特徴とする請求項1または2に記載の能動的除振装置。The active vibration isolation device according to claim 1, wherein the correction voltage pattern is generated based on a drive pattern of the XY stage that is known in advance. 前記補正電圧パターンの極性は、前記XYステージのステップ駆動の繰り返される方向が反転する周期で反転することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の能動的除振装置。4. The active vibration isolation device according to claim 1, wherein the polarity of the correction voltage pattern is inverted at a cycle in which a direction in which step driving of the XY stage is repeated is inverted. 5.
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