JP3698171B2 - Heat treatment method for glass plate for display device - Google Patents
Heat treatment method for glass plate for display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP3698171B2 JP3698171B2 JP33108294A JP33108294A JP3698171B2 JP 3698171 B2 JP3698171 B2 JP 3698171B2 JP 33108294 A JP33108294 A JP 33108294A JP 33108294 A JP33108294 A JP 33108294A JP 3698171 B2 JP3698171 B2 JP 3698171B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass plate
- glass
- plate
- heat
- heat treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、電子機器に用いられるガラス板を熱処理する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子機器産業の発達に伴い、各種の電子機器、とりわけ液晶やエレクトロルミネセンス、プラズマディスプレイといった表示装置あるいはイメージセンサ等の基板用ガラスとして、肉厚０．０３〜１．５ｍｍ程度のガラス板が多量に用いられるようになってきている。
【０００３】
これらの用途に用いられるガラス板は、その上に薄膜電気回路を形成するため、成膜熱処理、パターニング等の処理を受ける。これらの処理は、ガラス板を高温度下に曝す場合があり、そのためこの種のガラス板には、熱的寸法安定性の良いことが要求される。
【０００４】
例えばＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）及びＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードの液晶ディスプレイにおける透明導電膜回路、ａ−ＳｉＴＦＴ（Ａｍｏｒｐｈｏｕｓ−Ｓｉ Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）、ｐ−ＳｉＴＦＴ（Ｐｏｌｙ−Ｓｉ Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）やその他の各種金属膜や絶縁膜等の組み合わせによって形成された液晶ディスプレイの薄膜電気回路やエレクトロルミネセンスの薄膜電気回路、プラズマディスプレイの薄膜電気回路及びイメージセンサの薄膜電気回路等の製造工程において、ガラス板が高温度の熱処理を受けると、ガラスの寸法が変化して所定寸法を維持できなくなったり、更には回路パターンが所定の設計よりずれたりする虞れがある。この回路パターンのずれは、電気的な性能を維持できなくなるという致命的な不良原因になり、用途によっては１００ｍｍ当たり１μｍ以下の寸法変化も許されないことがある。
【０００５】
またこのような用途のガラス板は、反りやうねりが少なく、ガラス表面の平坦性が良いことも要求される。すなわちガラス板の平坦性が悪いと、露光距離が設計どおりにならなくなったり、液晶の２枚のガラス板の間隔に差が生じて表示性能を損なうという本質的な問題から、自動化された製造工程での機械的操作に適合しないという付随的な問題まで様々な問題を引き起こし、用途によってはガラス板の全面に亙って数μｍ〜数十μｍの平坦性が要求される。
【０００６】
しかしながら公知の工業的な成形法によって製造されたガラス板では、良好な熱的寸法安定性や平坦性は有しておらず、そのためにガラスを成形した後、これを平坦性に優れた耐熱性材料からなる板状体の上に載置した状態で、熱処理炉に入れ、歪点付近から軟化点付近の温度まで昇温し、一定時間保持した後、徐冷するといった熱処理方法が一般に採られている。この熱処理によってガラス板の寸法変化が予め飽和値近くまで進行し、ガラス板の熱的寸法安定性が改善されると共にガラスの表面が軟化変形することによって平坦性が改善される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら上記したガラス板の熱処理方法の場合、ガラス板を板状体の上に載置した状態で搬送コンベアー等に載せて移動させる際、ガラス板が板状体上で移動し、擦れることによって、ガラス板の表面に多数の傷が付いたり、さらにガラス板の位置がずれて、板状体からはみ出した状態で熱処理されると、ガラス板に反りが発生することになる。
【０００８】
また複数枚のガラス板を積層させた状態で搬送コンベアー等に載せて移動させる際にも、ガラス板同士が互いに擦れ合い、表面に傷が付いたり、ガラス板同士の位置がずれて、熱処理時に反りが発生しやすくなる。
【０００９】
電子機器用のガラス板の場合、表面の傷は、単に外観的に透明性が損なわれるといった問題のみならず、薄膜電気回路が傷のために設計どおりに形成されず、所望の電気性能が得られなかったり、断線したりするといった致命的な不良を引き起こし、特に微細な薄膜電気回路の場合、わずか数μｍの長さの傷ですら問題となる。またこのような傷は、ガラス表面を研磨することによって除去することができるが、研磨コストがガラス板の価格を大幅に上昇させるため好ましくない。
【００１０】
またガラスの反りが大きい場合にも、薄膜電気回路が設計どおりに形成されないという問題が生じる。
【００１１】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、平坦性に優れた耐熱性材料からなる板状体の上に、複数枚のガラス板を積層させた状態で載置して熱処理する場合、ガラス板が板状体上で移動したり、ガラス板同士が移動するのを防止する方法を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明のガラス板の熱処理方法は、平坦性に優れた耐熱性材料からなる板状体の上に、複数枚のガラス板を積層させた状態で載置した後、炉に入れて熱処理する表示装置用ガラス板の熱処理方法において、熱処理する前に板状体とガラス板の間、及びガラス板間を水あるいはアルコールで濡らし、該水あるいはアルコールを、ガラス板を炉に搬送する途中で徐々に揮発させ、熱処理工程において完全に蒸発させることを特徴とする。
【００１３】
また本発明の好ましい態様は、最上段に位置するガラス板の上に、平坦性に優れた耐熱性材料からなる板状体を載置してなることを特徴とする。
【００１４】
さらに本発明においては、板状体が、耐熱性結晶化ガラスからなることを特徴とし、さらにアルコールが、エチルアルコールであることを特徴とする。
【００１５】
本発明における加熱保持温度は、ガラスの歪点即ちガラスの粘度が、１０14.5ｐｏｉｓｅの温度付近までの範囲である。通常、電子機器のガラス板として使用される硼珪酸ガラスの場合、歪点は、約５００〜５５０℃、軟化点は約７５０〜８００℃であり、また無アルカリガラスの場合、歪点は、約６３０〜７５０℃、軟化点は、約８４０〜９５０℃である。
【００１６】
【作用】
本発明においては、板状体とガラス板の間や各ガラス板間を水あるいはアルコールで濡らしておくが、これらの液体の表面張力による吸引作用によってガラス板の板状体の上での移動やガラス板同士の移動が防止される。そのため、複数枚のガラス板を板状体の上に積層させた状態で載置し、これを搬送コンベアーに載せて移動してもガラス板の表面に擦り傷が付くことはない。因に、これらの液体は、ガラス板を炉に搬送する途中で徐々に揮発し、熱処理工程において完全に蒸発する。
【００１７】
また本発明において板状体とガラス板との間や各ガラス板間を水あるいはアルコールで濡らす方法としては、板状体やガラス板の上に液体をしずく状にして垂らしたり、液体を霧状にして吹き付ける方法が適当であり、これらの作業は自動化することが可能である。
【００１８】
つまり液体の代わりに、ガラス繊維シート等を使用し、これを板状体とガラス板の間に挟み込むことによって、ガラス板の位置ずれを防止することも可能ではあるが、板状体の上にガラス繊維シートを載せる作業あるいは取り除く作業を自動化することは非常に困難である。
【００１９】
因に本発明における液体は、必ずしも板状体やガラス板の全面を濡らす必要はなく、部分的に濡れるようにすれば良い。
【００２０】
本発明において使用する水は、通常の水道水で良いが、水中には、無機質の不純物が含まれているため、熱処理後のガラス板表面に不純物に起因する染みが発生することがある。このような場合には、ガラス板の表面をポリッシュ研磨することが好ましい。
【００２１】
さらにアルコールとしては、エチルアルコール、メチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール等を使用することが可能であるが、安全性や炉内での発火性を考慮すると、エチルアルコールを使用するのが望ましい。
【００２２】
本発明において高純度のアルコールを使用すると、液体中の不純物が少ないため、熱処理後のガラス板表面に染みが発生し難いため、ポリッシュ研磨を行う必要がない。
【００２３】
また本発明で使用する板状体の材料としては、耐熱性、生産コスト等を考慮すると、耐熱性結晶化ガラスが最も好ましい。この耐熱性結晶化ガラスとしては、３０〜３８０℃の温度範囲において、−２０〜２０×１０-7／℃の熱膨張係数を有するものが適しており、より具体的には、重量百分率で、ＳｉＯ2 ５５〜７０％、Ａｌ2 Ｏ3 ２０〜３５％、Ｌｉ2 Ｏ ３〜５％、ＴｉＯ2 １〜３％、ＺｒＯ2 １〜４％、Ｐ2 Ｏ5 １〜５％、Ｎａ2 Ｏ ０〜４％、Ｋ2 Ｏ ０〜４％の組成を有し、内部にβ−石英固溶体結晶あるいはβ−スポジューメン結晶を析出してなるものが好適である。
【００２４】
本発明において、最上段に位置するガラス板の上にも上記した板状体を載置すると、ガラス板の反りがより一層改善されると共に、熱処理時にガラス板の上下の熱バランスが保たれ、良好に徐冷することが可能となる。
【００２５】
【実施例】
以下、本発明のガラス板の熱処理方法を実施例及び比較例に基づいて詳細に説明する。
【００２６】
（実施例１）
重量百分率で、ＳｉＯ2 ７１．２％、Ａｌ2 Ｏ3 ５．８％、Ｂ2 Ｏ3 １２．３％、ＢａＯ ２．２％、ＣａＯ １．１％、Ｎａ2 Ｏ ６．３％、Ｋ2 Ｏ１．１％からなり、歪点が５３０℃、軟化点が７７０℃で、２００×２５０×０．５ｍｍの寸法を有するガラス板を３枚準備した。尚、これらのガラス板は、リドロー法によって成形したもので、表面には、問題となるような傷はないが、熱的寸法安定性及び平坦性が悪いガラス板である。
【００２７】
また３５０×４３０×３ｍｍの寸法を有する耐熱性結晶化ガラス板（日本電気硝子株式会社製ネオセラムＮ−０）を準備し、この耐熱性結晶化ガラス板の上に、高純度のエチルアルコールを０．５ｃｃ滴下した。
【００２８】
次いで上記のガラス板を洗浄し、乾燥させた後、その１枚を上記の耐熱性結晶化ガラス板の上に載置した。次いでこの載置したガラス板の上にも、エチルアルコールを０．５ｃｃ滴下した後、更にガラス板を積層し、これを繰り返すことによって、３枚のガラス板を、耐熱性結晶化ガラス板の上に重なり合うようにして載置した。
【００２９】
その後、これを最高温度が５５０℃になるように設定されたトンネル炉内を移動する搬送コンベアーの上に載置し、所定の速度でトンネル炉内を移動させてから取り出し、全てのガラス板を再び洗浄した後、乾燥させた。
【００３０】
こうして徐冷した３枚のガラス板に、１００００ルクスのハロゲン光を当てて、その表面を観察したところ、いずれも表面の傷は、成形後の水準と同等であり、染みも存在しないことが確認された。またこれらのガラス板の熱的寸法安定性を調べるため、３５０℃で３時間熱処理を施したところ、１００ｍｍ当たり１μｍ以内の良好な熱的寸法安定性を有しており、さらに触針式反り測定機を使用してガラス板の反りを調べたところ、５０μｍ以内の良好な平坦面を有していた。
【００３１】
（実施例２）
実施例１で使用したエチルアルコールを水道水に代え、後の条件は、全て同じように設定し、ガラス板の熱処理を行った。これらのガラス板の表面を観察したところ、表面の傷は、成形後の水準と同等であったが、染みの存在が確認された。また熱的寸法安定性と反りについても、実施例１と同等の値を示した。
【００３２】
その後、これらのガラス板の両面をポリッシュ研磨し、再びそれらの表面を観察したところ、染みは消失していた。
【００３３】
（比較例）
実施例１と同様のガラス板３枚と耐熱性結晶化ガラス板を準備し、これらのガラス板を洗浄し、乾燥させた後、各ガラス板を積層させた状態で耐熱性結晶化ガラス板の上に載置し、これを実施例１と同じ条件で搬送コンベアーに載置してトンネル炉内を移動させてから取り出し、各ガラス板を再び洗浄し、乾燥させた。
【００３４】
こうして徐冷した３枚のガラス板の表面を観察したところ、いずれのガラス板にも数μｍ〜数十μｍの長さの傷が多数認められ、成形後の水準よりもかなり悪かった。またこれらのガラス板の熱的寸法安定性と反りを調べたところ、熱的寸法安定性については、実施例のガラス板と同様、良好な値を示したが、反りについては、上方に積層した２枚のガラス板に５０μｍ以上の反りが認められた。
【００３５】
【発明の効果】
以上のように本発明のガラス板の熱処理方法によると、ガラス板が板状体上で移動したり、ガラス板同士が移動したりすることがないため、熱処理のための搬送工程においてガラス板の表面に傷を付けたり、反りを発生させることなく、良好に徐冷することが可能である。
【００３６】
また本発明は、徐冷のための熱処理に限定されるものではなく、例えばガラス板の表面に各種の機能膜を形成した後の熱処理にも応用することが可能である。[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a method for heat-treating a glass plate used in an electronic device.
[0002]
[Prior art]
In recent years, with the development of the electronic equipment industry, a glass plate having a thickness of about 0.03 to 1.5 mm as glass for substrates of various electronic equipment, especially display devices such as liquid crystal, electroluminescence, and plasma display or image sensors. Has been used in large quantities.
[0003]
The glass plate used for these applications is subjected to processes such as film formation heat treatment and patterning in order to form a thin film electric circuit thereon. These treatments may expose the glass plate to high temperatures, so this type of glass plate is required to have good thermal dimensional stability.
[0004]
For example, a transparent conductive film circuit, a-Si TFT (Amorphous-Si Thin Film Transistor), p-Si TFT (Poly-Si Thin Transistor) and other various liquid crystal displays in TN (Twisted Nematic) and STN (Super Twisted Nematic) liquid crystal displays. In the manufacturing process of thin film electric circuits for liquid crystal displays, electroluminescent thin films, thin film electric circuits for plasma displays and thin film electric circuits for image sensors, etc. When subjected to a heat treatment at a temperature, there is a possibility that the dimension of the glass changes and the predetermined dimension cannot be maintained, and further, the circuit pattern is shifted from the predetermined design. This deviation of the circuit pattern causes a fatal defect that electrical performance cannot be maintained, and a dimensional change of 1 μm or less per 100 mm may not be allowed depending on the application.
[0005]
In addition, the glass plate for such applications is required to have less warping and undulation and to have a flat glass surface. In other words, if the flatness of the glass plate is poor, the exposure distance will not be as designed, or the difference between the two glass plates of the liquid crystal will cause a difference and the display performance will be impaired. Various problems up to an incidental problem that it is not suitable for the mechanical operation of the glass plate are caused, and depending on the application, flatness of several μm to several tens of μm is required over the entire surface of the glass plate.
[0006]
However, a glass plate manufactured by a known industrial forming method does not have good thermal dimensional stability and flatness, and after forming glass for this purpose, it has excellent flatness and heat resistance. A heat treatment method is generally adopted in which it is placed on a plate-like material made of a material, placed in a heat treatment furnace, heated from near the strain point to a temperature near the softening point, held for a certain time, and then gradually cooled. ing. By this heat treatment, the dimensional change of the glass plate proceeds to the saturation value in advance, the thermal dimensional stability of the glass plate is improved, and the flatness is improved by softening and deforming the glass surface.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the case of the above-described heat treatment method for the glass plate, when the glass plate is placed on the plate-like body and moved on the conveyor or the like, the glass plate moves on the plate-like body and is rubbed. If the surface of the glass plate has many scratches, or if the glass plate is misaligned and heat-treated in a state of protruding from the plate-like body, the glass plate is warped.
[0008]
In addition, when a plurality of glass plates are stacked and moved on a conveyor or the like, the glass plates rub against each other, the surfaces are scratched, or the positions of the glass plates shift, Warpage is likely to occur.
[0009]
In the case of glass plates for electronic devices, the scratches on the surface are not only the problem that the transparency is impaired in appearance, but the thin-film electrical circuit is not formed as designed due to the scratches, and the desired electrical performance is obtained. In the case of a fine thin-film electric circuit, even a scratch having a length of only a few μm is a problem. Further, such scratches can be removed by polishing the glass surface, but this is not preferable because the polishing cost greatly increases the price of the glass plate.
[0010]
In addition, even when the warp of the glass is large, there arises a problem that the thin film electric circuit is not formed as designed.
[0011]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and its object is to mount a plurality of glass plates on a plate-like body made of a heat-resistant material having excellent flatness. In the case of placing and heat-treating, it is to provide a method for preventing the glass plate from moving on the plate-like body or from moving between the glass plates.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
The glass plate heat treatment method of the present invention is a display in which a plurality of glass plates are placed in a state of being laminated on a plate-like body made of a heat-resistant material having excellent flatness, and then placed in a furnace for heat treatment. In the heat treatment method for glass plates for equipment, before the heat treatment, between the plate-like body and the glass plates, and between the glass plates are wetted with water or alcohol, and the water or alcohol is gradually volatilized while the glass plate is transported to the furnace. And evaporating completely in the heat treatment step .
[0013]
In a preferred aspect of the present invention, a plate-like body made of a heat-resistant material having excellent flatness is placed on a glass plate positioned at the uppermost stage.
[0014]
Furthermore, the present invention is characterized in that the plate-like body is made of heat-resistant crystallized glass, and the alcohol is ethyl alcohol.
[0015]
The heating and holding temperature in the present invention is a range in which the strain point of the glass, that is, the viscosity of the glass is near the temperature of 10 14.5 poise. Usually, in the case of borosilicate glass used as a glass plate of electronic equipment, the strain point is about 500 to 550 ° C., the softening point is about 750 to 800 ° C., and in the case of alkali-free glass, the strain point is about 630-750 degreeC and a softening point are about 840-950 degreeC.
[0016]
[Action]
In the present invention, between the plate and the glass plate or between each glass plate is wet with water or alcohol, but the movement of the glass plate on the plate or the glass plate by the suction action by the surface tension of these liquids. Movement between each other is prevented. Therefore, even if a plurality of glass plates are placed in a state of being laminated on a plate-like body, and placed on a transport conveyor, they are not scratched on the surface of the glass plate. For this reason, these liquids gradually evaporate during the conveyance of the glass plate to the furnace and completely evaporate in the heat treatment step.
[0017]
Further, in the present invention, as a method of wetting between the plate-like body and the glass plate or between each glass plate with water or alcohol, the liquid is dropped on the plate-like body or the glass plate, or the liquid is mist-like. Thus, the spraying method is suitable, and these operations can be automated.
[0018]
In other words, it is possible to use a glass fiber sheet or the like instead of the liquid and sandwich this between the plate and the glass plate to prevent the glass plate from being displaced. It is very difficult to automate the work of placing or removing a sheet.
[0019]
Incidentally, the liquid in the present invention does not necessarily need to wet the entire surface of the plate-like body or the glass plate, but may be partially wetted.
[0020]
The water used in the present invention may be ordinary tap water. However, since the water contains inorganic impurities, stains due to the impurities may occur on the surface of the glass plate after the heat treatment. In such a case, it is preferable to polish the surface of the glass plate.
[0021]
Further, ethyl alcohol, methyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, or the like can be used as the alcohol, but it is desirable to use ethyl alcohol in consideration of safety and ignition in the furnace.
[0022]
When high-purity alcohol is used in the present invention, since there are few impurities in the liquid, it is difficult for stains to occur on the surface of the glass plate after the heat treatment, so it is not necessary to perform polish polishing.
[0023]
Further, as the material for the plate-like body used in the present invention, heat-resistant crystallized glass is most preferable in consideration of heat resistance, production cost and the like. As this heat-resistant crystallized glass, those having a thermal expansion coefficient of -20 to 20 × 10 −7 / ° C. in a temperature range of 30 to 380 ° C. are suitable, and more specifically, by weight percentage, SiO 2 55~70%, Al 2 O 3 20~35%, Li 2 O 3~5%, TiO 2 1~3%, ZrO 2 1~4%, P 2 O 5 1~5%, Na 2 O A composition having a composition of 0 to 4% and K 2 O of 0 to 4% and having β-quartz solid solution crystals or β-spodumene crystals precipitated therein is preferred.
[0024]
In the present invention, when the above-described plate-like body is also placed on the glass plate positioned at the uppermost stage, the warpage of the glass plate is further improved, and the heat balance between the upper and lower sides of the glass plate is maintained during the heat treatment, It becomes possible to cool slowly.
[0025]
【Example】
Hereinafter, the heat processing method of the glass plate of this invention is demonstrated in detail based on an Example and a comparative example.
[0026]
(Example 1)
By weight percentage, SiO 2 71.2%, Al 2 O 3 5.8%, B 2 O 3 12.3%, BaO 2.2%, CaO 1.1%, Na 2 O 6.3%, K Two glass plates having a size of 200 × 250 × 0.5 mm having 2 × 1.1%, strain point of 530 ° C., softening point of 770 ° C. were prepared. These glass plates are formed by the redraw method, and there are no scratches that cause problems on the surface, but the glass plates are poor in thermal dimensional stability and flatness.
[0027]
In addition, a heat-resistant crystallized glass plate (Neoceram N-0 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) having dimensions of 350 × 430 × 3 mm was prepared, and high-purity ethyl alcohol was added on the heat-resistant crystallized glass plate. .5 cc was dropped.
[0028]
Next, the glass plate was washed and dried, and then one of the plates was placed on the heat-resistant crystallized glass plate. Next, 0.5 cc of ethyl alcohol was dropped on the placed glass plate, and a glass plate was further laminated. By repeating this, three glass plates were formed on the heat-resistant crystallized glass plate. Placed on top of each other.
[0029]
After that, it is placed on a conveyor that moves in the tunnel furnace set so that the maximum temperature is 550 ° C., is taken out after moving in the tunnel furnace at a predetermined speed, and all the glass plates are removed. After washing again, it was dried.
[0030]
The three glass plates thus cooled slowly were exposed to 10000 lux halogen light and the surface was observed. All of the scratches on the surface were the same as the level after molding and no stain was found. It was done. In addition, in order to investigate the thermal dimensional stability of these glass plates, when subjected to heat treatment at 350 ° C. for 3 hours, it has a good thermal dimensional stability within 1 μm per 100 mm, and also has a stylus type warpage measurement. When the warp of the glass plate was examined using a machine, it had a good flat surface within 50 μm.
[0031]
(Example 2)
The ethyl alcohol used in Example 1 was replaced with tap water, and the subsequent conditions were all set in the same manner, and the glass plate was heat-treated. When the surfaces of these glass plates were observed, the surface scratches were equivalent to the level after molding, but the presence of stains was confirmed. Also, the thermal dimensional stability and warpage showed the same values as in Example 1.
[0032]
Thereafter, both surfaces of these glass plates were polished and observed again, and the stains disappeared.
[0033]
(Comparative example)
Three glass plates similar to Example 1 and a heat-resistant crystallized glass plate were prepared, and after these glass plates were washed and dried, each glass plate was laminated to form a heat-resistant crystallized glass plate. The glass plate was placed on the carrier conveyor under the same conditions as in Example 1, moved inside the tunnel furnace, and then taken out. Each glass plate was washed again and dried.
[0034]
When the surfaces of the three glass plates thus slowly cooled were observed, many scratches having a length of several μm to several tens of μm were observed in all the glass plates, which was considerably worse than the level after molding. Further, when the thermal dimensional stability and warpage of these glass plates were examined, the thermal dimensional stability showed good values as in the glass plates of the examples, but the warpage was laminated on the top. Warpage of 50 μm or more was observed on the two glass plates.
[0035]
【The invention's effect】
As described above, according to the heat treatment method for a glass plate of the present invention, the glass plate does not move on the plate-like body, or the glass plates do not move with each other. Slow cooling can be satisfactorily performed without scratching the surface or causing warpage.
[0036]
The present invention is not limited to heat treatment for slow cooling, and can be applied to heat treatment after various functional films are formed on the surface of a glass plate, for example.
Claims (4)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33108294A JP3698171B2 (en) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | Heat treatment method for glass plate for display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33108294A JP3698171B2 (en) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | Heat treatment method for glass plate for display device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08165133A JPH08165133A (en) | 1996-06-25 |
| JP3698171B2 true JP3698171B2 (en) | 2005-09-21 |
Family
ID=18239656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33108294A Expired - Fee Related JP3698171B2 (en) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | Heat treatment method for glass plate for display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3698171B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2479151B1 (en) * | 2009-09-18 | 2020-10-28 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Method for producing glass film, method for processing glass film, and glass film laminate |
| JP5644129B2 (en) * | 2010-02-12 | 2014-12-24 | 日本電気硝子株式会社 | Tempered plate glass and manufacturing method thereof |
| JP5652742B2 (en) * | 2010-02-12 | 2015-01-14 | 日本電気硝子株式会社 | Tempered plate glass and manufacturing method thereof |
| JP6742593B2 (en) * | 2015-01-05 | 2020-08-19 | 日本電気硝子株式会社 | Method for manufacturing supporting glass substrate and method for manufacturing laminated body |
-
1994
- 1994-12-07 JP JP33108294A patent/JP3698171B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08165133A (en) | 1996-06-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2019514827A (en) | High strength ultra thin glass and method for producing the same | |
| JP5428287B2 (en) | Glass plate manufacturing method and manufacturing equipment | |
| JP2003335548A (en) | Alkalifree glass, and glass substrate for display using the same | |
| KR102662640B1 (en) | Textured glass surfaces for reduced electrostatic charging | |
| JP2000044278A (en) | Glass substrate for display | |
| TW201446667A (en) | Glass substrate and gradual cooling method thereof | |
| JP3698171B2 (en) | Heat treatment method for glass plate for display device | |
| JP3118789B2 (en) | Slow cooling method for glass plate | |
| JP5332085B2 (en) | Manufacturing method of glass substrate for flat panel display | |
| JP3152256B2 (en) | Slow cooling method for glass plate | |
| US9963382B2 (en) | Method for handling ultra-thin glass for display panel | |
| JP3698170B2 (en) | Heat treatment method for glass plate for display device | |
| JP2001122637A (en) | Glass substrate for display | |
| JP2002114537A (en) | Setter for heat treatment of glass substrate | |
| WO2022190651A1 (en) | Tempered glass and method for producing same | |
| JP6454188B2 (en) | Manufacturing method of glass substrate | |
| JP3118788B2 (en) | Glass article annealing furnace | |
| JP6552839B2 (en) | Manufacturing method of glass substrate | |
| TWI679174B (en) | Heat treatment method of glass substrate and manufacturing method of glass substrate | |
| JPH09278465A (en) | Production of glass substrate having small heat shrinkage ratio | |
| TWI690498B (en) | Heat treatment method of glass substrate | |
| JP2000302484A (en) | Heat-resistant surface plate and heat treatment of glass substrate using the same | |
| WO2016068069A1 (en) | Glass base plate heat processing method and glass base plate production method | |
| JPH10297941A (en) | Annealing of plate glass | |
| JP6082434B2 (en) | Glass substrate manufacturing method and glass substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050215 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050413 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050615 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050628 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |