JP3635957B2 - Constant temperature chamber passage opening and closing device - Google Patents

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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばICデバイス(集積回路素子)を所定の温度にまで加熱または冷却した状態で、その電気的特性の測定を行う試験装置において、ICデバイスが位置する恒温チャンバの内外を区画形成する断熱壁等に設けられ、搬送ボードを出し入れするための通路に装着される恒温チャンバの通路開閉装置に関するものである。
【0002】
【従来技術の説明】
ICデバイスの電気的特性の試験・測定を行うための試験装置としては、ICテスタとICハンドラとから大略構成されるが、ICハンドラはローダ部と、試験測定部と、アンローダ部とから構成される。ローダ部はICデバイスを供給する機構が設けられ、試験測定部にはICテスタのテストヘッドが臨み、ICデバイスを所定の位置に位置決めする機構と、テストヘッドにICデバイスを接離する機構とを含むものである。また、アンローダ部においては、試験測定されたICデバイスを分類分けする手段を備えている。
【0003】
ここで、ICデバイスは、常温状態で試験されるだけでなく、ICデバイスに一定の温度条件を与え、加熱または冷却した状態でテストヘッドとの間で通電する試験も行われる。ここで、ICデバイスに与えられる試験温度条件としては、高温試験時にはICデバイスを100〜150℃にまで加熱され、また低温試験時にはICデバイスの温度としては−50℃乃至それ以下にまで冷却される。従って、前述した試験測定部において、ICデバイスを設定温度に保持するために、この試験測定部は通電時の設定温度に管理された恒温槽内に配置する。ローダ部から供給されるICデバイスは室温乃至その近傍の温度状態となっている関係から、試験測定に先立って、ICデバイスを設定温度にまで加熱または冷却する必要があり、このためにプリヒート部が設けられる。プリヒート部と試験測定部とは、実質的に同じ温度状態に置かれることから、それらを一体の恒温槽として構成するのが一般的である。なお、プリヒート部においては、できるだけ多数のICデバイスを効率的に加熱または冷却するために広いスペースが必要となり、また試験測定部では極めて厳格な温度管理が必要であること等、それぞれ機能が異なることから、プリヒート部と試験測定部とを区画壁により区画形成してそれぞれ独立した恒温槽として形成する場合もある。
【0004】
従って、ICハンドラにおけるローダ部から供給されたICデバイスは、まずプリヒート部に搬入されて、このプリヒート部内で設定温度になるまで加熱または冷却され、設定温度とした後にICテスタに接続されて、通電することにより電気的特性の試験測定が実行される。ICデバイスの試験測定が終了すると、このICデバイスはアンローダ部に移行し、このアンローダ部で試験結果に基づいて分類分けされる。このアンローダ部では、当然温度管理は行われず、従ってICデバイスはこのアンローダ部で概略室温になる。
【0005】
特に、ICデバイスを−50℃乃至それ以下の温度で低温試験を行った後、直ちにアンローダ部に移行させると、このICデバイスと外気温との温度差によって、パッケージ部及びリードの外面部等に結露が発生することになる。そこで、試験測定が終了した後には、ICデバイスを直ちにアンローダ部に移行させるのではなく、測定温度と室温とのほぼ中間の温度にしたデフロスタ室を設けて、一度このデフロスタ室内でICデバイスの温度をある程、つまり室温下で結露しない温度にまで上昇させた上でアンローダ部に移行させる。一方、高温試験時では前述した結露は発生しないものの、ICデバイスにできるだけ熱ショックを与えないようにするために、やはりICデバイスを恒温槽内と室温との間の温度に保持したデフロスタ室に搬入し、このデフロスタ室内である程度温度を下げた後にアンローダ部に移行させるのが望ましい。従って、恒温槽及びデフロスタ室は、精度の差はあるものの、共に一定の温度状態に保たれる恒温チャンバである。
【0006】
以上のことから、恒温槽やデフロスタ室からなる恒温チャンバ及び一の恒温チャンバと他の恒温チャンバとの間には、断熱壁により熱的に隔離した状態にすると共に、この断熱壁の一部を開口させて、ICデバイスの通路を設けるように構成する。従って、ICデバイスはこの通路により恒温槽内に搬入され、次いでデフロスタ室を移行して、このデフロスタ室から搬出される。ここで、恒温槽は極めて厳格に温度管理がなされることから、またデフロスタ室も恒温槽程ではないものの、ある程度の温度範囲に保持しなければならないことから、ICデバイスの通路は開閉可能となし、ICデバイスが通過する時にのみ通路を開放する。この通路の開閉を行うためにシャッタ装置が設けられるが、このシャッタ装置としては、通路を閉鎖可能な板状の部材からなるシャッタ板と、このシャッタ板を断熱壁の表面に沿って摺動させるシャッタ駆動手段とを備える構成としたものが従来から広く用いられている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
恒温槽やデフロスタ室からなる恒温チャンバにICデバイスを出し入れを1個ずつ行う場合には、断熱壁に形成される通路の開口面積も小さいことから、前述したシャッタ板により開閉させても、恒温チャンバ内の温度は殆ど変化することはない。しかしながら、近年においては、ICデバイスの試験測定を高速かつ効率的に行うために、搬送ボードとしてのテストボードを用い、このテストボードに多数のICデバイスを搭載して、このテストボードに搭載したICデバイスをテストヘッドに接離することによって、各ICデバイスを同時に試験測定する構成としたものが用いられる。そして、テストボードにおけるICデバイスの搭載数が増える傾向にあり、従ってテストボードもそれだけ大型化することになる。この結果、恒温チャンバ内外や複数の恒温チャンバ間に設けられ、シャッタ装置を装着した通路の開口面積も広くなる。
【0008】
この通路の開閉手段として用いられるシャッタ板は、断熱壁の一側面を摺動することから、このシャッタ板に断熱効果を持たせるのが困難であり、またシャッタ板と断熱壁との間の摺接部を完全にシールするのも困難である等により、シャッタ板の装着部を介して熱の放散が生じて、恒温チャンバ内に温度変化を来すおそれが高くなる。さらに、シャッタ板を往復移動させることから、その開閉に要する時間が長くなり、シャッタ開放時間も長くなる分だけ恒温チャンバ内の熱の放散がさらに大きくなる。
【0009】
本発明は以上の点に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、シャッタ部材による通路の閉鎖時における断熱効果に優れ、しかも高速で開閉操作できるようにした恒温チャンバのシャッタ装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明は、温度管理がなされている恒温チャンバを構成する断熱壁に形成した通路を介して前記恒温チャンバの内外に搬送ボードを移行させるためのものであって、前記通路を構成する両側の側板部間の位置に装着され、円柱状の部材からなり、周胴部に中心軸線を含む位置に貫通する透孔を形成することにより前記搬送ボードが通過可能なボード挿通路としたシャッタ部材と、前記シャッタ部材を前記通路内で軸回りに回動させて、そのボード挿通路が前記恒温チャンバの内外に開口するシャッタ開放位置と、このボード挿通路を閉鎖状態にするシャッタ閉鎖位置とに回動変位させるシャッタ駆動手段と、丸棒状の支持杆の外周に概略均一な厚みの弾性シール部を設けたものからなり、この弾性シール部が前記両側板部と前記シャッタ部材の外周面とに密着し、前記シャッタ駆動手段による前記シャッタ部材の回転に追従して自転するロッド状シール部材とを備え、前記シャッタ部材がシャッタ閉鎖位置となった時には、前記シャッタ部材の前記ボード挿通路を構成する両外周壁部と、この両外周壁部と前記両側板部との間に設けた前記ロッド状シール部材で前記通路を閉塞させる構成としたことをその特徴とするものである。
【0011】
ここで、断熱壁の通路を区画形成する端壁には、シャッタ部材がシャッタ閉鎖位置にある時に、その外周壁部と当接するシール部材を恒温チャンバの内外に臨む部位にそれぞれ各一対配置する構成とすることができ、またシール部材は円形の支持杆の外周に概略均一な厚みの弾性シール部を設けたもので構成するのが望ましい。さらに、恒温チャンバが低温状態となる場合には、断熱壁の端壁に、シャッタ部材がシャッタ閉鎖位置となった時にボード挿通路の空間内にドライガスを供給するガス供給部を設ける構成とするのがさらに望ましい。ここで、恒温チャンバは、例えば、ICデバイスを所定の温度状態にしてその電気的特性を測定するための試験測定部が配置される恒温槽である時に、この恒温槽と、それとは異なる温度状態に保持した他の恒温チャンバであるデフロスタ室との間に設けた断熱壁に搬送ボードとして多数のICデバイスを搭載したテストボードの通路を形成して、この通路にシャッタ部材を設ける。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施の一形態について説明する。なお、この実施の形態では、ICデバイスの試験装置において、多数のICデバイスを搭載したテストボードを、恒温槽からデフロスタ室への移行部に設けたシャッタ装置として構成するが、これ以外にも、例えばローダ部から恒温槽への移行部やデフロスタ室からアンローダ部への移行部等、恒温チャンバの内外及び一の恒温チャンバと他の恒温チャンバとの間の搬送ボード移行部についても同様のシャッタ装置を設けることができる。
【0013】
まず、図1にICデバイスの試験装置の概略構成を示す。図中において、1はローダ部、2は恒温槽、3はアンローダ部であり、これらによりICハンドラが構成される。恒温槽2はプリヒート部2aと試験測定部2bとからなり、試験測定部2bの壁面が開口しており、この開口部にICテスタのテストヘッド4が臨んでいる。また、恒温槽2にはデフロスタ室5が併設されている。そして、恒温槽及びデフロスタ室5は内部が一定の温度状態となった恒温チャンバである。
【0014】
以上の構成を有する試験装置では、図2及び図3に示したICデバイスD(以下、単にデバイスDという)の電気的特性の試験測定が行われるが、多数のデバイスDを同時に試験するために、デバイスDを搬送する搬送ボードとして、テストボード6が用いられる。テストボード6は平板状の部材の表面に多数の凹部が形成されており、これら各凹部にはデバイスDを所定の位置に位置決めクランプするデバイスクランプ手段7が設けられている。従って、このデバイスクランプ手段7を設けた多数の凹部がデバイス収容部8となる。
【0015】
ローダ部1においては、パレット9からデバイスDをテストボード6の各デバイス収容部8に移載する手段と、テストボード6の搬送手段とが設けられ、また恒温槽2内には、テストボード6の搬送手段と、このテストボード6をテストヘッド4に接離する手段とが設けられる。さらに、恒温槽2からデフロスタ室5を経てアンローダ部3にテストボード6を搬送する手段と、アンローダ部3においてテストボード6からデバイスDを取り出して、試験結果に基づいて分類分けしてパレット9に移載する手段が設置される。ただし、これら搬送手段や移載手段の構成は周知であるので、図示及びその説明は省略し、テストボード6の動きの方向を図1に矢印で示す。テストボード6の搬送は、水平状態で行うこともできるが、図示した構成では、テストボード6を垂直にして、その長辺が搬送方向に向くようにして搬送される。従って、テストボード6をローダ部1から恒温槽2に搬送する際に、またデフロスタ室5からアンローダ部3に搬送する際にも、このテストボード6の姿勢を変化させる。
【0016】
テストボード6を垂直状態にして搬送することから、このテストボード6はローダ部1からは、その上方から下降させるか、または下方から上昇させるようにして恒温槽2内に導くようになし、もって恒温槽2内にテストボード6を搬入する際における通路の開口面積を最小限に抑制する。また、恒温槽2からデフロスタ室5への移行は水平方向に移動させることにより、やはり通路の開口面積を最小限に抑制する。さらに、デフロスタ室5からアンローダ部3へのテストボード6の移行する際には、このデフロスタ室5内で、またはそれから出た後に水平状態に姿勢を変える。
【0017】
少なくとも恒温槽2の内部は、プリヒート部2a及び試験測定部2b共に厳格な温度管理が必要である。従って、恒温槽2の内部はデフロスタ室5を含めて外部に対して熱的に厳格に遮断しなければならず、このために恒温槽2の全体は断熱壁で仕切られている。この断熱壁は一対の板体の内部に多孔質部材等を配置する等の構造となった厚肉の壁である。この恒温槽2には、前述したように、ローダ部1からテストボード6が搬入され、またデフロスタ室5に向けてテストボード6を搬出するための通路が設けられ、この通路を開閉するシャッタ装置が設けられる。そこで、図4乃至図9に、恒温槽2のデフロスタ室5への接続部における断熱壁10に装着した通路構成枠11と、この通路構成枠11に装着されているシャッタ装置20との構成を示す。
【0018】
図4に示したように、断熱壁10は、内面板10aと、外面板10bと、これら内面板10a,外面板10b間に配置した多孔質断熱材10cとから構成され、多孔質断熱材10cの厚みを大きくすることによって、高い断熱効果を持たせているが、恒温槽2の内部からデフロスタ室5に向けてテストボード6を移行させる通路を確保するために、所定の位置が開口しており、この開口には通路構成枠11がねじ等の手段で固着される。
【0019】
通路構成枠11は、図5乃至図7にも示したように、左右の側板部11a,11bと上下の端板部11c,11dとから構成され、その内部にはシャッタ装置20が設けられている。このシャッタ装置20は円柱状の部材からなるシャッタ部材21を有し、このシャッタ部材21の外径は、断熱壁10の厚み寸法とほぼ同じ程度の寸法を有するものである。そして、シャッタ部材21の周胴部には、その中心軸線を含む位置に、テストボード6の厚さ寸法より幅が広く、かつその短辺方向の長さ寸法より長いスリット状に開口させたボード挿通路22が形成されている。ここで、ボード挿通路22はテストボード6を通過させるのに支障を来さないことを条件として、できるだけ開口面積を小さくしている。シャッタ部材21の上端面には軸部23が延在されており、この軸部23は通路構成枠11の端板部11cに設けた軸受12に回転自在に挿通される。また、シャッタ部材21の下部には円形の凹部21aが形成されており、この凹部内には回動軸24が挿通されており、この回動軸24の凹部21a内に挿入されている先端部には切り欠き24aが形成されている。そして、この凹部21aには回転規制ピン25が設けられており、回動軸24の切り欠き24aがこの回転規制ピン25に係合することによって、シャッタ部材21は回動軸24と相対回動不能に連結されることになる。
【0020】
回動軸24は、通路構成枠11の下側の端板部11dに設けた軸受13を貫通して断熱壁10の下面から突出し、さらに機枠14において軸受ブロック15に支持されており、この機枠14から延出された回動軸24の端部にはレバー26が連結されている。そして、このレバー26を概略90°往復回動させるために、シリンダ27を備えており、このシリンダ27のチューブ27aの端部は断熱壁10の所定の位置に枢着されており、このチューブ27aから突出するロッド27bの先端は、レバー26に設けた駆動ピン26aに枢着されている。従って、シリンダ27によるレバー26の回動によって、シャッタ部材21に設けたボード挿通路22が図8に示したシャッタ開放位置と、図9に示したシャッタ閉鎖位置とに回動変位するようになっている。
【0021】
図8のシャッタ開放位置では、シャッタ部材21に形成したボード挿通路22の両端はそれぞれ恒温室2とデフロスタ室5とに開口することになり、テストボード6はこのボード挿通路22を通過できるようになる。また、図9のシャッタ閉鎖位置では、シャッタ部材21における外周壁部により恒温室2とデフロスタ室5との間を密閉状態にする。このために、通路構成枠11の上下の端板部11c,11d間には4本のロッド状シール部材16を立設している。このロッド状シール部材16は、硬質の樹脂や金属等からなる丸棒16aの外周面に均一な厚みを有する耐熱性のあるゴム等で形成した弾性シール部材としてのシール16bを貼り付けたものから構成される。このロッド状シール部材16は通路枠構成体11において、恒温槽2側及びデフロスタ室5側において、左右に、つまり側板部11a,11b側に各一対設けられている。そして、各ロッド状シール部材16のシール16bは、通路構成枠11の側板部11a,11bに密着すると共に、シャッタ部材21が少なくともシャッタ閉鎖位置にある時には、このシャッタ部材21の外周面にも密着するようになっている。
【0022】
これによって、恒温槽2からデフロスタ室5にテストボード6を移行させるボード挿通路22は、それがシャッタ閉鎖位置にある時には、その両端の開口する部位が通路構成枠11の両側板部11a,11bに対面し、かつロッド状シール部材16に密着することから、密閉空間になる。この結果、恒温槽2及びデフロスタ室5は、シャッタ部材21のボード挿通路22の両側の外周面により密閉される。しかも、ボード挿通路22も密閉した空間となる。
【0023】
ここで、シャッタ部材21がシャッタ開放位置とシャッタ閉鎖位置との間に回動変位する際には、ロッド状シール部材16と摺接することになるが、その接触部は線接触に近いものであり、接触面積が小さいことから、シャッタ部材21の動きに対する摺動抵抗を最小限に抑制できる。そして、このロッド状シール部材16はシャッタ部材21の回動に応じて自転するように構成することもできる。これによって、シャッタ部材21の作動時には、ロッド状シール部材16は、シャッタ部材21及び通路構成枠11の側板部11a,11bに対して転動するので、作動時の抵抗はさらに小さくなる。しかも、シャッタ開放及び閉鎖の動作に応じてロッド状シール部材16が回動することにより、シールbと通路構成枠11の側板部11a,11bとの間に固着が生じるのを防止できる。
【0024】
さらに、通路構成枠11を構成する側板部11a,11bにはドライエアの流通路28a,28bが形成されている。そして、この流通路28a,28bにはドライエア配管29a,29bが接続されており、ドライエア配管29a,29bは、断熱壁10の内部を通って下面に延在されて、カップリング部材30a,30bを介してドライエア供給管31a,31bが接続されている。なお、カップリング部材及びドライエア供給管は1本化することもできる。そして、側板部11a,11bに流通路28a,28bを閉塞するように、覆い板31a,31bが設けられ、これら覆い板32a,32bには連通孔33a,33bが形成されており、これによってシャッタ部材21がシャッタ閉鎖位置となった時に、密閉されたボード挿通路22に所定の圧力でドライエアを供給できるようになっている。ここで、このドライエアの供給は、恒温チャンバとしての恒温槽2が低温状態にある時に、冷気がこのボード挿通路22に入り込むことにより壁面が結露するのを防止するためのものであり、従って恒温槽2が結露が発生するおそれのない高温状態にある時には、必ずしもドライエアを供給する必要はない。
【0025】
本実施の形態は以上のように構成されるが、次にこの実施の形態におけるシャッタ装置20の作動について説明する。シャッタ装置20を構成するシャッタ部材21は常時にはシャッタ閉鎖位置となっており、デバイスDを搭載したテストボード6が恒温槽2からデフロスタ室5に移行する際にのみ開放されるようになっている。
【0026】
而して、恒温槽2内に導入されたテストボード6が、試験測定部2bに配置された時に、このテストボード6に搭載したデバイスDが、テストヘッド4に接続されて、通電試験が行われ、この通電試験が終了すると、この恒温槽2の断熱壁10におけるシャッタ部材21を設けた通路の部位にまで移行する。シャッタ部材21は図9のシャッタ閉鎖位置にあるが、テストボード6が所定の位置にまで搬送されると、それをセンサ等で検出して、シリンダ27を作動させて、レバー26をほぼ90°回動させる。この結果、シャッタ部材21が回動して、ボード挿通路22が図8のシャッタ開放位置に変位して、恒温槽2とデフロスタ室5との間がボード挿通路22により連通することになり、テストボード6がこのボード挿通路22を介してデフロスタ室5内に移行する。そして、このテストボード6の移行が完了したことがセンサ等により検出されると、シリンダ27が再び作動して、シャッタ部材21がシャッタ閉鎖位置に変位し、恒温槽2とデフロスタ室5との間が完全に遮断される。
【0027】
而して、シャッタ部材21は90°回動することによって、シャッタ開放位置とシャッタ閉鎖位置との間に変位することから、高速で開閉できるようになり、恒温槽2がデフロスタ室5と連通する時間が短くなり、恒温槽2からの熱の放散が最小限に抑制できる。また、シャッタ閉鎖位置においては、シャッタ部材21の外周面とロッド状シール部材16とが当接することにより完全に密閉でき、しかもボード挿通路22が密閉した空間になり断熱室として機能するから、この通路の部分からの熱の放散が防止される。従って、恒温槽2に通路を設けたことによる温度変化が抑制されて、この恒温槽2の温度管理を極めて厳格に行える。さらに、このようにシャッタ閉鎖位置では、恒温槽2とデフロスタ室5との間が完全にシールされているにも拘らず、シャッタ部材21の動きに対する抵抗が少ないので、このシャッタ部材21の駆動手段であるシリンダ27の負荷が最小限に抑制され、軽い負荷で迅速かつ円滑にシャッタ開放位置とシャッタ閉鎖位置との間で回動変位させることができる。
【0028】
しかも、シャッタ部材21は断熱壁10の厚みの範囲内に位置しており、しかもその駆動手段は断熱壁10の外部に位置していることから、恒温槽2側及びデフロスタ室5側の壁面から何等の部材も突出することはない。従って、これら恒温槽2及びデフロスタ室5の内部のスペースを有効に活用できることになり、それらの小型化、コンパクト化が図られる。
【0029】
ところで、恒温槽2内で行う試験を−55℃等の低温にして行う際には、テストボード6を移行させるためにシャッタ部材21を開放した時に、ボード挿通路22内に恒温槽2内の冷気が入り込むことになる。その結果、シャッタ部材21が再び閉鎖されると、この冷気がボード挿通路22内に滞留することになる。そうすると、ボード挿通路22を構成する内壁面のうち、より高い温度であるデフロスタ室5側に対面する内壁面に結露が生じることになる。そこで、シャッタ部材21の開放動作に連動して、このシャッタ部材21の動き初めと同時に流通路28a,28bから連通孔33a,33bを介してボード挿通路22内にドライエアを流入させることによって、冷気がこのボード挿通路22内に入り込むのを抑制できる。そして、このドライエアの供給をシャッタ部材21が開放した後に、再び閉鎖位置に変位した直後まで継続することによって、たとえ冷気がボード挿通路22内に多少入り込んだとしても、この冷気がパージされることになるので、ボード挿通路22の内壁面に結露が発生するのを確実に防止できる。
【0030】
なお、以上の構成においては、シャッタ装置20は恒温槽2とデフロスタ室5との間に設けるようにしたが、恒温槽2へのテストボード6の搬入部や、デフロスタ室5からのテストボード6の搬出部にも、同様のシャッタ装置を設けるようにすることもできる。
【0031】
【発明の効果】
本発明は以上のように構成したので、シャッタ部材による通路の閉鎖時における断熱効果に優れ、しかも高速で、最小限度の摺動抵抗により開閉操作でき、恒温チャンバからの熱の放散を最小限に抑制できる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のシャッタ装置が設けられる機構の一例としてのICデバイスの試験装置を構成するICハンドラの概略構成図である。
【図2】テストボードの外観図である。
【図3】テストボードにおけるデバイス収容部の構成説明図である。
【図4】図1のX−X位置における断面図である。
【図5】図4のY−Y断面図である。
【図6】図5のZ−Z位置における断面図である。
【図7】シャッタ部材の外観図である。
【図8】シャッタ部材のシャッタ開放位置における横断面図である。
【図9】シャッタ部材のシャッタ閉鎖位置における横断面図である。
【符号の説明】
2 恒温槽 2a プリヒート部
2b 試験測定部 5 デフロスタ室
6 テストボード 10 断熱壁
11 通路構成枠 16 ロッド状シール部材
16a 丸棒 16b シール
20 シャッタ装置 21 シャッタ部材
22 ボード挿通路 27 シリンダ
28a,28b 流通路
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
For example, in a test apparatus that measures the electrical characteristics of an IC device (integrated circuit element) heated or cooled to a predetermined temperature, the inside and outside of a constant temperature chamber in which the IC device is located is partitioned. The present invention relates to a passage opening and closing device for a constant temperature chamber provided in a heat insulating wall or the like and attached to a passage for taking in and out a transfer board.
[0002]
[Description of Related Art]
A test apparatus for testing and measuring the electrical characteristics of an IC device is generally composed of an IC tester and an IC handler. The IC handler is composed of a loader unit, a test measurement unit, and an unloader unit. The The loader unit is provided with a mechanism for supplying an IC device. The test measurement unit has a test head of an IC tester, and a mechanism for positioning the IC device at a predetermined position and a mechanism for contacting and separating the IC device from the test head. Is included. Further, the unloader unit includes means for classifying the IC devices that have been tested and measured.
[0003]
Here, the IC device is not only tested in a normal temperature state, but is also subjected to a test in which a constant temperature condition is given to the IC device and current is passed between the IC device and the test head in a heated or cooled state. Here, as the test temperature condition given to the IC device, the IC device is heated to 100 to 150 ° C. during the high temperature test, and the temperature of the IC device is cooled to −50 ° C. or lower during the low temperature test. . Therefore, in the test measurement unit described above, in order to keep the IC device at the set temperature, the test measurement unit is arranged in a thermostat controlled at the set temperature during energization. Since the IC device supplied from the loader unit is in a temperature state of room temperature or in the vicinity thereof, it is necessary to heat or cool the IC device to a set temperature prior to the test measurement. Provided. Since the preheating part and the test measurement part are placed in substantially the same temperature state, they are generally configured as an integral thermostat. In the preheating part, a wide space is required to efficiently heat or cool as many IC devices as possible, and the test and measurement part has different functions such as extremely strict temperature control. In some cases, the preheating portion and the test measurement portion are partitioned by a partition wall and formed as independent thermostats.
[0004]
Therefore, the IC device supplied from the loader unit in the IC handler is first carried into the preheating unit, heated or cooled until reaching the set temperature in the preheating unit, and then connected to the IC tester after setting the set temperature. Thus, a test measurement of electrical characteristics is performed. When the test measurement of the IC device is completed, the IC device moves to the unloader unit, and is classified by the unloader unit based on the test result. Of course, temperature management is not performed in the unloader section, and therefore the IC device reaches approximately room temperature in the unloader section.
[0005]
In particular, if the IC device is subjected to a low temperature test at a temperature of −50 ° C. or lower and then immediately transferred to the unloader part, the temperature difference between the IC device and the outside air temperature causes the package part and the outer surface part of the lead, etc. Condensation will occur. Therefore, after the test measurement is completed, the IC device is not immediately transferred to the unloader unit, but a defroster chamber having a temperature approximately halfway between the measurement temperature and the room temperature is provided, and the temperature of the IC device is once set in the defroster chamber. Is increased to a temperature at which the condensation does not occur at room temperature, that is, after the temperature is raised to the unloader section. On the other hand, in the high temperature test, the above-mentioned condensation does not occur, but in order to prevent the IC device from being subjected to heat shock as much as possible, the IC device is again carried into the defroster chamber maintained at a temperature between the constant temperature bath and the room temperature. However, it is desirable to lower the temperature to some extent in the defroster chamber and then shift to the unloader section. Therefore, the thermostatic chamber and the defroster chamber are constant temperature chambers that are maintained at a constant temperature state, although there is a difference in accuracy.
[0006]
From the above, the thermostatic chamber consisting of a thermostatic bath and a defroster chamber, and between one thermostatic chamber and another thermostatic chamber are kept thermally isolated by a heat insulating wall, and a part of this heat insulating wall is An opening is provided to provide a path for the IC device. Therefore, the IC device is carried into the thermostatic chamber through this passage, then moves through the defroster chamber, and is carried out of the defroster chamber. Here, the temperature control of the thermostatic chamber is very strictly controlled, and the defroster chamber is not as hot as the thermostatic bath, but it must be maintained within a certain temperature range. The passage is opened only when the IC device passes. A shutter device is provided to open and close the passage. As the shutter device, a shutter plate made of a plate-like member capable of closing the passage, and the shutter plate are slid along the surface of the heat insulating wall. A configuration including a shutter driving unit has been widely used.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
When IC devices are put into and out of the thermostat chamber consisting of a thermostatic bath and a defroster chamber one by one, the opening area of the passage formed in the heat insulating wall is small, so that the thermostatic chamber can be opened or closed by the shutter plate described above. The temperature inside hardly changes. However, in recent years, in order to perform test measurement of IC devices at high speed and efficiently, a test board as a transfer board is used, and a large number of IC devices are mounted on the test board, and the IC mounted on the test board. A device in which each IC device is simultaneously tested and measured by contacting and separating the device from the test head is used. Then, the number of IC devices mounted on the test board tends to increase, and accordingly, the size of the test board increases accordingly. As a result, the opening area of the passage provided with the shutter device inside and outside the constant temperature chamber or between the plurality of constant temperature chambers is widened.
[0008]
Since the shutter plate used as the opening / closing means of the passage slides on one side surface of the heat insulating wall, it is difficult to give the shutter plate a heat insulating effect, and the sliding between the shutter plate and the heat insulating wall is difficult. Since it is difficult to completely seal the contact portion, heat is dissipated through the mounting portion of the shutter plate, and there is a high possibility that the temperature will change in the constant temperature chamber. Furthermore, since the shutter plate is reciprocated, the time required to open and close the shutter plate becomes longer, and the heat dissipation in the constant temperature chamber is further increased as the shutter opening time becomes longer.
[0009]
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a constant temperature chamber shutter device that is excellent in heat insulation when the passage is closed by the shutter member and can be opened and closed at high speed. Is to provide.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
  In order to achieve the above-mentioned object, the present invention is for transferring a transfer board into and out of the thermostatic chamber through a passage formed in a heat insulating wall constituting the thermostatic chamber in which temperature management is performed. ,It is mounted at a position between the side plate portions on both sides constituting the passage,A shutter member made of a cylindrical member, and formed as a board insertion path through which the transport board can pass by forming a through-hole penetrating in a position including the central axis in the peripheral body part,SaidThe shutter member is rotated around the axis in the passage, and the board insertion passage is rotated and displaced between a shutter open position where the board insertion passage opens inside and outside the constant temperature chamber and a shutter closed position where the board insertion passage is closed. Shutter driving means for causingThe elastic seal portion having a substantially uniform thickness is provided on the outer periphery of the round rod-like support rod, and the elastic seal portion is in close contact with the both side plate portions and the outer peripheral surface of the shutter member, and is provided by the shutter driving means. A rod-shaped seal member that rotates following the rotation of the shutter member;And both outer peripheral wall portions constituting the board insertion passage of the shutter member when the shutter member is in the shutter closed position.And the rod-shaped sealing member provided between the outer peripheral wall portions and the side plate portions.This is characterized in that the passage is closed.
[0011]
Here, a pair of seal members that are in contact with the outer peripheral wall when the shutter member is in the shutter closed position are disposed on the end walls that define the passage of the heat insulating wall, respectively, at portions facing the inside and outside of the thermostatic chamber. In addition, it is desirable that the seal member is formed by providing an elastic seal portion having a substantially uniform thickness on the outer periphery of a circular support rod. Further, when the constant temperature chamber is in a low temperature state, a gas supply unit that supplies dry gas into the space of the board insertion passage when the shutter member is in the shutter closed position is provided on the end wall of the heat insulating wall. Is more desirable. Here, the thermostatic chamber is, for example, a thermostatic chamber in which a test measurement unit for measuring the electrical characteristics of the IC device in a predetermined temperature state is arranged. A passage of a test board on which a large number of IC devices are mounted as a transfer board is formed in a heat insulating wall provided between the defroster chamber, which is another constant temperature chamber held in the chamber, and a shutter member is provided in this passage.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, in the IC device test apparatus, a test board on which a large number of IC devices are mounted is configured as a shutter device provided at a transition portion from the thermostatic chamber to the defroster chamber. For example, the same shutter device for the inside and outside of the constant temperature chamber and the transfer board transfer portion between one constant temperature chamber and another constant temperature chamber, such as a transition portion from the loader portion to the constant temperature bath or a transition portion from the defroster chamber to the unloader portion Can be provided.
[0013]
First, FIG. 1 shows a schematic configuration of an IC device test apparatus. In the figure, 1 is a loader unit, 2 is a thermostatic chamber, 3 is an unloader unit, and these constitute an IC handler. The thermostatic chamber 2 includes a preheating part 2a and a test measurement part 2b. A wall surface of the test measurement part 2b is opened, and a test head 4 of an IC tester faces the opening. In addition, the constant temperature bath 2 is provided with a defroster chamber 5. And the thermostat and defroster chamber 5 are thermostat chambers in which the interior is at a constant temperature.
[0014]
In the test apparatus having the above configuration, the electrical characteristics of the IC device D (hereinafter simply referred to as device D) shown in FIGS. 2 and 3 are measured and measured. In order to test many devices D at the same time, The test board 6 is used as a transport board for transporting the device D. The test board 6 has a number of recesses formed on the surface of a flat plate member, and each of the recesses is provided with device clamp means 7 for positioning and clamping the device D at a predetermined position. Therefore, a large number of recesses provided with the device clamping means 7 become the device accommodating portion 8.
[0015]
In the loader unit 1, means for transferring the device D from the pallet 9 to each device storage unit 8 of the test board 6 and a transport unit for the test board 6 are provided. And a means for bringing the test board 6 into and out of contact with the test head 4 are provided. Further, a means for transporting the test board 6 from the thermostatic chamber 2 to the unloader section 3 through the defroster chamber 5, and the device D is taken out from the test board 6 in the unloader section 3 and classified into pallets 9 based on the test results. A means for transferring is installed. However, since the structures of these transport means and transfer means are well known, illustration and explanation thereof are omitted, and the direction of movement of the test board 6 is indicated by an arrow in FIG. Although the test board 6 can be transported in a horizontal state, the test board 6 is transported so that the test board 6 is vertical and its long side faces the transport direction in the illustrated configuration. Therefore, when the test board 6 is transported from the loader unit 1 to the thermostatic chamber 2 and when it is transported from the defroster chamber 5 to the unloader unit 3, the posture of the test board 6 is changed.
[0016]
Since the test board 6 is conveyed in a vertical state, the test board 6 is guided from the loader unit 1 to the constant temperature bath 2 by being lowered from the upper side or raised from the lower side. The opening area of the passage when the test board 6 is carried into the thermostat 2 is minimized. In addition, the transition from the thermostat 2 to the defroster chamber 5 is horizontally moved, so that the opening area of the passage is also minimized. Further, when the test board 6 is transferred from the defroster chamber 5 to the unloader unit 3, the posture is changed to a horizontal state in the defroster chamber 5 or after exiting from the defroster chamber 5.
[0017]
At least the inside of the thermostatic chamber 2 requires strict temperature management for both the preheating part 2a and the test measurement part 2b. Therefore, the inside of the thermostat 2 must be severely thermally shut off from the outside including the defroster chamber 5, and for this purpose, the entire thermostat 2 is partitioned by a heat insulating wall. This heat insulating wall is a thick wall having a structure in which a porous member or the like is disposed inside a pair of plates. As described above, the constant temperature bath 2 is provided with a passage through which the test board 6 is carried from the loader unit 1 and carried out toward the defroster chamber 5, and a shutter device that opens and closes the passage. Is provided. 4 to 9 show the configuration of the passage component frame 11 attached to the heat insulating wall 10 at the connection portion of the thermostatic chamber 2 to the defroster chamber 5 and the shutter device 20 attached to the passage component frame 11. Show.
[0018]
As shown in FIG. 4, the heat insulating wall 10 is composed of an inner surface plate 10a, an outer surface plate 10b, and a porous heat insulating material 10c disposed between the inner surface plate 10a and the outer surface plate 10b, and the porous heat insulating material 10c. Although a high heat insulating effect is provided by increasing the thickness of the slab, a predetermined position is opened in order to secure a passage for moving the test board 6 from the inside of the thermostatic chamber 2 toward the defroster chamber 5. The passage constituting frame 11 is fixed to the opening by means such as a screw.
[0019]
As shown in FIGS. 5 to 7, the passage configuration frame 11 includes left and right side plate portions 11 a and 11 b and upper and lower end plate portions 11 c and 11 d, and a shutter device 20 is provided therein. Yes. The shutter device 20 has a shutter member 21 made of a cylindrical member, and the outer diameter of the shutter member 21 has a dimension approximately the same as the thickness dimension of the heat insulating wall 10. And the board insertion path opened in the slit body longer than the thickness dimension of the test board 6 in the circumference body part of the shutter member 21 at the position containing the center axis line and longer than the length dimension of the short side direction. 22 is formed. Here, the opening area of the board insertion passage 22 is made as small as possible on the condition that it does not hinder the passage of the test board 6. A shaft portion 23 extends on the upper end surface of the shutter member 21, and this shaft portion 23 is rotatably inserted into a bearing 12 provided on the end plate portion 11 c of the passage constituting frame 11. A circular recess 21 a is formed in the lower part of the shutter member 21, and a rotation shaft 24 is inserted into the recess, and a tip portion inserted into the recess 21 a of the rotation shaft 24. A notch 24a is formed in the. The recess 21 a is provided with a rotation restricting pin 25. When the notch 24 a of the rotation shaft 24 is engaged with the rotation restricting pin 25, the shutter member 21 rotates relative to the rotation shaft 24. It will be connected impossible.
[0020]
The rotating shaft 24 penetrates the bearing 13 provided on the lower end plate portion 11d of the passage constituting frame 11, protrudes from the lower surface of the heat insulating wall 10, and is further supported by the bearing block 15 in the machine frame 14. A lever 26 is connected to the end of the rotating shaft 24 extending from the machine casing 14. In order to reciprocate the lever 26 by approximately 90 °, a cylinder 27 is provided. The end of the tube 27a of the cylinder 27 is pivotally attached to a predetermined position of the heat insulating wall 10, and the tube 27a The tip of the rod 27 b protruding from the lever 26 is pivotally attached to a drive pin 26 a provided on the lever 26. Accordingly, the rotation of the lever 26 by the cylinder 27 causes the board insertion passage 22 provided in the shutter member 21 to be rotationally displaced between the shutter open position shown in FIG. 8 and the shutter closed position shown in FIG. ing.
[0021]
  8, both ends of the board insertion passage 22 formed in the shutter member 21 are opened to the temperature-controlled room 2 and the defroster chamber 5, respectively, so that the test board 6 can pass through the board insertion passage 22. become. Further, in the shutter closed position of FIG. 9, the space between the temperature-controlled room 2 and the defroster chamber 5 is sealed by the outer peripheral wall portion of the shutter member 21. For this purpose, four rod-shaped seal members 16 are erected between the upper and lower end plate portions 11c and 11d of the passage constituting frame 11. This rod-shaped seal member 16 is obtained by attaching a seal 16b as an elastic seal member formed of a heat-resistant rubber having a uniform thickness on the outer peripheral surface of a round bar 16a made of hard resin, metal or the like. Composed. A pair of rod-like seal members 16 are provided on the left and right sides of the constant temperature bath 2 side and the defroster chamber 5 side, that is, on the side plate portions 11a and 11b side in the passage frame structure 11. And the seal | sticker of each rod-shaped seal member 1616bIs in close contact with the side plate portions 11a and 11b of the passage constituting frame 11, and is also in close contact with the outer peripheral surface of the shutter member 21 when the shutter member 21 is at least in the shutter closed position.
[0022]
As a result, the board insertion passage 22 for transferring the test board 6 from the thermostat 2 to the defroster chamber 5 is such that when the shutter is in the shutter closed position, the open portions at both ends thereof are the both side plate portions 11a and 11b of the passage constitution frame 11. Since it faces and sticks to the rod-shaped seal member 16, it becomes a sealed space. As a result, the thermostatic chamber 2 and the defroster chamber 5 are sealed by the outer peripheral surfaces on both sides of the board insertion path 22 of the shutter member 21. Moreover, the board insertion path 22 is also a sealed space.
[0023]
  Here, when the shutter member 21 is rotationally displaced between the shutter open position and the shutter close position, it comes into sliding contact with the rod-shaped seal member 16, but the contact portion is close to line contact. Since the contact area is small, the sliding resistance against the movement of the shutter member 21 can be minimized.AndThis rod-shaped seal member 16IsIt can also be configured to rotate according to the rotation of the cutter member 21. As a result, when the shutter member 21 is operated, the rod-shaped seal member 16 rolls relative to the shutter member 21 and the side plate portions 11a and 11b of the passage component frame 11, so that the resistance during operation is further reduced. Moreover, sticking between the seal b and the side plate portions 11a and 11b of the passage frame 11 can be prevented by rotating the rod-shaped seal member 16 in accordance with the shutter opening and closing operations.The
[0024]
Further, dry air flow passages 28 a and 28 b are formed in the side plate portions 11 a and 11 b constituting the passage constitution frame 11. Then, dry air pipes 29a and 29b are connected to the flow passages 28a and 28b, and the dry air pipes 29a and 29b extend to the lower surface through the inside of the heat insulating wall 10 to connect the coupling members 30a and 30b. Dry air supply pipes 31a and 31b are connected to each other. The coupling member and the dry air supply pipe can be integrated. The side plates 11a and 11b are provided with cover plates 31a and 31b so as to close the flow passages 28a and 28b, and communication holes 33a and 33b are formed in the cover plates 32a and 32b. When the member 21 is in the shutter closed position, dry air can be supplied to the sealed board insertion passage 22 with a predetermined pressure. Here, the supply of the dry air is for preventing the wall from condensing due to the cold air entering the board insertion passage 22 when the thermostatic chamber 2 as the thermostatic chamber is in a low temperature state. When the tank 2 is in a high temperature state where there is no risk of condensation, it is not always necessary to supply dry air.
[0025]
Although the present embodiment is configured as described above, the operation of the shutter device 20 in this embodiment will be described next. The shutter member 21 constituting the shutter device 20 is always in the shutter closed position, and is opened only when the test board 6 on which the device D is mounted moves from the thermostat 2 to the defroster chamber 5. .
[0026]
Thus, when the test board 6 introduced into the thermostatic chamber 2 is placed in the test measurement unit 2b, the device D mounted on the test board 6 is connected to the test head 4 to perform an energization test. When this energization test is completed, the process proceeds to the portion of the passage in which the shutter member 21 is provided in the heat insulating wall 10 of the thermostat 2. Although the shutter member 21 is in the shutter closed position of FIG. 9, when the test board 6 is conveyed to a predetermined position, it is detected by a sensor or the like, the cylinder 27 is operated, and the lever 26 is moved approximately 90 °. Rotate. As a result, the shutter member 21 rotates, the board insertion passage 22 is displaced to the shutter opening position of FIG. 8, and the constant temperature bath 2 and the defroster chamber 5 communicate with each other through the board insertion passage 22. The test board 6 moves into the defroster chamber 5 through the board insertion passage 22. When it is detected by a sensor or the like that the transition of the test board 6 is completed, the cylinder 27 is actuated again, the shutter member 21 is displaced to the shutter closed position, and between the thermostat 2 and the defroster chamber 5. Is completely blocked.
[0027]
Thus, since the shutter member 21 is rotated by 90 ° and displaced between the shutter open position and the shutter close position, the shutter member 21 can be opened and closed at high speed, and the thermostatic chamber 2 communicates with the defroster chamber 5. Time is shortened, and heat dissipation from the thermostat 2 can be minimized. Further, at the shutter closed position, the outer peripheral surface of the shutter member 21 and the rod-shaped seal member 16 can be completely sealed, and the board insertion path 22 becomes a sealed space and functions as a heat insulation chamber. Heat dissipation from the passage portion is prevented. Therefore, the temperature change due to the passage provided in the thermostat 2 is suppressed, and the temperature control of the thermostat 2 can be performed very strictly. Further, in the shutter closed position as described above, since the space between the thermostatic chamber 2 and the defroster chamber 5 is completely sealed, there is little resistance to the movement of the shutter member 21, so that the driving means for the shutter member 21 is provided. Thus, the load on the cylinder 27 can be suppressed to a minimum, and can be rotated and displaced between the shutter open position and the shutter closed position quickly and smoothly with a light load.
[0028]
In addition, since the shutter member 21 is located within the thickness range of the heat insulating wall 10 and the driving means is located outside the heat insulating wall 10, the shutter member 21 is separated from the wall surface on the constant temperature bath 2 side and the defroster chamber 5 side. No member protrudes. Therefore, the space inside the thermostatic chamber 2 and the defroster chamber 5 can be used effectively, and the miniaturization and downsizing thereof can be achieved.
[0029]
By the way, when the test performed in the thermostatic chamber 2 is performed at a low temperature such as −55 ° C., when the shutter member 21 is opened to move the test board 6, the internal temperature of the thermostatic chamber 2 is set in the board insertion path 22. Cold air will enter. As a result, when the shutter member 21 is closed again, this cool air stays in the board insertion passage 22. If it does so, dew condensation will arise in the inner wall surface which faces the defroster chamber 5 side which is a higher temperature among the inner wall surfaces which comprise the board insertion path 22. Accordingly, in conjunction with the opening operation of the shutter member 21, simultaneously with the beginning of the movement of the shutter member 21, the dry air is caused to flow into the board insertion passage 22 from the flow passages 28a and 28b through the communication holes 33a and 33b. Can be prevented from entering the board insertion passage 22. Then, by continuing the supply of the dry air until immediately after the shutter member 21 is opened and immediately after the shutter member 21 is displaced to the closed position, the cold air is purged even if the cold air slightly enters the board insertion path 22. Therefore, it is possible to reliably prevent the occurrence of condensation on the inner wall surface of the board insertion passage 22.
[0030]
In the above configuration, the shutter device 20 is provided between the constant temperature bath 2 and the defroster chamber 5, but the loading portion of the test board 6 into the constant temperature bath 2 or the test board 6 from the defroster chamber 5. A similar shutter device can also be provided in the carry-out portion.
[0031]
【The invention's effect】
  Since the present invention is configured as described above, it has an excellent heat insulating effect when the passage is closed by the shutter member, and at a high speed.With minimal sliding resistanceOpening and closing operations can be performed, and effects such as suppression of heat dissipation from the constant temperature chamber can be achieved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an IC handler constituting an IC device test apparatus as an example of a mechanism provided with a shutter device of the present invention.
FIG. 2 is an external view of a test board.
FIG. 3 is a configuration explanatory diagram of a device housing portion in a test board.
4 is a cross-sectional view taken along the line XX in FIG.
5 is a YY cross-sectional view of FIG. 4;
6 is a cross-sectional view at the ZZ position in FIG. 5;
FIG. 7 is an external view of a shutter member.
FIG. 8 is a cross-sectional view of the shutter member at a shutter open position.
FIG. 9 is a cross-sectional view of the shutter member at the shutter closed position.
[Explanation of symbols]
2 Thermostatic bath 2a Preheating part
2b Test measurement section 5 Defroster room
6 Test board 10 Insulation wall
11 passage frame 16 rod-shaped seal member
16a round bar 16b seal
20 Shutter device 21 Shutter member
22 Board insertion path 27 Cylinder
28a, 28b Flow path

Claims (4)

温度管理がなされている恒温チャンバを構成する断熱壁に形成した通路を介して前記恒温チャンバの内外に搬送ボードを移行させるためのものにおいて、
前記通路を構成する両側の側板部間の位置に装着され、円柱状の部材からなり、周胴部に中心軸線を含む位置に貫通する透孔を形成することにより前記搬送ボードが通過可能なボード挿通路としたシャッタ部材と、
前記シャッタ部材を前記通路内で軸回りに回動させて、そのボード挿通路が前記恒温チャンバの内外に開口するシャッタ開放位置と、このボード挿通路を閉鎖状態にするシャッタ閉鎖位置とに回動変位させるシャッタ駆動手段と
丸棒状の支持杆の外周に概略均一な厚みの弾性シール部を設けたものからなり、この弾性シール部が前記両側板部と前記シャッタ部材の外周面とに密着し、前記シャッタ駆動手段による前記シャッタ部材の回転に追従して自転するロッド状シール部材とを備え、
前記シャッタ部材がシャッタ閉鎖位置となった時には、前記シャッタ部材の前記ボード挿通路を構成する両外周壁部と、この両外周壁部と前記両側板部との間に設けた前記ロッド状シール部材で前記通路を閉塞させる
構成としたことを特徴とする恒温チャンバの通路開閉装置。
In order to transfer the transfer board into and out of the constant temperature chamber through a passage formed in a heat insulating wall constituting the constant temperature chamber in which temperature management is performed,
A board insertion passage which is mounted at a position between the side plate portions on both sides constituting the passage and is formed of a cylindrical member, and through which the transport board can pass by forming a through-hole penetrating in a position including the central axis in the peripheral body portion. A shutter member,
The shutter member is rotated about the axis in the passage, and the board insertion passage is rotated to a shutter open position where the board insertion passage opens inside and outside the constant temperature chamber and a shutter closed position where the board insertion passage is closed. Shutter driving means for displacing ;
An elastic seal portion having a substantially uniform thickness is provided on the outer periphery of the round rod-shaped support rod, and the elastic seal portion is in close contact with the both side plate portions and the outer peripheral surface of the shutter member, and the shutter driving means performs the A rod-shaped seal member that rotates following the rotation of the shutter member ,
When the shutter member is in the shutter closed position, both outer peripheral wall portions constituting the board insertion path of the shutter member, and the rod-shaped seal member provided between the both outer peripheral wall portions and the both side plate portions. A passage opening and closing device for a constant temperature chamber, wherein the passage is closed.
前記ロッド状シール部材を前記恒温チャンバの内外に臨む部位に各一対配置する構成としたことを特徴とする請求項1記載の恒温チャンバの通路開閉装置。The constant temperature chamber passage opening and closing device according to claim 1, wherein each pair of the rod-shaped seal members is arranged at a portion facing the inside and outside of the constant temperature chamber. 前記断熱壁の端壁には、前記シャッタ部材がシャッタ閉鎖位置となり、閉塞状態となった前記ボード挿通路の空間内にドライガスを供給するガス供給部を設ける構成としたことを特徴とする請求項1記載の恒温チャンバの通路開閉装置。Wherein the end wall of the heat insulating wall, wherein said shutter member is a shutter closing position, characterized in that a configuration in which a gas supply unit for supplying dry gas in the space of the board insertion path in the closed state Item 2. The constant temperature chamber passage opening and closing device according to Item 1 . 前記恒温チャンバをICデバイスを所定の温度状態にしてその電気的特性を測定するための試験測定部を配置した恒温槽とし、またこの恒温槽内とは異なる温度状態にしたデフロスタ室との間に設けた断熱壁に、前記搬送ボードとして多数のICデバイスを搭載したテストボードを通過させるために、前記シャッタ部材を装着した通路を形成する構成としたことを特徴とする請求項1記載の恒温チャンバの通路開閉装置。  The thermostatic chamber is a thermostatic bath in which a test measurement unit for measuring the electrical characteristics of the IC device in a predetermined temperature state is disposed, and between the defroster chamber in a temperature state different from the temperature chamber. The constant temperature chamber according to claim 1, wherein a passage in which the shutter member is mounted is formed in the heat insulating wall provided so that a test board on which a large number of IC devices are mounted as the transfer board is passed. Passage opening and closing device.
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