JP3621774B2 - Multi-axis measuring machine for NC machine tools - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、NC工作機用多軸測長機に関し、特に、NC工作機の複数の軸に対する移動距離の測長が自動的に行える多軸測長機に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
NC工作機の各軸毎の移動距離を高精度に測定する装置として、レーザ測長機が知られている。この種のレーザ測長機は、レーザ光の送光部と干渉光の受光部を備えたレーザヘッドと、送光部から出射したレーザ光を反射するターゲットプリズム(コーナキューブ)と、これらの間に設置される干渉計とを基本構成として備えている。
【0003】
NC工作機の移動距離を測定する際には、ターゲットプリズムが移動するテーブルや主軸などに固設される。ところで、NC工作機の動作方向は、通常、x,y,zの3軸方向であり、例えば、図30に示すように、ひざ型縦フライス盤Aの移動テーブルの測長及び校正作業を行う場合には、作業者により先ず、x軸方向に向けて三脚上にレーザヘッド1を固定し、レーザヘッドの光軸に一致させてフライス盤Aの主軸位置に干渉計2を固定配置するとともに、これの延長上において移動テーブル上にターゲットプリズム3を固定配置する。
【0004】
通常、この準備作業をアライメントと称しており、それぞれの光軸あわせ、ホームポジション設定などのために15分程度の作業時間となる。
このx軸アライメント作業の後、ホームポジションを基準として実際にテーブルをx軸方向に移動させつつ測長機による測定及び校正を行うことができる。
この作業は、NCコントローラに接続されたコンピュータなど制御部のプログラムに従って順次自動的に実行され、x軸移動ピッチの確認及び補正、その他、例えば、ISO試験の内容に従った各種精度試験が自動的に行われ、NCコントローラにその測定結果及び校正内容を順次取込む。このような測定及び校正を完了するまでには、約50分程度の時間がかかる。
【0005】
x軸方向の測定の終了後は、前記と同様な手順によって作業者により、レーザヘッド1、干渉計2、ターゲットプリズム3をy軸方向に向けて配置し、このy軸方向アライメント作業の後、同様にして自動的に精度試験を行い、次いで、z軸方向アライメント作業を行い、自動的に精度試験を行えば、3軸方向の測定が完了する。
【0006】
しかしながら、このような従来のNC工作機の測長方法には、以下に説明する技術的な課題が指摘されていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
すなわち、上述した従来の測長方法では、各軸(x,y,z)毎に、光軸あわせ,ホームポジション設定などのために15分程度の作業時間がかかり,しかも、これに各軸(x,y,z)毎の測定,校正のための時間(約50分)が加わるため、合計で約195分の時間がかかっていた。
【0008】
この場合、各軸(x,y,z)について自動測定を行っている間は、作業者は、別の作業を行うことができる。しかし、実際には、作業者にとって一測定毎の50分の空き時間は、長いようで短かく、他の仕事に集中できなかったり、逆に他の仕事に時間をとられて、一測定毎のアライメント作業がずれ込む場合もあり、作業者にとっては、このような時間の管理が非常に煩わしいものとなっていた。
【0009】
本発明は、以上の問題を解決するために案出されたものであって、その目的とするところは、一回のアライメント作業によってx,y,z軸の全ての測定が自動的に行えるNC工作機用多軸測長機を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明は、レーザ光の送光部と干渉光の受光部とを内蔵したレーザヘッドと、前記送光部及び受光部の光軸上に配置され、かつ入射したレーザ光を分光させて、NC工作機の直交するx,y,z軸方向に向けて出射させる分光機構部とその切替え機構とを内蔵した多軸干渉計と、前記NC工作機の測定位置に固定されて、前記x,y,z軸方向に出射したレーザ光を受けて前記多軸干渉計側に反射する複数の反射ターゲットと、前記切替え機構を制御するコントローラと、前記x,y,z軸方向毎に前記NC工作機を所定の手順により動作させつつ、前記レーザーヘッドの受光部で得られる測長データと、予め設定される基準データとを比較し、前記NC工作機にその校正値を与えるとともに、前記x,y,z軸の測定終了毎に前記コントローラに切替え動作を指令する制御部とで構成した。
この構成を有する多軸測長機によれば、多軸干渉計と、これのx,y,z軸方向に配置される反射ターゲットの光軸合わせを1回だけ行えば、各軸の測長毎に自動的に多軸干渉計の出射方向を切替えて測長が継続される。
また、請求項2では、前記多軸干渉計は、前記レーザヘッドに対向する入出射窓部を開口したケーシングと、前記ケーシング内にあって、前記入出射窓部に対向するように直線移動または回転移動可能に設置されたステージと、入射したレーザ光をx,y,z軸方向に向けて出射する前記分光機構部を有する干渉計本体と、前記ステージを直線移動または回転移動させて前記各分光機構部を前記入出射窓部に対面させる移動機構と、前記ステージの停止位置を検出する検出手段とを備えている。
前記干渉計本体は、前記移動機構の移動方向に沿って設けられ、前記ステージに固定された偏光ビームスプリッタと、この偏光ビームスプリッタの後方に設置された分光機構部とを備え、前記分光機構部は、前記偏光ビームスプリッタからの入射光を直進させる部位と、前記偏光ビームスプリッタからの入射光を上または下方向に反射させる部位と、前記偏光ビームスプリッタからの入射光を横方向に反射させる部位とで構成することができる。
この場合、前記分光機構部から送出される測定光は、測定対象物側に設置された反射ターゲットを介して同一光路上に反射させることができる。
また、前記干渉計本体は、前記入出射窓部の背面側に固定配置された偏光ビームスプリッタと、前記ステージ側に配置された分光機構部とを備え、前記分光機構部を、前記偏光ビームスプリッタからの入射光を直進させる部位と、前記偏光ビームスプリッタからの入射光を上または下方向に反射させる部位と、前記偏光ビームスプリッタからの入射光を横方向に反射させる部位とで構成することができる。
この場合、前記分光機構部から送出される測定光は、測定対象物側に設置された反射ターゲットを介して異なった平行光路上に反射させることができる。
さらに、請求項7では、多軸干渉計は、前記レーザヘッドに対向する入出射窓部を開口したケーシングと、前記ケーシング内にあって、前記入出射窓部に対向するように直線移動可能に設置されたステージと、前記ステージ上に支持され、入射したレーザ光をx,y,z軸方向に向けて出射する干渉計本体と、前記ステージを直線移動させて前記干渉計本体を前記入出射窓部に対面させる移動機構と、前記ステージの停止位置を検出する検出手段とで構成した。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。図1から図8は、本発明にかかるNC工作機用多軸測長機の第1実施例を示している。同図に示す測長機は、図1にそのシステム構成を示すように、送、受光部内蔵型のレーザヘッド12と、多軸干渉計14と、3個の反射ターゲット16と、レーザヘッド12に接続されたディスプレイ18と、コンピュータ(制御部)20と、NC工作機を制御するNCコントローラ22と、多軸干渉計14のコントローラ24とから構成されている。
【0012】
レーザヘッド12には、所定波長のレーザ光線を発射する送光部と、干渉計14で干渉させられた干渉光を受光する受光部とが内蔵されていて、受光部で受けた干渉光の干渉縞を計数することにより、干渉計14から反射ターゲット16までの距離が演算され、その演算結果がディスプレイ18に表示されるとともに、コンピュータ20に入力される。
【0013】
コンピュータ20は、これに搭載されるフロッピーディスク20aなどのソフトウエアの計測プログラム内容に従って、NCコントローラ22に順次駆動指令を与え、NC工作機を所定の手順により動作させる。
多軸干渉計14の詳細構造を、図2〜図6に示している。図2は多軸干渉計14の全体構造の分解斜視図であり、図3はその一部断面構造を示している。
【0014】
本実施例の多軸干渉計14は、ボックス型に形成されており、角箱状のハウジング30と、ハウジング30内に収装されたL字型の取付け基板32と、取付け基板32の水平部32aの上面に平行に配置された一対のリニアガイド34にスライダ36を介して平行移動可能に設置されるステージ38と、ステージ38上に取付け台40を介して設置された干渉計本体42とから概略構成されている。
【0015】
ステージ38の下面には、リニアガイド34と平行するようにしてラック41が設けられている。このラック41は、水平部32aの下面に設けた超音波モータ44の出力軸に取付けたピニオン46に歯合し、モータ44の正逆転に応じてステージ38が、リニアガイド34に沿って移動可能になっている。また、ステージ38の端部と取付け基板32との間には、引張りコイルバネ48が懸架され、この引張りコイルバネ48の付勢力によりラック41,ピニオン46機構のバックラッシを防止している。
【0016】
取付け基板32の垂直部32bの内側には、複数の位置検出用フォトインタラプタ50が、同一直線上に固定されており、ステージ38の側面に配置された検出子38aが、インタラプタ50の発光部と受光部との間を遮断すると、その位置が検出される。
また、水平部32aの長手方向両端(図では片側のみに示されている)には、ステージ38に接触することにより、ステージ38の移動始端及び終端の各位置を検出するリミットスイッチ52が固定されている。
【0017】
これらモータ44、フォトインタラプタ50及びリミットスイッチ52のリード線は、ハウジング30の一側部に配置されたコネクタ54を介して前述のコントローラ24に接続される。
取付け基板32の垂直部32bの一側部隅部は、球状支点56を介してハウジング30の前面内側に連結されているとともに、複数の引張りコイルバネ57によりハウジング30の前面内側に支持されている。
【0018】
そして、ハウジング30の前面上部には、前記球状支点56の垂直方向の延長上にあって、垂直部32bの前面に接する垂直方向調整つまみ58が設けられ、調整つまみ58のねじ込み操作によって垂直部32bの上部を押圧すると、バネ57のバネ圧に抗して取付け基板32の鉛直方向の角度の微調整が行える。
また、ハウジング30の前面下部には、球状支点56の水平方向の延長上にあって、垂直部32bの前面に接する平行度調整つまみ60が配置され、この調整つまみ60を操作することにより、取付け基板32の平行度の微調整が行える。
【0019】
さらに、ハウジング30の前面中央の上部には、レーザヘッド12から出射されるレーザ光の入射窓部62と、この入射窓部62の上方に位置し、干渉計14からの干渉光を透過するための出射窓部64が開口形成されている。
また、ハウジング30の上下面中央,背面及び一側面(コネクタ54の取付け面とは反対側側面)には、それぞれx,y,z軸方向に向けたレーザ入出射窓部66が開口されており、干渉計本体42は、これら窓部に一致すべく移動されることになる。なお、ステージ30および取付け基板32には、ハウジング30の下面に設けられた入射窓部66に位置対応して、貫通孔(図示省略)が設けられている。
【0020】
図4〜図6は、干渉計本体42の詳細構造を示している。干渉計本体42は、ステージ38の長手方向に沿って配置され、入射窓部62に下部側面を対向させ、レーザ出射窓部64に上部側面を対向させた偏光ビームスプリッタ68と、この偏光ビームスプリッタ68の後面側に設置された分光機構部69とを備えている。
【0021】
分光機構部69は、偏光ビームスプリッタ68を共用光学部品とし、その測定光出射面に長手方向に沿って1/4波長板70のみを配置した部位[1]と、光学屈折機構を構成するペンタプリズム72の出射方向が下向きとなるように配置し、その出射面に1/4波長板70を設けた部位[2]と、ペンタプリズム72の出射方向が上向きになるように配置し、その出射面に1/4波長板70を設けた部位[3]と、ペンタプリズム72の出射方向が横向きとなるように配置し、その出射面に1/4波長板70を設けた部位[4]とに区分されている。
【0022】
また、これらの各部位の中心下部には、偏光ビームスプリッタ68によって分光された参照光および測定光を、再び偏光ビームスプリッタ68の上部側に反射する4つの固定コーナキューブ74が、それぞれ1/4波長板70を介して配置されている。
図6は、以上の干渉計本体42の測定原理を示すものである。なお、この例では部位[1]における光路の詳細を示しているが、他の部位でもペンタプリズム72によって光路を曲げられるほかは、同一の測定原理である。
【0023】
同図において、レーザヘッドから出射された45°直線偏光の入射光Lは、偏光ビームスプリッタ68により、固定コーナキューブ74に向う参照光Rと、測定位置に配置された反射ターゲット16に向う測定光Mに分けられ、参照光および測定光R,Mは、その後、それぞれ1/4波長板70を通過することによって円偏光となる。
【0024】
反射ターゲットおよびコーナキューブ16,74で反射された参照および測定光R,Mは、逆回転の円偏光となり、再び、1/4波長板70を通過することによって最初に通過した時とは、90°の偏光角をもった直線偏光となる。
従って、最初に偏光ビームスプリッタ68内を透過した測定光Mは、今度は、ビームスプリッタ68で反射し、反射した参照光Rは、今度は、ビームスプリッタ68を透過し、このときに、測定光Mと参照光Rとが相互に干渉する。干渉光(M+R)は、入射光Lの上方を通過して、レーザ出射窓部64を介して、レーザヘッド12の受光部に受光される。
【0025】
このとき、反射ターゲット16の位置が前後に移動すると、干渉光(M+R)の干渉縞の状態が変化するので、この変化の量を電気的に計数することより、ビームスプリッタ68から反射ターゲット16までの距離が測定され、その測定結果がディスプレイ18に表示される。
図5には、上述した干渉計本体42の4つの部位〔1〕〜〔4〕の各光路の詳細が示されている。同図(a)に示した部位〔1〕では、入射光Lが偏光ビームスプリッタ68を直進透過する測定光Mと、この測定光Mと直交するように下方に向かう参照光Rとに分けられ、干渉光(M+R)が入射光Lの上方を逆方向に通過する。
【0026】
部位〔2〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム72により参照光Rと同じ方向で、かつ、平行になるように反射され、反射ターゲット16側に向かう。
部位〔3〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム72により参照光Rと逆方向で、かつ、平行になるように反射され、反射ターゲット16側に向かう。
【0027】
部位〔4〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム72により入射光Lの光軸上で直交する方向に反射され、反射ターゲット16側に向かう。
次に、このように構成された多軸測長機を用いてNC工作機の測定,校正を行う場合について説明する。図7には、本発明の多軸測長機を使用してNC工作機(フライス盤A)の3軸の移動精度を測定し、かつ、その精度を校正する際の状態が示されている。
【0028】
同図に示すように、被測定物であるフライス盤Aの正面には、三脚10上に支持された送受光部内蔵型のレーザヘッド12が対向配置され、フライス盤Aの固定部位である主軸位置に、例えば、スピンドル部に取り付けたり、マグネットを用いて、多軸干渉計14が固設されている。
この干渉計14に対向してフライス盤Aの可動部分であるテーブルのx軸方向、y軸方向及び多軸干渉計14の真下であるz軸方向には、それぞれ反射ターゲット16が固定配置される。
【0029】
多軸干渉計14は、この例では、上述した部位〔1〕がy軸方向に一致し、部位〔2〕がz軸方向に、また、部位〔4〕がx軸方向に一致するようにセットされる。レーザヘッド12の光軸は、多軸干渉計14の入射およひ出射窓部62,64上にセットされ、測定時におけるこのようなアライメント作業は、最初の一回で完了し、後は、レーザヘッド12、干渉計14及び各反射ターゲット16を固定したまま全自動によりフライス盤Aの計測が行われることになる。
【0030】
なお、測定時における作業者による最初のアライメント作業は、3軸方向の光軸合わせ及び3軸方向のホームポジション設定作業となるが、この作業は、概ね25分程度で終了する。
このときに行われるコンピュータ20の制御手順の一例を図8に示している。同図に示した手順では、スタートすると、まず、ステップ101で、コントローラ24に指令信号を送出して、モータ44を駆動することにより、入射および出射窓部62,64に対向する位置に、干渉計本体42の部位〔4〕が対応するようにセットされる。
【0031】
続くステップ102では、NCコントローラ22に制御信号が送出され、この信号を受けたNCコントローラ22は、フライス盤Aを移動させて、x軸のホームポジションに位置させる。ステップ103では、コンピュータ20に搭載されているフロッピーディスク20aなどのソフトウエアの計測プログラム内容に沿ってフライス盤AのNCコントローラ22に順次駆動指令を与え、フライス盤Aを所定の手順により動作させる。
【0032】
そして、これらの動作に応じて変化する測定結果のデータと、プログラム中に内蔵されている基準データとを比較し、この比較結果によりピッチ誤差などの補正データを算出し、その校正値をNCコントローラ22に取込ませる。
この場合の精度試験内容は、繰返し位置決め精度試験、繰返し反転位置決め精度試験、ISO−230−2などであり、試験項目に応じてその作業時間が異なるものの、従来と同様に50分程度である。
【0033】
x軸についての全ての試験項目が完了したとステップ104で判断されると、コンピュータ20は、ステップ105でコントローラ24の起動を指令し、多軸干渉計14の切替え機構を切替え動作させ、その測定光軸をy軸に切替える。より具体的には、モータ44を駆動することにより、入射および出射窓部62,64に対向する位置に、干渉計本体42の部位〔1〕が、選択されて対応するようにセットされる。
【0034】
この切替え動作の確認後、前記と同様な手順によってy軸に関する各種精度試験が実行され(ステップ106〜108)、さらに、y軸の測定がステップ108で終了したと判断されると、測定光軸をz軸に切替え、同様な手順を繰返し、z軸の精度試験完了後システムを停止させる(ステップ109〜ステップ112)。
【0035】
この全作業時間は175分程度であり、そのうち作業員による最初のアライメント時間を除けば、自動計測時間は150分であるため、作業員にとっては十分な空き時間を得られ、その間を他の作業に有効活用できることになるうえ、作業完了後放置しておいても、実質的に全ての作業が完了しているので、作業時間の管理に煩わされることがない。
【0036】
図9〜図12は、本発明の第2実施例を示しており、上記実施例と同一若しくは相当する部分に同符号を付して、その説明を省略するとともに、以下にその特徴点についてのみ説明する。これらの図に示した第2実施例では、干渉計本体42aは、上記実施例と同様に、偏光ビームスプリッタ68aと、その後方側に配置される分光機構部69aとを有している。
【0037】
偏光ビームスプリッタ68aは、その前面側がレーザ光の入,出射窓部62,64に対向するように、取付け基板32の垂直部32bに設けられた切欠部32cに固定配置されている。そして、この偏光ビームスプリッタ68aの下面側と背面側には、それぞれ1/4波長板70aが固着され、一方の1/4波長板70aの下面側には、コーナーキューブ74aが一体的に固着されている。
【0038】
一方、分光機構部69aは、上記実施例と同様に、ステージ38上に固定されていて、偏光ビームスプリッタ68aからの入射光Lを直進させる部位〔1a〕と、偏光ビームスプリッタ68aからの入射光を下方向に反射させる部位〔2a〕と、偏光ビームスプリッタ68aからの入射光を上方向に反射させる部位〔3a〕と、偏光ビームスプリッタ68aからの入射光を右横方向に反射させる部位〔4a〕とを有していて、これらが一列状に配置されている。
【0039】
具体的には、部位〔1a〕には、何も配置されていない。部位〔2a〕には、入射光Lを下方に反射するミラー720aが配置されている。部位〔3a〕には、入射光Lを上方に反射するミラー721aが配置されている。部位〔4a〕には、入射光Lを右横方向に反射するミラー722aが配置されている。
モータ44を駆動して、ステージ38を移動させることにより、部位〔1a〕〜部位〔4a〕のそれぞれ前面側に偏光ビームスプリッタ68aを位置させた際の、各部位の光路が図12に示されている。なお、分光機構部69aの各部位と偏光ビームスプリッタ68aの相対的な位置関係は、分光機構部69aの位置を固定して、偏光ビームスプリッタ68aが移動するとした場合でも同じなので、図11には、この関係が図示されている(以下の第3,第4実施例でも同じ)。
【0040】
図12(a)に示した部位〔1a〕では、入射光Lが偏光ビームスプリッタ68aを直進透過する測定光Mと、この測定光Mと直交するように下方に向かう参照光Rとに分けられ、干渉光(M+R)が入射光Lの上方を逆方向に通過する。部位〔2a〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1a〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ミラー720aにより参照光Rと同じ方向で、かつ、平行になるように反射され、反射ターゲット16側に向かい、同一光路上を戻ってくる。
【0041】
部位〔3a〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1a〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ミラー721aにより参照光Rと逆方向で、かつ、平行になるように反射され、反射ターゲット16側に向かい、同一光路上を戻ってくる。
部位〔4a〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1a〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ミラー722aにより入射光Lの光軸上で直交する方向に反射され、反射ターゲット16側に向かい、同一光路上を戻ってくる。
【0042】
このように構成された干渉計本体42aを用いると、上記第1実施例と同様にNC工作機の各軸の測定を自動的に行うことができるとともに、この実施例の場合には、以下の利点がある。すなわち、本実施例の場合には、第1実施例の干渉計本体42に対して、コーナーキューブと1/4波長板の数を少なくすることができ、しかも、分光機構部69aは、ミラー720a〜722aで構成することができるので、多軸干渉計を安価に製造することができる。
【0043】
図13〜図16は、本発明の第3実施例を示しており、上記実施例と同一若しくは相当する部分に同符号を付して、その説明を省略するとともに、以下にその特徴点についてのみ説明する。これらの図に示した第3実施例では、干渉計本体42bは、上記実施例と同様に、偏光ビームスプリッタ68bと、その後方側に配置される分光機構部69bとを有している。
【0044】
偏光ビームスプリッタ68bは、上記第2実施例と同様に、その前面側がレーザ光の入,出射窓部62,64に対向するように、取付け基板32の垂直部32bに設けられた切欠部32cに固定配置されている。そして、この偏光ビームスプリッタ68bの下面側と背面側には、それぞれ1/4波長板70bが固着され、一方の1/4波長板70bの下面側には、コーナーキューブ74bが一体的に固着されている。
【0045】
一方、分光機構部69bは、上記実施例と同様に、ステージ38上に固定されていて、偏光ビームスプリッタ68bからの入射光Lを直進させる部位〔1b〕と、偏光ビームスプリッタ68bからの入射光を下方向に反射させる部位〔2b〕と、偏光ビームスプリッタ68bからの入射光を上方向に反射させる部位〔3b〕と、偏光ビームスプリッタ68bからの入射光を右横方向に反射させる部位〔4b〕とを有していて、これらが一列状に配置されている。
【0046】
具体的には、部位〔1b〕には、何も配置されていない。部位〔2b〕には、入射光Lを下方に反射するペンタプリズム720bが配置されている。部位〔3b〕には、入射光Lを上方に反射するペンタプリズム721bが配置されている。部位〔4b〕には、入射光Lを右横方向に反射するペンタプリズム722bが配置されている。
【0047】
モータ44を駆動して、ステージ38を移動させることにより、部位〔1b〕〜部位〔4b〕のそれぞれ前面側に偏光ビームスプリッタ68bを位置させた際の、各部位の光路が図16に示されている。
図16(a)に示した部位〔1b〕では、入射光Lが偏光ビームスプリッタ68bを直進透過する測定光Mと、この測定光Mと直交するように下方に向かう参照光Rとに分けられ、干渉光(M+R)が入射光Lの上方を逆方向に通過する。
【0048】
部位〔2b〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1b〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム720bにより参照光Rと同じ方向で、かつ、平行になるように反射され、反射ターゲット16側に向かい、同一光路上を戻ってくる。
部位〔3b〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1b〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム721bにより参照光Rと逆方向で、かつ、平行になるように反射され、反射ターゲット16側に向かい、同一光路上を戻ってくる。
【0049】
部位〔4b〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1b〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム722bにより入射光Lの光軸上で直交する方向に反射され、反射ターゲット16側に向かい、同一光路上を戻ってくる。
このように構成された干渉計本体42bを用いると、上記第1実施例と同様にNC工作機の各軸の測定を自動的に行うことができるとともに、この実施例の場合には、以下の利点がある。すなわち、本実施例の場合には、第1実施例の干渉計本体42に対して、コーナーキューブと1/4波長板の数を少なくすることができ、しかも、分光機構部69bは、ペンタプリズム720a〜722aで構成しており、この種のプリズムは、入射光に多少ブレがあったとしても、出射光は、必ず直角になるので、調整つまみ58による調整が第2実施例の場合よりも簡単になる。
【0050】
図17〜図21は、本発明の第4実施例を示しており、上記実施例と同一若しくは相当する部分に同符号を付して、その説明を省略するとともに、以下にその特徴点についてのみ説明する。これらの図に示した第4実施例では、干渉計本体42cは、上記実施例と同様に、偏光ビームスプリッタ68cと、その後方側に配置される分光機構部69cとを有している。
【0051】
偏光ビームスプリッタ68cは、上記第2実施例と同様に、その前面側がレーザ光の入,出射窓部62,64に対向するように、取付け基板32の垂直部32bに設けられた切欠部32cに固定配置されている。そして、この偏光ビームスプリッタ68cの上面側には、コーナーキューブ74cが一体的に固着されている。
【0052】
一方、分光機構部69cは、上記実施例と同様に、ステージ38上に固定されていて、偏光ビームスプリッタ68cからの入射光Lを直進させる部位〔1c〕と、偏光ビームスプリッタ68cからの入射光を下方向に反射させる部位〔2c〕と、偏光ビームスプリッタ68cからの入射光を上方向に反射させる部位〔3c〕と、偏光ビームスプリッタ68cからの入射光を右横方向に反射させる部位〔4c〕とを有していて、これらが一列状に配置されている。
【0053】
具体的には、部位〔1c〕には、何も配置されていない。部位〔2c〕には、入射光Lを下方に反射するミラー720cが配置されている。部位〔3c〕には、入射光Lを上方に反射するミラー721cが配置されている。部位〔4c〕には、入射光Lを右横方向に反射するミラー722cが配置されている。
モータ44を駆動して、ステージ38を移動させることにより、部位〔1c〕〜部位〔4c〕のそれぞれ前面側に偏光ビームスプリッタ68cを位置させた際の、各部位の光路が図20に示されている。
【0054】
図20(a)に示した部位〔1c〕では、入射光Lが偏光ビームスプリッタ68cを直進透過する測定光Mと、この測定光Mと直交するように上方に向かう参照光Rとに分けられ、測定光Mは、反射ターゲット16で反射して、異なった光路を辿って戻り、干渉光(M+R)が入射光Lの上方を逆方向に通過する。
部位〔2c〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1c〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ミラー720cにより参照光Rと逆方向で、かつ、平行になるように反射され、反射ターゲット16側に向かい、反射ターゲット16で反射された光は、異なった光路上を戻ってくる。
【0055】
部位〔3c〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1c〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム721cにより参照光Rと同じ方向で、かつ、平行になるように反射され、反射ターゲット16側に向かい、反射ターゲット16で反射された光は、異なった光路上を戻ってくる。
部位〔4c〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1c〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム722cにより入射光Lの光軸上で直交する方向に反射され、反射ターゲット16側に向かい、反射ターゲット16で反射された光は、異なった光路上を戻ってくる。
【0056】
本実施例の干渉計本体42では、反射ターゲット16に向かう光路と、反射ターゲット16から戻る光路とが全く異なっているので、偏光ビームスプリッタ68cやミラー720cなどは、第2実施例のものよりも大型のものが採用される。図21は、本実施例の干渉計本体42cの測定原理を示している。なお、この例では部位[1c]における光路の詳細を示しているが、他の部位でもミラー720c〜722cによって光路を曲げられるほかは、同一の測定原理である。
【0057】
同図において、レーザヘッドから出射された45°直線偏光の入射光Lは、偏光ビームスプリッタ68cにより、コーナキューブ74cに向う参照光Rと、測定位置に配置された反射ターゲット16に向う測定光Mに分けられる。
反射ターゲットおよびコーナキューブ16,74cで反射した参照および測定光R,Mは、偏光ビームスプリッタ68cの入射点と別の位置で再び合成されて、相互に干渉させられ、干渉光(M+R)が、入射光Lの上方を通過して、レーザ出射窓部64を介して、レーザヘッド12の受光部に受光される。
【0058】
このとき、反射ターゲット16の位置が前後に移動すると、干渉光(M+R)の干渉縞の状態が変化するので、この変化の量を電気的に計数することより、ビームスプリッタ68cから反射ターゲット16までの距離が測定され、その測定結果がディスプレイ18に表示される。
このように構成された干渉計本体42cを用いると、上記第1実施例と同様にNC工作機の各軸の測定を自動的に行うことができるとともに、この実施例の場合には、以下の利点がある。すなわち、本実施例の場合には、反射ターゲット16に向かう光路と、反射ターゲット16から戻る光路とが全く異なっているので、偏光ビームスプリッタ68cやミラー720cなどは、大型になるものの、この実施例では、1/4波長板を全く使用しないので、干渉計本体42cが安価になる。
【0059】
図22,図23は、本発明の第5実施例を示しており、上記実施例と同一若しくは相当する部分に同符号を付して、その説明を省略するとともに、以下にその特徴点についてのみ説明する。これらの図に示した第5実施例では、干渉計本体42dは、上記実施例と同様に、偏光ビームスプリッタ68dと、その後方側に配置される分光機構部69dとを有している。
【0060】
偏光ビームスプリッタ68dは、その前面側がレーザ光の入,出射窓部62,64に対向するように、取付け基板32の垂直部32bの背面側に固定配置されている。そして、垂直部32bには、入,出射窓部62,64に位置対応させて、一対の貫通孔32dが設けられている。偏光ビームスプリッタ68dの上面側には、コーナーキューブ74dが一体的に固着されている。
【0061】
一方、分光機構部69dは、上記実施例と同様に、ステージ38上に固定されていて、偏光ビームスプリッタ68dからの入射光Lを直進させる部位〔1d〕と、偏光ビームスプリッタ68dからの入射光を下方向に反射させる部位〔2d〕と、偏光ビームスプリッタ68dからの入射光を上方向に反射させる部位〔3d〕と、偏光ビームスプリッタ68dからの入射光を右横方向に反射させる部位〔4d〕とを有していて、これらが一列状に配置されている。
【0062】
具体的には、部位〔1d〕には、何も配置されていない。部位〔2d〕には、入射光Lを下方に反射するペンタプリズム720dが配置されている。部位〔3d〕には、入射光Lを上方に反射するペンタプリズム721dが配置されている。部位〔4d〕には、入射光Lを右横方向に反射するペンタプリズム722dが配置されている。
【0063】
モータ44を駆動して、ステージ38を移動させることにより、部位〔1d〕〜部位〔4d〕のそれぞれ前面側に偏光ビームスプリッタ68dを位置させた際の、各部位の光路が図23に示されている。
図23(a)に示した部位〔1d〕では、入射光Lが偏光ビームスプリッタ68dを直進透過する測定光Mと、この測定光Mと直交するように下方に向かう参照光Rとに分けられ、測定光Mは、反射ターゲット16で反射して、異なった光路を辿って戻り、干渉光(M+R)が入射光Lの上方を逆方向に通過する。
【0064】
部位〔2d〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1d〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム720dにより参照光Rと逆方向で、かつ、平行になるように反射され、反射ターゲット16側に向かい、反射ターゲット16で反射された光は、異なった光路上を戻ってくる。
部位〔3d〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1c〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム721dにより参照光Rと同じ方向で、かつ、平行になるように反射され、反射ターゲット16側に向かい、反射ターゲット16で反射された光は、異なった光路上を戻ってくる。
【0065】
部位〔4d〕では、参照光Rと干渉光(M+R)は、部位〔1c〕と同様な光路を辿るが、測定光Mは、ペンタプリズム722dにより入射光Lの光軸上で直交する方向に反射され、反射ターゲット16側に向かい、反射ターゲット16で反射された光は、異なった光路上を戻ってくる。
このように構成された干渉計本体42dによっても上記第4実施例と同等の作用効果が得られる。図24は、本発明の第6実施例を示しており、以下にその特徴点についてのみ説明する。この実施例では、干渉計本体42eは、上記実施例と同様に、偏光ビームスプリッタ68eと、その後方側に配置される分光機構部69eとを有している。
【0066】
偏光ビームスプリッタ68eは、実施例1と同様に共通光学部品となっていて、その前面側がレーザ光の入,出射窓部62,64に対向するように、ステージ38上に固定されている。偏光ビームスプリッタ68eの上面側には、4個のコーナーキューブ74eが一体的に固着されている。
一方、分光機構部69dは、第1実施例と同様に、ステージ38上に固定されていて、偏光ビームスプリッタ68eからの入射光Lを直進させる部位〔1e〕と、偏光ビームスプリッタ68eからの入射光を下方向に反射させる部位〔2e〕と、偏光ビームスプリッタ68eからの入射光を上方向に反射させる部位〔3e〕と、偏光ビームスプリッタ68eからの入射光を右横方向に反射させる部位〔4e〕とを有していて、これらが一列状に配置されている。
【0067】
具体的には、部位〔1e〕には、何も配置されていない。部位〔2e〕には、入射光Lを下方に反射するペンタプリズム720eが配置されている。部位〔3e〕には、入射光Lを上方に反射するペンタプリズム721eが配置されている。部位〔4e〕には、入射光Lを右横方向に反射するペンタプリズム722eが配置されている。
【0068】
この第6実施例では、反射ターゲット16に向かう光路と、反射ターゲット16から戻る光路とが全く異なっており、第1実施例に対して、1/4波長板70を全て省略した形になっていて、第5実施例と同等の作用効果が得られる。
図25は、本発明の第7実施例を示しており、以下にその特徴点についてのみ説明する。同図に示した実施例では、干渉計本体42fは、上記実施例と同様に、偏光ビームスプリッタ68fと、その後方側に配置される分光機構部69fとを有している。
【0069】
偏光ビームスプリッタ68fは、第5実施例と同様に、その前面側がレーザ光の入,出射窓部62,64に対向するように、取付け基板32の垂直部32bの背面側に固定配置されている。偏光ビームスプリッタ68fの上面側には、コーナーキューブ74fが一体的に固着されている。一方分光機構部69fは、3個の反射ミラー720f,721f,722fから構成されていて、各ミラー720f,721f,722fは、円板状の回転ステージ380上に載置固定されている。
【0070】
回転ステージ380は、取付け板32に回転可能に支持されていて、その中心下面側に回転軸が固設された超音波モータ44により回転駆動される。このときの回転位置は、モータ44に連結されたロータリエンコーダ80により検出される。反射ミラー720f,721f,722fは、偏光ビームスプリッタ58fに対向できるように回転ステージ380の外周縁側に設けられている。
【0071】
回転ステージ380は、90°の等間隔で4つの領域に分割されていて、これらの3つの領域に反射ミラー720f,721f,722fが配置されていて、残りの1つの領域には、なにも配置されていない。このように構成された干渉計本体42fでは、回転ステージ380を回転させて、なにも配置されていない領域を偏光ビームスプリッタ68fに対向させると、偏光ビームスプリッタ68fからの入射光Lを、反射ターゲット16側に直進させることができる。
【0072】
また、回転ステージ380を回転させて、反射ミラー720fを偏光ビームスプリッタ68fに対向させると、偏光ビームスプリッタ68fからの入射光を下方向に反射させることができる。さらに、回転ステージ380を回転させて、反射ミラー721fを偏光ビームスプリッタ68fに対向させると、偏光ビームスプリッタ68fからの入射光を上方向に反射させることができる。
【0073】
またさらに、回転ステージ380を回転させて、反射ミラー722fを偏光ビームスプリッタ68fに対向させると、偏光ビームスプリッタ68fからの入射光を右横方向に反射させることができる。
つまり、この第7実施例では、上記第6実施例までに示した分光機構部が、4つの部位を直線状に配列したのに対して、これを回転ステージ380の周方向に配列しており、このように構成された干渉計本体42fにおいても上記各実施例と同等の作用効果が得られる。
【0074】
図26〜図29は、本発明の第8実施例を示しており、上記実施例と同一若しくは相当する部分に同符号を付して、その説明を省略するとともに、以下にその特徴点についてのみ説明する。同図に示す実施例では、干渉計本体42gは、上記実施例と異なり、上述した各実施例の分光機構部を兼ねている。
干渉計部本体42gは、4個の偏光ビームスプリッタ420g〜423gと、各偏光ビームスプリッタ420g〜423gの一側面に固着された4個のコーナーキューブ740 〜743 とを備え、偏光ビームスプリッタ420g〜423gが入,出射窓部62,64に対向するように、ステージ38上に一列状に配置されていて、以下の4つの部位〔1g〕〜〔4g〕を有している。
【0075】
部位〔1g〕では、偏光ビームスプリッタ420gの内部に設けられた反射面が入射光に対して、45°傾斜して、反射光が上方に向かうように配置され、その上面側にコーナーキューブ740 が配置されている。
部位〔2g〕では、部位〔1g〕と同様に、偏光ビームスプリッタ421gの内部に設けられた反射面が入射光に対して、45°傾斜して、反射光が上方を向かうように配置され、その背面側にコーナーキューブ741 が配置されている。部位〔3g〕では、偏光ビームスプリッタ422gの内部に設けられた反射面が入射光に対して、45°傾斜して、反射光が下方に向かうように配置され、その背面側にコーナーキューブ742 が配置されている。
【0076】
部位〔4g〕では、偏光ビームスプリッタ423gの内部に設けられた反射面が入射光に対して、45°傾斜して、反射光が右側に向かうように配置され、その背面側にコーナーキューブ743 が配置されている。
図29に本実施例の干渉計本体42gの光路の詳細を示している。同図において部位〔1g〕では、レーザヘッド12から出射された45°直線偏光の入射光Lは、偏光ビームスプリッタ420gにより、固定コーナーキューブ740 に向かう参照光Rと、測定位置に配置された反射ターゲット16に向かう測定光Mとに分けられ、反射ターゲット16およびコーナーキューブ740 で反射された参照光Rと測定光Mは、偏光ビームスプリッタ420gで再び重なりあい干渉光(M+R)となる。干渉光(M+R)は、入射光Lの上方を通過して、レーザヘッド12に受光される。部位〔2g〕〜〔4g〕においても偏光ビームスプリッタ421g〜423gの向きが異なるだけで測定の原理は同じである。
【0077】
このように構成した測長機によれば、反射ターゲット16に向かう光路と、反射ターゲット16から戻る光路とが全く異なっているので、偏光ビームスプリッタ420g〜423gが若干大型になるものの、分光機構部の機能を干渉計本体42gで兼用しているので、部品点数が少なくなり、より一層実用性が増す。
なお、以上の実施例では作業手順としてx,y,z軸の順に行っているが、その順番は、任意に変更可能である。
【0078】
また、実施例における多軸干渉計14は、z軸方向の上部側の計測と、下部側の測長とを行えるようにしているが、いずれか一方の測長を行うようにしても良いし、双方の測長を行うようにしても良い。
【0079】
【発明の効果】
以上実施例で詳細に説明したように、本発明にかかるNC工作機用多軸測長機によれば、一回のアライメント作業によって干渉計とこれのx,y,z軸方向に配置されるターゲットの光軸合わせを行えば、各軸の測長が自動的に行われるため、作業者にとっては次の作業の待ち時間に拘束されることがなく、他の作業に専念できる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるNC工作機用多軸測長機の一実施例を示す全体システム構成図である。
【図2】同多軸測長機の多軸干渉計の全体構造の分解斜視図である。
【図3】同干渉計の断面図である。
【図4】同干渉計の干渉計本体の三面図である。
【図5】(a)〜(d)は、図4の平面図における各部位の光路説明図である。
【図6】干渉計本体の測定原理を示す模式図である。
【図7】本発明による多軸測長機をひざ型フライス盤の測定に適用した場合の配置を示す姿図である。
【図8】本発明の多軸測長機を用いた測定処理手順の一例を示すフローチャートである。
【図9】本発明にかかるNC工作機用多軸測長機の第2実施例を示す多軸干渉計の全体構造の分解斜視図である。
【図10】図10の多軸干渉計の組立状態の縦断面図である。
【図11】同干渉計の干渉計本体の平面図である。
【図12】(a)〜(d)は、図12に示した干渉計本体の各部位の光路説明図である。
【図13】本発明にかかるNC工作機用多軸測長機の第3実施例を示す多軸干渉計の全体構造の分解斜視図である。
【図14】図13の多軸干渉計の組立状態の縦断面図である。
【図15】同干渉計の干渉計本体の平面図である。
【図16】(a)〜(d)は、図15に示した干渉計本体の各部位の光路説明図である。
【図17】本発明にかかるNC工作機用多軸測長機の第4実施例を示す多軸干渉計の全体構造の分解斜視図である。
【図18】図18の多軸干渉計の組立状態の縦断面図である。
【図19】同干渉計の干渉計本体の平面図である。
【図20】(a)〜(d)は、図19に示した干渉計本体の各部位の光路説明図である。
【図21】第4実施例の干渉計本体の測定原理を示す模式図である。
【図22】本発明にかかるNC工作機用多軸測長機の第5実施例を示す多軸干渉計の断面図である。
【図23】(a)〜(d)は、図22に示した干渉計本体の各部位の光路説明図である。
【図24】本発明にかかるNC工作機用多軸測長機の第6実施例を示す多軸干渉計の正面図、平面図および側面図である。
【図25】本発明にかかるNC工作機用多軸測長機の第7実施例を示す干渉計本体の要部斜視図である。
【図26】本発明にかかるNC工作機用多軸測長機の第8実施例を示す多軸干渉計の要部斜視図である。
【図27】図26の多軸干渉計の組立状態の断面図である。
【図28】図26に示した実施例の多軸干渉計本体の正面図、平面図および側面図である。
【図29】(a)〜(d)は、図28に示した干渉計本体の各部位の光路説明図である。
【図30】ひざ型縦フライス盤に対する従来の測長機の配置を示す姿図である。
【符号の説明】
12 レーザヘッド
14 多軸干渉計
16 移動コーナキューブ(ターゲット)
20 コンピュータ(制御部)
24 コントローラ
30 ハウジング
34 リニアガイド
36 スライダ
38 ステージ
42,42a,42b,42c 干渉計本体
41、44、46 移動機構
(41 ラック、44 超音波モータ、46 ピニオン)
50、52 検出手段
(50 フォトインストラブタ、52 リミットスイッチ)
72 ペンタプリズム(光学屈折機構)[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a multi-axis length measuring machine for NC machine tools, and more particularly to a multi-axis length measuring machine capable of automatically measuring the movement distance of a plurality of axes of an NC machine tool.
[0002]
[Prior art]
A laser length measuring machine is known as an apparatus for measuring the movement distance of each axis of an NC machine tool with high accuracy. This type of laser length measuring machine includes a laser head having a laser beam transmitter and an interference light receiver, a target prism (corner cube) that reflects the laser beam emitted from the transmitter, and a space between them. As a basic configuration.
[0003]
When measuring the moving distance of the NC machine tool, the target prism is fixed to a moving table, main spindle, or the like. By the way, the operation direction of the NC machine tool is usually the three-axis directions of x, y, and z. For example, as shown in FIG. 30, when measuring and calibrating the moving table of the knee type vertical milling machine A First, the operator fixes the
[0004]
This preparatory work is usually referred to as alignment, and the work time is about 15 minutes for aligning the optical axes and setting the home position.
After this x-axis alignment operation, measurement and calibration by the length measuring machine can be performed while actually moving the table in the x-axis direction with reference to the home position.
This operation is automatically executed sequentially in accordance with the program of the control unit such as a computer connected to the NC controller, and confirmation and correction of the x-axis movement pitch, and other various accuracy tests according to the contents of the ISO test, for example, are automatically performed. The measurement results and calibration contents are sequentially taken into the NC controller. It takes about 50 minutes to complete such measurement and calibration.
[0005]
After the measurement in the x-axis direction is finished, the operator arranges the
[0006]
However, the technical problems described below have been pointed out in such a conventional NC machine tool length measurement method.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
In other words, in the conventional length measuring method described above, it takes about 15 minutes for each axis (x, y, z) to align the optical axis, set the home position, and so on. Since a time (about 50 minutes) for measurement and calibration for each x, y, z) is added, it takes about 195 minutes in total.
[0008]
In this case, while the automatic measurement is performed for each axis (x, y, z), the worker can perform another work. However, in practice, the 50-minute free time for each measurement seems to be long and short for an operator, so that he / she cannot concentrate on other work, or conversely, he / she takes time for other work, In some cases, the alignment work is shifted, and such time management is very troublesome for the operator.
[0009]
The present invention has been devised to solve the above-described problems, and the object of the present invention is to perform NC measurement that can automatically measure all x, y, and z axes by a single alignment operation. To provide a multi-axis measuring machine for machine tools.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention provides a laser head incorporating a laser beam transmitter and an interference light receiver, and is disposed on and incident on the optical axes of the transmitter and receiver. A multi-axis interferometer that incorporates a spectroscopic mechanism that splits laser light and emits it in the orthogonal x, y, and z-axis directions of the NC machine tool and its switching mechanism, and the measurement position of the NC machine tool A plurality of reflection targets that are fixed and receive laser beams emitted in the x, y, and z axis directions and reflect the laser beams to the multi-axis interferometer side, a controller that controls the switching mechanism, and the x, y, z While the NC machine tool is operated according to a predetermined procedure for each axial direction, the length measurement data obtained by the light receiving unit of the laser head is compared with preset reference data, and the NC machine tool has its calibration value. And the x, y and z axes Said constituted by a control unit for commanding the operation switched to the controller for each measurement end.
According to the multi-axis length measuring machine having this configuration, if the optical axes of the multi-axis interferometer and the reflection target arranged in the x, y, and z-axis directions are aligned only once, the length of each axis is measured. Measurement is continued by automatically switching the emission direction of the multi-axis interferometer every time.
According to a second aspect of the present invention, the multi-axis interferometer is moved in a straight line so as to be opposed to the incident / exit window portion within the casing and a casing having an incident / exit window portion facing the laser head. A stage installed so as to be able to rotate, an interferometer body having the spectroscopic mechanism for emitting incident laser light in the x-, y-, and z-axis directions; and each stage by linearly moving or rotating the stage. A moving mechanism for causing the spectroscopic mechanism portion to face the entrance / exit window portion and a detecting means for detecting a stop position of the stage are provided.
The interferometer body includes a polarizing beam splitter provided along the moving direction of the moving mechanism and fixed to the stage, and a spectroscopic mechanism unit installed behind the polarizing beam splitter, and the spectroscopic mechanism unit Are a part for making the incident light from the polarizing beam splitter go straight, a part for reflecting the incident light from the polarizing beam splitter upward or downward, and a part for reflecting the incident light from the polarizing beam splitter laterally. And can be configured.
In this case, the measurement light transmitted from the spectroscopic mechanism unit can be reflected on the same optical path via a reflection target installed on the measurement object side.
The interferometer body includes a polarization beam splitter fixedly disposed on the back side of the incident / exit window portion, and a spectroscopic mechanism portion disposed on the stage side, and the spectroscopic mechanism portion includes the polarization beam splitter. A portion for linearly traveling the incident light from the polarizing beam splitter, a portion for reflecting the incident light from the polarizing beam splitter upward or downward, and a portion for reflecting the incident light from the polarizing beam splitter laterally. it can.
In this case, the measurement light transmitted from the spectroscopic mechanism unit can be reflected on different parallel light paths via a reflection target installed on the measurement object side.
Further, in claim 7, the multi-axis interferometer can be moved linearly so as to be opposed to the incident / exit window portion within the casing and a casing having an incident / exit window portion facing the laser head. An installed stage, an interferometer body supported on the stage and emitting incident laser light in the x, y, and z-axis directions; and linearly moving the stage to enter and exit the interferometer body The moving mechanism is configured to face the window, and the detecting means for detecting the stop position of the stage.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 to 8 show a first embodiment of a multi-axis length measuring machine for NC machine tools according to the present invention. As shown in FIG. 1, the length measuring machine shown in FIG. 1 includes a
[0012]
The
[0013]
The
The detailed structure of the
[0014]
The
[0015]
A
[0016]
A plurality of position detecting
In addition,
[0017]
The lead wires of the
One side corner of the
[0018]
A
In addition, a
[0019]
Further, the upper portion of the front center of the
In addition, laser input /
[0020]
4 to 6 show the detailed structure of the interferometer
[0021]
The
[0022]
Further, four fixed
FIG. 6 shows the measurement principle of the
[0023]
In the figure, 45 ° linearly polarized incident light L emitted from the laser head is transmitted by a
[0024]
The reference and measurement beams R and M reflected by the reflection target and the
Accordingly, the measurement light M that first passes through the
[0025]
At this time, if the position of the
FIG. 5 shows details of the optical paths of the four portions [1] to [4] of the
[0026]
In the part [2], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as in the part [1], but the measurement light M is parallel to the reference light R by the
In the part [3], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as in the part [1], but the measuring light M is opposite to and parallel to the reference light R by the
[0027]
In the part [4], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1], but the measurement light M is orthogonally crossed on the optical axis of the incident light L by the
Next, the case where the NC machine tool is measured and calibrated using the multi-axis length measuring machine configured as described above will be described. FIG. 7 shows a state in which the movement accuracy of the three axes of the NC machine tool (milling machine A) is measured using the multi-axis length measuring machine of the present invention and the accuracy is calibrated.
[0028]
As shown in the drawing, a
Opposite the
[0029]
In this example, the
[0030]
Note that the first alignment work performed by the operator at the time of measurement is optical axis alignment in the triaxial direction and home position setting work in the triaxial direction, but this work is completed in about 25 minutes.
An example of the control procedure of the
[0031]
In the
[0032]
Then, the measurement result data that changes according to these operations is compared with the reference data built in the program, and correction data such as pitch error is calculated based on the comparison result, and the calibration value is used as the NC controller. 22 is taken in.
The contents of the accuracy test in this case are a repeated positioning accuracy test, a repeated inversion positioning accuracy test, ISO-230-2, and the like. Although the work time differs depending on the test item, it is about 50 minutes as in the conventional case.
[0033]
When it is determined in
[0034]
After confirming this switching operation, various accuracy tests on the y-axis are performed by the same procedure as described above (
[0035]
The total work time is about 175 minutes. Of these, the automatic measurement time is 150 minutes except for the initial alignment time by the worker. In addition, even if the work is left after the completion of the work, substantially all the work is completed, so that the work time is not bothered.
[0036]
9 to 12 show a second embodiment of the present invention. The same or corresponding parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, the description thereof will be omitted, and only the characteristic points will be described below. explain. In the second embodiment shown in these drawings, the
[0037]
The
[0038]
On the other hand, the
[0039]
Specifically, nothing is arranged in the site [1a]. A
FIG. 12 shows the optical path of each part when the
[0040]
In the part [1a] shown in FIG. 12A, the incident light L is divided into measurement light M that travels straight through the
[0041]
In the part [3a], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1a], but the measuring light M is in the opposite direction and parallel to the reference light R by the
At the part [4a], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1a], but the measurement light M is reflected by the
[0042]
When the
[0043]
FIGS. 13 to 16 show a third embodiment of the present invention. The same or corresponding parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and only the characteristic points are described below. explain. In the third embodiment shown in these drawings, the
[0044]
Similarly to the second embodiment, the
[0045]
On the other hand, the
[0046]
Specifically, nothing is arranged in the site [1b]. A
[0047]
FIG. 16 shows the optical path of each part when the
In the part [1b] shown in FIG. 16A, the incident light L is divided into measurement light M that travels straight through the
[0048]
In the part [2b], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1b], but the measurement light M is in the same direction and parallel to the reference light R by the
In the part [3b], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1b], but the measurement light M is opposite to and parallel to the reference light R by the
[0049]
In the part [4b], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1b], but the measurement light M is orthogonally crossed on the optical axis of the incident light L by the
When the interferometer
[0050]
FIGS. 17 to 21 show a fourth embodiment of the present invention. The same or corresponding parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and only the characteristic points are described below. explain. In the fourth embodiment shown in these drawings, the
[0051]
Similarly to the second embodiment, the
[0052]
On the other hand, the
[0053]
Specifically, nothing is arranged in the site [1c]. A
The optical path of each part when the
[0054]
In the portion [1c] shown in FIG. 20A, the incident light L is divided into measurement light M that travels straight through the
In the part [2c], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1c], but the measuring light M is in the opposite direction and parallel to the reference light R by the
[0055]
In the part [3c], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1c], but the measurement light M is in the same direction and parallel to the reference light R by the
In the part [4c], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1c], but the measurement light M is orthogonally crossed on the optical axis of the incident light L by the
[0056]
In the
[0057]
In the same figure, 45 ° linearly polarized incident light L emitted from the laser head is measured by a
The reference and measurement lights R and M reflected by the reflection target and the
[0058]
At this time, if the position of the
When the
[0059]
22 and 23 show a fifth embodiment of the present invention. The same or corresponding parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, description thereof is omitted, and only the characteristic points are described below. explain. In the fifth embodiment shown in these drawings, the
[0060]
The
[0061]
On the other hand, the
[0062]
Specifically, nothing is arranged in the site [1d]. A
[0063]
FIG. 23 shows the optical path of each part when the
In the portion [1d] shown in FIG. 23A, the incident light L is divided into measurement light M that travels straight through the
[0064]
In the part [2d], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1d], but the measurement light M is opposite to and parallel to the reference light R by the
In the part [3d], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1c], but the measurement light M is in the same direction and parallel to the reference light R by the
[0065]
In the part [4d], the reference light R and the interference light (M + R) follow the same optical path as the part [1c], but the measurement light M is orthogonally crossed on the optical axis of the incident light L by the
The interferometer
[0066]
The
On the other hand, the
[0067]
Specifically, nothing is arranged in the site [1e]. A pentaprism 720e that reflects the incident light L downward is disposed in the portion [2e]. A
[0068]
In the sixth embodiment, the optical path toward the
FIG. 25 shows a seventh embodiment of the present invention, and only the characteristic points will be described below. In the embodiment shown in the figure, the interferometer body 42f has a polarization beam splitter 68f and a spectroscopic mechanism 69f disposed on the rear side thereof, as in the above embodiment.
[0069]
Similarly to the fifth embodiment, the polarization beam splitter 68f is fixedly disposed on the back side of the
[0070]
The
[0071]
The
[0072]
Further, when the
[0073]
Furthermore, when the
That is, in the seventh embodiment, the spectroscopic mechanism shown in the sixth embodiment is arranged in the circumferential direction of the
[0074]
26 to 29 show an eighth embodiment of the present invention. The same or corresponding parts as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals, description thereof will be omitted, and only the feature points will be described below. explain. In the embodiment shown in the figure, the interferometer
The interferometer unit
[0075]
In the part [1g], the reflection surface provided inside the
In the part [2g], similarly to the part [1g], the reflection surface provided in the
[0076]
In the part [4g], the reflecting surface provided inside the
FIG. 29 shows details of the optical path of the
[0077]
According to the length measuring device configured in this way, the optical path toward the
In the above embodiment, the work procedure is performed in the order of x, y, and z axes, but the order can be arbitrarily changed.
[0078]
In addition, the
[0079]
【The invention's effect】
As described in detail in the above embodiments, according to the multi-axis length measuring machine for NC machine tools according to the present invention, the interferometer and the x-, y-, and z-axis directions thereof are arranged by a single alignment operation. If the optical axis alignment of the target is performed, the length of each axis is automatically measured, so that there is an advantage that the operator can concentrate on other work without being restricted by the waiting time of the next work.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an overall system configuration diagram showing an embodiment of a multi-axis length measuring machine for NC machine tools according to the present invention.
FIG. 2 is an exploded perspective view of the overall structure of the multi-axis interferometer of the multi-axis length measuring machine.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the interferometer.
FIG. 4 is a three-side view of the interferometer body of the interferometer.
FIGS. 5A to 5D are optical path explanatory views of respective portions in the plan view of FIG.
FIG. 6 is a schematic diagram showing the measurement principle of the interferometer body.
FIG. 7 is a diagram showing an arrangement when the multi-axis length measuring machine according to the present invention is applied to measurement of a knee milling machine.
FIG. 8 is a flowchart showing an example of a measurement processing procedure using the multi-axis length measuring machine of the present invention.
FIG. 9 is an exploded perspective view of the overall structure of a multi-axis interferometer showing a second embodiment of the multi-axis length measuring machine for NC machine tools according to the present invention.
10 is a longitudinal sectional view of the assembled multi-axis interferometer of FIG.
FIG. 11 is a plan view of an interferometer body of the interferometer.
FIGS. 12A to 12D are optical path explanatory views of respective parts of the interferometer main body shown in FIG.
FIG. 13 is an exploded perspective view of the overall structure of a multi-axis interferometer showing a third embodiment of a multi-axis length measuring machine for NC machine tools according to the present invention.
14 is a longitudinal sectional view of the assembled multi-axis interferometer of FIG.
FIG. 15 is a plan view of an interferometer body of the interferometer.
16A to 16D are optical path explanatory views of respective parts of the interferometer body shown in FIG.
FIG. 17 is an exploded perspective view of the overall structure of a multi-axis interferometer showing a fourth embodiment of a multi-axis length measuring machine for NC machine tools according to the present invention.
18 is a longitudinal sectional view of the assembled multi-axis interferometer of FIG.
FIG. 19 is a plan view of an interferometer body of the interferometer.
20 (a) to 20 (d) are explanatory views of optical paths of respective parts of the interferometer body shown in FIG.
FIG. 21 is a schematic diagram showing the measurement principle of the interferometer body of the fourth embodiment.
FIG. 22 is a cross-sectional view of a multi-axis interferometer showing a fifth embodiment of the multi-axis length measuring machine for NC machine tool according to the present invention.
FIGS. 23A to 23D are explanatory views of optical paths of respective parts of the interferometer main body shown in FIG.
FIG. 24 is a front view, a plan view, and a side view of a multi-axis interferometer showing a sixth embodiment of the multi-axis length measuring machine for NC machine tool according to the present invention.
FIG. 25 is a perspective view of an essential part of an interferometer body showing a seventh embodiment of the multi-axis length measuring machine for NC machine tool according to the present invention.
FIG. 26 is a perspective view of essential parts of a multi-axis interferometer showing an eighth embodiment of the multi-axis length measuring machine for NC machine tool according to the present invention.
27 is a cross-sectional view of the multi-axis interferometer of FIG. 26 in the assembled state.
28 is a front view, a plan view, and a side view of the multi-axis interferometer body of the embodiment shown in FIG. 26. FIG.
29 (a) to 29 (d) are optical path explanatory views of respective parts of the interferometer main body shown in FIG.
FIG. 30 is a view showing the arrangement of a conventional length measuring machine with respect to a knee-type vertical milling machine.
[Explanation of symbols]
12 Laser head
14 Multi-axis interferometer
16 Moving corner cube (target)
20 Computer (control unit)
24 controller
30 Housing
34 Linear guide
36 slider
38 stages
42, 42a, 42b, 42c Interferometer body
41, 44, 46 Movement mechanism
(41 racks, 44 ultrasonic motors, 46 pinions)
50, 52 detection means
(50 photo instructors, 52 limit switches)
72 Penta prism (optical refraction mechanism)
Claims (7)
前記送光部及び受光部の光軸上に配置され、かつ入射したレーザ光を分光させて、NC工作機の直交するx,y,z軸方向に向けて出射させるとともに、その切替え機構を内蔵した多軸干渉計と、
前記NC工作機の測定位置に固定されて、前記x,y,z軸方向に出射したレーザ光を受けて前記多軸干渉計側に反射する複数の反射ターゲットと、
前記切替え機構を制御するコントローラと、
前記x,y,z軸方向毎に前記NC工作機を所定の手順により動作させつつ、前記レーザーヘッドの受光部で得られる測長データと、予め設定される基準データとを比較し、前記NC工作機にその校正値を与えるとともに、前記x,y,z軸の測定終了毎に前記コントローラに切替え動作を指令する制御部とを備えたことを特徴とするNC工作機用多軸測長機。A laser head incorporating a laser beam transmitter and an interference light receiver;
Located on the optical axis of the light transmitting unit and the light receiving unit, the incident laser beam is dispersed and emitted in the orthogonal x, y, z axis directions of the NC machine tool, and the switching mechanism is built-in. Multi-axis interferometer
A plurality of reflection targets that are fixed to the measurement position of the NC machine tool, receive laser light emitted in the x, y, and z axis directions and reflect the laser beam to the multi-axis interferometer side;
A controller for controlling the switching mechanism;
While the NC machine tool is operated in a predetermined procedure for each of the x, y, and z axis directions, length measurement data obtained by the light receiving unit of the laser head is compared with preset reference data, and the NC A multi-axis length measuring machine for NC machine tools, comprising a controller for giving a calibration value to the machine tool and instructing the controller to perform a switching operation every time measurement of the x, y and z axes is completed. .
前記ケーシング内にあって、前記入出射窓部に対向するように直線移動または回転移動可能に設置されたステージと、
入射したレーザ光をx,y,z軸方向に向けて出射する分光機構部を有する干渉計本体と、
前記ステージを直線移動または回転移動させて前記各分光機構部を前記入出射窓部に対面させる移動機構と、
前記ステージの停止位置を検出する検出手段とを備えたことを特徴とする請求項1記載のNC工作機用多軸測長機。The multi-axis interferometer has a casing that opens an entrance / exit window facing the laser head, and
A stage installed in the casing so as to be linearly movable or rotationally movable so as to face the entrance / exit window portion;
An interferometer body having a spectroscopic mechanism that emits incident laser light in the x-, y-, and z-axis directions;
A moving mechanism that linearly moves or rotationally moves the stage so that the spectroscopic mechanism sections face the incident / exit window section;
The multi-axis measuring machine for an NC machine tool according to claim 1, further comprising detection means for detecting a stop position of the stage.
前記分光機構部は、前記偏光ビームスプリッタからの入射光を直進させる部位と、前記偏光ビームスプリッタからの入射光を上または下方向に反射させる部位と、前記偏光ビームスプリッタからの入射光を横方向に反射させる部位とを有することを特徴とする請求項2記載のNC工作機用多軸測長機。The interferometer main body is provided along the moving direction of the moving mechanism, and includes a polarization beam splitter fixedly installed on the stage, and a spectroscopic mechanism unit installed behind the polarization beam splitter,
The spectroscopic mechanism section includes a part that linearly propagates incident light from the polarizing beam splitter, a part that reflects incident light from the polarizing beam splitter upward or downward, and a lateral direction of incident light from the polarizing beam splitter. The multi-axis measuring machine for an NC machine tool according to claim 2, wherein the multi-axis measuring machine has a portion to be reflected.
前記ケーシング内にあって、前記入出射窓部に対向するように直線移動可能に設置されたステージと、
前記ステージ上に支持され、入射したレーザ光をx,y,z軸方向に向けて出射する干渉計本体と、
前記ステージを直線移動させて前記干渉計本体を前記入出射窓部に対面させる移動機構と、
前記ステージの停止位置を検出する検出手段とを備えたことを特徴とする請求項1記載のNC工作機用多軸測長機。The multi-axis interferometer has a casing that opens an entrance / exit window facing the laser head, and
A stage that is in the casing and is installed so as to be linearly movable so as to face the entrance / exit window portion,
An interferometer body that is supported on the stage and emits incident laser light in the x, y, and z axis directions;
A moving mechanism for linearly moving the stage so that the interferometer body faces the entrance / exit window portion;
The multi-axis measuring machine for an NC machine tool according to claim 1, further comprising detection means for detecting a stop position of the stage.
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