JP3612504B2 - Method for producing organosilane - Google Patents
Method for producing organosilane Download PDFInfo
- Publication number
- JP3612504B2 JP3612504B2 JP2001236143A JP2001236143A JP3612504B2 JP 3612504 B2 JP3612504 B2 JP 3612504B2 JP 2001236143 A JP2001236143 A JP 2001236143A JP 2001236143 A JP2001236143 A JP 2001236143A JP 3612504 B2 JP3612504 B2 JP 3612504B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- chloride
- mmol
- alkyl group
- trichlorosilane
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 title claims description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 88
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 24
- -1 chlorosilane compound Chemical class 0.000 claims description 21
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 claims description 20
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 16
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 13
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 12
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical class [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 69
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 69
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 56
- IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 45
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 16
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WCHPXAFAEZGCMB-UHFFFAOYSA-M benzyl(tributyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=CC=C1 WCHPXAFAEZGCMB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 7
- CNDHHGUSRIZDSL-UHFFFAOYSA-N 1-chlorooctane Chemical compound CCCCCCCCCl CNDHHGUSRIZDSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N benzyl(trichloro)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 GONOPSZTUGRENK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- FBOJNMRAZJRCNS-UHFFFAOYSA-M tetraethylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[P+](CC)(CC)CC FBOJNMRAZJRCNS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000005047 Allyltrichlorosilane Substances 0.000 description 4
- USFRYJRPHFMVBZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 USFRYJRPHFMVBZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 4
- ABDDAHLAEXNYRC-UHFFFAOYSA-N trichloro(trichlorosilylmethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl ABDDAHLAEXNYRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YHRUOJUYPBUZOS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloropropane Chemical compound ClCCCCl YHRUOJUYPBUZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(CCl)C=C1 ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KJDRSWPQXHESDQ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobutane Chemical compound ClCCCCCl KJDRSWPQXHESDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IZXWCDITFDNEBY-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-fluorobenzene Chemical compound FC1=CC=C(CCl)C=C1 IZXWCDITFDNEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MOHYOXXOKFQHDC-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(CCl)C=C1 MOHYOXXOKFQHDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HLQZCRVEEQKNMS-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-phenylbenzene Chemical compound C1=CC(CCl)=CC=C1C1=CC=CC=C1 HLQZCRVEEQKNMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JQZAEUFPPSRDOP-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(Cl)C=C1 JQZAEUFPPSRDOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GTLWADFFABIGAE-UHFFFAOYSA-N 1-chloroethylbenzene Chemical compound CC(Cl)C1=CC=CC=C1 GTLWADFFABIGAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QXDDDCNYAAJLBT-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCCCl QXDDDCNYAAJLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MFESCIUQSIBMSM-UHFFFAOYSA-N I-BCP Chemical compound ClCCCBr MFESCIUQSIBMSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N Trichloro(chloromethyl)silane Chemical compound ClC[Si](Cl)(Cl)Cl FYTPGBJPTDQJCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZDVDCDLBOLSVGM-UHFFFAOYSA-N [chloro(phenyl)methyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Cl)C1=CC=CC=C1 ZDVDCDLBOLSVGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FFWOLLVEZCCTGK-UHFFFAOYSA-N benzyl(dimethyl)phosphanium chloride Chemical compound [Cl-].C[PH+](C)CC1=CC=CC=C1 FFWOLLVEZCCTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N chloro-(chloromethyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCl ITKVLPYNJQOCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NDTCXABJQNJPCF-UHFFFAOYSA-N chlorocyclopentane Chemical compound ClC1CCCC1 NDTCXABJQNJPCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCl OOCUOKHIVGWCTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- YTKRILODNOEEPX-NSCUHMNNSA-N crotyl chloride Chemical compound C\C=C\CCl YTKRILODNOEEPX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 3
- JAYBZWYBCUJLNQ-UHFFFAOYSA-N dichloro-(chloromethyl)-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCl JAYBZWYBCUJLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ULYZAYCEDJDHCC-UHFFFAOYSA-N isopropyl chloride Chemical compound CC(C)Cl ULYZAYCEDJDHCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- NJFUXFRJVIXVSG-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[P+](C)(C)C NJFUXFRJVIXVSG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MJRPMUINYAOXRW-UHFFFAOYSA-N tributylphosphane;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CCCC[PH+](CCCC)CCCC MJRPMUINYAOXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-chloropropyl)silane Chemical compound ClCCC[Si](Cl)(Cl)Cl OOXSLJBUMMHDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MLDKTCCADNRZEK-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-trichlorosilylpropyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCC[Si](Cl)(Cl)Cl MLDKTCCADNRZEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N trichloro(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-2-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC=C HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BSPCSKHALVHRSR-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobutane Chemical compound CCC(C)Cl BSPCSKHALVHRSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPIFKCVYZBVZIV-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-1,1,1-trifluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CCCl ZPIFKCVYZBVZIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Chemical group 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 2
- FIEBTXPFGLSBBJ-UHFFFAOYSA-N benzhydryl(trichloro)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C([Si](Cl)(Cl)Cl)C1=CC=CC=C1 FIEBTXPFGLSBBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XRBZWUQAUXLFDY-UHFFFAOYSA-N benzyl(dichloro)silane Chemical compound Cl[SiH](Cl)CC1=CC=CC=C1 XRBZWUQAUXLFDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUHPRPBUYOGFHX-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl(trichloro)silane Chemical compound CCC(C)[Si](Cl)(Cl)Cl NUHPRPBUYOGFHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N chlorophosphane Chemical group ClP USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical group Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 2
- MJVFSDBAXDCTOC-UHFFFAOYSA-N dichloro(prop-2-enyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)CC=C MJVFSDBAXDCTOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCEQUKAYVABWTE-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-prop-2-enylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CC=C YCEQUKAYVABWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- ZTXFOCMYRCGSMU-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].C[P+](C)(C)C ZTXFOCMYRCGSMU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 2
- LPEPXQRITZMOPR-UHFFFAOYSA-N trichloro(1-phenylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C(C)C1=CC=CC=C1 LPEPXQRITZMOPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDVUXWDZTPZIIE-UHFFFAOYSA-N trichloro(2-trichlorosilylethyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WDVUXWDZTPZIIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMOGVSJGCLOYJJ-UHFFFAOYSA-N trichloro(3-trimethylsilylpropyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CCC[Si](Cl)(Cl)Cl SMOGVSJGCLOYJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MMJWAVCCBPOYAP-UHFFFAOYSA-N trichloro(4-trichlorosilylbutyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCC[Si](Cl)(Cl)Cl MMJWAVCCBPOYAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCMZRNUHEXJWGB-UHFFFAOYSA-N trichloro(cyclopentyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1CCCC1 FCMZRNUHEXJWGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPWLZOISJZHVHX-UHFFFAOYSA-N trichloro(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](Cl)(Cl)Cl GPWLZOISJZHVHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOTSLPSOZKUZIU-UHFFFAOYSA-N trichloro(trimethylsilylmethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C[Si](Cl)(Cl)Cl JOTSLPSOZKUZIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQHJBQDGWRDUML-UHFFFAOYSA-N trichloro-[(4-chlorophenyl)methyl]silane Chemical compound ClC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 CQHJBQDGWRDUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUDCZOITHPYDRZ-UHFFFAOYSA-N trichloro-[(4-fluorophenyl)methyl]silane Chemical compound FC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 RUDCZOITHPYDRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDVJPOXUZPVGOJ-UHFFFAOYSA-N trichloro-[(4-methoxyphenyl)methyl]silane Chemical compound COC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 CDVJPOXUZPVGOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUAVBESCPOPILP-UHFFFAOYSA-N trichloro-[(4-phenylphenyl)methyl]silane Chemical compound C1=CC(C[Si](Cl)(Cl)Cl)=CC=C1C1=CC=CC=C1 GUAVBESCPOPILP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QOUJYSRCDNANNE-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[4-(chloromethyl)phenyl]methyl]silane Chemical compound ClCC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 QOUJYSRCDNANNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKILEHKJCUCORS-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[4-(trichlorosilylmethyl)phenyl]methyl]silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=C(C[Si](Cl)(Cl)Cl)C=C1 JKILEHKJCUCORS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJIIJSWYRBEOCZ-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[chloro(dimethyl)silyl]methyl]silane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl GJIIJSWYRBEOCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABVUXBPCPLBFHM-UHFFFAOYSA-N trichloro-[[dichloro(methyl)silyl]methyl]silane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C[Si](Cl)(Cl)Cl ABVUXBPCPLBFHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUSPMMRBFSIHDG-UHFFFAOYSA-N Cl[SiH](Cl)CCC1=CC=CC=C1 Chemical compound Cl[SiH](Cl)CCC1=CC=CC=C1 GUSPMMRBFSIHDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- NZWWDFFNRDNYFO-UHFFFAOYSA-N benzyl-dichloro-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CC1=CC=CC=C1 NZWWDFFNRDNYFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- JOYFJVNRFXOGFH-UHFFFAOYSA-N bis(trichlorosilyl)methyl-trichlorosilane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C([Si](Cl)(Cl)Cl)[Si](Cl)(Cl)Cl JOYFJVNRFXOGFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- WBLIXGSTEMXDSM-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound Cl[CH2] WBLIXGSTEMXDSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-O tributylphosphanium Chemical compound CCCC[PH+](CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N trichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[Si](Cl)(Cl)Cl WEUBQNJHVBMUMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVCVDUDESCZFHJ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane;hydrochloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[PH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AVCVDUDESCZFHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/122—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
- B01J31/0234—Nitrogen-, phosphorus-, arsenic- or antimony-containing compounds
- B01J31/0255—Phosphorus containing compounds
- B01J31/0267—Phosphines or phosphonium compounds, i.e. phosphorus bonded to at least one carbon atom, including e.g. sp2-hybridised phosphorus compounds such as phosphabenzene, the other atoms bonded to phosphorus being either carbon or hydrogen
- B01J31/0268—Phosphonium compounds, i.e. phosphine with an additional hydrogen or carbon atom bonded to phosphorous so as to result in a formal positive charge on phosphorous
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機シランの製造方法に関するもので、より詳細には4級有機ホスホニウム塩を触媒として使用し、水素−珪素の結合を持つクロロシラン化合物及び有機ハロゲン化合物を脱ハロゲン化水素反応を通じて結合させて有機珪素化合物を合成することにより、従来の製法に比べて少量の触媒を使用し、また触媒を使用した後に別の工程を経ることなく回収し再使用することが容易であるので、非常に経済的に高収率で製造することができる改善された方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般的に、有機シラン化合物は、シリコン高分子の原料物質として広く使用されている化合物である。ベンケセルらによれば、1969年に塩化ベンジルと1,1,1−トリクロロエタンがトリクロロシランとトリアルキルアミンの1:1である混合物と反応して脱塩化水素反応によりクロロの代わりにトリクロロシリル基で置換された化合物が生成されたと報告している(Benkeser, R.A.: Gaul, J.M.: Smith, W.E. J. Am. Chem. Soc. 1969, 91, 3666)。その後、1975年にはより発展された有機シランの製法として、日本のフルヤらは塩化アリルにトリクロロシランとトリアルキルアミンの1:1である混合物を反応させ、銅塩化物を触媒として使用し、高い収率でアリルトリクロロシランが得られたと報告している(Furuya, N.: Sukawa, T. J. Organomet. Chem. 1975, 96, Cl)。
【0003】
近年、有機シラン化合物の合成のために比較的に改良された触媒を使用する技術として、フランスのコリュウーらは過量のトリブチルアミンの存在下でクロロホルムとトリクロロシランを反応させてビス(トリクロロシリル)メタンとトリス(トリクロロシリル)メタンを合成したと報告している(Corriu, R. J. P.: Granier, M.: Lanneau, G.F. J. Organomet. Chem. 1998, 562, 79)。上に述べたように、いままで知られている有機シランの製造方法は大体に塩化ベンジルや塩化アリルのような活性化された有機塩化物だけを、トリクロロシランと脱塩化水素反応により結合すると言われており、その反面に活性を高める置換基のない有機ハロゲン化合物を使用する反応により有機シランを合成する方法はまだ知られていなかった。
【0004】
また、従来の有機シランの製造方法では、触媒成分として強い塩基性を有する過量の3級アミンを使用するので、反応中に発生した塩化水素がアミンと塩を形成することになる。従って、過量の触媒使用による経済的負担と共に触媒として使用されたアミンを回収するために、塩化水素を中和させるのにかかる多くの費用を考えれば工業的に実用化するには難しい問題がある。
このような研究の一環として、本発明者は少量を使用して反応させる触媒を見出すことが上記工程の経済性を高める要だと想到し、3級有機ホスフィンを反応物質に対して約10%、即ち反応物でない触媒として使用し、反応温度を約150℃に高めて反応させた時に、脱ハロゲン化水素反応により有機珪素化合物の合成に関わる改良された方法を発明して韓国特許出願第99−13006号(1999年4月13日)として出願した。その後、3級有機アミンを触媒として使用しても3級有機ホスフィンを使用する時より収率は低かったが、少量の触媒を使用しても目的の有機シランの合成反応は起こることを見出して、やはり韓国特許出願第2000−13090号(2000年3月15日)として出願した。
【0005】
しかし、上記した従来の方法をはじめ、本発明者らが既に開発した方法の場合、触媒として使用する3級有機アミンや3級有機ホスフィンは、従来の触媒に比べて比較的に少量を使用しても従来と類似、又はそれ以上の収率で目的とする脱ハロゲン化水素反応が行われて経済的な効果を期待することができた。その反面、上記触媒は酸の発生する反応では、酸と塩を形成すると共にハロゲン化アルキルとも4級塩を形成するので、反応が終った後に使用された触媒を回収、又は3級アミン或は3級ホスフィンに還元して再使用するのに問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上に述べたように、従来の技術によると、クロロメチル基を有する有機珪素化合物は、3級有機アミン或は3級有機ホスフィンのような有機塩基の存在下で水素−珪素の結合を持つクロロシランと反応して脱ハロゲン化水素反応により生成することがわかる。しかし、この場合には、塩の形成により再使用のために還元することが難しいという短所があって、これを解決する新たな触媒の開発が必要であった。本発明者らは、従来の技術問題を解決し、より優れた活性を発揮する触媒を探索してきたが、反応で副産物として得られた酸や反応の出発物質であるハロゲン化アルキルと塩を形成する3級有機アミンや3級有機ホスフィンよりも、4級有機ホスフィンを触媒として使用すれば本工程の経済性を高めることを見出して本発明を完成した。
従って、本発明は、従来とは異なり、4級有機ホスホニウム塩を触媒として使用し、水素−珪素の結合を持つクロロシラン化合物及び有機ハロゲン化合物を脱ハロゲン化水素反応を通じて結合させて有機珪素化合物を合成することにより、少量の触媒を使用し、また触媒を使用した後に別の工程を経ることなく回収し再使用することが容易であるので、非常に経済的に高収率で製造することができる改善された方法を提供することにその目的がある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、 触媒を使用してクロロシラン化合物と有機ハロゲン化合物とを反応させて有機シランを製造する方法において、上記の触媒として、4級有機ホスホニウム塩を使用して水素−珪素の結合を有する次の化学式1で表されるクロロシラン化合物と次の化学式2で表される有機ハロゲン化合物を、脱ハロゲン化水素反応により結合させて次の化学式3で表される有機シラン化合物を製造することを特徴とする。
(1) HSiR1Cl2
(2) R2R3CHX
(3) R4R3CHSiR1Cl2
反応式1
HSiR1Cl2 + R2R3CHX → R4R3CHSiR1Cl2 + HX
【0008】
式中、R1は水素、クロロ或はメチル基であり;Xはクロロ或はブロモであり;R2はC1−17のアルキル基、少なくとも1つのフルオロで置換されたC1−10のアルキル基、不飽和結合を有する C2−5のアルケニル基、(CH2)nSiMe3−mClmで表されるアルキル基(この時、nは0−2の整数、mは0−3の整数である)、Ar(R1)qで表される芳香族基(この時、ArはC6−14の芳香族の炭化水素であり;R1はC1−4のアルキル基、ハロゲン、アルコキシ基或はビニル基であり;qは0−5の整数である)、(CH2)pXで表されるハロアルキル基(この時、pは1−9の整数であり;Xはクロロ或はブロモである)、あるいはArCH2Xで表されるハロメチル芳香族基(この時、ArはC6−14の芳香族の炭化水素であり; Xはクロロ或はブロモである)であり; R3は水素、C1−6のアルキル基、Ar(R’)qで表される芳香族基(この時、ArはC6−14の芳香族炭化水素であり、R’はC1−4のアルキル基、ハロゲン、アルコキシまたはビニルであり、qは0−5の整数である)であり;またはR2とR3は互いに共有結合で連結されて、シクロペンチルやシクロヘキシル等のシクロアルキル基を形成してもよく;R4はR2と同じであるが、但し、R2が反応性のあるハロゲンが置換されたアルキル基である、(CH2)pXまたはArCH2Xである場合、R4は(CH2)pSiR1Cl2、あるいはArCH2SiR1Cl2であることができる。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明は、従来の触媒を使用してクロロシラン化合物と有機ハロゲン化合物とを反応させて有機シランを製造する方法において、上記の触媒として従来使用されたことのない4級有機ホスホニウム塩を使用して、有機シランを効果的に製造し、触媒は容易に回収して再利用することができる、経済的な方法を提供するものである。
本発明では、圧力に耐える反応槽に上記の化学式1で表される化合物と上記の化学式2で表されるハロゲン化合物、また触媒として4級有機ホスホニウム塩を上記の化学式2で表される化合物に対して1−100モル%、望ましくは5−20モル%を入れて10−250℃、望ましくは100−200℃で加熱すれば上記の反応式1のように上記の化学式3で表される有機シランを合成することができる。この時、本発明において触媒として使用する4級有機ホスホニウム塩は、その活性が優れており、塩化ベンジル或は塩化アリルのように活性化された有機塩化物ばかりでなく、単純な有機ハロゲン化合物とハロゲン置換アルキル基を持つ有機珪素化合物もSi−Hの結合を有するシランと脱ハロゲン化水素反応により結合させるようにして目的の有機シランを製造する。
【0010】
従って、本発明は、4級有機ホスホニウム塩を触媒として使用してハロゲン元素の置換された有機化合物とSi−Hの結合を有するシランを反応させ、上記の化学式2で表されるハロゲンをシリル基に置換させることによって有機珪素化合物を合成する。本発明による典型的な合成工程は、窒素雰囲気下で上記の化学式2で表されるハロゲン置換有機化合物と4級有機ホスホニウム塩を、圧力に耐えるステンレス管の反応槽に入れ、上記の化学式1で表されるクロロシラン化合物を入れてから蓋を閉めて反応させることである。この時、上記の化学式1で表されるクロロシラン化合物は、上記の化学式2で表される有機ハロゲンに対してモル比で1−5倍使用することが望ましい。触媒としての4級有機ホスホニウム塩は、上記の化学式2で表される化合物に対して1−100モル%の量で使用するが、好ましくは3−15モル%を使用する。この過程において、反応溶媒は反応物に従って芳香族炭化水素を使用、又は使用しなくてもよい。また、反応温度は10−250℃、望ましくは100−200℃の範囲を維持して1−48時間にわたって反応させる。反応が終ると、蓋を開けてハロゲン化水素ガスを排出し、常圧あるいは減圧の条件下で蒸留して生成物を分離すれば目的物が得られる。有機ホスホニウム塩をシリコン樹脂やシリカ或いはゼオライトに固定させて使用すると、反応後に回収して再使用するのに非常に便利である[Jung, I. N.;Cho, K. D.;Lim, J. C. Yoo, B. R. US Patent 4,613,491]。
【0011】
本発明によると、上記したように生成物を製造・分離した後に触媒を再利用するためには、生成物を分離して残った残留物を別の過程を経ることなく触媒として使用することができるので、触媒として使用した4級有機ホスホニウム塩を簡単に回収することができる。その回収率は80%までであり、回収して再使用するので経済的にも非常に有利である。
本発明に使用する化学式1で表されるシラン化合物の例としては、トリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジクロロシランが挙げられ、化学式2で表される有機ハロゲン化合物の例としては、1−クロロオクタン、1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロパン、(クロロメチル)トリクロロシラン、(クロロメチル)メチルジクロロシラン、(クロロメチル)ジメチルクロロシラン、(クロロメチル)トリメチルシラン、(3−クロロプロピル)トリメチルシラン、塩化アリル、臭化アリル、塩化クロチル、塩化ベンジル、塩化4−フルオロベンジル、塩化4−クロロベンジル、塩化4−メトキシベンジル、塩化4−フェニルベンジル、ジフェニル−1−クロロメタン、1−クロロエチルベンゼン、塩化シクロペンチル、2−クロロブタン、塩化イソプロピル、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,3−ジクロロプロパン、1−ブロモ−3−クロロプロパン、1,4−ジクロロブタン、1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン等が挙げられる。
【0012】
また、本発明により特徴的に使用する触媒成分は4級有機ホスホニウム塩であり、例えば次の化学式4あるいは5で表される化合物を使用することができる。(4) PR”4X’
式中、 X’はクロロ、ブロモ或はヨードであり; R”はC1−12のアルキル基、C1−6のアルキル基が含まれた芳香族基、あるいはフェニル基であり;2つのR”は互いに共有結合により連結されて環形構造を持つことができ、それぞれのR”は互いに同じ、または異なる構造を持つことができる。
(5) XR”3P−Y−PR”3X’
式中、 X’はクロロ、ブロモ或はヨードであり; YはC1−12のアルキル基、C1−6のアルキル基が含まれた芳香族基、あるいは芳香族基であり;R”はC1−12のアルキル基、C1−6のアルキル基が含まれた芳香族基、フェニル基であり;2つのR”は互いに共有結合により連結されて環形構造を持つことができ、それぞれのR”は互いに同じ、または異なる構造を持つことができる。
【0013】
本発明に使用する触媒である4級有機ホスホニウム塩の具体的な化合物の例としては、塩化ベンジルトリブチルホスホニウム、塩化テトラブチルホスホニウム、塩化テトラメチルホスホニウム、塩化テトラエチルホスホニウム、塩化ベンジルトリホスホニウム、固定化された4級塩化ホスホニウム、エチレンビス(塩化ベンジルジメチルホスホニウム)、塩化トリフェニルホスホニウム、塩化トリブチルホスホニウム等が挙げられる。
このような本発明による触媒は、望ましくはシリコーン樹脂、シリカ、無機支持体、有機高分子等に固定化された形態で使用される。
上記したような成分を使用して製造した本発明により上記の化学式3で表される有機シラン化合物は、例えば次の実施例から製造した各種のシラン化合物として製造される。上記の有機シラン化合物は、一般的にシリコン高分子の原料物質及びシラン結合剤等の用途で広く使用されている。
【0014】
上に述べたように、本発明は、従来、有機シラン化合物の製造に適用されなかった触媒として4級有機ホスホニウム塩を使用して活性のない有機ハロゲン化合物を使用しても脱ハロゲン化水素反応を通じて有機シラン化合物を製造することができる。上記の触媒は少量だけ使用すること、容易に回収して再使用すること、活性の高い有機塩化物ばかりでなく、活性の低い有機ハロゲン化合物でも比較的に高収率で反応が進むことを特徴とする。従って、本発明は、従来に比べて非常に経済的かつ効率的な方法により多様な有機珪素化合物の合成に適用することができ、工程も非常に容易である。また、生産費も低いので、有機珪素の含まれた高分子の合成に広く活用することができる。
本発明を次の実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【0015】
実施例1:1−クロロオクタンとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化ベンジルトリブチルホスホニウム)
オーブンで乾燥された25mlのステンレス管である反応槽を、窒素気体の存在下で冷却させた後に、塩化ベンジルトリブチルホスホニウム(0.22g, 0.67 mmol)、1−クロロオクタン(1.00g, 6.73 mmol)及びトリクロロシラン(2.71g, 20.0 mmol)を入れた。反応槽の口を蓋で密封し、170℃で2時間にわたって反応させた後に、反応物を減圧下で蒸留して1.45g(収率:87%)のn−オクチルトリクロロシランを得た。
n−オクチルトリクロロシランのMS(70eV EI) m/z(相対強度):250(1), 248(3), 246(4), 179(12), 177(35), 175(34), 135(53), 133(54), 85(100), 71(57), 57(98)
【0016】
実施例2:1−クロロオクタンとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.20g, 0.68 mmol)、1−クロロオクタン(1.00g, 6.73 mmol)及びトリクロロシラン(2.71g, 20.0 mmol)を、170℃で2時間にわたって反応させて1.42g(収率:85%)のn−オクチルトリクロロシランを得た。
【0017】
実施例3:1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロパンとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.20g, 0.68 mmol)、1−クロロオクタン(0.89g, 6.72 mmol)及びトリクロロシラン(2.71g, 20.0 mmol)を、150℃で10時間にわたって反応させて1.24g(収率:80%)の(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリクロロシランを得た。
3,3,3−トリフルオロプロピル)トリクロロシランのMS(70eV EI) m/z(相対強度):137(24), 135(71), 133(72), 98(11), 78(87), 77(100), 69(20), 63(21), 59(26), 51(11)
【0018】
実施例4:(クロロメチル)トリクロロシランとトリクロロシランとの反応(触媒: 塩化ベンジルトリブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化ベンジルトリブチルホスホニウム(0.22g, 0.67 mmol)、(クロロメチル)トリクロロシラン(1.23g, 6.69 mmol)及びトリクロロシラン(2.71g, 20.0 mmol)を、160℃で15時間にわたって反応させて1.13g(収率:68%)の1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ−1,3−ジシラプロパンを得た。
1,1,1,3,3,3−ヘキサクロロ−1,3−ジシラプロパンの1H−NMR(CDCl3, ppm): d 1.87(s, SiCH2Si)
【0019】
実施例5:(クロロメチル)メチルジクロロシランとトリクロロシランとの反応(触媒: 塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.18g, 0.61 mmol)、(クロロメチル)メチルジクロロシラン(1.00g, 6.12 mmol)及びトリクロロシラン(2.52g, 18.6 mmol)を、150℃で2時間にわたって反応させて0.96g(収率:60%)の1,1,1,3,3−ペンタクロロ−1,3−ジシラブタンを得た。
1,1,1,3,3−ペンタクロロ−1,3−ジシラブタンの1H−NMR(CDCl3, ppm): d 0.94(s, 3H, SiCH3), 1.58(s, SiCH2Si)
【0020】
実施例6:(クロロメチル)ジメチルクロロシランとトリクロロシランとの反応(触媒: 塩化テトラエチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラエチルホスホニウム(0.27g, 1.5 mmol)、(クロロメチル)ジメチルクロロシラン(2.15g, 15.0 mmol)及びトリクロロシラン(6.10g, 45.0 mmol)を、150℃で10時間にわたって反応させて2.18g(収率:60%)の1,1,1,3−テトラクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタンを得た。
テトラクロロ−3−メチル−1,3−ジシラブタンのH−NMR(CDCl3, ppm):0.62(s, 6H, SiCH3), 1.28(s, 2H, SiCH2Si)
【0021】
実施例7:(クロロメチル)トリメチルシランとトリクロロシランとの反応(触媒: 塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム(0.29g, 0.75 mmol)、(クロロメチル)トリメチルシラン(0.92g, 7.5 mmol)及びトリクロロシラン(3.05g, 22.5 mmol)を、150℃で10時間にわたって反応させて1.20g(収率:72%)の1,1,1−トリクロロ−3,3−ジメチル−1,3−ジシラブタンを得た。
1,1,1−トリクロロ−3,3−ジメチル−1,3−ジシラブタンのH−NMR(CDCl3, ppm):0.25(s, 9H, SiCH3), 0.85(s, 2H, SiCH2Si)
【0022】
実施例8:(3−クロロプロピル)トリメチルシランとトリクロロシランとの反応(触媒: 塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム (0.22g, 0.75 mmol)、(3−クロロプロピル)トリメチルシラン(1.13g, 7.50 mmol)及びトリクロロシラン(3.05g, 22.5 mmol)を、150℃で10時間にわたって反応させて1.57g(収率:84%)の[3−トリクロロシリルプロピル]トリメチルシランを得た。
[3−トリクロロシリルプロピル]トリメチルシランのH−NMR(CDCl3, ppm): 0.02(s, 9H, SiCH3), 0.06(m, 2H, Me3SiCH2), 1.47(m, 2H, CH2), 1.61(m, 2H, CH2SiCl3)
【0023】
実施例9:塩化アリルとトリクロロシランとの反応(触媒: 塩化テトラメチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラメチルホスホニウム (0.16g, 1.3 mmol)、塩化アリル(1.00g, 13.1 mmol)及びトリクロロシラン(5.31g, 32.9 mmol)を、150℃で2時間にわたって反応させて1.72g(収率:75%)のアリルトリクロロシランを得た。
アリルトリクロロシランのH−NMR(CDCl3, ppm): 2.35−2.37(d, 2H, CH2), 5.18−5.24(m, 2H, CH2=), 5.71−5.85(m, 1H, −CH=)
【0024】
実施例10:塩化アリルとトリクロロシランとの反応(触媒:固定化された4級塩化ホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により4級ホスホニウム塩(0.30g)を含んだ固定化触媒であるシリコン樹脂[(RSiO3/2)n, R = [3−(トリブチルホスホニウム)プロピル]クロライド]、塩化アリル(1.00g, 13.1 mmol)及びトリクロロシラン(5.31g, 39.2 mmol)を、150℃で2時間にわたって反応させて1.20g(収率:52%)のアリルトリクロロシランを得た。
【0025】
実施例11:塩化アリルとメチルジクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラエチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラエチルホスホニウム(0.24g, 1.31 mmol)、塩化アリル(1.00g, 13.1 mmol)及びトリクロロシラン(4.52g, 39.3 mmol)を、150℃で2時間にわたって反応させて0.45g(収率:22%)のアリルメチルジクロロシランを得た。
アリルメチルジクロロシランのMS(70eV EI) m/z(相対強度):156(13), 154(18), 141(13), 139(20), 117(13), 115(70), 114(9), 113(100), 65(7), 63(22)
【0026】
実施例12:塩化アリルとジクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.36g, 1.22 mmol)、塩化アリル(0.94g, 12.3 mmol)及びジクロロシラン(6.22g, 61.6 mmol)を、150℃で1時間にわたって反応させて0.38g(収率:22%)のアリルジクロロシランを得た。
アリルジクロロシランのH−NMR(CDCl3, ppm): 2.17−2.19(d, 2H, SiCH3), 5.13−5.18(m, 2H, CH2=), 5.47(t, J=1.8Hz, 1H, SiH), 5.71−5.85(m, 1H, CH=)
【0027】
実施例13:臭化アリルとトリクロロシランとの反応(触媒:臭化テトラメチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により臭化テトラメチルホスホニウム(0.21g, 1.2 mmol)、臭化アリル(1.50g, 12.4 mmol)及びトリクロロシラン(5.04g, 37.2 mmol)を、150℃で2時間にわたって反応させて1.85g(収率:85%)のアリルジクロロシランを得た。
【0028】
実施例14:塩化クロチルとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.32g, 1.1 mmol)、塩化クロチル(1.00g, 11.1 mmol)及びトリクロロシラン(4.47g, 33.0 mmol)を、130℃で1時間にわたって反応させて1.04g(収率:50%)のクロチルトリクロロシランを得た。
クロチルトリクロロシランのMS(70eV EI) m/z(相対強度):190(7), 188(7), 135(10), 133(10), 63(7), 56(6), 55(100), 54(11), 53(8)
【0029】
実施例15:塩化ベンジルとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.23g, 0.78 mmol)、塩化ベンジル(1.00g, 7.90 mmol)及びトリクロロシラン(3.21g, 23.7 mmol)を、130℃で4時間にわたって反応させて1.48g(収率:83%)のベンジルトリクロロシランを得た。
ベンジルトリクロロシランのH−NMR(CDCl3, ppm): 2.17−2.19(s, 2H, CH2), 7.29−7.36(m, 5H, ArH)
【0030】
実施例16:塩化ベンジルとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化ベンジルトリブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化ベンジルトリブチルホスホニウム(0.26g, 0.79 mmol)、塩化ベンジル(1.00g, 7.90 mmol)及びトリクロロシラン(3.21g, 23.7 mmol)を、150℃で2時間にわたって反応させて1.43g(収率:80%)のベンジルトリクロロシランを得た。
【0031】
実施例17:塩化ベンジルとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム(0.31g, 0.80 mmol)、塩化ベンジル(1.00g, 7.90 mmol)及びトリクロロシラン(3.21g, 23.7 mmol)を、150℃で3時間にわたって反応させて0.07g(収率:4%)のベンジルトリクロロシランを得た。
【0032】
実施例18:塩化ベンジルとトリクロロシランとの反応[触媒:エチレンビス(塩化ベンジルジメチルホスホニウム)]
上記の実施例1と同様の方法によりエチレンビス(塩化ベンジルジメチルホスホニウム)(0.16g, 0.40 mmol)、塩化ベンジル(1.00g, 7.90 mmol)及びトリクロロシラン(3.21g, 23.7 mmol)を、150℃で2時間にわたって反応させて1.51g(収率:85)のベンジルトリクロロシランを得た。
【0033】
実施例19:塩化ベンジルとメチルジクロロシランとの反応(触媒:塩化トリブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化トリブチルホスホニウム(0.26g, 0.79 mmol)、塩化ベンジル(1.00g, 7.90 mmol)及びメチルジクロロシラン(2.73g, 23.7 mmol)を、200℃で2時間にわたって反応させて0.39g(収率:24%)のベンジルメチルジクロロシランを得た。
ベンジルメチルジクロロシランのH−NMR(CDCl3, ppm): 0.96(s, 3H, SiCH3), 2.85(s, 2H, CH2), 7.29−7.36(m, 5H, ArH)
【0034】
実施例20:塩化ベンジルとジクロロシランとの反応(触媒:塩化ベンジルトリブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化ベンジルトリブチルホスホニウム(0.26g, 0.79 mmol)、塩化ベンジル(1.01g, 7.98 mmol)及びジクロロシラン(2.42g, 24.0 mmol)を、150℃で2時間にわたって反応させて0.29g(収率:19%)のベンジルジクロロシランを得た。
ベンジルジクロロシランのH−NMR(CDCl3, ppm): 2.76(s, J = 2.0 Hz, 2H, CH2), 5.54(t, J = 2.0 Hz, 1H, SiH), 7.18−7.37(m, 5H, ArH)
【0035】
実施例21:塩化4−フルオロベンジルとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.20g, 0.68 mmol)、塩化4−フルオロベンジル(1.00g, 0.92 mmol)及びトリクロロシラン(2.80g, 20.7 mmol)を、130℃で4時間にわたって反応させて1.19g(収率:82%)の(4−フルオロベンジル)トリクロロシランを得た。
(4−フルオロベンジル)トリクロロシランのH−NMR(CDCl3, ppm): 2.89(s, 2H, CH2), 7.00−7.20(m, 4H, ArH)
【0036】
実施例22:塩化4−クロロベンジルとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.22g, 0.75 mmol)、塩化4−クロロベンジル(1.21g, 7.51 mmol)及びトリクロロシラン(3.05g, 22.5 mmol)を、130℃で4時間にわたって反応させて1.37g(収率:81%)の(4−クロロベンジル)トリクロロシランを得た。
(4−クロロベンジル)トリクロロシランのH−NMR(CDCl3, ppm):2.93(s, 2H, CH2),
7.29−7.38(m, 4H, ArH)
【0037】
実施例23:塩化4−メトキシベンジルとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.19g, 0.64 mmol)、塩化4−メトキシベンジル(1.00g, 6.39 mmol)及びトリクロロシラン(2.46g, 18.2 mmol)を、130℃で4時間にわたって反応させて1.22g(収率:86%)の(4−メトキシベンジル)トリクロロシランを得た。
(4−メトキシベンジル)トリクロロシランのMS(70eV EI) m/z(相対強度):256(7), 254(7), 135(5), 133(5), 122(9), 121(100), 78(10), 77(8), 51(6)
【0038】
実施例24:塩化4−フェニルベンジルとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.22g, 0.75 mmol)、塩化4−フェニルベンジル(1.52g, 7.5 mmol)、10mlのベンゼン及びトリクロロシラン(3.05g, 22.5 mmol)を、150℃で2時間にわたって反応させて1.70g(収率:85%)の(4−フェニルベンジル)トリクロロシランを得た。
(4−フェニルベンジル)トリクロロシランのH−NMR(CDCl3, ppm): 2.90(s, 2H, CH2), 7.20−7.40(m, 9H, ArH)
【0039】
実施例25:塩化イソプロピルとトリクロロシランの反応(触媒:ノルマル塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法によりノルマル塩化テトラブチルホスホニウム触媒0.37g(1.25mmol)、塩化イソプロピル1.00g(12.73mmol)及びトリクロロシラン5.17g(38.20mmol)を、180℃で13時間にわたって反応させて1.72g(収率:76%)のイソプロピルトリクロロシランを得た。
イソプロピルトリクロロシランのH−NMR(CDCl3, ppm): 1.18〜1.20(d, 6H, (CH3)
2CH−), 1.49〜1.58(m, −CHSiCl3).
【0040】
実施例26:2−クロロブタンとトリクロロシランの反応(触媒:ノルマル塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法によりノルマル塩化テトラブチルホスホニウム触媒0.32g(1.09mmol)、2−クロロブタン1.00g(10.90 mmol)及びトリクロロシラン4.43g(32.71mmol)を、180℃で13時間にわたって反応させて0.82g(収率:39%)の2−トリクロロシリルブタンを得た。
2−トリクロロシリルブタンのMS (70eV EI) m/z (相対強度): 190(2), 139(4), 137(6), 135(16), 133(16), 98(4), 63(6), 57(100), 56(19), 41(25), 39(7).
【0041】
実施例27:塩化シクロペンチルとトリクロロシランの反応(触媒:ノルマル塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法によりノルマル塩化テトラブチルホスホニウム触媒0.29g(0.98mmol)、塩化シクロペンチル1.01g(9.66mmol)及びトリクロロシラン3.92g(28.94mmol)を、180℃で8時間にわたって反応させて0.43g(収率:22%)のシクロペンチルトリクロロシランを得た。
シクロペンチルトリクロロシランのMS (70eV EI) m/z (相対強度): 202(2), 176(11), 174(11), 135(14), 133(14), 69(100), 68(23), 67(14), 65(4), 63(5).
【0042】
実施例28:1−クロロエチルベンゼンとトリクロロシランの反応(触媒:ノルマル塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法によりノルマル塩化テトラブチルホスホニウム触媒0.20g(0.68mmol)、1−クロロエチルベンゼン0.96g(6.83mmol)及びトリクロロシラン2.71g(20.00mmol)を、150℃で6時間にわたって反応させて0.58g(収率:35%)の1−トリクロロシリルエチルベンゼンを得た。
1−トリクロロシリルエチルベンゼンのMS (70eV EI) m/z (相対強度): 238(10), 133(5), 106(12), 105(100), 103(10), 79(12), 77(14), 63(5), 51(6).
【0043】
実施例29:ジフェニル−1−クロロメタンとトリクロロシランの反応(触媒:ノルマル塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法によりノルマル塩化テトラブチルホスホニウム触媒0.14g(0.47mmol)とジフェニル−1−クロロメタン0.95g(4.69mmol)及びトリクロロシラン1.91g(14.10mmol)を、150℃で6時間にわたって反応させて0.31g(収率:22%)のジフェニル−1−トリクロロシリルメタンを得た。
ジフェニル−1−トリクロロシリルメタンのMS (70eV EI) m/z (相対強度): 300(8), 168(17), 167(100), 166(15), 165(39), 152(18), 133(3), 115(4), 63(5).
【0044】
実施例30:ジクロロメタンとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.44g, 1.50 mmol)、ジクロロメタン(0.64g, 7.5 mmol)及びトリクロロシラン(10.16g, 75.0 mmol)を、150℃で6時間にわたって反応させて少量のビス(トリクロロシリル)メタンが生成されたことを確認した。
【0045】
実施例31: 1,2−ジクロロエタンとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.44g, 1.50 mmol)、1,2−ジクロロエタン(0.74g, 7.5 mmol)及びトリクロロシラン(10.16g, 75.0 mmol)を、150℃で10時間にわたって反応させて1.09g(収率:54%)の1,2−ビス(トリクロロシリル)エタンを得た。
1,2−ビス(トリクロロシリル)エタンのH−NMR(CDCl3, ppm): 1.59(s, 4H, SiCH2)
【0046】
実施例32: 1,3−ジクロロプロパンとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.44g, 1.50 mmol)、1,3−ジクロロプロパン(0.85g, 7.5 mmol)及びトリクロロシラン(10.16g, 75.0 mmol)を、150℃で10時間にわたって反応させて0.22g(収率:14%)の(3−クロロプロピル)トリクロロシランと1.68g(収率:72%)の1,3−ビス(トリクロロシリル)プロパンを得た。
1,3−ビス(トリクロロシリル)プロパンの1H−NMR(CDCl3, ppm):d 1.56(m, 4H, SiCH2), 1.92(m, 2H, CH2)(3−クロロプロピル)トリクロロシランのH−NMR(CDCl3, ppm): 1.58(m, 2H, SiCH2), 2.06(m, 2H, CH2), 3.61(t, J = 6.48 Hz, 2H, CH2Cl)
【0047】
実施例33: 1−ブロモ−3−クロロプロパンとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.44g, 1.50 mmol)、1−ブロモ−3−クロロプロパン(1.18g, 7.50 mmol)及びトリクロロシラン(10.16g, 75.0 mmol)を、150℃で4時間にわたって反応させて0.16g(収率:10%)の(3−クロロプロピル)トリクロロシランと0.17g(収率:9%)の1,3−ビス(トリクロロシリル)プロパンを得た。
【0048】
実施例34: 1,4−ジクロロブタンとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0.44g, 1.50 mmol)、1,4−ジクロロブタン(0.95g, 7.50 mmol)及びトリクロロシラン(10.16g, 75.0 mmol)を、150℃で20時間にわたって反応させて2.02g(収率:83%)の1,4−ビス(トリクロロシリル)ブタンを得た。
1,4−ビス(トリクロロシリル)ブタンのH−NMR(CDCl3, ppm):1.46(m, 4H, SiCH2),
1.73(m, 4H, CH2)
【0049】
実施例35: 1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼンとトリクロロシランとの反応(触媒:塩化テトラブチルホスホニウム)
上記の実施例1と同様の方法により塩化テトラブチルホスホニウム(0. 059g, 0.20 mmol)、1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン(0.35g, 2.0 mmol)及びトリクロロシラン(1.35g, 10.0 mmol)を、150℃で2時間にわたって反応させて0.16g(収率:30%)の1−クロロメチル−4−(トリクロロシリルメチル)ベンゼンと0.19g(収率:25%)の1,4−ビス(トリクロロシリルメチル)ベンゼンを得た。
1−クロロメチル−4−(トリクロロシリルメチル)ベンゼンのMS(70eV EI) m/z(相対強度):274(23), 272(17), 241(37), 239(99), 238(17), 237(100), 139(33), 104(39), 103(32), 77(20)
1,4−ビス(トリクロロシリルメチル)ベンゼンのMS(70eV EI) m/z(相対強度):372(15), 241(38). 240(16), 239(99), 238(17), 237(100), 134(13), 132(14), 104(27), 103(19)
【0050】
【発明の効果】
上に述べたように、本発明は、従来の有機シランの製法とは異なって4級有機ホスホニウム塩を触媒として使用し、水素−珪素の結合を持つクロロシラン化合物及び有機ハロゲン化合物を脱ハロゲン化水素反応を通じて結合させて有機珪素化合物を合成することにより、従来の製法に比べて少量の触媒を使用し、また触媒を使用した後にその回収も容易であるので非常に経済的に高収率で有機シランを製造することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing an organic silane, more specifically, a quaternary organic phosphonium salt is used as a catalyst, and a chlorosilane compound having a hydrogen-silicon bond and an organic halogen compound are bonded through a dehydrohalogenation reaction. By synthesizing an organosilicon compound, a small amount of catalyst is used compared to the conventional method, and it is easy to collect and reuse without using another process after using the catalyst. It relates to an improved process which can be produced economically in high yield.
[0002]
[Prior art]
In general, an organosilane compound is a compound that is widely used as a raw material for silicon polymers. According to Benkecell et al., In 1969, benzyl chloride and 1,1,1-trichloroethane reacted with a 1: 1 mixture of trichlorosilane and trialkylamine, and dehydrochlorination reacted with a trichlorosilyl group instead of chloro. It has been reported that substituted compounds have been produced (Benkeser, RA: Gaul, JM: Smith, WE J. Am. Chem. Soc. 1969, 91, 3666). Later, in 1975, as a more advanced process for producing organosilanes, Japanese Furuya et al. Reacted allyl chloride with a 1: 1 mixture of trichlorosilane and trialkylamine, and used copper chloride as a catalyst. It has been reported that allyltrichlorosilane was obtained in high yield (Furuya, N .: Sukawa, T. J. Organomet. Chem. 1975, 96, Cl).
[0003]
In recent years, as a technology that uses a relatively improved catalyst for the synthesis of organosilane compounds, French scientists have reacted chloroform and trichlorosilane in the presence of excess tributylamine to produce bis (trichlorosilyl) methane. And tris (trichlorosilyl) methane have been synthesized (Corriu, R.J.P .: Granier, M .: Lanneau, GF. J. Organomet. Chem. 1998, 562, 79). As mentioned above, it is said that the known organic silane production methods generally bind only activated organic chlorides such as benzyl chloride and allyl chloride to trichlorosilane by a dehydrochlorination reaction. On the other hand, a method for synthesizing organosilane by a reaction using an organohalogen compound having no substituent that enhances the activity has not been known yet.
[0004]
Further, in the conventional method for producing organic silane, an excessive amount of tertiary amine having strong basicity is used as a catalyst component, so that hydrogen chloride generated during the reaction forms a salt with the amine. Therefore, in order to recover the amine used as a catalyst together with the economic burden due to the use of an excessive amount of catalyst, there are problems that are difficult to put into practical use in view of the large cost for neutralizing hydrogen chloride. .
As part of such research, the present inventor has come up with the idea that finding a catalyst to be reacted using a small amount is the key to improving the economics of the above process, and tertiary organic phosphine is about 10% of the reactants. In other words, an improved method for synthesizing organosilicon compounds by dehydrohalogenation reaction was invented when used as a non-reactant catalyst and the reaction temperature was raised to about 150 ° C. -13006 (April 13, 1999). After that, even when tertiary organic amine was used as a catalyst, the yield was lower than when tertiary organic phosphine was used, but the synthesis reaction of the target organic silane occurred even if a small amount of catalyst was used. The application was filed as Korean Patent Application No. 2000-13090 (March 15, 2000).
[0005]
However, in the case of the methods already developed by the present inventors, including the conventional method described above, a relatively small amount of tertiary organic amine or tertiary organic phosphine used as a catalyst is used as compared with the conventional catalyst. However, the desired dehydrohalogenation reaction was carried out in a yield similar to or higher than that of the prior art, and an economic effect could be expected. On the other hand, in the reaction in which an acid is generated, the above catalyst forms a salt with an acid and also forms a quaternary salt with an alkyl halide, so that the used catalyst is recovered after the reaction is completed, or a tertiary amine or There was a problem in reusing after reducing to tertiary phosphine.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, according to the prior art, an organosilicon compound having a chloromethyl group is a chlorosilane having a hydrogen-silicon bond in the presence of an organic base such as a tertiary organic amine or tertiary organic phosphine. It can be seen that it is produced by a dehydrohalogenation reaction. However, in this case, there is a disadvantage that it is difficult to reduce for reuse due to the formation of a salt, and it is necessary to develop a new catalyst to solve this. The present inventors have solved the conventional technical problems and searched for a catalyst that exhibits superior activity, but formed a salt with the acid obtained as a by-product in the reaction or the alkyl halide that is the starting material of the reaction. It was found that the use of a quaternary organic phosphine as a catalyst rather than a tertiary organic amine or tertiary organic phosphine to improve the economic efficiency of this step was completed.
Therefore, the present invention, unlike the prior art, uses a quaternary organic phosphonium salt as a catalyst, and combines a chlorosilane compound having a hydrogen-silicon bond and an organic halogen compound through a dehydrohalogenation reaction to synthesize an organic silicon compound. By using a small amount of catalyst, it can be easily recovered and reused without going through another process after using the catalyst, so that it can be manufactured in a very economical and high yield. Its purpose is to provide an improved method.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The present invention relates to a method for producing an organic silane by reacting a chlorosilane compound and an organic halogen compound using a catalyst, and the following catalyst having a hydrogen-silicon bond using a quaternary organic phosphonium salt as the catalyst. A chlorosilane compound represented by the following chemical formula 1 and an organic halogen compound represented by the following chemical formula 2 are combined by a dehydrohalogenation reaction to produce an organosilane compound represented by the following chemical formula 3. To do.
(1) HSiR1Cl2
(2) R2R3CHX
(3) R4R3CHSiR1Cl2
Reaction formula 1
HSiR1Cl2 + R2R3CHX → R4R3CHSiR1Cl2 + HX
[0008]
Where R1Is hydrogen, chloro or methyl; X is chloro or bromo; R2Is C1-17An alkyl group of C substituted with at least one fluoro1-10C having an alkyl group and an unsaturated bond2-5An alkenyl group of (CH2)nSiMe3-mClmWherein n is an integer of 0-2, m is an integer of 0-3, Ar (R1)q(In this case, Ar is C6-14Aromatic hydrocarbons; R1Is C1-4An alkyl group, a halogen, an alkoxy group or a vinyl group; q is an integer of 0-5), (CH2)pA haloalkyl group represented by X (where p is an integer of 1-9; X is chloro or bromo), or ArCH2A halomethyl aromatic group represented by X (At this time, Ar is C6-14R is an aromatic hydrocarbon; X is chloro or bromo); R3Is hydrogen, C1-6An alkyl group of Ar (R ′)q(In this case, Ar is C6-14R ′ is C1-4An alkyl group, halogen, alkoxy or vinyl, and q is an integer of 0-5); or R2And R3May be covalently linked together to form a cycloalkyl group such as cyclopentyl or cyclohexyl; R4Is R2The same except that R2Is an alkyl group substituted with a reactive halogen, (CH2)pX or ArCH2If X, R4Is (CH2)pSiR1Cl2Or ArCH2SiR1Cl2Can be.
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The present invention uses a quaternary organic phosphonium salt that has never been used as the above catalyst in a method for producing an organic silane by reacting a chlorosilane compound with an organic halogen compound using a conventional catalyst. The present invention provides an economical method in which organosilane is effectively produced and the catalyst can be easily recovered and reused.
In the present invention, the compound represented by the above chemical formula 1 and the halogen compound represented by the above chemical formula 2 are used in a reaction tank that can withstand pressure, and the quaternary organic phosphonium salt as a catalyst is converted into the compound represented by the above chemical formula 2. If the organic compound is heated to 10 to 250 ° C., preferably 100 to 200 ° C. with 1 to 100 mol%, preferably 5 to 20 mol%, the organic compound represented by the above chemical formula 3 as shown in the above reaction formula 1. Silane can be synthesized. At this time, the quaternary organic phosphonium salt used as a catalyst in the present invention has an excellent activity, not only an activated organic chloride such as benzyl chloride or allyl chloride, but also a simple organic halogen compound and An organosilicon compound having a halogen-substituted alkyl group is also bonded to a silane having a Si—H bond by a dehydrohalogenation reaction to produce the target organosilane.
[0010]
Accordingly, the present invention uses a quaternary organic phosphonium salt as a catalyst to react an organic compound substituted with a halogen element with a silane having a Si—H bond, thereby converting the halogen represented by the above chemical formula 2 into a silyl group. An organosilicon compound is synthesized by substituting In a typical synthesis process according to the present invention, a halogen-substituted organic compound represented by the above chemical formula 2 and a quaternary organic phosphonium salt are placed in a stainless steel reaction vessel that can withstand pressure under a nitrogen atmosphere. The reaction is performed by closing the lid after putting the chlorosilane compound represented. At this time, the chlorosilane compound represented by Chemical Formula 1 is desirably used in a molar ratio of 1 to 5 times with respect to the organic halogen represented by Chemical Formula 2. The quaternary organic phosphonium salt as a catalyst is used in an amount of 1 to 100 mol%, preferably 3 to 15 mol%, based on the compound represented by the above chemical formula 2. In this process, the reaction solvent may or may not use aromatic hydrocarbons depending on the reactants. The reaction temperature is maintained at 10 to 250 ° C., preferably 100 to 200 ° C., and the reaction is performed for 1 to 48 hours. When the reaction is completed, the target is obtained by opening the lid, discharging the hydrogen halide gas, and separating the product by distillation under normal or reduced pressure. When the organic phosphonium salt is fixed to a silicon resin, silica or zeolite, it is very convenient to recover and reuse after the reaction [Jung, I. et al. N. Cho, K .; D. Lim, J .; C. Yoo, B.B. R. US Patent 4,613,491].
[0011]
According to the present invention, in order to reuse the catalyst after producing and separating the product as described above, the residue remaining after separating the product can be used as a catalyst without going through another process. Therefore, the quaternary organic phosphonium salt used as a catalyst can be easily recovered. The recovery rate is up to 80%, and since it is recovered and reused, it is very advantageous economically.
Examples of the silane compound represented by Chemical Formula 1 used in the present invention include trichlorosilane, methyldichlorosilane, and dichlorosilane. Examples of the organic halogen compound represented by Chemical Formula 2 include 1-chlorooctane, 1-chloro-3,3,3-trifluoropropane, (chloromethyl) trichlorosilane, (chloromethyl) methyldichlorosilane, (chloromethyl) dimethylchlorosilane, (chloromethyl) trimethylsilane, (3-chloropropyl) trimethyl Silane, allyl chloride, allyl bromide, crotyl chloride, benzyl chloride, 4-fluorobenzyl chloride, 4-chlorobenzyl chloride, 4-methoxybenzyl chloride, 4-phenylbenzyl chloride, diphenyl-1-chloromethane, 1-chloroethylbenzene , Cyclopentyl chloride, 2-chloro Tan, isopropyl chloride, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,3-dichloropropane, 1-bromo-3-chloropropane, 1,4-dichloro butane, 1,4-bis (chloromethyl) benzene.
[0012]
Further, the catalyst component characteristically used according to the present invention is a quaternary organic phosphonium salt, and for example, a compound represented by the following chemical formula 4 or 5 can be used. (4) PR ”4X ’
Where X 'is chloro, bromo or iodo; R "is C1-12Alkyl group of1-6An aromatic group or a phenyl group containing two alkyl groups; two R ″ can be linked to each other by a covalent bond to have a cyclic structure, and each R ″ has the same or different structure be able to.
(5) XR "3P-Y-PR "3X ’
Where X 'is chloro, bromo or iodo; Y is C1-12Alkyl group of1-6An aromatic group containing an alkyl group, or an aromatic group; R ″ is C1-12Alkyl group of1-6An aromatic group containing an alkyl group, a phenyl group; two R ″ can be linked to each other by a covalent bond to have a cyclic structure, and each R ″ can have the same or different structure Can do.
[0013]
Specific examples of the quaternary organic phosphonium salt that is a catalyst used in the present invention include benzyltributylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium chloride, tetramethylphosphonium chloride, tetraethylphosphonium chloride, benzyltriphosphonium chloride, Further, quaternary phosphonium chloride, ethylene bis (benzyldimethylphosphonium chloride), triphenylphosphonium chloride, tributylphosphonium chloride and the like can be mentioned.
Such a catalyst according to the present invention is desirably used in a form immobilized on a silicone resin, silica, an inorganic support, an organic polymer or the like.
The organosilane compound represented by the above Chemical Formula 3 according to the present invention produced using the above-described components is produced, for example, as various silane compounds produced from the following Examples. The above-mentioned organosilane compounds are generally widely used in applications such as silicon polymer raw materials and silane binders.
[0014]
As described above, the present invention is a dehydrohalogenation reaction even when an inactive organohalogen compound is used using a quaternary organophosphonium salt as a catalyst that has not been applied to the production of an organosilane compound. An organosilane compound can be produced through the process. The above catalysts can be used in small amounts, can be easily recovered and reused, and the reaction proceeds in a relatively high yield not only with highly active organic chlorides but also with low activity organic halogen compounds. And Therefore, the present invention can be applied to the synthesis of various organosilicon compounds by a very economical and efficient method as compared with the prior art, and the process is very easy. Further, since the production cost is low, it can be widely used for the synthesis of polymers containing organic silicon.
The present invention will be described in more detail based on the following examples, but the present invention is not limited thereto.
[0015]
Example 1: Reaction of 1-chlorooctane with trichlorosilane (catalyst: benzyltributylphosphonium chloride)
After the oven-dried 25 ml stainless steel tube was cooled in the presence of nitrogen gas, benzyltributylphosphonium chloride (0.22 g, 0.67 mmol), 1-chlorooctane (1.00 g, 6.73 mmol) and trichlorosilane (2.71 g, 20.0 mmol) were added. After the reaction vessel was sealed with a lid and reacted at 170 ° C. for 2 hours, the reaction product was distilled under reduced pressure to obtain 1.45 g (yield: 87%) of n-octyltrichlorosilane.
MS (70 eV EI) m / z (relative intensity) of n-octyltrichlorosilane: 250 (1), 248 (3), 246 (4), 179 (12), 177 (35), 175 (34), 135 (53), 133 (54), 85 (100), 71 (57), 57 (98)
[0016]
Example 2: Reaction of 1-chlorooctane with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.20 g, 0.68 mmol), 1-chlorooctane (1.00 g, 6.73 mmol) and trichlorosilane (2.71 g, 20.0 mmol) were obtained. mmol) was reacted at 170 ° C. for 2 hours to obtain 1.42 g (yield: 85%) of n-octyltrichlorosilane.
[0017]
Example 3: Reaction of 1-chloro-3,3,3-trifluoropropane with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.20 g, 0.68 mmol), 1-chlorooctane (0.89 g, 6.72 mmol) and trichlorosilane (2.71 g, 20.0). mmol) was reacted at 150 ° C. for 10 hours to obtain 1.24 g (yield: 80%) of (3,3,3-trifluoropropyl) trichlorosilane.
MS of 3,3,3-trifluoropropyl) trichlorosilane (70 eV EI) m / z (relative intensity): 137 (24), 135 (71), 133 (72), 98 (11), 78 (87) , 77 (100), 69 (20), 63 (21), 59 (26), 51 (11)
[0018]
Example 4: Reaction of (chloromethyl) trichlorosilane with trichlorosilane (catalyst: benzyltributylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, benzyltributylphosphonium chloride (0.22 g, 0.67 mmol), (chloromethyl) trichlorosilane (1.23 g, 6.69 mmol) and trichlorosilane (2.71 g, 20 0.0 mmol) was reacted at 160 ° C. for 15 hours to obtain 1.13 g (yield: 68%) of 1,1,1,3,3,3-hexachloro-1,3-disilapropane.
Of 1,1,1,3,3,3-hexachloro-1,3-disilapropane1H-NMR (CDCl3, Ppm): d 1.87 (s, SiCH2Si)
[0019]
Example 5: Reaction of (chloromethyl) methyldichlorosilane with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1, tetrabutylphosphonium chloride (0.18 g, 0.61 mmol), (chloromethyl) methyldichlorosilane (1.00 g, 6.12 mmol) and trichlorosilane (2.52 g, 18.6 mmol) was reacted at 150 ° C. for 2 hours to obtain 0.96 g (yield: 60%) of 1,1,1,3,3-pentachloro-1,3-disilabutane.
Of 1,1,1,3,3-pentachloro-1,3-disilabutane1H-NMR (CDCl3, Ppm): d 0.94 (s, 3H, SiCH3), 1.58 (s, SiCH2Si)
[0020]
Example 6: Reaction of (chloromethyl) dimethylchlorosilane with trichlorosilane (catalyst: tetraethylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetraethylphosphonium chloride (0.27 g, 1.5 mmol), (chloromethyl) dimethylchlorosilane (2.15 g, 15.0 mmol) and trichlorosilane (6.10 g, 45.45). 0 mmol) was reacted at 150 ° C. for 10 hours to obtain 2.18 g (yield: 60%) of 1,1,1,3-tetrachloro-3-methyl-1,3-disilabutane.
H-NMR (CDCl) of tetrachloro-3-methyl-1,3-disilabutane3, Ppm): 0.62 (s, 6H, SiCH3), 1.28 (s, 2H, SiCH2Si)
[0021]
Example 7: Reaction of (chloromethyl) trimethylsilane with trichlorosilane (catalyst: benzyltriphenylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, benzyltriphenylphosphonium chloride (0.29 g, 0.75 mmol), (chloromethyl) trimethylsilane (0.92 g, 7.5 mmol) and trichlorosilane (3.05 g, 22.5 mmol) was reacted at 150 ° C. for 10 hours to obtain 1.20 g (yield: 72%) of 1,1,1-trichloro-3,3-dimethyl-1,3-disilabutane.
H-NMR (CDCl) of 1,1,1-trichloro-3,3-dimethyl-1,3-disilabutane3, Ppm): 0.25 (s, 9H, SiCH3), 0.85 (s, 2H, SiCH2Si)
[0022]
Example 8: Reaction of (3-chloropropyl) trimethylsilane with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.22 g, 0.75 mmol), (3-chloropropyl) trimethylsilane (1.13 g, 7.50 mmol) and trichlorosilane (3.05 g) , 22.5 mmol) was reacted at 150 ° C. for 10 hours to obtain 1.57 g (yield: 84%) of [3-trichlorosilylpropyl] trimethylsilane.
H-NMR of [3-trichlorosilylpropyl] trimethylsilane (CDCl3, Ppm): 0.02 (s, 9H, SiCH3), 0.06 (m, 2H, Me3SiCH2), 1.47 (m, 2H, CH2), 1.61 (m, 2H, CH2SiCl3)
[0023]
Example 9: Reaction of allyl chloride with trichlorosilane (catalyst: tetramethylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetramethylphosphonium chloride (0.16 g, 1.3 mmol), allyl chloride (1.00 g, 13.1 mmol) and trichlorosilane (5.31 g, 32.9 mmol) Was reacted at 150 ° C. for 2 hours to obtain 1.72 g (yield: 75%) of allyltrichlorosilane.
H-NMR (CDCl) of allyltrichlorosilane3, Ppm): 2.35-2.37 (d, 2H, CH2), 5.18-5.24 (m, 2H, CH2=), 5.71-5.85 (m, 1H, -CH =)
[0024]
Example 10: Reaction of allyl chloride with trichlorosilane (catalyst: immobilized quaternary phosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, the silicon resin [(RSiO3/2)n, R = [3- (tributylphosphonium) propyl] chloride], allyl chloride (1.00 g, 13.1 mmol) and trichlorosilane (5.31 g, 39.2 mmol) were reacted at 150 ° C. for 2 hours. 1.20 g (yield: 52%) of allyltrichlorosilane was obtained.
[0025]
Example 11: Reaction of allyl chloride with methyldichlorosilane (catalyst: tetraethylphosphonium chloride)
Tetraethylphosphonium chloride (0.24 g, 1.31 mmol), allyl chloride (1.00 g, 13.1 mmol) and trichlorosilane (4.52 g, 39.3 mmol) were added in the same manner as in Example 1 above. And reacted at 150 ° C. for 2 hours to obtain 0.45 g (yield: 22%) of allylmethyldichlorosilane.
MS (70 eV EI) m / z (relative intensity) of allylmethyldichlorosilane: 156 (13), 154 (18), 141 (13), 139 (20), 117 (13), 115 (70), 114 ( 9), 113 (100), 65 (7), 63 (22)
[0026]
Example 12: Reaction of allyl chloride with dichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.36 g, 1.22 mmol), allyl chloride (0.94 g, 12.3 mmol) and dichlorosilane (6.22 g, 61.6 mmol) Was reacted at 150 ° C. for 1 hour to obtain 0.38 g (yield: 22%) of allyldichlorosilane.
H-NMR (CDCl) of allyldichlorosilane3, Ppm): 2.17-2.19 (d, 2H, SiCH3), 5.13-5.18 (m, 2H, CH2=), 5.47 (t, J = 1.8 Hz, 1H, SiH), 5.71-5.85 (m, 1H, CH =)
[0027]
Example 13: Reaction of allyl bromide with trichlorosilane (catalyst: tetramethylphosphonium bromide)
In the same manner as in Example 1 above, tetramethylphosphonium bromide (0.21 g, 1.2 mmol), allyl bromide (1.50 g, 12.4 mmol) and trichlorosilane (5.04 g, 37.2). mmol) was reacted at 150 ° C. for 2 hours to obtain 1.85 g (yield: 85%) of allyldichlorosilane.
[0028]
Example 14: Reaction of crotyl chloride with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.32 g, 1.1 mmol), crotyl chloride (1.00 g, 11.1 mmol) and trichlorosilane (4.47 g, 33.0 mmol) Was reacted at 130 ° C. for 1 hour to obtain 1.04 g (yield: 50%) of crotiltrichlorosilane.
MS (70 eV EI) m / z (relative intensity) of crotiltrichlorosilane: 190 (7), 188 (7), 135 (10), 133 (10), 63 (7), 56 (6), 55 ( 100), 54 (11), 53 (8)
[0029]
Example 15: Reaction of benzyl chloride with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.23 g, 0.78 mmol), benzyl chloride (1.00 g, 7.90 mmol) and trichlorosilane (3.21 g, 23.7 mmol) Was reacted at 130 ° C. for 4 hours to obtain 1.48 g (yield: 83%) of benzyltrichlorosilane.
H-NMR (CDCl) of benzyltrichlorosilane3, Ppm): 2.17-2.19 (s, 2H, CH2), 7.29-7.36 (m, 5H, ArH)
[0030]
Example 16: Reaction of benzyl chloride with trichlorosilane (catalyst: benzyltributylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, benzyltributylphosphonium chloride (0.26 g, 0.79 mmol), benzyl chloride (1.00 g, 7.90 mmol) and trichlorosilane (3.21 g, 23.7 mmol) Was reacted at 150 ° C. for 2 hours to obtain 1.43 g (yield: 80%) of benzyltrichlorosilane.
[0031]
Example 17: Reaction of benzyl chloride with trichlorosilane (catalyst: benzyltriphenylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, benzyltriphenylphosphonium chloride (0.31 g, 0.80 mmol), benzyl chloride (1.00 g, 7.90 mmol) and trichlorosilane (3.21 g, 23.7 mmol) ) For 3 hours at 150 ° C. to give 0.07 g (yield: 4%) of benzyltrichlorosilane.
[0032]
Example 18: Reaction of benzyl chloride with trichlorosilane [Catalyst: Ethylenebis (benzyldimethylphosphonium chloride)]
In the same manner as in Example 1 above, ethylene bis (benzyldimethylphosphonium chloride) (0.16 g, 0.40 mmol), benzyl chloride (1.00 g, 7.90 mmol) and trichlorosilane (3.21 g, 23 0.7 mmol) was reacted at 150 ° C. for 2 hours to obtain 1.51 g (yield: 85) of benzyltrichlorosilane.
[0033]
Example 19: Reaction of benzyl chloride with methyldichlorosilane (catalyst: tributylphosphonium chloride)
Tributylphosphonium chloride (0.26 g, 0.79 mmol), benzyl chloride (1.00 g, 7.90 mmol) and methyldichlorosilane (2.73 g, 23.7 mmol) by the same method as in Example 1 above. Was reacted at 200 ° C. for 2 hours to obtain 0.39 g (yield: 24%) of benzylmethyldichlorosilane.
H-NMR (CDCl) of benzylmethyldichlorosilane3, Ppm): 0.96 (s, 3H, SiCH3), 2.85 (s, 2H, CH2), 7.29-7.36 (m, 5H, ArH)
[0034]
Example 20: Reaction of benzyl chloride with dichlorosilane (catalyst: benzyltributylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, benzyltributylphosphonium chloride (0.26 g, 0.79 mmol), benzyl chloride (1.01 g, 7.98 mmol) and dichlorosilane (2.42 g, 24.0 mmol) Was reacted at 150 ° C. for 2 hours to obtain 0.29 g (yield: 19%) of benzyldichlorosilane.
H-NMR (CDCl) of benzyldichlorosilane3, Ppm): 2.76 (s, J = 2.0 Hz, 2H, CH2), 5.54 (t, J = 2.0 Hz, 1H, SiH), 7.18-7.37 (m, 5H, ArH)
[0035]
Example 21: Reaction of 4-fluorobenzyl chloride with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.20 g, 0.68 mmol), 4-fluorobenzyl chloride (1.00 g, 0.92 mmol) and trichlorosilane (2.80 g, 20. 7 mmol) was reacted at 130 ° C. for 4 hours to give 1.19 g (yield: 82%) of (4-fluorobenzyl) trichlorosilane.
H-NMR (CDCl) of (4-fluorobenzyl) trichlorosilane3, Ppm): 2.89 (s, 2H, CH2), 7.00-7.20 (m, 4H, ArH)
[0036]
Example 22: Reaction of 4-chlorobenzyl chloride with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.22 g, 0.75 mmol), 4-chlorobenzyl chloride (1.21 g, 7.51 mmol) and trichlorosilane (3.05 g, 22. 5 mmol) was reacted at 130 ° C. for 4 hours to obtain 1.37 g (yield: 81%) of (4-chlorobenzyl) trichlorosilane.
H-NMR (CDCl) of (4-chlorobenzyl) trichlorosilane3, Ppm): 2.93 (s, 2H, CH2),
7.29-7.38 (m, 4H, ArH)
[0037]
Example 23: Reaction of 4-methoxybenzyl chloride with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.19 g, 0.64 mmol), 4-methoxybenzyl chloride (1.00 g, 6.39 mmol) and trichlorosilane (2.46 g, 18. 2 mmol) was reacted at 130 ° C. for 4 hours to give 1.22 g (yield: 86%) of (4-methoxybenzyl) trichlorosilane.
MS (70 eV EI) m / z (relative intensity) of (4-methoxybenzyl) trichlorosilane: 256 (7), 254 (7), 135 (5), 133 (5), 122 (9), 121 (100 ), 78 (10), 77 (8), 51 (6)
[0038]
Example 24: Reaction of 4-phenylbenzyl chloride with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.22 g, 0.75 mmol), 4-phenylbenzyl chloride (1.52 g, 7.5 mmol), 10 ml of benzene and trichlorosilane (3. (05 g, 22.5 mmol) was reacted at 150 ° C. for 2 hours to obtain 1.70 g (yield: 85%) of (4-phenylbenzyl) trichlorosilane.
H-NMR (CDCl) of (4-phenylbenzyl) trichlorosilane3, Ppm): 2.90 (s, 2H, CH2), 7.20-7.40 (m, 9H, ArH)
[0039]
Example 25: Reaction of isopropyl chloride and trichlorosilane (catalyst: normal tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1, 0.37 g (1.25 mmol) of a normal tetrabutylphosphonium chloride catalyst, 1.00 g (12.73 mmol) of isopropyl chloride and 5.17 g (38.20 mmol) of trichlorosilane were added at 180 ° C. For 13 hours to obtain 1.72 g (yield: 76%) of isopropyltrichlorosilane.
H-NMR (CDCl) of isopropyltrichlorosilane3, Ppm): 1.18-1.20 (d, 6H, (CH3)
2CH-), 1.49 to 1.58 (m, -CHSiCl3).
[0040]
Example 26: Reaction of 2-chlorobutane with trichlorosilane (catalyst: normal tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, 0.32 g (1.09 mmol) of normal tetrabutylphosphonium chloride catalyst, 1.00 g (10.90 mmol) of 2-chlorobutane and 4.43 g (32.71 mmol) of trichlorosilane were obtained. The reaction was carried out at 180 ° C. for 13 hours to obtain 0.82 g (yield: 39%) of 2-trichlorosilylbutane.
MS (70 eV EI) m / z (relative intensity) of 2-trichlorosilylbutane: 190 (2), 139 (4), 137 (6), 135 (16), 133 (16), 98 (4), 63 (6), 57 (100), 56 (19), 41 (25), 39 (7).
[0041]
Example 27: Reaction of cyclopentyl chloride with trichlorosilane (catalyst: normal tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, 0.29 g (0.98 mmol) of normal tetrabutylphosphonium chloride catalyst, 1.01 g (9.66 mmol) of cyclopentyl chloride and 3.92 g (28.94 mmol) of trichlorosilane were added at 180 ° C. For 8 hours to obtain 0.43 g (yield: 22%) of cyclopentyltrichlorosilane.
MS (70 eV EI) m / z (relative intensity) of cyclopentyltrichlorosilane: 202 (2), 176 (11), 174 (11), 135 (14), 133 (14), 69 (100), 68 (23 ), 67 (14), 65 (4), 63 (5).
[0042]
Example 28: Reaction of 1-chloroethylbenzene and trichlorosilane (catalyst: normal tetrabutylphosphonium chloride)
By the same method as in Example 1 above, 0.20 g (0.68 mmol) of normal tetrabutylphosphonium chloride catalyst, 0.96 g (6.83 mmol) of 1-chloroethylbenzene and 2.71 g (20.00 mmol) of trichlorosilane were obtained. Reaction was performed at 150 ° C. for 6 hours to obtain 0.58 g (yield: 35%) of 1-trichlorosilylethylbenzene.
MS of 1-trichlorosilylethylbenzene (70 eV EI) m / z (relative intensity): 238 (10), 133 (5), 106 (12), 105 (100), 103 (10), 79 (12), 77 (14), 63 (5), 51 (6).
[0043]
Example 29: Reaction of diphenyl-1-chloromethane and trichlorosilane (catalyst: normal tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, normal tetrabutylphosphonium chloride catalyst 0.14 g (0.47 mmol), diphenyl-1-chloromethane 0.95 g (4.69 mmol) and trichlorosilane 1.91 g (14.10 mmol) Was reacted at 150 ° C. for 6 hours to obtain 0.31 g (yield: 22%) of diphenyl-1-trichlorosilylmethane.
MS (70 eV EI) m / z (relative intensity) of diphenyl-1-trichlorosilylmethane: 300 (8), 168 (17), 167 (100), 166 (15), 165 (39), 152 (18) 133 (3), 115 (4), 63 (5).
[0044]
Example 30: Reaction of dichloromethane with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.44 g, 1.50 mmol), dichloromethane (0.64 g, 7.5 mmol) and trichlorosilane (10.16 g, 75.0 mmol) were added. The mixture was reacted at 150 ° C. for 6 hours to confirm that a small amount of bis (trichlorosilyl) methane was produced.
[0045]
Example 31: Reaction of 1,2-dichloroethane with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.44 g, 1.50 mmol), 1,2-dichloroethane (0.74 g, 7.5 mmol) and trichlorosilane (10.16 g, 75.75). 0 mmol) was reacted at 150 ° C. for 10 hours to obtain 1.09 g (yield: 54%) of 1,2-bis (trichlorosilyl) ethane.
H-NMR (CDCl) of 1,2-bis (trichlorosilyl) ethane3, Ppm): 1.59 (s, 4H, SiCH2)
[0046]
Example 32: Reaction of 1,3-dichloropropane with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.44 g, 1.50 mmol), 1,3-dichloropropane (0.85 g, 7.5 mmol) and trichlorosilane (10.16 g, 75 0.0 mmol) is reacted at 150 ° C. for 10 hours to yield 0.22 g (yield: 14%) of (3-chloropropyl) trichlorosilane and 1.68 g (yield: 72%) of 1,3- Bis (trichlorosilyl) propane was obtained.
Of 1,3-bis (trichlorosilyl) propane1H-NMR (CDCl3, Ppm): d 1.56 (m, 4H, SiCH2), 1.92 (m, 2H, CH2) (3-chloropropyl) trichlorosilane H-NMR (CDCl3, Ppm): 1.58 (m, 2H, SiCH2), 2.06 (m, 2H, CH2), 3.61 (t, J = 6.48 Hz, 2H, CH2Cl)
[0047]
Example 33: Reaction of 1-bromo-3-chloropropane with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.44 g, 1.50 mmol), 1-bromo-3-chloropropane (1.18 g, 7.50 mmol) and trichlorosilane (10.16 g, 75.0 mmol) is reacted at 150 ° C. for 4 hours to give 0.16 g (yield: 10%) of (3-chloropropyl) trichlorosilane and 0.17 g (yield: 9%) of 1,3 -Bis (trichlorosilyl) propane was obtained.
[0048]
Example 34: Reaction of 1,4-dichlorobutane with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.44 g, 1.50 mmol), 1,4-dichlorobutane (0.95 g, 7.50 mmol) and trichlorosilane (10.16 g, 75 0.0 mmol) was reacted at 150 ° C. for 20 hours to obtain 2.02 g (yield: 83%) of 1,4-bis (trichlorosilyl) butane.
H-NMR (CDCl) of 1,4-bis (trichlorosilyl) butane3, Ppm): 1.46 (m, 4H, SiCH2),
1.73 (m, 4H, CH2)
[0049]
Example 35: Reaction of 1,4-bis (chloromethyl) benzene with trichlorosilane (catalyst: tetrabutylphosphonium chloride)
In the same manner as in Example 1 above, tetrabutylphosphonium chloride (0.059 g, 0.20 mmol), 1,4-bis (chloromethyl) benzene (0.35 g, 2.0 mmol) and trichlorosilane (1 .35 g, 10.0 mmol) is reacted at 150 ° C. for 2 hours to give 0.16 g (yield: 30%) of 1-chloromethyl-4- (trichlorosilylmethyl) benzene and 0.19 g (yield). : 25%) of 1,4-bis (trichlorosilylmethyl) benzene.
MS (70 eV EI) of 1-chloromethyl-4- (trichlorosilylmethyl) benzene m / z (relative intensity): 274 (23), 272 (17), 241 (37), 239 (99), 238 (17 ), 237 (100), 139 (33), 104 (39), 103 (32), 77 (20)
MS (70 eV EI) m / z (relative intensity) of 1,4-bis (trichlorosilylmethyl) benzene: 372 (15), 241 (38). 240 (16), 239 (99), 238 (17), 237 (100), 134 (13), 132 (14), 104 (27), 103 (19)
[0050]
【The invention's effect】
As described above, the present invention uses a quaternary organic phosphonium salt as a catalyst unlike conventional organic silane production methods, and dehydrohalogenates chlorosilane compounds and organic halogen compounds having a hydrogen-silicon bond. By synthesizing organosilicon compounds by bonding through the reaction, a small amount of catalyst is used compared to the conventional production method, and it is easy to recover the catalyst after using it. Silanes can be produced.
Claims (8)
(1) HSiR1Cl2
(2) R2R3CHX
(3) R4R3CHSiR1Cl2
上記の化学式1と3において、R1は水素、クロロ或はメチル基であり;
上記の化学式2において、Xはクロロ、或はブロモ;R2はC1−17のアルキル基、少なくとも1つのフルオロで置換されたC1−10のアルキル基、不飽和結合を有するC2−5のアルケニル基、(CH2)nSiMe3−mClmで表されるアルキル基(この時、nは0−2の整数、mは0−3の整数である)、Ar(R’)qで表される芳香族基(この時、ArはC6−14の芳香族の炭化水素であり;R’はC1−4のアルキル基、ハロゲン、アルコキシ基或はビニル基であり;qは0−5の整数である)、(CH2)pXで表されるハロアルキル基(この時、pは1−9の整数であり;Xはクロロ或はブロモである)、あるいはArCH2Xで表されるハロメチル芳香族基(この時、ArはC6−14の芳香族の炭化水素であり;;Xはクロロ或はブロモである)であり、R3は水素、C1−6のアルキル基、Ar(R’)qで表される芳香族基(この時、ArはC6−14の芳香族炭化水素であり、R’はC1−4のアルキル基、ハロゲン、アルコキシまたはビニルであり、qは0−5の整数である)であり;またはR2とR3は互いに共有結合で連結されてシクロアルキル基を形成してもよく;R4はR2と同じであるが、但し、R2が反応性のあるハロゲンが置換されたアルキル基である、(CH2)pXまたはArCH2Xである場合、R4は(CH2)pSiR1Cl2、あるいはArCH2SiR1Cl2であることができる。In a method for producing an organic silane by reacting a chlorosilane compound and an organic halogen compound using a catalyst, a quaternary organic phosphonium salt is used as the catalyst, and the following chemical formula 1 having a hydrogen-silicon bond: An organic silane compound represented by the following chemical formula 3 is produced by bonding a chlorosilane compound represented by the following formula 2 and an organic halogen compound represented by the following chemical formula 2 by a dehydrohalogenation reaction: Manufacturing method.
(1) HSiR 1 Cl 2
(2) R 2 R 3 CHX
(3) R 4 R 3 CHSiR 1 Cl 2
In the above chemical formulas 1 and 3, R 1 is hydrogen, chloro or methyl group;
In the above chemical formula 2, X is chloro or bromo; R 2 is a C 1-17 alkyl group, a C 1-10 alkyl group substituted with at least one fluoro, C 2-5 having an unsaturated bond , An alkyl group represented by (CH 2 ) n SiMe 3-m Cl m (where n is an integer of 0-2, m is an integer of 0-3), Ar (R ′ ) q Wherein Ar is a C 6-14 aromatic hydrocarbon; R ′ is a C 1-4 alkyl group, halogen, alkoxy group or vinyl group; q is A haloalkyl group represented by (CH 2 ) p X (wherein p is an integer of 1-9; X is chloro or bromo), or ArCH 2 X represented by halomethyl aromatic group (when this, Ar is the aromatic C 6-14 Of hydrogen ;; X is chloro or bromo), R 3 is hydrogen, an alkyl group of C 1-6, Ar (R ') when the aromatic group (this represented by q, Ar is A C 6-14 aromatic hydrocarbon, R ′ is a C 1-4 alkyl group, halogen, alkoxy or vinyl, and q is an integer of 0-5; or R 2 and R 3 may form is covalently linked to each other cycloalkyl groups; but R 4 is the same as R 2, however, an alkyl group halogen R 2 is reactive is substituted, (CH 2) If a p X or ArCH 2 X, R 4 can be a (CH 2) p SiR 1 Cl 2 or ArCH 2 SiR 1 Cl 2,.
(4) PR”4X’
式中、 X’はクロロ、ブロモ或はヨードであり; R”はC1−12のアルキル基、C1−6のアルキル基が含まれた芳香族基、あるいはフェニル基であり;2つのR”は互いに共有結合により連結されて環形構造を持つことができ、それぞれのR”は互いに同じ、又は異なる構造を持つことができる。The method for producing an organic silane according to claim 1, wherein a compound represented by the following chemical formula 4 is used as the quaternary organic phosphonium salt.
(4) PR " 4 X '
X ′ is chloro, bromo or iodo; R ″ is a C 1-12 alkyl group, an aromatic group containing a C 1-6 alkyl group, or a phenyl group; "" Can be linked to each other by a covalent bond to have a cyclic structure, and each R "can have the same or different structure.
(5) X’R”3P−Y−PR”3X’
式中、 X’はクロロ、ブロモ或はヨードであり; YはC1−12のアルキル基、C1−6のアルキル基が含まれた芳香族基、あるいは芳香族基であり;R”はC1−12のアルキル基、C1−6のアルキル基が含まれた芳香族基、フェニル基であり;2つのR”は互いに共有結合により連結されて環形構造を持つことができ、それぞれのR”は互いに同じ、または異なる構造を持つことができる。The method for producing an organic silane according to claim 1, wherein a compound represented by the following chemical formula 5 is used as the quaternary organic phosphonium salt.
(5) X'R "3 P- Y-PR" 3 X '
Wherein X ′ is chloro, bromo or iodo; Y is a C 1-12 alkyl group, an aromatic group containing a C 1-6 alkyl group, or an aromatic group; R ″ is A C 1-12 alkyl group, an aromatic group containing a C 1-6 alkyl group, and a phenyl group; two R ″ can be covalently linked to each other to have a cyclic structure, R ″ may have the same or different structures.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20000064692 | 2000-11-01 | ||
KR0064692 | 2000-11-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002167391A JP2002167391A (en) | 2002-06-11 |
JP3612504B2 true JP3612504B2 (en) | 2005-01-19 |
Family
ID=19696712
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001236143A Expired - Fee Related JP3612504B2 (en) | 2000-11-01 | 2001-08-03 | Method for producing organosilane |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3612504B2 (en) |
KR (1) | KR100453211B1 (en) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101222428B1 (en) * | 2004-08-31 | 2013-01-15 | 질렉스 오와이 | Novel polyorganosiloxane dielectric materials |
KR100974037B1 (en) * | 2008-04-25 | 2010-08-04 | 제이에스아이실리콘주식회사 | Novel silyl substituted 1,4-disilacyclohexane derivatives and preparation method thereof |
KR100928942B1 (en) | 2008-05-26 | 2009-11-30 | 제이에스아이실리콘주식회사 | Preparation method of linear and cyclic trisilaalkanes |
KR101263789B1 (en) * | 2009-07-13 | 2013-05-13 | 제이에스아이실리콘주식회사 | Organo hydrochlorosilanes and method of preparing the same |
KR101719340B1 (en) * | 2016-01-27 | 2017-03-23 | 제이에스아이실리콘주식회사 | A Silicone Coupling Agent having Hydrophilic and Hydrophobic Groups for Invisible Fingerprint Coating and a Method for Producing the Same |
EP3781578B1 (en) * | 2018-09-06 | 2021-10-27 | Wacker Chemie AG | Method for the dehydrogenation of dichlorosilane |
WO2020123310A1 (en) * | 2018-12-10 | 2020-06-18 | Entegris, Inc. | Preparation of triiodosilanes |
KR102509228B1 (en) * | 2020-08-18 | 2023-03-13 | 제이에스아이실리콘주식회사 | (ALKYL)ARENES AND A Method for Producing the Same |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE443966B (en) * | 1984-07-31 | 1986-03-17 | Tetra Dev Co | SET AND DEVICE FOR PACKAGING MACHINE |
US4725420A (en) * | 1985-09-25 | 1988-02-16 | Toa Nenryo Kogyo Kabushiki Kaisha | Process for the production of silanes |
JP2795122B2 (en) * | 1993-02-25 | 1998-09-10 | 信越化学工業株式会社 | Method for recovering tert-butyldimethylchlorosilane |
DE19544730A1 (en) * | 1995-11-30 | 1997-06-05 | Wacker Chemie Gmbh | Process for the preparation of SiH-containing organylchlorosilanes |
KR100306574B1 (en) * | 1999-04-13 | 2001-09-13 | 박호군 | Dehydrohalogenative coupling reaction of alkyl halides with silane |
KR100356692B1 (en) * | 2000-03-15 | 2002-10-18 | 한국과학기술연구원 | Preparation method of organosilanes by dehydrochlorinative reaction |
-
2001
- 2001-07-20 KR KR10-2001-0043753A patent/KR100453211B1/en not_active IP Right Cessation
- 2001-08-03 JP JP2001236143A patent/JP3612504B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100453211B1 (en) | 2004-10-15 |
KR20020034849A (en) | 2002-05-09 |
JP2002167391A (en) | 2002-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101263789B1 (en) | Organo hydrochlorosilanes and method of preparing the same | |
KR940010291B1 (en) | Bis(silyl)alkanes and process for the preparation thereof | |
KR950002860B1 (en) | Chloroakdenylsilanes and its method of preparation | |
JP3612504B2 (en) | Method for producing organosilane | |
US6392077B1 (en) | Process for preparing organochlorosilanes by dehydrohalogenative coupling reaction of alkyl halides with chlorosilanes | |
US6251057B1 (en) | Dehydrohalogenative coupling reaction of organic halides with silanes | |
JP4336674B2 (en) | (Organic thiomethyl) chlorosilane derivative and method for producing the same | |
JPH0753570A (en) | Organopolysiloxane containing silanol group and its production | |
KR100306574B1 (en) | Dehydrohalogenative coupling reaction of alkyl halides with silane | |
JP5474945B2 (en) | Method for producing linear and cyclic trisilaalkanes | |
KR100356692B1 (en) | Preparation method of organosilanes by dehydrochlorinative reaction | |
JP2011518822A (en) | Novel 1,4-disilacyclohexane derivative and process for producing the same | |
KR102585616B1 (en) | Dehydrogenation method of dichlorosilane | |
KR100491960B1 (en) | Double Silylation of Unsaturated Organic Compounds with Trichlorosilane | |
KR20200015644A (en) | Process for Preparing Polysilylalkane | |
JP4001282B2 (en) | Process for producing organosilicon compounds by silylation reaction of conjugated dienes | |
KR20160036020A (en) | Process for Preparing Polysilylalkane | |
KR20150101288A (en) | Process for Preparing Polysilylalkane | |
KR950004175B1 (en) | Tris(silyl)alkanes and method of preparing the same | |
JPH11322935A (en) | Manufacture of organosiloxane from monohalosilane | |
JP2010531832A (en) | Method for converting Si-H compound to Si-halogen compound | |
JP2000026475A (en) | Production of organic silicon compound |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040929 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041012 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041025 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071029 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081029 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091029 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |