JP3609106B2 - Thin film magnetic head element assembly - Google Patents

Thin film magnetic head element assembly Download PDF

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、一枚のウエハ上に多数の薄膜磁気ヘッド要素が整列状態に形成された薄膜磁気ヘッド要素集合体に関するものである。さらに詳しくは、このような薄膜磁気ヘッド要素集合体において、各要素の電磁変換部とそれに隣接する要素の電磁変換部の間隔が各電磁変換部において実質的に等しくなるように、各要素を配置することにより、特に上部磁性膜を形成するためのホトリソグラフィー工程において、ホトレジストの塗布厚さを均一化できるようにしたものである。
【0002】
【従来の技術】
薄膜磁気ヘッドの製造に当たっては、セラミック構造体からなるウエハ上に多数個の薄膜磁気ヘッド素子を整列状態に形成した薄膜磁気ヘッド集合体を製造し、この集合体を切断加工して、薄膜磁気ヘッド要素の単体を備えたスライダを製造する方法が採用されている。
【0003】
薄膜磁気ヘッドとしては、例えば図3に示す浮上型薄膜磁気ヘッドが知られている。薄膜磁気ヘッド1は、セラミック構造体からなるスライダ2の媒体対向面側に、間隔を置いて2本のレール部201、202が形成され、レール部201、202の表面を硬度の平面度を有する浮上面203、204とすると共に、レール部201の空気流出方向aの端部205に薄膜磁気ヘッド要素3が形成されている。この薄膜磁気ヘッド要素3は、電磁変換部3Aと、ここから導出されている二本の外部導体接続用のパッド部3B、3Cを備えている。
【0004】
図4には、上記の薄膜磁気ヘッド要素3の電磁変換部3Aの一般的な構成例を示してある。この薄膜磁気ヘッド要素3は集積回路製造技術を用いて形成された薄膜素子である。この図において、31はパーマロイ等からなる下部磁性膜、32は絶縁ギャップ層、33、34は導体コイル膜、35から37はホトレジスト等により形成した層間絶縁膜、38は上部磁性膜である。薄膜磁気ヘッド要素3の導体コイル膜33、34は、保護膜4の表面に形成された外部導体接続用のパッド部3B、3Cに導通接続されている。薄膜磁気ヘッド要素としては、この構成の面内記録再生用の他に、垂直記録再生用のものも知られている。
【0005】
上記構成の薄膜磁気ヘッドは、多数個の薄膜磁気ヘッド要素3をウエハ上に形成した後に、これを切断加工することによって製造している。すなわち、図5に示すように、スライダとなるウエハ5の上に薄膜磁気ヘッド要素3を整列して担持させ、各薄膜磁気ヘッド要素のパッド部(3B、3C)をウエハ5上の保護膜4の表面に導出させて、薄膜磁気ヘッド要素集合体6を製造する。各薄膜磁気ヘッド要素3はマトリックス状態に配列されている。
【0006】
ウエハ5から薄膜磁気ヘッド1を取り出すには、先ず、列H1からHnのそれぞれの間に設定された切断位置(X1−X1からXn−Xn)でウエハ5を切断して、図6に示すような一列状の薄膜磁気ヘッド要素集合体1Aを切り出す。この図6には、切断位置(X4−X4)と切断位置(X5−X5)で切断された列H4の薄膜磁気ヘッド集合体1Aを示している。この後、切り出された薄膜磁気ヘッド要素集合体1Aに対し研磨加工等を施した後に、これを切断位置Y1からYnで切断して、個々の薄膜磁気ヘッド1を得る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のように薄膜磁気ヘッド要素を配列した薄膜磁気ヘッド要素集合体においては次のような問題点がある。図7を参照して説明すると、従来のように各薄膜磁気ヘッド要素3をマトリックス状態に整列した場合には、隣接する各要素3における電磁変換部3A相互間の距離が列方向(X方向)とそれに直交する行方向(Y方向)とでは異なっている。今、図において要素3(3)を例に挙げて説明すると、列方向に隣接する要素3(2)、3(4)の電磁変換部3(2)A、3(4)Aとの中心間距離b、dは相互に等しく充分な間隔となっている。これに対して、行方向に隣接する要素3(5)、3(6)の電磁変換部3(5)A、3(6)Aとの中心間距離a、cは狭くなっている。
【0008】
このような方向によって電磁変換部の間隔が異なると、要素3の上部磁性膜などを形成するプロセスにおいてホトレジスト膜をスピンコーティングする場合に、行方向と列方向とでは、段差部分等におけるレジスト膜の流動抵抗が異なってしまい、均一な厚さのレジスト膜を形成することが困難になる。レジスト膜の厚さを均一にできないと、所望のパターニングを行うことができないという問題が発生する。本発明の課題はこのような従来の問題点を解消することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記(1)の本発明により達成される。
(1) 一枚のウエハ上に、フォトレジスト膜をスピンコーティングにより形成する工程を含み、電磁変換部および外部導体接続用のパッド部を含む薄膜磁気ヘッド要素を複数個マトリックス状に整列した状態に形成し、保護膜をその上に形成する薄膜磁気ヘッド要素集合体の製造方法において、
前記薄膜磁気ヘッド要素を列方向および行方向に複数個配列し、
各薄膜磁気ヘッド要素の対応するパッド部をそれぞれ列方向に向けて同一方向に導出し、
各列に属する薄膜磁気ヘッド要素を、各列にて、その電磁変換部の中心間隔が等しくなるように整列し、
1列おいた列に属する相隣る2個づつの薄膜磁気ヘッド要素の電磁変換部の中心が矩形を形成するようにし、その面心位置に、中間の列の薄膜磁気ヘッド要素の電磁変換部の中心を配置し、
その面心位置からみて、相互に隣接する列に属する薄膜磁気ヘッド要素間における電磁変換部の中心間隔を等しくすることを特徴とする薄膜磁気ヘッド要素集合体の製造方法。
【0010】
【作用】
このようにウエハ5上に各薄膜磁気ヘッド要素3を配列した場合には、薄膜磁気ヘッド要素の上部磁性膜等を形成するためのホトレジスト膜の塗布工程等において、ホトレジスト膜の流動抵抗がウエハ上の各方向において実質的に均一化することができる。
【0011】
【実施例】
上記の課題を解決するために、本発明では、一枚のウエハの表面に多数の薄膜磁気ヘッド要素を整列して形成した薄膜磁気ヘッド要素集合体において、各薄膜磁気ヘッド要素を次のような状態にウエハ上に配列するようにしている。
【0012】
図1および図2に示すように、一枚のウエハ5の表面に多数の薄膜磁気ヘッド要素3(m,n)を整列して形成した薄膜磁気ヘッド要素集合体1において、各薄膜磁気ヘッド要素3(m,n)のパッド部3B、3Cを薄膜磁気ヘッド要素の配列方向Xに向けて同一方向に導出すると共に、相互に隣接する列に属する隣接薄膜磁気ヘッド要素間における電磁変換部3Aの中心間距離a、b、c、dが実質的に等しくなるようにしている。
【0013】
隣接する電磁変換部3A相互の中心間隔が等しくなるようにするためには、図2から分かるように、各薄膜磁気ヘッド要素3(m,n)を行方向Yにおいて千鳥状となるように配列すればよい。例えば、列H2に属する薄膜ヘッド要素3(2,3)を中心にして説明すると、これに隣接する異なる列に属する要素は、列H1に属する要素3(1,2)、3(1,3)および列H3に属する要素3(3,2)、3(3,3)である。薄膜磁気ヘッド要素3(2,3)の電磁変換部3Aの中心から、これらの各要素3(1,2)、3(3,2)、3(3,3)および3(1,3)の各電磁変換部の中心までの距離a、b、cおよびdが等しくなるように、隣接する列間において各要素を千鳥状に配列する。
【0014】
以上説明した実施例においては、記録および再生を1つの電磁変換部で行う磁気ヘッドの例について説明したが、最近、再生用としてMR素子を用いたインダクティブ−MR複合型薄膜磁気ヘッドの使用が提案されている。本発明は、このようなインダクティブ−MR複合型薄膜磁気ヘッドへももちろん適用可能である。この場合、インダクティブをMRの両者の素子から1組ずつパッド部が導出しているが、それぞれのパッド部を構成する2本のリードは、電磁変換部を通る中心線を中央にして左右に振り分けられた構造とされるのが通常である。
【0015】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の薄膜磁気ヘッド要素集合体においては、各薄膜磁気ヘッド要素のパッド部を薄膜磁気ヘッド要素の配列方向に向けて同一方向に導出すると共に、相互に隣接する列に属する隣接薄膜磁気ヘッド要素間における電磁変換部の中心間距離が実質的に等しくなるようにしている。したがって、本発明によれば、各要素の薄膜形成工程におけるホトレジストの塗布厚を各部分において均一化でき、したがって、磁気特性の安定した薄膜磁気ヘッド集合体を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る薄膜磁気ヘッド要素集合体を模式的に示す斜視図である。
【図2】図1の薄膜磁気ヘッド要素集合体の薄膜磁気ヘッド要素の配列を示す部分拡大平面図である。
【図3】一般的な構成の薄膜磁気ヘッド要素を示す斜視図である。
【図4】図3の薄膜磁気ヘッドの電磁変換部を示す部分拡大断面図である。
【図5】従来の薄膜磁気ヘッド要素集合体を模式的に示す斜視図である。
【図6】図5の薄膜磁気ヘッド要素集合体から一列の薄膜磁気ヘッド集合体を切り出した状態を示す斜視図である。
【図7】図5の薄膜磁気ヘッド要素集合体の薄膜磁気ヘッド要素の配列を示す説明図である。
【符号の説明】
1 … 薄膜磁気ヘッド要素集合体
3(m,n) … 薄膜磁気ヘッド要素
3a … 電磁変換部
3B、3C … パッド部
5 … ウエハ
[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a thin film magnetic head element assembly in which a large number of thin film magnetic head elements are formed in alignment on a single wafer. More specifically, in such a thin film magnetic head element assembly, each element is arranged such that the distance between the electromagnetic conversion part of each element and the electromagnetic conversion part of the adjacent element is substantially equal in each electromagnetic conversion part. Thus, the photoresist coating thickness can be made uniform, particularly in the photolithography process for forming the upper magnetic film.
[0002]
[Prior art]
In manufacturing a thin film magnetic head, a thin film magnetic head assembly in which a large number of thin film magnetic head elements are formed in an aligned state on a wafer made of a ceramic structure is manufactured, and the assembly is cut and processed. A method of manufacturing a slider having a single element is employed.
[0003]
As a thin film magnetic head, for example, a floating thin film magnetic head shown in FIG. 3 is known. In the thin film magnetic head 1, two rail portions 201 and 202 are formed on a medium facing surface side of a slider 2 made of a ceramic structure at an interval, and the surfaces of the rail portions 201 and 202 have a flatness of hardness. In addition to the air bearing surfaces 203 and 204, the thin film magnetic head element 3 is formed at the end portion 205 of the rail portion 201 in the air outflow direction a. The thin film magnetic head element 3 includes an electromagnetic conversion portion 3A and two external conductor connecting pad portions 3B and 3C derived therefrom.
[0004]
FIG. 4 shows a general configuration example of the electromagnetic conversion unit 3A of the thin film magnetic head element 3 described above. The thin film magnetic head element 3 is a thin film element formed by using an integrated circuit manufacturing technique. In this figure, 31 is a lower magnetic film made of permalloy or the like, 32 is an insulating gap layer, 33 and 34 are conductor coil films, 35 to 37 are interlayer insulating films formed of photoresist or the like, and 38 is an upper magnetic film. The conductor coil films 33 and 34 of the thin-film magnetic head element 3 are conductively connected to external conductor connecting pads 3B and 3C formed on the surface of the protective film 4. As a thin-film magnetic head element, in addition to the in-plane recording / reproducing of this configuration, a perpendicular recording / reproducing element is also known.
[0005]
The thin film magnetic head having the above-described structure is manufactured by forming a large number of thin film magnetic head elements 3 on a wafer and then cutting them. That is, as shown in FIG. 5, the thin film magnetic head element 3 is aligned and supported on a wafer 5 serving as a slider, and the pad portions (3B, 3C) of each thin film magnetic head element are attached to the protective film 4 on the wafer 5. Then, the thin film magnetic head element assembly 6 is manufactured. The thin film magnetic head elements 3 are arranged in a matrix state.
[0006]
In order to take out the thin film magnetic head 1 from the wafer 5, first, the wafer 5 is cut at cutting positions (X1-X1 to Xn-Xn) set between the rows H1 to Hn, as shown in FIG. A line-shaped thin film magnetic head element assembly 1A is cut out. FIG. 6 shows the thin film magnetic head assembly 1A of the column H4 cut at the cutting position (X4-X4) and the cutting position (X5-X5). Thereafter, the cut thin film magnetic head element assembly 1A is subjected to polishing or the like, and then cut at cutting positions Y1 to Yn to obtain individual thin film magnetic heads 1.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, the thin film magnetic head element assembly in which the thin film magnetic head elements are arranged as described above has the following problems. Referring to FIG. 7, when the thin film magnetic head elements 3 are arranged in a matrix state as in the prior art, the distance between the electromagnetic transducers 3A in the adjacent elements 3 is the column direction (X direction). And the row direction (Y direction) orthogonal thereto. Now, taking the element 3 (3) as an example in the figure, the center of the elements 3 (2) and 3 (4) adjacent to the electromagnetic conversion units 3 (2) A and 3 (4) A in the column direction will be described. The distances b and d are sufficiently equal to each other. On the other hand, the distances a and c between the centers of the elements 3 (5) and 3 (6) adjacent to each other in the row direction with the electromagnetic conversion units 3 (5) A and 3 (6) A are narrow.
[0008]
If the distance between the electromagnetic conversion portions differs depending on the direction, when the photoresist film is spin-coated in the process of forming the upper magnetic film or the like of the element 3, the resist film in the step portion or the like is formed in the row direction and the column direction. The flow resistance differs, and it becomes difficult to form a resist film having a uniform thickness. If the thickness of the resist film cannot be made uniform, there arises a problem that desired patterning cannot be performed. An object of the present invention is to eliminate such conventional problems.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
Such an object is achieved by the present invention described in (1) below.
(1) A step of forming a photoresist film on a single wafer by spin coating, and a plurality of thin film magnetic head elements including an electromagnetic conversion portion and a pad portion for connecting an external conductor are arranged in a matrix. In the method of manufacturing a thin film magnetic head element assembly formed and formed with a protective film thereon,
A plurality of the thin film magnetic head elements are arranged in a column direction and a row direction,
Deriving the corresponding pad portion of each thin film magnetic head element in the same direction toward the column direction,
The thin film magnetic head elements belonging to each row are aligned in each row so that the center intervals of the electromagnetic transducers are equal,
The center of the electromagnetic conversion unit of two adjacent thin film magnetic head elements belonging to one row forms a rectangle, and the electromagnetic conversion unit of the thin film magnetic head element in the middle row is located at the face center position. The center of the
A method of manufacturing a thin film magnetic head element assembly, characterized in that the center distances of electromagnetic conversion portions between thin film magnetic head elements belonging to mutually adjacent rows are equalized when viewed from the face center position.
[0010]
[Action]
When the thin film magnetic head elements 3 are arranged on the wafer 5 as described above, the flow resistance of the photoresist film is increased on the wafer in the photoresist film coating process for forming the upper magnetic film and the like of the thin film magnetic head element. Can be substantially uniform in each direction.
[0011]
【Example】
In order to solve the above problems, according to the present invention, in a thin film magnetic head element assembly formed by aligning a number of thin film magnetic head elements on the surface of a single wafer, each thin film magnetic head element is arranged as follows. They are arranged on the wafer in a state.
[0012]
As shown in FIGS. 1 and 2, in a thin film magnetic head element assembly 1 formed by aligning a number of thin film magnetic head elements 3 (m, n) on the surface of a single wafer 5, each thin film magnetic head element 3 (m, n) pad portions 3B and 3C are led out in the same direction toward the arrangement direction X of the thin film magnetic head elements, and the electromagnetic conversion unit 3A between adjacent thin film magnetic head elements belonging to mutually adjacent columns The center-to-center distances a, b, c, and d are made substantially equal.
[0013]
In order to make the center distances between the adjacent electromagnetic transducers 3A equal, as shown in FIG. 2, the thin film magnetic head elements 3 (m, n) are arranged in a staggered pattern in the row direction Y. do it. For example, the thin film head element 3 (2, 3) belonging to the column H2 will be mainly described. Elements belonging to different columns adjacent thereto are elements 3 (1, 2), 3 (1, 3) belonging to the column H1. ) And element 3 (3, 2), 3 (3, 3) belonging to column H3. From the center of the electromagnetic transducer 3A of the thin film magnetic head element 3 (2, 3), each of these elements 3 (1, 2), 3 (3, 2), 3 (3, 3) and 3 (1, 3) The elements are arranged in a staggered manner between adjacent columns so that the distances a, b, c, and d to the centers of the electromagnetic conversion parts are equal.
[0014]
In the embodiment described above, an example of a magnetic head that performs recording and reproduction by one electromagnetic transducer has been described. Recently, the use of an inductive-MR composite thin film magnetic head using an MR element for reproduction has been proposed. Has been. The present invention is naturally applicable to such an inductive-MR composite type thin film magnetic head. In this case, the inductive is derived from each MR element by one pad part, but the two leads constituting each pad part are distributed to the left and right with the center line passing through the electromagnetic conversion part as the center. Usually, it is made into a structured.
[0015]
【The invention's effect】
As described above, in the thin film magnetic head element assembly of the present invention, the pad portions of the respective thin film magnetic head elements are led out in the same direction toward the arrangement direction of the thin film magnetic head elements, and are arranged in adjacent rows. The distance between the centers of the electromagnetic transducers between adjacent thin-film magnetic head elements to which it belongs is made substantially equal. Therefore, according to the present invention, the coating thickness of the photoresist in the thin film forming process of each element can be made uniform in each portion, and thus a thin film magnetic head assembly having stable magnetic characteristics can be manufactured.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a thin film magnetic head element assembly according to the present invention.
2 is a partially enlarged plan view showing an array of thin film magnetic head elements of the thin film magnetic head element assembly of FIG. 1. FIG.
FIG. 3 is a perspective view showing a thin-film magnetic head element having a general configuration.
4 is a partial enlarged cross-sectional view showing an electromagnetic conversion part of the thin film magnetic head of FIG. 3;
FIG. 5 is a perspective view schematically showing a conventional thin film magnetic head element assembly.
6 is a perspective view showing a state where a row of thin film magnetic head assemblies are cut out from the thin film magnetic head element assembly of FIG. 5; FIG.
7 is an explanatory diagram showing an arrangement of thin film magnetic head elements of the thin film magnetic head element assembly of FIG. 5. FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Thin film magnetic head element assembly 3 (m, n) ... Thin film magnetic head element 3a ... Electromagnetic conversion part 3B, 3C ... Pad part 5 ... Wafer

Claims (1)

一枚のウエハ上に、フォトレジスト膜をスピンコーティングにより形成する工程を含み、電磁変換部および外部導体接続用のパッド部を含む薄膜磁気ヘッド要素を複数個マトリックス状に整列した状態に形成し、保護膜をその上に形成する薄膜磁気ヘッド要素集合体の製造方法において、
前記薄膜磁気ヘッド要素を列方向および行方向に複数個配列し、
各薄膜磁気ヘッド要素の対応するパッド部をそれぞれ列方向に向けて同一方向に導出し、
各列に属する薄膜磁気ヘッド要素を、各列にて、その電磁変換部の中心間隔が等しくなるように整列し、
1列おいた列に属する相隣る2個づつの薄膜磁気ヘッド要素の電磁変換部の中心が矩形を形成するようにし、その面心位置に、中間の列の薄膜磁気ヘッド要素の電磁変換部の中心を配置し、
その面心位置からみて、相互に隣接する列に属する薄膜磁気ヘッド要素間における電磁変換部の中心間隔を等しくすることを特徴とする薄膜磁気ヘッド要素集合体の製造方法。
Forming a photoresist film on a single wafer by spin coating, forming a plurality of thin film magnetic head elements including an electromagnetic conversion portion and a pad portion for connecting an external conductor in a matrix, In the method of manufacturing a thin film magnetic head element assembly on which a protective film is formed,
A plurality of the thin film magnetic head elements are arranged in a column direction and a row direction,
The corresponding pad portion of each thin film magnetic head element is led out in the same direction toward the column direction,
The thin film magnetic head elements belonging to each row are aligned in each row so that the center intervals of the electromagnetic transducers are equal,
The center of the electromagnetic conversion unit of two adjacent thin film magnetic head elements belonging to one row forms a rectangle, and the electromagnetic conversion unit of the thin film magnetic head element in the middle row is located at the face center position. The center of the
A method of manufacturing a thin film magnetic head element assembly, characterized in that the center distances of electromagnetic conversion portions between thin film magnetic head elements belonging to mutually adjacent rows are equalized when viewed from the face center position.
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