JP3604014B2 - Laser processing apparatus and processing method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ加工装置及びレーザ加工方法に関し、特に加工対象物上のある範囲内でレーザ照射位置を移動させて加工するレーザ加工装置及びレーザ加工方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
特許第3114533号公報に開示されたレーザ穴あけ加工装置について説明する。レーザ光源から出射したパルスレーザビームがハーフミラーで2分岐され、一方の第1のパルスレーザビームが第1のガルバノスキャナに入射し、他方の第2のパルスレーザビームが第2のガルバノスキャナに入射する。第1及び第2のガルバノスキャナは、それぞれ第1及び第2のパルスレーザビームを2次元方向に走査する。走査された第1及び第2のパルスレーザビームが1つのfθレンズに入射する。fθレンズは、第1及び第2のパルスレーザビームを収束し、加工対象物に入射させる。
【0003】
加工対象物にパルスレーザビームを入射させることにより、穴あけ加工を行うことができる。高価なfθレンズ1つに対して2組のガルバノスキャナを配置することにより、装置コストの上昇を抑制しつつ、加工時間の短縮を図ることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来は、銅箔への穴あけ加工に、赤外領域のCO2ガスレーザが用いられていた。CO2ガスレーザを用いた穴あけ加工方法では、1ショットの照射で銅箔を熱分解させ、昇華させる。このため、熱の影響による穴の品質低下が生じやすかった。また、CO2ガスレーザの波長域における銅の反射率が高いため、レーザビームの吸収率を高めるために、銅箔の表面に粗化処理を施さなければならなかった。
【0005】
紫外線の波長領域のレーザビームを用いることにより、熱的な影響を排除して高品質の加工を行う技術が注目されている。紫外線の波長領域のレーザビームを用いて銅箔の加工を行うためには、銅箔表面におけるパルスエネルギ密度を銅箔加工に必要なしきい値(約10〜20J/cm2)以上にする必要がある。加工時間の短縮を図るために、レーザビームをハーフミラーで2分岐させると、そのパルスエネルギ密度が約半分になる。このため、銅箔表面におけるパルスエネルギ密度を、銅箔加工のしきい値以上にすることが困難になる。
【0006】
本発明の目的は、加工対象物表面におけるパルスエネルギ密度を高く維持し、高速かつ高品質な加工を行うことが可能なレーザ加工装置及び加工方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
加工対象物を保持する保持台と、入射するレーザビームを収束し、収束されたレーザビームを前記保持台に保持された加工対象物に入射させる1つの収束レンズと、入射するレーザビームを走査する複数の走査装置であって、該走査装置の各々によって走査されたレーザビームが前記収束レンズを通って前記加工対象物に入射するように配置されて前記複数の走査装置が前記1つの収束レンズを共用し、外部からの制御を受けて、前記加工対象物への該レーザビームの入射位置を移動させる走査動作を行う複数の走査装置と、レーザビームを出射するレーザ光源と、前記レーザ光源から出射したレーザビームを、前記複数の走査装置から選択された一部の走査装置に入射させ、時間によって入射先の走査装置を変更する振り分け装置と、前記走査装置を制御する制御装置とを有するレーザ加工装置が提供される。
【0008】
レーザビームが加工対象物に入射することにより、穴あけ加工が行われる。ある時刻に着目すると、複数の走査装置のうち一部の走査装置のみをレーザビームが通過する。このため、走査装置の操作動作を、レーザビームの通過していない期間に行うことができる。複数の走査装置が1つの収束レンズを共用しているため、収束レンズの枚数の増加を回避することができる。
【0009】
本発明の他の観点によると、レーザ光源から出射したレーザビームを、複数の走査装置から選択された一部の走査装置に入射させ、選択された走査装置で伝搬方向を制御されたレーザビームを、前記複数の走査装置で共用された1つの収束レンズで収束し、収束されたレーザビームを加工対象物に入射させて該加工対象物を加工する工程と、選択された走査装置を通ってレーザビームが前記加工対象物に入射している期間に、選択されていない走査装置を通るレーザビームが入射する前記加工対象物上の位置が移動するように選択されていない走査装置を動作させる工程と、選択されていなかった走査装置から少なくとも一部の走査装置を選択し、前記レーザ光源から出射したレーザビームの入射先を、今まで選択されていた走査装置から新たに選択された走査装置に切り換え、新たに選択された走査装置で伝搬方向を制御されたレーザビームを前記収束レンズで収束し、収束されたレーザビームを加工対象物に入射させて該加工対象物を加工する工程とを有するレーザ加工方法が提供される。
【0010】
選択されていない期間に、走査装置を動作させることにより、1つの走査装置の動作期間中に、他の走査装置を用いてレーザビームを有効利用することができる。複数の走査装置で1つの収束レンズを共用しているため、収束レンズの枚数増を防止することができる。
【0011】
【発明の実施の形態】
図1に、本発明の実施例によるレーザ加工装置の概略図を示す。レーザ光源1が、パルスレーザビーム2を出射する。レーザ光源1は、例えばNd:YAGレーザ発振器と非線形光学素子とを含んで構成され、例えばNd:YAGレーザの第3高調波(波長355nm)を出射する。
【0012】
パルスレーザビーム2が、振り分け装置10に入射する。振り分け装置10は、半波長板11、ポッケルス効果を示す電気光学素子12、及び偏光板13を含んで構成される。半波長板11は、レーザ光源1から出射したパルスレーザビーム2を、偏光板13に対してP波となるような直線偏光にする。このP波が電気光学素子12に入射する。
【0013】
電気光学素子12は、制御装置40から送出される制御信号sig0に基づいて、パルスレーザビームの偏光軸を旋回させる。電気光学素子12が電圧無印加状態にされている時、入射したP波がそのまま出射される。電気光学素子12が電圧印加状態にされている時、電気光学素子12は、入射するパルスレーザビームの偏光軸を90度旋回させる。これにより、電気光学素子12から出射するパルスレーザビームは、偏光板13に対してS波となる。
【0014】
偏光板13は、P波をそのまま透過させ、S波を反射する。偏光板13を透過したP波は、光軸20に沿って伝搬するパルスレーザビームpl1となる。偏光板13で反射したS波は、他の光軸30に沿って伝搬するパルスレーザビームpl2となる。光軸20に沿って伝搬するパルスレーザビームpl1は、折返しミラー21で反射され、第1の走査装置17に入射する。他の光軸30に沿って伝搬するパルスレーザビームpl2は、第2の走査装置35に入射する。
【0015】
第1の走査装置25は、X用ガルバノミラー25XとY用ガルバノミラー25Yとを含んで構成される。2つのガルバノミラー25X及び25Yを回転移動させることにより、入射したレーザビームを2次元方向に走査することができる。ガルバノミラーの回転移動動作を走査動作と呼ぶこととする。ガルバノミラー25X及び25Yは、制御装置40から入力される制御信号sig1により制御される。第2の走査装置35は、Y用ガルバノミラー35XとY用ガルバノミラー35Yとを含んで構成され、入射したレーザビームを2次元方向に走査する。ガルバノミラー35X及び35Yは、制御装置40から入力される制御信号sig2により制御される。
【0016】
第1の走査装置25により走査されたパルスレーザビーム、及び第2の走査装置35により走査されたパルスレーザビームは、同一のfθレンズ38に入射する。fθレンズ38は、入射したパルスレーザビームを収束する。収束されたレーザビームは、XYテーブル39に載置された加工対象物50に入射する。なお、fθレンズ38の代わりに、他の収束レンズを用いてもよい。
【0017】
図2(A)に、加工対象物50の平面図を示す。加工対象物50の表面内に、行列状に配置された複数の単位加工領域51が画定されている。単位加工領域51の各々は、第1の領域51aと第2の領域51bとに区分されている。
【0018】
図1に示した第1の走査装置25は、レーザビームの入射位置を第1の領域51a内の任意の位置に移動させることができる。第2の走査装置35は、レーザビームの入射位置を第2の領域51b内の任意の位置に移動させることができる。第1及び第2の走査装置25及び35を動作させることにより、1つの単位加工領域51内の任意の位置にレーザビームを入射させることができる。1つの単位加工領域51の加工が終了すると、図1に示したXYステージ39を駆動して加工対象物50を移動させることにより、他の単位加工領域51の加工を行うことができる。
【0019】
図2(B)に、加工対象物50の断面図を示す。加工対象物50は、例えば厚さ50μmの樹脂製ベースフィルム53の両面に、それぞれ厚さ9μmの銅箔52及び54が密着された3層構造を有する。パルスレーザビームを複数ショット入射させることにより、この3層を貫通する貫通孔55を形成することができる。
【0020】
次に、図3を参照して、振り分け装置10、第1及び第2の走査装置25及び35の制御方法について説明する。
【0021】
図3は、制御信号sig0、sig1、sig2及びパルスレーザビームpl1、pl2のタイミングチャートを示す。制御信号sig0に基づき、電気光学素子12が電圧無印加状態になっている第1の期間T1は、図1に示した電気光学素子12を通過したパルスレーザビームがP波であるため、光軸20に沿ったパルスレーザビームpl1が出力され、光軸30に沿ったパルスレーザビームpl2は出力されない。このため、第1の走査装置25を通過したパルスレーザビームにより穴開けが行われる。
【0022】
第1の期間T1中に、制御装置40は、パルスレーザビームの入射していない第2の走査装置35に対して制御信号sig2を送信する。これにより、第2の走査装置35は、入射するパルスレーザビームが加工対象物50上の所望の位置に入射するように制御される。
【0023】
第1の期間T1の後の第2の期間T2では、制御信号sig0により、電気光学素子12が電圧印加状態になる。このため、第2の期間T2の間は、パルスレーザビームpl1が出力されず、パルスレーザビームpl2が出力される。この前の第1の期間T1中に、第2の走査装置35のガルバノミラー35X及び35Yが駆動され、パルスレーザビームの入射位置が調整されているため、第2の期間T2の間に、所望の位置に穴開けを行うことができる。
【0024】
さらに、第2の期間T2の間に、制御装置40は、パルスレーザビームの入射していない第1の走査装置25に、制御信号sig1を送信する。これにより、第1の走査装置25のガルバノミラー25X及び25Yが、パルスレーザビームを加工対象物50上の所望の位置に入射させるように制御される。
【0025】
第1の期間T1と第2の期間T2とを交互に繰り返すことにより、加工対象物50の所望の複数の位置に穴開けを行うことができる。
【0026】
上記実施例では、レーザ光源1から出射したパルスレーザビームの各パルスのエネルギは、分割されることなく加工対象物50に到達する。このため、加工対象物50の表面におけるパルスエネルギ密度を、銅箔加工に必要とされるしきい値以上に維持することが容易である。また、上記実施例では、2つの走査装置25及び35が1つのfθレンズ38を共用するため、装置コストの上昇を抑制することができる。
【0027】
また、上記実施例では、第1の走査装置25を駆動している第2の期間T2の間に、第2の走査装置35を通過したパルスレーザビームにより穴開けが行われる。また、第2の走査装置35を駆動している第1の期間T1の間に、第1の走査装置25を通過したパルスレーザビームにより穴開けが行われる。このため、レーザ光源1から出射されたパルスレーザビームのすべてのパルスが、穴開け加工に有効に利用される。
【0028】
パルスの繰り返し周波数が10kHz、第3高調波のパワーが10Wのレーザ光源を用いて、図2(B)に示した加工対象物50に直径50μmの貫通孔55を形成する場合を考える。厚さ9μmの銅箔52及び54の各々を貫通する孔を形成するのに必要なショット数は約10である。厚さ50μmのベースフィルム53を貫通する孔を形成するのに必要なショット数は約5である。このため、25ショットの照射を行うことにより、貫通孔55を形成することができる。
【0029】
パルス周波数10kHzのパルスレーザビームを25ショット照射するのに必要な時間は2.5msである。すなわち、図3に示した期間T1及びT2の各々は2.5msになる。ガルバノミラーを駆動してレーザビームの入射位置を移動させるのに必要な時間は約1msである。このため、期間T1及びT2の間にガルバノミラーを駆動してレーザビームの照射準備を完了させることができる。
【0030】
これに対し、1つの走査装置のみを使用して加工を行う場合には、1つの貫通孔を形成するために、2.5ms+1ms=3.5msの時間を必要とする。実施例のように、パルスレーザビームのパルスエネルギを分割するのではなく、時間軸上に配列した複数のパルスを、時間軸上で複数の走査装置に振り分けることにより、パルスエネルギ密度を低下させることなく、加工時間を短縮することができる。
【0031】
上記実施例では、レーザ光源としてNd:YAGレーザを用い、その第3高調波を加工に利用したが、加工対象物に穴開けできるその他のレーザ光源を用いてもよい。例えば、Nd:YLFレーザやNd:YVO4レーザの高調波を用いてもよい。微細で高品質な穴を形成するためには、波長400nm以下の紫外線領域のレーザビームを使用することが好ましい。
【0032】
上記実施例では、銅箔と樹脂層との積層構造に貫通孔を形成する場合を説明したが、銅以外の他の金属箔と樹脂層との積層構造に貫通孔を形成する場合にも、実施例によるレーザ加工装置を適用することが可能である。また、貫通孔に限らず、貫通しない凹部を形成する場合にも適用可能である。
【0033】
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【0034】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、複数の走査装置で1つの収束レンズを共用することにより、装置コストを抑えることができる。また、複数の走査装置を用い、レーザビームが一部の走査装置を通過している期間に、他の走査装置の走査動作を行うことにより、走査動作中も、レーザビームによる加工を継続して行うことができる。これにより、加工時間の短縮を図ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例によるレーザ加工装置の概略図である。
【図2】加工対象物の平面図及び断面図である。
【図3】実施例による加工対象物のパルスレーザビーム及び各種制御信号のタイミングチャートである。
【符号の説明】
1 レーザ光源
2 パルスレーザビーム
10 振り分け装置
11 半波長板
12 電気光学素子
13 偏光板
20、30 光軸
21 折返しミラー
25、35 走査装置
38 fθレンズ
39 XYテーブル
40 制御装置
50 加工対象物
51 単位加工領域
52、54 銅箔
53 樹脂製ベースフィルム
55 貫通孔[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a laser processing apparatus and a laser processing method, and more particularly to a laser processing apparatus and a laser processing method for processing by moving a laser irradiation position within a certain range on an object to be processed.
[0002]
[Prior art]
A laser drilling apparatus disclosed in Japanese Patent No. 3114533 will be described. The pulse laser beam emitted from the laser light source is split into two by a half mirror, one first pulse laser beam is incident on the first galvano scanner, and the other second pulse laser beam is incident on the second galvano scanner. To do. The first and second galvano scanners scan the first and second pulse laser beams in a two-dimensional direction, respectively. The scanned first and second pulse laser beams are incident on one fθ lens. The fθ lens converges the first and second pulse laser beams and makes them enter the object to be processed.
[0003]
Drilling can be performed by making a pulse laser beam incident on the object to be processed. By arranging two sets of galvano scanners for one expensive fθ lens, it is possible to reduce the processing time while suppressing an increase in apparatus cost.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Conventionally, a CO 2 gas laser in the infrared region has been used for drilling a copper foil. In the drilling method using a CO 2 gas laser, the copper foil is thermally decomposed and sublimated by one shot irradiation. For this reason, the quality of the hole is likely to deteriorate due to heat. In addition, since the reflectance of copper in the wavelength region of the CO 2 gas laser is high, the surface of the copper foil has to be roughened in order to increase the absorption rate of the laser beam.
[0005]
Attention has been focused on a technique for performing high-quality processing by eliminating a thermal influence by using a laser beam in the ultraviolet wavelength region. In order to process a copper foil using a laser beam in the ultraviolet wavelength region, it is necessary to set the pulse energy density on the surface of the copper foil to a threshold (about 10 to 20 J / cm 2 ) or more necessary for the copper foil processing. is there. In order to shorten the processing time, when the laser beam is split into two by a half mirror, the pulse energy density is reduced to about half. For this reason, it becomes difficult to make the pulse energy density on the surface of the copper foil equal to or higher than the threshold value of the copper foil processing.
[0006]
An object of the present invention is to provide a laser processing apparatus and a processing method capable of maintaining a high pulse energy density on the surface of a workpiece and performing high-speed and high-quality processing.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
A holding table for holding the object to be processed, a converging lens for converging the incident laser beam and causing the converged laser beam to enter the object to be processed held by the holding table, and scanning the incident laser beam A plurality of scanning devices, wherein the plurality of scanning devices are arranged so that laser beams scanned by each of the scanning devices are incident on the object to be processed through the converging lens, and the plurality of scanning devices include the one converging lens. A plurality of scanning devices that perform a scanning operation for moving the incident position of the laser beam on the workpiece under common control and external control, a laser light source that emits a laser beam, and an emission from the laser light source The laser beam incident on a part of the scanning devices selected from the plurality of scanning devices, and changing the incident scanning device according to time, and The laser processing apparatus is provided with a control device for controlling the 査 device.
[0008]
Drilling is performed when the laser beam is incident on the workpiece. Focusing on a certain time, the laser beam passes only through some of the scanning devices. For this reason, the operation of the scanning device can be performed during a period in which the laser beam does not pass. Since a plurality of scanning devices share one converging lens, an increase in the number of converging lenses can be avoided.
[0009]
According to another aspect of the present invention, a laser beam emitted from a laser light source is incident on a part of scanning devices selected from a plurality of scanning devices, and a laser beam whose propagation direction is controlled by the selected scanning device is obtained. A process of converging with a single converging lens shared by the plurality of scanning devices, causing the converged laser beam to enter the processing object, and processing the processing object; and a laser through the selected scanning device Operating a scanning device that is not selected so that a position on the workpiece that the laser beam enters through a scanning device that is not selected moves during a period in which the beam is incident on the workpiece; At least a part of the scanning devices are selected from the scanning devices that have not been selected, and the incident destination of the laser beam emitted from the laser light source is changed from the scanning device that has been selected so far. The laser beam whose propagation direction is controlled by the newly selected scanning device is converged by the converging lens, and the converged laser beam is incident on the workpiece to be processed. And a laser processing method.
[0010]
By operating the scanning device during a non-selected period, it is possible to effectively use the laser beam using another scanning device during the operation period of one scanning device. Since one converging lens is shared by a plurality of scanning devices, an increase in the number of converging lenses can be prevented.
[0011]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
FIG. 1 shows a schematic diagram of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. A laser light source 1 emits a pulsed laser beam 2. The laser light source 1 includes, for example, an Nd: YAG laser oscillator and a nonlinear optical element, and emits, for example, a third harmonic (wavelength 355 nm) of an Nd: YAG laser.
[0012]
The pulse laser beam 2 is incident on the
[0013]
The electro-
[0014]
The polarizing
[0015]
The
[0016]
The pulse laser beam scanned by the
[0017]
FIG. 2A shows a plan view of the
[0018]
The
[0019]
FIG. 2B shows a cross-sectional view of the
[0020]
Next, with reference to FIG. 3, the control method of the
[0021]
FIG. 3 shows a timing chart of the control signals sig 0 , sig 1 , sig 2 and the pulse laser beams pl 1 , pl 2 . Based on the control signal sig 0 , in the first period T1 in which the electro-
[0022]
During the first period T1, the
[0023]
In the second period T2 after the first period T1, the electro-
[0024]
Further, during the second period T2, the
[0025]
By alternately repeating the first period T <b> 1 and the second period T <b> 2, holes can be formed at a plurality of desired positions on the
[0026]
In the above embodiment, the energy of each pulse of the pulse laser beam emitted from the laser light source 1 reaches the
[0027]
Further, in the above-described embodiment, drilling is performed by the pulse laser beam that has passed through the
[0028]
Consider a case in which a through
[0029]
The time required to irradiate 25 shots of a pulsed laser beam with a pulse frequency of 10 kHz is 2.5 ms. That is, each of the periods T1 and T2 shown in FIG. 3 is 2.5 ms. The time required to drive the galvanometer mirror to move the incident position of the laser beam is about 1 ms. For this reason, the galvanometer mirror can be driven during the periods T1 and T2 to complete the preparation for laser beam irradiation.
[0030]
On the other hand, when processing is performed using only one scanning device, a time of 2.5 ms + 1 ms = 3.5 ms is required to form one through hole. Rather than dividing the pulse energy of the pulse laser beam as in the embodiment, the pulse energy density is reduced by distributing a plurality of pulses arranged on the time axis to a plurality of scanning devices on the time axis. No processing time can be shortened.
[0031]
In the above embodiment, an Nd: YAG laser is used as a laser light source, and the third harmonic is used for processing. However, other laser light sources that can punch holes in a processing target may be used. For example, harmonics of Nd: YLF laser or Nd: YVO 4 laser may be used. In order to form fine and high-quality holes, it is preferable to use a laser beam in the ultraviolet region with a wavelength of 400 nm or less.
[0032]
In the above embodiment, the case where the through hole is formed in the laminated structure of the copper foil and the resin layer has been described, but also when the through hole is formed in the laminated structure of the metal foil other than copper and the resin layer, The laser processing apparatus according to the embodiment can be applied. Further, the present invention is not limited to the through hole, and can be applied to the case where a recess that does not penetrate is formed.
[0033]
Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.
[0034]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the apparatus cost can be suppressed by sharing one converging lens among a plurality of scanning devices. In addition, by using a plurality of scanning devices and performing a scanning operation of another scanning device during a period in which the laser beam passes through a part of the scanning devices, processing with the laser beam is continued even during the scanning operation. It can be carried out. Thereby, it becomes possible to shorten processing time.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic view of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2A and 2B are a plan view and a cross-sectional view of a workpiece.
FIG. 3 is a timing chart of a pulse laser beam and various control signals of a workpiece according to an embodiment.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser light source 2
Claims (6)
入射するレーザビームを収束し、収束されたレーザビームを前記保持台に保持された加工対象物に入射させる1つの収束レンズと、
入射するレーザビームを走査する複数の走査装置であって、該走査装置の各々によって走査されたレーザビームが前記収束レンズを通って前記加工対象物に入射するように配置されて前記複数の走査装置が前記1つの収束レンズを共用し、外部からの制御を受けて、前記加工対象物への該レーザビームの入射位置を移動させる走査動作を行う複数の走査装置と、
レーザビームを出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射したレーザビームを、前記複数の走査装置から選択された一部の走査装置に入射させ、時間によって入射先の走査装置を変更する振り分け装置と、
前記走査装置を制御する制御装置と
を有するレーザ加工装置。A holding table for holding the workpiece;
One converging lens for converging an incident laser beam and causing the converged laser beam to be incident on a workpiece held by the holding table;
A plurality of scanning devices for scanning an incident laser beam, wherein the plurality of scanning devices are arranged such that a laser beam scanned by each of the scanning devices is incident on the object to be processed through the converging lens. A plurality of scanning devices that share the one converging lens and perform a scanning operation to move an incident position of the laser beam on the workpiece under external control;
A laser light source for emitting a laser beam;
A distribution device that causes a laser beam emitted from the laser light source to be incident on a part of the scanning devices selected from the plurality of scanning devices, and changes the scanning device of the incident destination according to time;
A laser processing apparatus having a control device for controlling the scanning device;
前記振り分け装置は、前記レーザ光源から出射したパルスレーザビームの、時間軸上に配列した複数のパルスの各々を、前記複数の走査装置から選択された1つの走査装置に入射させる請求項1または2に記載のレーザ加工装置。The laser light source emits a pulsed laser beam;
The distribution device causes each of a plurality of pulses arranged on a time axis of a pulse laser beam emitted from the laser light source to enter one scanning device selected from the plurality of scanning devices. The laser processing apparatus as described in.
前記レーザ光源から出射したレーザビームが入射し、印加電圧によってレーザビームの偏光方向を変化させる電気光学素子と、
前記電気光学素子によって偏光方向を制御されたレーザビームが入射し、偏光方向によって入射するレーザビームの進行方向を変化させる偏光板と
を有する請求項1〜4のいずれかに記載のレーザ加工装置。The sorting device is
An electro-optic element that receives a laser beam emitted from the laser light source and changes a polarization direction of the laser beam according to an applied voltage;
The laser processing apparatus according to claim 1, further comprising: a polarizing plate on which a laser beam whose polarization direction is controlled by the electro-optic element is incident and which changes a traveling direction of the incident laser beam depending on the polarization direction.
選択された走査装置を通ってレーザビームが前記加工対象物に入射している期間に、選択されていない走査装置を通るレーザビームが入射する前記加工対象物上の位置が移動するように選択されていない走査装置を動作させる工程と、
選択されていなかった走査装置から少なくとも一部の走査装置を選択し、前記レーザ光源から出射したレーザビームの入射先を、今まで選択されていた走査装置から新たに選択された走査装置に切り換え、新たに選択された走査装置で伝搬方向を制御されたレーザビームを前記収束レンズで収束し、収束されたレーザビームを加工対象物に入射させて該加工対象物を加工する工程と
を有するレーザ加工方法。A laser beam emitted from a laser light source is incident on a part of scanning devices selected from a plurality of scanning devices, and a laser beam whose propagation direction is controlled by the selected scanning devices is shared by the plurality of scanning devices. A process of processing the object to be processed by causing the focused laser beam to be incident on the object to be processed;
The position on the workpiece that the laser beam passes through the non-selected scanning device is selected to move during a period in which the laser beam is incident on the workpiece through the selected scanning device. Operating a scanning device that is not,
Selecting at least a part of the scanning devices from the scanning devices that have not been selected, and switching the incident destination of the laser beam emitted from the laser light source from the scanning device that has been selected to the newly selected scanning device; A laser processing including a step of converging a laser beam, the propagation direction of which is controlled by a newly selected scanning device, with the converging lens, and causing the converged laser beam to enter the processing target and processing the processing target. Method.
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