JP3588601B2 - 冷却装置及びこの冷却装置を有する電子機器 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体パッケージのような発熱体の放熱を促進させるための冷却装置、及びこの装置を搭載したポータブルコンピュータ等の電子機器に関する。
【0002】
【従来の技術】
コンピュータに代表される電子機器は、文字、音声、及び画像等のマルチメディア情報を処理するための半導体パッケージを装備している。この種の半導体パッケージは、処理速度の高速化や多機能化に伴って消費電力が増加の一途をたどり、これに比例して発熱量が増大する傾向にある。
【0003】
電子機器の安定した動作を保証する上では、半導体パッケージの放熱性を高めるための冷却装置が必要不可欠となる。
【0004】
従来の冷却装置には、半導体パッケージの発熱部であるICチップとこれを覆うヒートシンクとの間にヒートスプレッダを配置したものがある。そのヒートスプレッダとICチップとは第1熱接続層で熱的に接続され、ヒートシンクとヒートスプレッダとは第2熱接続層で熱的に接続されている。
【0005】
第1、第2の熱接続層には、熱伝導性のシリコンゴムシート又はグリース、或いは熱硬化性の合成樹脂(シリコン系)接着剤が使用されている。これらの熱接続層の中には、その主材よりも熱伝導性が優れた金属又はセラミックのフィラーを混入して、熱伝導率を大きくしたものもある。
【0006】
しかし、第1、第2の熱接続層の主材は合成樹脂成分である。そのため、前記のようにフィラーを混入しても、その熱伝導率の向上は、(10〜15)W/m・K程度が限界であると考えられている。
【0007】
又、ヒートスプレッダを用いないで半導体パッケージの熱をヒートシンクに放熱する構成において、半導体パッケージの発熱部とヒートシンクとを鉛はんだを用いて熱的に接続したものがある(特開平10−189839号公報、及び特開2000−12748号公報参照)。
【0008】
前記熱接続のために、特開平10−189839号公報には、はんだボールを用いた例が記載され、特開2000−12748号公報には、はんだシートを用いた例が記載されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
これらの技術では、熱接続層が金属であるので、この熱接続層での熱伝導率が大きく、半導体パッケージの放熱を促進するのに有利である。
【0010】
しかし、前記金属の熱接続層は、鉛成分を含んだはんだ、つまり、鉛はんだで形成されている。鉛は人体の健康に対して有害であるため、製造面及びリサイクル面等における環境上好ましくない。
【0011】
本発明の目的は、発熱体の放熱性能を高めることができるとともに、環境に悪影響を及ぼさない冷却装置及び電子機器を得ることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
前記目的を解決するために、請求項1に係る発明の冷却装置は、ベース基板及びこの基板より小さく前記ベース基板の一面に取付けられた発熱体よりなる半導体パッケージの前記発熱体より大きくこの発熱体を覆って配置されるヒートシンクと、前記発熱体より大きく形成されて前記ヒートシンクと前記発熱体との間に介在されるととともに、熱伝導性の接着剤を介して前記ベース基板に接着された縁を有するヒートスプレッダと、鉛成分を含まない錫合金からなり、前記ヒートスプレッダと前記発熱体とを熱的に接続するようにこれらを接合して、前記ヒートスプレッダと前記発熱体との間に介在され、かつ、前記接着剤の厚みより薄い接合金属部材と、前記ヒートスプレッダと前記ヒートシンクとの間に介在され、これらヒートスプレッダとヒートシンクとを熱的に接続する熱伝導部材と、を具備したことを特徴としている。
【0013】
この発明は、ポータブル形又はディスクトップ形のコンピュータ等の電子機器が備える発熱する電子部品、例えばCPU等の半導体パッケージの冷却装置として好適に使用できる。又、請求項1の発明では、熱伝導部材に、熱伝導性に優れたシリコンゴムシート又はグリース、或いは熱硬化性の合成樹脂(シリコン系)接着剤、若しくは鉛成分を含まない接合金属部材等を使用できる。
【0014】
請求項1の発明において、発熱体で生成された熱は、接合金属部材を通ってヒートスプレッダに伝えられるとともに、発熱体により加熱されるベース基板の熱は、接着剤を通ってヒートスプレッダに伝えられる。このスプレッダに伝えられた熱は、ヒートスプレッダ全体に拡散されながら熱伝導部材を通ってヒートシンクに伝えられる。このシンクに伝えられた熱は、このヒートシンクから放出される。このような放熱系において、発熱体の熱をヒートスプレッダに伝える媒体は接合金属部材であるので、その熱伝導率が大きい。そのため、発熱体とヒートスプレッダとの熱接続部分の熱抵抗が小さく抑えられて、発熱体の熱を効率よくヒートスプレッダに伝えることができる。
【0015】
そして、以上のように効率よく熱を伝えられる放熱系においては、既述のように発熱体より大きいヒートスプレッダの全体にわたり熱を拡散させながら、この熱を熱伝導部材を経てヒートシンクに移すことができる。このため、ヒートスプレッダとヒートシンクとの熱接続部分では、単位面積当たりの熱移動量が小さく抑えられて、ヒートスプレッダとヒートシンクとの温度差を少なくできる。
【0016】
以上のように発熱体の熱を接合金属部材により効率よくヒートスプレッダに伝えるとともに、このヒートスプレッダからヒートシンクに効率よく熱を移動させることができる。
【0017】
そして、前記接合金属部材に鉛成分を含まない錫合金を用いたので、環境への悪影響がない点で好ましい。
【0022】
又、前記目的を達成するために、請求項2に係る発明の電子機器は、筐体と、この筐体に内蔵された回路基板と、ベース基板及びこのベース基板より小さく前記ベース基板の一面に取付けられた発熱するICチップを有して前記回路基板に実装された電子部品と、前記ICチップより大きくこのICチップを覆って配置されるヒートシンクと、前記ICチップより大きく形成されて前記ヒートシンクと前記ICチップとの間に介在されるとともに、熱伝導性の接着剤を介して前記ベース基板に接着された縁を有するヒートスプレッダと、鉛成分を含まない錫合金からなり、前記ヒートスプレッダと前記ICチップとの間に介在され、前記ヒートスプレッダと前記ICチップとを熱的に接続し、かつ、前記接着剤の厚みより薄い接合金属部材と、を具備したことを特徴としている。
【0023】
請求項2の発明において、電子部品が有したICチップで生成された熱は、接合金属部材を通ってヒートシンクに直接的に伝えられるとともに、ICチップにより加熱されるベース基板の熱は、接着剤を通ってヒートスプレッダに伝えられて、ヒートシンクから放出される。このような放熱系において、発熱体の熱をヒートシンクに伝える媒体は接合金属部材であるので、その熱伝導率が大きい。そのため、発熱体とヒートシンクとの熱接続部分の熱抵抗が小さく抑えられて、発熱体の熱を効率よくヒートシンクに伝えることができる。
【0024】
そして、前記接合金属部材に鉛成分を含まない錫合金を用いたので、環境への悪影響がない点で好ましい。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、図1〜図4を参照して本発明の第1実施形態を説明する。
【0026】
図1は電子機器としてのポータブル形のコンピュータ1を示している。このコンピュータ1は、コンピュータ本体2と、この本体2に支持されたディスプレイユニット3とを備えている。
【0027】
コンピュータ本体2が備える筐体4は、図2に示すように底壁4a、上壁4b、前壁4c、左右の側壁4d(図1に一方のみ図示)、及び図示しない後壁を有して扁平な箱状をなしている。
【0028】
筐体4の上壁4aは、パームレスト5及びこの後方に位置されるキーボード取付け部6を有している。キーボード取付け部6にキーボード7が設置されている。
【0029】
ディスプレイユニット3は、ディスプレイハウジング9と、このハウジング9に収容された液晶表示パネル10とを備えている。液晶表示パネル10は、画像を表示する表示画面10aを有し、この画面10aは、ディスプレイハウジング9の前面の開口部11に露出されている。
【0030】
ディスプレイハウジング9は、上壁4bの後端部にヒンジ装置12を介して連結されている。そのため、ディスプレイユニット3は、上壁4bを上方から覆うように倒される閉じ位置と、上壁4b及び液晶表示パネル10を露出させるように起立される開き位置とにわたって回動可能に支持されている。
【0031】
図2に示すように筐体4の内部には回路基板13が収容されている。回路基板13は、筐体4の上壁4b及びキーボード7と対向する実装面13aを有し、この面13aに発熱する電子部品として例えばボール・グリッド・アレー(BGA)はんだ接続形の半導体パッケージ14が実装されている。
【0032】
半導体パッケージ14は、コンピュータ1の中枢となるマイクロプロセッサを構成している。この半導体パッケージ14は、図3に示すように矩形のベース基板15と、発熱体としてのICチップ16とを有している。ベース基板15の一辺の長さは30mm前後である。ICチップ16はベース基板15の中央部にフリップチップ接続により取付けられている
ICチップ16は、ベース基板15より小さな矩形状をなし、その一辺の長さは10mm前後である。このICチップ16が有する平坦な発熱面16aはベース基板15の一面からわずかに突出されている。ICチップ16は、文字、音声、及び、画像のようなマルチメディア情報を高速で処理するために、その動作中の発熱量は非常に大きい。
【0033】
ベース基板15の他面には、多数のはんだボール17(図4参照)が格子状に並べて配置されている。これらはんだボール17は、回路基板13の実装面13aにはんだ付けされている。はんだボール17には、鉛成分を含まないないはんだ(いわゆる鉛フリーはんだ)を用いることが、環境上好ましい。
【0034】
図2及び図4に示すように半導体パッケージ14を冷却する冷却装置21が収容されている。冷却装置21は、放熱部22と、電動ファン部23とを備えて、回路基板13と筐体4の上壁4bとの間に組込まれている。
【0035】
放熱部22は、ヒートシンク24と、ヒートスプレッダ25と、接合金属部材26と、熱伝導部材27とを備えている。
【0036】
ヒートシンク24は、銅又は銅合金、アルミニウム又はアルミニウム合金等のような熱伝導性に優れた金属製である。このヒートシンク24は、ベース部24aとこれを上方向から覆ってベース部24aに連結された天板24bとを有して、扁平な箱状をなしている。ベース部24aと天板24bとは協働して冷却風路28を形成している。この冷却風路28の出口28aは、一方の側壁4に開口された排気口29(図1及び図2参照)に近接して向かい合っている。
【0037】
受熱部として用いられるベース部24aは矩形状をなし、その平面形状は半導体パッケージ14よりも遥かに大きく形成されている。ベース部24aの天板24bと対向する一面には複数の放熱フィン(1枚のみ代表して図示)24cが一体に突設されている。各放熱フィン24cは、互いに離間して平行に設けられ、かつ、ヒートシンク24の長手方向(冷却風路28での風の流れ方向)に延びて配置されている。
【0038】
ヒートシンク24のベース部24aは回路基板13にねじ止めされている。この取付け状態でベース部24aは、実装面13aから所定距離隔てられていて、半導体パッケージ14全体を、そのICチップ16側から覆って配置されている。
【0039】
ヒートスプレッダ25は、ヒートシンク24と同種の金属材料製で、その厚みは数mmである。このヒートスプレッダ25は、平面視矩形状で、ヒートシンク24のベース部24aより小さい。ヒートスプレッダ25は、図3に示すように半導体パッケージ14の外形サイズより小さく、かつ、ICチップ16より大きく形成されている。
【0040】
図4(B)に示すようにヒートスプレッダ25は、その厚み方向の一面からなる第1熱接続面25aと、厚み方向の他面からなる第2熱接続面25bとを有している。第1、第2の熱接続面25a、25bの面積は前記発熱面16aの面積より遥かに大きい。これら熱接続面25a、25bは平滑に仕上げられている。
【0041】
ヒートスプレッダ25の縁25cは図3及び図4に示すように第1熱接続面25a側に折れ曲がっている。この縁25aはヒートスプレッダ25の全周にわたって設けたが、互いに平行な2辺のみに設けてもよい。
【0042】
このヒートスプレッダ25は、半導体パッケージ14とヒートシンク24との間に介在されている。この配置において、第1熱接続面25aは半導体パッケージ14側に位置し、第2熱接続面25bはヒートシンク24側に位置している。
【0043】
ヒートスプレッダ25は、半導体パッケージ14を覆ってこのパッケージ14に接合金属部材26及び接着剤30を用いて一体化されている。この一体化により、半導体パッケージ14とヒートスプレッダ25とを、電子機器1の組立て等において単一部品として取扱うことができる。
【0044】
接合金属部材26は、半導体パッケージ14が有したICチップ16の発熱面16aとヒートスプレッダ25の第1熱接続面25aとの間のクリアランスに介在されている。接着剤30は、半導体パッケージ14のベース基板15とヒートスプレッダ25の縁25cとの間に介在されて、これらを接合している。
【0045】
接合金属部材26は、発熱面16aと第1熱接続面25aとを熱的に接続してICチップ16とヒートスプレッダ25とを接合している。この接合金属部材26は、鉛を含まない低融点金属、好適には、鉛フリーの錫合金で作られている。
【0046】
接合金属部材26は、はんだのような接合機能を有しており、その熱伝導率は30W/mK前後と高い。この接合金属部材26の融点は、鉛を含んだはんだの融点よりも少し高いが、200℃前後と比較的低い。このように接合金属部材26が低融点金属であるので、これを用いて接合を行なう際に、周囲部品の耐熱性も前記低融点に応じた程度でよい。そのため、前記接合において高温環境及び耐高温部品等を要求されないので、製造上での使い勝手がよい点で優れている。
【0047】
接合金属部材26は好ましい例として層状をなして前記接合をなしており、この接合金属層の厚みは熱抵抗をより小さくするために例えば0.1mm程度とすることが望ましい。
【0048】
前記接合金属部材26をなす錫合金としては、錫(Sn)を主成分とするSn−Ag基合金、又は錫を主成分とするSn−Zn基合金を好適に使用できる。
【0049】
鉛を含まないSn−Ag基合金は、80重量%以上98重量%のSnと、2重量%以上10重量%の銀(Ag)とを含み、これに必要に応じて添加元素を混入したものである。添加元素としては、銅(Cu)、インジウム(In)、ビスマス(Bi)等を挙げることができる。
【0050】
このSn−Ag基合金の具体例を以下に示す。
例1:Sn96.5重量%、Ag3重量%、 Cu0.5重量%
例2:Sn93重量%、 Ag3.5重量%、In3重量%、Bi0.5重量%
例3:Sn92重量%、 Ag3.5重量%、In4重量%、Bi0.5重量%
例4:Sn88重量%、 Ag3.5重量%、In8重量%、Bi0.5重量%
例5:Sn91.4重量%、Ag3.2重量%、In2.7重量%、Bi2.7重量%
例6:Sn93重量%、 Ag3.5重量%、In3重量%、Bi0.5重量%
又、鉛を含まないSn−Zn基合金は、80重量%以上98重量%のSnと、2重量%以上15重量%の亜鉛(Zn)とを含み、これに必要に応じて添加元素を混入したものである。添加元素としてはBi等を挙げることができる。
【0051】
このSn−Ag基合金の具体例を以下に示す。
例:Sn89重量%、Zn8重量%、Bi3重量%
前記接着剤30は、半導体パッケージ14のベース基板15に向けて折れ曲がったヒートスプレッダ25の縁25cと、ベース基板15とを接着している。この接着剤30には、熱伝導性に優れる接着材料、例えば熱硬化性のシリコン系接着剤を用いるとよい。
【0052】
図4(A)に示すようにベース基板15と前記縁25cとの間の距離Aは、発熱面16aと第1熱接続面25aとの間のクリアランスBより大きくなるように設定されている。そのため、層状をなした接合金属部材26の厚みは接着剤30の層よりも薄くなっている。この構成により、前記縁25cがベース基板15に当たって、第1熱接続面25aを発熱面16aに近接させることを妨げないようにできる。そのため、接合金属部材26の厚みを既述のように0.1mm程度と極めて薄くすることが可能であり、この接合金属部材26自体の熱抵抗をより小さくできる点で優れている。
【0053】
前記熱伝導部材27は、ヒートスプレッダ25の第2熱接続面25bとヒートシンク24のベース部24aとの間のクリアランスに介在されている。回路基板13へのヒートシンク24のねじ止めに伴って熱伝導部材27は、第2熱接続面25bとベース部24aとに挟圧されて、これらに密接している。
【0054】
熱伝導部材27は第2熱接続面25bと略同じ大きさの面積を有するように広がっていて、その面積は発熱面16aより遥かに大きい。この熱伝導部材27の厚みは接合金属部材26の厚みより厚い。熱伝導部材27は、第2熱接続面25b及びベース部24aに密着して、ヒートスプレッダ25とヒートシンク24とを熱的に接続している。そのため、熱伝導部材27を通して第2熱接続面25bの熱がベース部24aに伝えられる。
【0055】
合成樹脂成分を主材とする熱伝導部材27の熱伝導率は、金属製のヒートスプレッダ25及び接合金属部材26の熱伝導率よりも小さい。なお、熱伝導部材27での熱抵抗改善のために、この熱伝導部材27の主材をなす合成樹脂成分にフィラーを混入することができる。フィラーには、前記主材の熱伝導率よりも熱伝導率が大きい金属又はセラミック等を用いればよい。このようにフィラーが混入された熱伝導部材27を使用する場合には、その熱伝導率が大きくなる。そのため、ヒートスプレッダス25からヒートシンク24への熱移動がより容易となり、半導体パッケージ14の放熱性を更に向上できる点で優れている。
【0056】
熱伝導部材27には、柔軟でかつ熱伝導性に優れたシリコンゴムシート又はグリースを好適に使用できる。シリコンゴムシート又はグリース製の熱伝導部材27を用いることにより、半導体パッケージ14より大きいヒートシンク24を、ヒートスプレッダ25に対して熱伝導部材27を境に分離可能に設けることができる。
【0057】
そのため、回路基板13の検査をする場合には、ヒートシンク24を分離して行なえる。よって、前記検査において、半導体パッケージ14回りに検査プローブなどを接触させる際に、大形なヒートシンク24が邪魔になることがない。又、半導体パッケージ14に一体化されたヒートスプレッダ25は、半導体パッケージ14の外形サイズより小さく、このパッケージ14の周囲にはみ出すことがない。そのため、このヒートスプレッダ25も前記検査の際に邪魔となることがない。
【0058】
しかも、シリコンゴムシート又はグリース製の熱伝導部材27を用いたので、ヒートシンク24の分離に際して高温を作用させる必要がなく、当然に再びヒートシンク24を取付ける際にも高温を作用させる必要がない。そのため、前記検査等におけるヒートシンク24のヒートスプレッダ25に対する取付け・取外しを容易に行なえる。
【0059】
図2に示すように前記電動ファン部23は、ファンケーシング41と、ファンモータ42とを備えている。ファンモータ42は、アウタロータ形の扁平モータ42aと、そのロータの外周面に突設した多数枚のファン42bとから形成されている。このファンモータ42は、半導体パッケージ14の温度が動作保証温度を上回ると駆動される。
【0060】
ファンケーシング41は、中空の箱状をなして、ファンモータ42を収容している。ファンケーシング41は、冷却風路28の上流端に連続してヒートシンク24と一体化されている。このファンケーシング41には、ファンモータ42のファン42bと対向して吸込み口43が形成されている。
【0061】
コンピュータ1の使用中に、半導体パッケージ14の温度が予め定められた動作保証温度を超えると、ファンモータ42が駆動される。すると、ファンモータ42は、吸込み口43から吸込んだ空気を、冷却風としてファンケーシング41内から冷却風路28に送り込む。この風は、放熱フィン24cの周囲を通って、排気口29から筐体4の外部に排出される。
【0062】
前記冷却風は、冷却風路28を流れる過程で、ヒートシンク24を強制的に冷却する。そのため、以下説明するようにヒートシンク24に放出される半導体パッケージ14の放熱が促進される。
【0063】
前記構成のコンピュータ1の使用中に発熱するICチップ16とヒートシンク24との間には、ヒートスプレッダ25が配置され、このヒートスプレッダ25の第1熱接続面25aとICチップ16の発熱面16aとは、極めて薄い接合金属部材26で金属接合されている。
【0064】
接合金属部材26の熱伝導率は30W/mKと熱伝導性のグリースに比較して遥かに高く、しかも、接合金属部材26の厚みは0.1mm程度を薄く、それ自体の熱抵抗も小さい。このため、ICチップ16とヒートスプレッダ25との熱接続部分の熱抵抗を、熱伝導性グリースで熱接続した場合に比較して、略1/10以下と極めて小さくできる。したがって、ICチップ16で生成された熱を、接合金属部材26を通じてヒートスプレッダ25に効率よく伝えることができる。
【0065】
又、ヒートスプレッダ25と半導体パッケージ14のベース基板15とは、熱伝導性に優れた接着剤30を介して熱的に接続されている。このため、ICチップ16によって加熱されたベース基板15の熱も、接着剤30を通してヒートスプレッダ25に伝えることができるので、ベース基板15の温度上昇も抑制できる。
【0066】
そして、ヒートスプレッダ25の第1、第2の熱接続面25a、25bの面積は、ICチップ16の発熱面16aより遥かに大きく、かつ、ヒートスプレッダ25の熱伝導率は熱伝導部材27の熱伝導率より大きい。このため、ICチップ16からヒートスプレッダ25に伝えられた熱は、ヒートスプレッダ25の隅々にまで速やかに拡散される。こうしてヒートスプレッダ25の全体にわたり拡散された熱は、第2熱接続面25bとヒートシンク24とを熱接続している熱伝導部材27を通ってヒートシンク24に伝えられ、このヒートシンク24から周囲に放出される。
【0067】
このようにヒートスプレッダ25とヒートシンク24との熱接続部分では、熱接続に必要な面積を充分に大きく確保しているから、単位面積当たりの熱移動量が小さく抑えられる。よって、熱伝導部材27が接合金属部材26に比較して厚いにも拘わらず、ヒートスプレッダ25とヒートシンク24との温度差を小さくできる。
【0068】
以上のような放熱系によって、ICチップ16の熱を、接合金属部材26により効率よくヒートスプレッダ25に伝えるとともに、このヒートスプレッダ25からヒートシンク24に効率よく熱を移動させることができる。それにより、ICチップ16の放熱性能を高めて、その温度上昇を抑制できるとともに、この抑制によってコンピュータ1の安定した動作を保証できる。
【0069】
前記放熱系では、接合金属部材26に鉛成分を含まない鉛フリーはんだ等の錫合金を用いて、既述のようにICチップ16の熱を速やかに高効率でヒートスプレッダ25に移動させている。このように接合金属部材26が、人体の健康に対して有害な鉛を含んでいないので、製造面及びリサイクル面等における環境への悪影響がない点で好ましい。
【0070】
又、錫を主成分とする合金からなる接合金属部材26を採用したことにより、この接合金属部材26の融点を低く抑制できる。そのため、半導体パッケージ14にヒートスプレッダ25を金属接合するに際して、かなり高い高温を作用させる必要がないので、製造上好ましい。
【0071】
しかも、接合金属部材26の主成分をなす錫は、その入手が容易かつ低コストである。よって、接合金属部材26のコストが廉価である点でも優れている。
【0072】
図5および図6は本発明の第2実施形態を示している。この実施形態は基本的には第1実施形態と同様な構成であるので、同様構成部分には第1実施形態と同じ符号を付して、その構成および作用の説明を省略し、以下異なる部分について説明する。第2実施形態が第1実施形態と異なる部分は、冷却装置21の放熱部22である。
【0073】
この第2実施形態において放熱部22は、ヒートシンク24と接合金属部材26とを備えて形成され、第1実施形態で使用したヒートスプレッダ及び熱伝導部材は省略されている。そして、接合金属部材26は、ICチップ16とヒートシンク24のベース部24aとの間にわずかなクリアランスに介在されて、これらを熱的に接続して設けられている。つまり、層状の接合金属部材26を介してICチップ16とヒートシンク24とは直接的に接合されている。なお、以上の点以外の構成は、図5及び図6に示されない構成を含めて、第1実施形態と同様である。
【0074】
このような構成においては、発熱体としてのICチップ16で生成された熱を、接合金属部材26を通してヒートシンク24に直接的に伝えて、このヒートシンク24から放出させることができる。
【0075】
この放熱系において、ICチップ16とヒートシンク24とを金属接合した接合金属部材26は、その厚みが0.1mm程度と薄く、熱伝導率が30W/mKと極めて高い。そのため、ICチップ16とヒートシンク24との熱接続部分の熱抵抗が小さく抑えられ、ICチップ16の熱を効率よくヒートシンク24に伝えて放熱できる。したがって、ICチップ16の放熱性能を高めて、その温度上昇を抑制できるとともに、この抑制によってコンピュータ1の安定した動作を保証することができる。
【0076】
そして、接合金属部材26に鉛成分を含まない錫合金を用いたので、環境への悪影響がない点で好ましい。さらに、この接合金属部材26の融点を低く抑制でき、しかも、接合金属部材26のコストが廉価である点でも優れている。
【0077】
【発明の効果】
本発明は、以上説明したような形態で実施され、以下に記載されるような効果を奏する。
【0078】
本発明の冷却装置によれば、発熱体の熱が接合金属部材を経て効率よくヒートスプレッダに伝わるとともに、発熱体によって加熱されたベース基板の熱が接着剤を通してヒートスプレッダに伝わり、このヒートスプレッダからヒートシンクに効率よく熱を移動させるので、発熱体の放熱性能を高めることができるとともに、前記接合金属部材に鉛成分を含まない錫合金を用いたので、環境に悪影響を及ぼさない点で優れている。
【0080】
又、本発明の電子機器によれば、発熱する IC チップの熱が接合金属部材を通して効率よくヒートシンクに伝わるとともに、 IC チップによって加熱されたベース基板の熱が接着剤を通してヒートスプレッダに伝わるので、発熱体の放熱性能を高めることができるとともに、前記接合金属部材に鉛成分を含まない錫合金を用いたので、環境に悪影響を及ぼさない点で優れている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係る電子機器を示す斜視図。
【図2】図1の電子機器の一部を示す断面図。
【図3】図1の電子機器が備える半導体パッケージとヒートスプレッダとの関係を示す斜視図。
【図4】(A)は図1の電子機器が備える冷却装置の放熱部を示す断面図。
(B)は図1の電子機器が備える半導体パッケージ、ヒートスプレッダ、及びヒートシンクを互いに分離した状態で示す断面図。
【図5】本発明の第2実施形態に係る電子機器の一部を示す断面図。
【図6】図5の電子機器が備える冷却装置の放熱部示す断面図。
【符号の説明】
1…コンピュータ(電子機器)
4…筐体
13…回路基板
14…半導体パッケージ(電子部品)
15…ベース基板
16…ICチップ(発熱体)
21…冷却装置
22…放熱部
24…ヒートシンク
25…ヒートスプレッダ
25a…ヒートスプレッダの縁
26…接合金属部材
27…熱伝導部材
30…接着剤
Claims (2)
- ベース基板及びこの基板より小さく前記ベース基板の一面に取付けられた発熱体よりなる半導体パッケージの前記発熱体より大きくこの発熱体を覆って配置されるヒートシンクと、
前記発熱体より大きく形成されて前記ヒートシンクと前記発熱体との間に介在されるととともに、熱伝導性の接着剤を介して前記ベース基板に接着された縁を有するヒートスプレッダと、
鉛成分を含まない錫合金からなり、前記ヒートスプレッダと前記発熱体とを熱的に接続するようにこれらを接合して、前記ヒートスプレッダと前記発熱体との間に介在され、かつ、前記接着剤の厚みより薄い接合金属部材と、
前記ヒートスプレッダと前記ヒートシンクとの間に介在され、これらヒートスプレッダとヒートシンクとを熱的に接続する熱伝導部材と、
を具備したことを特徴とする冷却装置。 - 筐体と、
この筐体に内蔵された回路基板と、
ベース基板及びこのベース基板より小さく前記ベース基板の一面に取付けられた発熱する IC チップを有して前記回路基板に実装された電子部品と、
前記 IC チップより大きくこの IC チップを覆って配置されるヒートシンクと、
前記 IC チップより大きく形成されて前記ヒートシンクと前記 IC チップとの間に介在されるとともに、熱伝導性の接着剤を介して前記ベース基板に接着された縁を有するヒートスプレッダと、
鉛成分を含まない錫合金からなり、前記ヒートスプレッダと前記 IC チップとの間に介在され、前記ヒートスプレッダと前記 IC チップとを熱的に接続し、かつ、前記接着剤の厚みより薄い接合金属部材と、
を具備したことを特徴とする電子機器。
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