JP3581090B2 - Dry desulfurization / denitration equipment - Google Patents

Dry desulfurization / denitration equipment Download PDF

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JP3581090B2
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  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、乾式脱硫・脱硝装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、乾式脱硫・脱硝装置においては、反応塔の上端から下端に向けて活性炭等の媒体を移動させ、その間に被処理ガスを通すことによって脱硫と脱硝とを同時に行い、被処理ガスから亜硫酸ガス(SO)等の硫黄酸化物、及び窒素酸化物(NO)を除去するようにしている。
【0003】
図2は従来の反応塔の斜視図、図3は従来の反応塔の断面図、図4は従来の粒度分布の測定結果を示す図である。
【0004】
図において、11は内部に互いに平行な一対の移動層10が形成された反応塔本体であり、該反応塔本体11は、角錐(すい)形状を有する上部ホッパ12、該上部ホッパ12と連結された断面が矩(く)形の胴部13、該胴部13と連結された角錐形状を有する下部ホッパ14を備える。そして、前記上部ホッパ12は上端に媒体供給口15を、前記下部ホッパ14は下端に媒体排出口16を有し、前記媒体供給口15を介して供給された媒体17は上部ホッパ12内、移動層10内及び下部ホッパ14内を下方に移動し、媒体排出口16から外部に排出される。さらに、前記媒体排出口16を介して排出された媒体17は、図示されない再生装置において再生させられ、再び上部ホッパ12に供給される。
【0005】
前記胴部13の側壁の一方には、被処理ガスが供給される被処理ガス供給部18が、側壁の他方には、被処理ガスが排出される被処理ガス排出部20が形成され、前記胴部13内において、前記被処理ガス供給部18から供給された被処理ガスは左右に分流され、各移動層10内を移動し、被処理ガス排出部20から排出される。なお、前記反応塔本体11、被処理ガス供給部18、被処理ガス排出部20等によって反応塔が、該反応塔、再生装置等によって乾式脱硫・脱硝装置が構成される。
【0006】
そして、前記移動層10は、前記被処理ガスの流れ方向における上流側に入口ルーバ10aを、下流側に出口ルーバ10bを備える。また、移動層10の本体部分は上下方向に延在させて配設された複数の区画板10cによって区画され、複数の区画室が形成される。前記入口ルーバ10aは媒体17が落下しないような開口の構造を有し、出口ルーバ10bは多孔プレートから成り、該多孔プレートの各穴の径は前記媒体17の粒子径より小さく設定され、いずれも被処理ガスだけを通過させ、媒体17が入口ルーバ10a及び出口ルーバ10bから外部に流出することがないようになっている。
【0007】
前記移動層10の下端、すなわち、前記胴部13と下部ホッパ14との間には、図示されない駆動系によって回転させられ、移動層10のレベルを一定に調整しながら媒体排出口16から媒体17を定量ずつ排出するための切出装置22が配設される。したがって、移動層10内の媒体17は、一定の速度で下方に移動させられ、その間に被処理ガスと直交流で接触し、脱硫及び脱硝を同時に行う。
【0008】
ところで、前記媒体17は反応塔本体11の上方の1箇所に形成された媒体供給口15を介して供給されるので、移動層10の上端に所定の安息角θを有する媒体17の山が形成される。なお、胴部13の幅をLとし、上部ホッパ12内に形成された媒体17の山の高さをHとすると、前記安息角θは
θ=tan−1{H/(L/2)}
で表すことができる。そして、媒体17として活性炭を使用した場合、該活性炭は、移動層10内を図4に示されるような粒度分布で移動させられる。
【0009】
ところで、前記移動層10において、入口ルーバ10a、出口ルーバ10b、区画板10c等が破損したり、各区画室内において媒体17が閉塞(そく)したりして反応塔に何らかの異常が発生すると、脱硫及び脱硝を円滑に行うことができなくなってしまう。そこで、反応塔に異常が発生すると、媒体排出口16から排出された媒体17を前記再生装置に供給せず、図示されないパージ槽に供給し、該パージ槽に一時的に蓄えるようにしている。したがって、その間に、入口ルーバ10a、出口ルーバ10b、区画板10c等を補修したり、各区画室内において閉塞した媒体17を除去したりするようにしている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来の乾式脱硫・脱硝装置においては、反応塔に異常が発生したときに、媒体17を蓄えるための前記パージ槽が必要になるだけでなく、媒体排出口16から排出された媒体17を前記パージ槽に供給するためにコンベヤ等の図示されない搬送手段が必要になるので、乾式脱硫・脱硝装置のコストが高くなってしまう。
【0011】
本発明は、前記従来の乾式脱硫・脱硝装置の問題点を解決して、パージ槽、コンベヤ等を配設する必要がなく、コストを低くすることができる乾式脱硫・脱硝装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
そのために、本発明の乾式脱硫・脱硝装置においては、移動層と、該移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層に供給するための被処理ガス供給室と、前記移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層から排出するための被処理ガス排出室と、前記移動層の上端に配設され、複数のホッパ室を備えた上部ホッパと、前記移動層より上方に配設され、媒体入口を介して媒体が供給される上部分配ホッパと、該上部分配ホッパと各ホッパ室との間に配設され、上部分配ホッパ内の媒体を各ホッパ室に供給するシュートと、前記上部分配ホッパと被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方との間に配設されたパージ管と、該パージ管に配設された開閉手段とを有する。
【0013】
本発明の他の乾式脱硫・脱硝装置においては、さらに、異常が発生したかどうかを判断する異常発生判断処理手段と、異常が発生したと判断された場合に、前記開閉手段を開放する開放処理手段とを有する。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【0015】
図1は本発明の実施の形態における乾式脱硫・脱硝装置の要部を示す概略図、図5は本発明の実施の形態における反応塔の要部を示す概略図、図6は本発明の実施の形態における反応塔の平面図である。
【0016】
図において、31は反応塔本体であり、該反応塔本体31は、上部分配ホッパ36、上部ホッパ42、43、胴部48及び図示されない下部ホッパを備える。また、35は媒体供給コンベヤであり、該媒体供給コンベヤ35によって搬送された媒体17は、上部分配ホッパ36内に落下させられる。
【0017】
該上部分配ホッパ36は、直径が約3〔m〕のほぼ円柱形の形状を有し、上壁に媒体入口37を備えるとともに、下壁に角度が45〔°〕の逆円錐形の形状を有する下部逆円錐部38が形成される。該下部逆円錐部38の斜面には、半径1〔m〕の同一円上の16箇所にシュート入口39が形成される。また、下部逆円錐部38の最下部には、1個のパージ穴40が形成され、該パージ穴40に鉄製パイプから成るパージ管41が接続される。
【0018】
前記胴部48は、一対の移動層55、各移動層55間において移動層55に隣接させて配設され、被処理ガスを各移動層55に供給するための被処理ガス供給室61、及び前記各移動層55の外側において移動層55に隣接させて配設され、被処理ガスを各移動層55から排出するための一対の被処理ガス排出室62、63を備え、前記被処理ガス供給室61に被処理ガス入口65が、前記被処理ガス排出室62、63にそれぞれ被処理ガス出口66、67が形成される。なお、前記上部分配ホッパ36は各移動層55より上方に配設される。また、前記反応塔本体31、被処理ガス入口65、被処理ガス出口66、67等によって反応塔が構成される。
【0019】
そして、前記各移動層55は、被処理ガス供給室61に面する側に入口ルーバ71を、被処理ガス排出室62、63に面する側に図示されない出口ルーバを備えるとともに、それぞれ上端に上部ホッパ42、43を、下端に前記下部ホッパを備え、該各上部ホッパ42、43はそれぞれ8個の角錐形の形状を有するホッパ室45を備える。前記入口ルーバ71は媒体17が落下しないような開口の構造を有し、出口ルーバは多孔プレートから成り、該多孔プレートの各穴の径は前記媒体17の粒子径より小さく設定され、いずれも被処理ガスだけを通過させることができ、媒体17が入口ルーバ71及び出口ルーバから外部に流出することがないようになっている。
【0020】
そして、前記上部分配ホッパ36と各ホッパ室45との間に、直径が200〜300〔mm〕の鉄製パイプから成るシュート47が配設され、各シュート47によって、上部分配ホッパ36内の媒体17が各ホッパ室45に供給される。また、前記パージ穴40と被処理ガス供給室61との間に前記パージ管41が配設され、該パージ管41を介して、必要に応じて上部分配ホッパ36内の媒体17が被処理ガス供給室61に供給される。そして、前記各移動層55は7個の区画板49によって区画され、前記各ホッパ室45に対応させて8個の区画室50が形成される。
【0021】
前記下部ホッパは角錐形状の形状を有し、下部ホッパの下端に媒体排出口が形成される。また、前記各移動層55の下端、すなわち、前記胴部48と下部ホッパとの間には、図示されない駆動系によって回転させられ、移動層55のレベルを一定に調整しながら媒体排出口から媒体17を定量ずつ排出するための図示されない切出装置が配設される。したがって、各移動層55内の媒体17は、一定の速度で下方に移動させられ、その間に被処理ガスと接触し、脱硫及び脱硝を同時に行う。
【0022】
前記構成の反応塔において、被処理ガス入口65から図6における矢印方向に供給された被処理ガスは、被処理ガス供給室61において左右(図6における上下)に分流され、各移動層55内を通過して被処理ガス排出室62、63に送られ、被処理ガス出口66、67から図6における矢印方向に排出される。
【0023】
また、媒体供給コンベヤ35によって搬送された媒体17は媒体入口37を介して上部分配ホッパ36に供給される。このとき、前記媒体17は、上部分配ホッパ36内の中心部に落下し、粒径の大きな媒体17は、山の斜面に沿って落下して上部分配ホッパ36内の周辺部に集まり、粒径の小さな媒体17は、上部分配ホッパ36内の中央部に集まるが、円周方向においては、同じ粒度分布で集まる。したがって、同じ粒径の媒体17が、各シュート47を通り、上部ホッパ42、43の各ホッパ室45に供給される。
【0024】
そして、該各ホッパ室45の媒体17は、それぞれ各区画室50に供給され、区画室50内を下方に移動させられるが、その間に被処理ガス供給室61から供給された被処理ガスと直交流で接触し、被処理ガス中の亜硫酸ガス等の硫黄酸化物を吸着するとともに、窒素酸化物を無害な窒素(N)と水(HO)とに分解する。このようにして脱硫及び脱硝が同時に行われる。
【0025】
そして、各区画室50から下部ホッパに供給された媒体17は、前記媒体排出口から排出されて図示されない再生装置に送られ、該再生装置において再生させられ、再び上部分配ホッパ36に供給される。なお、前記反応塔、再生装置等によって乾式脱硫・脱硝装置が構成される。
【0026】
ところで、前記上部分配ホッパ36の内径をDとし、各シュート入口39の中心を通る円の直径をDとし、シュート47の直径をDとし、上部ホッパ42、43の分割数、すなわち、各上部ホッパ42、43におけるホッパ室45の数をnとし、各シュート入口39間のピッチをPとすると、
=(2n・D+2n・P)/π
の関係になる。
【0027】
そして、
/D=2/3
とし、また、媒体17の直径をDとしたとき、各シュート47の直径Dを、
=K・D
(K:10〜30)
とする。なお、通常は、
=10〔mm〕
n=8〜12
P=50〜100〔mm〕
であるので、
=2〜3〔m〕
=1.3〜2〔m〕
程度とするのが好ましい。
【0028】
そして、前記上部分配ホッパ36の高さをHとし、上部分配ホッパ36の上壁から上部分配ホッパ36内に形成される媒体17の山の頂上までの高さをhとし、山の頂上から山の麓(ふもと)までの高さをhとし、山の麓から上部分配ホッパ36の下壁までの高さをhとすると、
H=h+h+h
になり、

Figure 0003581090
になる。
【0029】
また、媒体17の山の安息角θは、
θ=tan−1{h/(D/2)}
になり、通常、35〔°〕程度である。
【0030】
そして、各シュート47と各上部ホッパ42、43とが連結される部分の傾き角をθ〜θとすると、傾き角θ〜θは、
θ=θ<θ=θ<θ=θ<θ=θ
になるように設定される。通常、傾き角θは45〔°〕以上にするのが好ましい。さらに、各移動層55の幅をLとし、各ホッパ室45の底部の幅をL〜Lとし、各ホッパ室45の高さをhとすると、
L=K・L
(K:4〜10)
=L=L=L=L=L=L=L
であり、各ホッパ室45の角錐の角度θ′は、
θ′=tan−1{h/(L/2)}
で表すことができ、稜(りょう)角で40〔°〕とするのが好ましい。
【0031】
また、各移動層55の層厚wは、脱硝率によって左右され、
=1〜2〔m〕
とするのが好ましく、また、移動層55間の距離wは、
=K・w
(K:1〜3)
である。
【0032】
なお、本実施の形態においては、
0.6<L/w≦1.0
である。
【0033】
このように、同じ粒径の媒体17が、各ホッパ室45に供給され、各区画室50内を下方に移動させられるので、被処理ガスは、移動層55内を均一に流れるようになる。したがって、ガス偏流が発生するのを防止することができるので、脱硫率及び脱硝率を高くすることができる。
【0034】
ところで、前記各移動層55において、入口ルーバ71、出口ルーバ、区画板49等が破損したり、各区画室50内において媒体17が閉塞したりして反応塔に何らかの異常が発生すると、脱硫及び脱硝を円滑に行うことができなくなってしまう。そこで、反応塔に異常が発生すると、上部分配ホッパ36内の媒体17を、前記上部ホッパ42、43に供給せず、パージ管41を介して被処理ガス供給室61に供給し、該被処理ガス供給室61に一時的に蓄えるようにしている。したがって、その間に、入口ルーバ71、出口ルーバ、区画板49等を補修したり、各区画室50内において閉塞した媒体17を除去したりするようにしている。
【0035】
そのために、前記パージ管41の所定の位置に開閉手段としての弁72が配設され、駆動手段としてのアクチュエータ73を駆動することによって弁72を開閉させることができる。この場合、前記弁72として開閉弁、スライドゲート等を、アクチュエータ73としてモータ、エアシリンダ等を使用することができる。
【0036】
また、前記上部分配ホッパ36内の所定の位置にレベルセンサ75が配設され、該レベルセンサ75によって上部分配ホッパ36内の媒体17の高さhが検出され、検出された高さhが制御部74に送られる。なお、本実施の形態においては、レベルセンサ75は媒体17の山の頂上の近傍に配設されるようになっているが、山の頂上に配設したり、山の麓の近傍に配設したりすることもできる。また、前記レベルセンサ75としては、静電容量の変化に基づいて媒体17の高さhを検出するレベル指示計を使用することができる。
【0037】
そして、前記被処理ガス入口65に第1の圧力センサ76が、被処理ガス出口66に第2の圧力センサ77が配設され、前記第1の圧力センサ76によって被処理ガス入口65側の被処理ガスの圧力P1が検出され、前記第2の圧力センサ77によって被処理ガス出口66側の被処理ガスの圧力P2が検出され、検出された圧力P1、P2が制御部74に送られる。なお、必要に応じて被処理ガス出口67に第3の圧力センサを配設し、該第3の圧力センサによって被処理ガス出口67側の被処理ガスの圧力を検出し、検出された圧力を制御部74に送ることもできる。
【0038】
そして、前記制御部74の図示されない異常発生判断処理手段は、前記高さhを受けると、該高さhとあらかじめ設定された上限値hmaxとを比較することによって、第1の異常判定条件が成立するかどうかを判断し、前記高さhが上限値hmax以上である場合、第1の異常判定条件が成立すると判断し、前記高さhが上限値hmaxより低い場合、第1の異常判定条件が成立しないと判断する。
【0039】
また、前記異常発生判断処理手段は、前記高さhとあかじめ設定された下限値hminとを比較することによって、第2の異常判定条件が成立するかどうかを判断し、前記高さhが下限値hmin以下である場合、第2の異常判定条件が成立すると判断し、前記高さhが下限値hminより高い場合、第2の異常判定条件が成立しないと判断する。この場合、前記上限値hmax及び下限値hminは、レベルセンサ75が配設される位置に対応させて設定される。
【0040】
さらに、前記異常発生判断処理手段は、前記圧力P1、P2を受けると、圧力差ΔP
ΔP=P1−P2
を算出するとともに、該圧力差ΔPとあらかじめ設定された閾(しきい)値Pthとを比較することによって、異常判定付加条件が成立するかどうかを判断し、前記圧力差ΔPが閾値Pth以上である場合、異常判定付加条件が成立すると判断し、前記圧力差ΔPが閾値Pthより小さい場合、異常判定付加条件が成立しないと判断する。
【0041】
次に、前記異常発生判断処理手段は、第1、第2の異常判定条件及び異常判定付加条件が成立するかどうかによって反応塔に異常が発生しているかどうかを判断する。すなわち、前記異常発生判断処理手段は、第1の異常判定条件が成立し、かつ、異常判定付加条件が成立する場合、及び第2の異常判定条件が成立し、かつ、異常判定付加条件が成立しない場合には、反応塔に異常が発生したと判断し、第1、第2の異常判定条件がいずれも成立しない場合には、前記異常判定付加条件が成立するしないにかかわらず、反応塔に異常が発生していないと判断する。
【0042】
なお、本実施の形態においては、第1、第2の異常判定条件及び異常判定付加条件が成立するかどうかによって反応塔に異常が発生したかどうかを判断するようになっているが、第1、第2の異常判定条件が成立するかどうかによって反応塔に異常が発生したかどうかを判断することもできる。そのために、前記異常発生判断処理手段は、第1、第2の異常判定条件のうちのいずれか一方が成立する場合、反応塔に異常が発生したと判断し、第1、第2の異常判定条件がいずれも成立しない場合、反応塔に異常が発生していないと判断する。
【0043】
このようにして、異常発生判断処理が行われ、異常が発生していると判断されると、前記制御部74の図示されない警報処理手段は図示されない警報器、表示装置等によってアラームを発生させる。また、前記制御部74の図示されない開放処理手段は、前記アクチュエータ73を駆動して弁72を開放する。この場合、上部分配ホッパ36内の媒体17は、各移動層55には送られず、パージ管41を介して被処理ガス供給室61内に送られ、一時的に蓄えられる。したがって、各移動層55内から媒体17を除去することができるので、その間に、入口ルーバ71、出口ルーバ、区画板49等を補修したり、各区画室50内において閉塞した媒体17を除去したりすることができる。なお、前記被処理ガス供給室61の底部に前記媒体17を排出するための媒体出口81が形成され、前記被処理ガス供給室61内に蓄えられた媒体17を排出することができるようになっている。そのために、前記被処理ガス供給室61の底部は傾斜させられ、媒体17は自重で排出される。
【0044】
このように、媒体17を蓄えるためのパージ槽を別に配設する必要がなくなるだけでなく、媒体17を前記パージ槽に供給するためのコンベヤ等の搬送手段が不要になるので、乾式脱硫・脱硝装置のコストを低くすることができる。
【0045】
なお、本実施の形態においては、上部分配ホッパ36と被処理ガス供給室61とをパージ管41によって接続し、上部分配ホッパ36内の媒体17を被処理ガス供給室61に供給するようになっているが、上部分配ホッパ36と被処理ガス排出室62、63とをパージ管によって接続し、上部分配ホッパ36内の媒体17を被処理ガス排出室62、63に供給することもできる。
【0046】
また、本実施の形態において、弁72はアクチュエータ73を駆動することによって開放するようになっているが、前記警報器、表示装置等によるアラームに従って手動で開放することもできる。
【0047】
次に、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置との粒度分布の差について説明する。
【0048】
図7は従来の乾式脱硫・脱硝装置における粒度分布を示す図、図8は本発明の実施の形態における乾式脱硫・脱硝装置の粒度分布を示す図である。
【0049】
この場合、媒体17(図1)の全体(触媒全体)及び各区画室#1〜#8に供給された媒体17の粒度分布を示している。
【0050】
図7に示されるように、従来の乾式脱硫・脱硝装置においては、粒径の大きな媒体17は移動層10(図3参照)の幅L方向における周辺部の区画室#1、#8に集まり、粒径の小さな媒体17は移動層10の幅L方向における中央部の区画室#4、#5に集まってしまう。この場合、粒径のばらつきを示す標準偏差σは14.74である。
【0051】
これに対して、図8に示されるように、本発明の乾式脱硫・脱硝装置においては、粒径の大きな媒体17も粒径の小さな媒体17も、移動層55(図5)の幅L方向における全体にほぼ均一に供給される。この場合、標準偏差σは2.99である。
【0052】
次に、本実施の形態における脱硝率、空間速度及び媒体17の粒径の関係について説明する。
【0053】
図9は本発明の実施の形態における脱硝率、空間速度及び粒径の関係を示した図である。なお、図において、横軸に空間速度svを、縦軸に脱硝率を採ってある。
【0054】
ここで、空間速度svとは、被処理ガスの量を媒体17(図1)の量で割って得られる値であり、一定量の媒体17によって処理を行うことができる被処理ガスの量を示す。
【0055】
図に示されるように、空間速度svが低くなると、脱硝率が高くなり、また、粒径が小さいほど脱硝率が高くなる。
【0056】
前述されたように、前記移動層55(図5)の幅L方向において粒度分布は均一になるので、被処理ガスに偏流が発生することはない。したがって、空間速度svを一様に低くすることができ、脱硝率を高くすることができる。
【0057】
図10は各区画室ごとの脱硝率について、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置とを比較した図、図11は各区画室ごとの空間速度について、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置とを比較した図である。
【0058】
図から分かるように、本発明の乾式脱硫・脱硝装置においては、脱硝率及び空間速度svのいずれも各区画室#1〜#8にわたって平均的な値を有することができるので、乾式脱硫・脱硝装置の全体で脱硝率を約1.2〔%〕高くすることができる。
【0059】
なお、本実施の形態においては、乾式脱硫・脱硝装置の反応塔について説明しているが、本発明を媒体補給槽、脱離塔等に適用することもできる。
【0060】
また、媒体17(図1)としては、活性炭のほかに、金属系脱硝媒体等の一般的な媒体を使用することもできる。
【0061】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除するものではない。
【0062】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明によれば、乾式脱硫・脱硝装置においては、移動層と、該移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層に供給するための被処理ガス供給室と、前記移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動槽から排出するための被処理ガス排出室と、前記移動層の上端に配設され、複数のホッパ室を備えた上部ホッパと、前記移動層より上方に配設され、媒体入口を介して媒体が供給される上部分配ホッパと、該上部分配ホッパと各ホッパ室との間に配設され、上部分配ホッパ内の媒体を各ホッパ室に供給するシュートと、前記上部分配ホッパと被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方との間に配設されたパージ管と、該パージ管に配設された開閉手段とを有する。
【0063】
この場合、前記上部分配ホッパと被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方との間にパージ管が配設され、開閉手段の開放に伴って、上部分配ホッパ内の媒体がパージ管を介して前記被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方に供給される。
【0064】
したがって、上部分配ホッパ内の媒体は、移動層には送られず、被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方内に一時的に蓄えられる。その結果、移動層内から媒体を除去することができるので、その間に、入口ルーバ、出口ルーバ、区画板等を補修したり、各区画室内において閉塞した媒体を除去したりすることができる。
【0065】
また、媒体を蓄えるためのパージ槽を別に配設する必要がなくなるだけでなく、媒体を前記パージ槽に供給するためのコンベヤ等の搬送手段が不要になるので、乾式脱硫・脱硝装置のコストを低くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態における乾式脱硫・脱硝装置の要部を示す概略図である。
【図2】従来の反応塔の斜視図である。
【図3】従来の反応塔の断面図である。
【図4】従来の粒度分布の測定結果を示す図である。
【図5】本発明の実施の形態における反応塔の要部を示す概略図である。
【図6】本発明の実施の形態における反応塔の平面図である。
【図7】従来の乾式脱硫・脱硝装置における粒度分布を示す図である。
【図8】本発明の実施の形態における乾式脱硫・脱硝装置の粒度分布を示す図である。
【図9】本発明の実施の形態における脱硝率、空間速度及び粒径の関係を示した図である。
【図10】各区画室ごとの脱硝率について、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置とを比較した図である。
【図11】各区画室ごとの空間速度について、従来の乾式脱硫・脱硝装置と本発明の乾式脱硫・脱硝装置とを比較した図である。
【符号の説明】
17 媒体
36 上部分配ホッパ
37 媒体入口
41 パージ管
42、43 上部ホッパ
45 ホッパ室
47 シュート
55 移動層
61 被処理ガス供給室
62、63 被処理ガス排出室
72 弁
74 制御部[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a dry desulfurization / denitration device.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, in a dry desulfurization / denitration apparatus, a medium such as activated carbon is moved from an upper end to a lower end of a reaction tower, and a gas to be treated is passed therebetween, thereby simultaneously performing desulfurization and denitration, and a sulfurous acid gas is removed from the gas to be treated. (SO2) And nitrogen oxides (NOX).
[0003]
FIG. 2 is a perspective view of a conventional reaction tower, FIG. 3 is a cross-sectional view of the conventional reaction tower, and FIG. 4 is a view showing a measurement result of a conventional particle size distribution.
[0004]
In the figure, reference numeral 11 denotes a reaction tower main body in which a pair of moving layers 10 parallel to each other is formed. The reaction tower main body 11 is connected to the upper hopper 12 having a pyramid (cone) shape. The body 13 includes a body 13 having a rectangular cross section and a lower hopper 14 having a pyramid shape connected to the body 13. The upper hopper 12 has a medium supply port 15 at an upper end, and the lower hopper 14 has a medium discharge port 16 at a lower end. The medium 17 supplied through the medium supply port 15 moves inside the upper hopper 12. It moves downward in the layer 10 and the lower hopper 14 and is discharged from the medium discharge port 16 to the outside. Further, the medium 17 discharged through the medium discharge port 16 is reproduced by a reproducing device (not shown), and is supplied to the upper hopper 12 again.
[0005]
A processing gas supply unit 18 to which a processing gas is supplied is formed on one of the side walls of the body 13, and a processing gas discharge unit 20 from which the processing gas is discharged is formed on the other side wall. In the body 13, the gas to be processed supplied from the gas to be processed supply section 18 is divided into right and left, moves in each moving layer 10, and is discharged from the gas to be processed discharge section 20. The reaction tower is constituted by the reaction tower main body 11, the treated gas supply section 18, the treated gas discharge section 20, and the like, and the reaction tower, the regenerator and the like constitute a dry desulfurization / denitration apparatus.
[0006]
The moving bed 10 has an inlet louver 10a on the upstream side in the flow direction of the gas to be treated and an outlet louver 10b on the downstream side. Further, the main body portion of the moving layer 10 is partitioned by a plurality of partition plates 10c arranged so as to extend in the vertical direction, and a plurality of partition chambers are formed. The inlet louver 10a has an opening structure such that the medium 17 does not fall, and the outlet louver 10b is formed of a perforated plate, and the diameter of each hole of the perforated plate is set smaller than the particle diameter of the medium 17; Only the gas to be processed is passed, and the medium 17 does not flow out of the inlet louver 10a and the outlet louver 10b to the outside.
[0007]
The lower end of the moving layer 10, that is, between the body 13 and the lower hopper 14, is rotated by a driving system (not shown), and while the level of the moving layer 10 is adjusted to be constant, the medium A cutting device 22 for discharging a fixed amount at a time is provided. Therefore, the medium 17 in the moving bed 10 is moved downward at a constant speed, and in the meantime, comes into contact with the gas to be treated in cross-flow, and simultaneously performs desulfurization and denitration.
[0008]
Meanwhile, since the medium 17 is supplied through the medium supply port 15 formed at one position above the reaction tower main body 11, a mountain of the medium 17 having a predetermined angle of repose θ is formed at the upper end of the moving bed 10. Is done. If the width of the body 13 is L and the height of the mountain of the medium 17 formed in the upper hopper 12 is H, the angle of repose θ is
θ = tan-1{H / (L / 2)}
Can be represented by When activated carbon is used as the medium 17, the activated carbon is moved in the moving bed 10 with a particle size distribution as shown in FIG.
[0009]
By the way, in the moving bed 10, when the inlet louver 10a, the outlet louver 10b, the partition plate 10c, etc. are damaged, or the medium 17 is blocked (shortened) in each compartment, any abnormality occurs in the reaction tower, In addition, the denitration cannot be performed smoothly. Therefore, when an abnormality occurs in the reaction tower, the medium 17 discharged from the medium discharge port 16 is not supplied to the regenerating apparatus, but is supplied to a purge tank (not shown), and is temporarily stored in the purge tank. Therefore, in the meantime, the entrance louver 10a, the exit louver 10b, the partition plate 10c, and the like are repaired, and the medium 17 closed in each compartment is removed.
[0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional dry desulfurization / denitration apparatus, when an abnormality occurs in the reaction tower, not only the purge tank for storing the medium 17 is required, but also the medium 17 discharged from the medium discharge port 16. In order to supply the wastewater to the purge tank, a conveying means such as a conveyor (not shown) is required, so that the cost of the dry desulfurization / denitration apparatus is increased.
[0011]
The present invention solves the problems of the conventional dry desulfurization / denitration apparatus, and provides a dry desulfurization / denitration apparatus that does not require the provision of a purge tank, a conveyor, and the like, and can reduce the cost. Aim.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
Therefore, in the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention, a moving bed, a gas supply chamber to be processed which is disposed adjacent to the moving bed and supplies a gas to be processed to the moving bed, A gas discharge chamber for discharging a gas to be treated from the moving bed, an upper hopper provided at a top end of the moving bed and having a plurality of hopper chambers, An upper distribution hopper, which is disposed above and to which the medium is supplied via a medium inlet; and is disposed between the upper distribution hopper and each hopper chamber, and supplies the medium in the upper distribution hopper to each hopper chamber. A purging pipe disposed between the upper distribution hopper and at least one of the gas supply chamber and the gas discharge chamber, and an opening / closing means disposed in the purge pipe. .
[0013]
In another dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention, further, an abnormality occurrence determination processing means for determining whether an abnormality has occurred, and an opening process for opening the opening / closing means when it is determined that an abnormality has occurred. Means.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0015]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a main part of a dry desulfurization / denitration apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 5 is a schematic diagram showing a main part of a reaction tower according to an embodiment of the present invention, and FIG. It is a top view of a reaction tower in the form of.
[0016]
In the figure, reference numeral 31 denotes a reaction tower main body, and the reaction tower main body 31 includes an upper distribution hopper 36, upper hoppers 42 and 43, a body 48, and a lower hopper (not shown). Reference numeral 35 denotes a medium supply conveyor, and the medium 17 transported by the medium supply conveyor 35 is dropped into an upper distribution hopper 36.
[0017]
The upper distribution hopper 36 has a substantially cylindrical shape with a diameter of about 3 [m], has a medium inlet 37 on the upper wall, and has an inverted conical shape with an angle of 45 [°] on the lower wall. A lower inverted conical portion 38 is formed. On the slope of the lower inverted conical portion 38, chute inlets 39 are formed at 16 places on the same circle having a radius of 1 [m]. A single purge hole 40 is formed at the lowermost portion of the lower inverted conical portion 38, and a purge pipe 41 made of an iron pipe is connected to the purge hole 40.
[0018]
The body portion 48 is disposed adjacent to the moving layer 55 between the pair of moving layers 55, the moving layers 55, and a processing gas supply chamber 61 for supplying a processing gas to each moving layer 55, and A pair of gas discharge chambers 62 and 63 disposed outside the moving layers 55 and adjacent to the moving layers 55 for discharging the gas to be processed from the moving layers 55; A gas inlet 65 is formed in the chamber 61, and gas outlets 66 and 67 are formed in the gas discharge chambers 62 and 63, respectively. The upper distribution hopper 36 is disposed above each moving layer 55. Further, the reaction tower main body 31, the gas to be treated inlet 65, the gas to be treated outlets 66 and 67, etc. constitute a reaction tower.
[0019]
Each of the moving layers 55 has an inlet louver 71 on the side facing the processing gas supply chamber 61 and an outlet louver (not shown) on the side facing the processing gas discharge chambers 62 and 63, and has an upper part at the upper end. The lower hoppers are provided at the lower ends of the hoppers 42 and 43, and each of the upper hoppers 42 and 43 has a hopper chamber 45 having eight pyramidal shapes. The inlet louver 71 has an opening structure so that the medium 17 does not fall, and the outlet louver is formed of a perforated plate, and the diameter of each hole of the perforated plate is set smaller than the particle diameter of the medium 17. Only the processing gas can be passed through, and the medium 17 does not flow out of the inlet louver 71 and the outlet louver to the outside.
[0020]
A chute 47 made of an iron pipe having a diameter of 200 to 300 [mm] is arranged between the upper distribution hopper 36 and each hopper chamber 45, and the medium 17 in the upper distribution hopper 36 is moved by each chute 47. Is supplied to each hopper chamber 45. Further, the purge pipe 41 is provided between the purge hole 40 and the gas supply chamber 61, and the medium 17 in the upper distribution hopper 36 is supplied with the gas 17 through the purge pipe 41 as necessary. It is supplied to the supply chamber 61. Each moving layer 55 is partitioned by seven partition plates 49, and eight partition chambers 50 are formed corresponding to the respective hopper chambers 45.
[0021]
The lower hopper has a pyramid shape, and a medium outlet is formed at a lower end of the lower hopper. The lower end of each moving layer 55, that is, between the body portion 48 and the lower hopper, is rotated by a drive system (not shown) to adjust the level of the moving layer 55 from the medium discharge port to the medium outlet. A cutting device (not shown) for discharging a fixed amount of 17 is provided. Therefore, the medium 17 in each of the moving layers 55 is moved downward at a constant speed, during which the medium 17 comes into contact with the gas to be treated, and simultaneously performs desulfurization and denitration.
[0022]
In the reaction tower having the above-described configuration, the gas to be processed supplied from the gas to be processed inlet 65 in the direction of the arrow in FIG. 6 is split right and left (up and down in FIG. 6) in the gas to be processed supply chamber 61. And is sent to the gas discharge chambers 62 and 63 and discharged from the gas outlets 66 and 67 in the direction of the arrow in FIG.
[0023]
The medium 17 conveyed by the medium supply conveyor 35 is supplied to the upper distribution hopper 36 via the medium inlet 37. At this time, the medium 17 falls to the central part in the upper distribution hopper 36, and the medium 17 having a large particle diameter falls along the slope of the mountain and gathers in the peripheral part in the upper distribution hopper 36, and Medium 17 collects at the central portion in the upper distribution hopper 36, but collects with the same particle size distribution in the circumferential direction. Therefore, the medium 17 having the same particle diameter passes through the chutes 47 and is supplied to the hopper chambers 45 of the upper hoppers 42 and 43.
[0024]
The medium 17 in each of the hopper chambers 45 is supplied to each of the compartments 50, and is moved downward in the compartments 50. To adsorb sulfur oxides such as sulfurous acid gas in the gas to be treated and convert nitrogen oxides into harmless nitrogen (N2) And water (H2O). In this way, desulfurization and denitration are performed simultaneously.
[0025]
Then, the medium 17 supplied from each compartment 50 to the lower hopper is discharged from the medium discharge port, sent to a reproducing device (not shown), reproduced in the reproducing device, and supplied to the upper distribution hopper 36 again. Note that a dry desulfurization / denitration device is constituted by the reaction tower, the regeneration device, and the like.
[0026]
By the way, the inner diameter of the upper distribution hopper 36 is D1And the diameter of a circle passing through the center of each chute inlet 39 is D2And the diameter of the chute 47 is D3When the number of divisions of the upper hoppers 42 and 43, that is, the number of hopper chambers 45 in each of the upper hoppers 42 and 43 is n, and the pitch between the chute inlets 39 is P,
D2= (2nD3+ 2n · P) / π
Becomes the relationship.
[0027]
And
D2/ D1= 2/3
And the diameter of the medium 17 is D4And the diameter D of each chute 473To
D3= K1・ D4
(K1: 10-30)
And Usually,
D4= 10 [mm]
n = 8-12
P = 50-100 [mm]
So that
D1= 2-3 m
D2= 1.3-2 [m]
It is preferable to set the degree.
[0028]
The height of the upper distribution hopper 36 is H, and the height from the upper wall of the upper distribution hopper 36 to the top of the mountain of the medium 17 formed in the upper distribution hopper 36 is h.1And the height from the top of the mountain to the foot of the mountain2And the height from the foot of the mountain to the lower wall of the upper distribution hopper 36 is h3Then
H = h1+ H2+ H3
become,
Figure 0003581090
become.
[0029]
The angle of repose θ of the mountain of the medium 17 is
θ = tan-1{H2/ (D1/ 2)}
And is usually about 35 [°].
[0030]
Then, the inclination angle of the portion where each chute 47 is connected to each upper hopper 42, 43 is θ1~ Θ8Then the tilt angle θ1~ Θ8Is
θ1= Θ82= Θ73= Θ64= Θ5
Is set to be Normally, the inclination angle θ1Is preferably 45 [°] or more. Further, the width of each moving layer 55 is L, and the width of the bottom of each hopper chamber 45 is L.1~ L8And the height of each hopper chamber 45 is h4Then
L = K2・ L1
(K2: 4-10)
L1= L2= L3= L4= L5= L6= L7= L8
And the angle θ ′ of the pyramid of each hopper chamber 45 is
θ '= tan-1{H4/ (L1/ 2)}
And it is preferable that the ridge angle is 40 °.
[0031]
Also, the thickness w of each moving layer 551Depends on the denitration rate,
w1= 1 to 2 [m]
And the distance w between the moving layers 552Is
w2= K3・ W1
(K3: 1-3)
It is.
[0032]
In the present embodiment,
0.6 <L1/ W1≦ 1.0
It is.
[0033]
As described above, the medium 17 having the same particle size is supplied to each hopper chamber 45 and is moved downward in each compartment 50, so that the gas to be processed flows uniformly in the moving bed 55. Therefore, the occurrence of gas drift can be prevented, and the desulfurization rate and the denitration rate can be increased.
[0034]
By the way, in the moving bed 55, when the inlet louver 71, the outlet louver, the partition plate 49, etc. are damaged, or the medium 17 is closed in each of the compartments 50 and any abnormality occurs in the reaction tower, desulfurization and denitrification occur Cannot be performed smoothly. Therefore, when an abnormality occurs in the reaction tower, the medium 17 in the upper distribution hopper 36 is not supplied to the upper hoppers 42 and 43 but is supplied to the gas supply chamber 61 through the purge pipe 41 to be processed. The gas is temporarily stored in the gas supply chamber 61. Therefore, in the meantime, the entrance louver 71, the exit louver, the partition plate 49, and the like are repaired, and the medium 17 closed in each of the compartments 50 is removed.
[0035]
Therefore, a valve 72 as an opening / closing means is provided at a predetermined position of the purge pipe 41, and the valve 72 can be opened / closed by driving an actuator 73 as a driving means. In this case, an on-off valve, a slide gate, or the like can be used as the valve 72, and a motor, an air cylinder, or the like can be used as the actuator 73.
[0036]
A level sensor 75 is provided at a predetermined position in the upper distribution hopper 36. The level sensor 75 detects the height h of the medium 17 in the upper distribution hopper 36 and controls the detected height h. It is sent to the unit 74. In the present embodiment, the level sensor 75 is provided near the top of the mountain of the medium 17, but may be provided at the top of the mountain or near the foot of the mountain. You can also. Further, as the level sensor 75, a level indicator that detects the height h of the medium 17 based on a change in capacitance can be used.
[0037]
A first pressure sensor 76 is provided at the gas inlet 65 and a second pressure sensor 77 is provided at the gas outlet 66. The first pressure sensor 76 controls the gas pressure on the gas inlet 65 side. The pressure P1 of the processing gas is detected, the pressure P2 of the processing gas on the processing gas outlet 66 side is detected by the second pressure sensor 77, and the detected pressures P1 and P2 are sent to the control unit 74. If necessary, a third pressure sensor is provided at the gas to be processed 67, and the pressure of the gas to be processed at the gas to be processed 67 is detected by the third pressure sensor. It can also be sent to the control unit 74.
[0038]
Then, upon receiving the height h, the abnormality occurrence determination processing means (not shown) of the control unit 74 compares the height h with a preset upper limit value hmax to determine the first abnormality determination condition. It is determined whether or not the condition is satisfied. If the height h is equal to or more than the upper limit value hmax, it is determined that the first abnormality determination condition is satisfied. If the height h is lower than the upper limit value hmax, the first abnormality determination is performed. It is determined that the condition is not satisfied.
[0039]
Further, the abnormality occurrence determination processing means determines whether or not a second abnormality determination condition is satisfied by comparing the height h with a preset lower limit value hmin, and Is less than or equal to the lower limit value hmin, it is determined that the second abnormality determination condition is satisfied. If the height h is higher than the lower limit value hmin, it is determined that the second abnormality determination condition is not satisfied. In this case, the upper limit value hmax and the lower limit value hmin are set in accordance with the position where the level sensor 75 is provided.
[0040]
Further, upon receiving the pressures P1 and P2, the abnormality occurrence determination processing means receives the pressure difference ΔP
ΔP = P1-P2
And comparing the pressure difference ΔP with a preset threshold (threshold) value Pth to determine whether or not the abnormality determination additional condition is satisfied. If the pressure difference ΔP is equal to or greater than the threshold value Pth, In some cases, it is determined that the abnormality determination additional condition is satisfied. When the pressure difference ΔP is smaller than the threshold value Pth, it is determined that the abnormality determination additional condition is not satisfied.
[0041]
Next, the abnormality occurrence determination processing means determines whether an abnormality has occurred in the reaction tower based on whether the first and second abnormality determination conditions and the additional abnormality determination condition are satisfied. That is, the abnormality occurrence determination processing means determines that the first abnormality determination condition is satisfied and the additional abnormality determination condition is satisfied, and that the second abnormality determination condition is satisfied and the abnormality determination additional condition is satisfied. If not, it is determined that an abnormality has occurred in the reaction tower, and if neither the first nor the second abnormality determination condition is satisfied, regardless of whether the abnormality determination addition condition is satisfied, the reaction tower is determined to have failed. It is determined that no abnormality has occurred.
[0042]
In the present embodiment, whether or not an abnormality has occurred in the reaction tower is determined based on whether or not the first and second abnormality determination conditions and the additional abnormality determination condition are satisfied. Alternatively, it can be determined whether or not an abnormality has occurred in the reaction tower based on whether or not the second abnormality determination condition is satisfied. For this purpose, the abnormality occurrence determination processing means determines that an abnormality has occurred in the reaction tower when one of the first and second abnormality determination conditions is satisfied, and performs the first and second abnormality determination. When none of the conditions is satisfied, it is determined that no abnormality has occurred in the reaction tower.
[0043]
In this manner, the abnormality occurrence determination processing is performed, and when it is determined that an abnormality has occurred, the alarm processing means (not shown) of the control unit 74 generates an alarm by an alarm (not shown), a display device, or the like. Further, an opening processing means (not shown) of the control unit 74 drives the actuator 73 to open the valve 72. In this case, the medium 17 in the upper distribution hopper 36 is not sent to each moving bed 55 but is sent to the processing gas supply chamber 61 via the purge pipe 41 and is temporarily stored. Therefore, since the medium 17 can be removed from each of the moving layers 55, the entrance louver 71, the exit louver, the partition plate 49, and the like can be repaired in the meantime, and the medium 17 closed in each of the compartments 50 can be removed. can do. A medium outlet 81 for discharging the medium 17 is formed at the bottom of the processing gas supply chamber 61 so that the medium 17 stored in the processing gas supply chamber 61 can be discharged. ing. Therefore, the bottom of the gas supply chamber 61 is inclined, and the medium 17 is discharged by its own weight.
[0044]
In this way, not only is there no need to separately provide a purge tank for storing the medium 17, but also there is no need for a conveying means such as a conveyor for supplying the medium 17 to the purge tank. The cost of the device can be reduced.
[0045]
In the present embodiment, the upper distribution hopper 36 and the processing gas supply chamber 61 are connected by the purge pipe 41, and the medium 17 in the upper distribution hopper 36 is supplied to the processing gas supply chamber 61. However, the medium 17 in the upper distribution hopper 36 can be supplied to the gas discharge chambers 62 and 63 by connecting the upper distribution hopper 36 and the gas discharge chambers 62 and 63 with the purge pipe.
[0046]
Further, in the present embodiment, the valve 72 is opened by driving the actuator 73. However, the valve 72 can be opened manually in accordance with an alarm from the alarm device, the display device, or the like.
[0047]
Next, the difference in particle size distribution between the conventional dry desulfurization / denitration apparatus and the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention will be described.
[0048]
FIG. 7 is a diagram showing a particle size distribution in a conventional dry desulfurization / denitration device, and FIG. 8 is a diagram showing a particle size distribution in a dry desulfurization / denitration device according to an embodiment of the present invention.
[0049]
In this case, the particle size distribution of the entire medium 17 (FIG. 1) (the entire catalyst) and the medium 17 supplied to each of the compartments # 1 to # 8 are shown.
[0050]
As shown in FIG. 7, in the conventional dry desulfurization / denitration apparatus, the medium 17 having a large particle size gathers in the compartments # 1 and # 8 in the peripheral portion in the width L direction of the moving bed 10 (see FIG. 3). The medium 17 having a small particle size is collected in the compartments # 4 and # 5 at the center in the width L direction of the moving layer 10. In this case, the standard deviation σ indicating the variation of the particle size is 14.74.
[0051]
On the other hand, as shown in FIG. 8, in the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention, both the medium 17 having a large particle diameter and the medium 17 having a small particle diameter are in the width L direction of the moving layer 55 (FIG. 5). Are supplied almost uniformly throughout the In this case, the standard deviation σ is 2.99.
[0052]
Next, the relationship between the denitration rate, the space velocity, and the particle size of the medium 17 in the present embodiment will be described.
[0053]
FIG. 9 is a diagram showing a relationship between a denitration rate, a space velocity, and a particle diameter according to the embodiment of the present invention. In the drawing, the horizontal axis represents the space velocity sv, and the vertical axis represents the denitration rate.
[0054]
Here, the space velocity sv is a value obtained by dividing the amount of the gas to be processed by the amount of the medium 17 (FIG. 1), and the amount of the gas to be processed that can be processed by a certain amount of the medium 17 Show.
[0055]
As shown in the figure, when the space velocity sv decreases, the denitration rate increases, and as the particle size decreases, the denitration rate increases.
[0056]
As described above, since the particle size distribution becomes uniform in the width L direction of the moving layer 55 (FIG. 5), no drift occurs in the gas to be processed. Therefore, the space velocity sv can be uniformly reduced, and the denitration rate can be increased.
[0057]
FIG. 10 shows a comparison between the conventional dry desulfurization / denitration apparatus and the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention for the denitration rate of each compartment, and FIG. 11 shows the conventional dry desulfurization / denitration for the space velocity of each compartment. It is the figure which compared the device with the dry desulfurization and denitration device of the present invention.
[0058]
As can be seen from the figure, in the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention, since both the denitration rate and the space velocity sv can have an average value in each of the compartments # 1 to # 8, the dry desulfurization / denitration apparatus , The denitration rate can be increased by about 1.2%.
[0059]
In the present embodiment, the reaction tower of the dry desulfurization / denitration apparatus is described, but the present invention can be applied to a medium supply tank, a desorption tower, and the like.
[0060]
As the medium 17 (FIG. 1), a general medium such as a metal-based denitration medium can be used in addition to the activated carbon.
[0061]
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified based on the gist of the present invention, and they are not excluded from the scope of the present invention.
[0062]
【The invention's effect】
As described above in detail, according to the present invention, in a dry desulfurization / denitration apparatus, a moving bed and a processing target disposed adjacent to the moving bed for supplying a target gas to the moving bed. A gas supply chamber, a gas discharge chamber to be disposed adjacent to the moving bed, for discharging a gas to be processed from the moving tank, and a plurality of hopper chambers disposed at an upper end of the moving bed. An upper distribution hopper disposed above the moving bed and supplied with a medium through a medium inlet; and an upper distribution hopper disposed between the upper distribution hopper and each hopper chamber. A chute for supplying the medium to each hopper chamber, a purge pipe disposed between the upper distribution hopper and at least one of the gas supply chamber and the gas discharge chamber, and a purging pipe. And opening / closing means provided.
[0063]
In this case, a purge pipe is provided between the upper distribution hopper and at least one of the processing gas supply chamber and the processing gas discharge chamber, and the medium in the upper distribution hopper is opened with opening of the opening / closing means. The gas is supplied to at least one of the gas supply chamber and the gas discharge chamber via a purge pipe.
[0064]
Therefore, the medium in the upper distribution hopper is not sent to the moving bed but is temporarily stored in at least one of the gas supply chamber and the gas discharge chamber. As a result, since the medium can be removed from the moving bed, the entrance louver, the exit louver, the partition plate, and the like can be repaired, and the medium blocked in each compartment can be removed.
[0065]
Further, not only is it unnecessary to separately provide a purge tank for storing the medium, but also a transport means such as a conveyor for supplying the medium to the purge tank becomes unnecessary, so that the cost of the dry desulfurization / denitration apparatus is reduced. Can be lower.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram showing a main part of a dry desulfurization / denitration apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view of a conventional reaction tower.
FIG. 3 is a sectional view of a conventional reaction tower.
FIG. 4 is a diagram showing a measurement result of a conventional particle size distribution.
FIG. 5 is a schematic view showing a main part of a reaction tower according to an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a plan view of a reaction tower according to the embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a diagram showing a particle size distribution in a conventional dry desulfurization / denitration apparatus.
FIG. 8 is a diagram showing a particle size distribution of the dry desulfurization / denitration apparatus according to the embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a diagram showing a relationship between a denitration rate, a space velocity, and a particle diameter according to the embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a diagram showing a comparison between a conventional dry desulfurization / denitration apparatus and a dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention with respect to the denitration rate of each compartment.
FIG. 11 is a diagram comparing the conventional dry desulfurization / denitration apparatus with the dry desulfurization / denitration apparatus of the present invention with respect to the space velocity of each compartment.
[Explanation of symbols]
17 medium
36 Upper distribution hopper
37 Media inlet
41 Purge pipe
42, 43 Upper hopper
45 Hopper room
47 Shoots
55 Moving bed
61 Gas supply chamber
62, 63 Gas to be treated exhaust chamber
72 valves
74 control unit

Claims (2)

(a)移動層と、
(b)該移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層に供給するための被処理ガス供給室と、
(c)前記移動層に隣接させて配設され、被処理ガスを移動層から排出するための被処理ガス排出室と、
(d)前記移動層の上端に配設され、複数のホッパ室を備えた上部ホッパと、
(e)前記移動層より上方に配設され、媒体入口を介して媒体が供給される上部分配ホッパと、
(f)該上部分配ホッパと各ホッパ室との間に配設され、上部分配ホッパ内の媒体を各ホッパ室に供給するシュートと、
(g)前記上部分配ホッパと被処理ガス供給室及び被処理ガス排出室のうちの少なくとも一方との間に配設されたパージ管と、
(h)該パージ管に配設された開閉手段とを有することを特徴とする乾式脱硫・脱硝装置。
(A) a moving bed;
(B) a processing gas supply chamber disposed adjacent to the moving bed for supplying a processing gas to the moving bed;
(C) a treated gas discharge chamber disposed adjacent to the moving bed for discharging the treated gas from the moving bed;
(D) an upper hopper provided at an upper end of the moving bed and having a plurality of hopper chambers;
(E) an upper distribution hopper disposed above the moving bed and supplied with a medium through a medium inlet;
(F) a chute disposed between the upper distribution hopper and each hopper chamber to supply the medium in the upper distribution hopper to each hopper chamber;
(G) a purge pipe disposed between the upper distribution hopper and at least one of the gas supply chamber and the gas discharge chamber;
(H) a dry desulfurization / denitration apparatus comprising: an opening / closing means provided in the purge pipe.
(a)異常が発生したかどうかを判断する異常発生判断処理手段と、
(b)異常が発生したと判断された場合に、前記開閉手段を開放する開放処理手段とを有する請求項1に記載の乾式脱硫・脱硝装置。
(A) abnormality occurrence determination processing means for determining whether an abnormality has occurred;
2. The dry desulfurization / denitration apparatus according to claim 1, further comprising: (b) opening processing means for opening the opening / closing means when it is determined that an abnormality has occurred.
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