JP3550032B2

JP3550032B2 - Optical disc substrate formed from aromatic polycarbonate resin

Info

Publication number: JP3550032B2
Application number: JP33670398A
Authority: JP
Inventors: 真石田
Original assignee: Teijin Chemicals Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1998-11-27
Filing date: 1998-11-27
Publication date: 2004-08-04
Anticipated expiration: 2018-11-27
Also published as: JP2000163808A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、長期間にわたり高い信頼性を維持できる光ディスク用の基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、光ディスクや磁気ディスク等のディスク基板には、成形性、機械的強度、透明度等の点で他樹脂より優れている、芳香族ポリカーボネート樹脂が素材として利用されている。芳香族ポリカーボネート樹脂の製造法としては、ジヒドロキシ化合物とホスゲンを直接反応させる界面法、あるいはジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを加熱減圧下エステル交換反応させる溶融法などが知られている。このうち後者の溶融法は前者の界面法と比較して、安価に芳香族ポリカーボネート樹脂を製造できる等の利点を有する。ここで、従来の溶融法による芳香族ポリカーボネートの製造方法では、通常、触媒成分としてアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物などの金属触媒が用いられている。例えば、特開平８−５９９７５号公報には、溶融法による芳香族ポリカーボネートに関しての製造方法に関する記載がある。
【０００３】
光ディスク、レーザーディスク等のディスク基板の製造は、一般に射出成形にておこない、その成形温度は３００℃以上の高温で、かつ連続生産を要求される。このためポリカーボネート樹脂には高い熱安定性を要求される。しかし、上述の金属触媒を用いて得られる溶融法による芳香族ポリカーボネート樹脂は残存する金属触媒のため、溶融成形時にはその一部が熱分解することがあり、熱安定性に劣っていた。また、ディスクは長期間にわたり高温、高湿下に放置すると基板に白点が発生し、長期信頼性が損なわれるという欠点があった。近年この問題を含めて、ディスク基板に対するさらなる性能の向上の要求が高まってきている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の目的は、上述の問題を最小限に抑制しえた光ディスク基板、すなわち成形時の安定性および長期信頼性の高い光ディスク基板を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記問題を解決するために、さらに研究を重ねた。金属触媒はディスク基板の熱安定性に悪影響を及ぼす一方で、重縮合反応させる上では必要なものである。また熱安定性を抑えるためには、触媒失活剤を使用して金属触媒を失活させることが可能である。
【０００６】
本発明者の研究によれば、触媒失活剤の使用量が多すぎてもディスク基板の熱安定性および信頼性に影響を及ぼすことがわかった。触媒失活剤の使用割合はその種類や金属触媒の種類と濃度によって、その適量が一定ではないが、芳香族ポリカーボネート樹脂中の金属触媒の失活の程度は、その樹脂の溶融条件下において溶融粘度の変化を調べることによって大略判定できること、およびかくしてある条件下において溶融粘度の変化の割合を一定以下とした芳香族ポリカーボネート樹脂からのディスク基板は、熱安定性に優れ、しかもディスク基板として長期の信頼性も保持されていることが判明した。
【０００７】
すなわち、後述する条件下で、芳香族ポリカーボネート樹脂を溶融保持した時の溶融粘度を経時的に測定し、その粘度の１分間当たりの粘度変化率を、残存触媒活性指数と定義し、その指数をある値以下有する芳香族ポリカーボネート樹脂は光ディスク基材の材料として前記の優れた特性を備えていることを見出し、本発明に到達した。
【０００８】
かくして本発明によれば、溶融重合法により製造され、残存触媒活性指数が２％以下である芳香族ポリカーボネート樹脂より形成された光ディスク基板が提供される。
【０００９】
本発明において、残存触媒活性指数は芳香族ポリカーボネート樹脂を、乾燥した窒素気流下２７０℃において溶融し、剪断速度１ｒａｄ／ｓｅｃで測定された溶融開始後５分後および３０分後の溶融粘度の差を１分当たりに換算して求められた値であって、下記式（１）で表される。
【００１０】
【数１】

【００１１】
本発明においては、前記一般式（１）で定義された残存触媒活性指数の値が２％以下である芳香族ポリカーボネート樹脂を光ディスク基材として使用することにより、熱安定性に優れしかも長期にわたって高温・高湿条件下に保持されても記録の読み取りの信頼性を損なうことのない光ディスクが提供される。
【００１２】
芳香族ポリカーボネート樹脂の残存触媒活性指数２％以下、好ましくは１％以下とするには、溶融重合法において使用した金属触媒の活性を劣化させることが必要であり、そのために重合後に触媒失活剤を添加することが不可欠となる。その触媒失活剤の添加量は、その種類および量に基づいて実験的に決定されるか、あまりに多い量使用すると、金属触媒の活性は、失活するが、触媒失活剤の影響が顕著になり、長期信頼性が低下することになる。
【００１３】
ディスク基板の長期信頼性は、高温・高湿条件下にディスク基板を長時間保持し、そのディスク基板の内部に存在する２０μｍ以上の大きさの白点の数を調べることにより評価することができる。すなわち、ディスク基板を温度８０℃、相対湿度８５％に制御した恒温恒湿槽に１０００時間保持した後の直径２０μｍ以上の白点発生数を調べることにより確認される。本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂から得られたディスク基板の白点発生数は直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの基板あたり２個以下であり、好適条件下では１個以下である。
【００１４】
本発明のディスク基板において使用される溶融重合法による芳香族ポリカーボネート樹脂は、粘度平均分子量が１２，０００〜２０，０００のものが好ましく、芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの重縮合金属触媒存在下での溶融重縮合反応せしめることにより製造することができる。かかる粘度平均分子量を有するポリカーボネート樹脂は、光学用材料として十分な強度が得られ、また、成形時の溶融流動性も良好であり成形歪みが発生せず好ましい。本発明でいう粘度平均分子量は塩化メチレン１００ｍＬにポリカーボネート樹脂０．７ｇを２０℃で溶解した溶液から求めた比粘度（η_ｓｐ）を次式に挿入して求めたものである。
【００１５】
η_ｓｐ／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］^２ｃ（但し［η］は極限粘度）
［η］＝１．２３×１０^−４Ｍ^０．８３
ｃ＝０．７
【００１６】
芳香族ジヒドロキシ化合物の具体例としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパンなどのビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンなどのビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルエーテルなどのジヒドロキシジアリールエーテル類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルスルフィドなどのジヒドロキシジアリールスルフィド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシドなどのジヒドロキシジアリールスルホキシド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホンなどのジヒドロキシジアリールスルホン類などが用いられる。これらのうちでは、特に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンが好ましい。これらの芳香族ジヒドロキシ化合物は２種以上併用して使用することもできる。
【００１７】
本発明で用いられる炭酸ジエステルとしては、置換されてもよい炭素数６〜１０のアリール、アラルキル、炭素数１〜５のアルキル、炭素数３〜８のシクロアルキル等のエステルが好ましい。
【００１８】
炭酸ジエステルの具体例としては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネートなどが用いられる。これらのうちでは、特にジフェニルカーボネートが好ましい。
【００１９】
炭酸ジエステルの使用量としては上記芳香族ジヒドロキシ化合物に対し８０〜３００モル％、好ましくは９０〜２８０％、特に好ましくは９５〜２５０モル％の範囲が好ましい。
【００２０】
本発明で使用される重縮合金属触媒としては、前述の炭酸ジエステルおよび芳香族ジヒドロキシ化合物を出発原料として、副反応少なく、着色等少なく、品質良好なポリカーボネートポリマーを与えるものが好ましく使用される。例えばアルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の触媒が好ましく使用される。これらの重縮合金属触媒と共に含窒素塩基性化合物の如き他の触媒を併用することもできる。
【００２１】
重縮合触媒のアルカリ金属化合物としては、例えばアルカリ金属の水酸化物、炭酸水素塩、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸塩、シアン酸塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素化ホウ素塩、安息香酸塩、リン酸水素化物、ビスフェノール、フェノールの塩等が挙げられる。具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸リチウム、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、シアン酸アトリウム、シアン酸カリウム、シアン酸リチウム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素ジナトリウム、リン酸水素ジカリウム、リン酸水素ジリチウム、ビスフェノールＡのジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジリチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などが挙げられる。
【００２２】
また、重縮合触媒のアルカリ土類金属化合物としては、例えばアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸水素塩、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸塩、シアン酸塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素化ホウ素塩、安息香酸塩、リン酸水素化物、ビスフェノール、フェノールの塩等が挙げられる。具体的には、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化マグネシウム、水酸化ストロンチウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸ストロンチウム、酢酸カルシウム、酢酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸ストロンチウム、亜硝酸カルシウム、亜硝酸バリウム、亜硝酸マグネシウム、亜硝酸ストロンチウム、亜硫酸カルシウム、亜硫酸バリウム、亜硫酸マグネシウム、亜硫酸ストロンチウム、シアン酸カルシウム、シアン酸バリウム、シアン酸マグネシウム、シアン酸ストロンチウム、チオシアン酸カルシウム、チオシアン酸バリウム、チオシアン酸マグネシウム、チオシアン酸ストロンチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸ストロンチウムなどが挙げられる。
【００２３】
重合触媒の含窒素塩基性化合物としては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ_４ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ_４ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド（Ｂｕ_４ＮＯＨ）、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド（φ−ＣＨ_２（Ｍｅ）_３ＮＯＨ）などのアルキル、アリール、アルアリール基などを有するアンモニウムヒドロオキシド類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ヘキサデジルジメチルアミンなどの三級アミン類、Ｒ^０ _２ＮＨ（式中Ｒ^０はメチル、エチルなどのアルキル、フェニル、トルイルなどのアリール基などである）で示される二級アミン類、Ｒ^０ＮＨ_２（式中Ｒ^０は上記と同じである）で示される一級アミン類、２−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類、あるいはテトラメチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ_４ＮＢＨ_４）、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド（Ｂｕ_４ＮＢＨ_４）、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｂｕ_４ＮＢＰｈ_４）、テトラメチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ_４ＮＢＰｈ_４）などの塩基性塩などを挙げることができる。
【００２４】
また所望により、上記の如き重縮合触媒と共にその他の金属触媒も併用使用することもできる。かかる金属触媒としては例えば周期律表のＩＩＢ、ＩＩＩＢ、ＩＶＡおよびＩＶＢ族に属する金属元素及びその化合物を好ましく使用することができる。
上記のような芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応は、連続式でおこなってもよくまたバッチ式でおこなってもよい。また上記反応をおこなうに際して用いられる反応装置は、槽型であっても管型であっても塔型であってもよい。
【００２５】
前記重縮合触媒を使用して得られた芳香族ポリカーボネート樹脂中には触媒が活性を有する状態で存在している。本発明においては樹脂に残存する触媒を失活させて残存触媒活性指数を２％以下にする。そのため触媒失活剤を樹脂に添加すればよくその触媒失活剤としては下記の化合物が挙げられる。
【００２６】
すなわち、本発明で用いられる触媒失活剤は、金属触媒であるアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物などのアルカリ性化合物を中和することで触媒活性を失活するものである。例えば、酸性化合物や硫黄含有エステルが挙げられる。ここでいう代表的な酸性化合物としては、酢酸亜鉛、ホウ酸亜鉛、リン酸ホウ素等のホウ素化合物やホウ酸エステル；ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛等のステアリン酸塩；酸化アンチモン、アルキルアンチモンなどのアンチモン化合物；アルコキシチタン、酸化チタンなどのチタン化合物；リン酸、ジフェニルアシッドリン酸エステル等のリン酸の部分エステル、亜リン酸、次亜リン酸、ピロリン酸、ポリリン酸等のリン酸系化合物；安息香酸、クエン酸、アジピン酸、Ｌ−アスコルビン酸等の有機酸；およびホウ酸等を挙げることができる。
【００２７】
また、触媒失活剤として使用される硫黄含有エステル化合物としては、重縮合触媒の触媒活性を失活させる作用を有するものであればよく、具体的には下記の硫黄含有エステル化合物（Ｉ）〜（ＩＶ）を挙げることができる。
【００２８】
硫黄含有エステル化合物（Ｉ）；
この化合物（Ｉ）は下記式（Ｉ）で表される。
【００２９】
Ａ^１−（Ｙ^１−ＳＯ_３Ｘ^１）_ｍ（Ｉ）
ここで、Ａ^１は置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Ｙ^１は単結合または水素原子であり、Ｘ^１は１級〜３級の炭化水素基、１当量の金属カチオン、アンモニウムカチオンまたはホスホニウムカチオンであり、ｍは１〜４の整数である。
【００３０】
Ａ^１の置換基を有していてもよい炭化水素基としては、例えばｍ価の飽和脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素基または脂肪族−芳香族炭化水素基等を好ましいものとして挙げることができる。
【００３１】
Ｘ^１の炭化水素基としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、またはフェニル基であるのがより好ましい。
【００３２】
一当量の金属カチオンとしては、例えばリチウム、ナトリウム、カリウムの如きアルカリ金属カチオン、カルシウム、バリウムの如きアルカリ土類金属カチオンの１／２あるいはアルミニウムの如き３価の金属カチオンの１／３等を挙げることが出来る。
【００３３】
上記式（Ｉ）で表わされる化合物の具体例としては、例えば下記の化合物を挙げることができる。
【００３４】
Ｙ^１が単結合であり、Ｘ^１が１〜３級の一価の炭化水素基でありそしてｍが１である場合の化合物として、ベンゼンスルホン酸ベンジル、ベンゼンスルホン酸２−フェニル−２−プロピル、ベンゼンスルホン酸２−フェニル−２−ブチル、トルエンスルホン酸ベンジル、トルエンスルホン酸２−フェニル−２−プロピル、トルエンスルホン酸２−フェニル−２−ブチル、オクチルスルホン酸ベンジル、オクチルスルホン酸２−フェニル−２−プロピル、オクチルスルホン酸２−フェニル−２−ブチル、ドデシルスルホン酸ベンジル、ドデシルスルホン酸２−フェニル−２−プロピル、ドデシルスルホン酸２−フェニル−２−ブチルなどをあげることができる。
【００３５】
Ｙ^１が単結合であり、Ｘ^１がホスホニウムカチオンであり、そしてｍが１である場合の化合物として、ヘキシルスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、ヘキシルスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、オクチルスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、オクチルスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、オクチルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、オクチルスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、オクチルスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、ドデシルスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、ヘキサデシルスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、トルエンスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、トルエンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、トルエンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、トルエンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、トルエンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩等が挙げられる。
【００３６】
Ｙ^１が酸素原子であり、Ｘ^１が２級もしくは３級の一価の炭化水素基でありそしてｍが１である場合の化合物としては、Ａ^１とＸ^１の炭素数の合計が８〜４０であるのが好ましい。かかる具体例として、ジブチルサルフェート、ジペンチルサルフェート、ジヘキシルサルフェート、ジオクチルサルフェート、ジノニルサルフェート、ジデシルサルフェート、ジトリデシルサルフェート、ジテトラデシルサルフェート、ジヘキサデシルサルフェート、ジシクロヘキシルサルフェート、ジベンジルサルフェート等が挙げられる。これらの具体例のアルキル基はいずれも２級もしくは級であると理解されるべきである。
【００３７】
Ｙ^１が酸素原子であり、Ｘ^１が一当量の金属カチオンでありそしてｍが１である場合の化合物として、ナトリウムオクチルサルフェート、カリウムオクチルサルフェート、セシウムオクチルサルフェート、リチウムデシルサルフェート、ナトリウムデシルサルフェート、ナトリウムドデシルサルフェート、カリウムドデシルサルフェート、リチウムテトラデシルサルフェート、ナトリウムテトラデシルサルフェート、カリウムデシルサルフェート、リチウムヘキサデシルサルフェート、ナトリウムオレイルサルフェート、カリウムヘキサデシルサルフェートが挙げられる。
【００３８】
Ｙ^１が酸素原子であり、Ｘ^１がアンモニウムカチオンである場合の化合物として、アンモニウムオクチルサルフェート、アンモニウムデシルサルフェート、アンモニウムドデシルサルフェート、アンモニウムヘキサデシルサルフェートの如きアンモニウム塩が挙げられる。
【００３９】
また、メチルアンモニウムヘキシルサルフェート、メチルアンモニウムオクチルサルフェート、メチルアンモニウムヘキサデシルサルフェート、エチルアンモニウムヘキシルサルフェート、ブチルアンモニウムノナデシルサルフェート、ヘキシルアンモニウムオクタデシルサルフェート、デシルアンモニウムエチルサルフェート、デシルアンモニウムブチルサルフェート、デシルアンモニウムデシルサルフェート、ドデシルアンモニウムメチルサルフェート、ドデシルアンモニウムエチルサルフェート、ドデシルアンモニウムオクチルサルフェート、テトラデシルアンモニウムブチルサルフェート、ペンタデシルアンモニウムメチルサルフェート、ヘキサデシルアンモニウムブチルサルフェート、ヘキサデシルアンモニウムオクチルサルフェート、ヘキサデシルアンモニウムデシルサルフェート、ヘキサデシルアンモニウムドデシルサルフェートの如き１級アンモニウム塩が挙げられる。
【００４０】
またジメチルアンモニウムヘキシルサルフェート、ジメチルアンモニウムオクチルサルフェート、ジメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、ジエチルアンモニウムオクタデシルサルフェート、ブチルメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、ヘキシルメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、デシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、デシルエチルアンモニウムエチルサルフェート、デシルメチルアンモニウムオクチルサルフェート、ドデシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、テトラデシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、テトラデシルエチルアンモニウムサルフェート、ペンタデシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、ペンタデシルエチルアンモニウムエチルサルフェート、ヘキサデシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、ヘキサデシルエチルアンモニウムエチルサルフェートの如き２級アンモニウム塩が挙げられる。
また、トリメチルアンモニウムオクチルサルフェート、トリメチルアンモニウムデシルサルフェート、ブチルジメチルアンモニウムデシルサルフェート、ヘキシルジメチルアンモニウムドデシルサルフェート、デシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、デシルジメチルアンモニウムトリデシルサルフェート、ドデシルジエチルアンモニウムエチルサルフェート、ドデシルジブチルアンモニウムブチルサルフェート、ドデシルジメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、テトラデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、テトラデシルメチルエチルアンモニウムメチルサルフェート、ペンタデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ヘキサデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ヘキサデシルメチルエチルアンモニウムエチルサルフェートの如き３級アンモニウム塩が挙げられる。
【００４１】
また、テトラメチルアンモニウムヘキシルサルフェート、テトラエチルアンモニウムトリデシルサルフェート、ブチルトリメチルアンモニウムオクチルサルフェート、デシルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、デシルトリエチルアンモニウムエチルサルフェート、デシルトリメチルアンモニウムヘイサデシルサルフェート、ペンタデシルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、ペンタデシルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェートの如き４級アンモニウム塩が挙げられる。
【００４２】
この中で、リチウムデシルサルフェート、ナトリウムデシルサルフェート、ナトリウムドデシルサルフェート、カリウムドデシルサルフェート、リチウムテトラデシルサルフェート、ナトリウムテトラデシルサルフェート、リチウムヘキサデシルサルフェート、ナトリウムオレイルサルフェート、ドデシルアンモニウムエチルサルフェート、ドデシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、デシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、デシルでチルアンモニウムエチルサルフェート、テトラデシルエチルアンモニウムエチルサルフェート、テトラデシルメチルエチルアンモニウムメチルサルフェート、ペンタデシルエチルアンモニウムエチルサルフェート、ヘキサデシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、ヘキサデシルエチルアンモニウムエチルサルフェート、デシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ヘキサデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ペンタデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ヘキサデシルメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、ペンタデシルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、デシルジメチルアンモニウムトリデシルサルフェート、テトラデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、ドデシルジエチルアンモニウムエチルサルフェート、テトラデシルジエチルアンモニウムエチルサルフェート、デシルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、ペンタデシルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、デシルトリエチルアンモニウムエチルサルフェートがより好ましく用いられる。
【００４３】
硫黄含有エステル化合物（ＩＩ）；
この化合物（ＩＩ）は下記式（ＩＩ）で表される。
【００４４】
^＋Ｘ^２−Ａ^２−Ｙ^１−ＳＯ_３ ⁻ （ＩＩ）
ここでＡ^２は二価の炭化水素基であり、^＋Ｘ^２は２〜４級のアンモニウムカチオンまたはホスホニウムカチオンであり、そしてＹ^１の定義は前記式（Ｉ）の定義と同じである。上記式（ＩＩ）中、Ａ^２の２価の炭化水素基としては２価の飽和脂肪族炭化水素基が好ましい。この飽和脂肪族炭化水素基としては炭素数１〜２０のものがより好ましい。
【００４５】
^＋Ｘ^２はアンモニウムカチオンもしくはホスホニウムカチオンである。アンモニウムカチオンおよびホスホニウムカチオンは、互いに独立に水素原子または一価の炭化水素基を含有するものが好ましい。
上記式（ＩＩ）で表わされる化合物の具体例としては下記の化合物を例示することができる。
【００４６】
−ＳＯ_３−（ＣＨ_２）_３−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３、
−ＳＯ_３−（ＣＨ_２）_３−Ｎ^＋（Ｃ_２Ｈ_５）_３、
−ＳＯ_３−（ＣＨ_２）_３−Ｐ^＋（Ｃ_４Ｈ_９）_３、
−ＳＯ_３−（ＣＨ_２）_３−Ｐ^＋（Ｃ_６Ｈ_５）_３、
−ＳＯ_３−（ＣＨ_２）_３−Ｎ^＋（Ｃ_２Ｈ_５）_３、
−ＳＯ_３−（ＣＨ_２）_３−Ｐ^＋（Ｃ_６Ｈ_５）_３、
−ＳＯ_３−（ＣＨ_２）_３−Ｐ^＋（Ｃ_４Ｈ_９）_３、
【００４７】
硫黄含有エステル化合物（ＩＩＩ）；
この化合物（ＩＩＩ）は下記式（ＩＩＩ）で表される。
【００４８】
Ａ^３−（^＋Ｘ^３）_ｎ・（Ｒ−Ｙ^１−ＳＯ_３ ⁻）_ｎ（ＩＩＩ）
ここで、Ａ^３はｎ価の炭化水素基であり、^＋Ｘ^３はアンモニウムカチオンもしくはホスホニウムカチオンであり、Ｒは一価の炭化水素基でありｎは２〜４の整数でありＹ^１の定義は上記に同じである。
【００４９】
Ａ^３のｎ価の炭化水素基としては、例えばｎ価の飽和脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または飽和脂肪族−芳香族炭化水素基が好ましい。
【００５０】
また、^＋Ｘ^３はアンモニウムカチオンおよびホスホニウムカチオンとしては、互いに独立に水素原子または一価の炭化水素基を含有するものが好ましい。
Ｒは一価の炭化水素基であり、その例としてはアルキル基、アリール基およびアラルキル基が好ましい。アルキル基としては炭素数１〜２０のものが好ましく、アリール基としては炭素数６〜２０のものが好ましく、アラルキル基とは炭素数７〜２０のものが好ましい。
ｎは２、３または４であり、Ｙ^１の定義は前記と同じく、単結合もしくは酸素原子である。
【００５１】
上記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物の具体例としては下記の化合物を例示することができる。Ｙ^１が単結合であり、^＋Ｘ^３がアンモニウムカチオンであり、そしてｎが２である場合の化合物として、
［（ＣＨ_３）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３］・（ＣＨ_３−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（ＣＨ_３）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３］・（Ｃ_１２Ｈ_２５−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（ＣＨ_３）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３］・（Ｃ_１５Ｈ_３１ＳＯ_３ ⁻）_２
［（ＣＨ_３）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１５−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３］・（ＣＨ_３−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（ＣＨ_３）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１５−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３］・（Ｃ_１２Ｈ_２５−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（ＣＨ_３）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１５−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３］・（Ｃ_１５Ｈ_３１−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｎ^＋（Ｃ_４Ｈ_９）_３］・（ＣＨ_３−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｎ^＋（Ｃ_４Ｈ_９）_３］・（Ｃ_１２Ｈ_２５−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｎ^＋（Ｃ_４Ｈ_９）_３］・（Ｃ_１５Ｈ_３１−ＳＯ_３ ⁻）_２
を挙げることができる。
【００５２】
Ｙ^１が酸素原子であり、^＋Ｘ^３がアンモニウムカチオンであり、そしてｎが２である場合の化合物として、
［（ＣＨ_３）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３］・（Ｃ_１５Ｈ_３１−ＳＯ_４ ⁻）_２
［（ＣＨ_３）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１５−Ｎ^＋（ＣＨ_３）_３］・（Ｃ_１５Ｈ_３１−ＳＯ_４ ⁻）_２
［（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｎ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｎ^＋（Ｃ_４Ｈ_９）_３］・（Ｃ_１５Ｈ_３１−ＳＯ_４ ⁻）_２
を挙げることができる。
【００５３】
Ｙ^１が単結合であり、^＋Ｘ^３がホスホニウムカチオンであり、そしてｎが２である場合の化合物として、
［（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｐ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｐ^＋（Ｃ_４Ｈ_９）_３］・（ＣＨ_３−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｐ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｐ^＋（Ｃ_４Ｈ_９）_３］・（Ｃ_１２Ｈ_２５−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｐ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｐ^＋（Ｃ_４Ｈ_９）_３］・（Ｃ_１５Ｈ_３１−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（Ｃ_６Ｈ_５）_３Ｐ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｐ^＋（Ｃ_６Ｈ_５）_３］・（ＣＨ_３−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（Ｃ_６Ｈ_５）_３Ｐ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｐ^＋（Ｃ_６Ｈ_５）_３］・（Ｃ_１２Ｈ_２５−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_３ ⁻）_２
［（Ｃ_６Ｈ_５）_３Ｐ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｐ^＋（Ｃ_６Ｈ_５）_３］・（Ｃ_１５Ｈ_３１−ＳＯ_３ ⁻）_２
を挙げることができる。
【００５４】
Ｙ^１が酸素原子であり、^＋Ｘ^３がホスホニウムカチオンであり、そしてｎが２である場合の化合物として、
［（Ｃ_４Ｈ_９）_３Ｐ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｐ^＋（Ｃ_４Ｈ_９）_３］・（Ｃ_１５Ｈ_３１−ＳＯ_４ ⁻）_２
［（Ｃ_６Ｈ_５）_３Ｐ^＋−（ＣＨ_２）_１０−Ｐ^＋（Ｃ_６Ｈ_５）_３］・（Ｃ_１５Ｈ_３１−ＳＯ_３ ⁻）_２
等が用いられる。
【００５５】
硫黄含有エステル化合物（ＩＶ）；
この化合物（ＩＶ）は下記式（ＩＶ）で表される。
【００５６】
Ａ^５−Ａｄ^１−Ａ^４−（Ａｄ^２−Ａ^５）_ｋ（ＩＶ）
ここで、Ａ^５は１または２価の炭化水素基であり、Ａ^４は２価の炭化水素基であり、Ａｄ^１およびＡｄ^２は、同一もしくは異なり−ＳＯ_２−Ｏ−ＳＯ_２−、−ＳＯ_２−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−ＳＯ_２−から選ばれる酸無水物であり、ｋは０または１である。但し、ｋが０のとき、−（Ａｄ^２−Ａ^５）_ｋは水素原子を表わすかあるいはＡ^４とＡ^５とを結合する結合手を表わす（この場合、は２価の炭化水素基または単結合である）。
【００５７】
Ａ^５が表わす一価の炭化水素基としては、例えばアルキル基、アリール基またはアラルキル基を好ましいものとして挙げることができる。アルキル基としては炭素数１〜２０のものが好ましく、アリール基としては炭素数６〜２０のものが好ましく、またアラルキル基としては炭素数７〜２０のものが好ましい。
【００５８】
Ａ^５が表わす２価の炭化水素基としては、例えばアルキレン基、アリーレン基およびアラルキレン基を挙げることができる。アルキレン基は炭素数１〜２０のものが好ましく、アリーレン基は炭素数６〜２０のものが好ましく、またアラルキル基としては炭素数７〜２０のものが好ましい。
【００５９】
Ａ^４は２価の炭化水素基であり、その例としてはＡ^５の２価の炭化水素基と同じものを挙げることができる。
Ａｄ^１およびＡｄ^２は、同一もしくは異なり、−ＳＯ_２−Ｏ−ＳＯ_２−、−ＳＯ_２−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−ＳＯ_２−のいずれかの酸無水物基である。これらの酸無水物基は、スルホン酸とスルホン酸の間の無水物基（−ＳＯ_２−Ｏ−ＳＯ_２−）であるかあるいはスルホン酸とカルボン酸の間の無水物基（−ＳＯ_２−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−ＳＯ_２−）である。
【００６０】
かかるスルホン酸化合物は、一価もしくは二価のスルホン酸化合物であり、具体的には、メチルスルホン酸、エチルスルホン酸、プロピルスルホン酸、ブチルスルホン酸、ヘキシルスルホン酸、デシルスルホン酸、ヘキサデシルスルホン酸、フェニルスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、オクタデシルベンゼンスルホン酸、ベンゼンジスルホン酸、トルエンジスルホン酸等が用いられる。
【００６１】
同様に、カルボン酸化合物は、一価もしくは二価のカルボン酸化合物であり、具体的には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ステアリン酸、ミリスチン酸、オレイン酸、安息香酸、フェニル酢酸、トルイル酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等が用いられる。
【００６２】
上記式（ＩＶ）で表わされる化合物の具体例としては下記の化合物を挙げることができる。
ＣＨ_３−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_２−Ｏ−ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_２−Ｏ−ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_３
ＣＨ_３−ＣＯ−Ｏ−ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_２−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ_３
Ｃ_６Ｈ_５−ＣＯ−Ｏ−ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_２−Ｏ−ＣＯ−Ｃ_６Ｈ_５
ＣＨ_３−ＳＯ_２−Ｏ−ＣＯ−ｍ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＯ−Ｏ−ＳＯ_２−ＣＨ_３
ＣＨ_３−（ＣＨ_２）_６−ＳＯ_２−Ｏ−ＣＯ−ｍ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＯ−Ｏ−ＳＯ_２−（ＣＨ_２）_６−ＣＨ_３
Ｃ_６Ｈ_５−ＳＯ_２−Ｏ−ＣＯ−ｍ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＯ−Ｏ−ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_５
ＣＨ_３−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_２−Ｏ−ＣＯ−ｍ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＯ−Ｏ−ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_３
Ｃ_１２Ｈ_２５−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_２−Ｏ−ＣＯ−ｍ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＯ−Ｏ−ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ_１２Ｈ_２５
（ＣＨ_３ＳＯ_２）_２Ｏ
（ＣＨ_３ＣＨ_２ＳＯ_２）_２Ｏ
（ＣＨ_３（ＣＨ_２）_３ＳＯ_２）_２Ｏ
（ＣＨ_３（ＣＨ_２）_６ＳＯ_２）_２Ｏ
（Ｃ_６Ｈ_５−ＳＯ_２）_２Ｏ
（ＣＨ_３−ｐ−Ｃ_６Ｈ_５−ＳＯ_２）_２Ｏ
（Ｃ_１２Ｈ_２５−ｐ−Ｃ_６Ｈ_５−ＳＯ_２）_２Ｏ
（ＣＨ_３（ＣＨ_２）_３−ＳＯ_２）−Ｏ−（ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_３）
（ＣＨ_３−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＳＯ_２）−Ｏ−（ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ_１２Ｈ_２５）
（ＣＨ_３−ＣＯ）−Ｏ−（ＳＯ_２−（ＣＨ_２）_６−ＣＨ_３）
（ＣＨ_３−ＣＯ）−Ｏ−（ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_５）
（ＣＨ_３−ＣＯ）−Ｏ−（ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_３）
（ＣＨ_３−ＣＯ）−Ｏ−（ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ_１２Ｈ_２５）
（Ｃ_６Ｈ_５−ＣＯ）−Ｏ−（ＳＯ_２−（ＣＨ_２）_６−ＣＨ_３）
（Ｃ_６Ｈ_５−ＣＯ）−Ｏ−（ＳＯ_２−Ｃ_６Ｈ_５）
（Ｃ_６Ｈ_５−ＣＯ）−Ｏ−（ＳＯ_２−ｐ−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ_３）
【００６３】
【化１】

【００６４】
本発明において、重縮合触媒の活性を失活させるには、芳香族ポリカーボネート樹脂中の重縮合触媒１モル当たり０．５〜５０モル、好ましくは０．５〜２０モル、特に好ましくは１〜１５モルの前記触媒失活剤を添加することが望ましい。特に前記触媒失活剤は、その種類や重縮合触媒の濃度によってその量は左右されるが一般には０．０１〜５００ｐｐｍの割合、好ましくは０．０５〜３００ｐｐｍの割合、より好ましくは０．１〜１００ｐｐｍの割合で使用される。
【００６５】
上記式硫黄含有エステル化合物の中でもホスホニウムもしくはアンモニウム塩型の触媒失活剤はそれ自身２００℃以上でも特に安定である。そしてその触媒失活剤をポリマーに添加した場合すみやかに触媒を無毒化し、目的とするポリマーを得ることができる。
【００６６】
触媒失活剤を芳香族ポリカーボネート樹脂中に添加する方法には特に限定されない。例えば、反応生成物であるポリカーボネート樹脂が溶融状態にある間にこれらを添加してもよいし、一旦ポリカーボネート樹脂をペレタイズした後再溶融して添加してもよい。前者においては、重縮合反応が終了して得られる溶融状態にある反応器内又は押出機内の反応生成物であるポリカーボネート樹脂が溶融状態にある間に、これらを添加してポリカーボネート樹脂を形成した後、押出機を通してペレタイズしてもよいし、また、重縮合反応で得られたポリカーボネート樹脂が反応器を通ってペレタイズされる間に、触媒失活剤を添加して混練することによって目的とするポリカーボネート樹脂を得ることが出来る。
【００６７】
この際、これらの各化合物は同時に添加してものよいし、別々に添加してもよい。また、これらの各化合物を組み合わせて添加する場合、これらの添加順序は問わない。
本発明では、上記のようにして得られるポリカーボネートに、本発明の目的を損なわない範囲で、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、離型剤、着色剤、有機系充填剤、無機系充填剤などを添加してもよい。このような添加剤は、芳香族ジヒドロキシ化合物と同時に添加してもよいし、別々に添加してもよい。
【００６８】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例中、芳香族ポリカーボネート樹脂の成形および評価は下記方法により実施した。
【００６９】
（１）残存触媒活性指数；
芳香族ポリカーボネート樹脂の溶融粘度の１分間当たりの変化率（％／ｍｉｎ）と定義した。この値は、レオメトリックス社製ＲＡＡ型流動解析装置にて、乾燥した窒素気流下、２７０℃、剪断速度１ｒａｄ／ｓｅｃにて粘度を３０分間測定した。
下記式により算出した値を意味する。
【００７０】
【数２】

【００７１】
（２）ディスク基板の成形；
芳香族ポリカーボネート樹脂からのディスク基板成形：ディスク基板の成形は、住友重機械工業（株）製射出成形機ＤＩＳＫ３Ｍ３と情報信号に対応した凸凹形状を持つスタンパーが設置された厚さ１．２ｍｍ、直径１２０ｍｍのキャビティを持つ金型を用いてバレル温度３４０℃にておこなった。
【００７２】
（３）熱安定性；
試料ペレットを１２０℃で５時間乾燥した後、住友重機械工業（株）製射出成形機ＳＧ−１５０を用い、シリンダー温度３４０℃で１０分間滞留させたものとさせないものの試験片（縦７０ｍｍ、横５０ｍｍ、厚み２ｍｍ）をそれぞれ作成し、その色相の変化を測定した。色相の変化は、ＪＩＳＺ８７３０に従い、日本電色（株）モデルＺ−１００１ＤＰを用い、それぞれのＬ、ａ、ｂ値を測定して、次式により算出した。
△Ｅ＝｛（Ｌ−Ｌ’）^２＋（ａ−ａ’）^２＋（ｂ−ｂ’）^２｝^１／２
（Ｌ、ａ、ｂは滞留させないもの、Ｌ’、ａ’、ｂ’は１０分間滞留させたもの）
【００７３】
（４）ディスクの白点数（湿熱処理後）
過酷な雰囲気下に長時間放置した時の白点の増加を再現する為に、ディスクを温度８０℃、相対湿度８５％に制御した恒温恒湿槽に１０００時間保持し、その後偏光顕微鏡を用いて２０μｍ以上の白点の数を数えた。これを２５枚の光学式ディスク基板について行い、その平均値を求め、これを白点個数とした。
【００７４】
実施例１〜６
２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）２２８重量部、ジフェニルカーボネート２１４重量部、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．０７３重量部および下記表１〜２に示す金属触媒の所定量を、攪拌装置、減圧装置および蒸留塔等を具備した反応装置に仕込み、１８０℃、Ｎ_２雰囲気下、３０分間攪拌し溶解した。
【００７５】
次いで同温度で１００ｍｍＨｇの減圧下、１時間フェノールを溜去しつつ反応させた。さらに２００℃に昇温しつつ、３０ｍｍＨｇに減圧し、同温度、同圧力で１時間反応せしめた。さらに反応系を２８０℃に昇温し、０．５ｍｍＨｇに減圧し、同温度、同圧力で１時間反応せしめ得られた樹脂に、表１および表２に示した量の触媒失活剤を添加した。このポリマーをギアポンプでエクストルーダーに送った。エクストルーダー途中でトリス（２，４−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトを０．０１重量％、ステアリン酸モノグリセリドを０．０８重量％加え、ポリカーボネートペレットを得た。ペレタイズした樹脂を使用してディスク基板の成形をし、その基板の残存触媒活性指数の評価、熱安定性評価、白点発生の評価をおこなった。その結果を下記表１および表２に示した。
【００７６】
比較例１
触媒失活剤量を使用しない以外は、実施例１と同様にしてポリカーボネート樹脂ペレットを得て同様に評価した。その結果を表３に示した。
【００７７】
【表１】

【００７８】
【表２】

【００７９】
【表３】

【００８０】
【発明の効果】
本発明によればポリカーボネート樹脂の残存触媒活性指数を一定量以下とすることにより、熱安定性に優れかつ極めて信頼性の高い光ディスク基板を得ることができた。さらにデジタルビデオディスク（ＤＶＤ）等の高密度光ディスクにおいても、その奏する効果は格別に優れている。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate for an optical disk that can maintain high reliability for a long period of time.
[0002]
[Prior art]
Generally, an aromatic polycarbonate resin, which is superior to other resins in terms of moldability, mechanical strength, transparency and the like, is used as a material for a disk substrate such as an optical disk or a magnetic disk. As a method for producing an aromatic polycarbonate resin, an interfacial method in which a dihydroxy compound and phosgene are directly reacted, and a melting method in which a dihydroxy compound and a carbonic acid diester are transesterified under heating and reduced pressure are known. Among them, the latter melting method has an advantage that the aromatic polycarbonate resin can be produced at lower cost than the former interface method. Here, in a conventional method for producing an aromatic polycarbonate by a melting method, usually, a metal catalyst such as an alkali metal compound and an alkaline earth metal compound is used as a catalyst component. For example, JP-A-8-59975 describes a method for producing an aromatic polycarbonate by a melting method.
[0003]
The production of disk substrates such as optical disks and laser disks is generally performed by injection molding, the molding temperature of which is higher than 300 ° C., and continuous production is required. Therefore, high heat stability is required for the polycarbonate resin. However, since the aromatic polycarbonate resin obtained by the melting method using the above-mentioned metal catalyst is a remaining metal catalyst, a part of the aromatic polycarbonate resin may be thermally decomposed at the time of melt-molding, resulting in poor thermal stability. Further, when the disk is left under high temperature and high humidity for a long period of time, there is a disadvantage that white spots are generated on the substrate and long-term reliability is impaired. In recent years, including this problem, there is an increasing demand for further improvement in performance of the disk substrate.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Accordingly, it is an object of the present invention to provide an optical disk substrate which minimizes the above-mentioned problems, that is, an optical disk substrate having high stability during molding and long-term reliability.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have further studied to solve the above problem. While the metal catalyst has a bad influence on the thermal stability of the disk substrate, it is necessary for the polycondensation reaction. Further, in order to suppress the thermal stability, it is possible to deactivate the metal catalyst by using a catalyst deactivator.
[0006]
According to the study of the present inventors, it has been found that too much use of the catalyst deactivator affects the thermal stability and reliability of the disk substrate. The appropriate amount of the catalyst deactivator depends on its type and the type and concentration of the metal catalyst, but the appropriate amount is not constant.However, the degree of deactivation of the metal catalyst in the aromatic polycarbonate resin depends on the melting conditions of the resin under the melting conditions. A disc substrate made of an aromatic polycarbonate resin having a rate of change of melt viscosity under a certain condition that is roughly determined by examining a change in viscosity, and thus under a certain condition, has excellent thermal stability, and has a long term as a disc substrate. It turned out that reliability was maintained.
[0007]
That is, under the conditions described below, the melt viscosity when the aromatic polycarbonate resin is melted and held is measured over time, and the viscosity change rate per minute of the viscosity is defined as the residual catalyst activity index. The present inventors have found that an aromatic polycarbonate resin having a certain value or less has the above-mentioned excellent properties as a material for an optical disk substrate, and have reached the present invention.
[0008]
Thus, according to the present invention, there is provided an optical disc substrate made of an aromatic polycarbonate resin having a residual catalytic activity index of 2% or less, produced by a melt polymerization method.
[0009]
In the present invention, the residual catalytic activity index is determined by measuring the difference between the melt viscosities of the aromatic polycarbonate resin melted at 270 ° C. in a dry nitrogen stream at a shear rate of 1 rad / sec. Is converted to a value per minute, and is represented by the following equation (1).
[0010]
(Equation 1)

[0011]
In the present invention, the use of an aromatic polycarbonate resin having a residual catalyst activity index value of 2% or less as defined by the above general formula (1) as an optical disk substrate provides excellent thermal stability and high temperature for a long period of time. An optical disk is provided that does not impair the reliability of reading a record even when the optical disk is kept under high humidity conditions.
[0012]
In order for the aromatic polycarbonate resin to have a residual catalyst activity index of 2% or less, preferably 1% or less, it is necessary to degrade the activity of the metal catalyst used in the melt polymerization method. Is indispensable. The addition amount of the catalyst deactivator is determined experimentally based on the type and amount, or if used in an excessively large amount, the activity of the metal catalyst is deactivated, but the effect of the catalyst deactivator is remarkable. And the long-term reliability is reduced.
[0013]
The long-term reliability of a disk substrate can be evaluated by holding the disk substrate for a long time under high temperature and high humidity conditions and examining the number of white spots having a size of 20 μm or more present inside the disk substrate. . That is, it is confirmed by checking the number of white spots having a diameter of 20 μm or more after the disk substrate is kept in a thermo-hygrostat controlled at a temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 85% for 1000 hours. The number of white spots generated on a disk substrate obtained from the aromatic polycarbonate resin of the present invention is 2 or less per substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm, and is 1 or less under suitable conditions.
[0014]
The aromatic polycarbonate resin obtained by the melt polymerization method used in the disk substrate of the present invention preferably has a viscosity average molecular weight of 12,000 to 20,000, and is preferably in the presence of a polycondensation metal catalyst of an aromatic dihydroxy compound and a carbonic acid diester. And subjecting it to a melt polycondensation reaction. A polycarbonate resin having such a viscosity average molecular weight is preferable because sufficient strength is obtained as an optical material, and the melt fluidity during molding is good, and molding distortion is not generated. The viscosity average molecular weight referred to in the present invention is a specific viscosity (η) obtained from a solution obtained by dissolving 0.7 g of a polycarbonate resin in 100 mL of methylene chloride at 20 ° C._sp) In the following equation.
[0015]
η_sp/C=[η]+0.45×[η]²c (where [η] is the intrinsic viscosity)
[Η] = 1.23 × 10^-4M^0.83
c = 0.7
[0016]
Specific examples of the aromatic dihydroxy compound include bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) octane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) Bis (hydroxyaryl) alkanes such as propane, 1,1-bis (4-hydroxy-t-butylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-bromophenyl) propane, 1,1-bis Bis (hydr) such as (4-hydroxyphenyl) cyclopentane and 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (Xyaryl) cycloalkanes, dihydroxydiarylethers such as 4,4'-dihydroxydiphenylether, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenylether, 4,4'-dihydroxydiphenylsulfide, 4,4'-dihydroxy Dihydroxydiaryl sulfides such as -3,3'-dimethylphenyl sulfide, dihydroxy diaryl sulfoxides such as 4,4'-dihydroxy diphenyl sulfoxide, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyl diphenyl sulfoxide, 4,4 Dihydroxydiaryl sulfones such as' -dihydroxydiphenyl sulfone and 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl sulfone are used. Of these, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane is particularly preferred. These aromatic dihydroxy compounds may be used in combination of two or more.
[0017]
As the carbonic acid diester used in the present invention, esters such as aryl, aralkyl, alkyl having 1 to 5 carbons, and cycloalkyl having 3 to 8 carbons which may be substituted are preferable.
[0018]
Specific examples of the carbonic acid diester include diphenyl carbonate, ditolyl carbonate, bis (chlorophenyl) carbonate, m-cresyl carbonate, dinaphthyl carbonate, bis (diphenyl) carbonate, diethyl carbonate, dimethyl carbonate, dibutyl carbonate, dicyclohexyl carbonate, and the like. Used. Of these, diphenyl carbonate is particularly preferred.
[0019]
The amount of the carbonic acid diester to be used is preferably in the range of 80 to 300% by mole, preferably 90 to 280%, and particularly preferably 95 to 250% by mole based on the aromatic dihydroxy compound.
[0020]
As the polycondensation metal catalyst used in the present invention, those which give good quality polycarbonate polymers with little side reaction and little coloring, using the above-mentioned carbonic acid diester and aromatic dihydroxy compound as starting materials, are preferably used. For example, at least one catalyst selected from the group consisting of alkali metal compounds and alkaline earth metal compounds is preferably used. Other catalysts such as nitrogen-containing basic compounds can be used in combination with these polycondensation metal catalysts.
[0021]
Examples of the alkali metal compound of the polycondensation catalyst include alkali metal hydroxide, hydrogen carbonate, carbonate, acetate, nitrate, nitrite, sulfite, cyanate, thiocyanate, stearate, hydrogenation Boron salts, benzoates, hydrogen phosphates, bisphenols, salts of phenols and the like can be mentioned. Specific examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, lithium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium carbonate, sodium acetate, potassium acetate, lithium acetate, sodium nitrate, Potassium nitrate, lithium nitrate, sodium nitrite, potassium nitrite, lithium nitrite, sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, atrium cyanate, potassium cyanate, lithium cyanate, sodium thiocyanate, potassium thiocyanate, lithium thiocyanate, stearin Sodium silicate, potassium stearate, lithium stearate, sodium borohydride, potassium borohydride, lithium borohydride, sodium borohydride, sodium benzoate, benzoate Potassium acid, lithium benzoate, disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, dilithium hydrogen phosphate, disodium salt of bisphenol A, dipotassium salt, dilithium salt, sodium salt of phenol, potassium salt, lithium salt, etc. .
[0022]
Further, as the alkaline earth metal compound of the polycondensation catalyst, for example, alkaline earth metal hydroxide, hydrogen carbonate, carbonate, acetate, nitrate, nitrite, sulfite, cyanate, thiocyanate, Examples include stearates, borohydrides, benzoates, hydrogen phosphates, bisphenols, salts of phenols, and the like. Specifically, calcium hydroxide, barium hydroxide, magnesium hydroxide, strontium hydroxide, calcium hydrogen carbonate, barium hydrogen carbonate, magnesium hydrogen carbonate, strontium hydrogen carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, magnesium carbonate, strontium carbonate, acetic acid Calcium, barium acetate, magnesium acetate, strontium acetate, calcium nitrite, barium nitrite, magnesium nitrite, strontium nitrite, calcium sulfite, barium sulfite, magnesium sulfite, strontium sulfite, calcium cyanate, barium cyanate, magnesium cyanate , Strontium cyanate, calcium thiocyanate, barium thiocyanate, magnesium thiocyanate, strontium thiocyanate, calcium stearate Barium stearate, magnesium stearate, and stearic acid strontium.
[0023]
Examples of the nitrogen-containing basic compound of the polymerization catalyst include tetramethylammonium hydroxide (Me₄NOH), tetraethylammonium hydroxide (Et₄NOH), tetrabutylammonium hydroxide (Bu₄NOH), trimethylbenzylammonium hydroxide (φ-CH₂(Me)₃NOH), such as ammonium hydroxides having alkyl, aryl, araryl groups and the like, tertiary amines such as triethylamine, tributylamine, dimethylbenzylamine, hexadecyldimethylamine, R⁰ ₂NH (where R⁰Is an alkyl group such as methyl and ethyl, and an aryl group such as phenyl and toluyl.⁰NH₂(Where R⁰Are the same as described above), imidazoles such as 2-methylimidazole, or tetramethylammonium borohydride (Me₄NBH₄), Tetrabutylammonium borohydride (Bu₄NBH₄), Tetrabutylammonium tetraphenylborate (Bu₄NBPh₄), Tetramethylammonium tetraphenylborate (Me₄NBPh₄And the like.
[0024]
If desired, other metal catalysts can be used in combination with the polycondensation catalyst as described above. As such a metal catalyst, for example, metal elements belonging to groups IIB, IIIB, IVA and IVB of the periodic table and compounds thereof can be preferably used.
The reaction between the aromatic dihydroxy compound and the carbonic acid diester as described above may be performed in a continuous manner or in a batch manner. The reaction apparatus used for performing the above reaction may be a tank type, a tube type, or a column type.
[0025]
In the aromatic polycarbonate resin obtained using the polycondensation catalyst, the catalyst exists in an active state. In the present invention, the residual catalyst activity index is reduced to 2% or less by deactivating the catalyst remaining in the resin. Therefore, a catalyst deactivator may be added to the resin, and examples of the catalyst deactivator include the following compounds.
[0026]
That is, the catalyst deactivator used in the present invention deactivates the catalyst activity by neutralizing an alkaline compound such as an alkali metal compound or an alkaline earth metal compound which is a metal catalyst. For example, an acidic compound and a sulfur-containing ester are mentioned. Typical acidic compounds mentioned herein include boron compounds such as zinc acetate, zinc borate and boron phosphate and borate esters; stearates such as aluminum stearate and zinc stearate; antimony oxide and alkylantimony such as Antimony compounds; titanium compounds such as alkoxytitanium and titanium oxide; partial esters of phosphoric acid such as phosphoric acid and diphenylacid phosphate; phosphoric acid-based compounds such as phosphorous acid, hypophosphorous acid, pyrophosphoric acid and polyphosphoric acid; Organic acids such as benzoic acid, citric acid, adipic acid and L-ascorbic acid; and boric acid.
[0027]
The sulfur-containing ester compound used as the catalyst deactivator may be any compound having an action of deactivating the catalytic activity of the polycondensation catalyst, and specifically includes the following sulfur-containing ester compounds (I) to (I). (IV).
[0028]
Sulfur-containing ester compound (I);
This compound (I) is represented by the following formula (I).
[0029]
A¹− (Y¹-SO₃X¹)_m                      (I)
Where A¹Is an optionally substituted hydrocarbon group, and Y is¹Is a single bond or a hydrogen atom, and X¹Is a primary to tertiary hydrocarbon group, one equivalent of a metal cation, an ammonium cation or a phosphonium cation, and m is an integer of 1 to 4.
[0030]
A¹Preferred examples of the hydrocarbon group which may have a substituent include a m-valent saturated aliphatic hydrocarbon, an aromatic hydrocarbon group, and an aliphatic-aromatic hydrocarbon group.
[0031]
X¹Is more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a phenyl group.
[0032]
One equivalent of the metal cation includes, for example, an alkali metal cation such as lithium, sodium and potassium, １／ of an alkaline earth metal cation such as calcium and barium, and ３ of a trivalent metal cation such as aluminum. I can do it.
[0033]
Specific examples of the compound represented by the above formula (I) include, for example, the following compounds.
[0034]
Y¹Is a single bond, and X¹Is a tertiary monovalent hydrocarbon group and m is 1, benzylbenzenesulfonate, 2-phenyl-2-propylbenzenesulfonate, 2-phenyl-2-benzenebenzenesulfonate Butyl, benzyl toluenesulfonate, 2-phenyl-2-propyl toluenesulfonate, 2-phenyl-2-butyltoluenesulfonate, benzyl octylsulfonate, 2-phenyl-2-propyl octylsulfonate, 2-octylsulfonic acid 2- Examples thereof include phenyl-2-butyl, benzyl dodecylsulfonate, 2-phenyl-2-propyl dodecylsulfonate, 2-phenyl-2-butyl dodecylsulfonate, and the like.
[0035]
Y¹Is a single bond, and X¹Is a phosphonium cation, and when m is 1, compounds such as hexylsulfonic acid tetramethylphosphonium salt, hexylsulfonic acid tetraethylphosphonium salt, hexylsulfonic acid tetrabutylphosphonium salt, hexylsulfonic acid tetrahexylphosphonium salt, hexylsulfone Tetraoctylphosphonate, Tetramethylphosphonium octylsulfonate, Tetraethylphosphonium octylsulfonate, Tetrabutylphosphonium octylsulfonate, Tetrahexylphosphonium octylsulfonate, Tetraoctylphosphonium octylsulfonate, Tetramethyl decylsulfonate Phosphonium salt, tetraethylphosphonium decylsulfonate, tetrabutylphosphonium decylsulfonate Tetrahexylphosphonium decylsulfonate, tetraoctylphosphonium decylsulfonate, tetramethylphosphonium dodecylsulfonate, tetraethylphosphonium dodecylsulfonate, tetrabutylphosphonium dodecylsulfonate, tetrahexylphosphonium dodecylsulfonate, dodecylsulfonate Tetraoctylphosphonium salt, tetramethylphosphonium hexadecylsulfonate, tetraethylphosphonium hexadecylsulfonate, tetrabutylphosphonium hexadecylsulfonate, tetrahexylphosphonium hexadecylsulfonate, tetraoctylphosphonium hexadecylsulfonate, benzene Tetramethylphosphonium sulfonate, Tetraethylphosphonate benzenesulfonate Tetrabutylphosphonium salt, benzenesulfonic acid tetrahexylphosphonium salt, benzenesulfonic acid tetraoctylphosphonium salt, toluenesulfonic acid tetramethylphosphonium salt, toluenesulfonic acid tetraethylphosphonium salt, toluenesulfonic acid tetrabutylphosphonium salt, Tetrahexylphosphonium toluenesulfonate, tetraoctylphosphonium toluenesulfonate, tetramethylphosphonium dodecylbenzenesulfonate, tetraethylphosphonium dodecylbenzenesulfonate, tetrabutylphosphonium dodecylbenzenesulfonate, tetrahexylphosphonium dodecylbenzenesulfonate And dodecylbenzenesulfonic acid tetraoctylphosphonium salt and the like. You.
[0036]
Y¹Is an oxygen atom, and X¹Is a secondary or tertiary monovalent hydrocarbon group, and m is 1.¹And X¹Is preferably 8 to 40 in total. Specific examples include dibutyl sulfate, dipentyl sulfate, dihexyl sulfate, dioctyl sulfate, dinonyl sulfate, didecyl sulfate, ditridecyl sulfate, ditetradecyl sulfate, dihexadecyl sulfate, dicyclohexyl sulfate, dibenzyl sulfate, and the like. It is to be understood that any of the alkyl groups in these embodiments is secondary or primary.
[0037]
Y¹Is an oxygen atom, and X¹Is an equivalent metal cation and m is 1. As a compound, sodium octyl sulfate, potassium octyl sulfate, cesium octyl sulfate, lithium decyl sulfate, sodium decyl sulfate, sodium dodecyl sulfate, potassium dodecyl sulfate, lithium tetradecyl Sulfate, sodium tetradecyl sulfate, potassium decyl sulfate, lithium hexadecyl sulfate, sodium oleyl sulfate, potassium hexadecyl sulfate.
[0038]
Y¹Is an oxygen atom, and X¹When is a ammonium cation, examples of the compound include ammonium salts such as ammonium octyl sulfate, ammonium decyl sulfate, ammonium dodecyl sulfate, and ammonium hexadecyl sulfate.
[0039]
Also, methyl ammonium hexyl sulfate, methyl ammonium octyl sulfate, methyl ammonium hexadecyl sulfate, ethyl ammonium hexyl sulfate, butyl ammonium nonadecyl sulfate, hexyl ammonium octadecyl sulfate, decyl ammonium ethyl sulfate, decyl ammonium butyl sulfate, decyl ammonium decyl sulfate, dodecyl Ammonium methyl sulfate, dodecyl ammonium ethyl sulfate, dodecyl ammonium octyl sulfate, tetradecyl ammonium butyl sulfate, pentadecyl ammonium methyl sulfate, hexadecyl ammonium butyl sulfate, hexadecyl ammonium octyl sulfate DOO, hexadecyl ammonium decyl sulfate, primary ammonium salts such as hexadecyl ammonium dodecyl sulfate and the like.
[0040]
Also, dimethyl ammonium hexyl sulfate, dimethyl ammonium octyl sulfate, dimethyl ammonium tetradecyl sulfate, diethyl ammonium octadecyl sulfate, butyl methyl ammonium tetradecyl sulfate, hexyl methyl ammonium tetradecyl sulfate, decyl methyl ammonium methyl sulfate, decyl ethyl ammonium ethyl sulfate, decyl methyl Ammonium octyl sulfate, dodecyl methyl ammonium methyl sulfate, tetradecyl methyl ammonium methyl sulfate, tetradecyl ethyl ammonium sulfate, pentadecyl methyl ammonium methyl sulfate, pentadecyl ethyl ammonium ethyl sulfate, hexadecyl Methyl sulfate, secondary ammonium salts such as hexadecyl ethyl ammonium ethylsulfate and the like.
Also, trimethyl ammonium octyl sulfate, trimethyl ammonium decyl sulfate, butyl dimethyl ammonium decyl sulfate, hexyl dimethyl ammonium dodecyl sulfate, decyl dimethyl ammonium methyl sulfate, decyl dimethyl ammonium tridecyl sulfate, dodecyl diethyl ammonium ethyl sulfate, dodecyl dibutyl ammonium butyl sulfate, dodecyl Dimethyl ammonium tetradecyl sulfate, tetradecyl dimethyl ammonium methyl sulfate, tetradecyl methyl ethyl ammonium methyl sulfate, pentadecyl dimethyl ammonium methyl sulfate, hexadecyl dimethyl ammonium methyl sulfate, hexadecyl methyl ether Tertiary ammonium salts such as Le ammonium ethylsulfate and the like.
[0041]
Also, tetramethyl ammonium hexyl sulfate, tetraethyl ammonium tridecyl sulfate, butyl trimethyl ammonium octyl sulfate, decyl trimethyl ammonium methyl sulfate, decyl triethyl ammonium ethyl sulfate, decyl trimethyl ammonium heisadecyl sulfate, pentadecyl trimethyl ammonium methyl sulfate, pentadecyl dimethyl A quaternary ammonium salt such as ethylammonium ethyl sulfate may be used.
[0042]
Among them, lithium decyl sulfate, sodium decyl sulfate, sodium dodecyl sulfate, potassium dodecyl sulfate, lithium tetradecyl sulfate, sodium tetradecyl sulfate, lithium hexadecyl sulfate, sodium oleyl sulfate, dodecyl ammonium ethyl sulfate, dodecyl methyl ammonium methyl sulfate, Decyl methyl ammonium methyl sulfate, decyl tillammonium ethyl sulfate, tetradecyl ethyl ammonium ethyl sulfate, tetradecyl methyl ethyl ammonium methyl sulfate, pentadecyl ethyl ammonium ethyl sulfate, hexadecyl methyl ammonium methyl sulfate, hexadecyl ethyl sulfate Monium ethyl sulfate, decyl dimethyl ammonium methyl sulfate, hexadecyl dimethyl ammonium methyl sulfate, pentadecyl dimethyl ammonium methyl sulfate, hexadecyl methyl ethyl ammonium ethyl sulfate, pentadecyl dimethyl ethyl ammonium ethyl sulfate, decyl dimethyl ammonium tridecyl sulfate, tetradecyl dimethyl Ammonium methyl sulfate, dodecyl diethyl ammonium ethyl sulfate, tetradecyl diethyl ammonium ethyl sulfate, decyl trimethyl ammonium methyl sulfate, pentadecyl trimethyl ammonium methyl sulfate, decyl triethyl ammonium ethyl sulfate are more preferably used. .
[0043]
Sulfur-containing ester compound ( II );
This compound (II) is represented by the following formula (II).
[0044]
⁺X²-A²-Y¹-SO₃ ⁻        (II)
Where A²Is a divalent hydrocarbon group,⁺X²Is a secondary or quaternary ammonium or phosphonium cation;¹Is the same as the definition of the formula (I). In the above formula (II), A²The divalent hydrocarbon group is preferably a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group. As this saturated aliphatic hydrocarbon group, those having 1 to 20 carbon atoms are more preferable.
[0045]
⁺X²Is an ammonium cation or a phosphonium cation. The ammonium cation and the phosphonium cation preferably each independently contain a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group.
Specific examples of the compound represented by the above formula (II) include the following compounds.
[0046]
-SO₃− (CH₂)₃-N⁺(CH₃)₃,
-SO₃− (CH₂)₃-N⁺(C₂H₅)₃,
-SO₃− (CH₂)₃-P⁺(C₄H₉)₃,
-SO₃− (CH₂)₃-P⁺(C₆H₅)₃,
-SO₃− (CH₂)₃-N⁺(C₂H₅)₃,
-SO₃− (CH₂)₃-P⁺(C₆H₅)₃,
-SO₃− (CH₂)₃-P⁺(C₄H₉)₃,
[0047]
Sulfur-containing ester compound ( III );
This compound (III) is represented by the following formula (III).
[0048]
A³− (⁺X³)_n・ (RY¹-SO₃ ⁻)_n        (III)
Where A³Is an n-valent hydrocarbon group,⁺X³Is an ammonium cation or a phosphonium cation; R is a monovalent hydrocarbon group; n is an integer of 2 to 4;¹Is the same as above.
[0049]
A³The n-valent hydrocarbon group is preferably, for example, an n-valent saturated aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group or a saturated aliphatic-aromatic hydrocarbon group.
[0050]
Also,⁺X³Preferably, the ammonium cation and the phosphonium cation each independently contain a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group.
R is a monovalent hydrocarbon group, examples of which are preferably an alkyl group, an aryl group and an aralkyl group. The alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, the aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and the aralkyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms.
n is 2, 3 or 4;¹Is a single bond or an oxygen atom as described above.
[0051]
Specific examples of the compound represented by the above formula (III) include the following compounds. Y¹Is a single bond,⁺X³Is an ammonium cation and n is 2
[(CH₃)₃N⁺− (CH₂)₁₀-N⁺(CH₃)₃] ・ (CH₃-P-C₆H₄-SO₃ ⁻)₂
[(CH₃)₃N⁺− (CH₂)₁₀-N⁺(CH₃)₃] ・ (C₁₂H₂₅-P-C₆H₄-SO₃ ⁻)₂
[(CH₃)₃N⁺− (CH₂)₁₀-N⁺(CH₃)₃] ・ (C_FifteenH₃₁SO₃ ⁻)₂
[(CH₃)₃N⁺− (CH₂)_Fifteen-N⁺(CH₃)₃] ・ (CH₃-P-C₆H₄-SO₃ ⁻)₂
[(CH₃)₃N⁺− (CH₂)_Fifteen-N⁺(CH₃)₃] ・ (C₁₂H₂₅-P-C₆H₄-SO₃ ⁻)₂
[(CH₃)₃N⁺− (CH₂)_Fifteen-N⁺(CH₃)₃] ・ (C_FifteenH₃₁-SO₃ ⁻)₂
[(C₄H₉)₃N⁺− (CH₂)₁₀-N⁺(C₄H₉)₃] ・ (CH₃-P-C₆H₄-SO₃ ⁻)₂
[(C₄H₉)₃N⁺− (CH₂)₁₀-N⁺(C₄H₉)₃] ・ (C₁₂H₂₅-P-C₆H₄-SO₃ ⁻)₂
[(C₄H₉)₃N⁺− (CH₂)₁₀-N⁺(C₄H₉)₃] ・ (C_FifteenH₃₁-SO₃ ⁻)₂
Can be mentioned.
[0052]
Y¹Is an oxygen atom,⁺X³Is an ammonium cation and n is 2
[(CH₃)₃N⁺− (CH₂)₁₀-N⁺(CH₃)₃] ・ (C_FifteenH₃₁-SO₄ ⁻)₂
[(CH₃)₃N⁺− (CH₂)_Fifteen-N⁺(CH₃)₃] ・ (C_FifteenH₃₁-SO₄ ⁻)₂
[(C₄H₉)₃N⁺− (CH₂)₁₀-N⁺(C₄H₉)₃] ・ (C_FifteenH₃₁-SO₄ ⁻)₂
Can be mentioned.
[0053]
Y¹Is a single bond,⁺X³Is a phosphonium cation, and n is 2
[(C₄H₉)₃P⁺− (CH₂)₁₀-P⁺(C₄H₉)₃] ・ (CH₃-P-C₆H₄-SO₃ ⁻)₂
[(C₄H₉)₃P⁺− (CH₂)₁₀-P⁺(C₄H₉)₃] ・ (C₁₂H₂₅-P-C₆H₄-SO₃ ⁻)₂
[(C₄H₉)₃P⁺− (CH₂)₁₀-P⁺(C₄H₉)₃] ・ (C_FifteenH₃₁-SO₃ ⁻)₂
[(C₆H₅)₃P⁺− (CH₂)₁₀-P⁺(C₆H₅)₃] ・ (CH₃-P-C₆H₄-SO₃ ⁻)₂
[(C₆H₅)₃P⁺− (CH₂)₁₀-P⁺(C₆H₅)₃] ・ (C₁₂H₂₅-P-C₆H₄-SO₃ ⁻)₂
[(C₆H₅)₃P⁺− (CH₂)₁₀-P⁺(C₆H₅)₃] ・ (C_FifteenH₃₁-SO₃ ⁻)₂
Can be mentioned.
[0054]
Y¹Is an oxygen atom,⁺X³Is a phosphonium cation, and n is 2
[(C₄H₉)₃P⁺− (CH₂)₁₀-P⁺(C₄H₉)₃] ・ (C_FifteenH₃₁-SO₄ ⁻)₂
[(C₆H₅)₃P⁺− (CH₂)₁₀-P⁺(C₆H₅)₃] ・ (C_FifteenH₃₁-SO₃ ⁻)₂
Are used.
[0055]
Sulfur-containing ester compound ( IV );
This compound (IV) is represented by the following formula (IV).
[0056]
A⁵-Ad¹-A⁴-(Ad²-A⁵)_k        (IV)
Where A⁵Is a monovalent or divalent hydrocarbon group;⁴Is a divalent hydrocarbon group, and Ad is¹And Ad²Are the same or different -SO₂-O-SO₂-, -SO₂-O-CO- or -CO-O-SO₂And k is 0 or 1. However, when k is 0,-(Ad²-A⁵)_kRepresents a hydrogen atom or A⁴And A⁵(In this case, is a divalent hydrocarbon group or a single bond).
[0057]
A⁵As the monovalent hydrocarbon group represented by, for example, an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group can be preferably mentioned. The alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, the aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and the aralkyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms.
[0058]
A⁵Examples of the divalent hydrocarbon group represented by include an alkylene group, an arylene group, and an aralkylene group. The alkylene group preferably has 1 to 20 carbon atoms, the arylene group preferably has 6 to 20 carbon atoms, and the aralkyl group preferably has 7 to 20 carbon atoms.
[0059]
A⁴Is a divalent hydrocarbon group, for example, A⁵And the same divalent hydrocarbon groups as described above.
Ad¹And Ad²Are the same or different, and -SO₂-O-SO₂-, -SO₂-O-CO- or -CO-O-SO₂-Is any one of the acid anhydride groups. These acid anhydride groups are the anhydride groups between sulfonic acids (-SO₂-O-SO₂-) Or an anhydride group between sulfonic and carboxylic acids (-SO₂-O-CO- or -CO-O-SO₂−).
[0060]
Such a sulfonic acid compound is a monovalent or divalent sulfonic acid compound, specifically, methylsulfonic acid, ethylsulfonic acid, propylsulfonic acid, butylsulfonic acid, hexylsulfonic acid, decylsulfonic acid, hexadecylsulfonic acid. Acid, phenylsulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, octadecylbenzenesulfonic acid, benzenedisulfonic acid, toluenedisulfonic acid and the like are used.
[0061]
Similarly, the carboxylic acid compound is a monovalent or divalent carboxylic acid compound, specifically, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, stearic acid, myristic acid, oleic acid, benzoic acid, phenylacetic acid, Toluic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid and the like are used.
[0062]
Specific examples of the compound represented by the above formula (IV) include the following compounds.
CH₃-P-C₆H₄-SO₂-O-SO₂-P-C₆H₄-SO₂-O-SO₂-P-C₆H₄-CH₃
CH₃-CO-O-SO₂-P-C₆H₄-SO₂-O-CO-CH₃
C₆H₅-CO-O-SO₂-P-C₆H₄-SO₂-O-CO-C₆H₅
CH₃-SO₂-O-CO-m-C₆H₄-CO-O-SO₂-CH₃
CH₃− (CH₂)₆-SO₂-O-CO-m-C₆H₄-CO-O-SO₂− (CH₂)₆-CH₃
C₆H₅-SO₂-O-CO-m-C₆H₄-CO-O-SO₂-C₆H₅
CH₃-P-C₆H₄-SO₂-O-CO-m-C₆H₄-CO-O-SO₂-P-C₆H₄-CH₃
C₁₂H₂₅-P-C₆H₄-SO₂-O-CO-m-C₆H₄-CO-O-SO₂-P-C₆H₄-C₁₂H₂₅
(CH₃SO₂)₂O
(CH₃CH₂SO₂)₂O
(CH₃(CH₂)₃SO₂)₂O
(CH₃(CH₂)₆SO₂)₂O
(C₆H₅-SO₂)₂O
(CH₃-P-C₆H₅-SO₂)₂O
(C₁₂H₂₅-P-C₆H₅-SO₂)₂O
(CH₃(CH₂)₃-SO₂) -O- (SO₂-P-C₆H₄-CH₃)
(CH₃-P-C₆H₄-SO₂) -O- (SO₂-P-C₆H₄-C₁₂H₂₅)
(CH₃-CO) -O- (SO₂− (CH₂)₆-CH₃)
(CH₃-CO) -O- (SO₂-C₆H₅)
(CH₃-CO) -O- (SO₂-P-C₆H₄-CH₃)
(CH₃-CO) -O- (SO₂-P-C₆H₄-C₁₂H₂₅)
(C₆H₅-CO) -O- (SO₂− (CH₂)₆-CH₃)
(C₆H₅-CO) -O- (SO₂-C₆H₅)
(C₆H₅-CO) -O- (SO₂-P-C₆H₄-CH₃)
[0063]
Embedded image

[0064]
In the present invention, in order to deactivate the activity of the polycondensation catalyst, 0.5 to 50 mol, preferably 0.5 to 20 mol, particularly preferably 1 to 15 mol per mol of the polycondensation catalyst in the aromatic polycarbonate resin. It is desirable to add moles of the catalyst deactivator. In particular, the amount of the catalyst deactivator depends on the type thereof and the concentration of the polycondensation catalyst, but is generally 0.01 to 500 ppm, preferably 0.05 to 300 ppm, more preferably 0.1 to 300 ppm. Used at a rate of １００100 ppm.
[0065]
Among the above sulfur-containing ester compounds of the formula, the phosphonium or ammonium salt type catalyst deactivator itself is particularly stable even at 200 ° C. or higher. When the catalyst deactivator is added to the polymer, the catalyst can be immediately detoxified, and the desired polymer can be obtained.
[0066]
The method for adding the catalyst deactivator to the aromatic polycarbonate resin is not particularly limited. For example, the reaction product may be added while the polycarbonate resin is in a molten state, or may be added after the polycarbonate resin is pelletized once and then re-melted. In the former, after the polycondensation reaction is completed and the polycarbonate resin as a reaction product in the molten state obtained in the reactor or the extruder obtained in the extruder is in the molten state, these are added to form the polycarbonate resin. May be pelletized through an extruder, or, while the polycarbonate resin obtained by the polycondensation reaction is pelletized through a reactor, the target polycarbonate may be added and kneaded by adding a catalyst deactivator. A resin can be obtained.
[0067]
At this time, these compounds may be added simultaneously or separately. When these compounds are added in combination, the order of addition is not limited.
In the present invention, the polycarbonate obtained as described above, within a range that does not impair the object of the present invention, a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, a release agent, a coloring agent, an organic filler, an inorganic filler, and the like. It may be added. Such an additive may be added simultaneously with the aromatic dihydroxy compound, or may be added separately.
[0068]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
In the examples, molding and evaluation of the aromatic polycarbonate resin were carried out by the following methods.
[0069]
(1) residual catalyst activity index;
The rate of change per minute (% / min) of the melt viscosity of the aromatic polycarbonate resin was defined. The viscosity was measured at 270 ° C. under a dry nitrogen stream at a shear rate of 1 rad / sec for 30 minutes using an RAA type flow analyzer manufactured by Rheometrics.
It means the value calculated by the following equation.
[0070]
(Equation 2)

[0071]
(2) Disc substrate molding;
Disc substrate molding from aromatic polycarbonate resin: The disc substrate was molded by a Sumitomo Heavy Industries, Ltd. injection molding machine DISK3M3 and a 1.2 mm-thickness with a bumper-shaped stamper corresponding to an information signal. This was performed at a barrel temperature of 340 ° C. using a mold having a cavity of 120 mm.
[0072]
(3) thermal stability;
After drying the sample pellets at 120 ° C. for 5 hours, using an injection molding machine SG-150 manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd., a test piece (70 mm long, horizontal) which was kept for 10 minutes at a cylinder temperature of 340 ° C. 50 mm and a thickness of 2 mm) were prepared, and the change in hue was measured. The change in hue was calculated according to JIS Z 8730 using the Nippon Denshoku Co., Ltd. model Z-1001DP, by measuring the respective L, a, and b values, using the following equation.
ΔE = ｛(L−L ′)²+ (A-a ')²+ (B-b ')²｝^1/2
(L, a, b are not retained, L ', a', b 'are retained for 10 minutes)
[0073]
(4) Number of white spots on disk (after wet heat treatment)
In order to reproduce the increase in white spots when left for a long time in a harsh atmosphere, the disc was kept in a thermo-hygrostat controlled at a temperature of 80 ° C. and a relative humidity of 85% for 1000 hours, and then using a polarizing microscope. The number of white spots of 20 μm or more was counted. This was performed for 25 optical disk substrates, the average value was determined, and this was defined as the number of white spots.
[0074]
Examples 1 to 6
228 parts by weight of 2,2'-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A), 214 parts by weight of diphenyl carbonate, 0.073 parts by weight of tetramethylammonium hydroxide, and predetermined amounts of metal catalysts shown in Tables 1 and 2 below Was charged into a reactor equipped with a stirrer, a decompression device, a distillation column, and the like.₂Under an atmosphere, the mixture was stirred for 30 minutes to dissolve.
[0075]
Then, the reaction was carried out at the same temperature under reduced pressure of 100 mmHg for 1 hour while distilling off phenol. Further, the pressure was reduced to 30 mmHg while the temperature was raised to 200 ° C., and the reaction was carried out at the same temperature and pressure for 1 hour. Further, the temperature of the reaction system was raised to 280 ° C., the pressure was reduced to 0.5 mmHg, and the reaction was carried out at the same temperature and the same pressure for one hour. did. This polymer was sent to the extruder by a gear pump. In the middle of the extruder, 0.01% by weight of tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite and 0.08% by weight of monoglyceride stearate were added to obtain polycarbonate pellets. A disk substrate was molded using the pelletized resin, and the substrate was evaluated for residual catalyst activity index, thermal stability, and white spot generation. The results are shown in Tables 1 and 2 below.
[0076]
Comparative Example 1
A polycarbonate resin pellet was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the amount of the catalyst deactivator was not used. Table 3 shows the results.
[0077]
[Table 1]

[0078]
[Table 2]

[0079]
[Table 3]

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【The invention's effect】
According to the present invention, by setting the residual catalytic activity index of the polycarbonate resin to a certain value or less, an optical disk substrate having excellent thermal stability and extremely high reliability can be obtained. Further, the effect achieved by a high-density optical disk such as a digital video disk (DVD) is particularly excellent.

Claims

An optical disc substrate manufactured by a melt polymerization method and formed of an aromatic polycarbonate resin having a residual catalyst activity index of 2% or less.

The optical disc substrate according to claim 1, wherein the aromatic polycarbonate resin contains 0.01 to 50 ppm of a metal catalyst and 0.5 to 50 mol of a catalyst deactivator per 1 mol of the metal catalyst.

3. The optical disk substrate according to claim 2, wherein said metal catalyst is an alkali metal compound or an alkaline earth metal compound.

3. The optical disc substrate according to claim 2, wherein said catalyst deactivator is a sulfur-containing ester compound.

The optical disc substrate according to claim 1, wherein the aromatic polycarbonate resin has a viscosity average molecular weight of 10,000 to 22,000.