JP3536362B2 - Drawing data generation method - Google Patents

Drawing data generation method

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JP3536362B2
JP3536362B2 JP20706594A JP20706594A JP3536362B2 JP 3536362 B2 JP3536362 B2 JP 3536362B2 JP 20706594 A JP20706594 A JP 20706594A JP 20706594 A JP20706594 A JP 20706594A JP 3536362 B2 JP3536362 B2 JP 3536362B2
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【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、ULSIのマスクイメ
ージを検証するために、マスクEB(Electorn Beam li
thography drawing)データに応じた表示を高速に行う
画データ生成方法に関する。 【0002】 【従来の技術】半導体装置の設計などに用いられるマス
クデータの処理はますます複雑化してきており、マスク
データの検証を効率的に行いたいという要求が高まって
いる。かかる要求に答える特に有益な検証ツールとし
て、マスクEB(Electorn Beamlithography drawing)
データグラフィカルイメージブラウザがある。このブラ
ウザは、チップ内の所定領域に配置されたパターンをグ
ラフィカルイメージとして表示するものである。 【0003】また、EBデータがますます複雑化したこ
とで、最終的なマスクイメージをブラウズしたいという
要求が増している。それと同時に、高いブラウジイング
特性が得られれば、半導体装置の設計に費やす時間全体
を短縮できる。また、EBブラウザの移植性は、EBブ
ラウザを異なるCADシステムを持つハードウェアで実
行可能にするために重要である。さらには、マスク製作
において、有力なEBデータのフォーマットが無いた
め、複数のEBデータフォーマットをサポート可能でき
ないという問題もある。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
EBブラウザは、パターンに表示において適切なデータ
分割および作図の近似を行っていないためブラウジング
特性が低く、その結果、ULSI設計に関する大規模な
データ量をブラウジイングすることができないという問
題がある。また、このEBブラウザは、そのプラットフ
ォームへの依存性が高く、多数のEBデータをサポート
することができないという問題もある。 【0005】本発明は上述した従来技術の問題点に鑑み
てなされ、EBデータに応じた画像を高速に表示可能な
描画データ生成方法を提供することを目的とする。 【0006】 【課題を解決するための手段】上述した従来技術の問題
点を解決し、上述した目的を達成するために、本発明の
描画データ生成方法は、計算機が実行する描画データ生
成方法であって、チップ領域を分割するマトリクス状の
第1の区画のそれぞれに、前記チップ領域全体において
パターンの密度が均一であると仮定して、前記第1の区
間に含まれる前記パターンの数が一定となるように、
記チップ領域に配置された前記パターンを表示するため
のパターンデータのうち、当該第1の区間を規定するラ
インと交差しない前記パターンの前記パターンデータを
割り付け、前記チップ領域を分割し前記第1の区画より
大きなマトリクス状の第2の区間のそれぞれに、前記チ
ップ領域全体において前記パターンの密度が均一である
と仮定して、前記第2の区間に含まれる前記パターンの
数が一定となるように、前記ラインと交差して位置する
ために前記第1の区画への割り付けを行うことができな
い前記パターンのうち、当該第2の区間を規定するライ
ンと交差しない前記パターンの前記パターンデータを割
り付け、前記割り付けの結果を、前記計算機が具備する
記録手段に記録し、前記チップ領域の一部分を拡大して
表示する際に、当該部分に配置された前記パターンの前
記パターンデータが割り付けられた前記第1の区画およ
び前記第2の区画を検出し、当該検出された第1の区画
および第2の区画に割り付けた前記パターンの前記パタ
ーンデータを前記記録手段から読み出し、当該読み出し
たパターンデータを基に描画データを生成する方法であ
り、所定数以下の画素によって描かれる前記パターンは
無視し、所定数以下の画素によって描かれる不等辺四辺
形は長方形に近似し、所定領域内に含まれる画素によっ
て描かれるリペティション領域は、単一の長方形ボック
ス領域に近似し、所定数以下の画素によって描かれる、
単一のエンティティとして参照可能な前記パターンの集
は、単一の長方形ボックス領域に近似して前記描画デ
ータを生成する。 【0007】 【作用】本発明の描画データ生成方法では、先ず、チッ
プ領域を分割するマトリクス状の第1の区画のそれぞれ
に、前記チップ領域に配置されたパターンを表示するた
めのパターンデータのうち、当該第1の区間を規定する
ラインと交差しない前記パターンの前記パターンデータ
を割り付ける。そして、前記チップ領域を分割し前記第
1の区画より大きなマトリクス状の第2の区間のそれぞ
れに、前記ラインと交差して位置するために前記第1の
区画への割り付けを行うことができない前記パターンの
うち、当該第2の区間を規定するラインと交差しない前
記パターンの前記パターンデータを割り付ける。そし
て、前記割り付けの結果を、記録手段に記録する。そし
て、前記チップ領域の一部分を拡大して表示する際に、
当該部分に配置された前記パターンの前記パターンデー
タが割り付けられた前記第1の区画および前記第2の区
画を検出し、当該検出された第1の区画および第2の区
画に割り付けた前記パターンの前記パターンデータを前
記記録手段から読み出し、当該読み出したパターンデー
タを基に描画データを生成する。この場合に、所定数以
下の画素によって描かれる前記パターンは無視し、所定
数以下の画素によって描かれる不等辺四辺形は長方形に
近似し、所定領域内に含まれる画素によって描かれるリ
ペティション領域は、単一の長方形ボックス領域に近似
し、所定数以下の画素によって描かれる、単一のエンテ
ィティとして参照可能な前記パターンは、単一の長方形
ボックス領域に近似して前記描画データを生成する。 【0008】 【実施例】以下、本発明の実施例に係わるグラフィカル
イメージブラウザについて説明する。図1は、本実施例
に係わるグラフィカルイメージブラウザ1の構成図であ
る。 図1に示すように、本実施例に係わるグラフィカ
ルイメージブラウザ1は、データ変換部2、分割処理部
3、マスクイメージ作成部4、データベース5および操
作部9で構成される。データ変換部2は、EBパターン
データを入力し、これを中間データ7に変換する。EB
パターンデータのフォーマットとしては、例えば日本電
子株式会社製EB描画システム用描画パターンフォーマ
ットJEOL52や米国Etec Systems I
nc.社製EB描画システム用描画パターンフォーマッ
トMEBESなどが用いられる。EBパターンデータ
は、長方形および不等辺四角形のような幾何学的なパタ
ーンに基づいた一連のEBリソグラフィー描画命令から
成る。すなわちチップにおけるゲートの位置、コンタク
トホールの位置などの概念は、ULSIのマスクイメー
ジを検証するときには、グラフィカルマスクイメージと
して一様に把握される。従って、EBパターンデータに
おいては、上記ゲートの位置などの概念を用いる必要は
ない。尚、EBパターンデータには、色に関する情報は
含まれていない。 【0009】中間データ7は、一般的に、人間が読むこ
とができるフォーマットをしており、これによって、パ
ターンデータの検証がさらに容易になる。また、中間デ
ータ7は、一般的なEBパターンデータのフォーマット
に基づいた種々のパターンのタイプおよび階層的な構造
を表現可能であり、複数のEBパターンデータをサポー
トできる。すなわち、EBパターンデータを中間データ
7に変換することで、複数のEB装置のそれぞれに対応
したEBパターンデータを種々の表示装置特有の表示デ
ータに変換する場合に、変換プログラムの数を大幅に少
なくすることができる。 【0010】前述したようにEBパターンデータには色
に関する情報は含まれていないが、中間データ7には色
および種類(スタイル)に関する情報が付加されてい
る。中間データ7は、好ましくは、色および種類に関す
る情報を組み込むことができるフォーマットをしてい
る。これらの色および種類は、例えば異なるマスク層に
それぞれ異なる色を割り付けることで、グラフィカルイ
メージのパターンデータをより明確に区別するために用
いられる。 【0011】中間データ7によって表現されたパターン
を階層的に表現するために、図3(A)に示す単一のエ
ンティティとして参照可能なオブジェクト21の集合、
並びにリペティション(反復)という概念が用いられ
る。こで、オブジェクト21は、パターンあるいはラ
イブラリである。図3(A)に示すように、リペティシ
ョン22は、2次元マトリクスに応じて、オブジェクト
21の反復を記述したものをいう。 【0012】分割処理部3は、データ変換部2からの中
間データ7を読み取り、読み取った中間データ7をより
小さな領域に分割して、その結果をデータベース5に一
時的に記憶する。このように、データをより小さな領域
に分割する手法は、非常に多くの量のパターンデータを
取り扱う問題を解決するテクニックとして一般的に用い
られ、かつ効果的である。分割処理部3においては、計
算の複雑さが(logN)である分割手法を用いてい
る。ここで、Kは区画の数を示し、Nはパターンの総数
を示す。また、分割処理部3においては、チップ領域全
体において長方形の密度は均一であると仮定している。
このような仮定をすれば、所定の数のパターンを含む等
しい寸法の区画を選択することで、非常に高速な探索性
能を得ることができる。例えば、図2に示すように、中
間データ7で表現されたチップパターンデータ10がマ
トリクス11によって区画パターンデータ12のように
分割される。 【0013】以下、チップ領域を3×3のマトリクス状
の区画群に分割する場合について例示する。図3(B)
は、チップ領域を3×3のマトリクス状の区画群に分割
する場合を説明するための図である。図3(B)に示す
ように、チップ領域30にはオブジェクト31a〜31
fが配置してある。先ず、チップ領域30をマトリクス
状の区画群32によって区画41〜49に分割し、各区
画にオブジェクトを割り付ける。このとき、チップ領域
30のオブジェクト31b,31c,31e,31f
は、区画群32のラインと交差するため、この時点で
は、区画への割り付けは行わない。ここでは、オブジェ
クト31a,31dが区画41,46にそれぞれ割り付
けられる。 【0014】次に、チップ領域30を区画群33によっ
て区画50〜53に分割し、各区画に区画群32によっ
て割り付けが成されなかったオブジェクトを割り付け
る。このとき、チップ領域30のオブジェクト31cは
区画群33のラインと交差するため、区画への割り付け
は行わない。このとき、オブジェクト31b,31e,
31fがそれぞれ区画51,52,53に割り付けられ
る。 【0015】次に、チップ領域30の形状と等しい区画
群34による区画54に、最後まで残ったオブジェクト
31cを割り付ける。 【0016】単一の区画に含まれるパターンの数は一定
である(限られている)。そのため、チップの寸法が特
定されれば、分割の総数は、与えられたパターンの数か
ら計算可能である。すなわち、分割のパラメータは以下
の式(1)で与えられる。 【0017】以下、分割の総数を大まかに算出する手法
について説明する。チップ領域を分割する場合に、mを
分割のレベル、nを最終的な分割の回数、Rmをm番目
の分割を行った後に残存したパターンの数、Bを各区画
に含まれるパターンの数、Kmをm番目の分割を行うと
きの区画の数を示す場合に、下記式が成り立つ。 【0018】 【0019】式(2),(5)において、m=nとし、
さらに式を変形すると下記式(6),(7)が成り立
つ。 【0020】ここで、最終的なRn の値は理想的にはB
と等しくなる。そのため、Rn を下記式(8)のように
置き換えることができる。 式(8)をさらに変形すると式(9)のようになる。 式(9)から最終的な分割の回数nは(logN)を変
数とする関数によって決定されることが分かる。 【0021】比較的小さなパターンの数の総和が大きい
と、各区画へのパターンの分配は、事実上、ほぼ一定に
なる。階層的な構造をした中間データ7のフォーマット
を分割するとき、データをできるだけコンパクトにする
ために、中間データ7のフォーマットの構造を変化させ
ないようにすることが重要である。前述した2つの構造
的な要素を分割するために、それらの要素を以下に示す
手法によって長方形として取り扱う。すなわち、図3
(A)に示すように、ライブライリ20は長方形のボッ
クス領域23として取り扱い、リペティション22は長
方形のボックス領域24として取り扱う。 【0022】ライブラリーが大きな総和のパターンデー
タを含むとき、単一のエンティティとして参照可能なオ
ブジェクトの集合そのものを再分割するために、分割の
新しいレベルを導入し、分割の階層を生成する。 【0023】データベース5には、前述した分割処理部
3における分割処理の結果が記憶される。このデータベ
ース5には、各区画に属する(割り当てられた)パター
ンデータが高速にアクセス可能状態で記憶される。ま
た、データベース5には、各区画に属するパターンデー
タを検索するのに用いられるルックアップテーブルが記
憶されている。ユーザによる操作部9の操作によって、
ブラウザがチップ領域をズーム(拡大)して表示する指
示をした場合には、そのズーム領域に対応する区画に属
するパターンのみがディスプレイ8への表示に必要とな
る。パターンデータが大量であるため、データベース5
は一般的に外部ファイルとして実現される。そのため、
全てのパターンデータをメモリにロードする必要はな
い。これによって、データベースルックアップテープル
を割り当てるのに比較的記憶容量の小さなメモリを用い
ればよく、パターン数に制限を設ける必要がほとんどな
くなる。 【0024】マスクイメージ作成部4は、ユーザによる
操作部9の操作に応じて、ユーザの要求に応じた描画デ
ータを作成し、この描画データS4をディスプレイ8に
出力する。このとき、マスクイメージ作成部4は、当該
作成に必要なパターンデータをデータベース5から読み
出す。 【0025】例えば、図3(B)に示す区画41に相当
する領域を拡大して描画するという要求がユーザによっ
てなされた場合には、マスクイメージ作成部4は区画4
1,50,54に属するパターンデータをデータベース
5から読み出す。チップ領域内のパターンを高速に検索
できるようにするために、マスクイメージ作成部4は、
以下に示す描画近似ルールを用いて描画データS4を作
成して描画時間を短縮する。 【0026】(1)ほとんど視認できない小さなパター
ンは無視する。 (2)小さな不等辺4辺形は長方形に近似する。これ
は、ほとんどのグラフィカルパッケージにおいて、不等
辺4辺形の描画速度は、長方形の描画速度に比べて遅い
ためである。 (3)小さなリペティション領域は、単一の長方形のボ
ックス領域に近似する。 (4)単一のエンティティとして参照可能なオブジェク
トの小さな集合は、単一の長方形のボックス領域に近似
する。 【0027】描画における近似はマスクイメージをゆが
めることから、ユーザは、操作部9の操作によって近似
の基準の程度を特定(入力)することで、近似の程度を
決定することができる。 【0028】次に、描画データS4を作成するときの手
法について説明する。例えば、半導体チップに図5に示
すようなパターン70,71,72が形成してある。こ
こで、パターン72の上層にパターン70が形成され、
パターン71がパターン70と同一の層に形成されてい
る。このとき、マスクイメージ作成部4は、例えば、パ
ターン70,71を赤色で表示し、パターン72を青色
で表示するように描画データS4を作成する。また、マ
スクイメージ作成部4は、パターン70とパターン72
との交差部73およびパターン71とパターン72との
交差部74とを、例えば、青色とドットと赤色のドット
とを混合させて表示する。これによって、ユーザは、表
示画面を見ることで、交差部73がパターン70,71
とパターン72とが交差している部分であることを容易
に認識でき、パターン検証の効率を高めることができ
る。 【0029】図1に示すグラフィカルイメージブラウザ
1における処理を図4に示すフローチャートを参照しな
がら説明する。ステップS1:EBパターンデータがデ
ータ変換部2に入力され、中間データ7が生成される。
中間データ7はデータ変換部2から分割処理部3に出力
される。 【0030】ステップS2:分割処理部3において、前
述したように中間データ7が分割処理され、分割処理の
結果がデータベース5に記憶される。このとき同時に、
ルックアップテーブル6が生成され、データベース5に
記憶される。 【0031】ステップS3:ルックアップテーブル6を
読み出し、高速アクセス可能なメモリに記憶する。 【0032】ステップS4:ユーザによる操作部9の操
作に応じた操作信号S9がマスクイメージ作成部4に入
力され、これが中止リクエスト以外の場合には、ステッ
プS5の処理を実行し、中止リクエストの場合には処理
を中止する。 【0033】ステップS5:マスクイメージ作成部4に
おいて、前述したように、ステップS4におけるユーザ
のリクエストに応じた描画データが作成される。このと
き、当該描画データに必要なパターンデータがデータベ
ース5から読み出される。 【0034】以下、上述したグラフィカルイメージブラ
ウザ1の評価について説明する。図6,7は、処理速度
が25mipsのUnixワークステイションを用い
て、273万個のパターンで構成されるチップをブラウ
ジイングした場合の画像である。ここで、図6はグラフ
ィカルイメージブラウザ1による描画近似ルールを用い
た場合の画像、図7は描画近似ルールを用いていない場
合の画像である。このとき、図6に示す画像は、353
個のパターンで構成され、全体を表示するのに1秒以下
を要した。このとき、1画素より小さなパターンは無視
し、5×5の画素のより小さな不等辺四辺形、及びリペ
ティション、並びに単一のエンティティとして参照可能
なパターンの集合は44×44画素より小さな領域は長
方形とした描いた。 【0035】一方、図7に示す画像は、273万個のパ
ターンで構成され、全体を表示するのに約2分40秒を
要した。同様に、図8(A)はグラフィカルイメージブ
ラウザ1による描画近似ルールを用いた場合の画像、図
8(B)は描画近似ルールを用いていない場合の画像で
ある。図8(A)に示す表示を行う場合において、10
×10の画素より小さな不等辺四辺形を長方形として描
いた。このとき、図8(A)に示す画像を表示するのは
一瞬であったが、図8(B)に示す画像を表示するのに
は2,3秒を要した。但し、図8(A)に示すように、
描画近似ルールを用いた場合には、多少ギザギザの部分
60が生じている。 【0036】上述した本実施例のグラフィカルイメージ
ブラウザをXwindowsおよびC言語を用いて作成
すれば、XwindowsがCADシステム用のグラフ
ィカルインターフェースとして広く普及してきることか
ら、本実施例のグラフィカルイメージブラウザの汎用性
を高めることができる。 【0037】 【発明の効果】本発明の描画データ生成方法によれば、
電子ビーム描画データに応じた画像を高速に表示でき
る。また、本発明の描画データ生成方法によれば、中間
データを用いることで、EB装置特有の電子ビーム描画
データを表示装置特有の表示データに変換する変換プロ
グラムの数を少なくできる。また、本発明の描画データ
生成方法によれば、ユーザは、複数層に形成されたパタ
ーンの交差部を容易に認識できる。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mask EB (Electorn Beam Lili) for verifying a ULSI mask image.
thography drawing) drawing to perform a display in accordance with the data at high speed
The present invention relates to an image data generation method . 2. Description of the Related Art Processing of mask data used for designing a semiconductor device or the like is becoming more and more complicated, and a demand for efficient verification of mask data is increasing. A particularly useful verification tool that meets these requirements is mask EB (Electorn Beamlithography drawing).
There is a data graphical image browser. This browser displays a pattern arranged in a predetermined area in a chip as a graphical image. Further, as EB data becomes more and more complicated, there is an increasing demand for browsing a final mask image. At the same time, if high browsing characteristics can be obtained, the overall time spent designing a semiconductor device can be reduced. In addition, portability of the EB browser is important for enabling the EB browser to be executed on hardware having different CAD systems. Further, there is a problem that a plurality of EB data formats cannot be supported because there is no effective EB data format in mask production. [0004] However, recent EB browsers do not perform appropriate data division and approximation of drawing in displaying a pattern, so that the browsing characteristics are low, and as a result, large-scale ULSI design is not possible. There is a problem that a large amount of data cannot be browsed. Further, this EB browser has a problem that it is highly dependent on the platform and cannot support a large number of EB data. The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and is capable of displaying an image corresponding to EB data at a high speed.
It is an object to provide a drawing data generation method . In order to solve the above-mentioned problems of the prior art and to achieve the above object, a drawing data generating method according to the present invention uses a drawing data generating method executed by a computer.
The method comprises the steps of: providing a first partition in a matrix for dividing a chip region in each of the first regions;
Assuming that the pattern density is uniform, the first section
Among the pattern data for displaying the patterns arranged in the chip region, the number of the patterns that do not intersect with the line that defines the first section is set such that the number of the patterns included in between becomes constant. assignment pattern data, each of the chip areas by dividing the first second major matrix from compartment sections, said Ji
The density of the pattern is uniform over the entire
Assuming that the pattern of the pattern included in the second section
Among the patterns that cannot be assigned to the first section because they are located to intersect with the line so that the number is constant, the pattern that does not intersect with the line that defines the second section When the pattern data is allocated, and the result of the allocation is recorded in a recording unit provided in the computer, and when a part of the chip area is displayed in an enlarged manner, the pattern data of the pattern arranged in the part is displayed. Detecting the first section and the second section to which the first section and the second section are assigned, and reading the pattern data of the detected patterns assigned to the first section and the second section from the recording means, This is a method of generating drawing data based on the pattern data that has been drawn. The trapezoid drawn by the pixel approximate to a rectangle, Ripetishon region drawn by the pixels included in the predetermined region is approximated to a single rectangular box area, drawn by a predetermined number or less of pixels,
A collection of said patterns that can be referenced as a single entity
In this case , the drawing data is generated by approximating a single rectangular box area. According to the drawing data generating method of the present invention, first, among the pattern data for displaying the pattern arranged in the chip area, each of the first sections of the matrix for dividing the chip area is displayed. , The pattern data of the pattern not intersecting with the line defining the first section is allocated. Then, since the chip area is divided and located in each of the matrix-like second sections larger than the first section and intersects with the line, the chip area cannot be allocated to the first section. Among the patterns, the pattern data of the pattern not intersecting with the line defining the second section is allocated. Then, the result of the allocation is recorded in the recording means. Then, when displaying a part of the chip area in an enlarged manner,
The first section and the second section to which the pattern data of the pattern arranged in the portion are allocated are detected, and the detected pattern of the pattern allocated to the first section and the second section is detected. The pattern data is read from the recording unit, and drawing data is generated based on the read pattern data. In this case, the pattern drawn by the predetermined number of pixels or less is ignored, the trapezoid drawn by the predetermined number of pixels or less approximates a rectangle, and the repetition area drawn by the pixels included in the predetermined area is The pattern approximated to a single rectangular box area and drawn by a predetermined number or less of pixels, which can be referred to as a single entity, generates the drawing data by approximating to a single rectangular box area. Hereinafter, a graphical image browser according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a configuration diagram of a graphical image browser 1 according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, a graphical image browser 1 according to the present embodiment includes a data conversion unit 2, a division processing unit 3, a mask image creation unit 4, a database 5, and an operation unit 9. The data converter 2 receives the EB pattern data and converts the EB pattern data into intermediate data 7. EB
As a format of the pattern data, for example, a drawing pattern format JEOL52 for an EB drawing system manufactured by JEOL Ltd., or Etec Systems I, USA
nc. For example, a drawing pattern format MEBES for an EB drawing system manufactured by the company is used. The EB pattern data consists of a series of EB lithography drawing commands based on geometric patterns such as rectangles and trapezoids. That is, concepts such as the position of the gate and the position of the contact hole in the chip are uniformly grasped as a graphical mask image when verifying the ULSI mask image. Therefore, in the EB pattern data, it is not necessary to use the concept such as the position of the gate. Note that the EB pattern data does not include information on colors. The intermediate data 7 is generally in a human-readable format, which makes it easier to verify the pattern data. Further, the intermediate data 7 can represent various types of patterns and a hierarchical structure based on a general format of EB pattern data, and can support a plurality of EB pattern data. That is, when the EB pattern data is converted into the intermediate data 7 to convert the EB pattern data corresponding to each of the plurality of EB devices into display data unique to various display devices, the number of conversion programs is significantly reduced. can do. As described above, the EB pattern data does not include information on colors, but the intermediate data 7 has information on colors and types (styles). The intermediate data 7 is preferably in a format that can incorporate information about color and type. These colors and types are used to more clearly distinguish pattern data of a graphical image by assigning different colors to different mask layers, for example. In order to hierarchically represent the pattern represented by the intermediate data 7 , a single pattern shown in FIG.
Collection of objects 21 that can be referenced as entities
In addition, the concept of repetition is used. In here, the object 21 is a pattern or library. As shown in FIG. 3A, the repetition 22 describes a repetition of the object 21 according to a two-dimensional matrix. The division processing unit 3 reads the intermediate data 7 from the data conversion unit 2, divides the read intermediate data 7 into smaller areas, and temporarily stores the result in the database 5. As described above, the technique of dividing data into smaller areas is generally used and effective as a technique for solving a problem of handling a very large amount of pattern data. In the division processing section 3, computational complexity is using a split method is a (K logN). Here, K indicates the number of sections, and N indicates the total number of patterns. Further, in the division processing unit 3, it is assumed that the density of the rectangle is uniform in the entire chip area.
Under such an assumption, a very high-speed search performance can be obtained by selecting sections of equal size including a predetermined number of patterns. For example, as shown in FIG. 2, the chip pattern data 10 represented by the intermediate data 7 is divided by the matrix 11 like the partition pattern data 12. An example in which the chip area is divided into 3 × 3 matrix sections will be described below. FIG. 3 (B)
FIG. 3 is a diagram for explaining a case where a chip area is divided into 3 × 3 matrix-shaped section groups. As shown in FIG. 3B, objects 31a to 31
f is arranged. First, the chip area 30 is divided into sections 41 to 49 by a matrix-shaped section group 32, and an object is allocated to each section. At this time, the objects 31b, 31c, 31e, 31f of the chip area 30
Intersects with the line of the section group 32, so that the assignment to the section is not performed at this time. Here, the objects 31a and 31d are allocated to the sections 41 and 46, respectively. Next, the chip area 30 is divided into sections 50 to 53 by a section group 33, and objects not allocated by the section group 32 are assigned to each section. At this time, since the object 31c of the chip area 30 intersects with the line of the section group 33, the assignment to the section is not performed. At this time, the objects 31b, 31e,
31f is allocated to the sections 51, 52, 53, respectively. Next, the object 31c remaining until the end is assigned to a section 54 of the section group 34 having the same shape as the chip area 30. The number of patterns included in a single section is constant (limited). Therefore, if the size of the chip is specified, the total number of divisions can be calculated from the number of given patterns. That is, the division parameter is given by the following equation (1). Hereinafter, a method for roughly calculating the total number of divisions will be described. When dividing the chip region, m is the level of division, n is the number of final divisions, Rm is the number of patterns remaining after performing the m-th division, B is the number of patterns included in each section, When Km indicates the number of partitions when the m-th division is performed, the following expression is established. [0018] In equations (2) and (5), m = n,
By further transforming the equations, the following equations (6) and (7) hold. Here, the final value of R n is ideally B
Becomes equal to Therefore, R n can be replaced as in the following equation (8). When equation (8) is further modified, equation (9) is obtained. From equation (9), it can be seen that the final number of divisions n is determined by a function having (logN) as a variable. When the sum of the number of relatively small patterns is large, the distribution of patterns to each section is practically substantially constant. When dividing the format of the intermediate data 7 having a hierarchical structure, it is important to keep the format structure of the intermediate data 7 unchanged so as to make the data as compact as possible. In order to divide the above-mentioned two structural elements, those elements are treated as a rectangle by the following method. That is, FIG.
As shown in (A), the library 20 is handled as a rectangular box area 23, and the repetition 22 is handled as a rectangular box area 24. When the library contains a large sum of pattern data, it can be referred to as a single entity.
In order to subdivide the set of objects themselves, a new level of division is introduced and a hierarchy of divisions is created. The database 5 stores the results of the division processing by the division processing unit 3 described above. In this database 5, pattern data belonging to (assigned to) each section is stored in a high-speed accessible state. Further, the database 5 stores a look-up table used to search for pattern data belonging to each section. By the operation of the operation unit 9 by the user,
When the browser instructs to zoom (enlarge) and display the chip area, only the pattern belonging to the section corresponding to the zoom area is required to be displayed on the display 8. Database 5 because of the large amount of pattern data
Is generally implemented as an external file. for that reason,
It is not necessary to load all the pattern data into the memory. As a result, a memory having a relatively small storage capacity may be used for allocating the database lookup table, and there is almost no need to limit the number of patterns. The mask image creating section 4 creates drawing data according to the user's request in response to the operation of the operation section 9 by the user, and outputs this drawing data S4 to the display 8. At this time, the mask image creation unit 4 reads out pattern data necessary for the creation from the database 5. For example, if the user requests to enlarge and draw an area corresponding to the section 41 shown in FIG.
The pattern data belonging to 1, 50, 54 is read from the database 5. In order to enable a high-speed search for a pattern in the chip area, the mask image creation unit 4
The drawing data S4 is created using the following drawing approximation rules to reduce the drawing time. (1) Small patterns that are hardly visible are ignored. (2) A small unequal quadrilateral approximates a rectangle. This is because in most graphical packages, the drawing speed of the inequilateral quadrilateral is slower than the drawing speed of the rectangle. (3) A small repetition area approximates a single rectangular box area. (4) Objects that can be referenced as a single entity
A small set of objects approximates a single rectangular box area. Since the approximation in drawing distorts the mask image, the user can determine the degree of approximation by specifying (inputting) the degree of approximation by operating the operation unit 9. Next, a method for creating the drawing data S4 will be described. For example, patterns 70, 71, 72 as shown in FIG. 5 are formed on a semiconductor chip. Here, the pattern 70 is formed on the pattern 72,
The pattern 71 is formed on the same layer as the pattern 70. At this time, the mask image creation unit 4 creates the drawing data S4 so that the patterns 70 and 71 are displayed in red and the pattern 72 is displayed in blue. Further, the mask image creating section 4 includes a pattern 70 and a pattern 72.
And the intersection 74 between the pattern 71 and the pattern 72 are displayed by mixing, for example, blue, dots, and red dots. Thus, the user looks at the display screen, and the intersection 73 becomes the pattern 70, 71.
And the pattern 72 can be easily recognized as a crossing portion, and the efficiency of pattern verification can be increased. The processing in the graphical image browser 1 shown in FIG. 1 will be described with reference to the flowchart shown in FIG. Step S1: The EB pattern data is input to the data converter 2, and the intermediate data 7 is generated.
The intermediate data 7 is output from the data conversion unit 2 to the division processing unit 3. Step S2: In the division processing section 3, the intermediate data 7 is divided as described above, and the result of the division processing is stored in the database 5. At the same time,
A look-up table 6 is generated and stored in the database 5. Step S3: The lookup table 6 is read out and stored in a memory which can be accessed at high speed. Step S4: An operation signal S9 corresponding to the operation of the operation unit 9 by the user is input to the mask image creation unit 4, and if this is not a cancellation request, the process of step S5 is executed. To cancel the processing. Step S5: As described above, the drawing data corresponding to the user's request in step S4 is created in the mask image creating section 4. At this time, pattern data necessary for the drawing data is read from the database 5. The evaluation of the above-described graphical image browser 1 will be described below. FIGS. 6 and 7 are images when browsing a chip composed of 2.73 million patterns using a Unix work station with a processing speed of 25 mips. Here, FIG. 6 is an image when the drawing approximation rule by the graphical image browser 1 is used, and FIG. 7 is an image when the drawing approximation rule is not used. At this time, the image shown in FIG.
It consisted of multiple patterns, and it took less than 1 second to display the entire pattern. At this time, patterns smaller than one pixel can be ignored, and reference can be made to smaller trapezoids and repetitions of 5 × 5 pixels, and a single entity.
A set of various patterns is drawn as a rectangle in an area smaller than 44 × 44 pixels. On the other hand, the image shown in FIG. 7 is composed of 2.73 million patterns, and it took about 2 minutes and 40 seconds to display the entire image. Similarly, FIG. 8A is an image when the drawing approximation rule by the graphical image browser 1 is used, and FIG. 8B is an image when the drawing approximation rule is not used. In the case where the display shown in FIG.
A trapezoid smaller than × 10 pixels was drawn as a rectangle. At this time, displaying the image shown in FIG. 8A was instantaneous, but it took a few seconds to display the image shown in FIG. 8B. However, as shown in FIG.
When the drawing approximation rule is used, a slightly jagged portion 60 occurs. If the above-described graphical image browser of this embodiment is created using Xwindows and the C language, Xwindows will become widely used as a graphical interface for CAD systems. Can be increased. According to the drawing data generating method of the present invention,
An image corresponding to the electron beam drawing data can be displayed at high speed. Further, according to the drawing data generation method of the present invention, by using the intermediate data, the number of conversion programs for converting the electron beam drawing data unique to the EB device into the display data unique to the display device can be reduced. Also, the drawing data of the present invention
According to the generation method , the user can easily recognize the intersection of the patterns formed in the plurality of layers.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の実施例に係わるグラフィカルイメージ
ブラウザの構成図である。 【図2】中間データを分割する場合を説明するための図
である。 【図3】(A)は単一のエンティティとして参照可能な
オブジェクトの集合およびリペティションの概念を説明
するための図、(B)は3×3のマトリクス状の区画に
分割する場合を説明するための図である。 【図4】図1に示すグラフィカルイメージブラウザにお
ける処理を説明するための図である。 【図5】複数層のパターンについて交差部を表示する場
合を説明するための図である。 【図6】処理速度が25mipsのUnixワークステ
イションを用いて、273万個のパターンで構成される
チップをブラウジイングした場合の画像であり、描画近
似ルール用いた場合の画像である。 【図7】処理速度が25mipsのUnixワークステ
イションを用いて、273万個のパターンで構成される
チップをブラウジイングした場合の画像であり、描画近
似ルール用いていない場合の画像である。 【図8】(A)は描画近似ルールを用いた場合、(B)
描画近似ルールを用いていない場合の画像である。 【符号の説明】 1・・・グラフィカルイメージブラウザ 2・・・データ変換部 3・・・分割処理部 4・・・マスクイメージ作成部 5・・・データベース 6・・・ルックアップテーブル 7・・・中間データ 8・・・ディスプレイ 9・・・操作部 41〜54・・・区画
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram of a graphical image browser according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram illustrating a case where intermediate data is divided. FIG. 3 (A) can be referred to as a single entity
FIG. 4B is a diagram for explaining the concept of a set of objects and repetition, and FIG. 4B is a diagram for describing a case where the object is divided into 3 × 3 matrix sections. FIG. 4 is a diagram for explaining processing in the graphical image browser shown in FIG. 1; FIG. 5 is a diagram for explaining a case where an intersection is displayed for a pattern of a plurality of layers. FIG. 6 is an image when browsing a chip composed of 2.73 million patterns using a Unix work station with a processing speed of 25 mips, and is an image when a drawing approximation rule is used. FIG. 7 is an image when browsing a chip composed of 2.73 million patterns using a Unix work station with a processing speed of 25 mips, and is an image when a drawing approximation rule is not used. 8 (A) in the case of using the drawing approximation rules, (B)
Is an image when the drawing approximation rule is not used. [Description of Signs] 1 ... Graphical image browser 2 ... Data conversion unit 3 ... Division processing unit 4 ... Mask image creation unit 5 ... Database 6 ... Lookup table 7 ... Intermediate data 8 Display 9 Operation units 41 to 54 Partition

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−201577(JP,A) 特開 昭63−7632(JP,A) 特開 平5−324766(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G06F 17/50 658 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) References JP-A-2-201577 (JP, A) JP-A-63-7632 (JP, A) JP-A-5-324766 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) G06F 17/50 658

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】計算機が実行する描画データ生成方法であ
って、 チップ領域を分割するマトリクス状の第1の区画のそれ
ぞれに、前記チップ領域全体においてパターンの密度が
均一であると仮定して、前記第1の区間に含まれる前記
パターンの数が一定となるように、前記チップ領域に配
置された前記パターンを表示するためのパターンデータ
のうち、当該第1の区間を規定するラインと交差しない
前記パターンの前記パターンデータを割り付け、 前記チップ領域を分割し前記第1の区画より大きなマト
リクス状の第2の区間のそれぞれに、前記チップ領域全
体において前記パターンの密度が均一であると仮定し
て、前記第2の区間に含まれる前記パターンの数が一定
となるように、前記ラインと交差して位置するために前
記第1の区画への割り付けを行うことができない前記パ
ターンのうち、当該第2の区間を規定するラインと交差
しない前記パターンの前記パターンデータを割り付け、 前記割り付けの結果を、前記計算機が具備する記録手段
に記録し、 前記チップ領域の一部分を拡大して表示する際に、当該
部分に配置された前記パターンの前記パターンデータが
割り付けられた前記第1の区画および前記第2の区画を
検出し、 当該検出された第1の区画および第2の区画に割り付け
た前記パターンの前記パターンデータを前記記録手段か
ら読み出し、当該読み出したパターンデータを基に描画
データを生成する方法であり、 所定数以下の画素によって描かれる前記パターンは無視
し、 所定数以下の画素によって描かれる不等辺四辺形は長方
形に近似し、 所定領域内に含まれる画素によって描かれるリペティシ
ョン領域は、単一の長方形ボックス領域に近似し、 所定数以下の画素によって描かれる、単一のエンティテ
ィとして参照可能な前記パターンの集合は、単一の長方
形ボックス領域に近似して前記描画データを生成する描
画データ生成方法。
(57) [Claim 1] A drawing data generating method executed by a computer.
Therefore, the density of the pattern in the entire chip region is increased in each of the first matrix-shaped sections for dividing the chip region.
Assuming that it is uniform, the first section
Allocate the pattern data of the pattern that does not intersect with the line defining the first section, among the pattern data for displaying the pattern arranged in the chip area, so that the number of patterns is constant , in each of the chip areas by dividing the first large matrix of the second zone than compartments, the chip area total
Assuming that the density of the pattern in the body is uniform
The number of the patterns included in the second section is constant
As will be, among the patterns that can not be performed the allocation of the to the first compartment in order to position intersects with the line, the pattern of the pattern which does not intersect the line which defines the second section Allocating data, recording the result of the allocation in a recording means provided in the computer, and displaying the pattern data of the pattern arranged in the portion when the portion of the chip area is enlarged and displayed. Detecting the first section and the second section, and reading the pattern data of the pattern allocated to the detected first section and the second section from the recording means, and reading the read pattern data. Is a method of generating drawing data based on the above, ignoring the pattern drawn by a predetermined number of pixels or less, and A trapezoid drawn by an element approximates a rectangle, and a repetition area drawn by pixels included in a predetermined area approximates a single rectangular box area, and is drawn by a predetermined number or less of pixels. A drawing data generation method for generating the drawing data by approximating a set of the patterns that can be referred to as a single entity to a single rectangular box area.
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