JP3535925B2 - 温度測定装置 - Google Patents
温度測定装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に低温領域での
温度測定に好適な温度測定装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来の温度測定装置としては、熱電対を
用いたものが一般的である。この温度測定装置は、測定
対象に接する熱電対と、この熱電対から発生した熱起電
力に基づく電流を測定する電流計と、この電流計と前記
熱電対とを接続する導線とから構成されている。 【０００３】しかしながら、このような温度測定装置
は、いわゆる接触型であるため、測定対象から熱電対及
び導線を伝わって熱が出入りしやすい。そのため、測定
精度が低下するという問題があった。また、電流計と熱
電対とを導線で接続する必要上、測定対象が遠距離にあ
る場合等には、適用できないという問題もあった。 【０００４】一方、従来のいわゆる非接触型の温度測定
装置として、放射温度計と呼ばれるものがある。この放
射温度計は、測定対象の放射エネルギをサーモパイル，
焦電素子等の検出器に照射し、これによる検出器の温度
上昇を電気信号に変換することにより、測定対象の温度
を測定するものである。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、放射エ
ネルギは絶対温度の四乗に比例することから、高温領域
では十分に放射エネルギが得られるものの、低温領域で
はほとんど放射エネルギが得られない。そのため、放射
温度計では低温領域が事実上測定できないという問題が
あった。 【０００６】 【発明の目的】本発明は、非接触型で、かつ、低温領域
でも十分に測定できる温度測定装置を提供することにあ
る。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明に係る温度測定装
置は、上記目的を達成するためになされたものであり、
測定対象に一体化させた半導体と、この半導体に光を照
射する発光部と、この半導体のフォトルミネッセンス光
（以下「ＰＬ光」と略称する。）を受光する受光部と、
この受光部で受光されたＰＬ光の強度（以下「ＰＬ強
度」と略称する。）に対応する温度の情報を出力する演
算処理部とを備えたものである。 【０００８】ここで、測定対象に一体化させた半導体と
は、接触、接着、螺着、ロウ付け等により、熱伝導が良
好な状態で測定対象に接している半導体をいう。また、
前記半導体に照射する光はレーザ光であり、前記半導体
はイッテルビウムを発光中心として含むインジウムリン
単結晶である。 【０００９】 【作用】半導体を測定対象に一体化させると、半導体は
測定対象と同じ温度になる。この半導体に発光部から光
を照射すると、半導体からＰＬ光が発生する。このＰＬ
光を受光部で受光すると、ＰＬ強度に対応する温度の情
報が演算処理部から出力される。このようにして、測定
対象の温度が測定される。 【００１０】半導体と発光部及び受光部とは非接触であ
る。そのため、半導体と発光部及び受光部との間で熱の
出入りはなく、しかも半導体と発光部及び受光部との距
離を大きくとれる。 【００１１】レーザ光は、細くて強い光を遠距離まで到
達させることができる。したがって、半導体に照射する
光をレーザ光とすれば、半導体と発光部との距離をさら
に大きくとれるとともに、半導体自体を小さくできる。 【００１２】半導体のＰＬ強度は、低温ほど大きくなり
高温ほど小さくなる。その理由は、フェルミ−ディラッ
クの分布関数から明らかなように、発光に寄与するエネ
ルギ準位のキャリア密度が、低温ほど高くなり高温ほど
低くなるからである。特に、イッテルビウムを発光中心
として含むインジウムリン単結晶は、温度変化に対する
ＰＬ強度の変化がきわめて大きい。 【００１３】 【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る温度測定装
置の一実施形態を示すブロック図である。以下、この図
面に基づき説明する。 【００１４】本実施形態に係る温度測定装置１０は、測
定対象Ｍに一体化させた半導体１２と、半導体１２にレ
ーザ光Ｌ1を照射する発光部１３と、半導体１２のＰＬ
光Ｌ2を受光する受光部１４と、受光部１４で受光され
たＰＬ光Ｌ2の強度（ＰＬ強度）に対応する温度Ｔの情
報を出力する演算処理部１６とを備えたものである。 【００１５】半導体１２は、イッテルビウムを発光中心
として含むインジウムリン単結晶である。発光部１３
は、860nm 又は514.5nm の波長のレーザ光Ｌ1を出力す
るレーザ光源である。受光部１４は、対物レンズ１４
１，絞り１４２，ハーフミラー１４３，接眼レンズ１４
４等の光学系と、分光器１４５，受光素子１４６等の受
光系とから構成されている。演算処理部１６は、入出力
インタフェース，ＲＯＭ，ＲＡＭ，ＣＰＵ，外部メモリ
等からなるマイクロコンピュータである。 【００１６】半導体１２は、次のようにして作成した。
まず、結晶面(100) のインジウムリン単結晶（以下「Ｉ
ｎＰ基板」という。）を用意した。そして、ＩｎＰ基板
にイッテルビウムのイオンを、ドーズ量１×1013cm-2か
つエネルギ２MeV で、イオン注入法により導入した。続
いて、イオン注入後のＩｎＰ基板に対して、温度750
℃，15分間のアニール処理を施した。 【００１７】このようにして作成した半導体１２につい
て、ＰＬ強度の温度依存性を測定した結果を、図２乃至
図５に示す。以下、図１乃至図５に基づき説明する。 【００１８】図２は、波長860nm のレーザ光により半導
体１２を励起した場合のＰＬスペクトルの温度依存性を
示すグラフである。この図面から明らかなように、イッ
テルビウムに基づく発光線Yb1 ，Yb2 が認められる。発
光線Yb1 ，Yb2 の強度は、低温であるほど大きくかつ明
瞭である。図３乃至図５は、波長514.5nm のレーザ光に
より半導体１２を励起した場合の発光線Yb1 ，Yb2 の強
度の温度依存性を示すグラフである。図３は、縦軸がＰ
Ｌ強度、横軸が温度である。図４及び図５は、縦軸がＰ
Ｌ強度の対数、横軸が1000／温度である。図３乃至図５
から明らかなように、ＰＬ強度は、Yb1 ，Yb2 ばかりで
なく、積分値も、低温であるほど大きい。 【００１９】次に、温度測定装置１０の動作を説明す
る。 【００２０】予め、例えば図３に示す関係を演算処理部
１６のメモリ等に記憶しておく。また、予め半導体１２
を測定対象Ｍに一体化させておく。したがって、半導体
１２は測定対象Ｍと同じ温度になっている。この半導体
１２に発光部１２からレーザ光Ｌ1を照射すると、半導
体１２からＰＬ光Ｌ2が発生する。ＰＬ光Ｌ2を受光部１
４で受光すると、演算処理部１６で図３の関係からＰＬ
強度に対応する温度Ｔが得られる。このようにして、測
定対象Ｍの温度Ｔが測定される。 【００２１】半導体１２と発光部１３及び受光部１４と
は非接触である。そのため、半導体１２と発光部１３及
び受光部１４との間で熱の出入りはなく、しかも半導体
１２と発光部１３及び受光部１４との距離を大きくとれ
る。 【００２２】レーザ光Ｌ1は、細くて強い光を遠距離ま
で到達させることができる。したがって、半導体１２と
発光部１３との距離を非常に大きくとれるとともに、半
導体１２自体を小さくできる。例えば、レーザ光Ｌ1は
１μｍ程度のスポット径に絞り込むことができるので、
半導体１２の受光面を１μｍ程度とすることも可能であ
る。 【００２３】半導体１２のＰＬ強度は低温ほど大きいの
で、温度測定装置１０は本質的に低温領域の測定に適し
ている。 【００２４】なお、本実施形態のイッテルビウムを含む
インジウムリン単結晶は、温度変化に対するＰＬ強度の
変化がきわめて大きい。 【００２５】 【発明の効果】本発明に係る温度測定装置によれば、測
定対象に半導体を一体化させ、この半導体に光を照射す
るとともに、この半導体から発生するＰＬ光を受光し、
ＰＬ強度に対応する温度の情報を出力するようにしたの
で、非接触型でありながら、低温領域でも十分に測定で
きる。特に、ＰＬ強度は低温ほど大きくなるので、低温
になるほど測定精度を向上できる。 【００２６】そして、半導体に照射する光をレーザ光と
したので、半導体と発光部との距離をさらに大きくでき
るとともに、半導体自体を小さくできる。また、半導体
と発光部との距離を大きくできることにより、例えば、
宇宙空間での使用も可能となる。さらに、半導体自体が
小さくなれば、半導体の熱容量も小さくなるので、測定
対象への熱的影響を小さくできることにより、さらに測
定精度を向上できる。 【００２７】しかも、半導体をイッテルビウムを発光中
心として含むインジウムリン単結晶としたことにより、
温度変化に対してきわめて大きいＰＬ強度の変化が得ら
れるので、さらに測定精度を向上できる。
温度測定に好適な温度測定装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】従来の温度測定装置としては、熱電対を
用いたものが一般的である。この温度測定装置は、測定
対象に接する熱電対と、この熱電対から発生した熱起電
力に基づく電流を測定する電流計と、この電流計と前記
熱電対とを接続する導線とから構成されている。 【０００３】しかしながら、このような温度測定装置
は、いわゆる接触型であるため、測定対象から熱電対及
び導線を伝わって熱が出入りしやすい。そのため、測定
精度が低下するという問題があった。また、電流計と熱
電対とを導線で接続する必要上、測定対象が遠距離にあ
る場合等には、適用できないという問題もあった。 【０００４】一方、従来のいわゆる非接触型の温度測定
装置として、放射温度計と呼ばれるものがある。この放
射温度計は、測定対象の放射エネルギをサーモパイル，
焦電素子等の検出器に照射し、これによる検出器の温度
上昇を電気信号に変換することにより、測定対象の温度
を測定するものである。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、放射エ
ネルギは絶対温度の四乗に比例することから、高温領域
では十分に放射エネルギが得られるものの、低温領域で
はほとんど放射エネルギが得られない。そのため、放射
温度計では低温領域が事実上測定できないという問題が
あった。 【０００６】 【発明の目的】本発明は、非接触型で、かつ、低温領域
でも十分に測定できる温度測定装置を提供することにあ
る。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明に係る温度測定装
置は、上記目的を達成するためになされたものであり、
測定対象に一体化させた半導体と、この半導体に光を照
射する発光部と、この半導体のフォトルミネッセンス光
（以下「ＰＬ光」と略称する。）を受光する受光部と、
この受光部で受光されたＰＬ光の強度（以下「ＰＬ強
度」と略称する。）に対応する温度の情報を出力する演
算処理部とを備えたものである。 【０００８】ここで、測定対象に一体化させた半導体と
は、接触、接着、螺着、ロウ付け等により、熱伝導が良
好な状態で測定対象に接している半導体をいう。また、
前記半導体に照射する光はレーザ光であり、前記半導体
はイッテルビウムを発光中心として含むインジウムリン
単結晶である。 【０００９】 【作用】半導体を測定対象に一体化させると、半導体は
測定対象と同じ温度になる。この半導体に発光部から光
を照射すると、半導体からＰＬ光が発生する。このＰＬ
光を受光部で受光すると、ＰＬ強度に対応する温度の情
報が演算処理部から出力される。このようにして、測定
対象の温度が測定される。 【００１０】半導体と発光部及び受光部とは非接触であ
る。そのため、半導体と発光部及び受光部との間で熱の
出入りはなく、しかも半導体と発光部及び受光部との距
離を大きくとれる。 【００１１】レーザ光は、細くて強い光を遠距離まで到
達させることができる。したがって、半導体に照射する
光をレーザ光とすれば、半導体と発光部との距離をさら
に大きくとれるとともに、半導体自体を小さくできる。 【００１２】半導体のＰＬ強度は、低温ほど大きくなり
高温ほど小さくなる。その理由は、フェルミ−ディラッ
クの分布関数から明らかなように、発光に寄与するエネ
ルギ準位のキャリア密度が、低温ほど高くなり高温ほど
低くなるからである。特に、イッテルビウムを発光中心
として含むインジウムリン単結晶は、温度変化に対する
ＰＬ強度の変化がきわめて大きい。 【００１３】 【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る温度測定装
置の一実施形態を示すブロック図である。以下、この図
面に基づき説明する。 【００１４】本実施形態に係る温度測定装置１０は、測
定対象Ｍに一体化させた半導体１２と、半導体１２にレ
ーザ光Ｌ1を照射する発光部１３と、半導体１２のＰＬ
光Ｌ2を受光する受光部１４と、受光部１４で受光され
たＰＬ光Ｌ2の強度（ＰＬ強度）に対応する温度Ｔの情
報を出力する演算処理部１６とを備えたものである。 【００１５】半導体１２は、イッテルビウムを発光中心
として含むインジウムリン単結晶である。発光部１３
は、860nm 又は514.5nm の波長のレーザ光Ｌ1を出力す
るレーザ光源である。受光部１４は、対物レンズ１４
１，絞り１４２，ハーフミラー１４３，接眼レンズ１４
４等の光学系と、分光器１４５，受光素子１４６等の受
光系とから構成されている。演算処理部１６は、入出力
インタフェース，ＲＯＭ，ＲＡＭ，ＣＰＵ，外部メモリ
等からなるマイクロコンピュータである。 【００１６】半導体１２は、次のようにして作成した。
まず、結晶面(100) のインジウムリン単結晶（以下「Ｉ
ｎＰ基板」という。）を用意した。そして、ＩｎＰ基板
にイッテルビウムのイオンを、ドーズ量１×1013cm-2か
つエネルギ２MeV で、イオン注入法により導入した。続
いて、イオン注入後のＩｎＰ基板に対して、温度750
℃，15分間のアニール処理を施した。 【００１７】このようにして作成した半導体１２につい
て、ＰＬ強度の温度依存性を測定した結果を、図２乃至
図５に示す。以下、図１乃至図５に基づき説明する。 【００１８】図２は、波長860nm のレーザ光により半導
体１２を励起した場合のＰＬスペクトルの温度依存性を
示すグラフである。この図面から明らかなように、イッ
テルビウムに基づく発光線Yb1 ，Yb2 が認められる。発
光線Yb1 ，Yb2 の強度は、低温であるほど大きくかつ明
瞭である。図３乃至図５は、波長514.5nm のレーザ光に
より半導体１２を励起した場合の発光線Yb1 ，Yb2 の強
度の温度依存性を示すグラフである。図３は、縦軸がＰ
Ｌ強度、横軸が温度である。図４及び図５は、縦軸がＰ
Ｌ強度の対数、横軸が1000／温度である。図３乃至図５
から明らかなように、ＰＬ強度は、Yb1 ，Yb2 ばかりで
なく、積分値も、低温であるほど大きい。 【００１９】次に、温度測定装置１０の動作を説明す
る。 【００２０】予め、例えば図３に示す関係を演算処理部
１６のメモリ等に記憶しておく。また、予め半導体１２
を測定対象Ｍに一体化させておく。したがって、半導体
１２は測定対象Ｍと同じ温度になっている。この半導体
１２に発光部１２からレーザ光Ｌ1を照射すると、半導
体１２からＰＬ光Ｌ2が発生する。ＰＬ光Ｌ2を受光部１
４で受光すると、演算処理部１６で図３の関係からＰＬ
強度に対応する温度Ｔが得られる。このようにして、測
定対象Ｍの温度Ｔが測定される。 【００２１】半導体１２と発光部１３及び受光部１４と
は非接触である。そのため、半導体１２と発光部１３及
び受光部１４との間で熱の出入りはなく、しかも半導体
１２と発光部１３及び受光部１４との距離を大きくとれ
る。 【００２２】レーザ光Ｌ1は、細くて強い光を遠距離ま
で到達させることができる。したがって、半導体１２と
発光部１３との距離を非常に大きくとれるとともに、半
導体１２自体を小さくできる。例えば、レーザ光Ｌ1は
１μｍ程度のスポット径に絞り込むことができるので、
半導体１２の受光面を１μｍ程度とすることも可能であ
る。 【００２３】半導体１２のＰＬ強度は低温ほど大きいの
で、温度測定装置１０は本質的に低温領域の測定に適し
ている。 【００２４】なお、本実施形態のイッテルビウムを含む
インジウムリン単結晶は、温度変化に対するＰＬ強度の
変化がきわめて大きい。 【００２５】 【発明の効果】本発明に係る温度測定装置によれば、測
定対象に半導体を一体化させ、この半導体に光を照射す
るとともに、この半導体から発生するＰＬ光を受光し、
ＰＬ強度に対応する温度の情報を出力するようにしたの
で、非接触型でありながら、低温領域でも十分に測定で
きる。特に、ＰＬ強度は低温ほど大きくなるので、低温
になるほど測定精度を向上できる。 【００２６】そして、半導体に照射する光をレーザ光と
したので、半導体と発光部との距離をさらに大きくでき
るとともに、半導体自体を小さくできる。また、半導体
と発光部との距離を大きくできることにより、例えば、
宇宙空間での使用も可能となる。さらに、半導体自体が
小さくなれば、半導体の熱容量も小さくなるので、測定
対象への熱的影響を小さくできることにより、さらに測
定精度を向上できる。 【００２７】しかも、半導体をイッテルビウムを発光中
心として含むインジウムリン単結晶としたことにより、
温度変化に対してきわめて大きいＰＬ強度の変化が得ら
れるので、さらに測定精度を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る温度測定装置の一実施形態を示す
ブロック図である。 【図２】図１の実施形態における半導体をレーザ光によ
り励起した場合の、ＰＬスペクトルの温度依存性を示す
グラフである。 【図３】図１の実施形態における半導体をレーザ光によ
り励起した場合の、発光線Yb1 ，Yb2 の強度の温度依存
性を示すグラフである。 【図４】図１の実施形態における半導体をレーザ光によ
り励起した場合の、発光線Yb1 ，Yb2 の強度の温度依存
性を示すグラフである。 【図５】図１の実施形態における半導体をレーザ光によ
り励起した場合の、発光線Yb1 ，Yb2 の強度の温度依存
性を示すグラフである。 【符号の説明】 １０ 温度測定装置 １２ 半導体 １３ 発光部 １４ 受光部 １６ 演算処理部 Ｍ 測定対象 Ｌ1レーザ光 Ｌ2 ＰＬ光 Ｔ 温度
ブロック図である。 【図２】図１の実施形態における半導体をレーザ光によ
り励起した場合の、ＰＬスペクトルの温度依存性を示す
グラフである。 【図３】図１の実施形態における半導体をレーザ光によ
り励起した場合の、発光線Yb1 ，Yb2 の強度の温度依存
性を示すグラフである。 【図４】図１の実施形態における半導体をレーザ光によ
り励起した場合の、発光線Yb1 ，Yb2 の強度の温度依存
性を示すグラフである。 【図５】図１の実施形態における半導体をレーザ光によ
り励起した場合の、発光線Yb1 ，Yb2 の強度の温度依存
性を示すグラフである。 【符号の説明】 １０ 温度測定装置 １２ 半導体 １３ 発光部 １４ 受光部 １６ 演算処理部 Ｍ 測定対象 Ｌ1レーザ光 Ｌ2 ＰＬ光 Ｔ 温度
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G01K 11/20
G01K 11/12
G01J 5/58
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 イッテルビウムを発光中心として含むイ
ンジウムリン単結晶からなるとともに測定対象に一体化
させた半導体と、 この半導体にレーザ光を照射する発光部と、 この半導体のフォトルミネッセンス光を受光する受光部
と、 この受光部で受光されたフォトルミネッセンス光の強度
に対応する温度の情報を出力する演算処理部と、 を備えた温度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20655695A JP3535925B2 (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 温度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20655695A JP3535925B2 (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 温度測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0933364A JPH0933364A (ja) | 1997-02-07 |
| JP3535925B2 true JP3535925B2 (ja) | 2004-06-07 |
Family
ID=16525353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20655695A Expired - Lifetime JP3535925B2 (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 温度測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3535925B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022133933A (ja) * | 2021-03-02 | 2022-09-14 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 | 温度センサ、温度検出装置、温度検出方法、温度検出プログラム、および温度センサの製造方法 |
-
1995
- 1995-07-20 JP JP20655695A patent/JP3535925B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0933364A (ja) | 1997-02-07 |
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