JP3530918B2 - Polydipyridyl diacetylene derivative and method for producing the same - Google Patents

Polydipyridyl diacetylene derivative and method for producing the same

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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、光スイッチ、光
メモリー、位相補正素子等への応用に有用な3次非線形
光学材料であるポリジピリジルジアセチレン誘導体及び
その製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polydipyridyl diacetylene derivative which is a third-order nonlinear optical material useful for application to optical switches, optical memories, phase correction elements, etc.
The manufacturing method is related.

【0002】[0002]

【従来の技術】高度情報社会では大容量の情報伝達、処
理、演算が必要なため、次世代は、今世紀のエレクトロ
ニクスの時代から飛躍して、光の高速性、並列性、高密
度性、電磁波耐性等の電子とは異なる特徴を生かしたフ
ォトニクスの時代を迎えると予想されている。このフォ
トニクスを支えるためには、光を制御する技術として高
性能光学材料とその素子化技術の開発が必要であり、そ
の材料としては非線形光学材料が注目されている。
2. Description of the Related Art Since the advanced information society requires a large amount of information transmission, processing, and computation, the next generation will leap forward from the era of electronics in this century, and the high speed of light, parallelism, high density, and electromagnetic wave. It is expected that we will enter the age of photonics, which makes use of characteristics such as resistance that are different from electrons. In order to support this photonics, it is necessary to develop a high-performance optical material and its elementization technology as a technology for controlling light, and a nonlinear optical material is drawing attention as the material.

【0003】特に、3次非線形光学材料は、非線形屈折
率効果、位相共役波発生、光安定性等の性質を有するた
め、光スイッチ、光メモリー、位相補正素子等への応用
が期待されている。
Particularly, since the third-order nonlinear optical material has properties such as nonlinear refractive index effect, phase conjugate wave generation, and optical stability, it is expected to be applied to optical switches, optical memories, phase correction elements and the like. .

【0004】このような3次非線形光学材料の光応答性
は、入射光の振動電場によって誘起される物質の電気分
極としてとらえることができ、レーザー光のような電場
強度の強い光を用いた場合、2次、3次等の非線形分極
が観測されるようになる。3次非線形感受率χ(3) は、
屈折率変調と密接な関係があり、無機、有機を問わず、
χ(3) 値の大きな材料を開発することがフォトニクス時
代に向けての重要な研究課題となっている。
The photoresponsiveness of such a third-order nonlinear optical material can be understood as electric polarization of a substance induced by an oscillating electric field of incident light, and when light having a strong electric field intensity such as laser light is used. Second-order, third-order, etc. non-linear polarization is observed. The third-order nonlinear susceptibility χ (3) is
It has a close relationship with refractive index modulation, whether it is inorganic or organic,
The development of materials with large χ (3) values has become an important research topic for the photonics era.

【0005】従来のこの種の3次非線形光学材料として
は、無機材料では例えばGaAsや微粒子ドープガラス
等が、有機材料では例えばπ共役高分子であるポリフェ
ニレンエチニレンやポリジアセチレン等がそれぞれ知ら
れている。
Known conventional third-order nonlinear optical materials of this kind are, for example, GaAs and fine particle-doped glass as an inorganic material, and polyphenyleneethynylene and polydiacetylene which are π-conjugated polymers as an organic material. There is.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、GaA
sでは、χ(3) 値は大きいものの、応答性が劣るという
問題点がある。また、微粒子ドープガラスでは、χ(3)
値、応答性が共に中程度でバランスがとれているもの
の、加工しにくいという問題点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, GaA
In s, although the χ (3) value is large, there is a problem that the responsiveness is poor. In addition, for fine-particle-doped glass, χ (3)
Although the value and responsiveness are both medium and well balanced, there is a problem that it is difficult to process.

【0007】これに対し、ポリフェニレンエチニレンや
ポリジアセチレンでは、無機材料に比べて応答性が速
く、種々の分子設計が可能であると共に、高分子である
ために薄膜や導波路等の素子化に向けて容易に加工でき
る利点を有するものの、χ(3)値が低いという問題点が
ある。
On the other hand, polyphenylene ethynylene and polydiacetylene are faster in response than inorganic materials and various molecular designs are possible, and since they are polymers, they can be used as devices such as thin films and waveguides. Although it has an advantage that it can be easily processed, there is a problem that the χ (3) value is low.

【0008】この発明は、以上のような問題点に鑑みて
なされたものであり、3次非線形感受率χ(3)の値が大
きいポリジピリジルジアセチレン誘導体及びその製造方
法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a polydipyridyl diacetylene derivative having a large third-order nonlinear susceptibility χ (3) and a method for producing the same. And

【0009】[0009]

【0010】上記目的を達成するために、請求項のポ
リジピリジルジアセチレン誘導体の手段とするところ
は、一般式が前記化で表されることにある。
In order to achieve the above object, the means of using the polydipyridyl diacetylene derivative of claim 1 is that the general formula is represented by the above chemical formula 1 .

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【0013】請求項のポリジピリジルジアセチレン誘
導体の製造方法の手段とするところは、一般式が前記化
2で表されるジピリジルジアセチレン誘導体を、紫外線
又は放射線を照射することにより重合させることにあ
る。
[0013] It is an unit of the manufacturing method of the poly dipyridyl diacetylene derivative according to claim 2, general formula wherein reduction
It is to polymerize the dipyridyl diacetylene derivative represented by 2 by irradiating with ultraviolet rays or radiation.

【0014】請求項のポリジピリジルジアセチレン誘
導体の製造方法の手段とするところは、前記アルキル基
がメチル基であることにある。
A method of producing the polydipyridyldiacetylene derivative according to claim 3 is that the alkyl group is a methyl group.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施形態につい
て説明する。この実施形態に係るモノマーとしてのジピ
リジルジアセチレン誘導体は、一般式が前記化1〔式
中、Rはアルキル基、X- はCF3SO2- (Tf
- :トリフレートアニオン)、nは2以上の整数を表
す〕で表される4級塩化された1,4−ビス(4−アル
キルピリジウム)ブタジイントリフレートである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below. The dipyridyldiacetylene derivative as the monomer according to this embodiment has a general formula of the formula 1 [wherein R is an alkyl group, X is CF 3 SO 2 O (Tf
O : triflate anion), n represents an integer of 2 or more], and is a quaternary chlorinated 1,4-bis (4-alkylpyridinium) butadiyne triflate.

【0016】前記アルキル基は、Cn2n+1−で表され
る1価の炭化水素基であり、炭素数1〜20、好ましく
は1〜10、より好ましくは1〜5(低級アルキル基)
の直鎖構造又は枝分かれ構造のものが挙げられる。
The alkyl group is a monovalent hydrocarbon group represented by C n H 2n + 1- , and has 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms (lower alkyl group). )
The straight chain structure or branched structure of

【0017】このジピリジルジアセチレン誘導体は、固
相重合に適したパッキング状態で板状単結晶を生成す
る。また、その3次非線形感受率χ(3) は、10-12esu
以上の比較的大きな値をとるという利点がある。なお、
アルキル基の炭素数が20を越えると、かさ高くなり過
ぎてパッキング状態をとりにくくなるので、好ましくな
い。
This dipyridyl diacetylene derivative produces a plate-like single crystal in a packed state suitable for solid phase polymerization. The third-order nonlinear susceptibility χ (3) is 10 -12 esu
There is an advantage that it takes a relatively large value. In addition,
If the number of carbon atoms in the alkyl group exceeds 20, it is not preferable because it becomes too bulky and it becomes difficult to obtain a packed state.

【0018】このジピリジルジアセチレン誘導体を製造
するには、構造式が前記化3で表されるジピリジルジア
セチレンに、一般式CF3SO2OR(式中、Rはアルキ
ル基を表す)で表されるアルキルトリフレート(アルキ
ルトリフルオロメタンスルホネート)を反応させればよ
い。
In order to produce this dipyridyldiacetylene derivative, the dipyridyldiacetylene represented by the chemical formula 3 is represented by the general formula CF 3 SO 2 OR (wherein R represents an alkyl group). Alkyl triflate (alkyl trifluoromethanesulfonate) may be reacted.

【0019】即ち、ジピリジルジアセチレンのジクロロ
メタン溶液等に2当量程度のアルキルトリフレートを滴
下等し、数十分攪拌する。生成した塩を濾別した後、例
えば再結晶等により精製すれば、上記のジピリジルジア
セチレン誘導体の板状単結晶を得ることができる。
That is, about 2 equivalents of alkyl triflate is dropped into a dichloromethane solution of dipyridyl diacetylene or the like, and the mixture is stirred for several tens of minutes. After the formed salt is separated by filtration and then purified by, for example, recrystallization, a plate-like single crystal of the above-mentioned dipyridyldiacetylene derivative can be obtained.

【0020】このように、ジピリジルジアセチレンにア
ルキルトリフレートを反応させるだけでよいので、ジピ
リジルジアセチレン誘導体を簡単に製造できるという利
点がある。ここで、前記アルキル基がメチル基である場
合には、安価なメチルトリフレート(メチルトリフルオ
ロメタンスルホネート)を使用できるので、ジピリジル
ジアセチレン誘導体の製造コストを低減化できるという
利点がある。
As described above, since it is only necessary to react dipyridyldiacetylene with an alkyl triflate, there is an advantage that a dipyridyldiacetylene derivative can be easily produced. Here, when the alkyl group is a methyl group, inexpensive methyl triflate (methyl trifluoromethanesulfonate) can be used, so that there is an advantage that the production cost of the dipyridyl diacetylene derivative can be reduced.

【0021】また、前記ジピリジルジアセチレン誘導体
に紫外線又は放射線を数時間〜数十時間程度照射して重
合させれば、ポリジピリジルジアセチレン誘導体として
ポリ1,4−ビス(4−アルキルピリジウム)ブタジイ
ントリフレートの単結晶を得ることができる。なお、前
記放射線としては、例えばγ線、X線、β線、電子線等
が挙げられる。
If the dipyridyldiacetylene derivative is irradiated with ultraviolet rays or radiation for several hours to several tens of hours and polymerized, poly (1,4-bis (4-alkylpyridinium) butane as a polydipyridyldiacetylene derivative is polymerized. A single crystal of diintriflate can be obtained. Examples of the radiation include γ rays, X rays, β rays, electron rays and the like.

【0022】このように、モノマーとしてのジピリジル
ジアセチレン誘導体に紫外線又は放射線を照射するだけ
でそのポリマー単結晶を得ることができるので、製造が
簡単であると共に、薄膜や導波路等の素子化にも好適で
あるという利点がある。また、この場合も前記アルキル
基がメチル基であるときには、安価に製造できるモノマ
ーを使用可能であるので、製造コストを低減化できると
いう利点がある。
As described above, since the polymer single crystal can be obtained by simply irradiating the dipyridyldiacetylene derivative as a monomer with ultraviolet rays or radiation, it is easy to manufacture and can be used as a device such as a thin film or a waveguide. Also has the advantage of being suitable. Also in this case, when the alkyl group is a methyl group, it is possible to use a monomer that can be produced at low cost, which is advantageous in that the production cost can be reduced.

【0023】[0023]

【実施例】以下、この発明を実施例により更に詳細に説
明するが、この発明は係る実施例に限定されるものでは
ない。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples.

【0024】図1に示すように、前記アルキル基がメチ
ル基である1,4−ビス(4−メチルピリジウム)ブタ
ジイントリフレートをモノマーMとして使用した。
As shown in FIG. 1, 1,4-bis (4-methylpyridium) butadiyne triflate whose alkyl group is a methyl group was used as a monomer M.

【0025】〔モノマーの製造〕このモノマーMは、図
1に示す4−ブロモピリジン塩酸塩を出発原料とする既
知の方法で調製したジピリジルジアセチレンを、メチル
トリフレート(メチルトリフルオロメタンスルホネー
ト)で4級塩化することにより製造した。即ち、ジピリ
ジルジアセチレン2.0gをジクロロメタン50mLに
溶解させ、この溶液に0℃(氷浴中)でメチルトリフレ
ート3.3gを滴下し、30分攪拌した。次いで、生成
した塩を濾別し、その約2gをジクロロメタン10mL
とアセトニトリル30mLの混合溶媒〔アセトニトリ
ル:ジクロロメタン=3:1(体積比)〕に溶解させ、
5℃の恒温槽内に2〜3日間放置した。この再結晶精製
により、1.3mm×1.4mmの板状単結晶を得た。
[Production of Monomer] This monomer M was prepared by converting dipyridyldiacetylene prepared by a known method using 4-bromopyridine hydrochloride shown in FIG. 1 as a starting material into methyl triflate (methyltrifluoromethanesulfonate) to give It was prepared by chlorination. That is, 2.0 g of dipyridyl diacetylene was dissolved in 50 mL of dichloromethane, 3.3 g of methyl triflate was added dropwise to this solution at 0 ° C. (in an ice bath), and the mixture was stirred for 30 minutes. Then, the formed salt was filtered off, and about 2 g thereof was added to 10 mL of dichloromethane.
And 30 mL of acetonitrile in a mixed solvent [acetonitrile: dichloromethane = 3: 1 (volume ratio)],
It was left to stand in a constant temperature bath at 5 ° C for 2 to 3 days. By this recrystallization purification, a 1.3 mm × 1.4 mm plate-shaped single crystal was obtained.

【0026】図2に示すX線構造解析の結果から、得ら
れたモノマーMの3次元結晶構造は、固相重合に適した
パッキング状態をとっていた。また、このモノマーMの
理化学的性質を次に示す。
From the result of the X-ray structure analysis shown in FIG. 2, the three-dimensional crystal structure of the obtained monomer M was in a packing state suitable for solid phase polymerization. The physicochemical properties of this monomer M are shown below.

【0027】収率:100% 融点:240℃ 紫外可視吸収スペクトル(図3参照): 最大吸収波長λmax =323(nm) モル吸光係数ε=331(l・mol-1・cm-1)(λ
=532nm) 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 ,δ値,pp
m):4.35(CH3 ,6H),8.43(py−H,4H),
9.11(py−H,4H)
Yield: 100% Melting point: 240 ° C. UV-visible absorption spectrum (see FIG. 3): Maximum absorption wavelength λ max = 323 (nm) Molar extinction coefficient ε = 331 (l · mol −1 · cm −1 ) ( λ
= 532 nm) Nuclear magnetic resonance spectrum (DMSO-d 6 , δ value, pp
m): 4.35 (CH 3 , 6H), 8.43 (py-H, 4H),
9.11 (py-H, 4H)

【0028】更に、アセトニトリルを溶媒とするモノマ
ーMの溶液状態における|χ(3)2の濃度依存性を、位
相共役型縮退四光波混合(DFWM)法〔波長:532
nm,パルス幅:40ps,基準物質:CS2 (2.9
×10-12esu)〕により調べた。その結果を図4に示
す。
Further, the concentration dependence of | χ (3) | 2 in the solution state of the monomer M using acetonitrile as a solvent is determined by the phase-conjugated degenerate four-wave mixing (DFWM) method [wavelength: 532].
nm, pulse width: 40 ps, reference substance: CS 2 (2.9
× 10 −12 esu)]. The result is shown in FIG.

【0029】〔第2分子超分極率γの算出〕第2分子超
分極率γを、溶液の|χ(3)2と濃度との関係プロット
を次の式にフィッティングさせることにより算出し
た。 |χ(3) m|=χ(3) s+f4N|γ| …… 但し、χ(3) s:溶媒(アセトニトリル)の3次非線形感
受率 f=(n2+2)/3:ローレンツ局所場補正係数 N:モノマーMの分子数密度
[Calculation of Second Molecule Hyperpolarizability γ] The second molecule hyperpolarizability γ was calculated by fitting the relationship plot of | χ (3) | 2 of the solution and the concentration with the following formula. │χ (3) m │ = χ (3) s + f 4 N | γ | ・ ・ ・ where χ (3) s : solvent (acetonitrile) third-order nonlinear susceptibility f = (n 2 +2) / 3: Lorentz Local field correction coefficient N: Molecular number density of monomer M

【0030】なお、この式は、次の式のように変形
できる。 |χ(3) m|=〔(χ(3) s・r+f4Nγr2+(f4Nγi21/2 …… 但し、χ(3) s・r:χ(3) sの実部 γr:γの実部 γi:γの虚部
This equation can be transformed into the following equation. | Χ (3) m | = [(χ (3) s · r + f 4 Nγ r) 2 + (f 4 Nγ i) 2 ] 1/2 ...... However, χ (3) s · r : χ (3 ) the real part of s γ r: real part of γ γ i: the imaginary part of γ

【0031】前記関係プロットは曲線であるので、式
は、次の式のように誘導できる。 〔(χ(3) m2−(χ(3) s・r2〕 =〔f8(γ2 r+γ2 i)〕N2+(2χ(3) s・r4γr)N ……
Since the relationship plot is a curve, the equation can be derived as: [(Χ (3) m ) 2 − (χ (3) s · r ) 2 ] = [f 82 r + γ 2 i )] N 2 + (2χ (3) s · r f 4 γ r ) N ……

【0032】式を最小二乗法(2次式、y=ax2
bx)により、 a=f8(γ2 r+γ2 i),b=2χ(3) s・r4γr としてy=ax2+bxの式にフィッティングさせて係
数a及びbを求めた。その結果を次の表1に示す。
The equation is a least squares method (quadratic equation, y = ax 2 +
bx), coefficients a and b were obtained by fitting a = f 82 r + γ 2 i ), b = 2χ (3) s · r f 4 γ r to the equation y = ax 2 + bx. The results are shown in Table 1 below.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】表1から明らかなように、モノマーMのγ
値は7.1×10-34esuであり、その実部は負の符号を
有し、虚部は正の符号を有することから、その応答機構
は2光子吸収を示すことが分かる。また、溶液のγ値か
ら計算したχ(3) 値は、3.1×10-12esuであった。
As is clear from Table 1, γ of the monomer M
The value is 7.1 × 10 −34 esu, the real part has a negative sign, and the imaginary part has a positive sign, indicating that the response mechanism exhibits two-photon absorption. The χ (3) value calculated from the γ value of the solution was 3.1 × 10 -12 esu.

【0035】〔固相重合によるポリマーの製造〕図1に
示すように、紫外線照射装置(EHB−WI300,英
光社製)を用い、モノマーMの単結晶に空気中、室温で
紫外線を10時間照射した。次いで、GPC(ゲル浸透
クロマトグラフィー)測定を行った。その結果を次の表
2に示す。
[Production of Polymer by Solid Phase Polymerization] As shown in FIG. 1, a single crystal of the monomer M was irradiated with ultraviolet rays at room temperature in the air for 10 hours using an ultraviolet irradiation device (EHB-WI300, manufactured by Eikosha). did. Then, GPC (gel permeation chromatography) measurement was performed. The results are shown in Table 2 below.

【0036】[0036]

【表2】 [Table 2]

【0037】表2から明らかなように、得られたポリマ
ーPの数平均分子量は14000,重量平均分子量と数
平均分子量の比(重量平均分子量/数平均分子量)は
1.21であった。
As is clear from Table 2, the number average molecular weight of the obtained polymer P was 14,000, and the ratio of the weight average molecular weight to the number average molecular weight (weight average molecular weight / number average molecular weight) was 1.21.

【0038】[0038]

【0039】以上のように、請求項の発明によれば、
一般式が前記化で表されるポリジピリジルジアセチレ
ン誘導体であり、ポリマー単結晶であるので、薄膜や導
波路等の素子化に好適であると共に、そのχ(3)も10
-12esu以上の比較的大きな値をとるという利点がある。
As described above , according to the invention of claim 1 ,
Since the polydipyridyldiacetylene derivative represented by the general formula 1 is a polymer single crystal, it is suitable for use as an element such as a thin film or a waveguide, and its χ (3) is 10
-It has the advantage of taking a relatively large value of 12 esu or more.

【0040】[0040]

【0041】[0041]

【0042】請求項の発明によれば、一般式が前記化
2で表されるジピリジルジアセチレン誘導体に紫外線又
は放射線を照射するだけでそのポリマー単結晶を得るこ
とができるので、製造が簡単であると共に、薄膜や導波
路等の素子化にも好適であるという利点がある。
According to the invention of claim 2 , the general formula becomes
Since the polymer single crystal can be obtained by simply irradiating the dipyridyldiacetylene derivative represented by 2 with ultraviolet rays or radiation, it is easy to manufacture, and is also suitable for forming devices such as thin films and waveguides. There are advantages.

【0043】請求項の発明によれば、前記アルキル基
がメチル基であるので、安価に製造できるモノマーを使
用可能であり、そのため製造コストを低減化できるとい
う利点がある。
According to the third aspect of the present invention, since the alkyl group is a methyl group, it is possible to use a monomer that can be produced at a low cost, which is advantageous in that the production cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例におけるポリマーまでの製造工程を示す
説明図。
FIG. 1 is an explanatory view showing a manufacturing process up to a polymer in Examples.

【図2】モノマーのX線構造解析による3次元結晶構造
モデル図。
FIG. 2 is a three-dimensional crystal structure model diagram obtained by X-ray structural analysis of a monomer.

【図3】モノマーの紫外可視吸収スペクトルチャート。FIG. 3 is an ultraviolet-visible absorption spectrum chart of a monomer.

【図4】モノマーの溶液状態における|χ(3)2の濃度
依存性を示すグラフ。
FIG. 4 is a graph showing the concentration dependence of | χ (3) | 2 in a monomer solution state.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

M モノマー(ジピリジルジアセチレン誘導体) P ポリマー(ポリジピリジルジアセチレン誘導体) M monomer (dipyridyl diacetylene derivative) P polymer (polydipyridyl diacetylene derivative)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−227552(JP,A) 特開 平6−271624(JP,A) 米国特許5037916(US,A) 理化学辞典,日本,株式会社 岩波書 店,1998年 2月20日,第5版,974頁 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 213/00 - 213/06 REGISTRY(STN) CA(STN)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-9-227552 (JP, A) JP-A-6-271624 (JP, A) US Patent 5037916 (US, A) Rikagaku Dictionary, Japan, Iwanami Co., Ltd. Bookstore, February 20, 1998, 5th edition, page 974 (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C07D 213/00-213/06 REGISTRY (STN) CA (STN)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式 【化1】 (式中、Rはアルキル基、X-はCF3SO2- 、nは
2以上の整数を表す)で表されるポリジピリジルジアセ
チレン誘導体
1. A general formula: (In the formula, R is an alkyl group, X is CF 3 SO 2 O , and n is
Polydipyridyl diacetate represented by 2 or more )
Tylene derivative .
【請求項2】 一般式 【化2】 (式中、Rはアルキル基、X-はCF3SO2- 表す)
で表されるジピリジルジアセチレン誘導体を、紫外線又
は放射線を照射することにより重合させることを特徴と
する請求項1記載のポリジピリジルジアセチレン誘導体
の製造方法
2. A general formula: (Wherein, R is an alkyl group, X - is CF 3 SO 2 O - represents a)
The dipyridyl diacetylene derivative represented by
Is characterized by being polymerized by irradiation with radiation.
A polydipyridyl diacetylene derivative according to claim 1.
Manufacturing method .
【請求項3】 前記アルキル基がメチル基であることを
特徴とする請求項記載のポリジピリジルジアセチレン
誘導体の製造方法。
3. The polydipyridyl diacetylene according to claim 2, wherein the alkyl group is a methyl group.
Method for producing derivative .
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