JP3526155B2 - Waveguide type light modulator - Google Patents

Waveguide type light modulator

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JP3526155B2
JP3526155B2 JP31480096A JP31480096A JP3526155B2 JP 3526155 B2 JP3526155 B2 JP 3526155B2 JP 31480096 A JP31480096 A JP 31480096A JP 31480096 A JP31480096 A JP 31480096A JP 3526155 B2 JP3526155 B2 JP 3526155B2
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waveguide type
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気光学効果を有
する基板に光導波路を形成し、この光導波路に電圧を印
加して導波光を変調する導波路型光変調素子に関し、特
に詳細には、波長変換機能も備えた導波路型光変調素子
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a waveguide type optical modulator for forming an optical waveguide on a substrate having an electro-optical effect, and applying a voltage to the optical waveguide to modulate guided light. The present invention relates to a waveguide type optical modulator having a wavelength conversion function.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、例えば光走査記録装置におい
て記録光を画像信号に基づいて変調する等のために、種
々の光変調素子が提供されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, various optical modulators have been provided, for example, for modulating recording light based on an image signal in an optical scanning recording apparatus.

【0003】そしてこの光変調素子の1つとして、特開
平4−333835号に示されているように、電気光学
効果を有するLiNbTa1−x (0≦x
≦1)結晶のZカット(Z軸に直交する面でカット)基
板あるいはそれにMgOがドープされた基板に方向性光
結合器を構成する1対の光導波路を形成し、これらの光
導波路の近傍に該光導波路に電圧を印加するための電極
を形成してなる導波路型の光変調素子も知られている。
As one of the light modulation elements, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-333835, LiNb x Ta 1-x O 3 (0 ≦ x has an electro-optical effect).
≦ 1) A pair of optical waveguides forming a directional optical coupler are formed on a Z-cut (cut in a plane orthogonal to the Z axis) substrate of a crystal or a substrate doped with MgO, and the vicinity of these optical waveguides is formed. There is also known a waveguide type optical modulation element in which an electrode for applying a voltage is formed on the optical waveguide.

【0004】またこの特開平4−333835号には、
基板として非線形光学効果を有するものを用い、光導波
路を導波して来た変調光を、該光導波路に形成した波長
変換部において波長変換して短波長化することも記載さ
れている。
Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 4-333835,
It is also described that a substrate having a non-linear optical effect is used as a substrate, and the modulated light guided through the optical waveguide is wavelength-converted in a wavelength conversion unit formed in the optical waveguide to shorten the wavelength.

【0005】この波長変換機能を有する導波路型光変調
素子を、前記印加電圧を可変として導波光を強度変調す
るように構成すれば、連続階調画像記録のために用いる
ことも可能となる。その場合、該素子から出射する光が
上記のようにして短波長化されていれば、例えば青色の
変調光を得てカラー画像記録に使用したり、あるいは記
録密度を高めることができる、といった効果が得られ
る。
If the waveguide type optical modulator having the wavelength conversion function is constructed so as to modulate the intensity of the guided light by varying the applied voltage, it can be used for continuous tone image recording. In this case, if the light emitted from the device has a short wavelength as described above, for example, blue modulated light can be obtained and used for color image recording, or the recording density can be increased. Is obtained.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、ZカットのL
iNbx Ta1-x 3 結晶基板を用いて光変調素子を形
成した場合は、連続階調画像記録のために一般に必要と
される20dB以上の消光比を確保することが難しいとい
う問題がある。以下、この問題を図7および8を参照し
て詳しく説明する。
However, the Z-cut L
When the light modulation element is formed using the iNb x Ta 1-x O 3 crystal substrate, there is a problem that it is difficult to secure an extinction ratio of 20 dB or more that is generally required for continuous tone image recording. . Hereinafter, this problem will be described in detail with reference to FIGS. 7 and 8.

【0007】Zカットの結晶基板を用いた場合、電気光
学光変調素子への印加電圧と光出力との関係は、概ね図
7に示すようなものとなる。図示されるように、最大光
出力を得る電圧V2 と最小光出力を得る電圧V1 との差
Vπの1/3程度のオフセット電圧Vo が存在して、印
加電圧が0のとき光出力が0とならないので、バイアス
電圧をかけないで変調を行なうと消光比は5dB程度に
とどまる。なおこの消光比の値は、本発明者の実験によ
り確認されたものである。
When a Z-cut crystal substrate is used, the relationship between the voltage applied to the electro-optical light modulator and the light output is approximately as shown in FIG. As shown in the figure, there is an offset voltage Vo of about 1/3 of the difference Vπ between the voltage V 2 for obtaining the maximum light output and the voltage V 1 for obtaining the minimum light output, and the light output is 0 when the applied voltage is 0. Since it does not become 0, if the modulation is performed without applying a bias voltage, the extinction ratio remains at about 5 dB. The value of this extinction ratio was confirmed by the experiment of the present inventor.

【0008】そこで光変調素子にDCバイアス電圧をか
けて、印加電圧対光出力の関係を図8の破線のようにす
ることが考えられる。その場合、消光比は15dB以上に
改善される。しかしこのようなDCバイアス電圧をかけ
続けると、DCドリフトと呼ばれる動作点変動現象、つ
まり光出力を0とする印加電圧の値が変動する現象が生
じて消光比が経時変化するので、その光変調素子を実用
に供するのは到底不可能となる。
Therefore, it is conceivable to apply a DC bias voltage to the optical modulator so that the relationship between the applied voltage and the optical output is as shown by the broken line in FIG. In that case, the extinction ratio is improved to 15 dB or more. However, if such a DC bias voltage is continuously applied, an operating point fluctuation phenomenon called DC drift, that is, a phenomenon that the value of the applied voltage at which the optical output is 0 fluctuates, and the extinction ratio changes with time. It is impossible to put the device into practical use.

【0009】またDCドリフトを解消する方法として、
特開平7−29480号に示されるように、光変調素子
の駆動信号に高周波を重畳させる方法があるが、この場
合もバイアス電圧をかけないと消光比は5dB程度にと
どまる。バイアス電圧をかけると消光比は改善するが、
平均電圧が0でないためにDCドリフトが生じてしま
う。
As a method of eliminating the DC drift,
As shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-29480, there is a method of superimposing a high frequency on the drive signal of the optical modulation element, but in this case as well, the extinction ratio remains at about 5 dB unless a bias voltage is applied. The extinction ratio improves when a bias voltage is applied,
Since the average voltage is not 0, DC drift will occur.

【0010】他方、XカットあるいはYカットのLiN
x Ta1-x 3 結晶基板を用いて光変調素子を形成す
ることも考えられており、その場合はオフセット電圧が
小さいために、上記の高周波重畳方法を用いて消光比を
15dB以上(本発明者の実験による確認値)確保するこ
とができる。しかし、このXカットあるいはYカットの
基板を用いる場合、波長変換部の波長変換効率はZカッ
トの基板を用いる場合と比べて著しく低下するので、変
調光の出力が極めて低いものとなってしまう。
On the other hand, X-cut or Y-cut LiN
It is also considered to form an optical modulation element using a b x Ta 1-x O 3 crystal substrate. In that case, since the offset voltage is small, the extinction ratio can be increased by using the above high frequency superposition method.
It is possible to secure 15 dB or more (confirmed value by the experiment of the inventor). However, when the X-cut or Y-cut substrate is used, the wavelength conversion efficiency of the wavelength conversion unit is significantly lower than that when the Z-cut substrate is used, so that the output of the modulated light becomes extremely low.

【0011】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
であり、高い消光比と高い波長変換効率を共に実現でき
る、波長変換機能を備えた導波路型光変調素子を提供す
ることを目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a waveguide type optical modulator having a wavelength conversion function, which can realize both a high extinction ratio and a high wavelength conversion efficiency. To do.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明による導波路型光
変調素子は、電気光学効果および非線形光学効果を有す
る強誘電体結晶基板と、この基板に形成された複数の光
導波路と、これらの光導波路の少なくとも1つに電圧を
印加する電極と、この電極よりも導波方向下流側におい
て上記光導波路に形成された波長変換部とを有してな
り、前記電圧の印加状態に応じて前記複数の光導波路の
間での導波光の乗り移りを制御することにより、前記波
長変換部を通過する光を変調する導波路型光変調素子に
おいて、基板として、その表面と強誘電体結晶のZ軸と
がなす角度θが0°<θ<90°となるようにカットされ
たものが用いられるとともに、前記波長変換部が、前記
強誘電体結晶基板の自発分極の向きを180°反転させ
て該自発分極の向きと平行に延びるドメイン反転部が周
期的に配置されてなる周期ドメイン反転構造から構成さ
れていることを特徴とするものである。
A waveguide type optical modulator according to the present invention comprises a ferroelectric crystal substrate having an electro-optical effect and a non-linear optical effect, a plurality of optical waveguides formed on this substrate, and a plurality of these optical waveguides. The optical waveguide includes an electrode for applying a voltage to at least one of the optical waveguides, and a wavelength conversion unit formed in the optical waveguide on the downstream side of the electrode in the waveguide direction. In a waveguide-type optical modulation element that modulates light passing through the wavelength conversion unit by controlling transfer of guided light between a plurality of optical waveguides, the surface thereof and the Z axis of the ferroelectric crystal serve as a substrate. What is cut so that the angle θ formed by and becomes 0 ° <θ <90 ° is used, and the wavelength conversion unit inverts the direction of spontaneous polarization of the ferroelectric crystal substrate by 180 °. Direction and flatness of spontaneous polarization It is characterized in that extending building domain reversals is composed of periodic domain inversion structure formed by periodically disposed.

【0013】なお上記の構成において、光導波路がプロ
トン交換およびアニールによって形成されたものであ
り、光導波路に形成された周期ドメイン反転構造により
波長変換部が構成されている場合、上記の角度θはθ≦
20°なる範囲にあるのが望ましい。
In the above structure, when the optical waveguide is formed by proton exchange and annealing and the wavelength conversion section is composed of the periodic domain inversion structure formed in the optical waveguide, the angle θ is θ ≦
It is desirable to be in the range of 20 °.

【0014】また上記のように光導波路がプロトン交換
およびアニールによって形成されたものであり、光導波
路に形成された周期ドメイン反転構造により波長変換部
が構成されている場合、上記の角度θは0.2 °≦θなる
範囲、より好ましくは0.5 °≦θなる範囲にあるとよ
い。
When the optical waveguide is formed by proton exchange and annealing as described above, and the wavelength conversion portion is formed by the periodic domain inversion structure formed in the optical waveguide, the angle θ is 0.2. It may be in the range of ° ≦ θ, more preferably in the range of 0.5 ° ≦ θ.

【0015】さらに、上記強誘電体結晶基板としてより
具体的には、該結晶のY軸をYZ面内でZ軸側に3°回
転させた軸に対して垂直な面でカットされたものや、Z
軸をZX面内でX軸側に87°回転させた軸に対して垂直
な面でカットされたものが好適に用いられる。
More specifically, as the ferroelectric crystal substrate, more specifically, one that is cut in a plane perpendicular to an axis obtained by rotating the Y axis of the crystal in the YZ plane by 3 ° toward the Z axis, , Z
It is preferable to use one that is cut by a plane perpendicular to the axis rotated by 87 ° on the X axis side in the ZX plane.

【0016】また基板を構成する強誘電体としてより具
体的には、LiNbx Ta1-x 3(0≦x≦1)や、
あるいはそれにMgOまたはZnOがドープされたもの
が好適に用いられる。
More specifically, as the ferroelectric substance constituting the substrate, more specifically, LiNb x Ta 1-x O 3 (0 ≦ x ≦ 1),
Alternatively, those doped with MgO or ZnO are preferably used.

【0017】さらに、本発明の導波路型光変調素子にお
いて好ましくは、光導波路が波長変換部において基板の
X軸あるいはY軸方向に延びるように形成され、この光
導波路に形成された周期ドメイン反転構造により波長変
換部が構成される。
Further, in the waveguide type optical modulator of the present invention, preferably, the optical waveguide is formed so as to extend in the X-axis or Y-axis direction of the substrate in the wavelength conversion section, and the periodic domain inversion formed in the optical waveguide is performed. The structure constitutes the wavelength conversion unit.

【0018】また本発明の導波路型光変調素子において
好ましくは、方向性光結合器を構成する複数本の光導波
路が設けられ、上記電極は、電圧印加によりこれらの光
導波路間における光結合を制御できるように配設され
る。さらに本発明の導波路型光変調素子は、波長変換部
に入射する前の光に対する消光比が10dB以上であるよ
うに構成されることが望ましい。
Further, in the waveguide type optical modulator of the present invention, preferably, a plurality of optical waveguides forming a directional optical coupler are provided, and the electrodes are provided with optical coupling between these optical waveguides by voltage application. Arranged to be controllable. Furthermore, the waveguide type optical modulator of the present invention is provided with a wavelength conversion unit.
The extinction ratio to the light before it is incident on is 10 dB or more.
It is desirable to be configured as follows.

【0019】[0019]

【発明の効果】前述したように、XカットあるいはYカ
ットの強誘電体結晶基板を用いる場合、波長変換部の波
長変換効率はZカットの基板を用いる場合と比べて著し
く低下するが、本発明者の研究によると、基板表面と強
誘電体結晶のZ軸とがなす角度θが0°<θ<90°とな
るようにカットされた基板を用いる場合は、Zカットの
基板を用いる場合と同程度の波長変換効率が得られる。
As described above, when the X-cut or Y-cut ferroelectric crystal substrate is used, the wavelength conversion efficiency of the wavelength converter is significantly lower than that when the Z-cut substrate is used. According to the research conducted by a researcher, when a substrate cut so that the angle θ formed by the substrate surface and the Z axis of the ferroelectric crystal is 0 ° <θ <90 °, a case of using a Z-cut substrate Similar wavelength conversion efficiency can be obtained.

【0020】また、基板表面と強誘電体結晶のZ軸とが
なす角度θが0°<θ<90°となるようにカットされた
基板を用いる場合、電気光学的光変調における消光比に
ついては、XカットあるいはYカットの基板を用いる場
合と同様に15dB以上確保することができる。
When a substrate cut so that the angle θ between the substrate surface and the Z axis of the ferroelectric crystal is 0 ° <θ <90 °, the extinction ratio in electro-optical light modulation is 15 dB or more can be secured as in the case of using an X-cut or Y-cut substrate.

【0021】一方、波長変換波の強度は基本波強度の2
乗に比例するから、電気光学的光変調における消光比が
10dBのとき波長変換波の消光比は20dBとなる。した
がって、電気光学的光変調における消光比が上記のよう
に15dB以上となれば、波長変換波については、連続階
調画像記録に必要な20dB以上の消光比が確保される。
そこで、このように基板表面と強誘電体結晶のZ軸と
がなす角度θが0°<θ<90°となるようにカットされ
た基板を用いる本発明の導波路型光変調素子によれば、
高い消光比と高い波長変換効率が共に得られるようにな
る。
On the other hand, the intensity of the wavelength converted wave is 2 times the fundamental wave intensity.
The extinction ratio in electro-optical light modulation is proportional to the power of
When it is 10 dB, the extinction ratio of the wavelength converted wave is 20 dB. Therefore, if the extinction ratio in electro-optical light modulation is 15 dB or more as described above, the extinction ratio of 20 dB or more required for continuous tone image recording is secured for the wavelength converted wave.
Therefore, according to the waveguide type optical modulator of the present invention, the substrate is cut so that the angle θ between the substrate surface and the Z axis of the ferroelectric crystal is 0 ° <θ <90 °. ,
Both a high extinction ratio and a high wavelength conversion efficiency can be obtained.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1および図2はそれぞ
れ、本発明の第1の実施形態による導波路型光変調素子
の斜視形状、平面形状を示すものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. 1 and 2 are a perspective view and a plan view, respectively, of a waveguide type optical modulator according to a first embodiment of the present invention.

【0023】図示されるようにこの導波路型光変調素子
は、MgOが5 mol%ドープされたLiNbO3 (以
下、MgO−LNと称する)の結晶基板10上に例えばプ
ロトン交換により形成された2つのチャンネル光導波路
11、12と、これらの光導波路11、12の各々の脇に形成さ
れた平板状電極13、14A、14Bと、一方の光導波路12に
形成された波長変換部15とを有している。
As shown in the figure, this waveguide type optical modulator is formed by, for example, proton exchange on a crystal substrate 10 of LiNbO 3 (hereinafter, referred to as MgO-LN) doped with MgO by 5 mol%. Two channel optical waveguide
11 and 12, plate-shaped electrodes 13, 14A and 14B formed on the sides of each of the optical waveguides 11 and 12, and a wavelength conversion portion 15 formed on one optical waveguide 12.

【0024】一方のチャンネル光導波路12には、半導体
レーザー20から発せられた波長950nmのレーザービー
ム21が入力される。本例においてこの半導体レーザー20
は、光導波路11の端面部分において基板10に直接結合さ
れる。しかしそれに限らず、基板10と離して半導体レー
ザー20を配設し、光学系によって収束させたレーザービ
ーム21を光導波路11の端面部分に照射させて、該光導波
路11に入力させるようにしてもよい。なお半導体レーザ
ー20の縦モードは、公知の方法によりロックされてい
る。
A laser beam 21 having a wavelength of 950 nm emitted from a semiconductor laser 20 is input to one channel optical waveguide 12. In this example, this semiconductor laser 20
Are directly coupled to the substrate 10 at the end face portion of the optical waveguide 11. However, the present invention is not limited to this, and the semiconductor laser 20 may be disposed apart from the substrate 10 and the laser beam 21 converged by the optical system may be applied to the end face portion of the optical waveguide 11 and input to the optical waveguide 11. Good. The longitudinal mode of the semiconductor laser 20 is locked by a known method.

【0025】一方電極13は、画像信号Sを受ける変調駆
動回路25に接続され、電極14A、14Bは接地されてい
る。また波長変換部15は、MgO−LN基板10の自発分
極(ドメイン)が反転したドメイン反転部16が所定周期
で繰り返してなる周期ドメイン反転構造を有するもので
ある。
The one electrode 13 is connected to a modulation drive circuit 25 which receives the image signal S, and the electrodes 14A and 14B are grounded. The wavelength conversion unit 15 has a periodic domain inversion structure in which the domain inversion unit 16 in which the spontaneous polarization (domain) of the MgO-LN substrate 10 is inverted is repeated at a predetermined period.

【0026】以下、上記構成の導波路型光変調素子の作
成方法を説明する。基板10は図3に示すように、電気光
学効果および非線形光学効果を有する強誘電体であるM
gO−LNのインゴット10’を、そのY軸をYZ面内で
Z軸側にθ=3°回転させた軸Y’に垂直となる面でカ
ット、研磨して得られたもの(3°Yカット基板)であ
り、単分極化処理がなされて例えば厚さ0.3 mmに形成
されている。なお図3において、角度θは誇張して示し
てある。
A method of manufacturing the waveguide type optical modulator having the above structure will be described below. As shown in FIG. 3, the substrate 10 is a ferroelectric substance M having an electro-optical effect and a non-linear optical effect.
Obtained by cutting and polishing a gO-LN ingot 10 'with a plane perpendicular to an axis Y'rotated by Y = 3 ° in the YZ plane on the Z axis side by θ = 3 ° (3 ° Y It is a cut substrate) and is monopolarized to have a thickness of 0.3 mm, for example. Note that the angle θ is exaggerated in FIG.

【0027】こうして形成されたMgO−LN基板10の
表面10a、10bに、図4に示すようにそれぞれ櫛形電極
30、平板電極31を取り付け、+Z側に位置する櫛形電極
30の方が正電位、−Z側に位置する平板電極31の方が負
電位となるようにして、両電極30、31間にパルス電圧を
印加すると、図5に概略図示するように、+Z方向を向
いていた基板10の自発分極の向きが電圧印加部分におい
て反転して、ドメイン反転部16が形成される。なお上記
自発分極の向きは、基板表面10aに対してθ=3°傾い
ており、したがってドメイン反転部16の分極の向きも基
板表面10aに対して同様に傾くことになる。
On the surfaces 10a and 10b of the MgO-LN substrate 10 thus formed, as shown in FIG. 4, comb electrodes are formed, respectively.
30, comb-shaped electrode on the + Z side with the plate electrode 31 attached
When a pulse voltage is applied between both electrodes 30 and 31 such that 30 is a positive potential and the plate electrode 31 located on the −Z side is a negative potential, as shown in FIG. The direction of the spontaneous polarization of the substrate 10 which was oriented in the opposite direction is inverted in the voltage application portion, and the domain inversion portion 16 is formed. The direction of the spontaneous polarization is inclined by θ = 3 ° with respect to the substrate surface 10a, so that the polarization direction of the domain inversion portion 16 is also inclined with respect to the substrate surface 10a.

【0028】なお、MgO−LN基板10の表面10a、10
bと平行でX軸と直交する方向、および基板表面10a、
10bに対して垂直な方向はそれぞれ、Z軸方向およびY
軸方向に対して3°の角度をなす方向となるので、これ
らの方向を便宜的にそれぞれZ’方向、Y’方向と称す
る。
The surfaces 10a, 10 of the MgO-LN substrate 10 are
a direction parallel to b and orthogonal to the X axis, and the substrate surface 10a,
The directions perpendicular to 10b are the Z-axis direction and the Y-axis direction, respectively.
Since the angle is 3 ° with respect to the axial direction, these directions will be referred to as Z ′ direction and Y ′ direction, respectively, for convenience.

【0029】次に上記MgO−LN基板10に、周知のフ
ォトリソグラフィーにより、チャンネル光導波路11、12
の形状に対応した開口を有する金属(本例ではTa)の
マスクを形成する。その後このMgO−LN基板10を、
160 ℃に加熱したピロリン酸中に64分間浸漬してプロト
ン交換を行ない、Taマスクをエッチング液で除去した
後、大気中において350 ℃で1時間アニールする。
Next, on the MgO-LN substrate 10, the channel optical waveguides 11 and 12 are formed by well-known photolithography.
A mask of metal (Ta in this example) having an opening corresponding to the shape is formed. After that, the MgO-LN substrate 10 is
After dipping in pyrophosphoric acid heated to 160 ° C. for 64 minutes for proton exchange to remove the Ta mask with an etching solution, it is annealed in air at 350 ° C. for 1 hour.

【0030】以上の処理により、図1および2に示すよ
うなチャンネル光導波路11、12が形成される。なおこの
際チャンネル光導波路12は、ドメイン反転部16が形成さ
れている部分を、これらのドメイン反転部16の並び方向
に沿って延びるように形成される。
By the above processing, the channel optical waveguides 11 and 12 as shown in FIGS. 1 and 2 are formed. At this time, the channel optical waveguide 12 is formed such that the portion where the domain inversion portions 16 are formed extends along the direction in which the domain inversion portions 16 are arranged.

【0031】次に上記MgO−LN基板10の、チャンネ
ル光導波路11、12の端面を含む−X面および+X面を光
学研磨すると、導波路型光変調素子が完成する。
Next, the -X plane and the + X plane including the end faces of the channel optical waveguides 11 and 12 of the MgO-LN substrate 10 are optically polished to complete the waveguide type optical modulator.

【0032】図1および2に示す通り、上記構成の導波
路型光変調素子において、レーザービーム21は一方のチ
ャンネル光導波路12に入力されてそこを導波し、後述の
電位差Vに応じて、両光導波路11、12が近接している部
分(結合部)において他方のチャンネル光導波路11に乗
り移る。
As shown in FIGS. 1 and 2, in the waveguide type optical modulator having the above structure, the laser beam 21 is input to one of the channel optical waveguides 12 and guided therethrough, and in accordance with a potential difference V described later, The portion where the two optical waveguides 11 and 12 are close to each other (coupling portion) is transferred to the other channel optical waveguide 11.

【0033】チャンネル光導波路12を導波したレーザー
ビーム21は、波長変換部15において波長が1/2つまり
475 nmの青色の第2高調波22に変換される。すなわち
この波長変換部15においては、ドメイン反転部16がレー
ザービーム21の導波方向に周期的に繰り返してなる周期
ドメイン反転構造により、基本波としてのレーザービー
ム21とその第2高調波22とが位相整合(いわゆる疑似位
相整合)する。なお本例において、周期ドメイン反転構
造が形成されている部分の光導波路12の長さ、つまり波
長変換のための相互作用長Lは10mmである。
The laser beam 21 guided through the channel optical waveguide 12 has a wavelength of ½ in the wavelength conversion section 15, that is,
Converted to the blue second harmonic wave 22 of 475 nm. That is, in the wavelength conversion unit 15, the laser beam 21 as the fundamental wave and the second harmonic 22 thereof are formed by the periodic domain inversion structure in which the domain inversion unit 16 is periodically repeated in the waveguide direction of the laser beam 21. Phase matching (so-called pseudo phase matching) is performed. In this example, the length of the optical waveguide 12 in the portion where the periodic domain inversion structure is formed, that is, the interaction length L for wavelength conversion is 10 mm.

【0034】ここで、両チャンネル光導波路11、12の結
合部において、電極14A、14Bの部分は接地電位に保持
される。一方電極13には変調駆動回路25から可変電圧が
印加され、この電極13と電極14A、14Bとの間の電位差
Vに応じて、上記レーザービーム21の乗り移りが制御さ
れる。
Here, the electrodes 14A and 14B are held at the ground potential in the coupling portion of the two channel optical waveguides 11 and 12. On the other hand, a variable voltage is applied to the electrode 13 from the modulation drive circuit 25, and the transfer of the laser beam 21 is controlled according to the potential difference V between the electrode 13 and the electrodes 14A and 14B.

【0035】つまり、この電位差Vが0(ゼロ)のと
き、チャンネル光導波路12を導波したレーザービーム21
は基本的に全て光導波路11に乗り移り、該電位差Vが増
大するのに応じてこの乗り移り量が低下し、逆に光導波
路12を導波する光量は増大する。Vが所定の値Vπのと
き、乗り移りはなくなって、レーザービーム21は基本的
に全て光導波路12を導波する。そこで、電極13への印加
電圧を画像信号Sに基づいて制御することにより、チャ
ンネル光導波路12を導波するレーザービーム21を強度変
調することができ、ひいては青色の第2高調波22を画像
信号Sに基づいて強度変調可能となる。
That is, when the potential difference V is 0 (zero), the laser beam 21 guided through the channel optical waveguide 12
Are basically transferred to the optical waveguide 11, and as the potential difference V increases, the transfer amount decreases, and conversely, the amount of light guided through the optical waveguide 12 increases. When V is a predetermined value Vπ, there is no transition and the laser beam 21 basically guides all through the optical waveguide 12. Therefore, by controlling the voltage applied to the electrode 13 based on the image signal S, the intensity of the laser beam 21 guided through the channel optical waveguide 12 can be modulated, and thus the blue second harmonic wave 22 is converted into the image signal. The intensity can be modulated based on S.

【0036】次に、この導波路型光変調素子の波長変換
効率および消光比、それに前述のオフセット電圧Vo
(図7参照)を調べた結果について説明する。なお消光
比は、波長変換前の値である。比較のため上述の基板10
に代えて、図6に示すようにMgO−LNのインゴット
10”を、そのZ軸をZX面内でX軸側に87°回転させた
軸Z”に垂直となる面でカット、研磨して得た基板(87
°Zカット基板)を用いたもの(本発明の第2実施形
態)、さらに従来から知られているZカット基板、Xカ
ット基板、およびYカット基板を用いたものについても
同様に波長変換効率、消光比およびオフセット電圧Vo
を調べた。なおそれらの導波路型光変調素子は、基板の
カット方位以外の点は、基本的に全て上記第1実施形態
と同様に構成されたものである。ただし、上記87°Zカ
ット基板を用いる場合、光導波路はY軸方向に延びるよ
うに形成される。結果を下の(表1)に示す。
Next, the wavelength conversion efficiency and extinction ratio of this waveguide type optical modulator, and the above-mentioned offset voltage Vo
The results of examining (see FIG. 7) will be described. The extinction ratio is a value before wavelength conversion. Substrate 10 described above for comparison
Instead of the MgO-LN ingot, as shown in FIG.
Substrate obtained by cutting and polishing 10 "in a plane perpendicular to the axis Z" which is obtained by rotating the Z axis in the ZX plane by 87 ° to the X axis side (87
(Z-cut substrate) (second embodiment of the present invention), as well as the conventionally known Z-cut substrate, X-cut substrate, and Y-cut substrate, wavelength conversion efficiency, Extinction ratio and offset voltage Vo
I checked. In addition, these waveguide type optical modulation elements are basically configured in the same manner as in the first embodiment except points other than the cut orientation of the substrate. However, when the 87 ° Z-cut substrate is used, the optical waveguide is formed so as to extend in the Y-axis direction. The results are shown below (Table 1).

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】この(表1)において、波長変換効率は換
算効率ηで示してある。換算効率ηは、基本波であるレ
ーザービーム21のパワーをPFM(mW)、第2高調波22
のパワーをPSHG (mW)、相互作用長をL(mm)と
したとき、 η(%/Wcm2 )=PFM/PSHG ×1000×(10/L)
2 で与えられるものである。
In this (Table 1), the wavelength conversion efficiency is indicated by the conversion efficiency η. The conversion efficiency η is the power of the fundamental laser beam 21, P FM (mW), the second harmonic 22
When the power of P SHG (mW) and the interaction length are L (mm), η (% / Wcm 2 ) = P FM / P SHG × 1000 × (10 / L)
It is given by 2 .

【0039】ここに示されている通り、本発明の第1実
施形態および第2実施形態の導波路型光変調素子におい
ては、Zカット基板を用いる場合と同程度に高い波長変
換効率が得られる一方、消光比はXカット基板あるいは
Yカット基板を用いる場合と同様に15dB以上である。
そこで第2高調波22については、前述した理由により、
連続階調画像記録のために一般に必要とされる20dB以
上が確保される。
As shown here, in the waveguide type optical modulators of the first and second embodiments of the present invention, wavelength conversion efficiency as high as that when using the Z-cut substrate is obtained. On the other hand, the extinction ratio is 15 dB or more as in the case of using the X-cut substrate or the Y-cut substrate.
Therefore, for the second harmonic 22, for the reasons described above,
20 dB or more, which is generally required for continuous tone image recording, is secured.

【0040】[0040]

【0041】[0041]

【0042】[0042]

【0043】[0043]

【0044】また本発明においては、上記特開平7−2
94860号に示されるように、電極13に印加される電
圧に高周波を重畳することにより、前述したDCドリフ
トの問題を解決し、かつ20dB以上の消光比を得ること
ができる。
Further, in the present invention, the above-mentioned JP-A-7-2
As shown in Japanese Patent No. 94860, by superposing a high frequency on the voltage applied to the electrode 13, the above-mentioned problem of DC drift can be solved and an extinction ratio of 20 dB or more can be obtained.

【0045】また以上、3°Yカット基板と87°Zカッ
ト基板、つまり基板表面とZ軸とがなす角度θがともに
3°である基板を用いた実施形態について説明したが、
本発明ではこのθが3°である基板に限らず、0°<θ
<90°なる範囲の基板を全て用いて、基本的に上記の同
様の効果を奏することができる。ただし、光導波路をプ
ロトン交換およびアニールによって形成し、かつ周期ド
メイン反転構造により波長変換部を構成する場合におい
て、Zカット基板を用いる場合とほぼ同等の波長変換効
率を得るためには、0.2 °≦θ≦20°なる範囲、より好
ましくは0.5 °≦θ≦20°なる範囲の基板を用いるのが
望ましい。
Further, the embodiment using the 3 ° Y-cut substrate and the 87 ° Z-cut substrate, that is, the substrate in which the angle θ between the substrate surface and the Z axis is 3 ° has been described above.
The present invention is not limited to the substrate in which θ is 3 °, but 0 ° <θ
Basically, the same effect as described above can be obtained by using all the substrates in the range of <90 °. However, in the case where the optical waveguide is formed by proton exchange and annealing and the wavelength conversion part is configured by the periodic domain inversion structure, in order to obtain wavelength conversion efficiency almost equal to that when using the Z-cut substrate, 0.2 ° ≦ It is desirable to use a substrate in the range of θ ≦ 20 °, more preferably in the range of 0.5 ° ≦ θ ≦ 20 °.

【0046】すなわち、光導波路をプロトン交換および
アニールによって形成する場合、導波モードがカットオ
フとならないθの範囲は20°以下となる。そしてこの場
合、導波モードの界分布は、最も浅くしたときで1.2 μ
m程度となる。それに対応させてドメイン反転部の深さ
を1.2 μm以上とするためには、θを0.2 °以上にすれ
ばよい。一方、光導波路への光入力を容易にするために
は、導波モードの界分布は1.4 μm以上とするのが望ま
しく、それに対応させてドメイン反転部の深さを1.4 μ
m以上にするためには、θを0.5 °以上とすればよい。
That is, when the optical waveguide is formed by proton exchange and annealing, the range of θ at which the waveguide mode is not cut off is 20 ° or less. In this case, the field distribution of the guided mode is 1.2 μ at the shallowest.
It will be about m. Correspondingly, in order to make the depth of the domain inversion portion 1.2 μm or more, θ should be 0.2 ° or more. On the other hand, in order to facilitate the light input to the optical waveguide, it is desirable that the field distribution of the guided mode be 1.4 μm or more, and correspondingly, the domain inversion depth should be 1.4 μm.
In order to make m or more, θ may be 0.5 ° or more.

【0047】さらに本発明の導波路型光変調素子は、先
に述べたプロトン交換光導波路に限らず、その他のTi
拡散光導波路等を設けて構成することも可能である。
Further, the waveguide type optical modulator of the present invention is not limited to the above-mentioned proton exchange optical waveguide, but may be any other Ti.
It is also possible to provide by providing a diffusion optical waveguide or the like.

【0048】また光導波路を形成する基板も、前述のM
gOがドープされたLiNbO3 基板に限らず、その他
のLiNbO3 基板、ZnOがドープされたLiNbO
3 基板、LiTaO3 基板、MgOやZnOがドープさ
れたLiTaO3 基板等を利用することもできる。
The substrate forming the optical waveguide is also the above-mentioned M.
Not only the LiNbO 3 substrate doped with gO, but also other LiNbO 3 substrates and LiNbO doped with ZnO
3 substrate, may be LiTaO 3 substrate, the MgO and ZnO utilizing doped LiTaO 3 substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1実施形態である導波路型光変調素
子の斜視図
FIG. 1 is a perspective view of a waveguide type optical modulator according to a first embodiment of the present invention.

【図2】上記導波路型光変調素子の平面図FIG. 2 is a plan view of the above-mentioned waveguide type optical modulator.

【図3】上記導波路型光変調素子に用いられた基板のカ
ット状態を説明する概略図
FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a cut state of a substrate used in the above-mentioned waveguide type optical modulator.

【図4】上記導波路型光変調素子を作成する様子を示す
概略斜視図
FIG. 4 is a schematic perspective view showing a state in which the above-mentioned waveguide type optical modulator is produced.

【図5】上記導波路型光変調素子に形成されるドメイン
反転部を示す概略斜視図
FIG. 5 is a schematic perspective view showing a domain inversion portion formed in the above-mentioned waveguide type optical modulator.

【図6】本発明の第2実施形態に用いられた基板のカッ
ト状態を説明する概略図
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a cut state of a substrate used in a second embodiment of the present invention.

【図7】電気光学光変調素子の印加電圧と光出力との概
略関係を示すグラフ
FIG. 7 is a graph showing a schematic relationship between an applied voltage and an optical output of the electro-optical light modulator.

【図8】電気光学光変調素子におけるバイアス電圧を説
明するグラフ
FIG. 8 is a graph illustrating a bias voltage in the electro-optical light modulator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 MgOドープLiNbO3 基板 11、12、50、51 チャンネル光導波路 13、14A、14B 電極 15 波長変換部 16 ドメイン反転部 20 半導体レーザー 21 レーザービーム(基本波) 22 第2高調波 25 変調駆動回路 30 櫛形電極 31 平板電極 60、61 3dBカプラー部10 MgO-doped LiNbO 3 substrate 11, 12, 50, 51 channel optical waveguide 13, 14A, 14B electrode 15 wavelength converter 16 domain inversion 20 semiconductor laser 21 laser beam (fundamental wave) 22 second harmonic 25 modulation drive circuit 30 Comb-shaped electrode 31 Flat plate electrode 60, 61 3dB coupler section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−273817(JP,A) 特開 平4−333835(JP,A) 特開 平2−13929(JP,A) 1983 ULTRASONICS SY MPOSIUM,1983年,527−530 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/37 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-6-273817 (JP, A) JP-A-4-333835 (JP, A) JP-A-2-13929 (JP, A) 1983 ULTRASONICS SY MPOSIUM, 1983, 527-530 (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/37

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 電気光学効果および非線形光学効果を有
する強誘電体結晶基板と、 この基板に形成された複数の光導波路と、 これらの光導波路の少なくとも1つに電圧を印加する電
極と、 この電極よりも導波方向下流側において前記光導波路に
形成された波長変換部とを有してなり、 前記電圧の印加状態に応じて前記複数の光導波路の間で
の導波光の乗り移りを制御することにより、前記波長変
換部を通過する光を変調する導波路型光変調素子におい
て、 前記基板として、その表面と強誘電体結晶のZ軸とがな
す角度θが0°<θ<90°となるようにカットされたも
のが用いられるとともに、 前記波長変換部が、前記強誘電体結晶基板の自発分極の
向きを180°反転させて該自発分極の向きと平行に延
びるドメイン反転部が周期的に配置されてなる周期ドメ
イン反転構造から構成されていることを特徴とする導波
路型光変調素子。
1. A ferroelectric crystal substrate having an electro-optical effect and a non-linear optical effect, a plurality of optical waveguides formed on the substrate, an electrode for applying a voltage to at least one of these optical waveguides, A wavelength conversion portion formed on the optical waveguide on the downstream side of the electrode in the waveguide direction, and controlling the transfer of the guided light between the plurality of optical waveguides according to the applied state of the voltage. As a result, in the waveguide type optical modulation element that modulates the light passing through the wavelength conversion unit, the angle θ formed by the surface of the substrate and the Z axis of the ferroelectric crystal is 0 ° <θ <90 °. And the wavelength conversion unit inverts the direction of spontaneous polarization of the ferroelectric crystal substrate by 180 ° and extends the direction parallel to the direction of spontaneous polarization.
1. A waveguide type optical modulation element, comprising a periodic domain inversion structure in which periodic domain inversion portions are periodically arranged.
【請求項2】 前記光導波路がプロトン交換およびアニ
ールによって形成されたものであり、 前記波長変換部が、前記光導波路に形成された周期ドメ
イン反転構造により構成され、 前記角度θがθ≦20°なる範囲にあることを特徴とする
請求項1記載の導波路型光変調素子。
2. The optical waveguide is formed by proton exchange and annealing, the wavelength conversion portion is formed of a periodic domain inversion structure formed in the optical waveguide, and the angle θ is θ ≦ 20 °. 2. The waveguide type optical modulation element according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記光導波路がプロトン交換およびアニ
ールによって形成されたものであり、 前記波長変換部が、前記光導波路に形成された周期ドメ
イン反転構造により構成され、 前記角度θが0.2 °≦θなる範囲にあることを特徴とす
る請求項1または2記載の導波路型光変調素子。
3. The optical waveguide is formed by proton exchange and annealing, the wavelength conversion portion is formed by a periodic domain inversion structure formed in the optical waveguide, and the angle θ is 0.2 ° ≦ θ 3. The waveguide type optical modulator according to claim 1, wherein the waveguide optical modulator is in the following range.
【請求項4】 前記角度θが0.5 °≦θなる範囲にある
ことを特徴とする請求項3記載の導波路型光変調素子。
4. The waveguide type optical modulator according to claim 3, wherein the angle θ is in a range of 0.5 ° ≦ θ.
【請求項5】 前記強誘電体結晶基板が、該結晶のY軸
をYZ面内でZ軸側に3°回転させた軸に対して垂直な
面でカットされたものであることを特徴とする請求項1
から4いずれか1項記載の導波路型光変調素子。
5. The ferroelectric crystal substrate is cut in a plane perpendicular to an axis obtained by rotating the Y axis of the crystal in the YZ plane by 3 ° to the Z axis side. Claim 1
4. The waveguide type optical modulator according to any one of 1 to 4.
【請求項6】 前記強誘電体結晶基板が、該結晶のZ軸
をZX面内でX軸側に87°回転させた軸に対して垂直な
面でカットされたものであることを特徴とする請求項1
から4いずれか1項記載の導波路型光変調素子。
6. The ferroelectric crystal substrate is cut on a plane perpendicular to an axis obtained by rotating the Z axis of the crystal in the ZX plane by 87 ° to the X axis side. Claim 1
4. The waveguide type optical modulator according to any one of 1 to 4.
【請求項7】 前記強誘電体がLiNbTa
1−x (0≦x≦1)またはそれにMgOある
いはZnOがドープされたものであることを特徴とする
請求項1から6いずれか1項記載の導波路型光変調素
子。
7. The ferroelectric material is LiNb x Ta.
7. The waveguide type optical modulator according to claim 1, which is 1-xO 3 (0 ≦ x ≦ 1) or one doped with MgO or ZnO.
【請求項8】 前記光導波路が、前記波長変換部におい
て基板のX軸方向に延びるように形成され、 この光導波路に形成された周期ドメイン反転構造により
前記波長変換部が構成されていることを特徴とする請求
項1から7いずれか1項記載の導波路型光変調素子。
8. The optical waveguide is formed in the wavelength conversion section so as to extend in the X-axis direction of the substrate, and the wavelength conversion section is constituted by a periodic domain inversion structure formed in the optical waveguide. The waveguide type optical modulator according to any one of claims 1 to 7, which is characterized in that.
【請求項9】 前記光導波路が、前記波長変換部におい
て基板のY軸方向に延びるように形成され、 この光導波路に形成された周期ドメイン反転構造により
前記波長変換部が構成されていることを特徴とする請求
項1から7いずれか1項記載の導波路型光変調素子。
9. The optical waveguide is formed in the wavelength conversion section so as to extend in the Y-axis direction of the substrate, and the wavelength conversion section is constituted by a periodic domain inversion structure formed in the optical waveguide. The waveguide type optical modulator according to any one of claims 1 to 7, which is characterized in that.
【請求項10】 前記光導波路として、方向性光結合器
を構成する複数本の光導波路が設けられ、 前記電極が、電圧印加によりこれらの光導波路間におけ
る光結合を制御可能に配設されていることを特徴とする
請求項1から9いずれか1項記載の導波路型光変調素
子。
10. A plurality of optical waveguides forming a directional optical coupler are provided as the optical waveguides, and the electrodes are arranged so that optical coupling between these optical waveguides can be controlled by applying a voltage. The waveguide type optical modulator according to any one of claims 1 to 9, wherein
【請求項11】 前記波長変換部に入射する前の光に対11. The light before entering the wavelength conversion unit
する消光比が10dB以上であることを特徴とする請求項The extinction ratio to be 10 dB or more.
1から10いずれか1項記載の導波路型光変調素子。11. The waveguide type optical modulator according to any one of 1 to 10.
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