JP3525347B2 - Optical recording disc - Google Patents

Optical recording disc

Info

Publication number
JP3525347B2
JP3525347B2 JP07036392A JP7036392A JP3525347B2 JP 3525347 B2 JP3525347 B2 JP 3525347B2 JP 07036392 A JP07036392 A JP 07036392A JP 7036392 A JP7036392 A JP 7036392A JP 3525347 B2 JP3525347 B2 JP 3525347B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substrate
layer
recording layer
optical recording
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP07036392A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0581699A (en
Inventor
秀樹 平田
敏文 田中
節子 渋谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP07036392A priority Critical patent/JP3525347B2/en
Publication of JPH0581699A publication Critical patent/JPH0581699A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3525347B2 publication Critical patent/JP3525347B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、光記録ディスク、たと
えば書き換え可能型の光磁気記録ディスクや相変化タイ
プの光記録ディスク、さらには各種追記型の光記録ディ
スク等に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording disc, for example, a rewritable type magneto-optical recording disc, a phase change type optical recording disc, and various write-once type optical recording discs.

【0002】[0002]

【従来の技術】光記録ディスクは、基板上に記録層を設
層して構成され、その記録・再生に際しては、通常、基
板側からレーザビーム等を照射する。このため、用いる
基板は透明なもの、例えば、ガラスや樹脂等から構成さ
れる。このような場合、ディスクの軽量化や、トラッキ
ング用のグルーブやピット形成の容易さの点から、従来
光記録ディスクの基板としては樹脂製の基板が用いられ
ており、特に、ポリメチルメタクリレートとポリカーボ
ネートが汎用されている。
2. Description of the Related Art An optical recording disk is constructed by providing a recording layer on a substrate, and when recording / reproducing the disc, a laser beam or the like is usually irradiated from the substrate side. Therefore, the substrate used is made of a transparent material such as glass or resin. In such a case, a resin substrate is conventionally used as a substrate for an optical recording disc from the viewpoints of weight saving of the disc and ease of forming grooves and pits for tracking, and in particular, polymethylmethacrylate and polycarbonate are used. Is commonly used.

【0003】このうち、ポリメチルメタクリレートは光
弾性係数が小さく、複屈折が非常に小さいため、すぐれ
た光学特性をもっているが、吸水率が高く、耐熱性も低
いため、寸法安定性の面で劣っている。このため、吸水
率が小さく、耐熱性が比較的高いポリカーボネートが多
用されている。
Of these, polymethylmethacrylate has excellent optical properties because it has a small photoelastic coefficient and a very small birefringence, but it is inferior in terms of dimensional stability due to its high water absorption and low heat resistance. ing. Therefore, a polycarbonate having a low water absorption rate and a relatively high heat resistance is often used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、ポリカーボネ
ートは、光弾性係数が大きく、高分子鎖が流動方向に配
向しやすく、複屈折が大きくなりやすい。特に、近年、
より一層の高密度記録化や高転送レート化のため、20
0mm以上の直径の大径ディスクを用い、これを1800
rpm 以上の高速回転で記録再生を行なうことが試みられ
ているが、このような大径サイズでは、射出成形時に複
屈折が生じ、しかも高速回転時の応力の印加によって複
屈折がより一層大きくなってしまい、記録再生出力が低
下してしまう。
However, polycarbonate has a large photoelastic coefficient, polymer chains are easily oriented in the flow direction, and birefringence tends to be large. Especially in recent years
20 for higher density recording and higher transfer rate
Use a large disc with a diameter of 0 mm or more,
It has been attempted to perform recording and reproduction at a high speed rotation of rpm or more, but with such a large diameter size, birefringence occurs during injection molding, and the birefringence is further increased by the application of stress during high speed rotation. As a result, the recording / reproducing output is reduced.

【0005】また、吸水率も十分小さいものではないの
で、基板が吸水して反ったり、剛性が不十分であるため
面ブレが生じ、1800rpm 以上、特に3000rpm 以
上の高速回転駆動時には、フォーカストラッキングエラ
ーが増大してしまう。また、基板より水が侵入して、記
録層が腐食するという不都合もある。
Further, since the water absorption rate is not sufficiently small, the substrate absorbs water and warps, and the rigidity is insufficient, so that surface wobbling occurs and a focus tracking error occurs at a high speed rotation drive of 1800 rpm or more, particularly 3000 rpm or more. Will increase. In addition, there is also a disadvantage that water penetrates from the substrate and the recording layer is corroded.

【0006】一方、最近要求されるようになってきた高
速回転駆動、特に1800rpm 以上、さらに3000rp
m 以上の高速回転駆動に対応するためには、機械的強度
の高い基板を用いることを考えなければならない。
On the other hand, a high-speed rotation drive which has recently been demanded, particularly 1800 rpm or more, further 3000 rp
In order to support high-speed rotation drive of m or more, it is necessary to consider using a substrate with high mechanical strength.

【0007】しかし、ガラス製基板では誤って落とした
りぶつけたりした場合、破損する可能性がある。特に強
度の高い化学強化ガラスを用いたときには、ガラス小片
となって破損し、この小片が飛び散るという不都合もあ
る。また、ガラス基板では成形時にプレフォーマット情
報としてのグルーブ等を形成できず、工程増を招いてし
まう。
However, the glass substrate may be damaged if it is dropped or hit by mistake. Particularly, when chemically strengthened glass having high strength is used, there is also a disadvantage that it breaks into small glass pieces and the small pieces scatter. Further, in the case of a glass substrate, a groove or the like as preformat information cannot be formed at the time of molding, resulting in an increase in the number of steps.

【0008】一方記録層のヒッカキ等による機械的損傷
を防ぐためには、基板の記録層設層側に保護基板を設け
るか、一対の基板を記録層が内封されるように一体化す
る必要がある。
On the other hand, in order to prevent mechanical damage to the recording layer due to scratches or the like, it is necessary to provide a protective substrate on the recording layer side of the substrate or to integrate a pair of substrates so that the recording layers are enclosed. is there.

【0009】本発明の主たる目的は、面ブレや変形を生
じることがなく、安定した高速回転を行なうことがで
き、良好な記録再生特性と耐久性とを有する光記録ディ
スクを提供することにある。
A main object of the present invention is to provide an optical recording disk which can be stably rotated at a high speed without causing surface wobbling or deformation, and which has good recording / reproducing characteristics and durability. .

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(6)の本発明によって達成される。 (1) 樹脂製の基板と、ガラス製の保護基板とを有
し、この樹脂製の基板上に記録層を形成し、これを前記
ガラス製の保護基板と一体化した光記録ディスクであっ
て、前記樹脂が、下記化1で表わされる繰り返し構造単
位を有する環状ポリオレフィンを含むものであり、前記
基板は、アルキルフェノール縮合物を0.3〜2wt%含
有し、前記基板は記録層側表層部に、熱軟化点100〜
140℃のスキン層を有する光記録ディスク。
The above objects are achieved by the present invention described in (1) to (6) below. (1) An optical recording disk comprising a resin substrate and a glass protective substrate, wherein a recording layer is formed on the resin substrate, and the recording layer is integrated with the glass protective substrate. The resin contains a cyclic polyolefin having a repeating structural unit represented by the following chemical formula 1, the substrate contains 0.3 to 2 wt% of an alkylphenol condensate, and the substrate is a recording layer side surface layer portion. , Heat softening point 100 to
An optical recording disc having a skin layer of 140 ° C.

【0011】[0011]

【化2】 [Chemical 2]

【0012】(2) 前記光記録ディスクの記録再生に
際して、前記基板の回転を1800〜5400rpm にて
行なう上記(1)に記載の光記録ディスク。 (3) 前記基板は、前記環状ポリオレフィンを射出成
形したものである上記(1)または(2)に記載の光記
録ディスク。 (4) 前記基板は、前記スキン層の熱軟化点と、この
熱軟化点より10〜50℃以上高い第2の熱軟化点とを
有する上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の光記
録ディスク。 (5) 前記記録層が色素を含有し、この記録層上に反
射層を有する上記(1)ないし(4)のいずれかに記載
の光記録ディスク。 (6) 前記記録層は金属を含有し、前記基板上に直接
または下地層を介して設層されており、前記下地層は無
機薄膜から構成されたものであるか、または誘電体物質
から形成されたものであり、前記記録層または下地層は
気相成膜法により形成されている上記(1)ないし
(4)のいずれかに記載の光記録ディスク。
(2) The optical recording disk according to the above (1), wherein the substrate is rotated at 1800 to 5400 rpm during recording and reproduction of the optical recording disk. (3) The optical recording disk according to (1) or (2) above, wherein the substrate is an injection-molded product of the cyclic polyolefin. (4) The substrate according to any one of (1) to (3) above, which has a thermal softening point of the skin layer and a second thermal softening point higher by 10 to 50 ° C. or more than the thermal softening point. Optical recording disc. (5) The optical recording disc according to any one of (1) to (4) above, wherein the recording layer contains a dye and a reflective layer is provided on the recording layer. (6) The recording layer contains a metal and is formed on the substrate directly or via an underlayer, and the underlayer is composed of an inorganic thin film or is formed of a dielectric material. The optical recording disc according to any one of (1) to (4) above, wherein the recording layer or the underlayer is formed by a vapor phase film forming method.

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【0018】[0018]

【0019】[0019]

【0020】[0020]

【0021】[0021]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
Specific Structure The specific structure of the present invention will be described in detail below.

【0022】本発明における基板は、記録光および再生
光(600〜900nm程度、特に700〜800nm程度
の半導体レーザー光、特に780nm)に対し、実質的に
透明(好ましくは透過率80%以上)な樹脂から形成さ
れる。これにより、基板裏面側からの記録および再生が
可能となる。
The substrate in the present invention is substantially transparent (preferably a transmittance of 80% or more) to recording light and reproducing light (semiconductor laser light of about 600 to 900 nm, particularly 700 to 800 nm, especially 780 nm). Formed from resin. This enables recording and reproduction from the back side of the substrate.

【0023】基板材質としては、下記化3をくり返し構
造単位とする環状ポリオレフィンを用いる。
As the substrate material, a cyclic polyolefin having a repeating structural unit represented by the following chemical formula 3 is used.

【0024】[0024]

【化3】 [Chemical 3]

【0025】前記化3において、R1 およびR2 は、な
かでも炭化水素残基であることが好ましく、特に、炭素
数1〜5の非置換のアルキル基であることが好ましい。
用いる環状ポリオレフィンは、このような化3のくり返
し単位のなかの同一の単位のみからなるホモポリマーで
あることが好ましいが、R1 、R2 あるいはq の異なる
化3のくり返し単位の複数からなるコポリマーであって
もよい。また、場合によっては、これに加え他の構造単
位、例えばエチレン等を含むコポリマーであってもよ
い。そして、その数平均分子量は、5千〜10万、特に
1万〜4万であることが好ましい。
In the above chemical formula 3, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon residues, and particularly preferably an unsubstituted alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
The cyclic polyolefin used is preferably a homopolymer consisting of only the same repeating unit of the chemical formula 3, but a copolymer consisting of a plurality of repeating units of the chemical formula 3 having different R 1 , R 2 or q. May be In addition, depending on the case, it may be a copolymer containing other structural units such as ethylene. The number average molecular weight is preferably 5,000 to 100,000, and particularly preferably 10,000 to 40,000.

【0026】なお、化3において、ハロゲン原子、エス
テル基、ニトリル基、ピリジル基は以下において極性基
と称することもある。
In the chemical formula 3, the halogen atom, ester group, nitrile group and pyridyl group may be referred to as polar groups below.

【0027】このような環状ポリオレフィンは、単量体
として、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルお
よび/またはアルキリデン置換体、例えば、5−メチル
−2−ノルボルネン、5,6−ジメチル−2−ノルボル
ネン、5−エチル−2−ノルボルネン、5−ブチル−2
−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボルネン
等:ジシクロペンタジエン、2,3−ジヒドロジシクロ
ペンタジエン、これらのメチル、エチル、プロピル、ブ
チル等のアルキル置換体、およびハロゲン等の極性基置
換体:ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキル
および/またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等
の極性基置換体、例えば、6−メチル−1,4:5,8
−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オ
クタヒドロナフタレン、6−エチル−1,4:5,8−
ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オク
タヒドロナフタレン、6−エチリデン−1,4:5,8
−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オ
クタヒドロナフタレン、6−クロロ−1,4:5,8−
ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オク
タヒドロナフタレン、6−シアノ−1,4:5,8−ジ
メタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタ
ヒドロナフタレン、6−ピリジル−1,4:5,8−ジ
メタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタ
ヒドロナフタレン、6−メトキシカルボニル−1,4:
5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8
a−オクタヒドロナフタレン等;シクロペンタジエンの
3〜4量体、例えば、4,9:5,8−ジメタノ−3
a,4,4a,5,8,8a,9,9a−オクタヒドロ
−1H−ベンゾインデン、4,11:5,10:6,9
−トリメタノ−3a,4,4a,5,5a,6,9,9
a,10,10a,11,11a−ドデカヒドロ−1H
−シクロペンタアントラセン等を使用し、公知の開環重
合方法により重合して得られる開環重合体を、通常の水
素添加方法により水素添加して製造される飽和重合体で
ある。
Such a cyclic polyolefin is used as a monomer, for example, norbornene, and an alkyl- and / or alkylidene-substituted product thereof, for example, 5-methyl-2-norbornene, 5,6-dimethyl-2-norbornene, 5 -Ethyl-2-norbornene, 5-butyl-2
-Norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene, etc .: dicyclopentadiene, 2,3-dihydrodicyclopentadiene, alkyl substitution products thereof such as methyl, ethyl, propyl, butyl, and polar group substitution products such as halogen: di Methanooctahydronaphthalene, alkyl and / or alkylidene substituents thereof, and polar group substituents such as halogen, for example, 6-methyl-1,4: 5,8
-Dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-ethyl-1,4: 5,8-
Dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-ethylidene-1,4: 5,8
-Dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-chloro-1,4: 5,8-
Dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-cyano-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8, 8a-octahydronaphthalene, 6-pyridyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-methoxycarbonyl-1,4:
5,8-Dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8
a-octahydronaphthalene and the like; cyclopentadiene trimer and tetramer, for example, 4,9: 5,8-dimethano-3.
a, 4,4a, 5,8,8a, 9,9a-octahydro-1H-benzoindene, 4,11: 5,10: 6,9
-Trimethano-3a, 4,4a, 5,5a, 6,9,9
a, 10,10a, 11,11a-dodecahydro-1H
A saturated polymer produced by hydrogenating a ring-opening polymer obtained by polymerizing by a known ring-opening polymerization method using cyclopentaanthracene and the like.

【0028】なお、このような環状ポリオレフィンにつ
いては、特開平3−223341号公報、特開昭60−
26024号公報等に記載されている。この環状ポリオ
レフィンは、市販品を用いてもよく、例えば日本ゼオン
社製Zeonex 280等として市販されているものを用いるこ
とができる。
Regarding such a cyclic polyolefin, JP-A-3-223341 and JP-A-60-
It is described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 26024. As this cyclic polyolefin, a commercially available product may be used, and for example, a commercially available product such as Zeonex 280 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. can be used.

【0029】本発明においては、一対の基板のうち保護
基板をガラス製、記録層設層用の基板を環状ポリオレフ
ィン製とする軽量かつ剛性の光記録ディスクを実現する
ことができ、しかも十分な信頼性を得ることができる。
According to the present invention, a lightweight and rigid optical recording disk can be realized in which the protective substrate of the pair of substrates is made of glass and the substrate for the recording layer is made of cyclic polyolefin, and sufficient reliability is achieved. You can get sex.

【0030】そして、本発明の光記録ディスクによれ
ば、1800rpm 以上、特に3000rpm 以上の安定な
高速回転駆動を容易に行うことができ、その際面ブレや
変形も防止することができる。また、一方の基板は樹脂
製であるため、光記録ディスクを落としたりしたときの
破損や、破損したときのガラス飛散も防止することがで
きる。
Further, according to the optical recording disk of the present invention, stable high-speed rotation drive of 1800 rpm or more, particularly 3000 rpm or more can be easily performed, and at the time, surface wobbling and deformation can be prevented. Further, since one of the substrates is made of resin, it is possible to prevent damage when the optical recording disk is dropped or glass scattering when the optical recording disk is damaged.

【0031】特に、環状ポリオレフィン製の基板上に記
録層等を形成し、これをガラス製の保護基板と一体化し
た光記録ディスクによれば、記録・再生上の障害となる
複屈折を防止することができる。そして記録・再生を行
う環状ポリオレフィン製基板側は、耐熱性、耐湿性に優
れるため、高温ないし低温および、高湿ないし低湿下で
の長期間の保存によっても変形や変質等がほとんど生じ
ない。特に、環状ポリオレフィンの吸水率が小さいの
で、記録層が水分から保護され、基板自身の吸水による
反りもないので、面ブレが効果的に防止できる。
Particularly, according to an optical recording disk in which a recording layer or the like is formed on a substrate made of a cyclic polyolefin and this is integrated with a protective substrate made of glass, birefringence which is an obstacle to recording and reproduction is prevented. be able to. Since the cyclic polyolefin substrate side on which recording / reproduction is performed is excellent in heat resistance and moisture resistance, it is hardly deformed or deteriorated even when it is stored at a high temperature or a low temperature and a high humidity or a low humidity for a long period of time. In particular, since the cyclic polyolefin has a low water absorption rate, the recording layer is protected from moisture, and the substrate itself does not warp due to water absorption, so that surface wobbling can be effectively prevented.

【0032】このような基板の厚さは1.0〜1.5mm
程度とする。また、基板の径には特に制限はないが、2
00mm 以上の直径としても面ブレはきわめて少ない。
なお、基板表面には、成形時に、グルーブやピット等の
プレフォーマット情報等のパターンを容易に形成するこ
とができる。
The thickness of such a substrate is 1.0 to 1.5 mm
The degree. The diameter of the substrate is not particularly limited, but 2
Even with a diameter of 00 mm or more, surface wobbling is extremely small.
It should be noted that a pattern such as preformat information such as grooves and pits can be easily formed on the surface of the substrate during molding.

【0033】また、基板には、ハブが一体化されていて
もよい。ハブには、割れやクラック防止のため、ガラス
繊維を混入することが好ましい。
A hub may be integrated with the substrate. It is preferable to mix glass fiber into the hub in order to prevent cracks and cracks.

【0034】このような基板の記録層設層側の表層部に
はスキン層が存在し、このスキン層の熱軟化点は、14
0℃以下、特に100〜140℃、より好ましくは10
0〜135℃、さらに好ましくは110〜135℃であ
ることが好ましい。熱軟化点が140℃以下となると、
基板と、特に気相成膜法による記録層等との密着性が向
上し、また色素記録層に反射層を積層するような場合、
記録感度が向上し、C/Nが向上する。ただし、100
℃未満となると、例えば反射層積層時の耐熱性に問題が
生じたり、寸法精度が低下したり、記録層の塗布性が低
下してきたりする。この場合、表層部のスキン層の熱軟
化点とは、下記のように測定された温度である。まず、
被検基板の上に針を置いて、5g 程度の荷重を加え、昇
温速度2℃/min程度で、30℃程度から昇温していっ
て、針の進入量を測定する。針の断面は直径1mm程度の
円柱形とする。
A skin layer exists on the surface layer portion of the substrate on the recording layer side, and the thermal softening point of this skin layer is 14
0 ° C or lower, particularly 100 to 140 ° C, more preferably 10
The temperature is preferably 0 to 135 ° C, more preferably 110 to 135 ° C. When the thermal softening point becomes 140 ° C or lower,
In the case where the adhesion between the substrate and the recording layer or the like by the vapor phase film forming method is improved, and a reflective layer is laminated on the dye recording layer,
Recording sensitivity is improved and C / N is improved. However, 100
If the temperature is lower than 0 ° C., for example, heat resistance during lamination of the reflective layer may be deteriorated, dimensional accuracy may be lowered, or coating property of the recording layer may be lowered. In this case, the thermal softening point of the skin layer of the surface layer portion is the temperature measured as described below. First,
The needle is placed on the substrate to be inspected, a load of about 5 g is applied, the temperature is raised from about 30 ° C. at a heating rate of about 2 ° C./min, and the amount of penetration of the needle is measured. The cross section of the needle is a cylinder with a diameter of about 1 mm.

【0037】[0037]

【0035】このように測定される温度と針進入量との
関係が図1に示される。図1に示されるように、本発明
の基板では、針進入量の温度特性プロファイルにおい
て、第1の屈曲点と第2の屈曲点とが生じる。
The relationship between the temperature thus measured and the needle entry amount is shown in FIG. As shown in FIG. 1, in the substrate of the present invention, a first bending point and a second bending point occur in the temperature characteristic profile of the needle entry amount.

【0036】例えば、注型基板や、ある種の射出成形基
板では、針進入量の温度特性には1つの屈曲点しか現わ
れないか、あるいは第1の屈曲点はわずかにしか現われ
ない。また、第1の屈曲点によって生じる1段目の針進
入量は、概ね200μm 程度以下である。従って、これ
らから第1の屈曲点は、基板表層のスキン層の軟化点に
由来するものと考えられる。
For example, in a cast substrate or a certain type of injection-molded substrate, only one bending point appears in the temperature characteristic of the needle penetration amount, or the first bending point appears only slightly. In addition, the needle entry amount in the first step caused by the first bending point is approximately 200 μm or less. Therefore, it is considered that the first bending point is derived from the softening point of the skin layer on the surface layer of the substrate.

【0037】そこで、温度特性プロファイルの第1の屈
曲点近傍にて、針進入前の直線部と、1段目の進入時の
直線部との交点をT1 とし、これをスキン層の熱軟化点
1と定義する。そして、本発明では、このT1 を前記
のとおり規制するものである。
Therefore, in the vicinity of the first bending point of the temperature characteristic profile, the intersection point of the straight line portion before the needle entry and the straight line portion at the time of the first entry is set to T 1, and this is the heat softening of the skin layer. It is defined as a point T 1 . In the present invention, this T 1 is regulated as described above.

【0038】一方、第2の屈曲点近傍においても、1段
目の進入時と2段目の進入時との直線部の交点をT2
し、これを第2の熱軟化点T2と定義する。この第2の
熱軟化点T2 は、基板中心部での熱軟化点であると考え
られる。
On the other hand, in the second bending point near the intersection of the linear portion of the time of the first stage enters at the second stage enters a T 2, which defines a second heat softening point T 2 To do. This second thermal softening point T 2 is considered to be the thermal softening point at the center of the substrate.

【0039】そして、この第2の熱軟化点T2 は、第1
の熱軟化点T1 より10℃以上、より好ましくは10〜
50℃高い温度であり、140℃以上、特に145〜1
80℃の温度であると好ましい。これにより、寸法精度
や機械的特性や耐熱性等がすぐれたものとなる。
The second heat softening point T 2 is the first
10 ° C or more from the heat softening point T 1 of , more preferably 10
50 ° C higher temperature, 140 ° C or higher, especially 145-1
A temperature of 80 ° C. is preferred. As a result, dimensional accuracy, mechanical characteristics, heat resistance, etc. are excellent.

【0040】なお、スキン層は、基板表層部断面のSE
M像からも、周囲と色の異なる層として確認でき、その
厚さは、一般に1〜200μm 、特に10〜100μm
程度であると考えられる。また、前記の針進入量の温度
特性プロファイルは、TMA(熱機械分析装置、サーモ
メカニカルアナライザー)として市販されている各種装
置、例えばデュポン社製943熱機械分析装置等によっ
て測定すればよい。
The skin layer is an SE of the substrate surface layer section.
It can be confirmed from the M image as a layer having a color different from the surroundings, and the thickness thereof is generally 1 to 200 μm, particularly 10 to 100 μm.
Considered to be degree. The temperature characteristic profile of the needle penetration amount may be measured by various devices commercially available as TMA (thermomechanical analyzer, thermomechanical analyzer), for example, 943 thermomechanical analyzer manufactured by DuPont.

【0041】このようなスキン層を形成するには、上記
の環状ポリオレフィンを射出成形することが好ましい。
In order to form such a skin layer, it is preferable to injection-mold the above cyclic polyolefin.

【0042】そして、これらは、例えば注型したとき、
前記の第2の熱軟化点T2 をもつものとする。
These are, for example, when cast.
It has the second thermal softening point T 2 described above.

【0043】射出成形時にスキン層を形成するには、射
出圧を250〜400kg/cm2程度に設定することが好ま
しい。そして、溶融温度は300〜400℃程度、金型
温度は90〜120℃程度とし、その他、保圧や型締力
等は通常の条件とすればよい。また、後述のアルキルフ
ェノール縮合物等の添加量によってもT1 は変化する。
In order to form a skin layer during injection molding, it is preferable to set the injection pressure to about 250 to 400 kg / cm 2 . The melting temperature may be about 300 to 400 ° C., the mold temperature may be about 90 to 120 ° C., and the holding pressure and the mold clamping force may be set under normal conditions. Further, T 1 also changes depending on the amount of addition of the alkylphenol condensate described below.

【0044】なお、必要に応じ、基板2の外表面や、外
周面等に酸素遮断性の被膜を形成してもよい。また、基
板2の記録層3形成面には、トラッキング用のグルーブ
が、形成されてもよい。
If necessary, an oxygen barrier film may be formed on the outer surface of the substrate 2, the outer peripheral surface, or the like. A tracking groove may be formed on the surface of the substrate 2 on which the recording layer 3 is formed.

【0045】このような基板の樹脂には、アルキルフェ
ノール縮合物の1種以上が添加される。アルキルフェノ
ール縮合物としては化4で示されるものが好ましい。
One or more alkylphenol condensates are added to the resin of such a substrate. As the alkylphenol condensate, the one represented by Chemical formula 4 is preferable.

【0046】[0046]

【化4】 (ただし、Rは、イソブチル基、イソヘキシル基、イ
ソヘプチル基、イソオクチル基、イソノニル基、2,4−
ジメチルヘプチル基、デシル基、イソドデシル基、テト
ラデシル基、シクロヘキシル基、オレイル基、カプロイ
ル基またはラウロイル基、Aは、p−フェニレン基、o−
メチル−p−フェニレン基またはo −, m −ジイソブチル
p −フェニレン基、Lは、2−ヒドロキシ−n−プロペノ
キシ基、エテノキシ基または1 −メチル−エテノキシ
基、nは、1〜30の整数、Yは、水素またはカルボキシメ
チル基を表す。)
[Chemical 4] (However, R 1 is an isobutyl group, an isohexyl group, an isoheptyl group, an isooctyl group, an isononyl group, 2,4-
Dimethylheptyl group, decyl group, isododecyl group, tetradecyl group, cyclohexyl group, oleyl group, caproyl group or lauroyl group, A is p-phenylene group, o-
Methyl-p-phenylene group or o- , m -diisobutyl
- p - phenylene group, L is 2-hydroxy -n- propenoxy group, ethenoxy group or 1 - methyl - ethenoxy
Group, n represents an integer of 1 to 30, and Y represents hydrogen or a carboxymethyl group. )

【0047】上記において、R1 は、炭素数3〜30程
度の置換または非置換の直鎖あるいは分岐を有するアル
キル基が好ましく、これらが基換基を有する場合の置換
基としてはヒドロキシ基等が好ましい。
In the above, R 1 is preferably a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having about 3 to 30 carbon atoms, and when these have a substituent, a hydroxy group or the like is used as the substituent. preferable.

【0048】またAは、特に、p−フェニレン基が好ま
しい。ここで、Aで表わされるフェニレン基には、炭素
数1〜10程度の直鎖のあるいは分岐したアルキル基等
の置換基が結合したり、後述の−O−Ln −Yがさらに
結合したりしていてもよい。
Further, A is particularly preferably a p-phenylene group. Here, the phenylene group represented by A, or bonded to a substituent such as or branched alkyl group having a straight chain of 1 to 10 carbon atoms, or further binding -O-L n -Y below You may have.

【0049】Lは、アルキレンオキシ基−R2 O−が好
ましい。この場合、R2 は炭素数1〜5程度、好ましく
は1〜3の置換または非置換の直鎖または分岐を有する
アルキレン基であり、これらが基換基を有するときの置
換基としては、ヒドロキシ基等が好ましい。アルキルオ
キシ基またはエポキシ基Lのくり返し数nは、1〜30
程度、特に1〜20の整数である。
L is preferably an alkyleneoxy group --R 2 O--. In this case, R 2 is a substituted or unsubstituted linear or branched alkylene group having about 1 to 5 carbon atoms, preferably 1 to 3 carbon atoms, and when these have a substituent, the substituent is hydroxy. A group and the like are preferable. The number of repetitions n of the alkyloxy group or epoxy group L is 1 to 30.
The degree is an integer of 1 to 20, in particular.

【0050】[0050]

【0051】このようなアルキルフェノール縮合物の具
体的例を表1に示す。
Table 1 shows specific examples of such alkylphenol condensates.

【0052】[0052]

【表1】 [Table 1]

【0053】これらのアルキルフェノール縮合物を得る
には、通常のノニオン界面活性剤の製法に従って、プロ
ピレンあるいはブチレン等の重合物をフェノールと縮合
した後にエチレンオキサイド等と反応させればよい。こ
の際、プロピレンやブチレン等のかわりに長鎖のオレフ
ィンを用いることもできる。
In order to obtain these alkylphenol condensates, a polymer such as propylene or butylene may be condensed with phenol and then reacted with ethylene oxide or the like in accordance with a usual method for producing a nonionic surfactant. At this time, a long-chain olefin can be used instead of propylene, butylene, or the like.

【0054】本発明で用いるアルキルフェノール縮合物
の分解温度は250℃〜350℃、より好ましくは29
0℃〜340℃(DSC)が好適である。分解温度が、
この範囲未満では成形時にガスが多量に発生してしまっ
たり、基板のガラス転移点が低下してしまう。また、こ
の範囲をこえると、相溶性が悪くなる傾向にある。
The decomposition temperature of the alkylphenol condensate used in the present invention is 250 ° C to 350 ° C, more preferably 29 ° C.
A temperature of 0 ° C to 340 ° C (DSC) is preferable. The decomposition temperature is
If it is less than this range, a large amount of gas is generated during molding, or the glass transition point of the substrate is lowered. Further, if it exceeds this range, the compatibility tends to deteriorate.

【0055】本発明では、基板は、前記の条件で射出成
形されるのが好ましい。そして、アルキルフェノール縮
合物は、基板製造時に用いる射出成形機に充填する樹脂
ペレットに含有させることが好ましい。樹脂ペレットを
射出成形する際、樹脂ペレット中に含有させたアルキル
フェノール縮合物の96%〜100%が基板中に残存す
るので、基板物性の設計を精度よく行なうことができ
る。
In the present invention, the substrate is preferably injection molded under the above conditions. Then, the alkylphenol condensate is preferably contained in the resin pellets filled in the injection molding machine used for manufacturing the substrate. Since 96% to 100% of the alkylphenol condensate contained in the resin pellet remains in the substrate when the resin pellet is injection-molded, the physical properties of the substrate can be accurately designed.

【0056】本発明では、アルキルフェノール縮合物の
基板樹脂中の含有量は0.3〜2wt% であり、好ましく
は、0.5〜1.5wt% とするのが好適である。この範
囲をこえると、成形時に、基板中にガスが発生し、光記
録媒体の品質が低下する。
In the present invention, the content of the alkylphenol condensate in the substrate resin is 0.3 to 2% by weight, preferably 0.5 to 1.5% by weight. If it exceeds this range, gas is generated in the substrate during molding, and the quality of the optical recording medium deteriorates.

【0057】また、追記型の光記録ディスクなど色素等
の塗布膜を記録層とする場合には、アルキルフェノール
縮合物の含有量が多くなると、記録層の色素の塗布が困
難となるので、アルキルフェノール縮合物の含有量は2
wt%を上限とし、含有量が少ない方が塗布性の点で好適
である。ただし、たとえば、書き換え可能な他の光磁気
記録ディスクや光記録ディスクのように、気相成膜法等
で記録層を設層する場合や、あるいは色素等の塗布膜を
設けるときであっても、この上に気相成膜法によって反
射層を設層する場合等には、基板と記録層等との密着性
を向上するために、アルキルフェノール縮合物を添加す
る。また、アルキルフェノール縮合物の添加によって、
射出成形性が向上し、成形時に樹脂の流動性等が良好と
なる。
Further, when a coating film of a dye or the like such as a write-once type optical recording disk is used as the recording layer, if the content of the alkylphenol condensate increases, it becomes difficult to coat the dye in the recording layer. Content of material is 2
The upper limit is wt% and the lower the content, the better in terms of coating properties. However, even when a recording layer is formed by a vapor phase film forming method or when a coating film of a dye or the like is provided like another rewritable magneto-optical recording disk or optical recording disk. When a reflective layer is formed thereon by a vapor deposition method, an alkylphenol condensate is added to improve the adhesion between the substrate and the recording layer. In addition, by the addition of alkylphenol condensate,
The injection moldability is improved, and the fluidity of the resin during molding becomes good.

【0058】従って、アルキルフェノール縮合物の添加
量の下限は、0.3wt% 程度とする。0.3wt% 未満で
は、特に、記録層等を気相成膜法によって成膜する場
合、高温高湿下に長時間保存されたりすると記録層等の
剥離が生じてくる。そのようなアルキルフェノール縮合
物は、一般に樹脂の滑剤として機能する。
Therefore, the lower limit of the addition amount of the alkylphenol condensate is about 0.3 wt%. If it is less than 0.3 wt%, peeling of the recording layer or the like occurs when it is stored under high temperature and high humidity for a long time, particularly when the recording layer or the like is formed by a vapor deposition method. Such alkylphenol condensates generally function as a resin lubricant.

【0059】本発明では、基板中に、アルキルフェノー
ル縮合物以外の滑剤を、実質的に、特に、全く含有させ
ないことが好ましい。このような滑剤としてはエステル
系、例えばグリセリンモノエステル、グリセリンジエス
テル、パルミチン酸エステル、エチレングリコールモノ
エステル等;脂肪酸系、例えばステアリン酸、ベヘニン
酸、アラキジン酸等;脂肪酸アミド系、例えばエルシン
酸アミド、エイコセン酸アミド等が挙げられる。これら
の滑剤を含有させると、色素膜の塗布性が低下してしま
う。
In the present invention, it is preferable that the substrate contains substantially no lubricant other than the alkylphenol condensate, in particular. Examples of such lubricants include ester-based lubricants such as glycerin monoester, glycerin diester, palmitic acid ester, ethylene glycol monoester, etc .; fatty acid-based additives such as stearic acid, behenic acid, arachidic acid, etc .; fatty acid amide-based additives such as erucinamide. Examples thereof include eicosenoic acid amide. If these lubricants are contained, the coatability of the dye film will decrease.

【0060】なお、基板樹脂中には安定剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤等が含有されていてもよい。
The substrate resin may contain stabilizers, antioxidants, ultraviolet absorbers and the like.

【0061】このような基板上には、直接、あるいは適
当な下地層ないし中間層を介して記録層が設けられる。
また記録層上には必要に応じ、保護層や反射層等が設け
られ、種々の光記録ディスク構造とされる。
A recording layer is provided on such a substrate directly or through an appropriate underlayer or intermediate layer.
If necessary, a protective layer, a reflective layer, or the like is provided on the recording layer to form various optical recording disc structures.

【0062】この場合、光記録ディスクとしては、変調
された熱ビームあるいは変調された磁界により、情報が
磁気的に記録され、記録情報を磁気−光変換して再生す
る、いわゆる光磁気記録ディスクや、いわゆる相変化型
の記録層を有し、反射率変化により記録・再生を行なう
光記録ディスク等の消去可能型のディスクや、エアーサ
ンドイッチ構造を有し、ピット形成により反射率変化を
生じる、いわゆるピット形成型の記録層を有する光記録
ディスク、あるいはこれに反射層を密着して設けたコン
パクトディスク(CD)やレーザーディスク(LD)規
格対応の光記録ディスク等の追記型ディスクなどのいず
れであってもよい。
In this case, the optical recording disk is a so-called magneto-optical recording disk in which information is magnetically recorded by a modulated heat beam or a modulated magnetic field and the recorded information is magnetically-optically converted and reproduced. , Which has a so-called phase-change type recording layer and has an erasable disc such as an optical recording disc for recording / reproducing by changing the reflectance, or an air sandwich structure, which causes a reflectance change by pit formation, It is either an optical recording disk having a pit formation type recording layer, or a write-once type disk such as a compact disk (CD) or a laser disk (LD) standard compliant optical recording disk in which a reflection layer is closely adhered. May be.

【0063】このような光記録ディスクは、1800rp
m 以上の回転数にて回転され、記録再生が行なわれる。
1800rpm 未満の回転数では、本発明の出力向上ない
しノイズ低減効果は顕在化しない。なお、回転数の上限
は、一般に、5400rpm 程度であり、回転方式はCA
Vであっても、CLVであってもよい。
Such an optical recording disc is 1800rp.
It is rotated at a rotation speed of m or more, and recording / reproduction is performed.
When the rotation speed is less than 1800 rpm, the effect of improving the output or reducing noise of the present invention does not become apparent. The upper limit of the rotation speed is generally about 5400 rpm, and the rotation method is CA.
It may be V or CLV.

【0064】本発明の光記録媒体1の好適例が図2に示
される。この光記録媒体1は基板2上に記録層3を有す
る光磁気記録ディスクである。
A preferred example of the optical recording medium 1 of the present invention is shown in FIG. This optical recording medium 1 is a magneto-optical recording disk having a recording layer 3 on a substrate 2.

【0065】図2に示される光磁気記録ディスクにおい
て、基板2上には、下地層としての保護層4、中間層5
を介して記録層3が形成されている。中間層5は、C/
N比を向上させるために設けられ、各種誘電体物質から
形成されることが好ましく、その層厚は30〜150nm
程度であることが好ましい。また保護層4とともに記録
層3の上にも保護層6を設けることもできる。併用する
場合には、保護層4と保護層6の組成は同一であっても
異っていてもよい。必要に応じて設けられる保護層4お
よび保護層6は、記録層3の耐食性向上のために設けら
れるものであり、これらは少なくとも一方、好ましくは
両方が設けられることが好ましい。
In the magneto-optical recording disk shown in FIG. 2, a protective layer 4 as an underlayer and an intermediate layer 5 are formed on a substrate 2.
The recording layer 3 is formed via. The intermediate layer 5 is C /
It is provided to improve the N ratio, and is preferably formed of various dielectric materials, and its layer thickness is 30 to 150 nm.
It is preferably about the same. Further, the protective layer 6 may be provided on the recording layer 3 together with the protective layer 4. When used in combination, the compositions of the protective layer 4 and the protective layer 6 may be the same or different. The protective layer 4 and the protective layer 6, which are provided as necessary, are provided for improving the corrosion resistance of the recording layer 3, and it is preferable that at least one of them, and preferably both of them be provided.

【0066】これら保護層は、各種酸化物、炭化物、窒
化物、硫化物あるいはこれらの混合物からなる無機薄膜
から構成されることが好ましい。また、保護層4、6
は、上記の中間層材質で形成してもよい。保護層の層厚
は30〜300nm程度であることが耐食性向上の点から
好ましい。このような保護層4、6や中間層5は、スパ
ッタ、蒸着、イオンプレーティング等の各種気相成膜
法、特にスパッタによって形成されることが好ましい。
These protective layers are preferably composed of an inorganic thin film made of various oxides, carbides, nitrides, sulfides or mixtures thereof. In addition, the protective layers 4 and 6
May be formed of the above intermediate layer material. The thickness of the protective layer is preferably about 30 to 300 nm from the viewpoint of improving corrosion resistance. The protective layers 4 and 6 and the intermediate layer 5 are preferably formed by various vapor phase film forming methods such as sputtering, vapor deposition, and ion plating, and particularly by sputtering.

【0067】記録層3は、変調された熱ビームあるいは
変調された磁界により、情報が磁気的に記録されるもの
であり、記録情報は磁気−光変換して再生されるもので
ある。
Information is magnetically recorded on the recording layer 3 by a modulated heat beam or a modulated magnetic field, and the recorded information is magnetic-optically converted and reproduced.

【0068】記録層3は、光磁気記録が行なえるもので
あればその材質に特に制限はないが、希土類金属元素を
含有する合金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、
スパッタ、蒸着、イオンプレーティング等、特にスパッ
タにより、非晶質膜として形成したものであることが好
ましい。希土類金属としては、Tb、Dy、Nd、G
d、Sm、Ceのうちの1種以上を用いることが好まし
い。遷移金属としては、FeおよびCoが好ましい。
The material of the recording layer 3 is not particularly limited as long as it can perform magneto-optical recording, but an alloy containing a rare earth metal element, particularly an alloy of a rare earth metal and a transition metal is used.
It is preferably formed as an amorphous film by sputtering, vapor deposition, ion plating, etc., particularly by sputtering. Rare earth metals include Tb, Dy, Nd, G
It is preferable to use at least one of d, Sm, and Ce. Fe and Co are preferable as the transition metal.

【0069】この場合、FeとCoの総含有量は、65
〜85at%であることが好ましい。して、残部は実質的
に希土類金属である。好適に用いられる記録層の組成と
しては、TbFeCo、DyTbFeCo、NdDyF
eCo、NdGdFeCo等がある。なお、記録層中に
は、10at%以下の範囲でCr、Al、Ti、Pt、S
i、Mo、Mn、V、Ni、Cu、Zn、Ge、Au等
が含有されてもよい。また、10at%以下の範囲で、S
c、Y、La、Ce、Pr、Pm、Sm、Eu、Ho、
Er、Tm、Yb、Lu等の他の希土類金属元素を含有
してもよい。
In this case, the total content of Fe and Co is 65
It is preferably ˜85 at%. And the balance is substantially a rare earth metal. The composition of the recording layer preferably used is TbFeCo, DyTbFeCo, NdDyF.
Examples include eCo and NdGdFeCo. In the recording layer, Cr, Al, Ti, Pt, S in the range of 10 at% or less is used.
i, Mo, Mn, V, Ni, Cu, Zn, Ge, Au, etc. may be contained. In the range of 10 at% or less, S
c, Y, La, Ce, Pr, Pm, Sm, Eu, Ho,
Other rare earth metal elements such as Er, Tm, Yb and Lu may be contained.

【0070】このような記録層3の層厚は、通常、10
〜1000nm程度である。
The layer thickness of the recording layer 3 is usually 10
It is about 1000 nm.

【0071】このような記録層3や、下地層としての中
間層5をスパッタ等の気相成膜法で設層しても、記録層
3や中間層5の基板2からの膜はがれを効果的に防止す
ることができる。
Even if the recording layer 3 and the intermediate layer 5 as the underlayer are formed by a vapor phase film forming method such as sputtering, the film peeling of the recording layer 3 and the intermediate layer 5 from the substrate 2 is effectively obtained. Can be prevented.

【0072】保護層6上には、保護コート7が設層され
ることが好ましい。保護コート7は、例えば紫外線硬化
樹脂等の各種樹脂材質から、通常は、0.1〜100μ
m程度の厚さに設層すればよい。保護コート7は、層状
であってもシート状であってもよい。保護コート7は、
特に放射線硬化型化合物および光重合増感剤を含有する
塗膜を放射線硬化したものであることが好ましい。
A protective coat 7 is preferably provided on the protective layer 6. The protective coat 7 is made of various resin materials such as an ultraviolet curable resin, and is usually 0.1 to 100 μm.
The layer may be formed to a thickness of about m. The protective coat 7 may be layered or sheet-shaped. The protective coat 7 is
In particular, a coating film containing a radiation-curable compound and a photopolymerization sensitizer is preferably radiation-cured.

【0073】保護コート7上に接着される保護基板11
は、記録層3の損傷等を有効に防止するために設けられ
るものである。
Protective substrate 11 adhered on protective coat 7
Is provided in order to effectively prevent damage to the recording layer 3.

【0074】そして、樹脂製の基板2に用いる保護基板
11はガラス製とする。このように一対の基板2を環状
ポリオレフィン製、保護基板11をガラス製とすること
により、軽量でしかも高い剛性を有するディスクが得ら
れる。このため面ブレのない安定した高速回転駆動、例
えば3000rpm 以上の回転駆動を行うことができる。
さらに、一方の基板が樹脂製であるため、ディスクを落
としたりしたときの破損の防止や、割れた場合のガラス
飛散の防止も図ることができる。また、複屈折の防止や
耐候性耐久性の向上に加え、高速回転駆動時の面ブレを
一層低減することができる。
The protective substrate 11 used for the resin substrate 2 is made of glass. By thus forming the pair of substrates 2 from cyclic polyolefin and the protective substrate 11 from glass, it is possible to obtain a disc that is lightweight and has high rigidity. Therefore, stable high-speed rotation drive without surface wobbling, for example, rotation drive at 3000 rpm or more can be performed.
Furthermore, since one of the substrates is made of resin, it is possible to prevent damage when the disc is dropped or to prevent glass scattering when broken. Further, in addition to preventing birefringence and improving weather resistance and durability, surface wobbling during high-speed rotation driving can be further reduced.

【0075】本発明の保護基板11に用いるガラスに制
限はなく、例えば不透明なものであってもよい。なお、
記録・再生は通常基板2側から行われるが、保護基板1
1として、透明なガラスを用いれば、保護基板11側か
ら記録を行うこともできる。
The glass used for the protective substrate 11 of the present invention is not limited and may be opaque, for example. In addition,
Recording / reproduction is usually performed from the substrate 2 side, but the protective substrate 1
If transparent glass is used as No. 1, recording can be performed from the protective substrate 11 side.

【0076】保護基板11は強化ガラスから構成するこ
とが好ましい。強化ガラスを用いることにより、より高
い剛性やより優れた耐候性、耐久性が得られる。
The protective substrate 11 is preferably made of tempered glass. By using tempered glass, higher rigidity and better weather resistance and durability can be obtained.

【0077】強化ガラスには、その強化法から物理強化
ガラスと化学強化ガラスとがあり、用途に応じて使用さ
れている。本発明で用いる強化ガラスに特に制限はな
く、通常の強化法を用いて強化したガラスが使用される
が、好ましくは化学強化ガラスを使用する。化学強化ガ
ラスは、例えば、ガラス構成元素としてのアルカリ金属
イオンの一部を外部から供給される他種アルカリ金属イ
オンと交換することにより、特にLiとNaおよびNa
とKの交換によりガラス内に圧縮応力層を形成し、機械
的強度を高めたガラスである。化学強化処理は、通常、
硝酸塩、硫酸塩等のアルカリ塩を加熱溶融し、溶融液中
に被処理ガラスを数時間から数十時間程度浸漬すること
により行なわれる。
The tempered glass includes physical tempered glass and chemically tempered glass depending on its tempering method, and is used depending on the application. The tempered glass used in the present invention is not particularly limited, and glass tempered by a usual tempering method is used, but chemically tempered glass is preferably used. The chemically strengthened glass is obtained by, for example, exchanging a part of alkali metal ions as a glass constituent element with another kind of alkali metal ion supplied from the outside, and particularly Li, Na and Na.
By exchanging K and K, a compressive stress layer is formed in the glass to enhance mechanical strength. Chemical strengthening treatment is usually
It is carried out by heating and melting an alkali salt such as nitrate or sulfate, and immersing the glass to be treated in the melt for several hours to several tens of hours.

【0078】このような化学強化処理により作製された
ガラスは、通常、ガラス表面付近だけに圧縮応力層が形
成された表面強化ガラスとなる。この場合、圧縮応力層
の厚さは10〜200μm 、特に30〜75μm 程度で
あることが好ましい。
The glass produced by such a chemical strengthening treatment is usually a surface strengthened glass in which a compressive stress layer is formed only near the glass surface. In this case, the thickness of the compressive stress layer is preferably 10 to 200 μm, particularly 30 to 75 μm.

【0079】用いる化学強化ガラスとしては、ソーダ・
石灰・ケイ酸ガラス等に上記の化学強化処理を施したも
のであってもよいが、特に機械的強度が高いことから、
アルミナケイ酸ガラスに化学強化処理を施したものを用
いることが好ましい。アルミナケイ酸ガラスとしては、
機械的強度が高いことから、A123 含有量が10wt%
以上であることが好ましく、特に、15〜30wt% の
A123 を含有するものを用いることが好ましい。
The chemically strengthened glass used is soda
It may be one obtained by subjecting the lime / silicate glass or the like to the above chemical strengthening treatment, but since it has particularly high mechanical strength,
Alumina silicate glass that has been chemically strengthened is preferably used. As alumina silicate glass,
A1 2 O 3 content of 10 wt% due to high mechanical strength
The above is preferable, and it is particularly preferable to use one containing 15 to 30 wt% of A1 2 O 3 .

【0080】本発明で好適に用いられるアルミナケイ酸
ガラスの組成範囲を、以下に示す。 SiO2 50〜60wt% A123 15〜30wt% B23 1〜10wt% RI 2O 10〜25wt% RIIO 1〜10wt% (ただし、RI およびRIIは、それぞれ1価および2価
の金属) TiO2 等 0〜5wt%
The composition range of the alumina silicate glass preferably used in the present invention is shown below. SiO 2 50-60 wt% A1 2 O 3 15-30 wt% B 2 O 3 1-10 wt% R I 2 O 10-25 wt% R II O 1-10 wt% (wherein R I and R II are monovalent, respectively) And divalent metal) TiO 2 etc. 0-5 wt%

【0081】そして、K+ 置換率は、0.01〜1mg/c
m3程度であることが好ましい。
The K + substitution rate is 0.01 to 1 mg / c.
It is preferably about m 3 .

【0082】保護基板11の厚さは、剛性を確保するた
めに、0.5〜2.0mm程度とする。そして、保護基板
11の形状は、基板2の形状に合わせればよい。
The thickness of the protective substrate 11 is about 0.5 to 2.0 mm in order to secure rigidity. The shape of the protective substrate 11 may be the same as the shape of the substrate 2.

【0083】本発明では保護基板11は、接着剤層12
により基板2と一体化される。この接着には、公知の各
種接着剤を用いることができる。
In the present invention, the protective substrate 11 is the adhesive layer 12
Are integrated with the substrate 2. Various known adhesives can be used for this adhesion.

【0084】また本発明は、この他、いわゆる相変化型
等の記録層を有し、反射率変化により記録・再生を行な
う光記録ディスクにも適用することができる。
Besides, the present invention can be applied to an optical recording disk having a so-called phase change type recording layer and recording / reproducing by changing the reflectance.

【0085】このような記録層としては、例えば、特公
昭54−41902号、特許第1004835号などに
記載のTe−Se系合金、特開昭62−76035号な
どに記載のTe−Ge系合金、特開昭63−56827
号などに記載のTe−In系合金、特願昭61−307
298号、特願昭61−307299号などに記載のT
e−Sn系合金、特開昭58−54338号、特許第9
74257号、特許第974258号、特許第9742
57号などに記載のTe酸化物系、その他各種Te、S
eを主体とするカルコゲン系、 Ge−Sn、Si−Sn等の非晶質−結晶質転移を生じ
る合金 Ag−Zn、Ag−Al−Cu、Cu−Al等の結晶構
造変化によって色変化を生じる合金、In−Sb等の結
晶粒径の変化を生じる合金などがある。
Examples of such a recording layer include Te-Se type alloys described in Japanese Patent Publication No. 54-41902, Japanese Patent No. 100004835 and Te-Ge type alloys described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-76035. JP-A-63-56827
Te-In alloys described in Japanese Patent Application No. 61-307
No. 298, Japanese Patent Application No. 61-307299, etc.
e-Sn alloy, JP-A-58-54338, Patent No. 9
74257, Patent 974258, Patent 9742
No. 57 Te oxide type, other various Te, S
Color change occurs due to change in crystal structure of Ag-Zn, Ag-Al-Cu, Cu-Al, etc. which causes amorphous-crystalline transition such as chalcogen based on e, Ge-Sn, Si-Sn, etc. Examples include alloys, alloys such as In—Sb that cause a change in crystal grain size.

【0086】これらのいずれの場合も、気相成膜法によ
る下地層や保護層を有していてもよい。
In any of these cases, an underlayer or a protective layer formed by a vapor phase film forming method may be included.

【0087】このように、本発明は気相成膜法、特にス
パッタリングにより、記録層や下地層が設けられてお
り、特に金属の記録層を有する相変化型の光記録ディス
クと、希土類金属元素等の金属を含有する記録層を有す
る光磁気記録媒体に好適である。
As described above, according to the present invention, the recording layer and the underlayer are provided by the vapor phase film forming method, in particular, the sputtering, and in particular, the phase change type optical recording disk having the metal recording layer and the rare earth metal element. It is suitable for a magneto-optical recording medium having a recording layer containing a metal such as.

【0088】本発明の光記録媒体の他の好適例が図3に
示される。この光記録媒体1は、基板2上に、色素を含
有する記録層3を有し、記録層3に密着して、反射層
8、保護膜9を形成した密着型の光記録ディスクであ
る。
Another preferred example of the optical recording medium of the present invention is shown in FIG. This optical recording medium 1 is a close contact type optical recording disc having a recording layer 3 containing a dye on a substrate 2, and a reflective layer 8 and a protective film 9 formed in close contact with the recording layer 3.

【0089】基板2の記録層3形成面には、トラッキン
グ用のグルーブ23が形成されることが好ましい。グル
ーブ23は、スパイラル状の連続型グルーブであること
が好ましく、深さは250〜1800A、幅は0.2〜
1.1μm 、特に0.3〜0.6μm 、ランド(隣り合
うグルーブ同士の間の部分)幅は0.5〜1.4μm、
特に1.0〜1.3μm であることが好ましい。グルー
ブをこのような構成とすることにより、グルーブ部の反
射レベルを下げることなく、良好なトラッキング信号を
得ることができる。なお、グルーブには、アドレス信号
用の凹凸を設けることもできる。
A groove 23 for tracking is preferably formed on the surface of the substrate 2 on which the recording layer 3 is formed. The groove 23 is preferably a spiral continuous groove, having a depth of 250 to 1800 A and a width of 0.2 to.
1.1 μm, especially 0.3 to 0.6 μm, land (the portion between adjacent grooves) width is 0.5 to 1.4 μm,
In particular, it is preferably 1.0 to 1.3 μm. With such a configuration of the groove, a good tracking signal can be obtained without lowering the reflection level of the groove portion. It should be noted that the groove may be provided with unevenness for address signals.

【0090】本発明では、基板2がグルーブを有する場
合、記録光はグルーブ23内の記録層3に照射されるよ
う構成されることが好ましい。すなわち、本発明の光記
録媒体は、グルーブ記録の光記録媒体として用いられる
ことが好ましい。グルーブ記録とすることにより、記録
層の有効厚さを大きくすることができる。
In the present invention, when the substrate 2 has a groove, it is preferable that the recording light is applied to the recording layer 3 in the groove 23. That is, the optical recording medium of the present invention is preferably used as an optical recording medium for groove recording. By using groove recording, the effective thickness of the recording layer can be increased.

【0091】この場合の記録層3は、好ましくは、1種
あるいは2種以上の色素を相溶して形成される。この場
合、光吸収色素にクェンチャーを混合してもよく、さら
に、色素カチオンとクェンチャーアニオンとのイオン結
合体を光吸収色素として用いてもよい。
In this case, the recording layer 3 is preferably formed by compatibilizing one kind or two or more kinds of dyes. In this case, a quencher may be mixed with the light absorbing dye, and an ionic combination of a dye cation and a quencher anion may be used as the light absorbing dye.

【0092】記録層3の記録光および再生光波長におけ
る消衰係数(複素屈折率の虚部)kは、0.03〜0.
25であることが好ましい。kが0.03未満となると
記録層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録を行
うことが困難となってくる。また、kが0.25をこえ
ると、反射率が60%を下回ってきて、CD規格による
再生を行うことが困難となってくる。
The extinction coefficient (imaginary part of complex refractive index) k of the recording layer 3 at the wavelengths of the recording light and the reproducing light is 0.03 to 0.
It is preferably 25. When k is less than 0.03, the absorptivity of the recording layer is lowered, and it becomes difficult to perform recording with normal recording power. Further, when k exceeds 0.25, the reflectance becomes less than 60%, and it becomes difficult to perform reproduction according to the CD standard.

【0093】また、屈折率(複素屈折率の実部)nは、
1.8〜4.0、より好ましくは、2.2〜3.3であ
ることが好ましい。n<1.8では反射率が低下し、C
D規格による再生が困難となる傾向にある。また、n>
4.0とするためには、原料色素の入手が難しい。
The refractive index (real part of complex refractive index) n is
It is preferably 1.8 to 4.0, more preferably 2.2 to 3.3. When n <1.8, the reflectance decreases and C
Reproduction according to the D standard tends to be difficult. Also, n>
To obtain 4.0, it is difficult to obtain the raw material dye.

【0094】nおよびkの測定に際しては、所定の透明
基板上に、記録層を例えば400〜100A 程度の厚さ
に実際の条件にて設層して、測定サンプルを作製する。
次いで、基板を通しての、あるいは記録層側からの反射
率を測定する。反射率は記録再生光波長を用いて鏡面反
射(5°程度)にて測定する。また、サンプルの透過率
を測定する。これらの測定値から、例えば、共立全書
「光学」石黒浩三P168〜178に準じ、n、kを算
出すればよい。
When measuring n and k, a recording layer is formed on a predetermined transparent substrate to a thickness of, for example, about 400 to 100 A under actual conditions to prepare a measurement sample.
Then, the reflectance through the substrate or from the recording layer side is measured. The reflectance is measured by specular reflection (about 5 °) using the recording / reproducing light wavelength. In addition, the transmittance of the sample is measured. From these measured values, for example, n and k may be calculated according to Kyoritsu Zensho "Optical" Kozo Ishiguro P168-178.

【0095】用いる光吸収性の色素としては、吸収極大
が600〜900nm、好ましくは600〜800nm、よ
り好ましくは650〜750nmであれば、他に特に制限
はないが、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシ
アニン系、アントラキノン系、アゾ系、トリフェニルメ
タン系、ピリリウムないしチアピリリウム塩系、スクワ
リリウム系、クロコニウム系、金属錯体色素系等の1種
ないし2種以上が好ましい。シアニン色素としては、イ
ンドレニン環、特にベンゾインドレニン環を有するシア
ニン色素であることが好ましい。
The light absorbing dye to be used is not particularly limited as long as it has an absorption maximum of 600 to 900 nm, preferably 600 to 800 nm, and more preferably 650 to 750 nm. One or more of phthalocyanine type, anthraquinone type, azo type, triphenylmethane type, pyrylium or thiapyrylium salt type, squarylium type, croconium type and metal complex dye type are preferable. The cyanine dye is preferably a cyanine dye having an indolenine ring, particularly a benzoindolenine ring.

【0096】記録層3を設層するには塗布による。塗布
により設層する場合、溶媒としては、ケトン系、エステ
ル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系、
アルコール系統の各種溶媒を用いることができるが、特
にシクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン系溶媒を用いることが好まし
い。ケトン系溶媒を用いることにより、前記色素の溶解
性が向上し、色素膜の膜質が向上し、塗布性がよくなる
とともに、ケトン系溶媒が基板表面を化学的に損傷する
ことがないので光記録媒体の品質が大幅に向上する。
The recording layer 3 is formed by coating. When the layer is formed by coating, the solvent may be a ketone type, an ester type, an ether type, an aromatic type, an alkyl halide type,
Although various alcohol solvents can be used, it is particularly preferable to use ketone solvents such as cyclohexanone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone. By using a ketone solvent, the solubility of the dye is improved, the film quality of the dye film is improved, the coatability is improved, and the ketone solvent does not chemically damage the surface of the substrate. The quality of is greatly improved.

【0097】記録層3の厚さは500〜2000A とす
ることが好ましい。この範囲外では反射率が低下する。
The thickness of the recording layer 3 is preferably 500 to 2000A. The reflectance decreases outside this range.

【0098】このような記録層3には、直接密着して反
射層8が設層される。反射層8にはAu、Ag、Cu等
の高反射率金属ないし合金を用いればよい。
A reflective layer 8 is provided directly on the recording layer 3 so as to be in close contact therewith. The reflective layer 8 may be made of a high-reflectance metal or alloy such as Au, Ag and Cu.

【0099】反射層8の厚さは500A 以上であること
が好ましく、蒸着、スパッタ等により設層すればよい。
また、厚さの上限に特に制限はないが、コスト、生産作
業時間等を考慮すると、1200A 程度以下であること
が好ましい。これにより、反射層4単独での反射率は、
90%以上、媒体の未記録部の基板をとおしての反射率
は、60%以上、特に70%以上がえられる。
The reflective layer 8 preferably has a thickness of 500 A or more, and may be formed by vapor deposition, sputtering or the like.
Although the upper limit of the thickness is not particularly limited, it is preferably about 1200 A or less in consideration of cost, production work time and the like. Accordingly, the reflectance of the reflective layer 4 alone is
The reflectance of 90% or more, the reflectance of the unrecorded portion of the medium through the substrate is 60% or more, and particularly 70% or more.

【0100】反射層8上には、保護膜9が設層されるこ
とが好ましい。保護膜9は、例えば紫外線硬化樹脂等の
各種樹脂材質から、通常は、0.1〜100μm 程度の
厚さに設層すればよい。保護膜9は、層状であってもシ
ート状であってもよい。保護膜9は、特に放射線硬化型
化合物および光重合増感剤を含有する塗膜を放射線硬化
したものであることが好ましい。
A protective film 9 is preferably provided on the reflective layer 8. The protective film 9 may be formed of various resin materials such as an ultraviolet curable resin, and usually has a thickness of about 0.1 to 100 μm. The protective film 9 may be layered or sheet-shaped. The protective film 9 is preferably a radiation-cured coating film containing a radiation-curable compound and a photopolymerization sensitizer.

【0101】そして、保護膜9の硬度が、25℃におけ
る鉛筆硬度(JIS K−5400)で、H〜8H、特
に2H〜7Hであるように構成されることが好ましい。
The hardness of the protective film 9 is preferably H-8H, particularly 2H-7H, in pencil hardness (JIS K-5400) at 25 ° C.

【0102】このように構成することにより、アイパタ
ーンが良好になり、ジッターが格段と減少する。また、
高温・高湿あるいは温湿度変化条件下の保存において
も、保護膜と反射層との剥離が生じない。より具体的に
は、保護膜の硬度がHより軟らかいとアイパターンが乱
れ、ジッターが増大し、8Hより硬くなると塗膜がもろ
くなり膜形成能が低下する他、反射層との接着力が低下
する。
With this structure, the eye pattern becomes good and the jitter is remarkably reduced. Also,
No peeling occurs between the protective film and the reflective layer even when stored under conditions of high temperature and high humidity or changes in temperature and humidity. More specifically, if the hardness of the protective film is softer than H, the eye pattern will be disturbed and jitter will increase, and if it is harder than 8H, the coating film will become brittle and the film forming ability will decrease, and also the adhesive force with the reflective layer will decrease. To do.

【0103】このような保護膜形成に用いる放射線硬化
型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれる
ことが好ましい。オリゴエステルアクリレートは、アク
リレート基またはメタクリレート基を複数有するオリゴ
エステル化合物である。そして好ましいオリゴエステル
アクリレートとしては、分子量1000〜10000、
好ましくは2000〜7000であって、重合度2〜1
0、好ましくは、3〜5のものが挙げられる。また、こ
れらのうちアクリレート基またはメタクリレート基を2
〜6個、好ましくは3〜6個有する多官能オリゴエステ
ルアクリレートが好ましい。また、上記の化合物に加え
て、あるいはこれにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変
性することによって得られる放射線硬化型化合物を用い
てもよい。
The radiation-curable compound used for forming such a protective film preferably contains an oligoester acrylate. The oligoester acrylate is an oligoester compound having a plurality of acrylate groups or methacrylate groups. And a preferable oligoester acrylate has a molecular weight of 1,000 to 10,000,
Preferably it is 2000-7000 and the degree of polymerization is 2-1.
0, preferably 3 to 5 can be mentioned. In addition, among these, acrylate group or methacrylate group is 2
Polyfunctional oligoester acrylates with ~ 6, preferably 3-6, are preferred. Further, in addition to or instead of the above compounds, a radiation curable compound obtained by subjecting a thermoplastic resin to radiation-sensitive modification may be used.

【0104】このような放射線硬化型化合物の保護膜の
膜厚は0.1〜30μm 、より好ましくは1〜10μm
である。この膜厚が0.1μm 未満になると、一様な膜
を形成しにくく、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十
分でなく、記録層の耐久性が下がる。しかも、ジッター
防止効果が低下する。また、30μm をこえると、樹脂
膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反りや保護膜
中のクラックが生じやすい。
The thickness of the protective film of such a radiation-curable compound is 0.1 to 30 μm, more preferably 1 to 10 μm.
Is. If this film thickness is less than 0.1 μm, it is difficult to form a uniform film, the moisture-proof effect in an atmosphere with high humidity is not sufficient, and the durability of the recording layer decreases. Moreover, the effect of preventing jitter is reduced. If it exceeds 30 μm, warpage of the recording medium and cracks in the protective film are likely to occur due to shrinkage during curing of the resin film.

【0105】このような塗膜は、通常、スピンナーコー
ト、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等、
種々の公知の方法を組み合わせて設層すればよい。この
時の塗膜の設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的
とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。
Such a coating film is usually formed by spinner coating, gravure coating, spray coating, dipping, etc.
Layers may be formed by combining various known methods. The layer forming conditions of the coating film at this time may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the mixture of the coating film composition, the target coating film thickness, and the like.

【0106】本発明において塗膜に照射する放射線とし
ては、紫外線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ま
しい。紫外線を用いる場合には、前述したような放射線
硬化型化合物の中には、通常、光重合増感剤が加えられ
る。
In the present invention, examples of the radiation applied to the coating film include ultraviolet rays and electron beams, and ultraviolet rays are preferable. When ultraviolet rays are used, a photopolymerization sensitizer is usually added to the above radiation-curable compounds.

【0107】光重合増感剤としては、例えば、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メ
チルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイン等のベ
ンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン、モルホ
リノジメチルメチル−4−メチルチオフェニルケトン、
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、ア
ントラキノン、フェナントラキノン等のキノン類、ベン
ジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィ
ド等のスルフィド類等を挙げることができる。
Examples of the photopolymerization sensitizer include benzoin compounds such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, α-methylbenzoin, α-chlordeoxybenzoin, benzophenone, acetophenone, morpholinodimethylmethyl-4-methylthiophenyl ketone, and the like.
Examples thereof include ketones such as bisdialkylaminobenzophenone, quinones such as anthraquinone and phenanthraquinone, and sulfides such as benzyl disulfide and tetramethylthiuram monosulfide.

【0108】そして、このような光重合増感剤と放射線
硬化型化合物を含有する塗膜を紫外線によって硬化させ
るには、公知の種々の方法に従えばよい。たとえば、キ
セノン放電管、水銀放電管などの紫外線電球等を用いれ
ばよい。また、場合によっては電子線を用いることもで
きる。
In order to cure the coating film containing the photopolymerization sensitizer and the radiation-curable compound with ultraviolet rays, various known methods may be used. For example, a UV bulb such as a xenon discharge tube or a mercury discharge tube may be used. An electron beam can also be used depending on the case.

【0109】このような保護膜9上に、前記と同様のガ
ラス製の保護基板11を接着する。
On the protective film 9 as described above, the same protective substrate 11 made of glass as described above is adhered.

【0110】このような構成の光記録媒体1に記録ない
し追記を行なうには、例えば780nmの記録光を、基板
2をとおしてパルス状に照射する。
In order to perform recording or additional recording on the optical recording medium 1 having such a structure, recording light of 780 nm, for example, is irradiated in a pulsed form through the substrate 2.

【0111】これにより、記録層3が光を吸収して発熱
し、同時に基板2も加熱される。この結果、基板2と記
録層3との界面近傍において、色素等の記録層材質の融
解や分解が生じ、記録層3と基板2との界面に圧力が加
わり、グルーブ23の底壁や側壁を変形させる。
As a result, the recording layer 3 absorbs light and generates heat, and at the same time, the substrate 2 is also heated. As a result, in the vicinity of the interface between the substrate 2 and the recording layer 3, the recording layer material such as a dye is melted or decomposed, pressure is applied to the interface between the recording layer 3 and the substrate 2, and the bottom wall or side wall of the groove 23 is removed. Transform it.

【0112】この場合記録層3の融解物や分解物を含有
する分解物層101が、通常グルーブ23の底部および
基板2との境界を覆うような形状に残存する。しかも、
基板表層部は所定の熱軟化点をもつので、分解物層10
1は、さらに凸状に基板側に侵入し、ピット部10の形
状はより大きく形成される。基板2のへこみ量は、ピッ
ト部10の寸法が大きい程大きく、300A 程度以下の
深さである。
In this case, the decomposed product layer 101 containing the melted product or decomposed product of the recording layer 3 usually remains in a shape that covers the bottom of the groove 23 and the boundary with the substrate 2. Moreover,
Since the surface layer of the substrate has a predetermined thermal softening point, the decomposed product layer 10
1 further penetrates into the substrate side in a convex shape, and the pit portion 10 is formed to have a larger shape. The dent amount of the substrate 2 is larger as the dimension of the pit portion 10 is larger, and is a depth of about 300 A or less.

【0113】分解物層101の材質は、実質的に基板材
質を含まない材質であり、記録層材質の分解物あるいは
記録層材質の分解物と、記録層材質との混合物によって
構成される。分解物層101は、グルーブ内の記録層3
の厚さの通常30〜100%程度の厚さである。そし
て、通常、分解物層101上には、反射層との界面に空
隙が形成され、分解物層101と、空隙103とがピッ
ト部10に形成される。空隙103は、記録層3の厚さ
の通常5〜70%程度の厚さである。
The material of the decomposed material layer 101 is a material which does not substantially include the substrate material, and is composed of a decomposed material of the recording layer material or a mixture of the decomposed material of the recording layer material and the recording layer material. The decomposed material layer 101 is the recording layer 3 in the groove.
The thickness is usually about 30 to 100%. Then, usually, a void is formed on the decomposed material layer 101 at the interface with the reflective layer, and the decomposed material layer 101 and the void 103 are formed in the pit portion 10. The void 103 is usually about 5 to 70% of the thickness of the recording layer 3.

【0114】また、ピツト部の外形形状や、凹形状も良
好なものである。そして、スキン層の存在により、ピッ
ト形状が大きくなるとともに良好ともなり、C/Nが向
上し、感度が向上するものである。
The outer shape and concave shape of the pit portion are also good. The presence of the skin layer improves the pit shape as well as the pit shape, improving C / N and improving sensitivity.

【0115】なお、以上では記録層に反射層を密着して
積層した光記録媒体について説明してきたが記録層に反
射層を積層せず、記録層を、空隙を介して内封するか、
あるいは記録層を空隙を介して対向させたいわゆるエア
ーサンドイッチ構造であって、ピット形成により反射率
変化を生じる光記録ディスク等にも本発明は有効に適用
される。
Although the optical recording medium in which the reflective layer is closely adhered to the recording layer has been described above, the reflective layer is not laminated to the recording layer, and the recording layer is internally sealed via a void, or
Alternatively, the present invention can be effectively applied to an optical recording disk or the like which has a so-called air sandwich structure in which recording layers are opposed to each other with a gap therebetween and changes in reflectance due to pit formation.

【0116】[0116]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.

【0117】実施例1 前記化3のくり返し単位を有する環状ポリオレフィンと
して、市販品である日本ゼオン社製Zeonex280 の分子量
29,000の環状ポリオレフィンのペレットを得た。
この環状ポリオレフィンのペレットには下記化5、化6
で表される2種以上のアルキルフェノール縮合物を、化
5:化6の重量比3.2:1でその総含有量を1.2wt
%とし、サンプルNo. 1とした。
Example 1 As a cyclic polyolefin having the repeating unit of the above Chemical formula 3, a commercially available pellet of cyclic polyolefin having a molecular weight of 29,000, Zeonex 280 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. was obtained.
The cyclic polyolefin pellets have the following chemical formulas 5 and 6
Of two or more alkylphenol condensates represented by
% And sample No. 1.

【0118】[0118]

【化5】 [Chemical 5]

【0119】[0119]

【化6】 [Chemical 6]

【0120】これを350℃にて溶融し、金型温度10
0℃、射出圧350kg/cm2で射出成形し、300mm径、
厚さ1.2mmの基板サンプルNo. 1を得た。
This is melted at 350 ° C., and the mold temperature is 10
Injection molding at 0 ℃, injection pressure 350kg / cm 2 , 300mm diameter,
Substrate sample No. 1 having a thickness of 1.2 mm was obtained.

【0121】基板の熱軟化点を、TMAにて下記のよう
に測定した。 針断面:1mm径円柱 荷重:5g 昇温速度:2℃/min
The thermal softening point of the substrate was measured by TMA as follows. Needle cross section: 1 mm diameter cylinder load: 5 g Temperature rising rate: 2 ° C / min

【0122】上記条件にて、針進入量の温度プロファイ
ルを測定し、第1および第2の熱軟化点T1 、T2 を算
出した。表2の結果、T1 は124℃、T2 は156℃
であった。また、この基板のSEM像から、スキン層の
厚さは100μm程度以下であると考えられた。
Under the above conditions, the temperature profile of the needle penetration amount was measured, and the first and second thermal softening points T 1 and T 2 were calculated. As shown in Table 2, T 1 is 124 ° C and T 2 is 156 ° C.
Met. Also, from the SEM image of this substrate, it was considered that the thickness of the skin layer was about 100 μm or less.

【0123】この基板上に、ガラス性の保護膜を高周波
マグネトロンスパッタにより40nmの層厚に設層した。
この保護層上に、SiNx からなる中間層を高周波マグ
ネトロンスパッタにより層厚80nmに設層した。次に、
この中間層上に、Tb23Fe72Co5 の組成を有する記
録層を、スパッタにより層厚80nmに設層した。
A glassy protective film was formed on this substrate by high-frequency magnetron sputtering to have a layer thickness of 40 nm.
An intermediate layer made of SiN x was formed on the protective layer by high frequency magnetron sputtering to have a layer thickness of 80 nm. next,
A recording layer having a composition of Tb 23 Fe 72 Co 5 was formed on the intermediate layer by sputtering to have a layer thickness of 80 nm.

【0124】さらに、この記録層上に、前記保護層と同
組成の保護層を高周波マグネトロンスパッタにより層厚
100nmに設置し、この保護層上に、保護コートを設置
した。なお、保護コートは、オリゴエステルアクリレー
トを含有する紫外線硬化型樹脂を塗布した後、紫外線硬
化して5μm 厚の保護膜とし、この上に、接着剤層12
によりガラス製保護基板を接着して第2図に示される片
面記録型の光磁気記録ディスクを製造した。
Further, a protective layer having the same composition as the protective layer was provided on the recording layer by high frequency magnetron sputtering to a layer thickness of 100 nm, and a protective coat was provided on the protective layer. The protective coat is formed by applying an ultraviolet curable resin containing oligoester acrylate and then ultraviolet curing to form a protective film having a thickness of 5 μm.
Then, a glass protective substrate was adhered to produce a single-sided recording type magneto-optical recording disk shown in FIG.

【0125】ガラス製保護基板は、アルミナケイ酸系の
化学強化ガラスとし、外径300mm、厚さ1.2mmのデ
ィスク状とした。
The glass-made protective substrate was a chemically strengthened glass of alumina silicate, and had a disk shape with an outer diameter of 300 mm and a thickness of 1.2 mm.

【0126】接着剤層は、ピネン系樹脂を含有するホッ
トメルト系接着剤を用い、ロールコータにより設層し、
その厚さを80μm とした。
The adhesive layer is formed by a roll coater using a hot melt adhesive containing a pinene resin,
Its thickness was 80 μm.

【0127】これとは別に比較例として、ビスフェノー
ルAタイプのポリカーボネート(数平均分子量1500
0)製基板を溶融温度340℃、金型温度100℃、射
出圧300kg/cm2の条件で射出成形し、その他は同様に
して比較光磁気記録ディスクサンプルNo. 2を作製し
た。
Separately, as a comparative example, a bisphenol A type polycarbonate (number average molecular weight 1500
The substrate 0) was injection-molded under the conditions of a melting temperature of 340 ° C., a mold temperature of 100 ° C., and an injection pressure of 300 kg / cm 2 , and Comparative Magneto-Optical Recording Disk Sample No. 2 was prepared in the same manner.

【0128】これらの光磁気記録ディスクに対し、瞬時
面ブレ加速度の測定を行なった。測定は、ディスク回転
数を1800rpm とし、ディスク中心から半径60〜1
30mmの範囲を5mm間隔で行なった。なお、測定サンプ
ル数は、各光磁気記録ディスクについて3個とし、各サ
ンプルの最大面ブレ加速度の平均値を求めた。
Instantaneous surface shake acceleration was measured for these magneto-optical recording disks. The measurement was performed at a disk rotation speed of 1800 rpm and a radius of 60 to 1 from the disk center.
A range of 30 mm was performed at 5 mm intervals. The number of measurement samples was three for each magneto-optical recording disk, and the average value of the maximum surface wobbling acceleration of each sample was obtained.

【0129】測定は温度80℃、湿度RH=80%の条
件で行なった。
The measurement was carried out under the conditions of temperature 80 ° C. and humidity RH = 80%.

【0130】面ブレ加速度は、フォーカシングサーボ時
の光ピックアップの加速度で表わされ、トラッキング用
グルーブが形成された基板の平坦度を示すものである。
この値は、ISO規格では、外径130mmの光磁気記録
ディスクの場合20m/s2以下、特に10m/s2以下である
ことが好ましい。
The surface wobbling acceleration is expressed by the acceleration of the optical pickup during focusing servo, and indicates the flatness of the substrate on which the tracking groove is formed.
According to the ISO standard, this value is preferably 20 m / s 2 or less, particularly 10 m / s 2 or less for a magneto-optical recording disk having an outer diameter of 130 mm.

【0131】この結果、基板に環状ポリオレフィンを用
いた本発明品の瞬時面ブレ加速度が20m/s2以下である
のに対し、基板にポリカーボネートを用いた比較サンプ
ルNo.2では、55m/s2となり、格段の効果が得られ
た。
As a result, the instantaneous surface wobbling acceleration of the product of the present invention in which the cyclic polyolefin was used as the substrate was 20 m / s 2 or less, whereas the comparative sample No. in which polycarbonate was used as the substrate was used. At 2, it was 55 m / s 2 , which was a remarkable effect.

【0132】実施例2 実施例1においてサンプルNo. 1のアルキルフェノール
縮合物の含有量を、0wt%、0.8wt%、および2.3
wt%にかえて同一条件で射出成形し、サンプルNo. 3〜
No. 5を得た。またサンプルNo. 1のペレットを用い、
射出圧を370Kg/cm2、溶融温度を330℃、金型温度
を80℃とした他は、同様に射出成形を行い、スキン層
熱軟化点が140℃を超えるサンプルNo. 6を作製し
た。
Example 2 In Example 1, the contents of the alkylphenol condensate of sample No. 1 were 0 wt%, 0.8 wt%, and 2.3.
Injection molding under the same conditions in place of wt%, sample No. 3 ~
I got No. 5. In addition, using sample No. 1 pellets,
Sample No. 6 having a skin layer thermal softening point of more than 140 ° C. was prepared by the same injection molding except that the injection pressure was 370 kg / cm 2 , the melting temperature was 330 ° C., and the mold temperature was 80 ° C.

【0133】ただしアルキルフェノール縮合物の含有量
が2.3wt%であるサンプルNo. 5は基板内にガスムラ
あとが認められた。
However, in Sample No. 5 in which the content of the alkylphenol condensate was 2.3 wt%, gas unevenness was observed in the substrate.

【0134】これらのサンプルNo. 1、サンプルNo.
3、サンプルNo. 4およびサンプルNo. 6を用いて、実
施例1と同一の光磁気ディスクを作製し、耐食性試験を
行った。
These sample No. 1 and sample No.
The same magneto-optical disk as in Example 1 was prepared using Sample No. 3, Sample No. 4 and Sample No. 6, and a corrosion resistance test was conducted.

【0135】耐食性試験は、サンプルを、温度80℃、
湿度85%RHの条件下で2500時間放置し、基板、
積層体間の状態を目視および光学顕微鏡により観察し
た。
In the corrosion resistance test, the sample was heated at a temperature of 80 ° C.
Leave the substrate for 2500 hours under the condition of humidity 85% RH,
The state between the laminates was visually and visually observed.

【0136】これらの状態のうち、全く異常のない場合
を◎、10μm 〜100μm 程度の微小なフクレがごく
わずかに発生した場合を○、またこのフクレが一部にで
はあるが明瞭に発生した場合を△、そして、全面に発生
し、かつハガレも発生した場合を×として評価した。結
果を表2に示す。
Among these states, ∘ indicates that there is no abnormality at all, ∘ indicates that slight swelling of about 10 μm to 100 μm occurs, and ∘ indicates that this swelling occurs partially but clearly. Was evaluated as Δ, and the case where peeling occurred also on the entire surface was evaluated as x. The results are shown in Table 2.

【0137】[0137]

【表2】 [Table 2]

【0138】なお、サンプルNo. 3、4、6とも、20
m/s2以下の瞬間面ブレ加速度を示した。
Sample Nos. 3, 4, and 6 had 20
The instantaneous surface shake acceleration of less than m / s 2 was shown.

【0139】実施例3 実施例1で用いた基板サンプルNo. 1、サンプルNo.
3、サンプルNo. 4〜サンプルNo. 6と、サンプルNo.
3においてアルキルフェノール縮合物のかわりに滑剤と
してグリセリンモノエステルおよびグリセリンジエステ
ルの総計1.2wt%にかえたサンプルNo. 7を用意し
た。
Example 3 Substrate sample No. 1 and sample No. used in Example 1
3, sample No. 4 to sample No. 6, and sample No.
In place of the alkylphenol condensate in 3, the sample No. 7 was prepared in which the total amount of glycerin monoester and glycerin diester was 1.2 wt% as a lubricant.

【0140】これらの基板上に、シアニン色素を含有す
る記録層を設層した。記録層の設層は、基板を500rp
m で回転させながら、スピンコート塗布により行なっ
た。塗布溶液としては、シクロヘキサノンの溶液を用い
た。乾燥後の色素層の厚さはグルーブ部で140A 、ラ
ンド部で90A であった。記録層の屈折率(n)は2、
6、消衰係数(k)は、0.06とした。nおよびk
は、上記色素を含有する溶液を測定用基板上に乾燥膜厚
100A に成膜して被検記録層とし、この被検記録層の
nおよびkを測定することにより求めた。なお、この測
定は、「光学」(石黒浩三著、共立全書)第168〜1
78ページの記載に準じて行なった。
A recording layer containing a cyanine dye was formed on these substrates. For the recording layer, the substrate is 500 rp
Spin coating was performed while rotating at m. A cyclohexanone solution was used as the coating solution. The thickness of the dye layer after drying was 140 A in the groove portion and 90 A in the land portion. The refractive index (n) of the recording layer is 2,
6, the extinction coefficient (k) was 0.06. n and k
Was determined by forming a solution containing the above dye on a measurement substrate to a dry film thickness of 100 A as a test recording layer, and measuring n and k of the test recording layer. This measurement is based on "Optics" (Kozo Ishiguro, Kyoritsu Zensho) No. 168-1.
This was carried out according to the description on page 78.

【0141】なお、サンプルNo. 5およびNo. 7では塗
布できなかった。
It was noted that Sample No. 5 and No. 7 could not be applied.

【0142】さらにこの記録層上に、スパッタリングに
よりAu膜を1000A 厚に設層して反射層とし、さら
に、オリゴエステルアクリレートを含有する紫外線硬化
型樹脂を塗布した後、紫外線硬化して5μm 厚の保護膜
とし、光記録ディスクサンプルを得た。この膜の鉛筆硬
度は2Hであった。
Further, an Au film having a thickness of 1000 A was formed on the recording layer by sputtering to form a reflective layer, and a UV-curable resin containing oligoester acrylate was applied and then UV-cured to a thickness of 5 μm. As a protective film, an optical recording disk sample was obtained. The pencil hardness of this film was 2H.

【0143】得られた各サンプルに対し、感度を測定し
た。1800rpm で記録周波数8MHz にて最大の信号が
得られる記録パワーをもって記録感度とした。結果を表
3に示す。
The sensitivity of each of the obtained samples was measured. The recording sensitivity was defined as the recording power at which the maximum signal was obtained at a recording frequency of 8 MHz at 1800 rpm. The results are shown in Table 3.

【0144】[0144]

【表3】 [Table 3]

【0145】表3に示される結果から本発明の効果が明
らかである。
From the results shown in Table 3, the effect of the present invention is clear.

【0146】なお、サンプルNo. 1、3、4、6とも瞬
間面ブレ加速度は20m/s2以下であった。
The instantaneous surface blur acceleration was 20 m / s 2 or less in all of Sample Nos. 1, 3, 4, and 6.

【0147】[0147]

【発明の効果】本発明の光記録ディスクは、基板の面ブ
レが少ないので、高速回転で使用してもフォーカストラ
ッキングエラーが少ない。また、所定のスキン層を形成
することにより、記録感度が向上したり、あるいは記録
層と基板との密着性が向上するので、高温高湿下で保存
したような場合でも耐久性を高めることができる。さら
に、記録層の塗布性も良好である。
Since the optical recording disk of the present invention has less surface deviation of the substrate, it has few focus tracking errors even when used at high speed. Further, by forming a predetermined skin layer, the recording sensitivity is improved, or the adhesion between the recording layer and the substrate is improved, so that the durability can be improved even when stored under high temperature and high humidity. it can. Further, the coating property of the recording layer is also good.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光記録ディスクの熱軟化点を説明する
ためのグラフである。
FIG. 1 is a graph for explaining a thermal softening point of an optical recording disk of the present invention.

【図2】本発明の光記録ディスクの1例を示す部分断面
図である。
FIG. 2 is a partial sectional view showing an example of an optical recording disk of the present invention.

【図3】本発明の光記録ディスク11の他の1例を示す
部分断面図である。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing another example of the optical recording disk 11 of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光記録ディスク 2 基板 21 ランド部 23 グルーブ 24 基板ピット部 3 記録層 4 保護層 5 中間層 6 保護層 7 保護コート 8 反射層 9 保護膜 10 ピット部 101 分解物層 103 空隙 11 保護基板 12 接着剤層 T1 第1の熱軟化点 T2 第2の熱軟化点1 Optical Recording Disk 2 Substrate 21 Land Part 23 Groove 24 Substrate Pit Part 3 Recording Layer 4 Protective Layer 5 Intermediate Layer 6 Protective Layer 7 Protective Coating 8 Reflective Layer 9 Protective Film 10 Pit Part 101 Decomposition Layer 103 Void 11 Protective Substrate 12 Adhesion Agent layer T 1 First thermal softening point T 2 Second thermal softening point

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI G11B 11/105 521 G11B 11/105 521A 521D (72)発明者 渋谷 節子 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭57−66538(JP,A) 特開 平2−223477(JP,A) 特開 昭60−168708(JP,A) 特開 平5−39403(JP,A) 特開 平4−161408(JP,A) 特開 平4−251449(JP,A) 実開 平2−135925(JP,U)Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI G11B 11/105 521 G11B 11/105 521A 521D (72) Inventor Setsuko Shibuya 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Corporation ( 56) References JP-A-57-66538 (JP, A) JP-A-2-223477 (JP, A) JP-A-60-168708 (JP, A) JP-A-5-39403 (JP, A) Flat 4-161408 (JP, A) JP 4-251449 (JP, A) Actual flat 2-135925 (JP, U)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】樹脂製の基板と、ガラス製の保護基板とを
有し、この樹脂製の基板上に記録層を形成し、これを前
記ガラス製の保護基板と一体化した光記録ディスクであ
って、前記樹脂が、下記[化1]で表わされる繰り返し
構造単位を有する環状ポリオレフィンを含むものであ
り、 前記基板は、下記[化4]で表されるアルキルフェノー
ル縮合物を0.3〜2wt%含有し、前記基板は、射出成形に
より形成されることにより、記録層側表層部に、熱軟化
点100〜140℃のスキン層を有する光記録ディスク。 【化1】 (上記式中、qはO,1,2,3または4であり、RlおよびR2は、
それぞれ水素原子、ハロゲン原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、エチリデン基、メトキシカ
ルボニル基、シアノ基またはピリジル基を表し、これら
は同一でも異なっていてもよい。また、RlおよびR2は互
いに結合して環を形成していてもよい。) 【化4】 (ただし、Rは、イソブチル基、イソヘキシル基、イ
ソヘプチル基、 イソオクチル基、イソノニル基、2,4−ジメチルヘプチ
ル基、デシル基、イソドデシル基、テトラデシル基、シ
クロヘキシル基、オレイル基、カプロイル基またはラウ
ロイル基、Aは、p−フェニレン基、o−メチル−p−フェ
ニレン基またはo−,m−ジイソブチル−p−フェニレン
基、Lは、2−ヒドロキシ−n−プロペノキシ基、エテノ
キシ基または1−メチル−エテノキシ基、nは、1〜30の
整数、Yは、水素またはカルボキシメチル基を表す。)
1. An optical recording disk comprising a resin substrate and a glass protective substrate, wherein a recording layer is formed on the resin substrate, and the recording layer is integrated with the glass protective substrate. The resin contains a cyclic polyolefin having a repeating structural unit represented by the following [Chemical formula 1], and the substrate contains 0.3 to 2 wt% of an alkylphenol condensate represented by the following [Chemical formula 4]. The substrate is then injection molded
An optical recording disk having a skin layer having a thermal softening point of 100 to 140 ° C. on the surface layer portion on the recording layer side by being formed . [Chemical 1] (In the above formula, q is O, 1, 2, 3 or 4, and Rl and R2 are
Each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an ethylidene group, a methoxycarbonyl group, a cyano group or a pyridyl group, and these may be the same or different. Rl and R2 may combine with each other to form a ring. ) [Chemical 4] (However, R 1 is an isobutyl group, isohexyl group, isoheptyl group, isooctyl group, isononyl group, 2,4-dimethylheptyl group, decyl group, isododecyl group, tetradecyl group, cyclohexyl group, oleyl group, caproyl group or lauroyl group. , A is a p-phenylene group, o-methyl-p-phenylene group or o-, m-diisobutyl-p-phenylene group, L is a 2-hydroxy-n-propenoxy group, an ethenoxy group or a 1-methyl-ethenoxy group. Group, n represents an integer of 1 to 30, and Y represents hydrogen or a carboxymethyl group.)
【請求項2】前記基板は、前記スキン層の熱軟化点と、
この熱軟化点より10〜50℃以上高い第1の熱軟化点とを
有する請求項1に記載の光記録ディスク。
2. The substrate has a thermal softening point of the skin layer,
The optical recording disk according to claim 1, which has a first heat softening point which is 10 to 50 ° C. higher than the heat softening point.
【請求項3】前記記録層が色素を含有し、この記録層上
に反射層を有する請求項1ないし2のいずれかに記載の
光記録ディスク。
3. The optical recording disk according to claim 1, wherein the recording layer contains a dye and a reflective layer is provided on the recording layer.
【請求項4】前記記録層は金属を含有し、前記基板上に
直接または下地層を介して設層されており、前記下地層
は無機薄膜から構成されたものであるか、または誘電体
物質から形成されたものであり、前記基板上に直接設層
される記録層または下地層は気相成膜法により形成され
ている請求項1又は2のいずれかに記載の光記録ディス
ク。
4. The recording layer contains a metal and is formed on the substrate directly or via an underlayer, and the underlayer is composed of an inorganic thin film, or a dielectric material. 3. The optical recording disk according to claim 1 , wherein the recording layer or the underlayer directly formed on the substrate is formed by a vapor deposition method.
JP07036392A 1991-02-27 1992-02-20 Optical recording disc Expired - Fee Related JP3525347B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07036392A JP3525347B2 (en) 1991-02-27 1992-02-20 Optical recording disc

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3-56182 1991-02-27
JP5618291 1991-02-27
JP07036392A JP3525347B2 (en) 1991-02-27 1992-02-20 Optical recording disc

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0581699A JPH0581699A (en) 1993-04-02
JP3525347B2 true JP3525347B2 (en) 2004-05-10

Family

ID=26397115

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP07036392A Expired - Fee Related JP3525347B2 (en) 1991-02-27 1992-02-20 Optical recording disc

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3525347B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0581699A (en) 1993-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4618326B2 (en) Optical information medium and recording or reproducing method thereof
US6540397B2 (en) Optical information storage medium
US7427432B2 (en) Optical recording medium
WO2004093070A1 (en) Optical recording medium and recording/reproducing method therefor
US5244706A (en) Optical recording disk
JP2966377B2 (en) Optical recording medium
EP0836180B1 (en) An optical recording medium with a metallic recording layer
JP3525347B2 (en) Optical recording disc
WO2006109722A1 (en) Optical recording medium
EP0777224B1 (en) Optical recording medium and method
JP3516021B2 (en) Optical recording medium
KR100292378B1 (en) Optical recording medium capable of performing recording/reproducing operations and optical recording method thereof
US5242729A (en) Optical recording medium
JP2523421B2 (en) Optical recording medium
JP4140726B2 (en) Optical information recording medium
JP4603996B2 (en) Optical recording medium
JP3516022B2 (en) Optical recording medium
JP2006260667A (en) Single-sided two-layer optical recording medium
JP2940176B2 (en) Optical recording medium and recording / reproducing method thereof
WO2001078068A2 (en) Optical information medium
KR20010090164A (en) High density optical storage medium
KR19990068999A (en) Recordable optical recording medium
JP2002237100A (en) Optical recording medium
JP2007242199A (en) Optical recording medium and method
JP2004311005A (en) Optical recording medium and its manufacturing method, and recording and reproducing method

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20020618

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20031203

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040205

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees