JP3521739B2 - Thin film magnetic head and method of manufacturing the same - Google Patents
Thin film magnetic head and method of manufacturing the sameInfo
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Description
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク等の
磁気媒体に記録を行うインダクティブ記録ヘッド又はイ
ンダクティブ磁気記録ヘッドと磁気抵抗効果（ＭＲ）再
生ヘッドとを一体化した複合型薄膜磁気ヘッド等の薄膜
磁気ヘッド及びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inductive recording head for recording on a magnetic medium such as a magnetic disk or a composite type thin film magnetic head in which an inductive magnetic recording head and a magnetoresistive effect (MR) reproducing head are integrated. The present invention relates to a thin film magnetic head and a manufacturing method thereof.
【０００２】[0002]
【従来の技術】薄膜磁気記録ヘッドは、記録ギャップを
挟んで積層された上部磁極及び下部磁極を有する構造と
なっており、浮上面（ＡＢＳ）内においてこれら上部磁
極及び下部磁極の互いに対向する端縁が、薄膜磁気記録
ヘッドの記録トラック幅を規定している。2. Description of the Related Art A thin film magnetic recording head has a structure having an upper magnetic pole and a lower magnetic pole which are stacked with a recording gap sandwiched between them, and ends of the upper magnetic pole and the lower magnetic pole facing each other in an air bearing surface (ABS). The edge defines the recording track width of the thin film magnetic recording head.
【０００３】この種の薄膜磁気記録ヘッドにおいて、上
部磁極及び下部磁極のＡＢＳ内における互いに対向する
端縁の長さが大きく異なる場合、記録中にかなりのサイ
ドフリンジ磁束が発生する。特に、磁気記録ヘッドとＭ
Ｒ再生ヘッドとを一体化した複合型薄膜磁気ヘッドにお
いては、下部磁極がＭＲヘッドのシールドを兼用するた
め、上部磁極に比してその対向する端縁が必然的に長く
なり、そのため、大きなサイドフリンジ磁束（トラック
幅方向の側方に広がる漏れ磁束）が発生してしまう。In this type of thin film magnetic recording head, if the lengths of the upper and lower magnetic poles facing each other in the ABS are significantly different, a considerable side fringe magnetic flux is generated during recording. In particular, a magnetic recording head and M
In the composite type thin film magnetic head integrated with the R reproducing head, the lower magnetic pole also serves as the shield of the MR head, so that the facing edge is inevitably longer than the upper magnetic pole, so that the large side Fringe magnetic flux (leakage magnetic flux spreading laterally in the track width direction) is generated.
【０００４】サイドフリンジ磁束が発生すると、いわゆ
る「記録にじみ」と称される実効的な記録トラック幅の
増大が生じてしまう。最近、磁気媒体の高記録密度化に
伴い、薄膜磁気記録ヘッドの記録トラック幅の狭小化が
進んでおり、このような「記録にじみ」が生じると、隣
接トラックとのクロストーク、隣接トラックに記録され
ている磁化パターンの消去等の多くの問題が生じる。When the side fringe magnetic flux is generated, the effective recording track width, which is so-called "recording bleeding", is increased. Recently, as the recording density of magnetic media has increased, the recording track width of thin-film magnetic recording heads has become narrower. When such "recording bleeding" occurs, crosstalk with adjacent tracks and recording on adjacent tracks occur. Many problems arise, such as erasing the existing magnetic patterns.
【０００５】複合型薄膜磁気ヘッドにおける「記録にじ
み」を低減すべく、下部磁極のＡＢＳ面内の形状を凸形
状として、上部磁極及び下部磁極の互いに対向する端縁
の長さを一致させるようにした技術は、いくつか公知と
なっている。例えば、特開平７−２２０２４５号公報、
特開平７−２２５９１７号公報、特開平７−２６２５１
９号公報及び特開平７−２９６３３１号公報等。In order to reduce "recording bleeding" in the composite type thin film magnetic head, the shape of the lower magnetic pole in the ABS plane is made convex so that the lengths of the edges of the upper magnetic pole and the lower magnetic pole facing each other match. There are some known techniques. For example, JP-A-7-220245,
JP-A-7-225917, JP-A-7-26251
No. 9 and Japanese Patent Laid-Open No. 7-296331.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに上部磁極及び下部磁極の互いに対向する端縁の長さ
を一致させるようにしても、サイドフリンジ磁束はある
程度発生し、これに基づく「記録にじみ」の問題は依然
解消されていない。However, even if the lengths of the edges of the upper magnetic pole and the lower magnetic pole facing each other are made to coincide with each other, side fringe magnetic flux is generated to some extent, which causes "recording bleeding". The problem of “” has not been resolved.
【０００７】従って本発明の目的は、サイドフリンジ磁
束による実効的な記録トラック幅の拡大を大幅に抑制す
ることができる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供
することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is therefore an object of the present invention to provide a thin film magnetic head and a method of manufacturing the thin film magnetic head capable of greatly suppressing the effective expansion of the recording track width due to the side fringe magnetic flux.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明によれば、非磁性
体で形成された記録ギャップ層と、記録ギャップ層を挟
んで積層されており、磁性体で形成された下部磁極層及
び磁性体で形成された複数の磁性層からなる上部磁極層
と、少なくとも該上部磁極層の側面の少なくとも一部に
形成されており上部磁極層の一部の磁性層を形成する磁
性体の一部の再付着物質からなる第１の側面磁性層と、
第１の側面磁性層上に形成されており記録ギャップ層の
非磁性体の一部の再付着物質からなる側面非磁性層と、
側面非磁性層上に形成されており下部磁極層の磁性体の
一部の再付着物質からなる第２の側面磁性層とを備えた
薄膜磁気ヘッドが提供される。According to the present invention, a recording gap layer formed of a non-magnetic material and a lower magnetic pole layer and a magnetic material which are laminated with the recording gap layer sandwiched therebetween and which are formed of a magnetic material. A top magnetic pole layer formed of a plurality of magnetic layers, and at least a part of the side surface of the top magnetic pole layer, and a part of the magnetic body forming a part of the magnetic layer of the top magnetic pole layer. A first side magnetic layer made of an attached substance;
A side surface non-magnetic layer which is formed on the first side surface magnetic layer and is composed of a part of the non-magnetic substance of the non-magnetic material of the recording gap layer, which is redeposited;
There is provided a thin film magnetic head having a second side surface magnetic layer formed on the side surface non-magnetic layer and comprising a reattachment material of a part of the magnetic material of the lower pole layer.
【０００９】記録磁極の端部で発生する漏れ磁束の多く
が、上部磁極層とその側面の少なくとも一部に側面非磁
性層を介して付着されている側面磁性層との間を通るた
め、サイドフリンジ磁束が著しく減少する。このため、
サイドフリンジ磁束による実効的な記録トラック幅の拡
大を大幅に抑制することができる。Most of the leakage magnetic flux generated at the end of the recording magnetic pole passes between the upper magnetic pole layer and the side magnetic layer attached to at least a part of the side surface of the side magnetic layer via the side nonmagnetic layer. Fringe magnetic flux is significantly reduced. For this reason,
The effective expansion of the recording track width due to the side fringe magnetic flux can be significantly suppressed.
【００１０】側面非磁性層の層厚が、記録ギャップ層の
層厚より薄いことが望ましい。It is desirable that the side non-magnetic layer is thinner than the recording gap layer.
【００１１】[0011]
【００１２】[0012]
【００１３】[0013]
【００１４】[0014]
【００１５】また、本発明によれば、下部磁極層用の第
１の磁性層上に記録ギャップ層用の非磁性層を積層し、
非磁性層上に上部磁極層の下側層用の第２の磁性層を積
層し、第２の磁性層上に第３の磁性層による上部磁極層
の上側層を形成した後、イオンミリングにより前記第２
の磁性層、非磁性層及び前記第１の磁性層の一部を除去
することによって下部磁極層、記録ギャップ層及び上部
磁極層の下側層を形成すると共に除去された第２の磁性
層の磁性体の一部、非磁性層の非磁性体の一部及び第１
の磁性層の磁性体の一部を上部磁極層の側面に再付着さ
せることによって、第１の側面磁性層、側面非磁性層及
び第２の側面磁性層をそれぞれ形成する薄膜磁気ヘッド
の製造方法が提供される。According to the present invention, a non-magnetic layer for the recording gap layer is laminated on the first magnetic layer for the lower magnetic pole layer,
After laminating the second magnetic layer for the lower layer of the upper magnetic pole layer on the non-magnetic layer and forming the upper layer of the upper magnetic pole layer by the third magnetic layer on the second magnetic layer, by ion milling The second
Of the lower magnetic pole layer, the non-magnetic layer and a part of the first magnetic layer to form the lower layer of the lower magnetic pole layer, the recording gap layer and the upper magnetic pole layer and the removed second magnetic layer. A part of the magnetic material, a part of the non-magnetic material of the non-magnetic layer and the first
Of the first side magnetic layer, the side nonmagnetic layer, and the second side magnetic layer by respectively reattaching a part of the magnetic material of the magnetic layer to the side surface of the top pole layer. Will be provided.
【００１６】サイドフリンジ磁束を大幅に減少させるた
めの側面非磁性層及び側面磁性層の構造が、イオンミリ
ングにより下部磁極層及び記録ギャップ層を形成する工
程において必然的に発生する再付着物で構成されている
ため、この構造を形成するために新たな工程を付加する
必要がないのみならず、従来は種々の工夫を施して付着
を防止するか又はわざわざ除去していた再付着物をその
まま利用しているため、その意味でも製造工程の簡略化
を図ることができる。The structure of the side surface non-magnetic layer and the side surface magnetic layer for greatly reducing the side fringe magnetic flux is composed of reattachments which are inevitably generated in the step of forming the lower magnetic pole layer and the recording gap layer by ion milling. Therefore, it is not necessary to add a new step to form this structure, and various remedy is conventionally applied to prevent adhesion or the redeposited material that was purposely removed is used as it is. Therefore, also in that sense, the manufacturing process can be simplified.
【００１７】[0017]
【００１８】[0018]
【００１９】以上に述べたイオンミリングが、ほぼ垂直
の下方向に向いたイオンビームによって行われるもので
あることが好ましい。It is preferable that the ion milling described above is performed by an ion beam which is directed in a substantially vertical downward direction.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明の実施形
態を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
【００２１】図１は本発明の一実施形態における薄膜磁
気ヘッドの記録ヘッド部分の層構成を概略的に説明する
べくＡＢＳ側から見た図である。この実施形態において
は、薄膜磁気ヘッドが、インダクティブ磁気記録ヘッド
とＭＲ再生ヘッドとを一体化した複合型薄膜磁気ヘッド
である。FIG. 1 is a diagram viewed from the ABS side for the purpose of schematically explaining the layer structure of a recording head portion of a thin film magnetic head according to an embodiment of the present invention. In this embodiment, the thin film magnetic head is a composite type thin film magnetic head in which an inductive magnetic recording head and an MR reproducing head are integrated.
【００２２】同図において、１０は図示しないＭＲ素子
の上部シールド層と兼用されるインダクティブ記録ヘッ
ドの下部磁極層、１１は記録ギャップ層、１２は上部磁
極層をそれぞれ示している。下部磁極層１０のＡＢＳ面
内の形状は、凸部１０ａを上部磁極層１２側に有する形
状であり、これによって上部磁極層１２及び下部磁極層
１０の互いに対向する端縁の長さがほぼ等しくなるかで
きるだけ等しくなるように構成されている。In the figure, 10 is a lower magnetic pole layer of an inductive recording head which is also used as an upper shield layer of an MR element (not shown), 11 is a recording gap layer, and 12 is an upper magnetic pole layer. The shape of the lower magnetic pole layer 10 in the ABS plane is a shape having a convex portion 10a on the upper magnetic pole layer 12 side, whereby the lengths of the opposing end edges of the upper magnetic pole layer 12 and the lower magnetic pole layer 10 are substantially equal. Are configured to be equal or as equal as possible.
【００２３】上部磁極層１２の側面には、さらに、場合
によっては同図に示すように記録ギャップ層１１の側面
にも、薄い側面非磁性層１３が形成されている。この側
面非磁性層１３上には、さらに、場合によっては同図に
示すように下部磁極層１０の凸部の側面にも、側面磁性
層１４が形成されている。側面非磁性層１３は、イオン
ミリングにより除去された記録ギャップ層用の非磁性体
の再付着物である。また、側面磁性層１４は、イオンミ
リングにより除去された下部磁極層用の磁性体の再付着
物である。複合型薄膜磁気ヘッドのその他の部分の層構
成は、周知であるため説明を省略する。A thin side surface nonmagnetic layer 13 is formed on the side surface of the top pole layer 12 and also on the side surface of the recording gap layer 11 as the case may be. On the side surface nonmagnetic layer 13, a side surface magnetic layer 14 is further formed on the side surface of the convex portion of the lower magnetic pole layer 10 as the case may be. The side surface nonmagnetic layer 13 is a reattachment of a nonmagnetic material for the recording gap layer, which is removed by ion milling. The side magnetic layer 14 is a redeposited magnetic substance for the lower pole layer, which is removed by ion milling. The layer structure of the other parts of the composite type thin film magnetic head is well known and will not be described.
【００２４】側面非磁性層１３の層厚は、記録ギャップ
層１１の層厚（典型的には約０．２５μｍ）よりかなり
薄くなっており、このため、上部磁極層１２の端縁部で
発生する強い磁界による磁束の多くは、この側面非磁性
層１３を通過して側面磁性層１４に達するため、サイド
フリンジ磁束が著しく減少する。このため、サイドフリ
ンジ磁束による実効的な記録トラック幅の拡大を大幅に
抑制することができる。側面磁性層１４の層厚は、好ま
しくは０．０５μｍ〜０．５μｍであり、より好ましく
は０．１μｍ〜０．３μｍである。この層厚が０．０５
μｍ未満であると、サイドフリンジ磁束の抑制効果が低
くなり、０．５μｍを越えると、記録ギャップからの有
効磁界が低減してオーバーライト特性が低下する。ま
た、側面非磁性層１３の層厚は、好ましくは記録ギャッ
プ層１１の層厚（記録ギャップ長）の１／２以下であ
り、より好ましくは１／３以下である。この層厚が記録
ギャップ層１１の層厚の１／２を越えた場合、サイドフ
リンジ磁束の抑制効果が低くなる。The layer thickness of the side surface non-magnetic layer 13 is considerably smaller than the layer thickness of the recording gap layer 11 (typically about 0.25 μm). Therefore, the side non-magnetic layer 13 is generated at the edge of the top pole layer 12. Most of the magnetic flux due to the strong magnetic field passes through the side surface nonmagnetic layer 13 and reaches the side surface magnetic layer 14, so that the side fringe magnetic flux is significantly reduced. Therefore, the effective expansion of the recording track width due to the side fringe magnetic flux can be significantly suppressed. The thickness of the side magnetic layer 14 is preferably 0.05 μm to 0.5 μm, more preferably 0.1 μm to 0.3 μm. This layer thickness is 0.05
When it is less than μm, the effect of suppressing the side fringe magnetic flux becomes low, and when it exceeds 0.5 μm, the effective magnetic field from the recording gap is reduced and the overwrite characteristic is deteriorated. The layer thickness of the side surface non-magnetic layer 13 is preferably 1/2 or less of the layer thickness (recording gap length) of the recording gap layer 11 and more preferably 1/3 or less. If this layer thickness exceeds ½ of the layer thickness of the recording gap layer 11, the side fringe magnetic flux suppressing effect is reduced.
【００２５】図２は、図１の実施形態における薄膜磁気
ヘッドの製造工程を概略的に説明するＡＢＳ側から見た
工程図である。同図（Ａ）に示すように、下部磁極層用
の磁性層（典型的にはＮｉ−Ｆｅ系の合金）２０上に記
録ギャップ層用の非磁性層（典型的にはＡｌ2 Ｏ3 ）２
１を積層し、さらにその上に上部磁極層１２を形成し、
次いで、この上部磁極層１２をあたかもマスクであるよ
うに用いてイオンミリングを行う。このイオンミリング
は、Ａｒイオンのほぼ垂直下方向に向いたビームを用い
て行われる。なお、上部磁極層１２は、パターニングし
たレジストを用いて磁性体（典型的にはＮｉ−Ｆｅ系の
合金）をめっきして形成してもよいし、磁性層を積層し
た後、イオンミリングによってこの磁性層をパターニン
グして形成してもよい。FIG. 2 is a process diagram viewed from the ABS side for schematically explaining the manufacturing process of the thin film magnetic head in the embodiment of FIG. As shown in FIG. 3A, a non-magnetic layer (typically Al 2 O 3 ) for the recording gap layer is formed on the magnetic layer (typically Ni—Fe alloy) 20 for the lower pole layer. Two
1 is laminated, and the upper magnetic pole layer 12 is further formed thereon,
Then, ion milling is performed using the upper magnetic pole layer 12 as if it were a mask. This ion milling is performed by using a beam of Ar ions that is directed substantially vertically downward. The top pole layer 12 may be formed by plating a magnetic material (typically a Ni—Fe alloy) using a patterned resist, or may be formed by ion milling after stacking the magnetic layers. The magnetic layer may be formed by patterning.
【００２６】このイオンミリングにより、同図（Ｂ）に
示すように、まず、非磁性層２１の一部が除去されて記
録ギャップ層１１が形成される。同時に、その除去され
た非磁性層２１の非磁性体の一部が上部磁極層１２の側
面及び記録ギャップ層１１の側面に再付着することによ
り、側面非磁性層１３が形成される。By this ion milling, as shown in FIG. 2B, first, a part of the nonmagnetic layer 21 is removed to form the recording gap layer 11. At the same time, a part of the removed non-magnetic material of the non-magnetic layer 21 is redeposited on the side surface of the top pole layer 12 and the side surface of the recording gap layer 11 to form the side surface non-magnetic layer 13.
【００２７】さらにイオンミリングを継続することによ
り、同図（Ｃ）に示すように、磁性層２０の一部が除去
されて、凸部１０ａを有する下部磁極層１０が形成され
る。同時に、その除去された磁性層２０の磁性体の一部
が側面非磁性層１３の側面及び下部磁極層１０の凸部１
０ａの側面に再付着することにより、側面磁性層１４が
形成される。By continuing the ion milling, a part of the magnetic layer 20 is removed to form the lower magnetic pole layer 10 having the convex portion 10a, as shown in FIG. At the same time, a part of the magnetic material of the removed magnetic layer 20 partially covers the side surface of the side surface non-magnetic layer 13 and the convex portion 1 of the lower magnetic pole layer 10.
By reattaching to the side surface of 0a, the side surface magnetic layer 14 is formed.
【００２８】サイドフリンジ磁束を大幅に減少させるた
めの側面非磁性層１３及び側面磁性層１４が、イオンミ
リングにより下部磁極層１０及び記録ギャップ層１１を
形成する工程において必然的に発生する再付着物で構成
されているため、この構造を形成するために新たな工程
を付加する必要がないのみならず、従来は種々の工夫を
施して付着を防止するか又はわざわざ除去していた再付
着物をそのまま利用しているため、その意味でも製造工
程の簡略化を図ることができる。The reattachments which are inevitably generated in the step of forming the lower magnetic pole layer 10 and the recording gap layer 11 by the side milling nonmagnetic layer 13 and the side magnetic layer 14 for greatly reducing the side fringe magnetic flux by ion milling. Since it is composed of, it is not necessary to add a new step to form this structure, and various remedy is conventionally applied to prevent adhesion or to remove the re-adhered material that was purposely removed. Since it is used as it is, the manufacturing process can be simplified in that sense as well.
【００２９】本実施形態による記録ヘッドと従来技術に
よる記録ヘッドとを、光学的トラック幅を１〜２μｍと
して実際に作成し、それら磁気的な実効トラック幅を測
定した結果が図３に示されている。同図において、横軸
は光学的トラック幅、縦軸は磁気的トラック幅を示して
いる。同図からも明らかのように、本実施形態の記録ヘ
ッドは、光学的トラック幅と磁気的トラック幅との対応
関係が原点を通る傾き１の直線上に乗っている関係とな
っており、磁気的トラック幅が光学的トラック幅に対し
て拡大していない。The recording head according to the present embodiment and the recording head according to the prior art were actually prepared with an optical track width of 1 to 2 μm, and the magnetic effective track widths were measured. The results are shown in FIG. There is. In the figure, the horizontal axis represents the optical track width and the vertical axis represents the magnetic track width. As is clear from the figure, in the recording head of the present embodiment, the correspondence relationship between the optical track width and the magnetic track width is on a straight line with an inclination of 1 passing through the origin. The track width is not expanded relative to the optical track width.
【００３０】図４は本発明の他の実施形態における薄膜
磁気ヘッドの記録ヘッド部分の層構成を概略的に説明す
るべくＡＢＳ側から見た図である。図１の実施形態で
は、上部磁極層が単一の磁性層で構成されているが、本
実施形態では、上部磁極層が複数の磁性層（上側層及び
下側層）から構成されている。FIG. 4 is a diagram viewed from the ABS side for the purpose of schematically explaining the layer structure of the recording head portion of the thin film magnetic head in another embodiment of the present invention. In the embodiment of FIG. 1, the upper magnetic pole layer is composed of a single magnetic layer, but in the present embodiment, the upper magnetic pole layer is composed of a plurality of magnetic layers (upper layer and lower layer).
【００３１】同図において、４０は図示しないＭＲ素子
の上部シールド層と兼用されるインダクティブ記録ヘッ
ドの下部磁極層、４１は記録ギャップ層、４２は上部磁
極層をそれぞれ示している。上部磁極層４２は、記録能
力を向上させるための飽和磁束密度の高い磁性体からな
る下側層４２ａと通常の磁極層と同じ磁性体からなる上
側層４２ｂとの２層構造となっている。下部磁極層４０
のＡＢＳ面内の形状は、凸部４０ａを上部磁極層４２側
に有する形状であり、これによって上部磁極層４２及び
下部磁極層４０の互いに対向する端縁の長さがほぼ等し
くなるかできるだけ等しくなるように構成されている。In the figure, 40 is a lower magnetic pole layer of an inductive recording head which is also used as an upper shield layer of an MR element (not shown), 41 is a recording gap layer, and 42 is an upper magnetic pole layer. The upper magnetic pole layer 42 has a two-layer structure including a lower layer 42a made of a magnetic material having a high saturation magnetic flux density for improving recording ability and an upper layer 42b made of the same magnetic material as a normal magnetic pole layer. Bottom pole layer 40
The shape in the ABS surface is a shape having the convex portion 40a on the side of the upper magnetic pole layer 42, so that the lengths of the edges of the upper magnetic pole layer 42 and the lower magnetic pole layer 40 facing each other are substantially equal to each other or equal to each other as much as possible. Is configured to be.
【００３２】上部磁極層４２の側面には、さらに、場合
によっては同図に示すように記録ギャップ層４１の側面
にも、薄い側面非磁性層４３が形成されている。この側
面非磁性層４３上には、さらに、場合によっては同図に
示すように下部磁極層４０の凸部の側面にも、側面磁性
層４４が形成されている。側面非磁性層４３は、イオン
ミリングにより除去された記録ギャップ層用の非磁性体
の再付着物である。また、側面磁性層４４は、イオンミ
リングにより除去された下部磁極層用の磁性体の再付着
物である。複合型薄膜磁気ヘッドのその他の部分の層構
成は、周知であるため説明を省略する。A thin side surface nonmagnetic layer 43 is formed on the side surface of the upper magnetic pole layer 42, and also on the side surface of the recording gap layer 41 as shown in FIG. On the side surface non-magnetic layer 43, a side surface magnetic layer 44 is further formed on the side surface of the convex portion of the bottom pole layer 40 as the case may be. The side surface nonmagnetic layer 43 is a reattachment of a nonmagnetic material for the recording gap layer, which is removed by ion milling. The side magnetic layer 44 is a redeposited magnetic substance for the lower pole layer, which is removed by ion milling. The layer structure of the other parts of the composite type thin film magnetic head is well known and will not be described.
【００３３】側面非磁性層４３の層厚は、記録ギャップ
層４１の層厚（典型的には約０．２５μｍ）よりかなり
薄くなっており、このため、上部磁極層４２の端縁部で
発生する強い磁界による磁束の多くは、この側面非磁性
層４３を通過して側面磁性層４４に達するため、サイド
フリンジ磁束が著しく減少する。このため、サイドフリ
ンジ磁束による実効的な記録トラック幅の拡大を大幅に
抑制することができる。側面磁性層４４の層厚は、好ま
しくは０．０５μｍ〜０．５μｍであり、より好ましく
は０．１μｍ〜０．３μｍである。この層厚が０．０５
μｍ未満であると、サイドフリンジ磁束の抑制効果が低
くなり、０．５μｍを越えると、記録ギャップからの有
効磁界が低減してオーバーライト特性が低下する。ま
た、側面非磁性層４３の層厚は、好ましくは記録ギャッ
プ層４１の層厚（記録ギャップ長）の１／２以下であ
り、より好ましくは１／３以下である。この層厚が記録
ギャップ層１１の層厚の１／２を越えた場合、サイドフ
リンジ磁束の抑制効果が低くなる。The layer thickness of the side surface non-magnetic layer 43 is considerably smaller than the layer thickness of the recording gap layer 41 (typically about 0.25 μm). Therefore, it occurs at the edge of the upper magnetic pole layer 42. Most of the magnetic flux due to the strong magnetic field passes through the side surface nonmagnetic layer 43 and reaches the side surface magnetic layer 44, so that the side fringe magnetic flux is significantly reduced. Therefore, the effective expansion of the recording track width due to the side fringe magnetic flux can be significantly suppressed. The thickness of the side magnetic layer 44 is preferably 0.05 μm to 0.5 μm, more preferably 0.1 μm to 0.3 μm. This layer thickness is 0.05
When it is less than μm, the effect of suppressing the side fringe magnetic flux becomes low, and when it exceeds 0.5 μm, the effective magnetic field from the recording gap is reduced and the overwrite characteristic is deteriorated. The layer thickness of the side surface non-magnetic layer 43 is preferably 1/2 or less, more preferably 1/3 or less of the layer thickness (recording gap length) of the recording gap layer 41. If this layer thickness exceeds ½ of the layer thickness of the recording gap layer 11, the side fringe magnetic flux suppressing effect is reduced.
【００３４】図５は、図４の実施形態における薄膜磁気
ヘッドの製造工程を概略的に説明するＡＢＳ側から見た
工程図である。同図（Ａ）に示すように、下部磁極層用
の磁性層（典型的にはＮｉ−Ｆｅ系の合金）５０上に記
録ギャップ層用の非磁性層（典型的にはＡｌ2 Ｏ3 ）５
１を積層し、さらにその上に上部磁極層４２を形成し、
次いで、この上部磁極層４２をあたかもマスクであるよ
うに用いてイオンミリングを行う。このイオンミリング
は、Ａｒイオンのほぼ垂直下方向に向いたビームを用い
て行われる。なお、本実施形態では、上部磁極層４２
は、パターニングしたレジストを用いて飽和磁束密度の
高い磁性体（典型的にはＣｏ−Ｚｒ−Ｓｎ系合金、Ｆｅ
−Ｚｒ−Ｎ系合金、Ｆｅ−Ｔａ−Ｃ系合金等）からなる
下側層をイオンミリング等で形成し、磁性体（典型的に
はＮｉ−Ｆｅ系の合金）からなる上側層をめっきで形成
してもよいし、これら磁性体からなる層を積層した後、
イオンミリングによってこれら磁性層をパターニングし
て形成してもよい。FIG. 5 is a process diagram seen from the ABS side for schematically explaining the manufacturing process of the thin film magnetic head in the embodiment of FIG. As shown in FIG. 3A, a non-magnetic layer (typically Al 2 O 3 ) for the write gap layer is formed on the magnetic layer (typically Ni—Fe alloy) 50 for the lower pole layer. 5
1 is laminated, and the upper magnetic pole layer 42 is further formed thereon,
Then, ion milling is performed using this upper magnetic pole layer 42 as if it were a mask. This ion milling is performed by using a beam of Ar ions that is directed substantially vertically downward. In the present embodiment, the top pole layer 42
Is a magnetic material having a high saturation magnetic flux density (typically a Co—Zr—Sn based alloy, Fe
-Zr-N-based alloy, Fe-Ta-C-based alloy, etc.) is formed by ion milling or the like, and an upper layer made of a magnetic material (typically, Ni-Fe-based alloy) is plated. It may be formed, or after stacking layers made of these magnetic materials,
You may pattern and form these magnetic layers by ion milling.
【００３５】このイオンミリングにより、同図（Ｂ）に
示すように、まず、非磁性層５１の一部が除去されて記
録ギャップ層４１が形成される。同時に、その除去され
た非磁性層５１の非磁性体の一部が上部磁極層４２の側
面及び記録ギャップ層４１の側面に再付着することによ
り、側面非磁性層４３が形成される。By this ion milling, as shown in FIG. 3B, first, a part of the nonmagnetic layer 51 is removed to form the recording gap layer 41. At the same time, a part of the removed nonmagnetic material of the nonmagnetic layer 51 is redeposited on the side surface of the top pole layer 42 and the side surface of the recording gap layer 41, so that the side surface nonmagnetic layer 43 is formed.
【００３６】さらにイオンミリングを継続することによ
り、同図（Ｃ）に示すように、磁性層５０の一部が除去
されて、凸部４０ａを有する下部磁極層４０が形成され
る。同時に、その除去された磁性層５０の磁性体の一部
が側面非磁性層４３の側面及び下部磁極層４０の凸部４
０ａの側面に再付着することにより、側面磁性層４４が
形成される。By continuing the ion milling, a part of the magnetic layer 50 is removed to form the lower magnetic pole layer 40 having the convex portion 40a, as shown in FIG. At the same time, a part of the magnetic material of the removed magnetic layer 50 partially covers the side surface of the side surface nonmagnetic layer 43 and the convex portion 4 of the lower magnetic pole layer 40.
The side magnetic layer 44 is formed by redepositing on the side surface of 0a.
【００３７】本実施形態による作用効果は、図１の実施
形態の場合と全く同じである。The operation and effect of this embodiment are exactly the same as those of the embodiment of FIG.
【００３８】図６は本発明のさらに他の実施形態におけ
る薄膜磁気ヘッドの記録ヘッド部分の層構成を概略的に
説明するべくＡＢＳ側から見た図である。本実施形態に
おいても、上部磁極層が複数の磁性層（上側層及び下側
層）から構成されている。FIG. 6 is a view seen from the ABS side for the purpose of schematically explaining the layer structure of the recording head portion of the thin film magnetic head in still another embodiment of the present invention. Also in this embodiment, the top pole layer is composed of a plurality of magnetic layers (upper layer and lower layer).
【００３９】同図において、６０は図示しないＭＲ素子
の上部シールド層と兼用されるインダクティブ記録ヘッ
ドの下部磁極層、６１は記録ギャップ層、６２は上部磁
極層をそれぞれ示している。上部磁極層６２は、記録能
力を向上させるための飽和磁束密度の高い磁性体からな
る下側層６２ａと通常の磁極層と同じ磁性体からなる上
側層６２ｂとの２層構造となっている。下部磁極層６０
のＡＢＳ面内の形状は、凸部６０ａを上部磁極層６２側
に有する形状であり、これによって上部磁極層６２及び
下部磁極層６０の互いに対向する端縁の長さがほぼ等し
くなるかできるだけ等しくなるように構成されている。In the figure, 60 is a lower magnetic pole layer of an inductive recording head which is also used as an upper shield layer of an MR element (not shown), 61 is a recording gap layer, and 62 is an upper magnetic pole layer. The upper magnetic pole layer 62 has a two-layer structure of a lower layer 62a made of a magnetic material having a high saturation magnetic flux density for improving recording ability and an upper layer 62b made of the same magnetic material as a normal magnetic pole layer. Bottom pole layer 60
Has a convex portion 60a on the side of the upper magnetic pole layer 62, so that the lengths of the edges of the upper magnetic pole layer 62 and the lower magnetic pole layer 60 facing each other are substantially equal to each other or equal to each other as much as possible. Is configured to be.
【００４０】上部磁極層６２の側面には、第１の側面磁
性層６５が形成されている。さらにこの第１の側面磁性
層６５上、場合によっては同図に示すように記録ギャッ
プ層６１の側面にも、薄い側面非磁性層６３が形成され
ている。この側面非磁性層６３上には、さらに、場合に
よっては同図に示すように下部磁極層６０の凸部の側面
にも、第２の側面磁性層６４が形成されている。側面非
磁性層６３は、イオンミリングにより除去された記録ギ
ャップ層用の非磁性体の再付着物である。また、第１の
側面磁性層６５は、イオンミリングにより除去された上
部磁極層の下側層の磁性体の再付着物であり、第２の側
面磁性層６４は、イオンミリングにより除去された下部
磁極層用の磁性体の再付着物である。複合型薄膜磁気ヘ
ッドのその他の部分の層構成は、周知であるため説明を
省略する。A first side surface magnetic layer 65 is formed on the side surface of the top pole layer 62. Further, a thin side surface non-magnetic layer 63 is formed on the first side surface magnetic layer 65, and also on the side surface of the recording gap layer 61 as the case may be. On the side surface non-magnetic layer 63, a second side surface magnetic layer 64 is further formed on the side surface of the convex portion of the lower magnetic pole layer 60 as the case may be. The side surface nonmagnetic layer 63 is a reattachment of a nonmagnetic material for the recording gap layer, which is removed by ion milling. The first side surface magnetic layer 65 is a reattachment of the magnetic material of the lower layer of the upper magnetic pole layer removed by ion milling, and the second side surface magnetic layer 64 is the lower portion removed by ion milling. It is a reattachment of a magnetic material for the pole layer. The layer structure of the other parts of the composite type thin film magnetic head is well known and will not be described.
【００４１】側面非磁性層６３の層厚は、記録ギャップ
層６１の層厚（典型的には約０．２５μｍ）よりかなり
薄くなっており、このため、上部磁極層６２の端縁部で
発生する強い磁界による磁束の多くは、この側面非磁性
層６３を通過して側面磁性層６４に達するため、サイド
フリンジ磁束が著しく減少する。このため、サイドフリ
ンジ磁束による実効的な記録トラック幅の拡大を大幅に
抑制することができる。側面磁性層６４の層厚は、好ま
しくは０．０５μｍ〜０．５μｍであり、より好ましく
は０．１μｍ〜０．３μｍである。この層厚が０．０５
μｍ未満であると、サイドフリンジ磁束の抑制効果が低
くなり、０．５μｍを越えると、記録ギャップからの有
効磁界が低減してオーバーライト特性が低下する。ま
た、側面非磁性層６３の層厚は、好ましくは記録ギャッ
プ層６１の層厚（記録ギャップ長）の１／２以下であ
り、より好ましくは１／３以下である。この層厚が記録
ギャップ層１１の層厚の１／２を越えた場合、サイドフ
リンジ磁束の抑制効果が低くなる。The layer thickness of the side surface non-magnetic layer 63 is considerably smaller than the layer thickness of the recording gap layer 61 (typically about 0.25 μm). Therefore, the side non-magnetic layer 63 is generated at the edge portion of the upper magnetic pole layer 62. Most of the magnetic flux due to the strong magnetic field passes through the side surface nonmagnetic layer 63 and reaches the side surface magnetic layer 64, so that the side fringe magnetic flux is significantly reduced. Therefore, the effective expansion of the recording track width due to the side fringe magnetic flux can be significantly suppressed. The layer thickness of the side magnetic layer 64 is preferably 0.05 μm to 0.5 μm, more preferably 0.1 μm to 0.3 μm. This layer thickness is 0.05
When it is less than μm, the effect of suppressing the side fringe magnetic flux becomes low, and when it exceeds 0.5 μm, the effective magnetic field from the recording gap is reduced and the overwrite characteristic is deteriorated. The layer thickness of the side surface non-magnetic layer 63 is preferably 1/2 or less of the layer thickness (recording gap length) of the recording gap layer 61, more preferably 1/3 or less. If this layer thickness exceeds ½ of the layer thickness of the recording gap layer 11, the side fringe magnetic flux suppressing effect is reduced.
【００４２】図７は、図６の実施形態における薄膜磁気
ヘッドの製造工程を概略的に説明するＡＢＳ側から見た
工程図である。同図（Ａ）に示すように、下部磁極層用
の磁性層（典型的にはＮｉ−Ｆｅ系の合金）７０上に記
録ギャップ層用の非磁性層（典型的にはＡｌ2 Ｏ3 ）７
１を積層し、さらにその上に上部磁極層の下側層用の飽
和磁束密度の高い磁性層（典型的にはＣｏ−Ｚｒ−Ｓｎ
系合金、Ｆｅ−Ｚｒ−Ｎ系合金、Ｆｅ−Ｔａ−Ｃ系合金
等）７２をスパッタリング等で形成した後、その上に上
部磁極層の上側層６２ｂを形成し、次いで、この上側層
６２ｂをあたかもマスクであるように用いてイオンミリ
ングを行う。このイオンミリングは、Ａｒイオンのほぼ
垂直下方向に向いたビームを用いて行われる。なお、本
実施形態では、上側層６２ｂはパターニングしたレジス
トを用いて磁性体（典型的にはＮｉ−Ｆｅ系の合金）を
めっきして形成してもよいし、磁性層を積層した後、イ
オンミリングによってこの磁性層をパターニングして形
成してもよい。FIG. 7 is a process diagram viewed from the ABS side for schematically explaining the manufacturing process of the thin film magnetic head in the embodiment of FIG. As shown in FIG. 3A, a non-magnetic layer (typically Al 2 O 3 ) for the recording gap layer is formed on the magnetic layer (typically Ni—Fe alloy) 70 for the lower magnetic pole layer. 7
1 is further laminated, and a magnetic layer having a high saturation magnetic flux density (typically Co—Zr—Sn) for the lower layer of the upper magnetic pole layer is further laminated thereon.
Alloy, Fe-Zr-N-based alloy, Fe-Ta-C-based alloy, etc.) 72 is formed by sputtering or the like, and then an upper layer 62b of the upper magnetic pole layer is formed thereon, and then this upper layer 62b is formed. Ion milling is performed using as if it were a mask. This ion milling is performed by using a beam of Ar ions that is directed substantially vertically downward. In the present embodiment, the upper layer 62b may be formed by plating a magnetic material (typically a Ni—Fe alloy) using a patterned resist, or by forming a magnetic layer and then forming an ion layer. This magnetic layer may be patterned by milling.
【００４３】このイオンミリングにより、同図（Ｂ）に
示すように、まず、磁性層７２の一部が除去されて上部
磁極層６２の下側層６２ａが形成される。同時に、その
除去された磁性層７２の磁性体の一部が上部磁極層６２
の側面の側面に再付着することにより、第１の側面磁性
層６５が形成される。By this ion milling, as shown in FIG. 6B, first, a part of the magnetic layer 72 is removed to form a lower layer 62a of the upper magnetic pole layer 62. At the same time, a part of the magnetic material of the removed magnetic layer 72 is partially removed.
The first side magnetic layer 65 is formed by reattaching to the side surface of the first side magnetic layer 65.
【００４４】イオンミリングを継続することにより、同
図（Ｃ）に示すように、非磁性層７１の一部が除去され
て記録ギャップ層６１が形成される。同時に、その除去
された非磁性層７１の非磁性体の一部が上部磁極層６２
の側面及び記録ギャップ層６１の側面に再付着すること
により、側面非磁性層６３が形成される。By continuing the ion milling, the recording gap layer 61 is formed by removing a part of the nonmagnetic layer 71, as shown in FIG. At the same time, a part of the removed nonmagnetic material of the nonmagnetic layer 71 is partially removed.
The side surface nonmagnetic layer 63 is formed by reattaching to the side surface of the recording gap layer 61 and the side surface of the recording gap layer 61.
【００４５】さらにイオンミリングを継続することによ
り、同図（Ｄ）に示すように、磁性層７０の一部が除去
されて、凸部６０ａを有する下部磁極層６０が形成され
る。同時に、その除去された磁性層７０の磁性体の一部
が側面非磁性層６３の側面及び下部磁極層６０の凸部６
０ａの側面に再付着することにより、第２の側面磁性層
６４が形成される。By further continuing the ion milling, a part of the magnetic layer 70 is removed to form the lower magnetic pole layer 60 having the convex portion 60a, as shown in FIG. At the same time, a part of the magnetic material of the removed magnetic layer 70 partially covers the side surface of the side surface nonmagnetic layer 63 and the convex portion 6 of the lower magnetic pole layer 60.
The second side surface magnetic layer 64 is formed by reattaching to the side surface of 0a.
【００４６】本実施形態による作用効果は、図１の実施
形態の場合と全く同じである。The operation and effect of this embodiment are exactly the same as those of the embodiment of FIG.
【００４７】以上述べた実施形態は全て本発明を例示的
に示すものであって限定的に示すものではなく、本発明
は他の種々の変形態様及び変更態様で実施することがで
きる。従って本発明の範囲は特許請求の範囲及びその均
等範囲によってのみ規定されるものである。The embodiments described above are merely illustrative and not limitative of the present invention, and the present invention can be implemented in various other modified modes and modified modes. Therefore, the scope of the present invention is defined only by the claims and their equivalents.
【００４８】[0048]
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明の薄膜
磁気ヘッドは、非磁性体で形成された記録ギャップ層
と、この記録ギャップ層を挟んで積層されており磁性体
で形成された下部磁極層及び上部磁極層と、少なくとも
上部磁極層の側面の少なくとも一部に側面非磁性層を介
して付着されている側面磁性層とを備えている。記録磁
極の端部で発生する漏れ磁束の多くが、上部磁極層とそ
の側面の少なくとも一部に側面非磁性層を介して付着さ
れている側面磁性層との間を通るため、サイドフリンジ
磁束が著しく減少する。このため、サイドフリンジ磁束
による実効的な記録トラック幅の拡大を大幅に抑制する
ことができる。As described in detail above, the thin film magnetic head of the present invention has a recording gap layer formed of a non-magnetic material, and a lower portion formed of a magnetic material which is laminated with the recording gap layer sandwiched therebetween. The magnetic pole layer and the upper magnetic pole layer are provided, and the side magnetic layer is attached to at least a part of the side surface of the upper magnetic pole layer through the side nonmagnetic layer. Most of the leakage magnetic flux generated at the end of the recording magnetic pole passes between the upper magnetic pole layer and the side surface magnetic layer attached to at least a part of the side surface of the recording magnetic pole through the side surface nonmagnetic layer. Significantly reduced. Therefore, the effective expansion of the recording track width due to the side fringe magnetic flux can be significantly suppressed.
【００４９】さらに、本発明の製造方法によれば、サイ
ドフリンジ磁束を大幅に減少させるための側面非磁性層
及び側面磁性層の構造が、イオンミリングにより下部磁
極層及び記録ギャップ層を形成する工程において必然的
に発生する再付着物で構成されているため、この構造を
形成するために新たな工程を付加する必要がないのみな
らず、従来は種々の工夫を施して付着を防止するか又は
わざわざ除去していた再付着物をそのまま利用している
ため、その意味でも製造工程の簡略化を図ることができ
る。Further, according to the manufacturing method of the present invention, the steps of forming the lower magnetic pole layer and the recording gap layer by ion milling are the structures of the side surface non-magnetic layer and the side surface magnetic layer for greatly reducing the side fringe magnetic flux. Since it is composed of redeposits that inevitably occur in, it is not only necessary to add a new step to form this structure, but conventionally, various measures are taken to prevent adhesion or Since the redeposited material that has been purposely removed is used as it is, the manufacturing process can be simplified in that sense as well.
【図１】本発明の一実施形態における薄膜磁気ヘッドの
記録ヘッド部分の層構成を概略的に説明するべくＡＢＳ
側から見た図である。FIG. 1 is an ABS for schematically explaining a layer structure of a recording head portion of a thin film magnetic head according to an embodiment of the present invention.
It is the figure seen from the side.
【図２】図１の実施形態における薄膜磁気ヘッドの製造
工程を概略的に説明するＡＢＳ側から見た工程図であ
る。2A and 2B are process diagrams viewed from the ABS side, which schematically explain the manufacturing process of the thin film magnetic head in the embodiment of FIG.
【図３】光学的トラック幅に対する磁気的トラック幅と
の関係を示す特性図である。FIG. 3 is a characteristic diagram showing a relationship between an optical track width and a magnetic track width.
【図４】本発明の他の実施形態における薄膜磁気ヘッド
の記録ヘッド部分の層構成を概略的に説明するべくＡＢ
Ｓ側から見た図である。4A and 4B are schematic diagrams for explaining a layer structure of a recording head portion of a thin film magnetic head according to another embodiment of the present invention.
It is the figure seen from the S side.
【図５】図４の実施形態における薄膜磁気ヘッドの製造
工程を概略的に説明するＡＢＳ側から見た工程図であ
る。5A to 5D are process diagrams viewed from the ABS side, which schematically explain the manufacturing process of the thin film magnetic head in the embodiment of FIG.
【図６】本発明のさらに他の実施形態における薄膜磁気
ヘッドの記録ヘッド部分の層構成を概略的に説明するべ
くＡＢＳ側から見た図である。FIG. 6 is a view seen from the ABS side for schematically explaining the layer structure of a recording head portion of a thin film magnetic head according to still another embodiment of the present invention.
【図７】図６の実施形態における薄膜磁気ヘッドの製造
工程を概略的に説明するＡＢＳ側から見た工程図であ
る。FIG. 7 is a process diagram seen from the ABS side for schematically explaining the manufacturing process of the thin film magnetic head in the embodiment of FIG. 6;
１０、４０、６０ 下部磁極層 １０ａ、４０ａ、６０ａ 凸部 １１、４１、６１ 記録ギャップ層 １２、４２、６２ 上部磁極層 １３、４３、６３ 側面非磁性層 １４、４４ 側面磁性層 ２０、５０、７０ 下部磁極層用の磁性層 ２１、５１、７１ 記録ギャップ層用の非磁性層 ４２ａ、６２ａ 上部磁極層の下側層 ４２ｂ、６２ｂ 上部磁極層の上側層 ６４ 第２の側面磁性層 ６５ 第１の側面磁性層 ７２ 上部磁極層の下側層用の磁性層 10, 40, 60 Lower magnetic pole layer 10a, 40a, 60a Convex part 11, 41, 61 recording gap layer 12, 42, 62 Top pole layer 13, 43, 63 Side non-magnetic layer 14,44 Side magnetic layer 20, 50, 70 Magnetic layer for lower pole layer 21, 51, 71 Non-magnetic layer for recording gap layer 42a, 62a Lower layer of upper magnetic pole layer 42b, 62b Upper layer of the upper magnetic pole layer 64 Second Side Magnetic Layer 65 First Side Magnetic Layer 72 Magnetic layer for lower layer of upper magnetic pole layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松熊 浩司 東京都中央区日本橋一丁目13番１号ティ ーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 平２−201710（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−149515（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/31 G11B 5/39 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Koji Matsukuma 1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo, TDK Corporation (56) References JP-A-2-201710 (JP, A) JP-A-10 −149515 (JP, A) (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 5/31 G11B 5/39
Claims (3)
と、該記録ギャップ層を挟んで積層されており、磁性体
で形成された下部磁極層及び磁性体で形成された複数の
磁性層からなる上部磁極層と、少なくとも該上部磁極層
の側面の少なくとも一部に形成されており該上部磁極層
の一部の磁性層を形成する磁性体の一部の再付着物質か
らなる第１の側面磁性層と、該第１の側面磁性層上に形
成されており前記記録ギャップ層の非磁性体の一部の再
付着物質からなる側面非磁性層と、該側面非磁性層上に
形成されており前記下部磁極層の磁性体の一部の再付着
物質からなる第２の側面磁性層とを備えたことを特徴と
する薄膜磁気ヘッド。1. A recording gap layer formed of a non-magnetic material, a lower magnetic pole layer formed of a magnetic material, and a plurality of magnetic layers formed of a magnetic material, which are laminated with the recording gap layer sandwiched therebetween. And a first side surface formed of at least a part of a side surface of the upper magnetic pole layer and a redeposition material of a part of a magnetic material forming a part of the magnetic layer of the upper magnetic pole layer. A magnetic layer, a side surface non-magnetic layer formed on the first side surface magnetic layer and made of a reattachment material of a part of the non-magnetic material of the recording gap layer, and formed on the side surface non-magnetic layer. A thin film magnetic head comprising: a second side magnetic layer made of a redeposition material of a part of the magnetic substance of the lower magnetic pole layer.
ャップ層用の非磁性層を積層し、該非磁性層上に上部磁
極層の下側層用の第２の磁性層を積層し、該第２の磁性
層上に第３の磁性層による前記上部磁極層の上側層を形
成した後、イオンミリングにより前記第２の磁性層、前
記非磁性層及び前記第１の磁性層の一部を除去すること
によって下部磁極層、記録ギャップ層及び前記上部磁極
層の下側層を形成すると共に除去された前記第２の磁性
層の磁性体の一部、前記非磁性層の非磁性体の一部及び
前記第１の磁性層の磁性体の一部を前記上部磁極層の側
面に再付着させることによって、第１の側面磁性層、側
面非磁性層及び第２の側面磁性層をそれぞれ形成するこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。2. A nonmagnetic layer for a recording gap layer is laminated on a first magnetic layer for a lower magnetic pole layer, and a second magnetic layer for a lower layer of an upper magnetic pole layer is laminated on the nonmagnetic layer. Then, after forming the upper layer of the upper magnetic pole layer by the third magnetic layer on the second magnetic layer, the second magnetic layer, the non-magnetic layer and the first magnetic layer are formed by ion milling. The lower magnetic pole layer, the recording gap layer and the lower layer of the upper magnetic pole layer are formed by removing a part of the magnetic material of the second magnetic layer and the nonmagnetic property of the nonmagnetic layer. By reattaching a part of the body and a part of the magnetic body of the first magnetic layer to the side surface of the upper magnetic pole layer, the first side surface magnetic layer, the side surface non-magnetic layer and the second side surface magnetic layer are formed. A method for manufacturing a thin-film magnetic head, characterized in that each is formed.
向に向いたイオンビームによって行われることを特徴と
する請求項２に記載の製造方法。3. The manufacturing method according to claim 2, wherein the ion milling is performed by an ion beam directed substantially vertically downward.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12542598A JP3521739B2 (en) | 1997-05-29 | 1998-04-21 | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15436197 | 1997-05-29 | ||
| JP9-154361 | 1997-05-29 | ||
| JP12542598A JP3521739B2 (en) | 1997-05-29 | 1998-04-21 | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1145411A JPH1145411A (en) | 1999-02-16 |
| JP3521739B2 true JP3521739B2 (en) | 2004-04-19 |
Family
ID=26461867
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12542598A Expired - Fee Related JP3521739B2 (en) | 1997-05-29 | 1998-04-21 | Thin film magnetic head and method of manufacturing the same |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3521739B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6547975B1 (en) * | 1999-10-29 | 2003-04-15 | Unaxis Usa Inc. | Magnetic pole fabrication process and device |
| KR100360483B1 (en) | 2000-06-22 | 2002-11-08 | 삼성전자 주식회사 | A magnetic head |
-
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- 1998-04-21 JP JP12542598A patent/JP3521739B2/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JPH1145411A (en) | 1999-02-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030909 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20031217 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040120 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040202 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |