JP3521322B2 - Differential pressure measuring device - Google Patents

Differential pressure measuring device

Info

Publication number
JP3521322B2
JP3521322B2 JP11069898A JP11069898A JP3521322B2 JP 3521322 B2 JP3521322 B2 JP 3521322B2 JP 11069898 A JP11069898 A JP 11069898A JP 11069898 A JP11069898 A JP 11069898A JP 3521322 B2 JP3521322 B2 JP 3521322B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diaphragm
pressure
measuring device
welding
resistance welding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP11069898A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH11304622A (en
Inventor
護 相沢
桂太 明石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yokogawa Electric Corp filed Critical Yokogawa Electric Corp
Priority to JP11069898A priority Critical patent/JP3521322B2/en
Publication of JPH11304622A publication Critical patent/JPH11304622A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3521322B2 publication Critical patent/JP3521322B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、組み立てに基づく
特性の変動が回避出来、組み立てが容易で、コストダウ
ンが図れる差圧測定装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a differential pressure measuring device capable of avoiding variation in characteristics due to assembly, facilitating assembly, and reducing costs.

【0002】[0002]

【従来の技術】図2は、従来より一般に使用されている
従来例の構成説明図で、例えば、実開昭60―1816
42号に示されている。
2. Description of the Related Art FIG. 2 is an explanatory view of a conventional example which has been generally used.
No. 42 is shown.

【0003】図において、1はハウジングで、円柱状の
首部1Aと、首部1Aの端部外周縁部1Cにおいて溶接
接続されたブロック状の受圧部1Bとよりなる。首部1
Aと受圧部1Bとは、この場合は、ステンレス材よりな
る。
In the figure, reference numeral 1 denotes a housing, which is composed of a columnar neck portion 1A and a block-shaped pressure receiving portion 1B welded and connected at an outer peripheral edge portion 1C of the end portion of the neck portion 1A. Neck 1
In this case, A and the pressure receiving portion 1B are made of a stainless material.

【0004】ハウジング1の両側に高圧側カバーフラン
ジ2、低圧側カバーフランジ3が溶接等によって固定さ
れており、両カバーフランジ2,3には測定せんとする
圧力PH の高圧流体の導入口4、圧力PL の低圧流体の
導入口5が設けられている。
A high-pressure side cover flange 2 and a low-pressure side cover flange 3 are fixed to both sides of the housing 1 by welding or the like, and both cover flanges 2 and 3 are provided with a high-pressure fluid inlet port 4 of a pressure P H to be measured. , An inlet 5 for the low-pressure fluid of pressure P L is provided.

【0005】ハウジング1内に圧力測定室6が形成され
ており、この圧力測定室6内にセンタダイアフラム7と
シリコンダイアフラム8が設けられている。
A pressure measuring chamber 6 is formed in the housing 1, and a center diaphragm 7 and a silicon diaphragm 8 are provided in the pressure measuring chamber 6.

【0006】センタダイアフラム7とシリコンダイアフ
ラム8はそれぞれ別個に圧力測定室6の壁に固定されて
おり、センタダイアフラム7とシリコンダイアフラム8
の両者でもって圧力測定室6を2分している。
The center diaphragm 7 and the silicon diaphragm 8 are separately fixed to the wall of the pressure measuring chamber 6, and the center diaphragm 7 and the silicon diaphragm 8 are separately provided.
The pressure measuring chamber 6 is divided into two parts by both.

【0007】センタダイアフラム7と対向する圧力測定
室6の壁には、バックプレ―ト6A,6Bが形成されて
いる。センタダイアフラム7は周縁部をハウジング1に
溶接されている。
Back plates 6A and 6B are formed on the wall of the pressure measuring chamber 6 facing the center diaphragm 7. The center diaphragm 7 has a peripheral edge portion welded to the housing 1.

【0008】シリコンダイアフラム8は全体が単結晶の
シリコン基板から形成されている。シリコン基板の一方
の面にボロン等の不純物を選択拡散して4っのストレン
ゲ―ジ80を形成し、他方の面を機械加工、エッチング
し、全体が凹形のダイアフラムを形成する。
The silicon diaphragm 8 is entirely formed of a single crystal silicon substrate. Impurities such as boron are selectively diffused on one surface of the silicon substrate to form four strain gauges 80, and the other surface is machined and etched to form a diaphragm having an overall concave shape.

【0009】4っのストレインゲ―ジ80は、シリコン
ダイアフラム8が差圧ΔPを受けてたわむ時、2つが引
張り、2つが圧縮を受けるようになっており、これらが
ホイ―トストン・ブリッジ回路に接続され、抵抗変化が
差圧ΔPの変化として検出される。
The four strain gages 80 are designed so that when the silicon diaphragm 8 is deflected by the differential pressure ΔP, two strain gages are pulled and two are compressed, and these strain gages form a Wheatstone bridge circuit. The change in resistance is detected as a change in the differential pressure ΔP.

【0010】シリコンダイアフラム8は、首部1Aを2
個のセンサ室81,82に分ける。支持体9の圧力測定
室6側端面に、低融点ガラス接続等の方法でシリコンダ
イアフラム8が接着固定されている。
The silicon diaphragm 8 has a neck portion 1A of 2
It is divided into individual sensor rooms 81 and 82. A silicon diaphragm 8 is adhesively fixed to the end surface of the support 9 on the pressure measurement chamber 6 side by a method such as low-melting glass connection.

【0011】ハウジング1と高圧側カバーフランジ2、
および低圧側カバーフランジ3との間に、圧力導入室1
0,11が形成されている。この圧力導入室10,11
内に隔液ダイアフラム12,13を設け、この隔液ダイ
アフラム12,13と対向するハウジング1の壁10
A,11Aに隔液ダイアフラム12,13と類似の形状
のバックプレ―トが形成されている。
Housing 1 and high-pressure side cover flange 2,
And between the low pressure side cover flange 3 and the pressure introducing chamber 1
0 and 11 are formed. This pressure introducing chamber 10, 11
The diaphragms 12 and 13 are provided inside, and the wall 10 of the housing 1 facing the diaphragms 12 and 13 is provided.
A back plate having a shape similar to that of the diaphragms 12 and 13 is formed on each of A and 11A.

【0012】隔液ダイアフラム12,13は、受圧部1
Bに、隔液リング121,131により周縁部が溶接さ
れている。この場合は、隔液ダイアフラム12,13
と、隔液リング121,131とはステンレス材よりな
る。
The diaphragms 12 and 13 have a pressure receiving portion 1.
The peripheral portion is welded to B by the liquid separating rings 121 and 131. In this case, the diaphragms 12, 13
The separator rings 121 and 131 are made of stainless steel.

【0013】隔液ダイアフラム12,13とバックプレ
―ト10A,11Aとで形成される空間と、圧力測定室
6は、連通孔14,15を介して導通している。
The space formed by the diaphragms 12 and 13 and the back plates 10A and 11A and the pressure measuring chamber 6 are in communication with each other through communication holes 14 and 15.

【0014】そして、隔液ダイアフラム12,13間に
シリコンオイル等の封入液101,102が満たされ、
この封入液が連通孔16,17を介してシリコンダイア
フラム8の上下面にまで至っている。
Filling liquid 101, 102 such as silicone oil is filled between the diaphragms 12, 13.
The enclosed liquid reaches the upper and lower surfaces of the silicon diaphragm 8 through the communication holes 16 and 17.

【0015】封入液101,102は、センタダイアフ
ラム7とシリコンダイアフラム8とによって2分されて
いるが、その量が、ほぼ均等になるように配慮されてい
る。18は、受圧部1Bとカバーフランジ2,3との間
に設けられたガスケットで、この場合は、Oリングが使
用されている。
The enclosed liquids 101 and 102 are divided into two parts by the center diaphragm 7 and the silicon diaphragm 8, but the amounts are considered to be almost equal. Reference numeral 18 denotes a gasket provided between the pressure receiving portion 1B and the cover flanges 2 and 3, and in this case, an O ring is used.

【0016】以上の構成において、高圧側から圧力が作
用した場合、隔液ダイアフラム12に作用する圧力が封
入液101によってシリコンダイアフラム8に伝達され
る。一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダイア
フラム13に作用する圧力が封入液102によってシリ
コンダイアフラム8に伝達される。
In the above structure, when pressure is applied from the high pressure side, the pressure acting on the diaphragm diaphragm 12 is transmitted to the silicon diaphragm 8 by the enclosed liquid 101. On the other hand, when the pressure acts from the low pressure side, the pressure acting on the diaphragm diaphragm 13 is transmitted to the silicon diaphragm 8 by the enclosed liquid 102.

【0017】この結果、高圧側と低圧側との圧力差に応
じてシリコンダイアフラム8が歪み、この歪み量がスト
レインゲ―ジ80によって電気的に取出され、差圧の測
定が行なわれる。
As a result, the silicon diaphragm 8 is distorted according to the pressure difference between the high-pressure side and the low-pressure side, and the strain amount is electrically taken out by the strain gauge 80, and the differential pressure is measured.

【0018】図3は従来より一般に使用されている他の
従来例の構成説明図で、測定流体が高腐蝕性流体の場合
である。
FIG. 3 is an explanatory view of the structure of another conventional example which is generally used in the past, in the case where the measurement fluid is a highly corrosive fluid.

【0019】測定流体が高腐蝕性流体の場合は、第1の
隔液ダイアフラム12,13と第1の隔液リング12
1,131とを覆って、高耐腐蝕性材、例えば、タンタ
ル、ハステロイ材からなる、第2の隔液ダイアフラム2
1,22と第2の隔液リング211,221とが使用さ
れる。
When the fluid to be measured is a highly corrosive fluid, the first diaphragms 12 and 13 and the first diaphragm ring 12 are used.
The second diaphragm 2 for covering 1, 131 and made of a highly corrosion-resistant material such as tantalum or Hastelloy material.
1, 22 and second separating rings 211, 221 are used.

【0020】この場合、タンタル、ハステロイ材からな
る第2の隔液ダイアフラム21,22は、ステンレスよ
りなる受圧部1Bに溶接固定され難いので、例えば、ニ
ッケルよりなる間材リング23,24を介して溶接固定
される。
In this case, since the second diaphragms 21 and 22 made of tantalum or Hastelloy are difficult to be welded and fixed to the pressure receiving portion 1B made of stainless steel, for example, via the intervening material rings 23 and 24 made of nickel. It is fixed by welding.

【0021】図3に示す如く、第1の隔液ダイアフラム
12,13と第1の隔液リング121,131と受圧部
1Bとの間、第2の隔液ダイアフラム21,22と第2
の隔液リング211,221と間材リング23,24と
の間、間材リング23,24と受圧部1Bとの間には、
溶接部Dが設けられている。、
As shown in FIG. 3, between the first diaphragms 12 and 13, the first diaphragm rings 121 and 131 and the pressure receiving portion 1B, the second diaphragms 21 and 22 and the second diaphragms 22 and 22.
Between the liquid separating rings 211 and 221 and the interstitial rings 23 and 24, and between the interstitial rings 23 and 24 and the pressure receiving portion 1B,
A welded portion D is provided. ,

【0022】この場合は、Tig溶接がされている。ま
た、第2の隔液ダイアフラム21,22と第2の隔液リ
ング211,221との間には、電子ビーム溶接Eがな
されている。
In this case, Tig welding is performed. Electron beam welding E is performed between the second diaphragms 21 and 22 and the second diaphragm rings 211 and 221.

【0023】[0023]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この様
な高腐蝕性の装置においては、 (1)カバーフランジ2,3は、圧力導入室10,11
の耐圧を確保出来るようにするために、例えば、貫通ボ
ルト、ナツトを使用して隔液リング121,131を強
く押圧し締め付ける。
However, in such a highly corrosive device, (1) the cover flanges 2 and 3 have the pressure introducing chambers 10 and 11.
In order to ensure the withstand pressure of, the liquid separating rings 121 and 131 are strongly pressed and tightened by using, for example, a through bolt and a nut.

【0024】締め付け面とダイアフラム12,13、2
1,22との面が、同一面上にあるため、ダイアフラム
12,13、21,22の初期張力に影響が及び、装置
の特性がばらつく事になる。
Clamping surface and diaphragms 12, 13, 2
Since the surfaces of the diaphragms 1 and 22 are on the same surface, the initial tension of the diaphragms 12, 13, 21 and 22 is affected and the characteristics of the device vary.

【0025】(2)第2の隔液ダイアフラム21,2
2、第2の隔液リング21,22や間材リング2
3,24を必要とするため、溶接個所や部品点数が多く
なってしまい、大幅なコストアップとなってしまう。
(2) Second diaphragm diaphragms 21,2
2, second separator ring 21 1 , 22 1 and interstitial ring 2
Since 3, 24 are required, the number of welding points and the number of parts are increased, resulting in a significant increase in cost.

【0026】本発明は、この問題点を、解決するもので
ある。本発明の目的は、組み立てに基づく特性の変動が
回避出来、組み立てが容易で、コストダウンが図れる差
圧測定装置を提供するにある。
The present invention solves this problem. An object of the present invention is to provide a differential pressure measuring device which can avoid characteristic fluctuations due to assembly, can be easily assembled, and can reduce costs.

【0027】[0027]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、 (1)ブロック状の受圧部に一方の面の周縁部が溶接固
定される隔液ダイアフラムと、この隔液ダイアフラムの
他方の面の周縁部を押圧シールするカバーフランジとを
具備する差圧測定装置において、前記隔液ダイアフラム
の周縁を前記受圧部にリング状に抵抗溶接して形成され
る外側抵抗溶接部と、この外側抵抗溶接部より内側に設
けられ前記隔液ダイアフラムの周縁部を前記受圧部にリ
ング状に抵抗溶接して形成される内側抵抗溶接部と、こ
の内側抵抗溶接部と前記外側抵抗溶接部との間にリング
状に前記受圧部に設けられた階段状の段部と、前記隔液
ダイアフラムに設けられこの階段状の段部に対応して曲
がる深絞り部と、前記隔液ダイアフラムの他方の面のこ
の深絞り部より周縁側を押圧シールするカバーフランジ
とを具備したことを特徴とする差圧測定装置。 (2)前記抵抗溶接としてシーム溶接が使用された事を
特徴とする請求項1記載の差圧測定装置。 を構成したものである。
In order to achieve this object, the present invention provides: (1) a diaphragm having a block-shaped pressure receiving portion whose peripheral edge is fixed by welding, and the diaphragm. In a differential pressure measuring device comprising a cover flange that press-seals the peripheral edge of the other surface of the outer resistance welding portion formed by resistance welding the peripheral edge of the diaphragm to the pressure receiving portion in a ring shape, An inner resistance weld portion formed inside the outer resistance weld portion by resistance welding the periphery of the diaphragm to the pressure receiving portion in a ring shape, and the inner resistance weld portion and the outer resistance weld portion. A stepped stepped portion provided in the pressure receiving portion in a ring shape between the deep diaphragm portion which is provided in the diaphragm diaphragm and bends corresponding to the stepped stepped portion, and the other of the diaphragm diaphragm. This of face A differential pressure measuring device, comprising: a cover flange for pressing and sealing the peripheral side of the deep drawing part. (2) The differential pressure measuring device according to claim 1, wherein seam welding is used as the resistance welding. Is configured.

【0028】[0028]

【作用】以上の構成において、高圧側から圧力が作用し
た場合、隔液ダイアフラムに作用する圧力が、封入液に
よってシリコンダイアフラムに伝達される。一方、低圧
側から圧力が作用した場合、隔液ダイアフラムに作用す
る圧力が封入液によってシリコンダイアフラムに伝達さ
れる。
In the above structure, when pressure is applied from the high pressure side, the pressure acting on the diaphragm is transmitted to the silicon diaphragm by the enclosed liquid. On the other hand, when pressure acts from the low pressure side, the pressure acting on the diaphragm is transmitted to the silicon diaphragm by the enclosed liquid.

【0029】従って、高圧側と低圧側との圧力差に応じ
て、シリコンダイアフラムが歪み、この歪み量がストレ
インゲ―ジによって電気的に取出され、差圧の測定が行
なわれる。
Therefore, the silicon diaphragm is distorted according to the pressure difference between the high pressure side and the low pressure side, and the strain amount is electrically taken out by the strain gauge, and the differential pressure is measured.

【0030】而して、受圧部に隔液ダイアフラムを組み
立てるには、隔液ダイアフラムの深絞り部を、受圧部の
段部に取付ける。次に、内側抵抗溶接部と外側抵抗溶接
部とを、シーム溶接により形成する。以下、実施例に基
づき詳細に説明する。
In order to assemble the diaphragm of the pressure receiving portion, the deep diaphragm portion of the diaphragm is attached to the step of the pressure receiving portion. Next, the inner resistance weld portion and the outer resistance weld portion are formed by seam welding. Hereinafter, detailed description will be given based on examples.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例の要部構
成説明図である。図において、図2と同一記号の構成は
同一機能を表わす。以下、図2と相違部分のみ説明す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an explanatory view of the essential parts of an embodiment of the present invention. In the figure, the same symbols as those in FIG. 2 represent the same functions. Only parts different from FIG. 2 will be described below.

【0032】外側抵抗溶接部31,32は、隔液ダイア
フラム33,34の周縁を、受圧部1Bにリング状にシ
ーム溶接して形成される。隔液ダイアフラム33,34
は、この場合は、タンタルやハステロイ材が使用されて
いる。
The outer resistance welding portions 31, 32 are formed by seam-welding the peripheral edges of the liquid diaphragms 33, 34 to the pressure receiving portion 1B in a ring shape. Separation diaphragm 33, 34
In this case, tantalum or hastelloy materials are used.

【0033】内側抵抗溶接部35,36は、外側抵抗溶
接部31,32より内側に設けられ、隔液ダイアフラム
33,34の周縁部分を、受圧部1Bにリング状にシー
ム溶接して形成される。
The inner resistance welds 35 and 36 are provided inside the outer resistance welds 31 and 32, and are formed by seam-welding the peripheral portions of the diaphragms 33 and 34 to the pressure receiving portion 1B in a ring shape. .

【0034】階段状の段部37,38は、内側抵抗溶接
部35,36と外側抵抗溶接部31,32との間にリン
グ状に受圧部1Bに設けられている。階段状の段部3
7,38に対応して曲がる深絞り部39,41は、隔液
ダイアフラム33,34に設けられている。
The stepped portions 37 and 38 are provided in the pressure receiving portion 1B in a ring shape between the inner resistance welding portions 35 and 36 and the outer resistance welding portions 31 and 32. Stepped step 3
Deep drawing portions 39 and 41 that bend corresponding to 7 and 38 are provided on the diaphragms 33 and 34.

【0035】カバーフランジ2,3は、隔液ダイアフラ
ム33,34の深絞り部39より周縁側を押圧シールす
る。
The cover flanges 2 and 3 press and seal the peripheral sides of the diaphragm diaphragms 33 and 34 with respect to the deep drawn portion 39.

【0036】以上の構成において、高圧側から圧力が作
用した場合、隔液ダイアフラム33に作用する圧力が、
封入液101によって、シリコンダイアフラム8に伝達
される。一方、低圧側から圧力が作用した場合、隔液ダ
イアフラム34に作用する圧力が封入液102によって
シリコンダイアフラム8に伝達される。
In the above structure, when pressure is applied from the high pressure side, the pressure acting on the diaphragm 33 is
It is transmitted to the silicon diaphragm 8 by the enclosed liquid 101. On the other hand, when the pressure acts from the low pressure side, the pressure acting on the diaphragm 34 is transmitted to the silicon diaphragm 8 by the enclosed liquid 102.

【0037】従って、高圧側と低圧側との圧力差に応じ
て、シリコンダイアフラム8が歪み、この歪み量がスト
レインゲ―ジ80によって電気的に取出され、差圧の測
定が行なわれる。
Accordingly, the silicon diaphragm 8 is distorted according to the pressure difference between the high pressure side and the low pressure side, and the strain amount is electrically taken out by the strain gauge 80, and the differential pressure is measured.

【0038】而して、受圧部1Bに隔液ダイアフラム3
3,34を組み立てるには、隔液ダイアフラム33,3
4の深絞り部39,41を、受圧部1Bの段部37,3
8に取付ける。
Thus, the liquid diaphragm 3 is attached to the pressure receiving portion 1B.
To assemble 3, 34, diaphragm diaphragms 33, 3
4 deep drawing parts 39, 41 to the step parts 37, 3 of the pressure receiving part 1B.
Attach to 8.

【0039】次に、内側抵抗溶接部35,36と外側抵
抗溶接部31,32とを、シーム溶接により形成する。
Next, the inner resistance welds 35, 36 and the outer resistance welds 31, 32 are formed by seam welding.

【0040】この結果、 (1)カバーフランジ2,3は、圧力導入室10,11
の耐圧を確保出来るようにするために、隔液リング12
1,131を強く押圧し、締め付ける。
As a result, (1) the cover flanges 2 and 3 have the pressure introducing chambers 10 and 11
Separation ring 12 to ensure the pressure resistance of
Press 1,131 strongly and tighten.

【0041】締め付け面とダイアフラム33,34との
面が、同一面上にあると、ダイアフラム33,34の初
期張力に影響が及び、装置の特性がばらつく恐れがあ
る。
If the tightening surface and the surfaces of the diaphragms 33 and 34 are on the same surface, the initial tension of the diaphragms 33 and 34 may be affected and the characteristics of the device may vary.

【0042】しかし、本発明においては、深絞り部3
9,41が設けられたので、深絞り部39,41で、カ
バーフランジ2,3による押圧力が吸収され、ダイアフ
ラム33,34の初期張力に影響が及ぶことがなく、装
置の特性がばらつく恐れがない差圧測定装置が得られ
る。
However, in the present invention, the deep drawing portion 3
Since 9 and 41 are provided, the pressing force by the cover flanges 2 and 3 is absorbed by the deep drawn portions 39 and 41, the initial tension of the diaphragms 33 and 34 is not affected, and the characteristics of the device may vary. Thus, a differential pressure measuring device can be obtained.

【0043】(2)抵抗溶接を採用したので、隔液ダイ
アフラム33,34を受圧部1Bに直接溶接可能とな
り、図3従来例の如き、第2の隔液ダイアフラム21,
22、第2の隔液リング21,22や間材リング23,
24が必要でなくなった。
(2) Since the resistance welding is used, the diaphragms 33, 34 can be directly welded to the pressure receiving portion 1B, and the second diaphragm 21, 21 as shown in FIG.
22, second separator rings 21 and 22, and interstitial rings 23,
I no longer need 24.

【0044】このため、溶接個所や部品点数が減少出来
て、大幅なコストダウンが可能となり、安価な差圧測定
装置が得られる。
Therefore, the number of welding points and the number of parts can be reduced, the cost can be greatly reduced, and an inexpensive differential pressure measuring device can be obtained.

【0045】(3)段部37,38に、深絞り部39,
41を配置することにより、組み立て治具等を必要とせ
ず、溶接時の芯出し固定が容易に出来るので、溶接作業
が容易に出来、溶接加工コストの大幅な低減が可能とな
り、安価な差圧測定装置が得られる。
(3) The step portions 37, 38 are provided with deep drawing portions 39,
By arranging 41, it is possible to easily perform centering and fixing at the time of welding without using an assembling jig or the like, so that the welding work can be easily performed, and the welding processing cost can be significantly reduced, and an inexpensive differential pressure can be obtained. A measuring device is obtained.

【0046】(4)隔液ダイアフラム33,34の周縁
に、外側抵抗溶接部が形成されるので、耐食部分が広く
形成され、耐食性が向上された差圧測定装置が得られ
る。
(4) Since the outer resistance welded portions are formed on the peripheral edges of the diaphragms 33 and 34, the corrosion resistant portion is widely formed, and the differential pressure measuring device with improved corrosion resistance can be obtained.

【0047】(5)抵抗溶接31,32,35,36と
して、シーム溶接が使用されれば、溶接部外表面に、隔
液ダイアフラムの高耐食材以外の、被溶接部の材料が溶
出する恐れがなく、且つ、連続した溶接であるので、溶
接部31,32,35,36のシールの信頼性が高く確
実な差圧測定装置が得られる。
(5) If seam welding is used as the resistance welding 31, 32, 35, 36, the material of the welded portion other than the highly resistant material of the diaphragm may be eluted on the outer surface of the welded portion. Since the welding is continuous and has no gap, a reliable differential pressure measuring device with a highly reliable seal of the welded portions 31, 32, 35, 36 can be obtained.

【0048】なお、前述の実施例においては、抵抗溶接
31,32,35,36として、シーム溶接31,3
2,35,36が使用されている、と説明したが、これ
に限ることはなく、例えば、スポット溶接でも良い。
In the above-described embodiment, the resistance weldings 31, 32, 35 and 36 are seam weldings 31 and 3.
Although it has been described that 2, 35, 36 are used, the present invention is not limited to this, and spot welding may be used, for example.

【0049】要するに、溶接部外表面に、隔液ダイアフ
ラムの高耐食材以外の、被溶接部の材料が溶出する恐れ
がなければ良い。
In short, the material of the welded portion other than the highly resistant material of the diaphragm is not likely to be eluted on the outer surface of the welded portion.

【0050】[0050]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項1
によれば、 (1)カバーフランジは、圧力導入室の耐圧を確保出来
るようにするために、隔液リングを強く押圧し、締め付
ける。
As described above, according to the first aspect of the present invention.
According to (1), the cover flange strongly presses and tightens the partition ring in order to ensure the pressure resistance of the pressure introducing chamber.

【0051】締め付け面とダイアフラムとの面が、同一
面上にあると、ダイアフラムの初期張力に影響が及び、
装置の特性がばらつく恐れがある。
If the clamping surface and the surface of the diaphragm are on the same surface, the initial tension of the diaphragm is affected,
The device characteristics may vary.

【0052】しかし、本発明においては、深絞り部が設
けられたので、深絞り部で、カバーフランジによる押圧
力が吸収され、ダイアフラムの初期張力に影響が及ぶこ
とがなく、装置の特性がばらつく恐れがない差圧測定装
置が得られる。
However, in the present invention, since the deep drawing portion is provided, the pressing force by the cover flange is absorbed in the deep drawing portion, the initial tension of the diaphragm is not affected, and the characteristics of the device vary. A differential pressure measuring device without fear is obtained.

【0053】(2)抵抗溶接を採用したので、隔液ダイ
アフラムを受圧部に直接溶接可能となり、従来例の如
き、第2の隔液ダイアフラム、第2の隔液リングや間材
リングが必要でなくなった。
(2) Since resistance welding is adopted, the diaphragm diaphragm can be directly welded to the pressure receiving portion, and the second diaphragm diaphragm, the second separator ring, and the spacer ring are required as in the conventional example. lost.

【0054】このため、溶接個所や部品点数が減少出来
て、大幅なコストダウンが可能となり、安価な差圧測定
装置が得られる。
Therefore, the number of welding points and the number of parts can be reduced, the cost can be greatly reduced, and an inexpensive differential pressure measuring device can be obtained.

【0055】(3)段部に、深絞り部を配置することに
より、組み立て治具等を必要とせず、溶接時の芯出し固
定が容易に出来るので、溶接作業が容易に出来、溶接加
工コストの大幅な低減が可能となり、安価な差圧測定装
置が得られる。
(3) By arranging the deep-drawing portion in the step portion, it is possible to easily perform centering and fixing at the time of welding without needing an assembling jig, so that the welding work can be easily performed and the welding process cost can be improved. Can be significantly reduced, and an inexpensive differential pressure measuring device can be obtained.

【0056】(4)隔液ダイアフラムの周縁に、外側抵
抗溶接部が形成されるので、耐食部分が広く形成され、
耐食性が向上された差圧測定装置が得られる。
(4) Since the outer resistance welding portion is formed on the peripheral edge of the diaphragm, the corrosion resistant portion is formed widely,
A differential pressure measuring device having improved corrosion resistance is obtained.

【0057】本発明の請求項2によれば、抵抗溶接とし
て、シーム溶接が使用されたので、溶接部外表面に、隔
液ダイアフラムの高耐食材以外の、被溶接部の材料が溶
出する恐れがなく、且つ、連続した溶接であるので、溶
接部のシールの信頼性が高く確実な差圧測定装置が得ら
れる。
According to the second aspect of the present invention, since the seam welding is used as the resistance welding, the material of the welded portion other than the highly resistant material of the diaphragm is likely to be eluted on the outer surface of the welded portion. Since there is no welding and the welding is continuous, it is possible to obtain a reliable differential pressure measuring device with a highly reliable seal at the welded portion.

【0058】従って、本発明によれば、組み立てに基づ
く特性の変動が回避出来、組み立てが容易で、コストダ
ウンが図れる差圧測定装置を実現することが出来る。
Therefore, according to the present invention, it is possible to realize the differential pressure measuring device which can avoid the variation of the characteristics due to the assembling, can be easily assembled, and can reduce the cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の要部構成説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a main part configuration of an embodiment of the present invention.

【図2】従来より一般に使用されている従来例の構成説
明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a configuration of a conventional example that is generally used in the past.

【図3】従来より一般に使用されている他の従来例の構
成説明図である。
FIG. 3 is a structural explanatory view of another conventional example that is generally used in the past.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ハウジング 1A 首部 1B 受圧部 1C 溶接部 2 高圧側カバーフランジ 3 低圧側カバーフランジ 4 導入口 5 導入口 6 圧力測定室 6A バックプレ―ト 6B バックプレ―ト 7 センタダイアフラム 8 シリコンダイアフラム 9 支持体 10 圧力導入室 10A バックプレ―ト 11 圧力導入室 11A バックプレ―ト 14 連通孔 15 連通孔 16 連通孔 17 連通孔 18 Oリング 31 外側抵抗溶接部 32 外側抵抗溶接部 33 隔液ダイアフラム 34 隔液ダイアフラム 35 内側抵抗溶接部 36 内側抵抗溶接部 37 段部 38 段部 39 深絞り部 41 深絞り部 80 ストレインゲ―ジ 81 センサ室 82 センサ室 101 封入液 102 封入液 1 housing 1A neck 1B Pressure receiving part 1C weld 2 High-pressure side cover flange 3 Low pressure side cover flange 4 entrance 5 entrance 6 Pressure measurement chamber 6A back plate 6B back plate 7 Center diaphragm 8 Silicon diaphragm 9 Support 10 Pressure introduction chamber 10A back plate 11 Pressure introduction chamber 11A back plate 14 communication holes 15 communication holes 16 communication holes 17 communication holes 18 O-ring 31 Outer resistance weld 32 Outside resistance weld 33 diaphragm diaphragm 34 Diaphragm diaphragm 35 Inner resistance weld 36 Inner resistance weld 37 steps 38 steps 39 Deep drawing part 41 Deep drawing 80 strain gauge 81 Sensor room 82 Sensor room 101 Filled liquid 102 Filled liquid

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ブロック状の受圧部に一方の面の周縁部が
溶接固定される隔液ダイアフラムと、 この隔液ダイアフラムの他方の面の周縁部を押圧シール
するカバーフランジとを具備する差圧測定装置におい
て、 前記隔液ダイアフラムの周縁を前記受圧部にリング状に
抵抗溶接して形成される外側抵抗溶接部と、 この外側抵抗溶接部より内側に設けられ前記隔液ダイア
フラムの周縁部を前記受圧部にリング状に抵抗溶接して
形成される内側抵抗溶接部と、 この内側抵抗溶接部と前記外側抵抗溶接部との間にリン
グ状に前記受圧部に設けられた階段状の段部と、 前記隔液ダイアフラムに設けられこの階段状の段部に対
応して曲がる深絞り部と、 前記隔液ダイアフラムの他方の面のこの深絞り部より周
縁側を押圧シールするカバーフランジとを具備したこと
を特徴とする差圧測定装置。
1. A differential pressure differential comprising a diaphragm having a peripheral edge of one surface welded and fixed to a block-shaped pressure receiving portion, and a cover flange for pressing and sealing the peripheral edge of the other surface of the diaphragm. In the measuring device, an outer resistance welding portion formed by resistance welding the periphery of the diaphragm to the pressure receiving portion in a ring shape, and a peripheral portion of the diaphragm which is provided inside the outer resistance welding portion, An inner resistance welding portion formed by resistance welding in a ring shape on the pressure receiving portion, and a stepped step portion provided in the pressure receiving portion in a ring shape between the inner resistance welding portion and the outer resistance welding portion. , ingredients and deep-drawing portion bends in response to the stepped portion of the stepped provided in the隔液diaphragm, and a cover flange for pressing sealing the peripheral side of the deep drawn portion of the other surface of the隔液diaphragm Differential pressure measuring device, characterized in that the.
【請求項2】前記抵抗溶接としてシーム溶接が使用され
た事を特徴とする請求項1記載の差圧測定装置。
2. The differential pressure measuring device according to claim 1, wherein seam welding is used as the resistance welding.
JP11069898A 1998-04-21 1998-04-21 Differential pressure measuring device Expired - Lifetime JP3521322B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11069898A JP3521322B2 (en) 1998-04-21 1998-04-21 Differential pressure measuring device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11069898A JP3521322B2 (en) 1998-04-21 1998-04-21 Differential pressure measuring device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11304622A JPH11304622A (en) 1999-11-05
JP3521322B2 true JP3521322B2 (en) 2004-04-19

Family

ID=14542194

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11069898A Expired - Lifetime JP3521322B2 (en) 1998-04-21 1998-04-21 Differential pressure measuring device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3521322B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7814798B2 (en) * 2008-09-17 2010-10-19 P I Components Corporation Diaphragm structure and method of manufacturing a diaphragm structure

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11304622A (en) 1999-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2696375B2 (en) Isolation device
JP2763518B2 (en) Pressure sensor
US6066882A (en) Semiconductor pressure detecting device
JP7157477B2 (en) pressure sensor
CA1316700C (en) Floating diaphragm apparatus
JP3521322B2 (en) Differential pressure measuring device
JP2000065667A (en) Differential pressure-measuring apparatus
JP3039141B2 (en) Differential pressure measuring device
JP3090175B2 (en) Differential pressure measuring device
JPH0648371Y2 (en) Pressure gauge / differential pressure gauge
JPH06307961A (en) Differential pressure measuring equipment
JP2001208631A (en) Differential pressure measuring device
JPH10122994A (en) Differential pressure measuring device
JP2578983Y2 (en) Absolute pressure gauge
JPH04136538U (en) Differential pressure measuring device
JP3089834B2 (en) Differential pressure measuring device
JPH04131742U (en) Differential pressure measuring device
JP3900351B2 (en) Differential pressure measuring device
JP3065792B2 (en) Differential pressure measuring device
JP2988077B2 (en) Differential pressure measuring device
JPH052042U (en) Differential pressure measuring device
CA1223452A (en) Piezoelectric pressure frequency sensor
JP2004117086A (en) Differential pressure measurement device
JPH05107133A (en) Differential pressure measuring instrument
JPH09311086A (en) Differential pressure transmitter

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20031212

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040114

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040127

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080220

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080220

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090220

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100220

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110220

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110220

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140220

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term