JP3521218B2 - Metal-insulating ceramic composite sampler and skimmer - Google Patents

Metal-insulating ceramic composite sampler and skimmer

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JP3521218B2
JP3521218B2 JP17997597A JP17997597A JP3521218B2 JP 3521218 B2 JP3521218 B2 JP 3521218B2 JP 17997597 A JP17997597 A JP 17997597A JP 17997597 A JP17997597 A JP 17997597A JP 3521218 B2 JP3521218 B2 JP 3521218B2
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博明 田尾
衞 冨永
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、誘導結合プラズマ質量
分析法(ICPーMS)、グロー放電質量分析法(GD
−MS)、マイクロ波誘導プラズマ質量分析法(MIP
ーMS)等のプラズマをイオン化源とする質量分析法に
おいて、感度低下やスペクトル干渉の原因となる低温の
境界層の生成を抑制したり、スパッタリングや二価イオ
ン生成の原因となる二次放電を抑制して、プラズマで生
成したイオンを質量分析計に導くための製品に関する。
The present invention relates to inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS), glow discharge mass spectrometry (GD).
-MS), microwave induction plasma mass spectrometry (MIP)
-MS) and other plasma-based ionization sources, suppress the generation of low-temperature boundary layers that cause sensitivity deterioration and spectral interference, and suppress secondary discharge that causes sputtering and divalent ion generation. It relates to a product for suppressing and directing plasma-generated ions to a mass spectrometer.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、大気圧のプラズマで生成したイオ
ンを高真空の質量分析計に導くためには、中心部に穴の
あいた金属製のサンプラーやスキマーが使用されてい
た。このとき、プラズマの温度は高温(例えばICPで
は5000〜7000K)になるため、プラズマにさら
されるとほとんど全ての材質は溶融し変形してしまう。
このため、熱伝導を利用してサンプラーやスキマーの一
部を冷却することにより溶融や変形を防いできた。従っ
て熱伝導度が高い金属が用いられてきた。又、サンプラ
ーやスキマーを接地するためにも金属製であることが必
要であった。
2. Description of the Related Art Conventionally, a metal sampler or skimmer having a hole at its center has been used to guide ions generated by plasma at atmospheric pressure to a high vacuum mass spectrometer. At this time, the temperature of the plasma becomes high (for example, 5000 to 7000K in ICP), so that almost all the materials are melted and deformed when exposed to the plasma.
Therefore, it was possible to prevent melting and deformation by cooling a part of the sampler and skimmer by utilizing heat conduction. Therefore, metals with high thermal conductivity have been used. Further, it was necessary to be made of metal in order to ground the sampler and skimmer.

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be Solved by the Invention]

【0003】誘導結合プラズマ(ICP)においては、
誘導コイルとプラズマは誘導結合しているだけでなく、
容量的にも結合しているため、コイル上の高周波電位が
プラズマに伝わる。プラズマの電位が正のときには陽イ
オンがサンプラーやスキマーに流れ込み、プラズマの電
位が負のときには電子がサンプラーやスキマーに流れ込
むが、イオンと電子の移動速度の差により、平均の直流
電位(プラズマ電位)が残る。プラズマに伝えられた高
周波電位はピーク間で200 Vにも達するためプラズマと
サンプラーやプラズマとスキマーの間でアーク放電が起
こる。この放電を二次放電と言うが、二次放電が起こる
と以下のような問題を生ずる。1)放電からの光により
バックグラウンドシグナルが増加し、検出限界が悪くな
る。2)サンプラーやスキマーがスパッタリングされて
その寿命が著しく短くなったり、サンプラーやスキマー
を形成している元素の分析ができなくなる。3)イオン
の運動エネルギーやその分布幅が大きくなるため、質量
分析計の分解能の低下と感度の低下を招く。4)二価イ
オンが生成しやすく、スペクトル干渉が大きくなる。
5)ICPの条件を変える度にプラズマ電位が変動し、
イオンの運動エネルギーが変わるためイオンレンズの再
調整が必要となる。なお、上記の1)及び2)の問題
は、プラズマをイオン源とする質量分析法だけの問題で
はなく、プラズマをサンプラーから減圧領域に引き込ん
で、その領域での原子発光を利用する原子発光分析法に
おいても問題となっている。
In inductively coupled plasma (ICP),
Not only the induction coil and plasma are inductively coupled,
Since they are also capacitively coupled, the high frequency potential on the coil is transmitted to the plasma. Positive ions flow into the sampler or skimmer when the plasma potential is positive, and electrons flow into the sampler or skimmer when the plasma potential is negative, but the average DC potential (plasma potential) is due to the difference in the moving speed of the ions and electrons. Remains. Since the high-frequency potential transmitted to the plasma reaches 200 V between peaks, arc discharge occurs between the plasma and sampler and between the plasma and skimmer. This discharge is called a secondary discharge, but when the secondary discharge occurs, the following problems occur. 1) The background signal increases due to the light from the discharge, and the detection limit deteriorates. 2) The sampler or skimmer is sputtered and its life is significantly shortened, and the elements forming the sampler or skimmer cannot be analyzed. 3) Since the kinetic energy of ions and the distribution width thereof become large, the resolution and sensitivity of the mass spectrometer are degraded. 4) Doubly charged ions are easily generated, and spectrum interference becomes large.
5) The plasma potential fluctuates each time the ICP conditions are changed,
Since the kinetic energy of ions changes, it is necessary to readjust the ion lens. The problems 1) and 2) above are not only problems of mass spectrometry using plasma as an ion source, but atomic emission analysis using atomic emission in that region by drawing plasma from the sampler into the reduced pressure region. It is also a problem in law.

【0004】又、冷却されたサンプラーやスキマーを高
温のプラズマ中に置くと、サンプラーやスキマーに近接
した領域のプラズマが冷やされて、温度の低い境界層が
できる。境界層の内部では、イオンと電子の再結合やイ
オンと分子の反応等が起こっており、感度の低下やスペ
クトル干渉の原因ともなっている。
Further, when the cooled sampler or skimmer is placed in high temperature plasma, the plasma in the region close to the sampler or skimmer is cooled and a low temperature boundary layer is formed. Inside the boundary layer, recombination of ions and electrons, reaction between ions and molecules, etc. occur, which also causes a decrease in sensitivity and spectral interference.

【0005】二次放電を抑える方法としては、従来、誘
導コイルの中央部を接地してコイルの半分を正に残り半
分を負にして差し引きゼロとする中間タップ方式と、コ
イルのサンプラーに近い側を接地する逆接地方式が開発
されている。又、内側のコイルが外側のコイルの高周波
電位をシールドするマルチレイヤーコイル方式や、コイ
ルと石英トーチの間にシールド板と呼ばれる金属筒を挿
入してコイルを遮蔽するシールド方式が用いられている
が、完全にシールドしてしまうとプラズマが点灯しにく
くなったり、イオン化電位の高い元素の感度が低下する
といった問題があった。境界層の生成を抑制するために
は、サンプラーやスキマーのオリフィスの径を大きくす
る方法が採用されているが、大きくすると真空度が低下
したり、装置を小型化できないといった問題があった。
更に、プラズマガスとしてアルゴンの代わりにヘリウム
ガスを用いると、吸引量が大きくなりすぎてヘリウム以
外の外部の空気を吸い込むため、イオンと空気の反応が
起こりやすくなり感度の低下を招くといった問題もあっ
た。本発明は、熱と電気の良い導体である金属の特性
と、電気の絶縁体であり金属よりも高温に耐えうるセラ
ミックの特性を複合して利用することにより、二次放電
と境界層の生成を抑制する製品を得ることを目的として
いる。
Conventionally, as a method of suppressing the secondary discharge, an intermediate tap method in which the central portion of the induction coil is grounded and half of the coil is positive and the other half is negative to make the subtraction zero, and a side close to the sampler of the coil. A reverse grounding method for grounding the ground has been developed. Also, a multi-layer coil method in which the inner coil shields the high frequency potential of the outer coil and a shield method in which a metal tube called a shield plate is inserted between the coil and the quartz torch to shield the coil are used. However, if it is completely shielded, there are problems that it is difficult to turn on the plasma and the sensitivity of the element having a high ionization potential is lowered. In order to suppress the formation of the boundary layer, a method of increasing the diameter of the orifice of the sampler or the skimmer is adopted, but if it is increased, there are problems that the degree of vacuum is lowered and the apparatus cannot be downsized.
Furthermore, if helium gas is used instead of argon as the plasma gas, the amount of suction becomes too large to suck in air other than helium, so that a reaction between ions and air easily occurs and there is a problem that sensitivity is lowered. It was INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention combines the characteristics of a metal, which is a conductor of good heat and electricity, and the characteristics of a ceramic, which is an electrical insulator and can withstand a higher temperature than a metal, to produce a secondary discharge and generation of a boundary layer. The purpose is to obtain a product that suppresses.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明においては、以下の発明が提供される。 (1)プラズマで生成したイオンを質量分析計に導くた
めのサンプラーとスキマー円錐形であり、円錐形によ
り形成されるイオンを通過するための部分が、円錐形の
頂部にあるオリフィス(中心部の穴)とし、その先端が
鋭角状に形成され、オリフイスの近接部分を絶縁性セラ
ミック製とし、円錐形のその他の部分を金属製としたこ
とを特徴とする金属−絶縁性セラミック複合サンプラー
及びスキマー。 (2)プラズマで生成したイオンを質量分析計に導くた
めのサンプラーとスキマーが円錐形であり、円錐形によ
り形成されるイオンを通過するための部分が、円錐形の
頂部にあるオリフィス(中心部の穴)とし、その先端が
鋭角状に形成され、オリフイスの近接部分を絶縁性セラ
ミック製の膜で被覆したことを特徴とする金属−絶縁性
セラミック複合サンプラー及びスキマー。
In order to achieve the above object, the present invention provides the following inventions . (1) A sampler and a skimmer for guiding ions generated by plasma to a mass spectrometer have a conical shape, and a portion for passing ions formed by the conical shape has an orifice (a central portion) at the top of the conical shape. and the hole) and its tip is formed at an acute angle shape, metal is proximate portions of the orifice and the insulating canceller <br/> made Mick, the other conical portion, characterized in that a metal - insulation Ceramic composite sampler and skimmer. (2) The sampler and skimmer for guiding the ions generated by the plasma to the mass spectrometer have a conical shape, and the part for passing the ions formed by the conical shape has an orifice (center part) at the top of the conical shape. and the hole) and its tip is formed at an acute angle shape, metal, characterized in that the adjacent portions of the orifice was covered with a film made of insulating sera <br/> Mick - insulating <br/> ceramic composite sampler and Skimmer.

【作用】[Action]

【0007】上記のように構成されたサンプラーとスキ
マーにおいて、金属部はプラズマの外周部と接触して電
気的な導通をとることによりプラズマのアースをとる働
きと、熱の伝導度が大きい特性を活かして低温を効率よ
絶縁性セラミック部に伝える働きをする。絶縁性セラ
ミック部は電気の絶縁体であるためプラズマ中に置かれ
てもイオンや電子が流れ込まないため二次放電を防止す
る働きをする。又、絶縁性セラミックの熱の伝導度は金
属に比べて小さいため、金属である場合に比べて高温に
なっており、従って低温の境界層の生成を抑制する働き
がある。このためオリフィス径を小さくしても境界層の
影響が出にくくなる。オリフィス径を小さくできれば、
イオン源であるプラズマを小さくすることも可能とな
り、又真空度を保つためのポンプ類も小型化できるた
め、プラズマ質量分析装置全体の小型化に役立つ。
In the sampler and skimmer constructed as described above, the metal portion comes into contact with the outer peripheral portion of the plasma to establish electrical conduction, thereby grounding the plasma, and having a large heat conductivity. Utilizing it, it works to efficiently transmit low temperature to the insulating ceramic part. Since the insulating ceramic part is an electrical insulator, it does not allow ions or electrons to flow into it even if it is placed in plasma, and thus serves to prevent secondary discharge. Further, since the heat conductivity of the insulating ceramic is smaller than that of metal, the insulating ceramic has a higher temperature than that of a metal, and therefore has a function of suppressing the formation of a boundary layer at a low temperature. Therefore, even if the orifice diameter is reduced, the influence of the boundary layer is less likely to occur. If you can reduce the orifice diameter,
It is possible to reduce the size of the plasma that is the ion source, and the pumps for maintaining the degree of vacuum can be downsized, which is useful for downsizing the plasma mass spectrometer as a whole.

【発明の実施の形態】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0008】本発明の実施の形態を実施例に基づき図面
を参照にして説明する。図1は本発明の金属−絶縁性
ラミック複合サンプラーとスキマーをICP−MSで用
いるときの配置図である。本発明のサンプラー1とスキ
マー2は水冷金属プレート3、3’に装着されて、誘導
コイル4が巻装された石英トーチ5と引き出し電極6の
間に配置される。サンプラー1及びスキマー2は、夫々
金属部7と絶縁性セラミック部8とから構成される。サ
ンプラー1やスキマー2の金属部7の金属材料として
は、ニッケル、銅、アルミニウム、白金等がよく用いら
れるが、熱伝導度が大きく電気の良導体であれば他の金
属も使用できる。絶縁性セラミック部8のセラミック材
料としては耐熱温度の高いアルミナ、ジルコニア、マグ
ネシア等を使用することができるが、耐熱温度と電気の
絶縁性に優れていれば他のセラミック材料を用いてもよ
い。金属部7と絶縁性セラミック部8はアルミナ、ジル
コニア、マグネシア等のセラミック製の接着剤で接着す
る。このとき、サンプラー1のプラズマ9側の絶縁性
ラミック部8の面積S1を小さくすることにより、絶縁
セラミック部8外周の金属部7とプラズマ9が十分に
接触してアースがとれるようにする。一方、サンプラー
1の内側(バレルショック10側)の絶縁性セラミック
部8の面積S2を大きくすることにより、絶縁性の領域
を広くして二次放電を防ぐ。仮に二次放電が起こっても
金属部7とバレルショック10の間で起こるため、サン
プラー1のオリフィスからは遠く離れた領域での事象と
なりスキマー2でその影響を除くことができる。サンプ
ラー1と同様の理由により、スキマー2のバレルショッ
ク10側の絶縁性セラミック部8の面積S3を小さくす
ることにより、絶縁性セラミック部8外周の金属部7と
バレルショック10で囲まれた領域が十分に接触してア
ースがとれるようにする。一方、スキマー2の内側(バ
レルショック10と反対側)の絶縁性セラミック部8の
面積S4を大きくすることにより、絶縁性の領域を広く
してこの部分での二次放電を防ぐ。
Embodiments of the present invention will be described based on examples with reference to the drawings. FIG. 1 is a layout diagram when the metal- insulating ceramic composite sampler and skimmer of the present invention are used in ICP-MS. The sampler 1 and the skimmer 2 of the present invention are mounted on the water-cooled metal plates 3 and 3 ′ and arranged between the quartz torch 5 around which the induction coil 4 is wound and the extraction electrode 6. The sampler 1 and the skimmer 2 each include a metal portion 7 and an insulating ceramic portion 8. Nickel, copper, aluminum, platinum and the like are often used as the metal material of the metal part 7 of the sampler 1 and the skimmer 2, but other metals can also be used as long as they have high thermal conductivity and good electrical conductivity. As the ceramic material of the insulating ceramic portion 8, alumina, zirconia, magnesia or the like having a high heat resistant temperature can be used, but other ceramic materials may be used as long as they have excellent heat resistant temperature and electrical insulation. The metal portion 7 and the insulating ceramic portion 8 are adhered to each other with a ceramic adhesive such as alumina, zirconia, or magnesia. In this case, by reducing the area S1 of the insulating cell <br/> ceramic portion 8 of the sampler 1 of the plasma 9 side, insulating
The metal portion 7 on the outer periphery of the conductive ceramic portion 8 and the plasma 9 are sufficiently contacted with each other so that the ground can be established. On the other hand, by increasing the area S2 of the insulating ceramic portion 8 inside the sampler 1 (on the side of the barrel shock 10), the insulating region is widened to prevent secondary discharge. Even if the secondary discharge occurs, it occurs between the metal part 7 and the barrel shock 10, so that the phenomenon occurs in a region far from the orifice of the sampler 1, and the influence can be removed by the skimmer 2. For the same reason as the sampler 1, by reducing the area S3 of the insulating ceramic part 8 on the barrel shock 10 side of the skimmer 2, the area surrounded by the metal part 7 and the barrel shock 10 on the outer periphery of the insulating ceramic part 8 is reduced. Make sufficient contact so that the ground can be obtained. On the other hand, by increasing the area S4 of the insulating ceramic portion 8 inside the skimmer 2 (on the side opposite to the barrel shock 10), the insulating region is widened to prevent secondary discharge in this portion.

【0009】図2は本発明のサンプラーの別の実施例の
概略図であり、金属製サンプラー11を絶縁性セラミッ
ク製の膜12で被覆したものである。従来使用されてき
た金属製サンプラーの表面層を物理的に研磨したり、化
学的に酸等でエッチングして除いた後、耐熱温度の高い
アルミナ、ジルコニア、マグネシア等のセラミック製接
着剤を塗布して乾燥、焼成させた後、研磨して鋭利にし
たものである。上記と同じ理由により、絶縁性セラミッ
ク製の膜12のプラズマ側における塗布面積S5を小さ
くし、内側(バレルショック側)の面積S6を大きくし
てある。スキマーも同様に作製する。又、被膜方法とし
て、ケミカルベーパーデポジッション(CVD)法等の
薄膜製造技術により金属表面に絶縁性セラミックと同等
の絶縁性や耐熱性を有する酸化膜や窒化膜を形成させて
もよい。
FIG. 2 is a schematic view of another embodiment of the sampler of the present invention, in which a metallic sampler 11 is covered with a film 12 made of an insulating ceramic. After physically polishing the surface layer of a metal sampler that has been used conventionally, or by chemically etching and removing with an acid, etc., apply a ceramic adhesive such as alumina, zirconia, or magnesia, which has a high heat resistance temperature. It is dried, fired, and then polished to be sharpened. For the same reason as above, the coating area S5 on the plasma side of the insulating ceramic film 12 is made small, and the area S6 on the inner side (barrel shock side) is made large. A skimmer is prepared in the same manner. Further, as a coating method, it may be formed with chemical vapor a deposition oxide film or a nitride film having the same insulation and heat resistance and insulating ceramic to the metal surface by a thin film fabrication techniques (CVD) method or the like.

【発明の効果】【The invention's effect】

【0010】以上説明したように本発明の金属−絶縁性
セラミック複合サンプラー及びスキマーは、熱と電気の
良い導体である金属の特性と、電気の絶縁体であり金属
よりも耐熱性が高い絶縁性セラミックの特性を併せて利
用することにより、プラズマ質量分析法で大きな問題と
なっている、二次放電と境界層の生成を抑制することを
可能とする。これにより分析感度や分解能を向上させ、
干渉を抑制し、サンプラーやスキマーの寿命を延ばす効
果がある。又、境界層の生成が抑制されるため、サンプ
ラーやスキマーのオリフィスを小さくすることが可能と
なり、このことがイオン源であるプラズマを小さくし、
又真空度を保つためのポンプ類の小型化を可能とするた
め、プラズマ質量分析装置全体の小型化に役立つ。
As described above, the metal- insulating ceramic composite sampler and skimmer of the present invention have the characteristics of metal which is a good conductor of heat and electricity, and the heat resistance of metal which is an insulator of electricity. It is possible to suppress the secondary discharge and the generation of the boundary layer, which are major problems in the plasma mass spectrometry, by using the characteristics of the insulating ceramics having high characteristics. This improves analysis sensitivity and resolution,
It has the effect of suppressing interference and extending the life of the sampler and skimmer. Further, since the generation of the boundary layer is suppressed, it is possible to make the orifice of the sampler and the skimmer small, which reduces the plasma that is the ion source,
Further, the pumps for maintaining the degree of vacuum can be downsized, which is useful for downsizing the entire plasma mass spectrometer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の金属−絶縁性セラミック複合サンプラ
ーとスキマー、並びにそれらをICPーMSで用いると
きの配置を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a metal- insulating ceramic composite sampler and a skimmer of the present invention, and an arrangement when they are used in ICP-MS.

【図2】本発明の金属−絶縁性セラミック複合サンプラ
ーの別の実施例の概略を示す図である。
FIG. 2 is a diagram schematically showing another embodiment of the metal- insulating ceramic composite sampler of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.サンプラー 2.スキマー 3.水冷金属プレート 3’.水冷金属プレート 4.誘導コイル 5.石英トーチ 6.引き出し電極 7.金属部 8.絶縁性セラミック部 9.プラズマ 10.バレルショック 11.金属製サンプラー 12.絶縁性セラミック製被膜 13.水冷金属プレート S1.サンプラー1の絶縁性セラミック部8のプラズマ
側の面積 S2.サンプラー1の絶縁性セラミック部8のバレルシ
ョック側の面積 S3.スキマー2の絶縁性セラミック部8のバレルショ
ック側の面積 S4.スキマー2の絶縁性セラミック部8のバレルショ
ックと反対側の面積 S5.絶縁性セラミック製被膜12のプラズマ側の面積 S6.絶縁性セラミック製被膜12のバレルショック側
の面積
1. Sampler 2. Skimmer 3. Water cooled metal plate 3 '. Water-cooled metal plate 4. Induction coil 5. Quartz torch 6. Extraction electrode 7. Metal part 8. Insulating ceramic part 9. Plasma 10. Barrel shock 11. Metal sampler 12. Insulating ceramic coating 13. Water-cooled metal plate S1. Area S2 of the insulating ceramic portion 8 of the sampler 1 on the plasma side. Area S3 on the barrel shock side of the insulating ceramic part 8 of the sampler 1. Area S4 on the barrel shock side of the insulating ceramic portion 8 of the skimmer 2. An area S5. Of the insulating ceramic portion 8 of the skimmer 2 opposite to the barrel shock. Area S6 of plasma side of insulating ceramic coating 12 Area of the insulating ceramic coating 12 on the barrel shock side

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 49/00 - 49/42 H01J 27/00 - 27/26 H01J 37/08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01J 49/00-49/42 H01J 27/00-27/26 H01J 37/08

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 プラズマで生成したイオンを質量分析計
に導くためのサンプラーとスキマーが円錐形であり、円
錐形により形成されるイオンを通過するための部分が、
円錐形の頂部にあるオリフィス(中心部の穴)とし、そ
の先端が鋭角状に形成され、オリフイスの近接部分を
縁性セラミック製とし、円錐形のその他の部分を金属製
としたことを特徴とする金属−絶縁性セラミック複合サ
ンプラー及びスキマー。
1. A sampler and a skimmer for guiding plasma-generated ions to a mass spectrometer are conical, and a portion for passing ions formed by the conical shape is provided.
And an orifice (hole in the center) at the top of the conical, the tip is formed in a sharp angle, absolute proximity portion of the orifice
A metal- insulating ceramic composite sampler and skimmer, characterized in that they are made of edging ceramic and the other part of the conical shape is made of metal.
【請求項2】 プラズマで生成したイオンを質量分析計
に導くためのサンプラーとスキマーが円錐形であり、円
錐形により形成されるイオンを通過するための部分が、
円錐形の頂部にあるオリフィス(中心部の穴)とし、そ
の先端が鋭角状に形成され、オリフイスの近接部分を
縁性セラミック製の膜で被覆したことを特徴とする金属
絶縁性セラミック複合サンプラー及びスキマー。
2. A sampler and a skimmer for guiding ions generated by plasma to a mass spectrometer are conical, and a portion for passing ions formed by the conical shape is provided.
And an orifice (hole in the center) at the top of the conical, the tip is formed in a sharp angle, absolute proximity portion of the orifice
A metal- insulating ceramic composite sampler and skimmer coated with a rimmed ceramic film.
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