JP3520898B2 - Laser image exposure device - Google Patents

Laser image exposure device

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JP3520898B2
JP3520898B2 JP21583797A JP21583797A JP3520898B2 JP 3520898 B2 JP3520898 B2 JP 3520898B2 JP 21583797 A JP21583797 A JP 21583797A JP 21583797 A JP21583797 A JP 21583797A JP 3520898 B2 JP3520898 B2 JP 3520898B2
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英彦 山口
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昭治 山口
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の半導体レー
ザからなる半導体レーザアレイを光源として、光導電体
などの記録媒体を露光して画像を形成するレーザ画像露
光装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser image exposure apparatus which forms an image by exposing a recording medium such as a photoconductor using a semiconductor laser array composed of a plurality of semiconductor lasers as a light source.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、プリンタ、複写機などの画像露光
装置においては、単体もしくは複数の光源を含むデジタ
ル光学系で、入力される画像情報に応じて光導電体など
の記録媒体を露光して画像を形成している。半導体レー
ザを光源とするレーザ記録装置においては、解像度を上
げるためにレーザビームのドット密度を高密度化すると
共に、中間調を再現するために1ドットを多値化するこ
とにより1画素で複数階調の濃淡を表現する方法が知ら
れている。多値化を行うためのレーザ変調方法として
は、レーザの光強度を制御するレーザパワー変調とレー
ザの発光時間を制御するパルス幅変調が一般的に用いら
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in an image exposure apparatus such as a printer or a copying machine, a digital optical system including a single light source or a plurality of light sources is used to expose a recording medium such as a photoconductor in accordance with input image information. Forming an image. In a laser recording device using a semiconductor laser as a light source, the dot density of the laser beam is increased to increase the resolution, and one dot is multi-valued to reproduce a halftone, so that one pixel has multiple levels. A method of expressing the tone of a tone is known. Laser power modulation for controlling the light intensity of the laser and pulse width modulation for controlling the light emission time of the laser are generally used as the laser modulation method for performing multi-valued.

【0003】半導体レーザは、その特性上、素子のばら
つき、温度、経時変化などによって発光閾値電流(It
h)やスロープ効率(δPo/δIop)が変化する。
このため、レーザ記録装置においては、画像品質を良好
に保つために半導体レーザの駆動電流を制御し、光強度
を所定の値に安定に制御する必要がある。
Due to the characteristics of semiconductor lasers, the emission threshold current (It) may vary depending on variations in elements, temperature, and changes over time.
h) and slope efficiency (δPo / δIop) change.
Therefore, in the laser recording apparatus, it is necessary to control the drive current of the semiconductor laser and to stably control the light intensity to a predetermined value in order to maintain good image quality.

【0004】半導体レーザの制御方法としては、レーザ
光またはレーザ光の一部を光センサで受けて、負帰還の
閉ループを構成して所定の光強度になるように駆動電流
を制御し、その電流で半導体レーザを駆動することによ
って、記録媒体を露光し画像を形成するのが一般的であ
る。
As a method of controlling a semiconductor laser, a laser beam or a part of the laser beam is received by an optical sensor, a negative feedback closed loop is formed, and a drive current is controlled so that a predetermined light intensity is obtained. It is common to drive a semiconductor laser to expose a recording medium to form an image.

【0005】また、前述したレーザの発光時間を制御す
るパルス幅変調において、半導体レーザの光立ち上がり
出力が変調周波数に比べて遅れ、十分な露光量が得られ
ないために画像品質が劣化する現象が生じていた。この
ような不具合を解決するため、例えば特開平3−113
472号公報、特開平4−356986号公報などに
は、半導体レーザに常に特定の電流値のバイアス電流を
供給して半導体レーザの光立ち上がり特性を改善する方
法が提案されている。
Further, in the above-mentioned pulse width modulation for controlling the light emission time of the laser, there is a phenomenon that the light rising output of the semiconductor laser is delayed as compared with the modulation frequency, and the image quality is deteriorated because a sufficient exposure amount cannot be obtained. It was happening. In order to solve such a problem, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 3-113
Japanese Patent Laid-Open No. 472 and Japanese Patent Laid-Open No. 4-356986 propose a method of constantly supplying a bias current having a specific current value to the semiconductor laser to improve the light rising characteristic of the semiconductor laser.

【0006】この場合、バイアス電流は発光閾値電流
(Ith)以下とし、画像形成時に発光閾値電流(It
h)以上の電流を与えて、半導体レーザをレーザ発光状
態として記録媒体を露光する。プロセススピードの増加
およびドットの高密度化によってパルス幅変調周波数が
高くなるにつれて半導体レーザの光立ち上がり特性をよ
り改善する必要があるため、バイアス電流は発光閾値電
流(Ith)付近に設定されている。
In this case, the bias current is set to the light emission threshold current (Ith) or less, and the light emission threshold current (It) is set at the time of image formation.
h) The above current is applied to expose the recording medium with the semiconductor laser in the laser emission state. The bias current is set near the light emission threshold current (Ith) because it is necessary to further improve the light rising characteristics of the semiconductor laser as the pulse width modulation frequency increases due to the increase in process speed and the density of dots.

【0007】このような手法は、一般の半導体レーザ画
像露光装置に用いられている。この種の装置において
は、半導体レーザからのレーザビームをポリゴンミラー
に照射し、ポリゴンミラーの回転に応じて、出射光をポ
リゴンミラーの円周方向へ連続的に走査し、これが半導
体レーザに対して副走査方向に相対的に移動する記録媒
体の軸方向へ照射されて、2次元的に画像が露光され
る。
Such a method is used in a general semiconductor laser image exposure apparatus. In this type of device, a laser beam from a semiconductor laser is applied to a polygon mirror, and emitted light is continuously scanned in the circumferential direction of the polygon mirror in accordance with the rotation of the polygon mirror. The image is two-dimensionally exposed by being irradiated in the axial direction of the recording medium which moves relatively in the sub-scanning direction.

【0008】一方、別のレーザ画像露光装置として、光
源に半導体レーザアレイを用いるものが提案されてい
る。半導体レーザアレイは、主走査方向に画像幅分のド
ットと同数の半導体レーザと、それに直交する副走査方
向に画像幅分のドットよりも少ない数の半導体レーザを
備え、半導体レーザアレイに対して副走査方向に相対的
に移動する記録媒体上に画像を露光する。
On the other hand, as another laser image exposure apparatus, one using a semiconductor laser array as a light source has been proposed. The semiconductor laser array is equipped with the same number of semiconductor lasers as the dots for the image width in the main scanning direction and a smaller number of semiconductor lasers than the dots for the image width in the sub-scanning direction orthogonal to the semiconductor laser array. An image is exposed on a recording medium that moves relatively in the scanning direction.

【0009】このような、半導体レーザアレイによる画
像露光装置においても、一般の構成の半導体レーザ画像
露光装置と同様に、画像品質を良好に保つために半導体
レーザアレイの駆動電流を制御し、複数の光強度を所定
の値に安定に制御する。ここでも、複数の半導体レーザ
アレイの光立ち上がり特性を改善するためには半導体レ
ーザに常にバイアス電流を供給する必要がある。
In such an image exposure apparatus using a semiconductor laser array, the drive current of the semiconductor laser array is controlled in order to maintain a good image quality, as in the semiconductor laser image exposure apparatus having a general structure, and a plurality of semiconductor laser array exposure currents are controlled. The light intensity is stably controlled to a predetermined value. Here again, in order to improve the light rising characteristics of the plurality of semiconductor laser arrays, it is necessary to constantly supply a bias current to the semiconductor lasers.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、バイア
ス電流を常に半導体レーザに供給する手法を半導体レー
ザアレイに適用した場合、次のような課題があることが
判明した。すなわち、半導体レーザに発光閾値電流以下
のバイアス電流を供給すると、半導体レーザは微弱な自
然放出によるLED光を放出する。一般の半導体レーザ
画像露光装置においては、高速に回転するポリゴンミラ
ーの回転に応じて、出射光がポリゴンミラーの円周方向
へ連続的に走査されるため、バイアス電流のLED光に
よるエネルギーでは記録媒体上に画像が形成されるだけ
の露光量となることはない。
However, when the method of constantly supplying the bias current to the semiconductor laser is applied to the semiconductor laser array, it has been found that there are the following problems. That is, when a bias current equal to or less than the light emission threshold current is supplied to the semiconductor laser, the semiconductor laser emits weak spontaneous emission LED light. In a general semiconductor laser image exposure apparatus, the emitted light is continuously scanned in the circumferential direction of the polygon mirror in accordance with the rotation of the polygon mirror that rotates at a high speed. The exposure amount is not enough to form an image on the surface.

【0011】ところが、半導体レーザアレイ画像露光装
置においては、バイアス電流によるLED光によって
も、記録媒体上の露光量は画像が形成されるだけのエネ
ルギーが積分された値となり、記録媒体全体に渡って画
像濃度が高くなるなど、画質が著しく劣化してしまう
However, in the semiconductor laser array image exposure apparatus, the exposure amount on the recording medium is a value obtained by integrating the energy enough to form an image, even with the LED light by the bias current, and the entire recording medium is exposed. The image quality deteriorates significantly, such as the image density becoming high .

【0012】従って本発明の目的は、半導体レーザアレ
イを光源として用いた画像露光装置において、立ち上が
り特性が良好でしかも高画質の画像が得られるレーザ画
像露光装置を提供することにある。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a laser image exposure apparatus which uses a semiconductor laser array as a light source and which can obtain an image of good rising characteristics and high image quality.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的は、半導体レー
ザアレイを発光させる前に、前記半導体レーザアレイの
発光閾値以下のバイアスを半導体レーザアレイに所定期
間与えるようにしたレーザ画像露光装置により、達成さ
れる。ここで所定期間とは、バイアスにより半導体レー
ザが放出するLED光のエネルギーの積分値が前記記録
媒体に画像を形成する露光量とならない期間である。こ
のようにすることにより、バイアスの効果である半導体
レーザの良好な光立ち上がり特性を保持したままで、L
ED光の発生による不都合を解決できる。
The above-mentioned object is achieved by a laser image exposure apparatus in which, before the semiconductor laser array is caused to emit light, a bias equal to or less than the emission threshold of the semiconductor laser array is given to the semiconductor laser array for a predetermined period. To be done. Here, the predetermined period is a period in which the integrated value of the energy of the LED light emitted by the semiconductor laser due to the bias does not become the exposure amount for forming an image on the recording medium. By doing so, L is maintained while maintaining the good light rising characteristics of the semiconductor laser, which is the effect of the bias.
Inconvenience caused by generation of ED light can be solved.

【0014】レーザ画像露光装置に用いる半導体レーザ
駆動装置は、半導体レーザアレイの発光光量を設定する
手段と、半導体レーザアレイの発光をオン/オフするタ
イミングを指示するための駆動パルス発生手段と、半導
体レーザアレイの発光閾値以下のバイアスを設定する手
段と、半導体レーザアレイの発光閾値以下のバイアスを
オン/オフするタイミングを指示するための駆動パルス
発生手段とを備える。半導体レーザアレイの発光閾値以
下のバイアスをオンするタイミングは、半導体レーザア
レイの発光がオンするタイミングよりも時間的に早く、
バイアスによって半導体レーザが放出する微弱な自然放
出によるLED光のエネルギーの積分値が記録媒体に画
像を形成する露光量とならない時間だけバイアスをオン
できる。バイアスをオフするタイミングは、半導体レー
ザアレイの発光がオン又はオフするタイミングと同時、
又は半導体レーザアレイの発光がオフした後であって、
バイアスによって半導体レーザが放出するLED光のエ
ネルギーの積分値が記録媒体に画像を形成する露光量と
なる前である。
A semiconductor laser driving device used in a laser image exposure apparatus includes a means for setting the amount of light emitted from a semiconductor laser array, a drive pulse generating means for instructing the timing of turning on / off the light emission of the semiconductor laser array, and a semiconductor device. A means for setting a bias below the emission threshold of the laser array and a drive pulse generating means for instructing the timing of turning on / off the bias below the emission threshold of the semiconductor laser array are provided. The timing for turning on the bias below the light emission threshold of the semiconductor laser array is earlier in time than the timing for turning on the light emission of the semiconductor laser array,
The bias can be turned on only for a time when the integrated value of the energy of the LED light due to the weak spontaneous emission emitted from the semiconductor laser due to the bias does not reach the exposure amount for forming an image on the recording medium. The timing of turning off the bias is the same as the timing of turning on or off the light emission of the semiconductor laser array,
Or after the emission of the semiconductor laser array is turned off,
This is before the integrated value of the energy of the LED light emitted by the semiconductor laser due to the bias reaches the exposure amount for forming an image on the recording medium.

【0015】また、このレーザ画像露光装置は、半導体
レーザアレイの光量検出手段を備えることにより、光量
検出手段の出力により半導体レーザアレイの光量と半導
体レーザアレイの発光閾値以下のバイアスを制御でき
る。また、光量検出手段の出力により半導体レーザアレ
イの発光タイミングと前記半導体レーザアレイの発光閾
値以下のバイアスのタイミングを制御できる。半導体レ
ーザアレイの発光光量と発光閾値以下のバイアスの設定
は、半導体レーザアレイに流す電流あるいは半導体レー
ザアレイにかける電圧で制御する。
Further, since the laser image exposure apparatus is provided with the light quantity detecting means of the semiconductor laser array, the light quantity of the semiconductor laser array and the bias below the light emission threshold of the semiconductor laser array can be controlled by the output of the light quantity detecting means. Further, the light emission timing of the semiconductor laser array and the bias timing below the light emission threshold of the semiconductor laser array can be controlled by the output of the light amount detecting means. The amount of light emitted from the semiconductor laser array and the setting of the bias below the light emission threshold are controlled by the current flowing through the semiconductor laser array or the voltage applied to the semiconductor laser array.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るレーザ画像露
光装置の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of a laser image exposure apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0017】図2は、本発明に係るレーザ画像露光装置
の全体構成を示す図である。同図(a)はレーザ画像露
光装置の上面図、(b)は側面図、(c)は半導体レー
ザアレイのパッケージ10の拡大正面図である。(c)
に示すように、半導体レーザアレイ10aは、パッケー
ジ10のほぼ中心部に位置し、その中に半導体レーザ1
0bが複数個アレイ上に配置されている。
FIG. 2 is a diagram showing the overall configuration of a laser image exposure apparatus according to the present invention. 1A is a top view of the laser image exposure apparatus, FIG. 1B is a side view, and FIG. 1C is an enlarged front view of the semiconductor laser array package 10. (C)
As shown in FIG. 1, the semiconductor laser array 10a is located in the substantially central portion of the package 10, and the semiconductor laser 1
A plurality of 0b are arranged on the array.

【0018】半導体レーザ10bは、LD駆動回路20
により駆動される。LD駆動回路20は、入力される画
像データ21に応じて各半導体レーザ10bを変調し、
変調された複数のレーザ光はフィールドレンズ11によ
り集光され、レンズアレイ12を介して像を拡大して回
転する記録媒体13上に像を結ぶ。これにより、記録媒
体13上の画像は2次元的に露光される。複数のレーザ
光の一部はビームスプリッタ14で反射し、集光レンズ
15を介して、その発光強度がフォトダイオード16に
よってモニタされ、その値がLD駆動回路20にフィー
ドバックされる。LD駆動回路20は、半導体レーザア
レイ10aが画像形成のための発光を始めるタイミング
よりも前に、半導体レーザアレイ10aに付与される発
光閾値以下のバイアスによって半導体レーザ10bが自
然放出する微弱なLED光のエネルギーの積分値が、記
録媒体13に画像を形成する露光量とならない時間だけ
バイアスを供給する。このための回路構成の詳細を以下
説明する。
The semiconductor laser 10b includes an LD drive circuit 20.
Driven by. The LD drive circuit 20 modulates each semiconductor laser 10b according to the input image data 21,
The plurality of modulated laser beams are condensed by the field lens 11 and magnify the image via the lens array 12 to form an image on the rotating recording medium 13. As a result, the image on the recording medium 13 is two-dimensionally exposed. A part of the plurality of laser beams is reflected by the beam splitter 14, the emission intensity thereof is monitored by the photodiode 16 through the condenser lens 15, and the value thereof is fed back to the LD drive circuit 20. The LD drive circuit 20 detects the weak LED light spontaneously emitted by the semiconductor laser 10b by the bias below the emission threshold applied to the semiconductor laser array 10a before the timing when the semiconductor laser array 10a starts emitting light for image formation. The bias is supplied only during the time when the integrated value of the energy of does not reach the exposure amount for forming an image on the recording medium 13. Details of the circuit configuration for this will be described below.

【0019】図1は、本発明に係るLD駆動回路の第一
の実施例を示すブロック図である。図1の構成におい
て、半導体レーザアレイ1はn行×m列の半導体レーザ
素子LD(1,1)乃至LD(n,m)で構成される。
LD駆動回路は、半導体レーザアレイ1の発光光量を設
定する設定器8−1〜8−mと、半導体レーザアレイ1
の発光をオン/オフするタイミングを指示するための駆
動パルス発生器6−1〜6−mと、半導体レーザアレイ
1の発光閾値以下のバイアスを設定する設定器9−1〜
9−mと、半導体レーザアレイ1の発光閾値以下のバイ
アスをオン/オフするタイミングを指示するための駆動
パルス発生器7−1〜7−mと、半導体レーザアレイ1
の発光光量もしくは半導体レーザアレイ1の発光閾値以
下のバイアスを伝達する回路4−1〜4−mと、半導体
レーザアレイ1の駆動行を選択するためのパルス発生器
5−1〜5−nとを備える。半導体レーザアレイ1は、
カソードがn本の行方向配線3−1〜3−nを介して半
導体レーザアレイ1の駆動行を選択するためのパルス発
生器5−1〜5−nに接続される。またアノード電極
は、m本の列方向配線2−1〜2−mを介して半導体レ
ーザアレイ1の発光光量もしくは半導体レーザアレイ1
の発光閾値以下のバイアスを伝達する回路4−1〜4−
mに接続される。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of an LD drive circuit according to the present invention. In the configuration of FIG. 1, the semiconductor laser array 1 is composed of n rows × m columns of semiconductor laser elements LD (1,1) to LD (n, m).
The LD drive circuit includes a setter 8-1 to 8-m for setting the amount of light emitted from the semiconductor laser array 1, and the semiconductor laser array 1
Pulse generators 6-1 to 6-m for instructing the timing of turning on / off the light emission of the semiconductor laser, and a setter 9-1 to setting a bias equal to or less than the light emission threshold of the semiconductor laser array 1.
9-m, drive pulse generators 7-1 to 7-m for instructing the timing of turning on / off the bias below the emission threshold of the semiconductor laser array 1, and the semiconductor laser array 1
Circuits 4-1 to 4-m for transmitting the amount of emitted light or a bias equal to or less than the light emission threshold of the semiconductor laser array 1, and pulse generators 5-1 to 5-n for selecting a driving row of the semiconductor laser array 1. Equipped with. The semiconductor laser array 1 is
The cathode is connected to pulse generators 5-1 to 5-n for selecting a driving row of the semiconductor laser array 1 via n row-direction wirings 3-1 to 3-n. Further, the anode electrode is the amount of light emitted from the semiconductor laser array 1 or the semiconductor laser array 1 through the m column-directional wirings 2-1 to 2-m.
Of the circuits 4-1 to 4-for transmitting biases below the light emission threshold of
connected to m.

【0020】図3は、図1における半導体レーザアレイ
1の発光光量を設定する設定器8−1〜8−mおよび半
導体レーザアレイ1の発光閾値以下のバイアスを設定す
る設定器9−1〜9−mの構成例である。図3におい
て、D/A変換器17は、図示しないコントローラより
デジタルで与えられる8bitの光量設定データを、ア
ナログ値に変換してバッファ18に送る。この光量設定
データのbit数は8bitである必要はなく、用途に
応じて変更できる。また、この光量設定データがコント
ローラよりアナログで与えられる場合は、このD/A変
換器17は省略することができ、光量設定データをバッ
ファ18に直接接続すれば良い。バッファ18は、D/
A変換器17の出力を受けて光量設定値を出力する。バ
ッファ18の主な役目は、次段に繋がる半導体レーザア
レイ1を駆動するのに十分なドライブ容量を確保する事
である。
FIG. 3 shows setting devices 8-1 to 8-m for setting the amount of light emitted from the semiconductor laser array 1 in FIG. 1 and setting devices 9-1 to 9 for setting biases below the light emission threshold of the semiconductor laser array 1. It is a structural example of -m. In FIG. 3, the D / A converter 17 converts the 8-bit light amount setting data digitally given by a controller (not shown) into an analog value and sends it to the buffer 18. The number of bits of the light amount setting data does not need to be 8 bits and can be changed according to the application. Further, when the light amount setting data is given in an analog form from the controller, the D / A converter 17 can be omitted and the light amount setting data can be directly connected to the buffer 18. The buffer 18 is D /
It receives the output of the A converter 17 and outputs a light amount set value. The main role of the buffer 18 is to secure a drive capacity sufficient to drive the semiconductor laser array 1 connected to the next stage.

【0021】図1における半導体レーザアレイ1の発光
をオン/オフするタイミングを指示するための駆動パル
ス発生器6−1〜6−mと、半導体レーザアレイ1の発
光閾値以下のバイアスをオン/オフするタイミングを指
示するための駆動パルス発生器7−1〜7−mと、半導
体レーザアレイ1の駆動行を選択するためのパルス発生
器5−1〜5−nはそれぞれスイッチング回路で構成さ
れており、図示しないコントローラより与えられるタイ
ミングでそれぞれのスイッチング回路をオン/オフす
る。
Driving pulse generators 6-1 to 6-m for instructing the timing of turning on / off the light emission of the semiconductor laser array 1 in FIG. 1 and a bias below the light emission threshold of the semiconductor laser array 1 are turned on / off. The drive pulse generators 7-1 to 7-m for instructing the timing to perform, and the pulse generators 5-1 to 5-n for selecting the drive row of the semiconductor laser array 1 are respectively configured by switching circuits. Therefore, each switching circuit is turned on / off at a timing given by a controller (not shown).

【0022】図4は、第一の実施例における半導体レー
ザアレイ1の駆動方法について説明するための図であ
る。説明は半導体レーザアレイ中の一つの半導体レーザ
について行うが、他の半導体レーザについても同様に駆
動する。図4(a)はパルス発生器5−1の動作波形、
(b)はバイアス用の駆動パルス発生器7−1の動作波
形、(c)は半導体レーザアレイ発光用の駆動パルス発
生器6−1の動作波形を示す図である。各波形は最初、
オフ状態にある。時刻t1において、(a)のパルス発
生器5−1と、(b)のバイアス用の駆動パルス発生器
7−1をオンすると、半導体レーザアレイ1には発光閾
値以下のバイアスによる電流が流れる。時刻t1からT
b時間経過した時刻t2において、(a)のパルス発生
器5−1をオンのままにし、(b)のバイアス用の駆動
パルス発生器7−1をオフし、(c)の半導体レーザア
レイ発光用の駆動パルス発生器6−1をオンすると、半
導体レーザアレイ1には駆動電流が流れる。時刻t2か
らTd時間経過した時刻t3において、(a)のパルス
発生器5−1をオフし、(c)の半導体レーザアレイ発
光用の駆動パルス発生器6−1をオフすると、半導体レ
ーザアレイ1には電流が流れなくなる。
FIG. 4 is a diagram for explaining a driving method of the semiconductor laser array 1 in the first embodiment. The description will be given for one semiconductor laser in the semiconductor laser array, but other semiconductor lasers are driven in the same manner. FIG. 4A shows an operation waveform of the pulse generator 5-1.
(B) is a diagram showing an operation waveform of the drive pulse generator 7-1 for bias, and (c) is a diagram showing an operation waveform of the drive pulse generator 6-1 for emitting semiconductor laser array. Each waveform is initially
It is off. At time t1, when the pulse generator 5-1 in (a) and the drive pulse generator 7-1 for bias in (b) are turned on, a current due to a bias equal to or lower than the light emission threshold flows through the semiconductor laser array 1. From time t1 to T
At time t2 when b time has elapsed, the pulse generator 5-1 of (a) is kept on, the drive pulse generator 7-1 for bias of (b) is turned off, and the semiconductor laser array light emission of (c) is performed. When the drive pulse generator 6-1 is turned on, a drive current flows through the semiconductor laser array 1. At time t3 when Td has elapsed from time t2, when the pulse generator 5-1 of (a) is turned off and the drive pulse generator 6-1 for semiconductor laser array emission of (c) is turned off, the semiconductor laser array 1 No current flows through it.

【0023】図5は、図4に示すタイミングで半導体レ
ーザを駆動したときに、半導体レーザアレイ1に流れる
電流波形図である。図5において、Ibは半導体レーザ
の発光閾値以下のバイアスによる電流、Idは半導体レ
ーザの駆動電流である。このバイアスによる電流Ibと
駆動電流Idは次のようにして決定される。まず、半導
体レーザアレイ1の発光光量を設定する設定器8−1の
値を0に設定し、半導体レーザアレイ1の発光をオン/
オフするタイミングを指示するための駆動パルス発生器
6−1をオンし、半導体レーザアレイ1の発光閾値以下
のバイアスをオン/オフするタイミングを指示するため
の駆動パルス発生器7−1をオフし、半導体レーザアレ
イ1の駆動行を選択するためのパルス発生器5−1をオ
ンする。半導体レーザアレイ1の発光光量を設定する設
定器8−1の値、たとえばD/A変換器17に与える8
bitの光量設定データを徐々に上げて行きながら、フ
ォトダイオードによって半導体レーザアレイ1の発光強
度をモニタして発光閾値Ithを求め、発光閾値Ith
のときにD/A変換器17に与えた8bitの光量設定
データから数データ、たとえば1を減じたときの光量に
半導体レーザがなるとき、半導体レーザアレイ1に流れ
る電流値がIbである。半導体レーザアレイ1の発光光
量を設定する設定器8−1の値をさらに上げていき、フ
ォトダイオードによって測定した発光強度が、ビームス
プリッタの反射率と透過率を考慮して記録媒体上に画像
を形成するように設定した光量になるとき、半導体レー
ザアレイ1に流れる電流値がIdである。半導体レーザ
の発光閾値以下のバイアスによる電流Ibと半導体レー
ザアレイ1の駆動電流Idの決定は適時に、たとえば図
2における記録媒体13が一回転するごとに行う。以上
の説明は、一つの半導体レーザについて行ったが、他の
半導体レーザについても同様である。
FIG. 5 is a waveform diagram of a current flowing through the semiconductor laser array 1 when the semiconductor laser is driven at the timing shown in FIG. In FIG. 5, Ib is a current due to a bias below the emission threshold of the semiconductor laser, and Id is a driving current of the semiconductor laser. The current Ib and the drive current Id due to this bias are determined as follows. First, the value of the setter 8-1 for setting the amount of light emitted from the semiconductor laser array 1 is set to 0 to turn on / off the light emission of the semiconductor laser array 1.
The drive pulse generator 6-1 for instructing the timing of turning off is turned on, and the drive pulse generator 7-1 for instructing the timing of turning on / off the bias below the emission threshold of the semiconductor laser array 1 is turned off. , The pulse generator 5-1 for selecting the drive row of the semiconductor laser array 1 is turned on. The value of the setter 8-1 for setting the amount of emitted light of the semiconductor laser array 1, for example, 8 given to the D / A converter 17
While gradually increasing the light amount setting data of bit, the emission threshold Ith is obtained by monitoring the emission intensity of the semiconductor laser array 1 by the photodiode and determining the emission threshold Ith.
When the semiconductor laser has a light amount obtained by subtracting several data, for example, 1 from the 8-bit light amount setting data given to the D / A converter 17 at that time, the current value flowing through the semiconductor laser array 1 is Ib. By further increasing the value of the setting device 8-1 for setting the amount of light emitted from the semiconductor laser array 1, the light emission intensity measured by the photodiode is displayed on the recording medium in consideration of the reflectance and transmittance of the beam splitter. The current value flowing through the semiconductor laser array 1 is Id when the amount of light is set to be formed. The current Ib and the drive current Id of the semiconductor laser array 1 are determined at a suitable time, for example, each time the recording medium 13 in FIG. The above description has been made for one semiconductor laser, but the same applies to other semiconductor lasers.

【0024】図5に示す半導体レーザアレイ1に発光閾
値以下のバイアスによる電流を流す時間Tbと半導体レ
ーザアレイ1に駆動電流を流す時間Tdについて説明す
る。半導体レーザアレイ1に発光閾値以下のバイアスに
よる電流を流す時間Tbは次のようにして決定される。
前述したように記録媒体の露光量は照射されるレーザの
エネルギーの積分値で決まるため、半導体レーザアレイ
1に供給するバイアス電流によるLED光のエネルギー
の積分値が記録媒体上に画像を形成する露光量以下にな
るように、半導体レーザアレイ1に発光閾値以下のバイ
アスによる電流を流す時間Tbを設定する。すなわち、
記録媒体上に画像を形成する露光量がPであるとする
と、Pを前述したように決定された半導体レーザアレイ
1の発光閾値以下のバイアスによる電流Ibで除した値
が半導体レーザアレイ1に発光閾値以下のバイアスによ
る電流を流す時間Tbの上限となる。また、半導体レー
ザアレイ1に駆動電流を流す時間Tdはパルス幅変調の
画像情報に応じて制御するレーザの発光時間とする。具
体的には、Tbは1μs、Tdは0.1μs程度とな
る。またTdと次のTdとの間隔は130μs程度であ
る。
The time Tb during which a current is applied to the semiconductor laser array 1 by a bias below the light emission threshold and the time Td during which a drive current is applied to the semiconductor laser array 1 will be described. The time Tb during which a current with a bias equal to or lower than the light emission threshold is passed through the semiconductor laser array 1 is determined as follows.
As described above, since the exposure amount of the recording medium is determined by the integrated value of the energy of the irradiated laser, the integrated value of the energy of the LED light due to the bias current supplied to the semiconductor laser array 1 is the exposure value that forms an image on the recording medium. The time Tb during which a current is applied to the semiconductor laser array 1 by a bias equal to or less than the light emission threshold value is set so as to be equal to or less than the amount. That is,
Assuming that the exposure amount for forming an image on the recording medium is P, a value obtained by dividing P by the current Ib due to the bias below the emission threshold of the semiconductor laser array 1 determined as described above emits light to the semiconductor laser array 1. It becomes the upper limit of the time Tb during which the current is caused to flow by the bias below the threshold value. Further, the time Td during which the drive current is passed through the semiconductor laser array 1 is the light emission time of the laser controlled according to the image information of the pulse width modulation. Specifically, Tb is about 1 μs and Td is about 0.1 μs. The interval between Td and the next Td is about 130 μs.

【0025】図6は、本発明に係るLD駆動回路の第二
の実施例を示すブロック図である。図6の構成におい
て、図1と同一の部分には同一の引用数字、符号を付し
た。この回路構成は、第一の実施例とは、半導体レーザ
アレイ1の発光光量と半導体レーザアレイ1の発光閾値
以下のバイアスを加算する加算回路19−1〜19−m
を配置した点が異なり、他は第一の実施例と同様に構成
されている。
FIG. 6 is a block diagram showing a second embodiment of the LD drive circuit according to the present invention. In the configuration of FIG. 6, the same parts as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals and symbols. This circuit configuration is different from that of the first embodiment in addition circuits 19-1 to 19-m for adding the amount of light emitted from the semiconductor laser array 1 and the bias below the light emission threshold of the semiconductor laser array 1.
The second embodiment is different from the first embodiment in that it is arranged.

【0026】図7は、第二の実施例における半導体レー
ザアレイ1の駆動方法について説明するための図であ
る。説明は半導体レーザアレイ中の一つの半導体レーザ
について行うが、他の半導体レーザについても同様に駆
動する。図7(a)はパルス発生器5−1の動作波形、
(b)はバイアス用の駆動パルス発生器7−1の動作波
形、(c)は半導体レーザアレイ発光用の駆動パルス発
生器6−1の動作波形を示す図である。各波形は最初、
オフ状態にある。時刻t1において、(a)のパルス発
生器5−1と、(b)のバイアス用の駆動パルス発生器
7−1をオンすると、半導体レーザアレイ1には発光閾
値以下のバイアスによる電流が流れる。時刻t1からT
b時間経過した時刻t2において、(a)のパルス発生
器5−1をオンのままにし、(b)のバイアス用の駆動
パルス発生器7−1をオンのままにし、(c)の半導体
レーザアレイ発光用の駆動パルス発生器6−1をオンす
ると、半導体レーザアレイ1には発光閾値以下のバイア
スによる電流と駆動電流を加算した電流が流れる。時刻
t2からTd時間経過した時刻t3において、(a)の
パルス発生器5−1をオフし、(b)のバイアス用の駆
動パルス発生器7−1をオフし、(c)の半導体レーザ
アレイ発光用の駆動パルス発生器6−1をオフすると、
半導体レーザアレイ1には電流が流れなくなる。
FIG. 7 is a diagram for explaining a driving method of the semiconductor laser array 1 in the second embodiment. The description will be given for one semiconductor laser in the semiconductor laser array, but other semiconductor lasers are driven in the same manner. FIG. 7A shows the operation waveform of the pulse generator 5-1.
(B) is a diagram showing an operation waveform of the drive pulse generator 7-1 for bias, and (c) is a diagram showing an operation waveform of the drive pulse generator 6-1 for emitting semiconductor laser array. Each waveform is initially
It is off. At time t1, when the pulse generator 5-1 in (a) and the drive pulse generator 7-1 for bias in (b) are turned on, a current due to a bias equal to or lower than the light emission threshold flows through the semiconductor laser array 1. From time t1 to T
At time t2 when b hours have passed, the pulse generator 5-1 of (a) is kept on, the drive pulse generator 7-1 for bias of (b) is kept on, and the semiconductor laser of (c) is When the drive pulse generator 6-1 for array light emission is turned on, a current obtained by adding a drive current and a current due to a bias equal to or less than the light emission threshold value flows through the semiconductor laser array 1. At time t3 when Td time has elapsed from time t2, the pulse generator 5-1 in (a) is turned off, the drive pulse generator 7-1 for bias in (b) is turned off, and the semiconductor laser array in (c) is turned on. When the drive pulse generator 6-1 for light emission is turned off,
No current flows through the semiconductor laser array 1.

【0027】図8は、図7に示すタイミングで半導体レ
ーザアレイ1を駆動したときに、半導体レーザアレイ1
に流れる電流波形図である。図8において、Ibは半導
体レーザアレイ1の発光閾値以下のバイアスによる電
流、Idは半導体レーザアレイ1の発光閾値以下のバイ
アスによる電流と半導体レーザアレイ1の駆動電流を加
算した値の電流である。第二の実施例におけるIbとI
dは第一の実施例と同様にして決定する。また、第二の
実施例におけるTbとTdは第一の実施例と同様にして
決定する。
FIG. 8 shows the semiconductor laser array 1 when the semiconductor laser array 1 is driven at the timing shown in FIG.
FIG. 7 is a waveform diagram of a current flowing through the. In FIG. 8, Ib is a current due to a bias below the light emission threshold of the semiconductor laser array 1, and Id is a current of a value obtained by adding a current due to a bias below the light emission threshold of the semiconductor laser array 1 and a drive current of the semiconductor laser array 1. Ib and I in the second embodiment
d is determined in the same manner as in the first embodiment. Further, Tb and Td in the second embodiment are determined in the same manner as in the first embodiment.

【0028】図9は、第二の実施例における半導体レー
ザアレイ1の別の駆動方法について説明するための図で
ある。説明は半導体レーザアレイ中の一つの半導体レー
ザについて行うが、他の半導体レーザについても同様に
駆動する。図9(a)はパルス発生器5−1の動作波
形、(b)はバイアス用の駆動パルス発生器7−1の動
作波形、(c)は半導体レーザアレイ発光用の駆動パル
ス発生器6−1の動作波形を示す図である。各波形は最
初、オフ状態にある。時刻t1において、(a)のパル
ス発生器5−1と、(b)のバイアス用の駆動パルス発
生器7−1をオンすると、半導体レーザアレイ1には発
光閾値以下のバイアスによる電流が流れる。時刻t1か
らTb1時間経過した時刻t2において、(a)のパル
ス発生器5−1をオンのままにし、(b)のバイアス用
の駆動パルス発生器7−1をオンのままにし、(c)の
半導体レーザアレイ発光用の駆動パルス発生器6−1を
オンすると、半導体レーザアレイ1には発光閾値以下の
バイアスによる電流と駆動電流を加算した電流が流れ
る。時刻t2からTd時間経過した時刻t3において、
(a)のパルス発生器5−1をオンのままにし、(b)
のバイアス用の駆動パルス発生器7−1をオンのままに
し、(c)の半導体レーザアレイ発光用の駆動パルス発
生器6−1をオフすると、半導体レーザアレイ1には発
光閾値以下のバイアスによる電流が流れる。時刻t3か
らTb2時間経過した時刻t4において、(a)のパル
ス発生器5−1をオフし、(b)のバイアス用の駆動パ
ルス発生器7−1をオフすると、半導体レーザアレイ1
には電流が流れなくなる。
FIG. 9 is a diagram for explaining another driving method of the semiconductor laser array 1 in the second embodiment. The description will be given for one semiconductor laser in the semiconductor laser array, but other semiconductor lasers are driven in the same manner. 9A is an operation waveform of the pulse generator 5-1. FIG. 9B is an operation waveform of the drive pulse generator 7-1 for bias. FIG. 9C is a drive pulse generator 6- for emitting light from the semiconductor laser array. It is a figure which shows the operation waveform of 1. Each waveform is initially in the off state. At time t1, when the pulse generator 5-1 in (a) and the drive pulse generator 7-1 for bias in (b) are turned on, a current due to a bias equal to or lower than the light emission threshold flows through the semiconductor laser array 1. At time t2 when Tb1 time has elapsed from time t1, the pulse generator 5-1 of (a) is kept on, the drive pulse generator 7-1 for bias of (b) is kept on, (c). When the drive pulse generator 6-1 for emitting light from the semiconductor laser array is turned on, a current obtained by adding the drive current and the bias current equal to or less than the light emission threshold value flows through the semiconductor laser array 1. At time t3 when Td time has elapsed from time t2,
Leave the pulse generator 5-1 in (a) on and (b)
When the driving pulse generator 7-1 for biasing the semiconductor laser array is turned on and the driving pulse generator 6-1 for semiconductor laser array light emission in (c) is turned off, the semiconductor laser array 1 receives a bias below the light emission threshold value. An electric current flows. At time t4 when Tb2 has elapsed from time t3, when the pulse generator 5-1 of (a) is turned off and the drive pulse generator 7-1 for bias of (b) is turned off, the semiconductor laser array 1
No current flows through it.

【0029】図10は、図9に示すタイミングで半導体
レーザアレイ1を駆動したときに、半導体レーザアレイ
1に流れる電流である。図10において、Ibは半導体
レーザアレイ1の発光閾値以下のバイアスによる電流、
Idは半導体レーザアレイ1の発光閾値以下のバイアス
による電流と半導体レーザアレイ1の駆動電流を加算し
た値の電流である。第二の実施例におけるIbとIdは
第一の実施例と同様にして決定する。また、第二の実施
例におけるTb1とTdは第一の実施例と同様にして決
定し、Tb2はTb1以下にする。
FIG. 10 shows a current flowing through the semiconductor laser array 1 when the semiconductor laser array 1 is driven at the timing shown in FIG. In FIG. 10, Ib is a current due to a bias below the emission threshold of the semiconductor laser array 1,
Id is a current of a value obtained by adding a drive current of the semiconductor laser array 1 with a current due to a bias equal to or less than the light emission threshold of the semiconductor laser array 1. Ib and Id in the second embodiment are determined in the same manner as in the first embodiment. Further, Tb1 and Td in the second embodiment are determined in the same manner as in the first embodiment, and Tb2 is set to Tb1 or less.

【0030】これらの実施例において、半導体レーザア
レイの発光光量と発光閾値以下のバイアスの設定を、前
記半導体レーザアレイに流す電流で制御してもよいし、
電圧で制御してもよいし、また、電流と電圧によって制
御してもよい。
In these embodiments, the amount of light emitted from the semiconductor laser array and the bias below the light emission threshold value may be controlled by the current flowing through the semiconductor laser array.
It may be controlled by voltage, or may be controlled by current and voltage.

【0031】本実施例で示した回路構成以外であって
も、半導体レーザアレイの一つの半導体レーザに流れる
電流が、図5、図8、図10となる回路構成であれば上
記形態のものに限ったものではない。
Other than the circuit configuration shown in this embodiment, if the current flowing through one semiconductor laser of the semiconductor laser array is the circuit configuration shown in FIG. 5, FIG. 8 and FIG. It's not limited.

【0032】本発明のレーザ画像露光装置は、半導体レ
ーザアレイの発光閾値以下のバイアスをオンするタイミ
ングは、半導体レーザアレイの発光がオンするタイミン
グよりも時間的に早く、バイアスによって前記半導体レ
ーザが放出する微弱な自然放出によるLED光のエネル
ギーの積分値が記録媒体に画像を形成する露光量となら
ない時間だけバイアスをオンできる。バイアスをオフす
るタイミングは、半導体レーザアレイの発光がオン又は
オフするタイミングと同時、又は半導体レーザアレイの
発光がオフした後であって、バイアスによって半導体レ
ーザが放出する微弱な自然放出によるLED光のエネル
ギーの積分値が記録媒体に画像を形成する露光量となる
前としたため、バイアス電流によって画質を著しく劣化
することなく、バイアス電流の効果である半導体レーザ
の光立ち上がり特性を改善し、プロセススピードの増加
およびドットの高密度化を実施できる。またバイアスの
オン時間は従来に比べて極端に短くなるので低消費電力
化に寄与できる。
In the laser image exposure apparatus of the present invention, the timing for turning on the bias below the light emission threshold of the semiconductor laser array is earlier than the timing for turning on the light emission of the semiconductor laser array, and the semiconductor laser emits due to the bias. The bias can be turned on only during a time when the integrated value of the energy of the LED light due to the weak spontaneous emission does not reach the exposure amount for forming an image on the recording medium. The bias is turned off at the same time as the light emission of the semiconductor laser array is turned on or off, or after the light emission of the semiconductor laser array is turned off, and the LED light of weak spontaneous emission emitted by the semiconductor laser by the bias is emitted. Since the integrated value of energy is before the exposure amount for forming an image on the recording medium, the image quality is not significantly deteriorated by the bias current, and the light rising characteristic of the semiconductor laser, which is the effect of the bias current, is improved and the process speed is improved. Increases and higher dot densities can be implemented. Further, since the bias on time is extremely shorter than that of the conventional case, it can contribute to the reduction of power consumption.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明によれば、半導体レーザアレイを
光源として用いた画像露光装置において、良好な立ち上
がり特性と高画質の画像を得ることができる。
According to the present invention, an image exposure apparatus using a semiconductor laser array as a light source can obtain an image with good rising characteristics and high image quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るLD駆動回路の第一の実施例を示
すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of an LD drive circuit according to the present invention.

【図2】本発明に係るレーザ画像露光装置の全体構成を
示す図であり、(a)は正面図、(b)は側面図、
(c)は要部拡大図である。
2A and 2B are views showing the overall configuration of a laser image exposure apparatus according to the present invention, in which FIG. 2A is a front view and FIG. 2B is a side view.
(C) is an enlarged view of a main part.

【図3】半導体レーザアレイの発光光量を設定する設定
器および半導体レーザアレイの発光閾値以下のバイアス
を設定する設定器の構成例である。
FIG. 3 is a configuration example of a setting device that sets the amount of light emitted from the semiconductor laser array and a setting device that sets a bias that is less than or equal to the light emission threshold of the semiconductor laser array.

【図4】(a)はパルス発生器5−1の動作波形、
(b)はバイアス用の駆動パルス発生器7−1の動作波
形、(c)は半導体レーザアレイ発光用の駆動パルス発
生器6−1の動作波形を示す図である。
FIG. 4A is an operation waveform of a pulse generator 5-1;
(B) is a diagram showing an operation waveform of the drive pulse generator 7-1 for bias, and (c) is a diagram showing an operation waveform of the drive pulse generator 6-1 for emitting semiconductor laser array.

【図5】図4に示すタイミングで半導体レーザを駆動し
たときに半導体レーザに流れる電流波形図である。
5 is a waveform diagram of a current flowing through the semiconductor laser when the semiconductor laser is driven at the timing shown in FIG.

【図6】本発明に係るLD駆動回路の第二の実施例を示
すブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a second embodiment of an LD drive circuit according to the present invention.

【図7】(a)はパルス発生器5−1の動作波形、
(b)はバイアス用の駆動パルス発生器7−1の動作波
形、(c)は半導体レーザアレイ発光用の駆動パルス発
生器6−1の動作波形を示す図である。
7 (a) is an operation waveform of a pulse generator 5-1, FIG.
(B) is a diagram showing an operation waveform of the drive pulse generator 7-1 for bias, and (c) is a diagram showing an operation waveform of the drive pulse generator 6-1 for emitting semiconductor laser array.

【図8】図7に示すタイミングで半導体レーザを駆動し
たときに半導体レーザに流れる電流波形図である。
8 is a waveform diagram of a current flowing through the semiconductor laser when the semiconductor laser is driven at the timing shown in FIG.

【図9】(a)はパルス発生器5−1の動作波形、
(b)はバイアス用の駆動パルス発生器7−1の動作波
形、(c)は半導体レーザアレイ発光用の駆動パルス発
生器6−1の動作波形を示す図である。
9 (a) is an operation waveform of a pulse generator 5-1, FIG.
(B) is a diagram showing an operation waveform of the drive pulse generator 7-1 for bias, and (c) is a diagram showing an operation waveform of the drive pulse generator 6-1 for emitting semiconductor laser array.

【図10】図9に示すタイミングで半導体レーザを駆動
したときに半導体レーザに流れる電流波形図である。
10 is a waveform diagram of a current flowing through the semiconductor laser when the semiconductor laser is driven at the timing shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体レーザアレイ 2−1 列方向配線 2−2 列方向配線 2−m 列方向配線 3−1 行方向配線 3−2 行方向配線 3−m 行方向配線 4−1 伝達回路 4−2 伝達回路 4−m 伝達回路 5−1 駆動行選択パルス発生器 5−2 駆動行選択パルス発生器 5−n 駆動行選択パルス発生器 6−1 駆動パルス発生器 6−2 駆動パルス発生器 6−m 駆動パルス発生器 7−1 駆動パルス発生器 7−2 駆動パルス発生器 7−m 駆動パルス発生器 8−1 発光光量設定器 8−2 発光光量設定器 8−m 発光光量設定器 9−1 バイアス設定器 9−2 バイアス設定器 9−m バイアス設定器 1 Semiconductor laser array 2-1 Column direction wiring 2-2 Column direction wiring 2-m column direction wiring 3-1 Row direction wiring 3-2 Row direction wiring 3-m row direction wiring 4-1 Transmission circuit 4-2 Transmission circuit 4-m transmission circuit 5-1 Drive row selection pulse generator 5-2 Drive row selection pulse generator 5-n drive row selection pulse generator 6-1 Drive pulse generator 6-2 Drive pulse generator 6-m drive pulse generator 7-1 Drive pulse generator 7-2 Drive pulse generator 7-m drive pulse generator 8-1 Emission light intensity setting device 8-2 Emission light intensity setting device 8-m emission light intensity setting device 9-1 Bias setting device 9-2 Bias setter 9-m bias setting device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 足利 英昭 神奈川県足柄上郡中井町境430 グリー ンテクなかい 富士ゼロックス株式会社 内 (72)発明者 山口 昭治 神奈川県足柄上郡中井町境430 グリー ンテクなかい 富士ゼロックス株式会社 内 (56)参考文献 特開 平9−183249(JP,A) 特開 平9−131918(JP,A) 特開 平8−83950(JP,A) 特開 平8−116119(JP,A) 特開 平5−190948(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41J 2/44 B41J 2/45 B41J 2/455 H01S 5/042 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Hideaki Ashikaga Inventor Hideaki Ashikaga 430 Nakai-cho, Ashigaragami-gun, Kanagawa Green Tech Nakakai Fuji Xerox Co., Ltd. (56) References JP-A-9-183249 (JP, A) JP-A-9-131918 (JP, A) JP-A-8-83950 (JP, A) JP-A-8-116119 (JP, A) JP-A-5-190948 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) B41J 2/44 B41J 2/45 B41J 2/455 H01S 5/042

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 画像データに基づいて半導体レーザアレ
イを駆動することにより記録媒体上に露光を行うレーザ
画像露光装置であって、前記半導体レーザアレイを発光
させる前から少なくとも発光させるまで、前記半導体レ
ーザアレイの発光閾値以下のバイアスを前記半導体レー
ザアレイに所定期間与えるようにしたこと、および前記
所定期間は、前記バイアスにより個別の半導体レーザが
放出するLED光のエネルギーの積分値が前記記録媒体
に画像を形成する露光量とならない期間であることを特
徴とするレーザ画像露光装置。
1. A laser image exposure apparatus for exposing a recording medium by driving a semiconductor laser array based on image data, wherein the semiconductor laser array is emitted from before the emission of the semiconductor laser array to at least the emission of the semiconductor laser array. to the light emission threshold following bias array was set to give a predetermined period to said semiconductor laser array, and the predetermined period, the image in the integral value is the recording medium of the energy of the LED light individual semiconductor laser is released by the bias The laser image exposure apparatus is characterized in that it is a period in which the exposure amount does not become a value.
【請求項2】 前記半導体レーザアレイの発光光量と発
光閾値以下のバイアスの設定を前記半導体レーザアレイ
に流す電流で制御するようにしたことを特徴とする請求
項1記載のレーザ画像露光装置。
2. The laser image exposure apparatus according to claim 1, wherein the amount of light emitted from the semiconductor laser array and the setting of the bias equal to or less than the light emission threshold are controlled by a current flowing through the semiconductor laser array.
【請求項3】 前記半導体レーザアレイの発光光量と発
光閾値以下のバイアスの設定を前記半導体レーザアレイ
にかける電圧で制御するようにしたことを特徴とする請
求項1記載のレーザ画像露光装置。
3. The laser image exposure apparatus according to claim 1, wherein the amount of light emitted from the semiconductor laser array and the bias below the light emission threshold are controlled by the voltage applied to the semiconductor laser array.
【請求項4】 画像データに基づいて半導体レーザアレ
イを駆動することにより記録媒体上に露光を行うレーザ
画像露光装置において、前記半導体レーザアレイの発光
閾値以下のバイアスをオンするタイミングは、前記半導
体レーザアレイの発光がオンするタイミングよりも時間
的に早いこと、および前記バイアスをオフするタイミン
グは、前記半導体レーザアレイの発光がオンするタイミ
ングよりも時間的に早くなく且つ前記バイアスによって
個別の半導体レーザが放出するLED光のエネルギーの
積分値が記録媒体に画像を形成する露光量となる前であ
ることを特徴とするレーザ画像露光装置。
4. In a laser image exposure apparatus that exposes a recording medium by driving a semiconductor laser array based on image data, the semiconductor laser array is turned on at a timing at which a bias equal to or less than an emission threshold of the semiconductor laser array is turned on. The timing of turning on the light emission of the array is earlier than the timing of turning on the light of the array, and the timing of turning off the bias is not earlier than the timing of turning on the light emission of the semiconductor laser array, and
The laser image exposure apparatus, wherein the integrated value of the energy of the LED light individual semiconductor laser emits is before the exposure amount necessary for forming an image on a recording medium.
【請求項5】 前記バイアスをオフするタイミングは、
前記半導体レーザアレイの発光がオン又はオフするタイ
ミングに合せることを特徴とする請求項記載のレーザ
画像露光装置。
5. The timing for turning off the bias is
The laser image exposure apparatus according to claim 4, wherein the timing of turning on or off the light emission of the semiconductor laser array is adjusted.
【請求項6】 前記バイアスをオフするタイミングは、
前記半導体レーザアレイの発光がオフした後であること
を特徴とする請求項記載のレーザ画像露光装置。
6. The timing for turning off the bias is
The semiconductor light emitting laser array is a laser image exposure apparatus according to claim 4, characterized in that after turning off.
【請求項7】 前記半導体レーザアレイの光量検出手段
を備え、前記光量検出手段の出力により前記半導体レー
ザアレイの光量と前記半導体レーザアレイの発光閾値以
下のバイアスを制御するようにしたことを特徴とする請
求項記載のレーザ画像露光装置。
7. A light quantity detecting means for the semiconductor laser array is provided, and a light quantity of the semiconductor laser array and a bias below a light emission threshold of the semiconductor laser array are controlled by an output of the light quantity detecting means. The laser image exposure device according to claim 4 .
【請求項8】 前記半導体レーザアレイの光量検出手段
を備え、前記光量検出手段の出力により前記半導体レー
ザアレイの発光閾値以下のバイアスによる電流を流す時
間の上限を決定するようにしたことを特徴とする請求項
記載のレーザ画像露光装置。
8. includes a light quantity detecting means of the semiconductor laser array, when the electric current due to light emission threshold following bias by Ri before Symbol semiconductor laser array to the output of said light quantity detecting means
The upper limit of the interval is determined.
4. The laser image exposure device according to item 4 .
【請求項9】 半導体レーザアレイを駆動する半導体レ
ーザ駆動装置において、前記半導体レーザアレイの発光
光量を設定する手段と、前記半導体レーザアレイの発光
をオン/オフするタイミングを指示するための駆動パル
ス発生手段と、前記半導体レーザアレイの発光閾値以下
のバイアスを設定する手段と、前記半導体レーザアレイ
の発光閾値以下のバイアスをオン/オフするタイミング
を指示するための駆動パルス発生手段とを備え、前記バ
イアスをオンするタイミングは、前記半導体レーザアレ
イの発光がオンするタイミングよりも時間的に早いこ
と、および前記バイアスをオフするタイミングは、前記
半導体レーザアレイの発光がオンするタイミングよりも
時間的に早くなく且つ前記バイアスによって個別の半導
体レーザが放出するLED光のエネルギーの積分値が記
録媒体に画像を形成する露光量となる前であることを特
徴とする半導体レーザ駆動装置。
9. A semiconductor laser driving device for driving a semiconductor laser array, wherein a means for setting the amount of light emitted from the semiconductor laser array and a drive pulse generation for instructing the timing of turning on / off the light emission of the semiconductor laser array. Means for setting a bias below the emission threshold of the semiconductor laser array, and drive pulse generating means for instructing the timing of turning on / off the bias below the emission threshold of the semiconductor laser array, Is turned on earlier than the timing at which the light emission of the semiconductor laser array is turned on, and the timing at which the bias is turned off is not earlier than the timing at which the light emission of the semiconductor laser array is turned on. to release a separate semiconductor <br/> body laser and by the bias The semiconductor laser drive device, wherein the integrated value of the energy of the LED light is before the exposure amount necessary for forming an image on a recording medium.
【請求項10】 前記バイアスをオフするタイミング
は、前記半導体レーザアレイの発光がオン又はオフする
タイミングと同時としたことを特徴とする請求項記載
の半導体レーザ駆動装置。
10. The semiconductor laser driving device according to claim 9, wherein the bias is turned off at the same time as the light emission of the semiconductor laser array is turned on or off.
【請求項11】 前記バイアスをオフするタイミング
は、前記半導体レーザアレイの発光がオフした後である
ことを特徴とする請求項記載の半導体レーザ駆動装
置。
11. The timing for turning off the bias, the semiconductor laser drive device according to claim 9, wherein the light emission of the semiconductor laser array and said <br/> that after turning off.
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