JP3517262B2 - Optical axis adjusting device and optical axis adjusting method - Google Patents
Optical axis adjusting device and optical axis adjusting methodInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、レンズの集光特性を十
分に使用するために、レーザ光路をレンズ光軸に精確に
一致させる光軸調整装置および光軸調整方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical axis adjusting device and an optical axis adjusting method for accurately aligning a laser optical path with a lens optical axis in order to sufficiently use the condensing characteristics of a lens.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の光軸の調整方法について説明す
る。2. Description of the Related Art A conventional optical axis adjusting method will be described.
【0003】第1の従来の光軸調整方法を実現するため
の光学系の模式図を図5に示す。図5において、2はレ
ーザ光、19はレーザ、20は2方向への平行移動およ
び2軸の回転の調整が可能なステージ20Aに搭載され
たレンズ、21はレーザ光2の照射位置を確認するため
のターゲットである。FIG. 5 shows a schematic view of an optical system for realizing the first conventional optical axis adjusting method. In FIG. 5, reference numeral 2 is a laser beam, 19 is a laser, 20 is a lens mounted on a stage 20A capable of adjusting parallel translation in two directions and rotation of two axes, and 21 is an irradiation position of the laser beam 2. Is a target for.
【0004】この従来例1における光軸調整において
は、レーザ19を駆動してレーザ光2をあらかじめ所望
の光学系上を通す。その際、光軸を一致させるべきレン
ズ20は挿入せず、また、レーザ光2は十分遠方まで飛
ばしておく。さらに、遠方に用意されたターゲット21
によって、レンズ20挿入前のレーザ光2の照射位置に
印を付けておく。In the optical axis adjustment in the first conventional example, the laser 19 is driven to pass the laser beam 2 through a desired optical system in advance. At that time, the lens 20 whose optical axis should be aligned is not inserted, and the laser light 2 is allowed to fly far enough. In addition, the target 21 prepared at a distance
A mark is made on the irradiation position of the laser beam 2 before the insertion of the lens 20.
【0005】次に、レーザ照射位置がターゲット21上
の印からずれないように、レンズ20を挿入する。この
ようなレンズ20の挿入に際して、レンズ20へのレー
ザ光2の入射位置およびレンズ20の傾きの調整は、レ
ンズ20自身をそのステージ20Aの調整機構によって
移動、回転させることにより行う。Next, the lens 20 is inserted so that the laser irradiation position does not deviate from the mark on the target 21. When the lens 20 is inserted as described above, the incident position of the laser light 2 on the lens 20 and the inclination of the lens 20 are adjusted by moving and rotating the lens 20 itself by the adjusting mechanism of the stage 20A.
【0006】次に、第2の従来の光軸調整方法を実現す
るための光学系の模式図を図6に示す。図6において、
22は開口部22aを設けたスクリーン、23はレンズ
面からの反射光である。Next, FIG. 6 shows a schematic diagram of an optical system for realizing the second conventional optical axis adjusting method. In FIG.
Reference numeral 22 is a screen provided with an opening 22a, and 23 is light reflected from the lens surface.
【0007】この従来例2による光軸調整方法は、レン
ズ各面からの反射光を利用する方法であって、その調整
に当たっては、まず、レーザ光2を所望の光学系上を通
す。The optical axis adjusting method according to the second conventional example uses the reflected light from each surface of the lens, and in the adjustment, first, the laser light 2 is passed through a desired optical system.
【0008】次に、光軸を一致させるべきレンズ20
を、その光軸がレーザ光路とほぼ一致するように挿入す
る。また、レンズ20に入射する前の位置に、レーザ光
2のビーム径よりも大きい開口部22aを設けたスクリ
ーン22を、レーザ光2がその開口部22aを通過する
ように設置する。Next, the lens 20 whose optical axes should be aligned
Is inserted so that its optical axis substantially coincides with the laser optical path. A screen 22 having an opening 22a larger than the beam diameter of the laser light 2 is provided at a position before entering the lens 20 so that the laser light 2 passes through the opening 22a.
【0009】このように、レンズ20の前にスクリーン
22を設置すると、スクリーン22の開口部22aを通
過したレーザ光2が入射ビームとしてレンズ20の各面
で反射し、その反射光23がスクリーン22上に映る。
そして、このレンズ各面からの反射光23が、入射ビー
ムと重なるように、すなわちスクリーン22の開口部2
2aに一致するようにレンズ20の位置および角度を調
整する。As described above, when the screen 22 is installed in front of the lens 20, the laser light 2 that has passed through the opening 22a of the screen 22 is reflected as an incident beam on each surface of the lens 20, and the reflected light 23 is reflected by the screen 22. Reflected on the top.
The reflected light 23 from each surface of the lens overlaps the incident beam, that is, the opening 2 of the screen 22.
The position and angle of the lens 20 are adjusted so as to match 2a.
【0010】また、反射光のそれぞれを調整用ビームと
して用いる代わりに、反射光のつくる回折パターンを用
いて、上記と同様に入射ビーム光に重なるように調整を
行うのも同様である。Also, instead of using each of the reflected lights as an adjusting beam, the diffraction pattern formed by the reflected lights is used to perform adjustment so as to overlap the incident beam light as described above.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の光軸調整方法では以下に述べるような問題が
あった。However, such a conventional optical axis adjusting method has the following problems.
【0012】まず、従来例1の場合には、光軸調整の実
行可能な条件が非常に限られているという点である。光
学系の関係でレンズ20の挿入位置より後方に十分に長
い距離をとれない場合とか、あるいは焦点距離が非常に
短いレンズ20を挿入しなければならない場合には、レ
ンズ20の後方遠方位置にレーザ光2の照射位置の印を
付けるためのターゲット21を配置できなくなるので、
従来例1の調整方法で光軸を調整することができない。First, in the case of the first conventional example, the conditions under which the optical axis adjustment can be performed are very limited. When it is not possible to take a sufficiently long distance behind the insertion position of the lens 20 due to the optical system, or when it is necessary to insert the lens 20 having a very short focal length, the laser is placed at a far position behind the lens 20. Since the target 21 for marking the irradiation position of the light 2 cannot be arranged,
The optical axis cannot be adjusted by the adjusting method of Conventional Example 1.
【0013】また、従来例1の方法では、遠方でのター
ゲット21でのレーザ光2の照射位置の変化によってレ
ンズ20の光軸の調整を行うが、レンズ通過後の遠方に
おいてレーザ光2のビーム径はかなり拡大しており、レ
ーザ光2のレンズ20への入射位置および入射角度の違
いに起因するターゲット21での照射位置の変化は見極
めがたいものである。Further, in the method of the conventional example 1, the optical axis of the lens 20 is adjusted by changing the irradiation position of the laser light 2 on the target 21 at a distance, but the beam of the laser light 2 is transmitted at a distance after passing through the lens. The diameter is considerably enlarged, and the change in the irradiation position on the target 21 due to the difference in the incident position and the incident angle of the laser beam 2 on the lens 20 is hard to discern.
【0014】また、従来例2の方法でも、反射光23を
入射ビームと一致させるように調整する場合に、実際に
は、その一致点がスクリーン22の開口部22aに当た
る上に、その開口部22aの径もビーム径よりも大きい
ので、その開口部22a内での微妙な光軸調整は不可能
であるといえる。Also in the method of the second conventional example, when the reflected light 23 is adjusted so as to coincide with the incident beam, the coincident point actually hits the opening 22a of the screen 22 and the opening 22a thereof. Since the diameter of the beam is also larger than the beam diameter, it can be said that it is impossible to finely adjust the optical axis within the opening 22a.
【0015】特に、光の伝達効率を向上させるためにレ
ンズ20の表面に反射防止膜等の処理が施されている場
合には、反射光23の強度が小さくなるためより、光軸
調整が一層困難になるといった問題点もある。In particular, when the surface of the lens 20 is subjected to a treatment such as an antireflection film in order to improve the light transmission efficiency, the intensity of the reflected light 23 becomes small, so that the optical axis adjustment is further performed. There is also a problem that it becomes difficult.
【0016】また、従来例1と従来例2に共通した問題
点として、調整精度の問題がある。Further, as a problem common to the conventional example 1 and the conventional example 2, there is a problem of adjustment accuracy.
【0017】特に、光ディスク原盤を作製するための対
物レンズのように、記録光の波長に対して回折限界まで
光を集光するように設計されたレンズを用いる場合に大
きな問題となる。すなわち、このような対物レンズは一
般に組みレンズとして用いられるが、その組みレンズ
は、ビームスポットをより小さくするために視野が小さ
い設計となっているので、記録光のレンズ光軸からのわ
ずかなずれに対して集光特性が極端に低くなってしま
う。そこで非常に精度高くレンズ光軸とレーザ光路を一
致させる必要が生じるが、そのように一致させる作業は
むずかしいものとなる。In particular, when using a lens designed to collect light up to the diffraction limit with respect to the wavelength of the recording light, such as an objective lens for producing an optical disk master, there is a serious problem. That is, such an objective lens is generally used as a compound lens, but since the compound lens is designed to have a small field of view in order to make the beam spot smaller, a slight deviation of the recording light from the lens optical axis is caused. On the other hand, the light condensing characteristic becomes extremely low. Therefore, it is necessary to align the optical axis of the lens with the optical path of the laser with extremely high accuracy, but such alignment becomes difficult.
【0018】以上のように、従来例1の方法でも従来例
2の方法でも、光軸の調整精度の点で大きな問題があっ
た。また、光軸の調整に当たって、「ターゲット照射位
置が変化しない」、あるいは「開口部中心を通過してい
る」という判断を調整者に要求するものであるが、この
判断は調整者に依存するものであり、それにはかなり調
整者の個人差があると考えられ、調整の客観的な信頼性
とか安定性という面でも問題があった。As described above, both the method of the conventional example 1 and the method of the conventional example 2 have a big problem in terms of the adjustment accuracy of the optical axis. In addition, when adjusting the optical axis, the adjuster is required to make a judgment that "the target irradiation position does not change" or "is passing through the center of the opening", but this judgment depends on the adjuster. It is considered that there are individual differences among coordinators, and there was a problem in terms of the objective reliability and stability of coordination.
【0019】本発明は上記従来技術の問題点に鑑み、精
度高くレーザ光路をレンズの光軸と一致させることを可
能にする光軸調整装置および光軸調整方法を提供するこ
とを目的とする。In view of the above problems of the prior art, it is an object of the present invention to provide an optical axis adjusting device and an optical axis adjusting method capable of accurately aligning a laser optical path with an optical axis of a lens.
【0020】[0020]
【課題を解決するための手段】本発明に係る請求項1の
光軸調整装置は、レンズと、前記レンズの後方に前記レ
ンズの光軸と垂直に配置した反射板との距離を変化させ
る手段と、前記レンズに対するレーザ光の入射方向を少
なくとも2軸のあおり方向と少なくとも2軸の平行移動
方向に変化させる手段と、前記レンズを通過した前記反
射板からの反射光を入射光と分離する手段と、前記反射
光を検出する手段とを備えたことを特徴とする。Optical axis adjustment device according to claim 1 according to the present invention SUMMARY OF] includes a lens, the Le behind the lens
Means for changing the distance between the optical axis of the lens and a reflecting plate arranged perpendicularly, and means for changing the direction of incidence of the laser light on the lens into at least a biaxial tilt direction and at least a biaxial parallel movement direction, It is characterized by comprising means for separating the reflected light from the reflection plate that has passed through the lens from the incident light, and means for detecting the reflected light.
【0021】本発明に係る請求項2の光軸調整装置は、
前記レンズとして組みレンズが用いられている、請求項
1に記載の光軸調整装置である。 The optical axis adjusting device according to claim 2 of the present invention is
A compound lens is used as the lens ,
1 is an optical axis adjusting device.
【0022】本発明に係る請求項3の光軸調整装置は、
前記レンズと前記反射板との距離を変化させる手段とし
て、前記レンズを搭載し前記レンズをレンズ光軸と平行
方向に変位させる可動ステージを用いていることを特徴
とする、請求項1または2に記載の光軸調整装置であ
る。 An optical axis adjusting device according to a third aspect of the present invention is
As means for changing the distance between the reflecting plate and the lens, characterized in that it uses a movable stage for displacing the lens mounting the lens to the lens optical axis direction parallel to claim 1 or 2 The optical axis adjusting device described
It
【0023】本発明に係る請求項4の光軸調整装置は、
前記レンズと前記反射板との距離を変化させる手段とし
て、前記レンズを搭載し、周期的に変化する電圧を印加
することにより前記レンズをレンズ光軸と平行方向に変
位させるアクチュエータを用いていることを特徴とす
る、請求項1または2に記載の光軸調整装置である。 An optical axis adjusting device according to a fourth aspect of the present invention is
As means for changing the distance between the reflecting plate and the lens, and mounting the lens, that by using an actuator for displacing the lens in the lens optical axis direction parallel by applying a periodically changing voltage The optical axis adjusting device according to claim 1 or 2.
【0024】本発明に係る請求項5の光軸調整装置は、
前記レンズに対する前記レーザ光の入射方向を少なくと
も2軸のあおり方向と少なくとも2軸の平行移動方向に
変化させる手段として、前記レンズへの前記レーザ光の
入射前の位置に設けられた少なくとも互いに垂直な2軸
の平行移動機構と、互いに垂直な2軸の回転軸を有する
あおり(傾き)の調整機構とを備えたことを特徴とす
る、請求項1から4のいずれか1項に記載の光軸調整装
置である。 An optical axis adjusting device according to a fifth aspect of the present invention is
As means for changing the translation direction of the at least two axial and tilt direction of the at least two axial direction of incidence of the laser beam relative to the lens, a least mutually perpendicular which is positioned before incidence of the laser light to the lens 5. A biaxial translation mechanism and a tilt adjustment mechanism having two axes of rotation perpendicular to each other are provided , and any one of claims 1 to 4 is provided. Optical axis adjustment device described
It is a place.
【0025】本発明に係る請求項6の光軸調整装置は、
前記平行移動機構として2軸可動ステージ上にレンズを
搭載したものを用いることを特徴とする、請求項5に記
載の光軸調整装置である。 The optical axis adjusting device according to claim 6 of the present invention is
6. The translation mechanism according to claim 5, wherein a lens mounted on a biaxial movable stage is used as the parallel movement mechanism.
It is a mounted optical axis adjusting device.
【0026】本発明に係る請求項7の光軸調整装置は、
前記反射光を検出する手段として2次元ダイオードアレ
ーを用いていることを特徴とする、請求項1から6のい
ずれか1項に記載の光軸調整装置である。 The optical axis adjusting device according to claim 7 of the present invention is
Characterized in that it uses a two-dimensional diode array as means for detecting the reflected light, of claims 1-6 Neu
The optical axis adjusting device according to the first aspect.
【0027】本発明に係る請求項8の光軸調整装置は、
前記反射光を検出する手段として、集光用レンズおよび
前記集光用レンズの焦点面上に2次元ダイオードアレー
を設置したものを用いることを特徴とする、請求項1か
ら6のいずれか1項に記載の光軸調整装置である。 The optical axis adjusting device according to claim 8 of the present invention is
As a means for detecting the reflected light, a condenser lens and
The one in which a two-dimensional diode array is installed on the focal plane of the condenser lens is used .
The optical axis adjustment device according to any one of items 6 to 6.
【0028】本発明に係る請求項9の光軸調整装置は、
前記2次元ダイオードアレーで受光した信号に基づいて
前記レンズと前記反射板との距離の変化に対しての強度
分布ピーク位置の変位信号および回転対称エラー信号を
作成する信号処理部を備えていることを特徴とする、請
求項7または8に記載の光軸調整装置である。 The optical axis adjusting device according to claim 9 of the present invention is
Based on the signal received by the two-dimensional diode array
Characterized in that it comprises a signal processing unit for creating displacement signal and the rotation symmetry error signal intensity distribution peak position of the relative change in the distance between the reflecting plate and the lens,請
The optical axis adjusting device according to claim 7 or 8.
【0029】本発明に係る請求項10の光軸調整方法
は、レーザ光路をレンズの光軸と一致させる方法であっ
て、レンズと反射板との距離をレンズ焦点距離近傍で変
化させ、すべての位置において、反射光の検出手段への
入射位置が変化せずかつ強度分布が常に回転対称となる
分布をとるように、光の対物レンズへの入射方向を変化
させることを特徴とするものである。According to claim 10 of the present inventionOptical axis adjustment method
Is a method of aligning the laser optical path with the optical axis of the lens.
Change the distance between the lens and the reflector near the focal length of the lens.
The reflected light to the detection means at all positions.
The incident position does not change and the intensity distribution is always rotationally symmetrical
Change the incident direction of light to the objective lens so that it takes a distribution
It is characterized by that.
【0030】[0030]
【0031】[0031]
【0032】[0032]
【作用】請求項1の光軸調整装置によれば、次のような
作用が得られる。According to the optical axis adjusting device of the first aspect, the following actions can be obtained.
【0033】まず、レンズに対してレーザ光が斜めに入
射した場合の反射光検出手段上での位置変化について考
える。レーザ光を光線として考えると、反射板から反射
される光も必ずレンズに対して斜めに入射する。このと
きレンズと反射板との距離を変化させると、反射板での
反射位置が変化し、それに伴って反射光の再入射する位
置が変化する。ところがこのとき再入射する角度は一定
であるため、レンズ出射後の光路が変化し、その結果、
反射光検出手段上での照射位置が変化する。First, consideration will be given to the change in position on the reflected light detecting means when the laser light is obliquely incident on the lens. Considering the laser light as a light beam, the light reflected from the reflection plate always enters the lens obliquely. At this time, if the distance between the lens and the reflection plate is changed, the reflection position on the reflection plate changes, and the position at which the reflected light is incident again changes accordingly. However, since the angle of re-incident light is constant at this time, the optical path after exiting the lens changes, and as a result,
The irradiation position on the reflected light detection means changes.
【0034】次に、強度分布の回転対称性についてであ
るが、この場合は理解を容易にするために、レーザ光が
光線の束であると考える。また「光線とレンズ光軸との
距離」を、レンズの前焦点面における光線の通過位置と
前焦点との距離と定義する。Next, regarding the rotational symmetry of the intensity distribution, in this case, to facilitate understanding, it is considered that the laser light is a bundle of light rays. Further, the "distance between the light ray and the optical axis of the lens" is defined as the distance between the light beam passing position on the front focal plane of the lens and the front focal point.
【0035】レンズ通過後の光線群の挙動を考えると、
その光線群がレンズ光軸から遠いほど焦点面への入射角
が大きくなる。このことから焦点近傍において、レンズ
光軸から遠い光線群ほど、光線群内の光線どうしのなす
角度は小さくなり、単位面積当たりの強度が大きくなる
ことがわかる。この結果、斜めに入射された場合には反
射光検出手段への入射ビームが回転対称でなくなる。Considering the behavior of the ray group after passing through the lens,
The farther the ray group is from the optical axis of the lens, the larger the angle of incidence on the focal plane. From this, it can be seen that in the vicinity of the focal point, the farther from the lens optical axis, the smaller the angle formed by the light rays within the light group, and the greater the intensity per unit area. As a result, when the light is obliquely incident, the incident beam on the reflected light detecting means is not rotationally symmetrical.
【0036】レンズと反射板との距離を変化させて、あ
らゆる距離においても上記の現象、すなわち反射光の反
射光検出手段上での照射位置の変化と強度分布の回転対
称からのずれが起こらないとき、レーザ光路とレンズ光
軸が一致したことになる。そうなるようにレンズの位置
および入射方向を調整することにより、レーザ光路をレ
ンズ光軸に一致させることができる。すなわち、反射光
の検出手段に対する照射位置の変化と強度分布の回転対
称性の変化によりレンズ光軸に対するレーザ光路の位置
ずれと角度ずれとを検出し、この検出結果に応じて、レ
ーザ光入射方向を2軸のあおり方向で変化させることと
レーザ光入射方向を2軸の平行移動方向で変化させるこ
ととの組み合わせにより、位置ずれと角度ずれを修正
し、レンズ光軸に対してレーザ光路を高精度に一致させ
ることができる。これにより、レンズの集光特性を十分
に発揮させることができる。 By changing the distance between the lens and the reflecting plate, the above phenomenon, that is, the change of the irradiation position of the reflected light on the reflected light detecting means and the deviation from the rotational symmetry of the intensity distribution do not occur at any distance. At this time, the laser optical path and the lens optical axis match. By adjusting the position of the lens and the incident direction so as to be so, the laser optical path can be aligned with the lens optical axis. That is, reflected light
Of irradiation position and rotation pair of intensity distribution with respect to detection means
The position of the laser optical path with respect to the lens optical axis due to the change of the name
Deviation and angular deviation are detected, and the
-By changing the incident direction of laser light in two tilting directions
Change the direction of laser light incidence in two parallel translation directions.
Corrects misalignment and angular misalignment by combining with
The laser optical path to the lens optical axis with high accuracy.
You can As a result, the condensing characteristics of the lens are sufficient
Can be demonstrated.
【0037】請求項2の光軸調整装置は、レンズとし
て、レーザ光のスポットを小さくするために組みレンズ
を用いる場合が多いことを明らかにしたものである。In the optical axis adjusting device of the second aspect, it is clarified that a compound lens is often used as the lens in order to reduce the spot of the laser light.
【0038】請求項3の光軸調整装置においては、可動
ステージにレンズを搭載し、可動ステージの動作により
レンズをレンズ光軸と平行方向に変位させて、レンズと
反射板との距離を変化させる。In the optical axis adjusting device of the third aspect, the lens is mounted on the movable stage, and the lens is displaced in the direction parallel to the optical axis of the lens by the operation of the movable stage to change the distance between the lens and the reflector. .
【0039】請求項4の光軸調整装置においては、アク
チュエータにレンズを搭載し、そのアクチュエータに周
期的に変化する電圧を印加してレンズを絶えず変位させ
ることにより、レンズと反射板との距離を絶えず自動的
に変化させるため、レーザ光路とレンズ光軸を一致させ
る作業が能率良く行える。In the optical axis adjusting device according to a fourth aspect of the present invention, a lens is mounted on the actuator, and a voltage that changes periodically is applied to the actuator to constantly displace the lens, thereby keeping the distance between the lens and the reflecting plate. Since it constantly changes automatically, the work of aligning the laser optical path with the lens optical axis can be performed efficiently.
【0040】請求項5の光軸調整装置においては、レン
ズ入射前の位置の反射面を垂直2方向に平行移動させた
り垂直2軸まわりに回転させることにより、レンズに対
するレーザ光の入射方向を変化させる。In the optical axis adjusting device of the fifth aspect, the incident direction of the laser light on the lens is changed by translating the reflecting surface at the position before the incidence of the lens in the two vertical directions or by rotating about the two vertical axes. Let
【0041】請求項6の光軸調整装置においては、2軸
可動ステージを動作させてレンズを垂直2方向に平行移
動させる。In the optical axis adjusting device of the sixth aspect, the biaxial movable stage is operated to move the lens in parallel in two vertical directions.
【0042】[0042]
【0043】請求項7の光軸調整装置においては、2次
元ダイオードアレーによって反射光を検出するから、レ
ンズを通しての反射板への照射位置の変化を強度分布の
回転対称からのずれを計測することができる。In the optical axis adjusting device of the seventh aspect , since the reflected light is detected by the two-dimensional diode array, the change of the irradiation position on the reflecting plate through the lens is measured as the deviation from the rotational symmetry of the intensity distribution. You can
【0044】請求項8の光軸調整装置においては、2次
元ダイオードアレーの前に集光用レンズを設け、その集
光用レンズの焦点が2次元ダイオードアレー上にくるよ
うにし、顕微鏡系と同様の光学系にしたので、集光用レ
ンズによって集光されたビーム形状を近似的に拡大して
観察でき、より厳密な調整が可能となる。[0044] In the optical axis adjustment device according to claim 8, the use condenser lens in front of the two-dimensional diode array is provided, the focal point of the condenser lens is to come on a two-dimensional diode array, similar to the microscope system Since this optical system is used, the shape of the beam condensed by the condenser lens can be approximately magnified and observed, and more precise adjustment is possible.
【0045】[0045]
【0046】請求項9の光軸調整装置においては、信号
処理部により、2次元ダイオードアレーで受光した信号
に基づいて強度分布ピーク位置の変位信号と回転対称エ
ラー信号を作成して、それらのずれを測定する。In the optical axis adjusting device according to the ninth aspect , the signal processing unit creates the displacement signal of the intensity distribution peak position and the rotational symmetry error signal based on the signal received by the two-dimensional diode array, and shifts them. To measure.
【0047】そして、請求項10の光軸調整方法におい
ては、反射光の検出手段への入射位置が変化せずかつ強
度分布が回転対称となるように入射方向を調整すること
で、レーザ光路とレンズ光軸とを一致させることができ
る。In the optical axis adjusting method of the tenth aspect , the incident direction is adjusted so that the incident position of the reflected light on the detecting means does not change and the intensity distribution is rotationally symmetric, so that the laser optical path is obtained. The optical axis of the lens can be matched.
【0048】[0048]
【実施例】以下、具体的な実施例をもって本発明を詳述
する。The present invention will be described in detail below with reference to specific examples.
【0049】(実施例1)実施例1として、1枚の凸レ
ンズに紫外線レーザ光を精確に通す場合を説明する。(Embodiment 1) As Embodiment 1, a case where an ultraviolet laser beam is accurately passed through one convex lens will be described.
【0050】図1は本発明の実施例1の光軸調整方法を
実現するための光学系を模式的に示したものである。図
1において、1は紫外線レーザ、2はレーザ光、3およ
び4はレーザ光路を変化させるためのミラー、5は偏光
ビームスプリッタ(PBS)、6は1/4波長板、7は
凸レンズ、8は凸レンズ7の光軸と垂直となるように設
置された反射板、9は反射光を受光するための2次元ダ
イオードアレーとしてのCCDカメラ、10はCCDで
受光された光を画像として映すためのモニタである。ミ
ラー3,4は、それぞれ平行移動とあおりの調整機構3
A,4A上に設けられており、それらによってレーザ光
2の光路を変化させることにより、レーザ光2の凸レン
ズ7への入射位置および角度の調整を行うようになって
いる。また、凸レンズ7は、レンズ光軸と平行方向に移
動できる一軸ステージ7A上に搭載されている。FIG. 1 schematically shows an optical system for realizing the optical axis adjusting method according to the first embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is an ultraviolet laser, 2 is a laser beam, 3 and 4 are mirrors for changing the laser optical path, 5 is a polarization beam splitter (PBS), 6 is a quarter wavelength plate, 7 is a convex lens, and 8 is A reflector installed so as to be perpendicular to the optical axis of the convex lens 7, 9 is a CCD camera as a two-dimensional diode array for receiving reflected light, and 10 is a monitor for displaying the light received by the CCD as an image Is. The mirrors 3 and 4 are respectively parallel movement and tilt adjustment mechanism 3
A and 4A are provided, and the optical path of the laser light 2 is changed by them to adjust the incident position and angle of the laser light 2 on the convex lens 7. The convex lens 7 is mounted on a uniaxial stage 7A that can move in a direction parallel to the lens optical axis.
【0051】まず、凸レンズ7の焦点位置近傍に反射板
8を凸レンズ7の光軸と垂直になるように機械的な方法
等により設置する。First, the reflection plate 8 is installed near the focal position of the convex lens 7 by a mechanical method or the like so as to be perpendicular to the optical axis of the convex lens 7.
【0052】次に、紫外線レーザ1を駆動してp偏光の
レーザ光2を出射し、ミラー3,4、偏光ビームスプリ
ッタ5、1/4波長板6を介してレーザ光2を凸レンズ
7に導く。凸レンズ7を通過したレーザ光2は反射板8
にて反射され、再度凸レンズ7を通過した後に、1/4
波長板6を通過し偏光ビームスプリッタ5で反射されて
CCDカメラ9に入射する。CCDカメラ9に入射した
光はモニタ10上に映されるので、それを見ながら調整
を行う。Next, the ultraviolet laser 1 is driven to emit the p-polarized laser beam 2, and the laser beam 2 is guided to the convex lens 7 through the mirrors 3 and 4, the polarization beam splitter 5 and the quarter wavelength plate 6. . The laser light 2 that has passed through the convex lens 7 is reflected by the reflector 8
After being reflected by and passing through the convex lens 7 again,
The light passes through the wave plate 6, is reflected by the polarization beam splitter 5, and enters the CCD camera 9. Light incident on the CCD camera 9 is displayed on the monitor 10, and adjustment is performed while watching it.
【0053】調整の手順は、凸レンズ7と反射板8との
距離を凸レンズ7の焦点距離近傍で変化させたときに、
すべての位置において反射光の検出光学系への入射位置
が変化せず、かつ強度分布が常に回転対称となる分布を
とるよう調整できれば、いかなる方法によっても良いが
以下に一例を示す。The adjustment procedure is as follows when the distance between the convex lens 7 and the reflecting plate 8 is changed in the vicinity of the focal length of the convex lens 7.
Any method may be used as long as it can be adjusted so that the incident position of the reflected light on the detection optical system does not change at all positions and the intensity distribution is always rotationally symmetrical, but an example is shown below.
【0054】まず、凸レンズ7の焦点位置に反射板8を
もっていき、その位置でモニタ10上の像がほぼ回転対
称となるように粗調整する。First, the reflection plate 8 is brought to the focal position of the convex lens 7, and rough adjustment is performed so that the image on the monitor 10 is substantially rotationally symmetrical at that position.
【0055】次に、凸レンズ7と反射板8との距離を変
化させながら、ミラー4の一軸平行移動とそれに対応す
るあおりを用いて、調整方向への照射位置の移動が起こ
らず、かつ強度分布が常に左右対称となるように微調整
する。Next, while changing the distance between the convex lens 7 and the reflecting plate 8, the uniaxial parallel movement of the mirror 4 and the corresponding tilt are used so that the irradiation position does not move in the adjusting direction and the intensity distribution. Make a fine adjustment so that is always symmetrical.
【0056】次に、上記で調整した方向と垂直方向の軸
に関しても同様に微調整する。この場合は、ミラー3,
4のあおりによって調整する。Next, fine adjustment is similarly performed on the axis in the direction perpendicular to the direction adjusted above. In this case, the mirror 3,
Adjust according to the tilt of 4.
【0057】上記の調整を行った後、反射板8を凸レン
ズ7の焦点にもっていき、その前後で凸レンズ7と反射
板8との距離を変化させながら、調整した各方向のビー
ムの広がり具合を比較する。広がり方が同様になるま
で、ミラー3,4によって調整を行う。After the above adjustment, the reflecting plate 8 is brought to the focal point of the convex lens 7 and the beam spread in each direction is adjusted while changing the distance between the convex lens 7 and the reflecting plate 8 before and after that. Compare. Adjustment is performed by the mirrors 3 and 4 until the spread becomes similar.
【0058】以上、本実施例によれば、レンズ光軸にレ
ーザ光路を精確に一致させることができる。As described above, according to this embodiment, the laser optical path can be accurately aligned with the lens optical axis.
【0059】なお、本方法にて最適位置が見いだせない
場合は、反射板8の調整に問題があると考えられるた
め、反射板8の調整を再度行う必要がある。If the optimum position cannot be found by this method, it is considered that there is a problem in the adjustment of the reflection plate 8, so it is necessary to adjust the reflection plate 8 again.
【0060】(実施例2)次に、実施例2として光ディ
スク原盤の製造装置において、あらかじめ取り付けられ
た対物レンズに対して記録用レーザ光を通す場合を説明
する。(Embodiment 2) Next, as a second embodiment, description will be given of a case where a recording laser beam is passed through an objective lens mounted in advance in an optical disk master manufacturing apparatus.
【0061】図2は本発明の実施例2の光軸調整方法を
実現するための光学系を模式的に示したものである。図
2において、11はビームエキスパンダ、12は対物レ
ンズ(NA0.9、焦点距離2mm)、13は反射板と
して用いるガラスディスク原盤、14はCCDカメラ9
に集光するための集光用レンズ(焦点距離2000m
m)である。その他は構成部品は図1と同様である。す
なわち、1は紫外線レーザ、2はレーザ光、3はミラ
ー、5は偏光ビームスプリッタ、6は1/4波長板、9
はCCDカメラ、10はモニタである。FIG. 2 schematically shows an optical system for realizing the optical axis adjusting method according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 2, 11 is a beam expander, 12 is an objective lens (NA 0.9, focal length 2 mm), 13 is a glass disk master used as a reflector, and 14 is a CCD camera 9.
Condensing lens (focal length 2000m
m). The other components are the same as those in FIG. That is, 1 is an ultraviolet laser, 2 is a laser beam, 3 is a mirror, 5 is a polarization beam splitter, 6 is a quarter wavelength plate, and 9 is a
Is a CCD camera, and 10 is a monitor.
【0062】なお、ビームエキスパンダ11によって紫
外線レーザ1から出射されたレーザ光2は直径約7mm
の平行光に成形されている。また、ミラー3は2軸のあ
おり調整ができるように可動ステージ3Aに取り付けら
れ、対物レンズ12は互いに垂直な2方向への平行移動
が可能なように可動ステージ12Aに取り付けられてい
る。そして本実施例においては、レーザ光2の対物レン
ズ12への入射位置および角度の調整は、ミラー3のあ
おり2軸と対物レンズ12の平行移動2軸によって行
う。また、集光用レンズ14の焦点面にCCDカメラ9
の受光面がくるように設置する。The laser beam 2 emitted from the ultraviolet laser 1 by the beam expander 11 has a diameter of about 7 mm.
It is shaped into parallel light. The mirror 3 is mounted on the movable stage 3A so that the tilt of the two axes can be adjusted, and the objective lens 12 is mounted on the movable stage 12A so that the objective lens 12 can be translated in two directions perpendicular to each other. In this embodiment, the incident position and angle of the laser beam 2 on the objective lens 12 are adjusted by the tilting 2 axis of the mirror 3 and the parallel movement 2 axis of the objective lens 12. Further, the CCD camera 9 is provided on the focal plane of the condenser lens 14.
Install so that the light-receiving surface of is.
【0063】以下、調整方法について説明する。The adjusting method will be described below.
【0064】まず、紫外線レーザ1から出射されたレー
ザ光2を、ビームエキスパンダ11、偏光ビームスプリ
ッタ5、1/4波長板6、ミラー3を介して対物レンズ
12の中心付近を通るように落とし込む。次に、対物レ
ンズ12をガラスディスク原盤(反射板)13に近づけ
てゆく。実施例1と同様の光学系であるのでガラスディ
スク原盤13からの反射光はCCDカメラ9にて受光さ
れるが、本実施例の場合には、対物レンズ12とガラス
ディスク原盤13との距離が対物レンズ12の焦点距離
に近づくに従い、モニタ10上には集光用レンズ14に
よって集光されたビーム像が映し出される。この像は実
際にガラスディスク原盤13の近傍に集光されているビ
ーム形状を1000倍に拡大したものである。現実には
対物レンズ12によるけられ等により忠実にビーム形状
を再現しているとはいえないが、強度分布ピーク位置お
よび回転対称性についての評価に関しては問題ない。こ
れよりこの像を観察しながら調整を行う。First, the laser light 2 emitted from the ultraviolet laser 1 is dropped through the beam expander 11, the polarization beam splitter 5, the quarter-wave plate 6 and the mirror 3 so as to pass through the vicinity of the center of the objective lens 12. . Next, the objective lens 12 is moved closer to the glass disk master (reflecting plate) 13. Since the optical system is the same as that of the first embodiment, the reflected light from the glass disk master 13 is received by the CCD camera 9, but in the case of this embodiment, the distance between the objective lens 12 and the glass disk master 13 is large. As the focal length of the objective lens 12 approaches, a beam image focused by the focusing lens 14 is projected on the monitor 10. This image is the beam shape actually condensed near the glass disk master 13 magnified 1000 times. In reality, it cannot be said that the beam shape is faithfully reproduced due to the eclipse by the objective lens 12, but there is no problem in evaluating the peak position of the intensity distribution and the rotational symmetry. From this, adjustment is performed while observing this image.
【0065】基本的には実施例1と同様の方法で調整す
るが、実施例1と異なるのは、レーザ光2の入射方向を
変化させるに当たって、あおりをミラー3により、平行
移動を対物レンズ12によって行う点である。それ以外
は実施例の1と同様の手順、すなわちある程度の粗調整
の後、一軸ずつ微調整し、最後に両軸方向の広がり方が
均一となるように調整を行えばよい。Basically, the adjustment is performed by the same method as in the first embodiment, but the difference from the first embodiment is that when the incident direction of the laser beam 2 is changed, the tilt is moved by the mirror 3 and the parallel movement is performed by the objective lens 12. This is the point to do. Otherwise, the procedure is the same as that of the first embodiment, that is, after coarse adjustment to some extent, fine adjustment is performed for each axis, and finally, adjustment is performed so that the spread in both axis directions becomes uniform.
【0066】実施例1と比較して、CCDカメラ9の前
に集光用レンズ14を設けたので、対物レンズ12とガ
ラスディスク原盤13との距離の変化に対してのモニタ
10上でのビーム形状の変化が大きいため、より精確に
調整することが可能となる。Compared with the first embodiment, since the condenser lens 14 is provided in front of the CCD camera 9 , the beam on the monitor 10 against the change in the distance between the objective lens 12 and the glass disk master 13 is changed. Since the change in shape is large, it is possible to make more precise adjustment.
【0067】以上、本実施例によれば、実施例1と同様
に、レンズ光軸にレーザ光路を精確に一致させることが
できる。As described above, according to the present embodiment, the laser optical path can be accurately aligned with the lens optical axis as in the first embodiment.
【0068】(実施例3)次に、実施例3として、実施
例2と同様、光ディスク原盤の製造装置において、あら
かじめ取り付けられた対物レンズに対して記録用レーザ
光を通す場合を説明する。(Third Embodiment) Next, as a third embodiment, a case where a recording laser beam is passed through an objective lens mounted in advance in an optical disk master manufacturing apparatus will be described as in the second embodiment.
【0069】図3は本発明の実施例3の光軸調整方法を
実現するための光学系を模式的に示したものである。図
3は図2とほとんど等しく、異なるのは対物レンズ12
を光軸と平行に移動させるためのアクチュエータ15、
アクチュエータ15を駆動するための正弦波発生装置1
6、CCDカメラの代わりに各素子の強度信号をモニタ
できる2次元のダイオードアレー17、各素子の強度信
号から各種エラー信号を作成するための信号処理部18
である。なお、1は紫外線レーザ、2はレーザ光、3は
ミラー、3Aは2軸あおりの可動ステージ、5は偏光ビ
ームスプリッタ、6は1/4波長板、11はビームエキ
スパンダ、13はガラスディスク原盤、14は集光用レ
ンズである。FIG. 3 schematically shows an optical system for realizing the optical axis adjusting method according to the third embodiment of the present invention. 3 is almost the same as FIG. 2 except that the objective lens 12 is different.
An actuator 15 for moving the lens in parallel with the optical axis,
Sine wave generator 1 for driving actuator 15
6. A two-dimensional diode array 17 capable of monitoring the intensity signal of each element instead of the CCD camera, and a signal processing section 18 for creating various error signals from the intensity signal of each element
Is. In addition, 1 is an ultraviolet laser, 2 is a laser beam, 3 is a mirror, 3A is a movable stage with biaxial tilt, 5 is a polarization beam splitter, 6 is a quarter wavelength plate, 11 is a beam expander, and 13 is a glass disc master. , 14 are condenser lenses.
【0070】以下、調整方法について説明する。The adjustment method will be described below.
【0071】本実施例と実施例2との相違点は、実施例
2では検出した信号をモニタ10に画像として映しそれ
を観察しながら調整を行ったのに対して、本実施例で
は、検出した信号から信号処理によって、強度分布ピー
ク位置の変位信号、回転対称エラー信号を作成し、それ
らが0となるように調整を行う点である。ここで変位信
号は信号が最大となる位置をとることにより得られる。
また、回転対称エラー信号はどれだけ強度分布が回転対
称からずれているかを示すものである。The difference between the present embodiment and the second embodiment is that in the second embodiment, the detected signal is displayed as an image on the monitor 10 and adjustment is performed while observing it, whereas in the present embodiment, the detection is performed. This is the point that the displacement signal at the intensity distribution peak position and the rotational symmetry error signal are created from the obtained signal by signal processing, and adjustment is performed so that they become zero. Here, the displacement signal is obtained by taking the position where the signal becomes maximum.
The rotational symmetry error signal indicates how much the intensity distribution deviates from rotational symmetry.
【0072】本実施例においては、回転対称エラー信号
作成の1つの方法として図4(a)に示すように、2次
元ダイオードアレー17を4つの領域に分割し、その領
域各素子の強度の和をとる。そして、互いに垂直な調整
方向に対応するように対向する領域の差信号(A−D)
および(B−C)をエラー信号とする。この場合、エラ
ー信号は各調整方向で得られるため、その2つのエラー
信号が0となるように、それぞれの軸を調整する。In this embodiment, as one method for producing a rotationally symmetric error signal, the two-dimensional diode array 17 is divided into four regions as shown in FIG. Take Then, the difference signal (A-D) of the areas facing each other so as to correspond to the adjustment directions perpendicular to each other
And (BC) are error signals. In this case, since the error signal is obtained in each adjustment direction, each axis is adjusted so that the two error signals become zero.
【0073】実施例2と同様、レーザ光2を対物レンズ
12の中心付近を通るように落とし込んだ後、対物レン
ズ12をガラスディスク原盤13に近づけてゆく。焦点
位置まで近づけた後、正弦波発生装置16によりアクチ
ュエータ15に周期1秒程度の正弦波の電流を流し、対
物レンズ12を上下させることにより、対物レンズ12
とガラスディスク原盤13との間の距離を上下に変化さ
せながら、エラー信号の変化を観察する。具体的な調整
手順は実施例1,2とまったく同様であり、変位信号お
よび回転対称エラー信号が0となるように調整すればよ
い。Similar to the second embodiment, after the laser light 2 is dropped so as to pass near the center of the objective lens 12, the objective lens 12 is moved closer to the glass disk master 13. After approaching to the focal position, a sine wave generator 16 applies a sine wave current having a period of about 1 second to the actuator 15, and the objective lens 12 is moved up and down to move the objective lens 12
The change in the error signal is observed while changing the distance between the glass disc master 13 and the glass disc master 13 up and down. The specific adjustment procedure is exactly the same as that of the first and second embodiments, and it may be adjusted so that the displacement signal and the rotational symmetry error signal become zero.
【0074】なお、最終調整として2方向のビームの広
がり方の違いをより厳密に観察する場合には、図4
(b)に示すようにそれぞれの領域において1/4円形
に制限された領域においてのみ和をとり、調整方向に対
応するように対向する領域の和信号(A′+D′)と
(B′+C′)を作成する。これが対物レンズ12とガ
ラスディスク原盤13との間の距離の変化による各調整
方向への広がり程度を示す。In the case of observing the difference in the divergence of the beam in the two directions more strictly as the final adjustment, FIG.
As shown in (b), the sum is calculated only in the area limited to a quarter circle in each area, and the sum signals (A '+ D') and (B '+ C) of the areas facing each other corresponding to the adjustment direction are obtained. ′) Create. This shows the extent of spread in each adjustment direction due to the change in the distance between the objective lens 12 and the glass disk master 13.
【0075】これら2つの信号をそれぞれ微分して比較
することにより、2方向のビームの広がり方の違いを観
察することができ、これらが等しくなるように調整すれ
ばよい。By differentiating and comparing these two signals, it is possible to observe the difference in how the beams spread in the two directions, and it is sufficient to adjust them so that they are equal.
【0076】以上、本実施例によれば、実施例1,2と
同様に、レンズ光軸にレーザ光路を精確に一致させるこ
とができる。As described above, according to the present embodiment, the laser optical path can be accurately aligned with the lens optical axis as in the first and second embodiments.
【0077】以上実施例1,2,3によって本発明の詳
細な説明を行った。なお、レンズと反射板との間の上下
方向の距離の変化の方法は、実施例1,2では一軸ステ
ージにより機械的に行い、実施例3では正弦波発生装置
により電気的に行ったが、どちらの方法を用いても原理
的には同様である。The present invention has been described in detail by the embodiments 1, 2 and 3. The method of changing the vertical distance between the lens and the reflector is mechanically performed by the uniaxial stage in Examples 1 and 2, and electrically by the sine wave generator in Example 3. The principle is the same regardless of which method is used.
【0078】また、2軸の平行移動に関しては、レンズ
を平行移動しても、また、ミラーによって光路を移動さ
せても同様であり、すべての実施例に対してすべての調
整方法を用いることができる。The parallel movement of the two axes is the same whether the lens is moved in parallel or the optical path is moved by a mirror, and all adjustment methods can be used for all the embodiments. it can.
【0079】[0079]
【発明の効果】請求項1の光軸調整装置によれば、レー
ザ光路をレンズ光軸に対して高精度に一致させることが
できる。According to the optical axis adjusting device of the first aspect, the laser
The optical path can be matched with the lens optical axis with high accuracy.
【0080】請求項2の光軸調整装置によれば、レンズ
として組みレンズを用いて、レーザ光のスポットをより
小さくし、精度アップを図ることができる。According to the optical axis adjusting device of the second aspect, it is possible to further reduce the spot of the laser light and improve the accuracy by using the assembled lens as the lens.
【0081】請求項3の光軸調整装置によれば、レンズ
と反射板との距離を変化させるのに、レンズを可動ステ
ージに搭載するという比較的構造が簡単で操作も容易な
手段を採用できる。According to the optical axis adjusting device of the third aspect, in order to change the distance between the lens and the reflecting plate, it is possible to employ a means of mounting the lens on the movable stage, which has a relatively simple structure and is easy to operate. .
【0082】請求項4の光軸調整装置によれば、レンズ
を搭載したアクチュエータに周期変化する電圧を印加す
るので、レンズと反射板との距離を自動的にかつ一定周
期をもって一定振幅で変化させることができ、レーザ光
路とレンズ光軸との一致を能率良く行うことができる。According to the optical axis adjusting device of the fourth aspect, since the cyclically changing voltage is applied to the actuator in which the lens is mounted, the distance between the lens and the reflecting plate is automatically and periodically changed with a constant amplitude. can and Turkey, can be efficiently performed to match the laser beam path and the lens optical axis.
【0083】請求項5の光軸調整装置によれば、レンズ
に対する入射方向の変化を、反射面の垂直2方向の平行
移動や垂直2軸まわりの回転という比較的簡単な手段で
実現することができる。According to the optical axis adjusting device of the fifth aspect, the change of the incident direction with respect to the lens can be realized by a relatively simple means such as parallel movement of the reflecting surface in two vertical directions and rotation about the two vertical axes. it can.
【0084】請求項6の光軸調整装置によれば、レンズ
を垂直2方向に平行移動させるのに、2軸可動ステージ
を用いるので、より一層の構造の簡素化と操作の簡便化
を図ることができる。According to the sixth aspect of the optical axis adjusting device, since the biaxial movable stage is used to move the lens in parallel in the two vertical directions, the structure can be further simplified and the operation can be simplified. You can
【0085】[0085]
【0086】請求項7の光軸調整装置によれば、レンズ
を通しての反射板への照射位置の変化と強度分布の回転
対称からのずれの計測を2次元ダイオードアレーという
単一部品で実現することができる。According to the optical axis adjusting device of claim 7 , the change of the irradiation position on the reflection plate through the lens and the measurement of the deviation from the rotational symmetry of the intensity distribution can be realized by a single component called a two-dimensional diode array. You can
【0087】請求項8の光軸調整装置によれば、レンズ
を通ったレーザ光が反射板上で作る像の形状を拡大して
観察できるので、レーザ光路とレンズ光軸に一致させる
のに際して、より厳密な調整が可能となる。According to the optical axis adjusting device of the eighth aspect , since the shape of the image formed on the reflection plate by the laser light passing through the lens can be magnified and observed, when the laser light path and the lens optical axis are matched, More precise adjustment is possible.
【0088】[0088]
【0089】請求項9の光軸調整装置によれば、2次元
ダイオードアレーで受光した信号に基づいて強度分布ピ
ーク位置の変位信号と回転対称エラー信号を作成するの
で、レーザ光路のレンズ光軸に対する一致の精度を高め
ることができる。According to the optical axis adjusting device of the ninth aspect , the displacement signal at the peak position of the intensity distribution and the rotational symmetry error signal are created based on the signal received by the two-dimensional diode array. The accuracy of matching can be improved.
【0090】そして、請求項10の光軸調整方法によれ
ば、反射光の検出手段への入射位置が変化せずかつ強度
分布が回転対称となるように入射方向を調整するように
したので、レーザ光路をレンズ光軸に対して高精度に一
致させることができる。According to the optical axis adjusting method of the tenth aspect , the incident direction is adjusted so that the incident position of the reflected light on the detecting means does not change and the intensity distribution is rotationally symmetrical. The laser optical path can be matched with the lens optical axis with high accuracy.
【図1】本発明の実施例1の光軸調整方法を実現するた
めの装置の模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram of an apparatus for realizing an optical axis adjusting method according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施例2の光軸調整方法を実現するた
めの装置の模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram of an apparatus for realizing an optical axis adjusting method according to a second embodiment of the present invention.
【図3】本発明の実施例3の光軸調整方法を実現するた
めの装置の模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram of an apparatus for realizing an optical axis adjusting method according to a third embodiment of the present invention.
【図4】実施例3における各信号を作るための領域分割
の仕方を示したものである。FIG. 4 is a diagram showing a method of area division for producing each signal in the third embodiment.
【図5】従来例1の光軸調整方法を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing an optical axis adjustment method of Conventional Example 1.
【図6】従来例2の光軸調整方法を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic view showing an optical axis adjusting method of Conventional Example 2.
1……紫外線レーザ 2……レーザ光 3……ミラー 3A…平行移動とあおりの調整機構 4……ミラー 4A…平行移動とあおりの調整機構 5……偏光ビームスプリッタ 6……1/4波長板 7……凸レンズ 7A…一軸ステージ 8……反射板 9……CCDカメラ(2次元ダイオードアレー) 10……モニタ 11……ビームエキスパンダ 12……対物レンズ 12A…可動ステージ 13……ガラスディスク原盤(反射板) 14……集光用レンズ 15……アクチュエータ 16……正弦波発生装置 17……2次元ダイオードアレー 18……信号処理部 1 ... UV laser 2 ... Laser light 3 ... Mirror 3A ... Parallel movement and tilt adjustment mechanism 4 ... Mirror 4A ... Parallel movement and tilt adjustment mechanism 5 ... Polarizing beam splitter 6 ... Quarter wave plate 7 ... Convex lens 7A ... Uniaxial stage 8 ... Reflector 9 ... CCD camera (two-dimensional diode array) 10 ... Monitor 11 …… Beam expander 12 ... Objective lens 12A ... Movable stage 13 …… Glass disk master (reflector) 14 ... Focusing lens 15: Actuator 16 ... Sine wave generator 17: Two-dimensional diode array 18 ... Signal processing unit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤田 佳児 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−153922(JP,A) 特開 平5−189791(JP,A) 特開 平3−162721(JP,A) 特開 平2−152024(JP,A) 特開 昭63−153730(JP,A) 特開 昭51−65947(JP,A) 実開 平2−132322(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 7/08 - 7/22 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kaji Fujita 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (56) Reference JP-A-4-153922 (JP, A) JP-A-5 -189791 (JP, A) JP 3-162721 (JP, A) JP 2-152024 (JP, A) JP 63-153730 (JP, A) JP 51-65947 (JP, A) ) Actual Kaihei 2-132322 (JP, U) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 7/ 08-7/22
Claims (10)
ズの光軸と垂直に配置した反射板との距離を変化させる
手段と、 前記レンズに対するレーザ光の入射方向を少なくとも2
軸のあおり方向と少なくとも2軸の平行移動方向に変化
させる手段と、 前記レンズを通過した前記反射板からの反射光を入射光
と分離する手段と、前記 反射光を検出する手段と、を備えたことを特徴とす
る光軸調整装置。And 1. A lens, said lens behind the lens
Means for changing the distance between the optical axis of the lens and a reflector arranged perpendicular to the optical axis, and at least 2 in the direction of incidence of laser light on the lens.
Comprising a tilt axis and means for varying the translation direction of the at least two axes, and means for separating the incident light reflected light from the reflecting plate that has passed through the lens, and means for detecting said reflected light An optical axis adjusting device characterized in that
ている、請求項1に記載の光軸調整装置。2. The optical axis adjusting device according to claim 1, wherein a compound lens is used as the lens.
させる手段として、前記レンズを搭載し前記レンズをレ
ンズ光軸と平行方向に変位させる可動ステージを用いて
いることを特徴とする、請求項1または2に記載の光軸
調整装置。As claimed in claim 3 wherein the means for varying the distance between the lens and the reflector, characterized in that it uses a movable stage for displacing the lens mounting the lens to the lens optical axis direction parallel, wherein Item 3. The optical axis adjusting device according to item 1 or 2 .
させる手段として、前記レンズを搭載し、周期的に変化
する電圧を印加することにより前記レンズをレンズ光軸
と平行方向に変位させるアクチュエータを用いているこ
とを特徴とする、請求項1または2に記載の光軸調整装
置。4. As a means for changing the distance between the reflecting plate and the lens, actuator for displacing the lens in the lens optical axis direction parallel by mounting the lens, applying a periodically changing voltage The optical axis adjusting device according to claim 1 or 2, characterized in that.
方向を少なくとも2軸のあおり方向と少なくとも2軸の
平行移動方向に変化させる手段として、前記レンズへの
前記レーザ光の入射前の位置に設けられた少なくとも互
いに垂直な2軸の平行移動機構と、互いに垂直な2軸の
回転軸を有するあおり(傾き)の調整機構とを備えたこ
とを特徴とする、請求項1から4のいずれか1項に記載
の光軸調整装置。5. As a means for changing the translation direction of the at least two axial and tilt direction of the at least two axial direction of incidence of the laser beam relative to the lens, is provided at a position before incidence of the laser light to the lens At least the parallel movement mechanism mutually perpendicular two axes was, is characterized in that an adjusting mechanism of the tilt (inclination) having an axis of rotation mutually perpendicular two axes, any one of claims 1 4 Described in
Optical axis adjusting device.
ジ上にレンズを搭載したものを用いることを特徴とす
る、請求項5に記載の光軸調整装置。 6. A parallel-moving mechanism comprising a biaxial movable stage and a lens mounted thereon.
The optical axis adjusting device according to claim 5 .
ダイオードアレーを用いていることを特徴とする、請求
項1から6のいずれか1項に記載の光軸調整装置。Characterized in that it uses a two-dimensional diode array as claimed in claim 7 wherein the means for detecting the reflected light, wherein
Item 7. The optical axis adjusting device according to any one of items 1 to 6 .
用レンズおよび前記集光用レンズの焦点面上に2次元ダ
イオードアレーを設置したものを用いることを特徴とす
る、請求項1から6のいずれか1項に記載の光軸調整装
置。As claimed in claim 8 wherein the means for detecting the reflected light, characterized by using a material obtained by installing the two-dimensional diode array onto the focal plane of the converging lens and the condensing lens, of claims 1-6 The optical axis adjusting device according to any one of 1 .
信号に基づいて前記レンズと前記反射板との距離の変化
に対しての強度分布ピーク位置の変位信号および回転対
称エラー信号を作成する信号処理部を備えていることを
特徴とする、請求項7または8に記載の光軸調整装置。9. The signal processing unit for creating displacement signal and the rotation symmetry error signal intensity distribution peak position of the relative change in the distance between the reflecting plate and the lens on the basis of the received signal in the two-dimensional diode array 9. The optical axis adjusting device according to claim 7, further comprising:
る方法であって、レンズと反射板との距離をレンズ焦点
距離近傍で変化させ、すべての位置において、反射光の
検出手段への入射位置が変化せずかつ強度分布が常に回
転対称となる分布をとるように、光の対物レンズへの入
射方向を変化させることを特徴とする光軸調整方法。10. A method for aligning a laser optical path with an optical axis of a lens, wherein a distance between the lens and a reflecting plate is changed in the vicinity of a focal length of the lens, and the incident position of the reflected light on the detecting means is detected at all positions. The optical axis adjusting method is characterized in that the incident direction of light to the objective lens is changed so that the intensity distribution does not change and the intensity distribution is always rotationally symmetrical.
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