JP3515866B2 - Decorative coverings - Google Patents

Decorative coverings

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JP3515866B2
JP3515866B2 JP31495896A JP31495896A JP3515866B2 JP 3515866 B2 JP3515866 B2 JP 3515866B2 JP 31495896 A JP31495896 A JP 31495896A JP 31495896 A JP31495896 A JP 31495896A JP 3515866 B2 JP3515866 B2 JP 3515866B2
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carbon film
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暢生 吉田
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、時計用外装部品、
ネックレス、ピアス、眼鏡フレーム、バッグ用金具、釣
り具などの装飾部材の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a watch exterior part,
The present invention relates to improvement of decorative members such as necklaces, piercings, eyeglass frames, metal fittings for bags, and fishing tackles.

【0002】[0002]

【従来技術】従来から、装飾部材としては、貴金属、と
りわけ金色の装飾部材が時計ケース、バンドなどの時計
用外装部品、ネックレス、ピアス、眼鏡フレーム、ハン
ドバッグ等の金具などに使用されている。これら金色装
飾部材としては、一般には、所定の基体の表面に金や金
合金を湿式メッキまたは乾式メッキしたものが多用され
ている。また、これらの金メッキを施す場合には、金メ
ッキの付着力強化のための下地層としてNi等のメッキ
等が施されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a decorative member, a precious metal, especially a gold-colored decorative member has been used for a watch case, a watch exterior part such as a band, a necklace, a pierce, an eyeglass frame, a metal fitting for a handbag and the like. As these gold-colored decorative members, those in which gold or a gold alloy is wet-plated or dry-plated on the surface of a predetermined base are generally used. Further, in the case of applying these gold platings, Ni or the like is plated as a base layer for strengthening the adhesion of the gold plating.

【0003】このような表面が金あるいは金合金によっ
て形成された部材は、装飾的効果には優れるものの、金
そのものが軟質金属であるために、装飾部材として使用
した場合に、表面に傷等が生じやすく、次第に装飾性が
損なわれるという問題があった。
A member whose surface is formed of gold or a gold alloy has an excellent decorative effect, but since gold itself is a soft metal, when used as a decorative member, the surface is not damaged. However, there is a problem that the decorative property is gradually deteriorated.

【0004】そこで、表面保護を目的として、金や金合
金の表面にダイヤモンドなどの硬質膜を形成することが
特開昭62−180071号、特開平1−244705
号等にて提案されている。
Therefore, for the purpose of surface protection, it is necessary to form a hard film such as diamond on the surface of gold or a gold alloy in JP-A-62-180071 and JP-A-1-244705.
It has been proposed in the issue.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開昭62−180071号や特開平1−244705号
等に記載された硬質炭素膜は、プラズマCVD法等によ
って形成された高純度のダイヤモンドからなるものであ
り、このような高純度ダイヤモンド膜は、ダイヤモンド
の結晶成長が顕著であるために、結晶粒子が大きく膜厚
を大きくしないと膜化しえないという問題がある。しか
も表面にダイヤモンド自形による凹凸が存在し表面で乱
反射が生じるために、表面が白色化し下地の金または金
合金の色味が露呈しないという問題があった。また、表
面の凹凸による乱反射は、膜表面を研摩加工することに
より解消し得るものの、ダイヤモンドからなる膜表面を
鏡面研摩加工するのは非常に長時間を要するために生産
性に劣るものであった。
However, the hard carbon film described in JP-A-62-180071 and JP-A-1-244705 is composed of high-purity diamond formed by plasma CVD method or the like. However, such a high-purity diamond film has a problem that the crystal growth of diamond is remarkable, so that the film cannot be formed unless the film size is large and the crystal grains are large. In addition, there is a problem that the surface is whitened and the tint of the gold or gold alloy of the base is not exposed because the surface has irregularities due to the diamond automorphism and irregular reflection occurs on the surface. Further, although irregular reflection due to unevenness of the surface can be eliminated by polishing the film surface, mirror-polishing the film surface made of diamond requires a very long time and thus is inferior in productivity. .

【0006】また、金メッキなどの下地層としてNiメ
ッキ層を施した部材においては、下地のNi成分が汗な
どによって遊離金属として溶出すると、肌との接触部に
皮膚の炎症などのアレルギーを発生する恐れがあった。
Further, in a member having a Ni-plated layer as an underlayer such as gold plating, when the Ni component of the underlayer is eluted as free metal by sweat or the like, an allergy such as skin irritation occurs at the contact portion with the skin. I was afraid.

【0007】しかしながら、従来のダイヤモンド膜を保
護膜として形成しても、前述した通り、結晶粒径が大き
いために膜中にボイド等が含まれており、それらのボイ
ドを通じて膜表面に溶出してしまいNiの溶出を防止で
きないものであった。
However, even if a conventional diamond film is formed as a protective film, as described above, since the crystal grain size is large, the film contains voids and the like, and elutes on the film surface through these voids. However, the elution of Ni could not be prevented.

【0008】また、最近ではNiメッキを施すことな
く、金あるいは金合金のメッキを施した材料も開発され
ている(特開平8−120481号)。しかし、これら
の材料を用いた場合、金の色調が経時変化する等の問題
があった。
Recently, a material plated with gold or a gold alloy without being plated with Ni has been developed (JP-A-8-120481). However, when these materials are used, there is a problem that the color tone of gold changes with time.

【0009】従って、本発明は、膜厚が薄い場合にも均
一な膜化が可能であり、色味を大きく損ねることなく、
部材からの金属の溶出を防止し得る耐久性および安全性
に優れた装飾用被覆部材を提供することを目的とする。
Therefore, according to the present invention, even if the film thickness is thin, it is possible to form a uniform film, and the tint is not greatly impaired.
An object of the present invention is to provide a decorative covering member which is excellent in durability and safety capable of preventing metal from being eluted from the member.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、基体表
面に、Niメッキを介して金メッキが施された装飾部材
の表面に、ラマン分光スペクトルにおいて1340±4
0cm−1、1160±40cm−1および1500±
60cm−1にピークが存在し、1160±40cm
−1に存在するピークのうち最も強度の強いピーク強度
をH、1340±40cm−1に存在するピークのう
ち最も強度の強いピーク強度をH、1500±60c
−1に存在するピークのうち最も強度の強いピーク強
度をHとした時、H/Hで表されるピーク強度比
が0.02以上であり、且つH<Hを満足する硬質
炭素膜を0.2〜2μmの膜厚で被覆することにより上
記目的が達成される。
According to the present invention, the substrate surface is
1340 ± 4 in Raman spectrum on the surface of the decorative member whose surface is plated with gold through Ni plating.
0 cm -1 , 1160 ± 40 cm -1 and 1500 ±
There is a peak at 60 cm -1 and 1160 ± 40 cm
−1 , the strongest peak intensity among the peaks present at −1 is H 1 , and the strongest peak intensity among the peaks present at 1340 ± 40 cm −1 is H 2 , 1500 ± 60 c.
When the strongest peak intensity among the peaks existing in m −1 is H 3 , the peak intensity ratio represented by H 1 / H 2 is 0.02 or more, and H 2 <H 3 is satisfied. The above object is achieved by coating the hard carbon film to be coated with a film thickness of 0.2 to 2 μm.

【0011】また、表面粗さをRaで0.2μm以下と
することが望ましい。
The surface roughness Ra is 0.2 μm or less.
It is desirable to do.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明における装飾用被覆部材に
おいて、用いられる部材は、その表面が金および/また
は金合金によって形成された部材である。このような金
色部材は、時計用外装部品、ネックレス、ピアス、眼鏡
フレーム、ボタン、ブローチなどの装飾部材として最も
多用されている。この部材は、部材全体が金または金合
金からなるものであっても、金メッキからなるものであ
ってもよい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the decorative covering member of the present invention, the member used is a member whose surface is formed of gold and / or a gold alloy. Such gold-colored members are most frequently used as decorative members such as exterior parts for watches, necklaces, piercings, eyeglass frames, buttons and broaches. This member may be made of gold or gold alloy as a whole, or may be made of gold plating.

【0013】本発明によれば、このような金または金合
金からなる部材の表面に、ラマン分光スペクトルにおい
て1340±40cm-1、1160±40cm-1にピー
クが存在し、かつ1160±40cm-1に存在するピー
クのうち最も強度の強いピーク強度をH1 、1340±
40cm-1に存在するピークのうち最も強度の強いピー
ク強度をH2 とした時、H1 /H2 で表されるピーク強
度比が0.02以上の硬質炭素膜を形成することが重要
である。
According to the present invention, the surface of the member made of such a gold or gold alloy, Raman spectrum at 1340 ± 40 cm -1, peak exists in 1160 ± 40 cm -1, and 1160 ± 40 cm -1 Of the peaks present in H 1 , 1340 ±
It is important to form a hard carbon film having a peak intensity ratio represented by H 1 / H 2 of 0.02 or more, where H 2 is the strongest peak intensity among the peaks existing at 40 cm −1. is there.

【0014】一般に知られるダイヤモンド膜は、熱CV
D法、マイクロ波CVD法などの薄膜形成法によって形
成できることが知られているが、このようなダイヤモン
ド膜は、通常、高純度のダイヤモンドからなり、炭素原
子間がSP3 混成で結合された構造からなり、特に、ラ
マン分光スペクトルにおいて1340±40cm-1にの
みピークを有するものが多用されている。また、一部に
おいては、SP2 混成で結合されたグラファイト構造の
炭素等を含み、ラマン分光スペクトルにおいて、150
0〜1600cm-1付近にブロードなピークを有するダ
イヤモンド膜も知られている。また、このダイヤモンド
膜は、ダイヤモンド結晶粒が大きいことにより、結晶の
自形による成膜後の表面の凹凸が大きく、結晶粒界が存
在し、また薄膜内部にボイドが多量に存在するものであ
り、均一膜化するには、少なくとも10μm以上の膜厚
で形成する必要がある。
A commonly known diamond film has a thermal CV.
It is known that the diamond film can be formed by a thin film forming method such as D method or microwave CVD method, but such a diamond film is usually made of high-purity diamond and has a structure in which carbon atoms are bonded by SP 3 hybrid. In particular, those having a peak only at 1340 ± 40 cm −1 in Raman spectrum are often used. In addition, some of them include carbon having a graphite structure which is bonded by SP 2 hybridization, and the like.
A diamond film having a broad peak around 0 to 1600 cm -1 is also known. In addition, since the diamond film has large diamond crystal grains, this diamond film has large surface irregularities due to the self-form of the crystal, crystal grain boundaries exist, and a large number of voids exist inside the thin film. In order to obtain a uniform film, it is necessary to form the film with a film thickness of at least 10 μm or more.

【0015】これに対して、本発明における硬質炭素膜
は、ダイヤモンドを主とするものであるが、ラマン分光
スペクトルにおいて、少なくとも1340±40c
-1、1160±40cm-1にピークを有するものであ
る。上記ピークのうち、1340±40cm-1のピーク
はダイヤモンド結晶のピークを示し、1160±40c
-1のピークは、ダイヤモンド前駆体またはポリエン構
造の存在を示すものと考えられ、極めて微細な結晶によ
って形成されることを意味するものと考えられる。従っ
て、本発明における硬質炭素膜は、ダイヤモンド結晶が
極めて微細で平均粒径が1μm以下の結晶により構成さ
れ、膜中にはほとんどボイドが存在しない高緻密質な膜
からなる。
On the other hand, the hard carbon film of the present invention, which is mainly composed of diamond, has a Raman spectrum of at least 1340 ± 40 c.
It has a peak at m −1 , 1160 ± 40 cm −1 . Among the above peaks, the peak at 1340 ± 40 cm −1 indicates the peak of diamond crystal and is 1160 ± 40 c.
The m- 1 peak is considered to indicate the presence of a diamond precursor or polyene structure, and is considered to mean that it is formed by extremely fine crystals. Therefore, the hard carbon film in the present invention is a highly dense film in which diamond crystals are extremely fine and have an average grain size of 1 μm or less, and there are almost no voids in the film.

【0016】このように、硬質炭素膜自体が高硬度であ
り非常に緻密質で微細な結晶からなり、しかも膜中にボ
イドが存在しないために、装飾部材として使用時に傷が
つくことがなく、しかも薄い膜厚で均一膜化することが
可能であり、表面が平滑であるために、表面の乱反射等
がなく、部材の金色の色味を大きく損なうことがない。
しかも、成膜時の膜表面が平滑であるために、表面を研
摩加工する必要がないか、必要であっても短時間の研摩
加工で平滑な表面を形成することができる。
As described above, since the hard carbon film itself has high hardness, is extremely dense and is composed of fine crystals, and has no voids in the film, it is not scratched when used as a decorative member, Moreover, it is possible to form a uniform film with a thin film thickness, and since the surface is smooth, there is no irregular reflection on the surface and the tint of the gold color of the member is not greatly impaired.
Moreover, since the film surface during film formation is smooth, there is no need to polish the surface, or if necessary, a smooth surface can be formed by a short polishing time.

【0017】また、この硬質炭素膜は、緻密質であるた
めに、部材がNiメッキ等の下地層を有する場合におい
ても、汗や海水等と接触した場合において、膜中のボイ
ドや結晶粒界を通して基体の局所的な浸食が生じず、優
れた耐食性を有し、部材中のNi等のアレルギー源金属
が溶出するのを防止することができる。
Further, since this hard carbon film is dense, even if the member has an underlayer such as Ni plating, when it comes into contact with sweat or seawater, voids and crystal grain boundaries in the film are formed. Through this, local erosion of the substrate does not occur, it has excellent corrosion resistance, and it is possible to prevent the allergen source metal such as Ni in the member from eluting.

【0018】さらには、上記硬質炭素膜は、あらゆる形
状の部材表面に対して、部材表面形状に整合した平滑で
緻密な膜面を形成でき、優れた耐食性が要求される部材
表面に高い平滑性をもって形成することができる。
Further, the hard carbon film can form a smooth and dense film surface conforming to the surface shape of the member on the surface of the member of any shape, and has high smoothness on the surface of the member which is required to have excellent corrosion resistance. Can be formed with.

【0019】本発明における硬質炭素膜のラマン分光ス
ペクトルにおけるピーク強度について具体的に説明す
る。本発明の硬質炭素膜は、図1に示すように、少なく
とも1340±40cm-1と1160±40cm-1にピ
ークが存在する。1160±40cm-1のピーク強度
は、1100cm-1と1700cm-1の位置間で斜線を
引き、これをベースラインとして、1160±40cm
-1に存在するピークのうち最も強度の高いピーク強度を
1 、1340±40cm-1に存在するピークのうち最
も強度の高いピーク強度をH2 とした時、H1 /H2
表されるピーク強度比が0.02以上、望ましくは、
0.2〜1.0であることが重要である。
The peak intensity in the Raman spectrum of the hard carbon film of the present invention will be specifically described. As shown in FIG. 1, the hard carbon film of the present invention has peaks at least at 1340 ± 40 cm −1 and 1160 ± 40 cm −1 . 1160 peak intensity of ± 40 cm -1 is to draw oblique lines between positions 1100 cm -1 and 1700 cm -1, this as a baseline, 1160 ± 40 cm
Where H 1 is the highest peak intensity among the peaks present at −1 and H 2 is the highest peak intensity among the peaks present at 1340 ± 40 cm −1 , it is represented by H 1 / H 2. Peak intensity ratio is 0.02 or more, preferably,
It is important to be 0.2 to 1.0.

【0020】このピーク強度比が0.02よりも小さす
ぎると、ダイヤモンド結晶粒子が大きく成長し過ぎ、膜
中にボイドが発生したり膜の表面粗さが大きくなり局所
的な腐食が進行しやすくなる。また、ピーク強度比が大
きすぎるとダイヤモンド結晶の比率が少なくなる結果、
膜強度が低下してしまう場合があるため、上記H1 /H
2 で表されるピーク強度比は1.0以下であることが望
ましい。
If the peak intensity ratio is less than 0.02, the diamond crystal grains grow too much, and voids are generated in the film or the surface roughness of the film becomes large, so that local corrosion is likely to proceed. Become. Further, if the peak intensity ratio is too large, the diamond crystal ratio decreases,
Since the film strength may decrease, the above H 1 / H
The peak intensity ratio represented by 2 is preferably 1.0 or less.

【0021】また、ラマン分光スペクトルにおいては、
図1に示すように、1500±60cm-1にピークを有
し、該領域内のピークのうち最も強度の強いピーク強度
をH3 とした時、H1 <H2 <H3 の関係を満足するも
のであることも重要である。この1500±60cm-1
のピークは、ダイヤモンド結晶間に存在する非晶質相を
示すものであり、膜中のボイドに充填されるために、膜
の密度を高めることができ、それによりNiの溶出をよ
り効果的に防止することができる。
In the Raman spectrum,
As shown in FIG. 1, it has a peak at 1500 ± 60cm -1, when a strong peak intensity of most intense among within the region of the peaks was set to H 3, satisfy the relationship of H 1 <H 2 <H 3 What you do is also important. This 1500 ± 60 cm -1
The peak of indicates the amorphous phase existing between the diamond crystals, and since it is filled in the voids in the film, the density of the film can be increased, whereby the elution of Ni can be more effectively performed. Can be prevented.

【0022】本発明における装飾用被覆部材によれば、
硬質炭素膜が、緻密質であるために、その膜厚の薄い硬
質炭素膜を形成することができ、しかも部材中の金属成
分の溶出を防止することができるが、硬質炭素膜の緻密
性の観点から、硬質炭素膜の密度は3.1g/cm3
上であることが望ましい。密度が低い場合は、ダイヤモ
ンド結晶の減少したり、ボイドが多量に含まれているこ
とを意味し、膜の硬度低下が発生したり、Niの溶出を
防止できない場合がある。
According to the decorative covering member of the present invention,
Since the hard carbon film is dense, it is possible to form a thin hard carbon film and prevent elution of metal components in the member. From the viewpoint, the density of the hard carbon film is preferably 3.1 g / cm 3 or more. When the density is low, it means that the diamond crystals are reduced or a large amount of voids are contained, which may cause a decrease in hardness of the film or may prevent the elution of Ni.

【0023】なお、本発明の装飾用被覆部材における硬
質炭素膜の厚みは、0.2〜2μm、特に0.5〜2μ
mであることが必要である。かかる厚みとすることによ
り、部材の色味は、硬質炭素膜自体の黒色成分がわずか
に加味され、暗金色を有するものであるが、硬質炭素膜
の厚みが2μmを越えると、ほとんど黒色化してしま
い、部材の金色はほとんど消えてしまう。また、この硬
質炭素膜の厚みが0.2μmより薄いと、膜自体の強度
が低下するために、衝撃が加わった時に容易にクラック
が生じてしまう。
The hard carbon film in the decorative covering member of the present invention has a thickness of 0.2 to 2 μm, particularly 0.5 to 2 μm.
It must be m. With such a thickness, the tint of the member is such that the black component of the hard carbon film itself is slightly added and it has a dark gold color, but when the thickness of the hard carbon film exceeds 2 μm, it is almost blackened. As a result, the golden color of the member has almost disappeared. Further, if the thickness of this hard carbon film is less than 0.2 μm, the strength of the film itself is reduced, so that cracks easily occur when an impact is applied.

【0024】また、硬質炭素膜表面の表面粗さは、Ra
で0.2μm以下、特に0.1μm以下、さらには0.
05μm以下であることが望ましい。これは、表面粗さ
が0.2μmを越えると表面の乱反射によって白色化し
光沢が失われ装飾性が劣化するためである。
The surface roughness of the hard carbon film surface is Ra
At 0.2 μm or less, particularly at 0.1 μm or less, and even 0.
It is desirable that the thickness is 05 μm or less. This is because if the surface roughness exceeds 0.2 μm, the surface is irregularly reflected, whitening occurs, the gloss is lost, and the decorative property deteriorates.

【0025】また、本発明における装飾用被覆部材によ
れば、金または金合金からなる部材との密着性を高める
上で、但し、金色の色味を損なわない範囲で、基体と硬
質炭素膜との間に、少なくともダイヤモンドと金属炭化
物との複合体からなる中間層を介在させることもでき
る。
Further, according to the decorative covering member of the present invention, in order to improve the adhesiveness with a member made of gold or a gold alloy, provided that the base and the hard carbon film are provided within a range not impairing the tint of gold color. An intermediate layer made of at least a composite of diamond and metal carbide can be interposed between the two.

【0026】このような中間層の介在によって硬質炭素
膜と母材との密着強度が向上する理由は次のように考え
られる。原子同士は電子を介在することにより結合され
ているが、一般に、原子間の電子が一方に存在して電気
的な結び付きにより結合しているイオン結合よりも、電
子を双方の原子で共有している共有結合の方が強い結合
力を持つ。ダイヤモンドは炭素の共有結合により構成さ
れているので強い結合力を有している。したがって、ダ
イヤモンドと異種化合物との密着強度を向上させるため
には類似の結合様式である共有結合性の化合物であるこ
とが望ましいと考えられる。またダイヤモンドの成分で
ある炭素を含む化合物の方がより整合性がよいと思われ
る。金属炭化物は数多く存在するがその多くはイオン性
結合を主体としたものである。共有結合性炭化物として
は炭化ケイ素や炭化ホウ素があるが、本発明の装飾用被
覆部材においては炭化ケイ素が最も望ましい。
The reason why the adhesion strength between the hard carbon film and the base material is improved by the interposition of such an intermediate layer is considered as follows. Atoms are bonded by interposing electrons, but in general, electrons are shared by both atoms rather than ionic bonds in which electrons between atoms are present on one side and are bonded by an electrical connection. A covalent bond that has a stronger bond strength. Since diamond is composed of carbon covalent bonds, it has a strong bonding force. Therefore, in order to improve the adhesion strength between diamond and a heterogeneous compound, it is considered that a covalent compound having a similar bonding mode is desirable. In addition, the compound containing carbon, which is a component of diamond, seems to be more consistent. Many metal carbides exist, but most of them are mainly ionic bonds. The covalently bonded carbide includes silicon carbide and boron carbide, but silicon carbide is most preferable in the decorative covering member of the present invention.

【0027】またこのダイヤモンドと、金属炭化物は層
分離して存在しているのではなく、ダイヤモンドの周り
を金属炭化物が取り囲むような構造を呈し、ダイヤモン
ドが島状に分布した構造となるために、いわゆるアンカ
ー効果により密着性が向上する。
Further, the diamond and the metal carbide do not exist in separate layers, but have a structure in which the metal carbide surrounds the diamond, and the diamond has a structure in which it is distributed in an island shape. The so-called anchor effect improves the adhesion.

【0028】硬質炭素膜を形成する方法としては、従来
よりダイヤモンド膜を生成する手段として、マイクロ波
や高周波によりプラズマを発生させて所定の基体表面に
炭素膜を形成する、いわゆるプラズマCVD法あるいは
熱フィラメント法が主流である。しかしながら、プラズ
マCVD法では、プラズマ発生領域が小さいために、成
膜できる面積が小さく、成膜できる面積が一般に直径2
0mm程度であり、加工用部材としての応用が限られ
る。また圧力が高すぎるか、もしくはプラズマ密度が低
すぎるために基体が複雑な構造を有する場合や曲面構造
を有する場合、その構造に沿った均一なプラズマが得ら
れず、膜厚分布が不均一になりやすい。一方、熱フィラ
メントCVD法では、フィラメントが切れやすく、また
膜厚のバラツキを抑制するために基体の形状に合わせて
フィラメントを設置する必要があり、装置が汎用性に欠
けるなどの欠点を有している。しかも、上記プラズマC
VD法や熱CVD法で形成されるダイヤモンド膜は、結
晶粒径が大きく、ボイドの多い表面の凹凸のあるダイヤ
モンド膜が生成されやすい。
As a method for forming a hard carbon film, conventionally, as a means for forming a diamond film, a so-called plasma CVD method or thermal method is used in which plasma is generated by microwave or high frequency to form a carbon film on a predetermined substrate surface. The filament method is the mainstream. However, in the plasma CVD method, since the plasma generation region is small, the film formation area is small, and the film formation area is generally 2 mm in diameter.
Since it is about 0 mm, its application as a processing member is limited. If the substrate has a complicated structure or a curved structure because the pressure is too high or the plasma density is too low, uniform plasma cannot be obtained along the structure and the film thickness distribution becomes uneven. Prone. On the other hand, in the hot filament CVD method, the filament is easily broken, and it is necessary to install the filament in conformity with the shape of the substrate in order to suppress the variation in the film thickness, so that the apparatus lacks versatility. There is. Moreover, the plasma C
The diamond film formed by the VD method or the thermal CVD method has a large crystal grain size, and a diamond film having many voids and unevenness on the surface is easily generated.

【0029】これに対して、本発明によれば、プラズマ
CVD法におけるプラズマ発生領域に磁界をかけた、い
わゆる電子サイクロトロン共鳴(ECR)プラズマCV
D法により、本発明における硬質炭素膜を形成すること
ができる。しかもこのECRプラズマCVD法によれ
ば、低圧下(1torr以下)で高密度のプラズマを得
ることができるために、プラズマを広い領域に均一に発
生させることができ、通常のプラズマCVD法に比較し
て約10倍程度の面積に均一に膜の形成を行うことがで
きる。
On the other hand, according to the present invention, a so-called electron cyclotron resonance (ECR) plasma CV in which a magnetic field is applied to the plasma generation region in the plasma CVD method.
The hard carbon film in the present invention can be formed by the D method. Moreover, according to this ECR plasma CVD method, since high-density plasma can be obtained under a low pressure (1 torr or less), it is possible to uniformly generate plasma in a wide area, and compared with the ordinary plasma CVD method. Thus, a film can be uniformly formed in an area of about 10 times.

【0030】この方法では、内部に所定の基体が設置さ
れた反応炉内に反応ガスを導入すると同時に2.45G
Hzのマイクロ波を導入する。それと同時にこの領域に
対して875ガウス以上のレベルの磁界を印加する。こ
れにより電子はサイクロトロン周波数f=eB/2πm
(但し,m:電子の質量、e:電子の電荷,B:磁束密
度)にもとづきサイクロトロン運動を起こす。この周波
数がマイクロ波の周波数(2.45GHz)と一致する
と共鳴し、電子はマイクロ波のエネルギーを著しく吸収
して加速され、中性分子に衝突、電離を生じせしめて高
密度のプラズマを生成するようになる。この時の基体の
温度は150〜1000℃、炉内圧力1×10-2〜1t
orrに設定される。
In this method, a reaction gas is introduced into a reaction furnace having a predetermined substrate installed therein, and 2.45 G
Introduce microwave of Hz. At the same time, a magnetic field having a level of 875 Gauss or more is applied to this region. This causes the electron to have a cyclotron frequency f = eB / 2πm.
(However, m: electron mass, e: electron charge, B: magnetic flux density) causes cyclotron motion. When this frequency coincides with the microwave frequency (2.45 GHz), it resonates, and the electrons remarkably absorb the microwave energy and are accelerated, colliding with neutral molecules and causing ionization to generate high-density plasma. Like At this time, the temperature of the substrate is 150 to 1000 ° C., the furnace pressure is 1 × 10 -2 to 1 t.
Set to orr.

【0031】かかる方法によれば、成膜時の基体温度、
炉内圧力および反応ガス濃度を変化させることにより成
膜される硬質炭素膜の成分等が変化する。具体的には、
炉内圧力が高くなるとプラズマの領域が小さくなり、膜
の成長速度が下がるが結晶性は向上する傾向にある。ま
た、反応ガス濃度が高くなると、膜を構成する粒子の大
きさが小さくなり、結晶性が悪くなる傾向にある。これ
らの条件を具体的には後述する実施例に記載されるよう
に適宜制御することにより、前述したラマン分光スペク
トルにおけるH1 、H2 、H3 を制御することができ
る。
According to such a method, the substrate temperature during film formation,
By changing the furnace pressure and the reaction gas concentration, the components of the hard carbon film to be formed change. In particular,
When the furnace pressure increases, the plasma region decreases and the film growth rate decreases, but the crystallinity tends to improve. Further, when the reaction gas concentration becomes high, the size of the particles forming the film becomes small, and the crystallinity tends to deteriorate. H 1 , H 2 , and H 3 in the Raman spectroscopy spectrum described above can be controlled by appropriately controlling these conditions as specifically described in Examples described later.

【0032】上記の成膜方法において、本発明の装飾用
被覆部材を作製する場合、硬質炭素膜の形成にあたって
は原料ガスとして水素と炭素含有ガスを用いる。用いる
炭素含有ガスとしては、例えば、メタン、エタン、プロ
パンなどのアルカン類、エチレン、プロピレンなどのア
ルケン類、アセチレンなどのアルキン類、ベンゼンなど
の芳香族炭化水素類、シクロプロパンなどのシクロパラ
フィン類、シクロペンテンなどのシクロオレフィン類な
どが挙げられる。また一酸化炭素、二酸化炭素、メチル
アルコール、エチルアルコール、アセトンなどの含酸素
炭素化合物、モノ(ジ、トリ)メチルアミン、モノ
(ジ、トリ)エチルアミンなどの含窒素炭素化合物など
も炭素源ガスとして使用することができる。これらは一
種単独で用いることもできるし、二種以上で併用するこ
ともできる。
In the above film forming method, when the decorative covering member of the present invention is produced, hydrogen and carbon-containing gas are used as raw material gases when forming the hard carbon film. Examples of the carbon-containing gas used include alkanes such as methane, ethane and propane, alkenes such as ethylene and propylene, alkynes such as acetylene, aromatic hydrocarbons such as benzene and cycloparaffins such as cyclopropane. Examples thereof include cycloolefins such as cyclopentene. In addition, carbon monoxide, carbon dioxide, oxygen-containing carbon compounds such as methyl alcohol, ethyl alcohol and acetone, and nitrogen-containing carbon compounds such as mono (di, tri) methylamine and mono (di, tri) ethylamine are also used as carbon source gases. Can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

【0033】また、前述したようなダイヤモンドと炭化
ケイ素の混合物からなる中間層を形成するには、所望に
よりダイヤモンド核発生処理を行った後、反応ガスとし
て、水素と、炭素含有ガスおよびケイ素含有ガスを導入
する。前記ケイ素含有ガスとしては、四フッ化ケイ素、
四塩化ケイ素、四臭化ケイ素などのハロゲン化物、二酸
化ケイ素などの酸化物の他に、モノ(ジ、トリ、テト
ラ、ペンタ)シラン、モノ(ジ、トリ、テトラ)メチル
シランなどのシラン化合物、トリメチルシラノールなど
のシラノール化合物などが挙げられる。これらは一種単
独で用いることもできるし、二種以上で併用することも
できる。
In order to form the intermediate layer made of a mixture of diamond and silicon carbide as described above, a diamond nucleation treatment is carried out if desired, and then hydrogen, a carbon-containing gas and a silicon-containing gas are used as reaction gases. To introduce. As the silicon-containing gas, silicon tetrafluoride,
In addition to halides such as silicon tetrachloride and silicon tetrabromide, oxides such as silicon dioxide, silane compounds such as mono (di, tri, tetra, penta) silane, mono (di, tri, tetra) methylsilane, trimethyl Examples thereof include silanol compounds such as silanol. These may be used alone or in combination of two or more.

【0034】[0034]

【実施例】【Example】

(実施例)電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置
の炉内に、基体としてステンレス板の表面に厚さ2μm
のNi合金メッキと、さらにその上に厚さ1μmの金メ
ッキを施した部材を設置した。
(Example) In a furnace of an electron cyclotron resonance plasma CVD apparatus, a surface of a stainless steel plate serving as a substrate has a thickness of 2 μm.
The Ni alloy plating, and a member having a thickness of 1 μm and further plated with gold were placed thereon.

【0035】そこに、H2 294sccm、CH4 6s
ccmのガスを用いて、ガス濃度2%、母材温度650
℃、炉内圧力0.1torrで1時間処理して、ダイヤ
モンド核を発生させた後、原料ガスとしてH2 ガス、C
4 ガスおよびSi(CH34 ガスを用いて、 H2 294sccm CH4 6sccm Si(CH3)4 0.3sccm の割合でガス濃度2%、母材温度650℃、炉内圧力
0.05torrの条件で電子サイクロトロン共鳴プラ
ズマCVD法により最大2Kガウスの強度の磁場を印加
させ、マイクロ波出力3.0KWの条件で3時間成膜し
て容器内面にダイヤモンドと炭化ケイ素が混在した中間
層を形成した。なお、中間層の厚みは、硬質炭素膜全体
厚みの約1/3の厚みに調整した。また、表1中、試料
No.5については、中間層形成を H2 300sccm Si( CH3)4 0.3sccm のガス比とする以外は前記と全く同様にして、炭化ケイ
素からなる中間層を形成し、同様に評価を行った。
There, H 2 294 sccm, CH 4 6s
ccm gas, gas concentration 2%, base material temperature 650
After processing for 1 hour at a temperature of 0.1 ° C. and a furnace pressure of 0.1 torr to generate diamond nuclei, H 2 gas and C are used as raw material gases.
Using H 4 gas and Si (CH 3 ) 4 gas, H 2 294 sccm CH 4 6 sccm Si (CH 3 ) 4 0.3 sccm, gas concentration 2%, base material temperature 650 ° C., furnace pressure 0.05 torr By applying a magnetic field with a maximum intensity of 2K gauss by electron cyclotron resonance plasma CVD method under the conditions described above, and depositing a film for 3 hours under the condition of microwave output of 3.0KW, an intermediate layer in which diamond and silicon carbide are mixed is formed on the inner surface of the container. did. The thickness of the intermediate layer was adjusted to about 1/3 of the total thickness of the hard carbon film. Further, in Table 1, for sample No. 5, an intermediate layer made of silicon carbide was formed in exactly the same manner as described above except that the formation of the intermediate layer was carried out at a gas ratio of H 2 300 sccm Si (CH 3 ) 4 0.3 sccm. It was formed and evaluated in the same manner.

【0036】次に、中間層の上に、純度99.9%以上
のH2 ガス、CH4 ガス、CO2 ガスを用いて、表1、
2に示すガス比、ガス濃度、成膜温度、炉内圧力で成膜
を行い、中間層を含め全体厚みが0.1〜5μmの硬質
炭素膜を形成した。
Next, H 2 gas, CH 4 gas, and CO 2 gas having a purity of 99.9% or more were used on the intermediate layer, as shown in Table 1.
Film formation was carried out at the gas ratio, gas concentration, film formation temperature, and furnace pressure shown in 2 to form a hard carbon film having an overall thickness of 0.1 to 5 μm including the intermediate layer.

【0037】成膜した硬質炭素膜に対して、膜表面のラ
マン分光スペクトル分析を行い、ラマン分光スペクトル
チャートから1100cm-1と1700cm-1の位置間
で線を引き、これをベースラインとし、1160±40
cm-1に存在する最大ピークのピーク強度をH1 、13
40±40cm-1に存在する最大ピークのピーク強度を
2 として、H1 /H2 で表される強度比を算出した。
また、1500±60cm-1の領域内のピークのうち最
も強度の強いピーク強度をH3 とし、H1 、H2 および
3 の大小関係を示した。表1中、試料No.4と試料N
o.9についてチャートを図1、図2に示した。なお、ラ
マン分光分析における発振源として、レーザーはArレ
ーザー(発振線488.0nm)を用いた。また、膜単
体を取り出し、ぎ酸タリウム水溶液の比重液を用いた浮
沈法で膜の密度を測定した。さらに、得られた部材に対
して、色味を観察しその結果を表1、2に示した。
[0037] For the formed hard carbon film, subjected to Raman spectrum analysis of the film surface, draw a line between positions 1100 cm -1 and 1700 cm -1 from the Raman spectrum chart, which was the baseline, 1160 ± 40
The peak intensity of the maximum peak existing at cm −1 is H 1 , 13
The peak intensity of the maximum peak present in 40 ± 40 cm -1 as H 2, was calculated intensity ratio expressed by H 1 / H 2.
In addition, the strongest peak intensity among the peaks in the region of 1500 ± 60 cm −1 was defined as H 3, and the magnitude relationship among H 1 , H 2 and H 3 was shown. In Table 1, sample No. 4 and sample N
Charts for o.9 are shown in FIGS. An Ar laser (oscillation line 488.0 nm) was used as a laser in the Raman spectroscopic analysis. In addition, the film alone was taken out, and the density of the film was measured by a float-sink method using a specific gravity liquid of a thallium formate aqueous solution. Furthermore, the tint of the obtained member was observed, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0038】次に、試料を王水溶液に浸し、48週間放
置した。放置後の膜面を双眼顕微鏡で観察し腐食の状態
を表1、2に示した。また、ICP法により溶液に溶出
したNi金属量を測定し結果を表1、2に示した。
Next, the sample was immersed in an aqua regia solution and left for 48 weeks. The film surface after standing was observed with a binocular microscope and the corrosion states are shown in Tables 1 and 2. The amount of Ni metal eluted in the solution was measured by the ICP method, and the results are shown in Tables 1 and 2.

【0039】また、得られた試料を放置後の表面を双眼
顕微鏡で観察し腐食の状態を表1、2に示した。また、
ICP法により溶液に溶出したNi量を測定し、結果を
表1、2に示した。また、膜表面に対してサンドブラス
ト処理を行い耐スクラッチ試験を行った。
The surface of the obtained sample after standing was observed with a binocular microscope and the corrosion states are shown in Tables 1 and 2. Also,
The amount of Ni eluted in the solution was measured by the ICP method, and the results are shown in Tables 1 and 2. Further, the surface of the film was subjected to a sandblasting treatment and a scratch resistance test was conducted.

【0040】(比較例1)金メッキまでを施した容器を
用いて、実施例1および実施例2と同様の腐食試験を行
い、その結果を表2中試料No.17に示した。
(Comparative Example 1) The same corrosion test as in Example 1 and Example 2 was carried out using a container plated with gold, and the results are shown in Sample No. 17 in Table 2.

【0041】(比較例2)母材として実施例1において
用いたものと同じ金メッキしたステンレス板を用い、マ
イクロ波CVD法によって、中間層形成を実施例と同じ
ガス比でガス濃度2%、母材温度650℃、炉内圧力3
0torrの条件で4時間成膜した後、さらに表1の試
料No.9に示す条件で成膜し1μmの硬質炭素膜を形成
した。これについて、実施例1と同様にして、色味観
察、腐食試験を行い、その結果を表1試料No.9に示し
た。
(Comparative Example 2) The same gold-plated stainless steel plate as that used in Example 1 was used as the base material, and the intermediate layer was formed by microwave CVD at the same gas ratio and gas concentration of 2% as in the example. Material temperature 650 ℃, furnace pressure 3
After forming the film under the condition of 0 torr for 4 hours, the film was further formed under the condition shown in Sample No. 9 of Table 1 to form a hard carbon film of 1 μm. For this, color tint observation and corrosion test were performed in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1, Sample No. 9.

【0042】[0042]

【表1】 [Table 1]

【0043】[0043]

【表2】 [Table 2]

【0044】表1、表2の結果によれば、H1 /H2
0.02よりも低い硬質炭素膜を形成した比較試料No.
1、2、9、10は、膜の表面粗さが0.2μmを越
え、表面は乱反射によって白色化しており金色はほとん
ど消えていた。しかも、王水中に浸した後の膜表面には
腐食によるも思われる10〜1000μmのスポットが
多数観察され、腐食が局所的に進行しており、Niの溶
出が観察された。また、硬質炭素膜を施していない試料
では、王水に対して20分でメッキが完全になくなって
しまった。また、H2 >H3 の試料No.2、15、16
は、いずれも腐食がみられ、Niの溶出が認められた。
According to the results of Tables 1 and 2, a comparative sample No. 1 having a hard carbon film in which H 1 / H 2 was lower than 0.02 was formed.
In Nos. 1, 2, 9, and 10, the surface roughness of the film exceeded 0.2 μm, the surface was whitened due to diffused reflection, and the gold color had almost disappeared. Moreover, a large number of spots of 10 to 1000 μm, which may be due to corrosion, were observed on the surface of the film after soaking in aqua regia, and corrosion was locally progressing, and elution of Ni was observed. Further, in the sample without the hard carbon film, the plating was completely lost in 20 minutes with respect to aqua regia. In addition, samples No. 2, 15, 16 of H 2 > H 3
In each case, corrosion was observed and Ni was eluted.

【0045】これに対して、H1 /H2 が0.02以
上、H2 <H3 の厚み0.2〜2μmの硬質炭素膜を形
成した本発明の試料は、表面粗さが0.1μm以下の平
滑な面を有し、密度3.1g/cm3 以上の膜であり、
色味は、暗金色〜濃暗金色を示し、いずれも王水溶液に
対しても金メッキの腐食が認められなかった。また、N
iの溶出は検出限界以下であった。
On the other hand, the sample of the present invention in which the hard carbon film having H 1 / H 2 of 0.02 or more and H 2 <H 3 and the thickness of 0.2 to 2 μm was formed had a surface roughness of 0. A film having a smooth surface of 1 μm or less and a density of 3.1 g / cm 3 or more,
The tint was dark gold to dark dark gold, and no gold plating corrosion was observed in any of the aqua regia solutions. Also, N
The elution of i was below the detection limit.

【0046】但し、硬質炭素膜の厚みが0.2μmより
も薄い試料No.17では、膜が一部剥離しており、2μ
mを越える試料No.20では、ほとんど金色が失われ、
黒色化してしまった。
However, in the sample No. 17 in which the thickness of the hard carbon film is thinner than 0.2 μm, the film is partly peeled off and the film thickness is 2 μm.
In the sample No. 20 exceeding m, almost gold color was lost,
It turned black.

【0047】また、耐スクラッチ性については、硬質炭
素膜を被覆した試料は、ほとんど傷の発生はなかった
が、膜厚が0.1μmと薄い試料No.17は、膜に一部
に剥離が認められた。また、硬質炭素膜を被覆しなかっ
た試料No.21では、多数の傷が認められた。
Regarding the scratch resistance, the sample coated with the hard carbon film showed almost no scratches, but the sample No. 17 having a thin film thickness of 0.1 μm had a part of the film peeled off. Admitted. Further, in Sample No. 21 which was not covered with the hard carbon film, many scratches were recognized.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の装飾用被
覆部材は、微細な結晶からなる緻密で表面が平滑な硬質
炭素膜によって被覆されているために、部材の色味を大
きく損ねることなく、傷等がつきにくく、しかも部材中
にNiメッキ等が施された場合においてもNiの溶出を
防止することができる。これにより、装飾部材としての
耐久性および安全性を高めることができる。
As described above in detail, since the decorative covering member of the present invention is covered with a dense hard carbon film made of fine crystals and having a smooth surface, the tint of the member is greatly impaired. Without being easily scratched, Ni can be prevented from being eluted even when the member is plated with Ni or the like. As a result, the durability and safety of the decorative member can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明における硬質炭素膜(表1中、試料No.
4)のラマン分光スペクトル図である。
1 is a hard carbon film of the present invention (in Table 1, sample No.
It is a Raman spectroscopy spectrum figure of 4).

【図2】比較例としての硬質炭素膜(表1中、試料No.
9)のラマン分光スペクトル図である。
FIG. 2 shows a hard carbon film as a comparative example (in Table 1, sample No.
It is a Raman spectroscopy spectrum figure of 9).

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23C 14/00 - 14/58 C23C 16/00 - 16/56 C01B 31/00 - 31/36 JCTPファイル(JOIS)Front page continuation (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) C23C 14/00-14/58 C23C 16/00-16/56 C01B 31/00-31/36 JCTP file (JOIS)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基体表面に、Niメッキを介して金メッキ
が施された装飾部材の表面に、ラマン分光スペクトルに
おいて1340±40cm−1、1160±40cm
−1および1500±60cm−1にピークが存在し、
1160±40cm−1に存在するピークのうち最も強
度の強いピーク強度をH、1340±40cm−1
存在するピークのうち最も強度の強いピーク強度を
、1500±60cm−1に存在するピークのうち
最も強度の強いピーク強度をHとした時、H/H
で表されるピーク強度比が0.02以上であり、且つH
<Hを満足する硬質炭素膜を0.2〜2μmの膜厚
で被覆したことを特徴とする装飾用被覆部材。
1. A substrate surface is gold-plated through Ni plating.
On the surface of the decorative member subjected to the treatment, the Raman spectrum was 1340 ± 40 cm −1 , 1160 ± 40 cm.
−1 and 1500 ± 60 cm −1 have peaks,
The strongest peak intensity among the peaks present at 1160 ± 40 cm −1 is H 1 , and the strongest peak intensity among the peaks present at 1340 ± 40 cm −1 is H 2 , 1500 ± 60 cm −1 . When the strongest peak intensity among the peaks is H 3 , H 1 / H 2
The peak intensity ratio is 0.02 or more, and H
A decorative coating member, characterized in that a hard carbon film satisfying 2 <H 3 is coated with a film thickness of 0.2 to 2 μm.
【請求項2】前記硬質炭素膜表面の表面粗さRaが、
0.2μm以下である請求項1記載の装飾用被覆部材。
2. The surface roughness Ra of the surface of the hard carbon film is
The covering member for decoration according to claim 1, which has a thickness of 0.2 μm or less .
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