JP3504481B2 - Method for producing Ni powder - Google Patents

Method for producing Ni powder

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JP3504481B2
JP3504481B2 JP34430997A JP34430997A JP3504481B2 JP 3504481 B2 JP3504481 B2 JP 3504481B2 JP 34430997 A JP34430997 A JP 34430997A JP 34430997 A JP34430997 A JP 34430997A JP 3504481 B2 JP3504481 B2 JP 3504481B2
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  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子部品等に用いら
れる導電ペーストフィラー、Ti材の接合材、さらには
触媒などの各種用途に適したNi,CuあるいはAg等
の金属粉末の製造方法および製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and a method for producing a metal powder such as Ni, Cu or Ag suitable for various applications such as a conductive paste filler used in electronic parts and the like, a Ti material bonding material, and a catalyst. Regarding the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】Ni,Cu,Agなどの導電性の金属粉
末は、積層セラミックコンデンサの内部電極形成用とし
て有用であり、とりわけNi粉末は、そのような用途と
して最近注目されている。中でも乾式の製造方法によっ
て製造したNi超微粉が有望視されている。コンデンサ
−の小型化、大容量化に伴い、内部電極の薄層化・低抵
抗化等の要求から、粒径1μm以下は勿論、粒径0.5
μm以下の超微粉が要望されている。
2. Description of the Related Art Conductive metal powders such as Ni, Cu and Ag are useful for forming internal electrodes of laminated ceramic capacitors, and Ni powders have recently attracted attention as such applications. Above all, Ni ultra-fine powder manufactured by a dry manufacturing method is regarded as promising. Due to the demand for thinner internal electrodes, lower resistance, etc., along with the miniaturization and large capacity of capacitors, the particle size is 0.5 μm or less as well as 1 μm or less.
There is a demand for ultrafine powder having a size of μm or less.

【0003】従来、上記のような金属粉末を製造する製
造方法が種々提案されている。たとえば、特公昭59ー
7765号公報では、固体塩化ニッケルを加熱蒸発して
塩化ニッケル蒸気とし、これに水素ガスを高速で吹き付
けて界面不安定領域で核成長させる方法が開示されてい
る。また、特開平4ー365806号公報では、固体塩
化ニッケルを蒸発して得た塩化ニッケル蒸気(以下、N
iCl2ガスと略す)の分圧を0.05〜0.3とし、
1004℃〜1453℃で気相還元する方法が開示され
ている。そして、これらの製造方法によれば、平均粒径
が0.1〜数μmの球状Ni超微粉が生成されるとされ
ている。
Conventionally, various manufacturing methods for manufacturing the above-mentioned metal powder have been proposed. For example, Japanese Examined Patent Publication No. 59-7765 discloses a method in which solid nickel chloride is heated and vaporized to form nickel chloride vapor, and hydrogen gas is sprayed at high speed on this to cause nuclei growth in an interface unstable region. Further, in JP-A-4-365806, nickel chloride vapor obtained by evaporating solid nickel chloride (hereinafter referred to as N
The partial pressure of iCl 2 gas) is 0.05 to 0.3,
A method of gas phase reduction at 1004 ° C to 1453 ° C is disclosed. According to these manufacturing methods, spherical Ni ultrafine powder having an average particle diameter of 0.1 to several μm is produced.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記提
案に係る金属粉末の製造方法では、いずれも固体状の塩
化ニッケルを出発原料とするため、以下のような本質的
問題がある。 固体NiCl2の加熱蒸発(昇華)操作が必須のた
め、蒸気の安定発生が難しい。その結果、NiCl2
ス分圧が変動し、生成されたNi粉末の粒径が安定しな
い。 プロセスの運転中に蒸発部の固体NiCl2の量が変
動すると蒸発速度が変動し、安定した製造ができない。 固体NiCl2は結晶水を有しているので、使用前に
脱水処理が必要となるばかりでなく、脱水が不充分であ
ると生成したNi粉末の酸素汚染の原因となる。 固体NiCl2の蒸発速度が遅いため、NiCl2ガス
を還元工程に移送するための多量のキャリアガス(窒素
ガス等の不活性ガス)を要し、また窒素ガス等を加熱す
るための余計な加熱エネルギ−を要する。 このため、NiCl2ガスの還元工程での濃度(分
圧)を高めることができず、Ni粉末の生産速度が遅い
ばかりでなく、大きな反応容器が必要になる。
However, in each of the methods for producing a metal powder according to the above-mentioned proposal, since solid nickel chloride is used as a starting material, there are the following essential problems. Since vaporization (sublimation) of solid NiCl 2 by heating is essential, stable generation of vapor is difficult. As a result, the partial pressure of NiCl 2 gas fluctuates, and the particle size of the produced Ni powder is not stable. If the amount of solid NiCl 2 in the evaporation part fluctuates during the operation of the process, the evaporation rate fluctuates, and stable production cannot be performed. Since solid NiCl 2 has water of crystallization, not only dehydration treatment is required before use but also insufficient dehydration causes oxygen contamination of the produced Ni powder. Since the evaporation rate of solid NiCl 2 is slow, a large amount of carrier gas (inert gas such as nitrogen gas) is required to transfer NiCl 2 gas to the reduction process, and extra heating is required to heat nitrogen gas. Energy is required. For this reason, the concentration (partial pressure) of the NiCl 2 gas in the reduction step cannot be increased, the production rate of Ni powder is slow, and a large reaction container is required.

【0005】したがって、本発明は、上記事情に鑑みて
なされたもので、以下の目的を達成することができる金
属粉末の製造方法および製造装置である。 1)平均粒径0.1〜1.0μmのNi,Cuもしくは
Ag等の粉末(超微粉末)を安定して製造する。 2)加熱蒸発(昇華)工程がなく、反応制御を容易に行
う。 3)プロセス全体をガスの流量で制御でき、目的の粒径
の金属粉末を任意に製造する。 4)ガスやエネルギ−の消費が少ない。
Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and is a method and an apparatus for producing a metal powder capable of achieving the following objects. 1) A powder (ultrafine powder) of Ni, Cu, Ag or the like having an average particle diameter of 0.1 to 1.0 μm is stably manufactured. 2) The reaction is easily controlled without a heating evaporation (sublimation) step. 3) The whole process can be controlled by the gas flow rate, and a metal powder having a target particle size can be arbitrarily produced. 4) Consumption of gas and energy is small.

【0006】 本発明は、平均粒径0.1〜1.0μm
の積層セラミックコンデンサ内部電極形成用Ni粉末の
製造方法であって、金属Niに塩素ガスを接触させてN
iClガスを連続的に発生させる塩化工程と、塩化工
程で発生したNiClガスを水素ガスと接触させ、N
iClを連続的に還元する還元工程とを備え、該還元
工程において分圧0.5〜1.0のNiClガスを還
元炉に備えられたノズルから1〜30m/秒の線速度で
噴出し、前記塩化工程に供給する塩素ガスの化学当量の
1.0〜3.0倍の前記水素ガスを、前記還元炉内に備
えたノズルから前記NiCl ガスの噴出線速度の1/
50〜1/300の線速度で噴出することを特徴として
いる。
The present invention has an average particle size of 0.1 to 1.0 μm.
The method for producing a Ni powder for forming an internal electrode of a monolithic ceramic capacitor, comprising:
The chlorination step of continuously generating iCl 2 gas and the NiCl 2 gas generated in the chlorination step are brought into contact with hydrogen gas,
and a reducing step of continuously reducing iCl 2, in which a partial pressure of 0.5 to 1.0 of NiCl 2 gas is ejected from a nozzle provided in the reducing furnace at a linear velocity of 1 to 30 m / sec. The chemical equivalent of chlorine gas supplied to the chlorination step.
Prepare 1.0 to 3.0 times the hydrogen gas in the reduction furnace.
1 / the linear velocity of the NiCl 2 gas ejected from the nozzle
It is characterized by ejecting at a linear velocity of 50 to 1/300 .

【0007】気相反応による金属粉末の製造過程では、
金属塩化物ガスと還元性ガスとが接触した瞬間に金属原
子が生成し、金属原子どうしが衝突・凝集することによ
って超微粒子が生成され、成長してゆく。そして、還元
工程の雰囲気中の金属塩化物ガスの分圧や温度等の条件
によって、生成される金属粉末の粒径が決まる。本発明
の金属粉末の製造方法によれば、塩素ガスの供給量に応
じた量のNiCl ガスが発生するから、塩素ガスの供
給量を制御することで還元工程へ供給するNiCl
スの量を制御することができる。さらに、NiCl
スは、塩素ガスと金属Niとの反応で発生するから、固
NiCl の加熱蒸発によりNiCl ガスを発生さ
せる方法と異なり、キャリアガスの使用を少なくするこ
とができるばかりでなく、製造条件によっては使用しな
いことも可能である。よって、キャリアガスの使用量低
減とそれに伴う加熱エネルギーの低減により、製造コス
トを低減することができる。
In the process of producing metal powder by gas phase reaction,
At the moment when the metal chloride gas and the reducing gas come into contact with each other, metal atoms are generated, and the metal atoms collide and aggregate with each other to generate ultrafine particles and grow. The particle size of the metal powder produced is determined by the conditions such as the partial pressure and temperature of the metal chloride gas in the atmosphere of the reduction process. According to the manufacturing method of the metal powder of the present invention, the amount of from the amount of NiCl 2 gas in accordance with the supply amount of chlorine gas is generated, NiCl 2 gas supplied to the reduction step by controlling the supply amount of chlorine gas Can be controlled. Further, since NiCl 2 gas is generated by the reaction between chlorine gas and metallic Ni , unlike the method of generating NiCl 2 gas by heating and evaporating solid NiCl 2 , the use of carrier gas should be reduced. Not only can it be used, but it can be not used depending on the manufacturing conditions. Therefore, the manufacturing cost can be reduced by reducing the amount of carrier gas used and the heating energy accompanying it.

【0008】また、塩化工程で発生したNiCl ガス
に不活性ガスを混合することにより、還元工程における
NiCl ガスの分圧を制御することができる。特に、
本発明のNi粉末の製造方法では、還元工程において分
圧0.5〜1.0のNiCl ガスを還元炉に備えられ
たノズルから1〜30m/秒の線速度で噴出するから、
金属Ni粉末の粒径を安定させることができるととも
に、粒径を適切な範囲に設定することができる。
In addition, by mixing an inert gas with the NiCl 2 gas generated in the chlorination step,
The partial pressure of NiCl 2 gas can be controlled. In particular,
In the method for producing Ni powder of the present invention, the reduction step is performed
The reduction furnace was equipped with NiCl 2 gas at a pressure of 0.5 to 1.0.
Since it ejects from the nozzle at a linear velocity of 1 to 30 m / sec,
The particle size of the metallic Ni powder can be stabilized, and the particle size can be set within an appropriate range .

【0009】[0009]

【0010】上記構成の金属粉末の製造装置において
も、塩素ガスの供給量に応じた量の金属塩化物ガスが発
生し、しかも、塩化炉と還元炉とが直結されているの
で、塩素ガスの供給量を制御することで還元炉へ供給す
る金属塩化物ガスの量を制御することができる。また、
塩化炉には不活性ガス供給管が設けられており、ここか
ら不活性ガスを塩化炉に供給できるから、還元炉におけ
る金属塩化物ガスの分圧を制御することができる。した
がって、本発明の金属粉末の製造装置においても、塩素
ガスの供給量もしくは還元炉に供給する金属塩化物ガス
の分圧を制御することにより金属粉末の粒径を制御する
ことができ、金属粉末の粒径を安定させることができる
とともに、粒径を任意に設定することができる等上記と
同等の作用、効果を得ることができる。
Even in the apparatus for producing metal powder having the above-mentioned structure, the amount of metal chloride gas corresponding to the supply amount of chlorine gas is generated, and since the chlorination furnace and the reduction furnace are directly connected, By controlling the supply amount, the amount of metal chloride gas supplied to the reduction furnace can be controlled. Also,
The chlorination furnace is provided with an inert gas supply pipe from which the inert gas can be supplied to the chlorination furnace, so that the partial pressure of the metal chloride gas in the reduction furnace can be controlled. Therefore, even in the metal powder production apparatus of the present invention, the particle size of the metal powder can be controlled by controlling the supply amount of chlorine gas or the partial pressure of the metal chloride gas supplied to the reduction furnace. The particle size can be stabilized, and the same function and effect as the above can be obtained such that the particle size can be arbitrarily set.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の好適な実施の形態についてNiの製造例をもとに詳し
く説明する。A.塩化工程 塩化工程は図1に示すような塩化炉1によって行うと好
適である。塩化炉1の上端面には、原料金属Ni(M)
を供給するための原料供給管11が設けられる。また、
塩化炉1の上側部には塩素ガス供給管14が接続され、
下側部には不活性ガス供給管15が接続される。塩化炉
1の周囲には加熱手段10が配置され、塩化炉1の下端
面には、移送管兼ノズル17が接続される。塩化炉1は
縦型、横型を問わないが、固体−ガス接触反応を均一に
行うためには縦型が好ましい。塩素ガスは流量計測して
連続的に塩素ガス供給管14から導入される。塩化炉1
およびその他の部材は石英ガラス製が好ましい。移送管
兼ノズル17は後述する還元炉2の上端面に接続され、
塩化炉1で発生するNiCl2ガス等を還元炉2へ移送
する機能を有する。また、移送管兼ノズル17の下端部
は、還元炉2内に突出してNiCl2噴出ノズルとして
機能する。なお、塩化炉1の底部には、図1に示すよう
な網16を設け、網16の上に金属Ni(M)を堆積す
ると良い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to an example of manufacturing Ni, with reference to the drawings. A. Chlorination Step The chlorination step is preferably performed by a chlorination furnace 1 as shown in FIG. On the upper end surface of the chlorination furnace 1, the raw material metal Ni (M)
The raw material supply pipe 11 for supplying the is provided. Also,
A chlorine gas supply pipe 14 is connected to the upper side of the chlorination furnace 1,
An inert gas supply pipe 15 is connected to the lower side portion. A heating means 10 is arranged around the chlorination furnace 1, and a transfer pipe / nozzle 17 is connected to the lower end surface of the chlorination furnace 1. The chlorination furnace 1 may be of a vertical type or a horizontal type, but the vertical type is preferable in order to uniformly perform the solid-gas contact reaction. The flow rate of chlorine gas is measured and continuously introduced through the chlorine gas supply pipe 14. Chlorination furnace 1
The other members are preferably made of quartz glass. The transfer pipe / nozzle 17 is connected to the upper end surface of the reduction furnace 2 described later,
It has a function of transferring NiCl 2 gas or the like generated in the chlorination furnace 1 to the reduction furnace 2. The lower end of the transfer pipe / nozzle 17 projects into the reduction furnace 2 and functions as a NiCl 2 jet nozzle. A net 16 as shown in FIG. 1 may be provided at the bottom of the chlorination furnace 1, and metal Ni (M) may be deposited on the net 16.

【0012】出発原料である金属Ni(M)の形態は問
わないが、接触効率、圧力損失上昇防止の観点から、粒
径約5mm〜20mmの粒状、塊状、板状などが好まし
く、またその純度は慨して99.5%以上が好ましい。
塩化炉1内の金属Ni(M)の充填層高は、塩素供給速
度、塩化炉温度、連続運転時間、金属Ni(M)の形状
などをもとに、供給塩素ガスがNiCl2ガスに変換さ
れるに十分な範囲に適宜設定すれば良い。塩化炉1内の
温度は、反応を十分進めるために800℃以上とし、N
iの融点である1483℃以下とする。反応速度と塩化
炉1の耐久性を考慮すると、実用的には900℃〜11
00℃の範囲が好ましい。
The form of metallic Ni (M) as a starting material is not limited, but from the viewpoint of contact efficiency and prevention of increase in pressure loss, granular, lumpy, plate-like or the like having a particle size of about 5 mm to 20 mm is preferable, and its purity. Is preferably 99.5% or more.
The packed bed height of the metal Ni (M) in the chlorination furnace 1 is converted from the supplied chlorine gas into NiCl 2 gas based on the chlorine supply rate, the chlorination furnace temperature, the continuous operation time, the shape of the metal Ni (M), and the like. It may be set appropriately within a range sufficient to be maintained. The temperature in the chlorination furnace 1 is set to 800 ° C. or higher in order to promote the reaction sufficiently, and N
It should be 1483 ° C. or lower, which is the melting point of i. Considering the reaction rate and the durability of the chlorination furnace 1, practically 900 ° C to 11
The range of 00 ° C is preferred.

【0013】本発明の金属粉末の製造方法においては、
金属ニッケル(M)が充填された塩化炉1への塩素ガス
の連続供給は、NiCl2ガスの連続発生をもたらす。
そして、塩素ガス供給量がNiCl2ガスの発生量を支
配するから、後述する還元反応を支配し、その結果、目
的とする製品Ni粉末が生産可能になる。なお、塩素ガ
ス供給の詳細は以下の還元工程の項でより具体的に説明
する。
In the method for producing metal powder according to the present invention,
Continuous supply of chlorine gas to the chlorination furnace 1 filled with metallic nickel (M) results in continuous generation of NiCl 2 gas.
Then, since the chlorine gas supply amount controls the generation amount of NiCl 2 gas, it controls the reduction reaction described later, and as a result, the target product Ni powder can be produced. The details of the chlorine gas supply will be described more specifically in the section of the reduction step below.

【0014】塩化工程で発生したNiClガスは、そ
のまま移送管兼ノズル17により還元工程に移送する
か、場合によっては、不活性ガス供給管15から窒素や
アルゴンなどの不活性ガスを、NiClガスに対し1
モル%〜30モル%混合し、この混合ガスを還元工程に
移送する。この不活性ガスの供給は、Ni粉末の粒径制
御因子となる。不活性ガスの過剰な混合は、不活性ガス
の多大な消耗となることは勿論、エネルギ−損失となっ
て不経済である。このような観点から、移送管兼ノズル
17を通過する混合ガスのNiCl ガス分圧は、全圧
を1.0としたときに0.5〜1.0の範囲とし、とり
わけ粒径0.2μm〜0.5μmといった小粒径のNi
粉末を製造する場合には、分圧0.6〜0.9程度が好
適である。そして、前述のようにNiClガス発生量
は塩素ガス供給量により任意に調整することができ、ま
た、NiClガスの分圧も不活性ガス供給量で任意に
調整することができる。
The NiCl 2 gas generated in the chlorination step is directly transferred to the reduction step through the transfer pipe / nozzle 17, or in some cases, an inert gas such as nitrogen or argon is supplied from the inert gas supply pipe 15 to the NiCl 2 gas. 1 for gas
Mol% to 30 mol% are mixed, and this mixed gas is transferred to the reduction step. The supply of this inert gas becomes a factor for controlling the particle size of the Ni powder. Excessive mixing of the inert gas causes not only a great consumption of the inert gas but also energy loss, which is uneconomical. From such a viewpoint, the NiCl 2 gas partial pressure of the mixed gas passing through the transfer pipe / nozzle 17 is set in the range of 0.5 to 1.0 when the total pressure is 1.0, and particularly, the particle diameter is 0. Ni with a small particle size of 2 μm to 0.5 μm
When producing powder, a partial pressure of about 0.6 to 0.9 is suitable. Then, as described above, the amount of NiCl 2 gas generated can be arbitrarily adjusted by the chlorine gas supply amount, and the partial pressure of the NiCl 2 gas can also be arbitrarily adjusted by the inert gas supply amount.

【0015】B.還元工程 塩化工程で発生したNiCl2ガスは連続的に還元工程
に移送される。還元工程は、図1に示すような還元炉2
を用いて行うことが望ましい。還元炉2の上端部には、
上述した移送管兼ノズル17のノズル(以下、単にノズ
ル17と称する)が下方へ突出させられる。また、還元
炉2の上端面には、水素ガス供給管(還元性ガス供給
管)21が接続され、還元炉2の下側部には冷却ガス供
給管22が接続される。また、還元炉2の周囲には加熱
手段20が配置される。ノズル17は、後述するよう
に、塩化炉1から還元炉2内へNiCl2ガス(不活性
ガスを含む場合がある)を、好ましい流速で噴出する機
能を有する。
B. Reduction Step NiCl 2 gas generated in the chlorination step is continuously transferred to the reduction step. The reduction process is performed by the reduction furnace 2 as shown in FIG.
It is desirable to use. At the upper end of the reduction furnace 2,
The nozzle of the transfer pipe / nozzle 17 described above (hereinafter, simply referred to as the nozzle 17) is projected downward. A hydrogen gas supply pipe (reducing gas supply pipe) 21 is connected to the upper end surface of the reduction furnace 2, and a cooling gas supply pipe 22 is connected to the lower side of the reduction furnace 2. A heating means 20 is arranged around the reduction furnace 2. As will be described later, the nozzle 17 has a function of ejecting NiCl 2 gas (which may contain an inert gas) from the chlorination furnace 1 into the reduction furnace 2 at a preferable flow rate.

【0016】NiCl2ガスと水素ガスによる還元反応
が進行する際、ノズル17先端部からは、LPGなどの
気体燃料の燃焼炎に似たような、下方に延びた輝炎(以
下、火炎という)Fが形成される。還元炉2への水素ガ
ス供給量は、NiCl2ガスの化学当量、すなわち、塩
化炉1へ供給する塩素ガスの化学当量の1.0〜3.0
倍程度、好ましくは1.1〜2.5倍程度であるが、こ
れに限定するものではない。しかしながら、水素ガスを
過剰に供給すると還元炉2内に大きな水素流れをもたら
し、ノズル17からのNiCl2噴出流を乱し、不均一
な還元反応の原因になるとともに、消費されないガス放
出をもたらして不経済である。また、還元反応の温度は
反応完結に充分な温度以上であれば良いが、固体状のN
i粉末を生成する方が取扱いが容易であるので、Niの
融点以下が好ましい。反応速度、還元炉2の耐久性、経
済性を考慮すると900℃〜1100℃が実用的である
が、特にこれに限るものではない。
When the reduction reaction by NiCl 2 gas and hydrogen gas progresses, a downwardly extending luminous flame (hereinafter referred to as flame), which is similar to the combustion flame of gaseous fuel such as LPG, from the tip of the nozzle 17. F is formed. The hydrogen gas supply amount to the reduction furnace 2 is 1.0 to 3.0 of the chemical equivalent of NiCl 2 gas, that is, the chemical equivalent of chlorine gas supplied to the chlorination furnace 1.
It is about twice, preferably about 1.1 to 2.5 times, but not limited to this. However, excessive supply of hydrogen gas causes a large hydrogen flow in the reduction furnace 2, disturbs the NiCl 2 jet flow from the nozzle 17, causes a non-uniform reduction reaction, and causes unconsumed gas release. It is uneconomical. Further, the temperature of the reduction reaction may be higher than or equal to the temperature sufficient for completion of the reaction, but solid N 2
Since it is easier to handle the i powder, the melting point of Ni or less is preferable. Considering the reaction rate, the durability of the reduction furnace 2, and the economical efficiency, 900 ° C to 1100 ° C is practical, but it is not limited to this.

【0017】上述のとおり塩化工程に導入された塩素ガ
スは、実質的に同モル量のNiClガスとなり、これ
が還元原料とされる。NiClガスもしくはNiCl
−不活性ガス混合ガスのノズル17先端から噴出され
るガス流の線速度を調整することにより、得られるNi
粉末Pの粒径を適切化することができる。すなわち、ノ
ズル径が一定であれば、塩化工程への塩素供給量と不活
性ガス供給量によって、還元炉2で生成されるNi粉末
Pの粒径を目的の範囲に調整することができる。ノズル
17先端におけるガス流の線速度(NiClガスおよ
び不活性ガスの合計(還元温度でのガス供給量に換算し
た計算値))は、900℃〜1100℃の還元温度にお
いて約1m/秒〜30 m/ 秒に設定され、0.1μm
〜0.3μmのような小粒径のNi粉末を製造する場合
には、およそ5m/秒〜25m/秒、また、0.4μm
〜1.0μmのNi粉末を製造する場合には、およそ1
m/秒〜15m/秒が適当である。水素ガスの還元炉2
内での軸方向の線速は、NiClガスの噴出速度(線
速)の1/50〜1/300程度、好ましくは1/80
〜1/250が良い。したがって、実質的には静的水素
雰囲気中へNiClガスがノズル17から噴射される
ような状態となる。なお、水素ガス供給管21の出口の
方向は、火炎側へ向けないことが好ましい。
The chlorine gas introduced into the chlorination step as described above becomes substantially the same molar amount of NiCl 2 gas, which is used as the reducing raw material. NiCl 2 gas or NiCl
Ni obtained by adjusting the linear velocity of the gas flow ejected from the tip of the nozzle 17 of the 2 -inert gas mixed gas
The particle size of the powder P can be optimized. That is, if the nozzle diameter is constant, the particle size of the Ni powder P generated in the reduction furnace 2 can be adjusted to a target range by the chlorine supply amount and the inert gas supply amount to the chlorination step. The linear velocity of the gas flow at the tip of the nozzle 17 (the total of NiCl 2 gas and the inert gas (calculated value converted into the gas supply amount at the reducing temperature)) is about 1 m / sec at the reducing temperature of 900 ° C. to 1100 ° C. 0.1 μm set to 30 m / s
In the case of producing a Ni powder having a small particle diameter of about 0.3 μm, the particle size is about 5 m / sec to 25 m / sec, and 0.4 μm.
Approximately 1 when producing Ni powder of ˜1.0 μm
The range of m / sec to 15 m / sec is suitable. Hydrogen gas reduction furnace 2
The linear velocity in the axial direction is about 1/50 to 1/300, preferably 1/80 of the ejection velocity (linear velocity) of NiCl 2 gas.
~ 1/250 is good. Therefore, the NiCl 2 gas is substantially injected into the static hydrogen atmosphere from the nozzle 17. The outlet of the hydrogen gas supply pipe 21 is preferably not directed to the flame side.

【0018】本発明の製造方法では、塩化工程への塩素
ガス供給流量を増加させると、還元工程で生成するNi
粉末の粒径が小さくなり、逆に塩素ガスの供給流量を減
少させると粒径が増大する。さらには、前述したような
塩化炉2出口付近でNiCl2ガスに対して混合する不
活性ガスによりNiCl2ガスの分圧を調整することに
より、具体的にはNiCl2ガスに対し1モル%〜30
モル%の範囲で混合し、例えば、分圧を高めると生成す
るNi粉末の粒径を増大させることができ、逆に、Ni
Cl2ガスの分圧を低めると生成するNi粉末の粒径を
小さくすることができる。
In the production method of the present invention, when the chlorine gas supply flow rate to the chlorination step is increased, the Ni produced in the reduction step is increased.
The particle size of the powder becomes small, and conversely, when the supply flow rate of chlorine gas is reduced, the particle size increases. Furthermore, by adjusting the partial pressure of the NiCl 2 gas with an inert gas mixed with the NiCl 2 gas near the outlet of the chlorination furnace 2 as described above, specifically, 1 mol% to NiCl 2 gas Thirty
By mixing in the range of mol% and increasing the partial pressure, for example, the particle size of the produced Ni powder can be increased.
If the partial pressure of Cl 2 gas is lowered, the particle size of the Ni powder produced can be reduced.

【0019】C.冷却工程 本発明の金属粉末の製造方法には冷却工程を設けること
ができる。冷却工程は、図1に示すように、還元炉2内
のノズル17と反対側の空間部分で行なうことができ、
あるいは、還元炉2の出口に接続した別の容器を用いる
ことも可能である。なお、本発明でいう冷却とは、還元
反応で生成したガス流(塩酸ガスを含む)におけるNi
粒子の成長を停止もしくは抑制するために行う操作であ
り、具体的には還元反応を終えた1000℃付近のガス
流を400℃〜800℃程度まで急速冷却させる操作を
意味する。もちろんこれ以下の温度まで冷却を行っても
構わない。
C. Cooling Step A cooling step can be provided in the method for producing metal powder of the present invention. As shown in FIG. 1, the cooling process can be performed in a space portion on the opposite side of the nozzle 17 in the reduction furnace 2,
Alternatively, another container connected to the outlet of the reduction furnace 2 can be used. The cooling in the present invention means Ni in the gas flow (including hydrochloric acid gas) generated by the reduction reaction.
It is an operation performed to stop or suppress the growth of particles, and specifically means an operation of rapidly cooling the gas flow near 1000 ° C. after the reduction reaction to about 400 ° C. to 800 ° C. Of course, you may cool to the temperature below this.

【0020】冷却を行うための好ましい例として、火炎
先端から下方の空間部分に不活性ガスを吹き込むように
構成することができる。具体的には、冷却ガス供給管2
2より窒素ガスを吹き込むことで、ガス流を冷却するこ
とができる。不活性ガスを吹き込むことにより、Ni粉
末Pの凝集を防止しつつ粒径制御を行うことができる。
冷却ガス供給管は、1箇所もしくは還元炉2の上下方向
に位置を変化させて複数箇所に設けることで、冷却条件
を任意に変更することができ、これにより粒径制御をよ
り精度よく行なうことができる。
As a preferable example for cooling, an inert gas may be blown into the space below from the tip of the flame. Specifically, the cooling gas supply pipe 2
The gas flow can be cooled by blowing in nitrogen gas from 2. By blowing an inert gas, it is possible to control the particle size while preventing the Ni powder P from aggregating.
By providing the cooling gas supply pipe at one position or at a plurality of positions by changing the position in the vertical direction of the reduction furnace 2, it is possible to arbitrarily change the cooling conditions, and thereby more accurately control the particle size. You can

【0021】D.回収工程 以上の工程を経たNi粉末Pと塩酸ガスおよび不活性ガ
スの混合ガスは回収工程へ移送され、そこで混合ガスか
らNi粉末Pが分離回収される。分離回収には、例えば
バグフィルター、水中捕集分離手段、油中捕集分離手段
および磁気分離手段の1種または2種以上の組合せが好
適であるが、これに限定されるものではない。たとえ
ば、バグフィルターによってNi粉末Pを捕集する場
合、冷却工程で生成したNi粉末Pと塩酸ガスおよび不
活性ガスの混合ガスをバグフィルターに導き、Ni粉末
Pだけを回収した後、洗浄工程に送ってもよい。油中捕
集分離を用いる場合には、炭素数10〜18のノルマル
パラフィンまたは軽油を使用するのが好適である。水中
もしくは油中捕集を用いる場合には、捕集液にポリオキ
シアルキレングリコール、ポリオキシプロピレングリコ
ールまたはそれらの誘導体(モノアルキルエーテル、モ
ノエステル)あるいは、ソルビタン、ソルビタンモノエ
ステル等の界面活性剤、ベンゾトリアゾールまたはその
誘導体に代表される金属不活性剤のフェノール系、ある
いはアミン系など公知の酸化防止剤、これらの1種また
は2種以上を10ppm〜1000ppm程度添加する
と、金属粉末粒子の凝集防止や防錆に効果的である。
D. Collection Step The mixed gas of the Ni powder P, the hydrochloric acid gas, and the inert gas that has undergone the above steps is transferred to the collection step, where the Ni powder P is separated and collected from the mixed gas. For separation and recovery, for example, a bag filter, an underwater trapping / separating means, an oil trapping / separating means, and a magnetic separating means are suitable, but not limited thereto. For example, when the Ni powder P is collected by a bag filter, the mixed gas of the Ni powder P generated in the cooling step, hydrochloric acid gas and an inert gas is guided to the bag filter, and only the Ni powder P is collected, and then the cleaning step is performed. You may send it. When the collection and separation in oil is used, it is preferable to use normal paraffin having 10 to 18 carbon atoms or light oil. When collecting in water or oil, the collection liquid contains a polyoxyalkylene glycol, polyoxypropylene glycol or a derivative thereof (monoalkyl ether, monoester), or a surfactant such as sorbitan or sorbitan monoester, A known antioxidant such as a phenol-based or amine-based metal deactivator represented by benzotriazole or a derivative thereof, and when one or more of these antioxidants are added at about 10 ppm to 1000 ppm, prevention of aggregation of metal powder particles and Effective for rust prevention.

【0022】E.他の実施の形態 上記実施の形態は還元工程を1工程にしたものである
が、還元工程を複数工程に分割することもできる。図2
は1工程の還元工程を2工程に分割した例を示すもので
あり、図1に示す構成要素と同等の構成要素には同符号
を付してある。図2に示すように、冷却ガス供給管22
は、第1還元工程の還元炉2’には設けられず、第2還
元工程の還元炉2にのみ設けられる。第1還元工程へ供
給する水素ガス量をNiCl2の化学当量の0.5〜
0.9倍とし、第2還元工程で不足分の水素ガスを補
い、合計量として、NiCl2ガス量の1.0〜2.5
倍の水素ガスを供給することにより、粒径制御を一層精
度良くしかも広い範囲で行うことが可能となる。この場
合、必要に応じて還元炉2’の出口付近にNiCl2
スの適当量を補給するようにしても良い。
E. Other Embodiments In the above embodiment, the reduction process is one process, but the reduction process may be divided into a plurality of processes. Figure 2
Shows an example in which one reduction process is divided into two processes, and the same components as those shown in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. As shown in FIG. 2, the cooling gas supply pipe 22
Is not provided in the reducing furnace 2 ′ of the first reducing step, but is provided only in the reducing furnace 2 of the second reducing step. The amount of hydrogen gas supplied to the first reduction step is 0.5 to 0.5 of the chemical equivalent of NiCl 2.
0.9 times, supplementing the shortage hydrogen gas in the second reduction step, the total amount is 1.0 to 2.5 of the NiCl 2 gas amount.
By supplying twice as much hydrogen gas, it becomes possible to control the particle size more accurately and in a wide range. In this case, an appropriate amount of NiCl 2 gas may be replenished near the outlet of the reduction furnace 2 ′ if necessary.

【0023】このように還元工程を複数工程に分割する
ことにより、還元炉2,2’におけるガス流を層流に近
い状態にすることができる。その結果、還元炉2,2’
内でのNi粒子の滞留時間を均一にすることができ、N
i粒子の成長を均一にすることができる。これにより、
生成したNi粉末の粒径を均一にすることができる。ま
た、還元工程を複数工程に分割した場合の全ての還元炉
の総容積は、分割しない場合の還元炉の容積と同じにす
ることが好ましい。これにより、全ての還元炉を通過す
るガス流に含まれるNi粉末の平均滞留時間を変えるこ
となく、滞留時間分布のみを押出混合のそれに近づける
ことができ、より精度の高い粒径制御が可能となる。
By dividing the reduction step into a plurality of steps in this way, the gas flow in the reduction furnaces 2, 2'can be made close to a laminar flow. As a result, the reduction furnace 2, 2 '
It is possible to make the residence time of the Ni particles in the inside uniform,
The i-particle growth can be made uniform. This allows
The particle diameter of the generated Ni powder can be made uniform. Further, it is preferable that the total volume of all the reducing furnaces when the reducing step is divided into a plurality of steps is the same as the volume of the reducing furnaces when not dividing. As a result, only the residence time distribution can be made closer to that of extrusion mixing without changing the average residence time of the Ni powder contained in the gas flow passing through all the reduction furnaces, and more precise particle size control is possible. Become.

【0024】以上のように、固体NiCl2を出発物質
とし、これを蒸発させて還元反応に供する従来の製造方
法では、固体−気体の変換速度制御が極めて難しく、し
かも固体NiCl2の昇華という工程を経るものである
ため、還元炉内部へのNiCl2ガスの供給は、NiC
2の蒸発部への大量の不活性ガスの流れによらなけれ
ばならず、したがってNiCl2ガスの分圧を高めるこ
とが難しく、またプロセス制御が極めて難しいものであ
ったが、本発明の製造方法では、塩素ガスの供給量によ
ってNiCl2ガスの発生量を制御できるため、プロセ
ス制御が容易であり、しかも安定して制御することがで
きる。なお、本発明の製造方法によれば、Ni以外のC
uおよびAg等の粉末もそれぞれの金属を出発原料にし
て塩化、還元の温度を選択することにより製造すること
ができる。
As described above, in the conventional production method in which solid NiCl 2 is used as a starting material, and this is evaporated to be used in the reduction reaction, it is extremely difficult to control the solid-gas conversion rate, and a process of sublimation of solid NiCl 2 is performed. The NiCl 2 gas supplied to the inside of the reduction furnace is NiC.
Although a large amount of inert gas flow to the vaporization section of l 2 must be used, it was difficult to increase the partial pressure of NiCl 2 gas, and the process control was extremely difficult. In the method, since the amount of NiCl 2 gas generated can be controlled by the amount of chlorine gas supplied, process control is easy and stable control is possible. According to the manufacturing method of the present invention, C other than Ni
Powders of u, Ag and the like can also be produced by using the respective metals as starting materials and selecting the temperatures of chlorination and reduction.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明を具体的な実施例によりより詳
細に説明する。 [実施例 1]図1に示す金属粉末の製造装置の塩化炉1
に、平均粒径5mmのNi粉末15kgを充填し、炉内雰
囲気温度を1100℃にして4Nl/minの流量で塩
素ガスを導入し、金属Niを塩化してNiCl2ガスを
発生させた。これに塩素ガス供給量の10%(モル比)
の窒素ガスを混合し、このNiCl2−窒素混合ガスを
1000℃の雰囲気温度に加熱した還元炉2に、ノズル
17から流速2.3m/秒(1000℃換算)で導入し
た。同時に還元炉2の頂部から水素ガスを流速7Nl/
minで供給し、NiCl2ガスを還元した。そして、
還元反応で生成したNi粉末を含む生成ガスに冷却工程
で窒素ガスを混合して冷却した。次いで、窒素ガス−塩
酸蒸気−Ni粉末からなる混合ガスをオイルスクラバー
に導き、Ni粉末を分離回収した。ついで、回収したN
i粉末をキシレンで洗浄後、乾燥して製品Ni粉末を得
た。このNi粉末は、平均粒径が0.70μm(BET
法で測定)の球状であった。なお、SEM写真から求め
た粒径は、0.80μmでありBET法で求めた粒径と
ほぼ一致した。このことは、本実施例で得られたNi粉
末の表面が、図3に示したSEM写真例のように平滑で
あることを意味している。本実施例の方法で10時間安
定運転を行なった結果、Ni粉末1gに対する水素ガス
供給量と窒素ガス供給量は、それぞれ0.668Nl/
gと0.038Nl/gであった。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to specific examples. Example 1 A chlorination furnace 1 of the apparatus for producing metal powder shown in FIG.
Then, 15 kg of Ni powder having an average particle size of 5 mm was filled in, the temperature of the atmosphere in the furnace was set to 1100 ° C., chlorine gas was introduced at a flow rate of 4 Nl / min, and metallic Ni was chlorinated to generate NiCl 2 gas. 10% of chlorine gas supply (molar ratio)
Nitrogen gas was mixed, and this NiCl 2 -nitrogen mixed gas was introduced into the reducing furnace 2 heated to an ambient temperature of 1000 ° C. from the nozzle 17 at a flow rate of 2.3 m / sec (1000 ° C. conversion). At the same time, the flow rate of hydrogen gas from the top of the reduction furnace 2 was 7 Nl /
NiCl 2 gas was supplied to reduce the NiCl 2 gas. And
The produced gas containing Ni powder produced by the reduction reaction was mixed with nitrogen gas in the cooling step and cooled. Next, a mixed gas of nitrogen gas-hydrochloric acid vapor-Ni powder was introduced into an oil scrubber, and the Ni powder was separated and collected. Then, the collected N
The i powder was washed with xylene and then dried to obtain a product Ni powder. This Ni powder has an average particle size of 0.70 μm (BET
(Measured by the method) was spherical. The particle size obtained from the SEM photograph was 0.80 μm, which was almost the same as the particle size obtained by the BET method. This means that the surface of the Ni powder obtained in this example is smooth as in the SEM photograph example shown in FIG. As a result of performing stable operation for 10 hours by the method of this example, the hydrogen gas supply amount and the nitrogen gas supply amount per 1 g of Ni powder were 0.668 Nl /
and 0.038 Nl / g.

【0026】[実施例2]図1に示す製造装置を用いて
実施例1と温度条件は同じとし、表1に示したようなガ
ス流量の条件下でNi粉末を製造した。表1に示すよう
に、塩素ガス流量の増加に伴い、生成したNi粉末の粒
径が小さくなることが確認された。
Example 2 Using the manufacturing apparatus shown in FIG. 1, the temperature conditions were the same as in Example 1, and Ni powder was manufactured under the gas flow rate conditions shown in Table 1. As shown in Table 1, it was confirmed that the particle diameter of the produced Ni powder became smaller as the flow rate of chlorine gas increased.

【0027】[実施例3]図1に示す製造装置を用いて
実施例と温度条件は同じとし、表1に示したようなガス
流量の条件下でNi粉末を製造した。表1に示すよう
に、NiCl2ガスの分圧を低下させることにより、N
i粉末の粒径を細かくすることができる。
Example 3 Using the manufacturing apparatus shown in FIG. 1, the temperature conditions were the same as in the example, and Ni powder was manufactured under the gas flow rate conditions shown in Table 1. As shown in Table 1, by reducing the partial pressure of NiCl 2 gas, N
The particle size of the i powder can be made fine.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば以下
の効果が得られる。 塩素ガスの供給量を制御することで、金属塩化物ガス
の供給量を制御することができ、プロセス全体の安定運
転が可能となる。 これにより、生成する金属粉末の粒径も確実に制御す
ることができる。 平均粒径0.1〜1.0μmの範囲のNi,Cu,A
gの金属粉末を容易に製造することができる。とりわけ
製造が難しいとされている0.2〜0.4μmの粉末を
容易に製造することができる。 窒素ガスや水素ガスを効率良く使用することができ、
金属粉末の生産コストを低減することができる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained. By controlling the supply amount of chlorine gas, the supply amount of metal chloride gas can be controlled, and stable operation of the entire process becomes possible. This makes it possible to reliably control the particle size of the metal powder produced. Ni, Cu, A having an average particle size of 0.1 to 1.0 μm
It is possible to easily produce g of metal powder. In particular, it is possible to easily manufacture a powder of 0.2 to 0.4 μm, which is said to be difficult to manufacture. Nitrogen gas and hydrogen gas can be used efficiently,
The production cost of metal powder can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の金属粉末の製造装置の一例を示す縦
断面図である。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing an example of an apparatus for producing metal powder according to the present invention.

【図2】 本発明の金属粉末の製造装置の他の例を示す
縦断面図である。
FIG. 2 is a vertical cross-sectional view showing another example of the metal powder manufacturing apparatus of the present invention.

【図3】 本発明によって製造したNi粉末のSEM写
真例である。
FIG. 3 is an SEM photograph example of Ni powder manufactured according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……塩化炉、2,2’……還元炉、11……原料供給
管、14……塩素ガス供給管、17……移送管兼ノズ
ル、15……不活性ガス供給管、21……水素ガス供給
管(還元性ガス供給管)、22……冷却ガス供給管、M
……Ni粒、P……Ni粉。
1 ... Chlorination furnace, 2, 2 '... Reduction furnace, 11 ... Raw material supply pipe, 14 ... Chlorine gas supply pipe, 17 ... Transfer pipe and nozzle, 15 ... Inert gas supply pipe, 21 ... Hydrogen gas supply pipe (reducing gas supply pipe), 22 ... Cooling gas supply pipe, M
... Ni particles, P ... Ni powder.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−122906(JP,A) 特開 平5−247506(JP,A) 特開 平5−163512(JP,A) 特開 平5−247507(JP,A) 特開 昭64−73009(JP,A) 実開 平4−73939(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B22F 9/28 Continuation of front page (56) Reference JP-A-6-122906 (JP, A) JP-A-5-247506 (JP, A) JP-A-5-163512 (JP, A) JP-A-5-247507 (JP , A) JP-A-64-73009 (JP, A) Fukukaihei 4-73939 (JP, U) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) B22F 9/28

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 金属Niに塩素ガスを接触させてNiC
ガスを連続的に発生させる塩化工程と、塩化工程で
発生したNiClガスを水素ガスと接触させ、NiC
を連続的に還元する還元工程とを備え、該還元工程
において分圧0.5〜1.0のNiCl2ガスを還元炉
に備えられたノズルから1〜30m/秒の線速度で噴出
し、前記塩化工程に供給する塩素ガスの化学当量の1.
0〜3.0倍の前記水素ガスを、前記還元炉内に備えた
ノズルから前記NiCl ガスの噴出線速度の1/50
〜1/300の線速度で噴出することを特徴とする、平
均粒径0.1〜1.0μmの積層セラミックコンデンサ
内部電極形成用Ni粉末の製造方法。
1. A NiC obtained by bringing chlorine gas into contact with metallic Ni.
a chlorination step of generating l 2 gas continuously, the NiCl 2 gas produced in the chlorination step is contacted with hydrogen gas, NiC
and a reducing step of continuously reducing l 2 in which a partial pressure of 0.5 to 1.0 of NiCl 2 gas is jetted from a nozzle provided in the reducing furnace at a linear velocity of 1 to 30 m / sec.
However, the chemical equivalent of chlorine gas supplied to the chlorination step is 1.
The reduction furnace was equipped with 0 to 3.0 times the hydrogen gas.
1/50 of the linear velocity of the NiCl 2 gas ejected from the nozzle
A method for producing a Ni powder for forming an internal electrode of a laminated ceramic capacitor having an average particle diameter of 0.1 to 1.0 μm, characterized in that the powder is ejected at a linear velocity of ˜1 / 300 .
【請求項2】 前記還元工程で生成したNi粉末を含む
ガスを不活性ガスにより冷却する冷却工程を備えたこと
を特徴とする請求項1に記載のNi粉末の製造方法。
2. The method for producing Ni powder according to claim 1, further comprising a cooling step of cooling the gas containing the Ni powder generated in the reducing step with an inert gas.
【請求項3】 前記塩化工程に導入する塩素ガス流量を
調整することにより、Ni粉末の粒径を制御することを
特徴とする請求項1または2に記載のNi粉末の製造方
法。
3. The method for producing Ni powder according to claim 1, wherein the particle size of the Ni powder is controlled by adjusting the flow rate of chlorine gas introduced into the chlorination step.
【請求項4】 前記還元工程は、前記NiClガスを
水素雰囲気中に噴出させて行なうことを特徴とする請求
項1〜3のいずれかに記載のNi粉末の製造方法。
4. The method for producing Ni powder according to claim 1, wherein the reducing step is performed by ejecting the NiCl 2 gas into a hydrogen atmosphere.
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