JP3501057B2 - Manufacturing method of organic EL display device - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は有機ＥＬ（エレクト
ロルミネセンス）表示装置の製造方法に関する。更に詳
しくは、本発明は表示に必要な輝度を最小限にすること
で、有機ＥＬ素子の寿命短縮を抑制することができ、ま
た、配設や配線等の手間が掛からない有機ＥＬ表示装置
の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL (electroluminescence) display device. More specifically, the present invention can suppress the life shortening of the organic EL element by minimizing the brightness required for display, and the organic EL display device does not require the labor of arrangement and wiring.
Manufacturing method .
【０００２】[0002]
【従来の技術】車載用の表示装置（例えば、バックライ
ト付液晶表示装置、発光ダイオード表示装置、有機ＥＬ
表示装置等）は、昼間は必要なコントラストが得られ、
夜間はまぶしくないように、２段階以上の輝度を備え
る。また、有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ表示装置は自
発光で且つ高輝度であるが、より高輝度で発光する程寿
命が短くなるという問題がある。以上より、有機ＥＬ表
示装置が二段階の輝度切替のみである場合、図５に示す
ように、必要な輝度以上の輝度で発光することが多く、
寿命が短くなりがちであった。また、利用者がまぶしく
感じ、負担が掛かることがあった。このため、有機ＥＬ
表示装置は環境に応じた必要最小限の輝度で発光するこ
とが、長寿命化の点において望ましい。2. Description of the Related Art In-vehicle display devices (for example, liquid crystal display devices with backlight, light emitting diode display devices, organic EL devices)
Display devices, etc.) provide the necessary contrast during the day,
Equipped with two or more levels of brightness to prevent glare at night. Further, although the organic EL display device using the organic EL element is self-luminous and has high brightness, there is a problem that the life is shortened as the light is emitted with higher brightness. From the above, when the organic EL display device is only capable of switching the brightness in two stages, as shown in FIG. 5, light is often emitted at a brightness higher than the required brightness,
Life tended to be shortened. In addition, the user feels dazzling and may be burdened. Therefore, the organic EL
It is desirable for the display device to emit light with the minimum necessary brightness according to the environment in order to prolong the life.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
問題点を解決するものであり、環境に応じた必要最小限
度の輝度で発光するための有機ＥＬ表示装置の製造方法
を提供することを目的とする。The present invention solves such a problem, and a method of manufacturing an organic EL display device for emitting light with a minimum necessary brightness according to the environment. The purpose is to provide.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本第１発明の有機ＥＬ表
示装置の製造方法は、入射光を受光可能に形成された光
導電膜を内部に具備する有機ＥＬ素子と、該光導電膜に
配線され、該光導電膜が受光した該入射光の輝度より該
有機ＥＬ素子の発光輝度を調整する有機ＥＬ素子駆動回
路とを備える有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、上
記光導電膜と上記有機ＥＬ素子を構成する正孔注入層と
を同時形成することを特徴とする。Means for Solving the Problems Organic EL table of the first invention
The method of manufacturing the device shown in FIG.
An organic EL element having a conductive film inside and a photoconductive film
The brightness of the incident light received by the photoconductive film is
Organic EL element drive circuit for adjusting the emission brightness of the organic EL element
A method of manufacturing an organic EL display device, comprising:
A photoconductive film and a hole injection layer constituting the organic EL device
Is formed simultaneously .
【０００５】 本第２発明の有機ＥＬ表示装置の製造方
法は、入射光を受光可能に形成された光導電膜を内部に
具備する有機ＥＬ素子と、該光導電膜に配線され、該光
導電膜が受光した該入射光の輝度より該有機ＥＬ素子の
発光輝度を調整する有機ＥＬ素子駆動回路とを備える有
機ＥＬ表示装置の製造方法であって、上記有機ＥＬ素子
を構成する正孔注入層の形成用マスクパターンに上記光
導電膜のパターンを設けることにより、上記光導電膜と
上記正孔注入層とを同時形成することを特徴とする。 Method for manufacturing organic EL display device of the second invention
The method uses a photoconductive film that is formed so that it can receive incident light.
The organic EL element provided with the optical conductive film
Based on the brightness of the incident light received by the conductive film,
Provided with an organic EL element drive circuit for adjusting the emission brightness
EL display device manufacturing method, the method comprising:
The mask pattern for forming the hole injection layer that constitutes
By providing a conductive film pattern,
It is characterized in that the hole injection layer is formed at the same time .
【０００６】上記「有機ＥＬ表示装置」は透明基板上
に、透明電極と、有機ＥＬ膜と、背面電極とが、順次積
層され、光導電膜が形成されてなる有機ＥＬ素子を備え
る。上記「透明基板」としては、有機ＥＬ膜の発光によ
る文字、図形等の視認が損なわれない程度の透明性を有
する材質からなるものを使用することができる。そのよ
うな基板としては、無機ガラス、並びにポリオレフィ
ン、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、及
びアクリル樹脂等からなるもの等を用いることができ
る。この透明基板は無色透明であってもよいし、適宜の
色調に着色された着色透明のものであってもよい。The above-mentioned "organic EL display device" comprises an organic EL element in which a transparent electrode, an organic EL film, and a back electrode are sequentially laminated on a transparent substrate to form a photoconductive film. As the "transparent substrate", it is possible to use a substrate made of a material having transparency to such an extent that the visibility of characters, figures, etc. due to the light emission of the organic EL film is not impaired. As such a substrate, inorganic glass, substrates made of polyolefin, polyester, polyamide, polycarbonate, acrylic resin or the like can be used. This transparent substrate may be colorless and transparent, or may be a colored and transparent substrate colored in an appropriate color tone.
【０００７】上記「有機ＥＬ膜」は、透明電極及び背面
電極から供給される正孔及び電子を再結合させることで
発光する部位である。この有機ＥＬ膜は、少なくとも有
機蛍光性物質を具備する発光層を備える。また、発光層
に加えて正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子
注入層のうち少なくとも一層を備えることもできる。更
に、各層を構成する材料としては、それぞれ種々の公知
材料を用いることができる。これらの各層を形成する方
法は、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、スパ
ッタリング法、ＬＢ法等の方法を例示することができ
る。The above-mentioned "organic EL film" is a portion which emits light by recombining holes and electrons supplied from the transparent electrode and the back electrode. This organic EL film has a light emitting layer containing at least an organic fluorescent substance. Further, in addition to the light emitting layer, at least one of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer and an electron injection layer can be provided. Furthermore, various known materials can be used as the material forming each layer. Examples of the method for forming each of these layers include a vacuum vapor deposition method, a spin coating method, a casting method, a sputtering method, and an LB method.
【０００８】有機ＥＬ膜を構成する発光層は、ベンゾチ
アゾール系、ベンゾイミダゾール系等の蛍光増白剤、及
び金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼ
ン系化合物等の金属錯体等により形成することができ
る。また、正孔輸送層はトリフェニルアミン誘導体等に
より、電子輸送層はアルミキノリウム錯体等により形成
することができる。更に、正孔注入層は銅フタロシアニ
ン錯体等により、電子注入層はアルカリ金属のフッ化物
又は酸化物等により形成することができる。The light emitting layer constituting the organic EL film can be formed by a fluorescent whitening agent such as benzothiazole or benzimidazole, a metal complex such as a metal chelated oxinoid compound or a styrylbenzene compound. Further, the hole transport layer can be formed of a triphenylamine derivative or the like, and the electron transport layer can be formed of an aluminum quinolium complex or the like. Further, the hole injection layer can be formed of a copper phthalocyanine complex or the like, and the electron injection layer can be formed of an alkali metal fluoride or oxide.
【０００９】上記「透明電極」及び上記「背面電極」に
ついても、それぞれ種々の材質により形成することがで
きる。透明電極は、Ａｕ、Ｎｉ等の金属単体、及びＩＴ
Ｏ（Indium Tin Oxide）、ＣｕＩ、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等
の金属化合物等を使用して形成することができる。この
うち、生産性、安定した導電性等の観点からＩＴＯを用
いて形成することが特に好ましい。また、背面電極は、
Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｃｕ等の金属の他、Ｍｇ−Ａ
ｇ等の合金や、Ｍｇ及びＡｇの混合物等によって形成す
ることができる。The "transparent electrode" and the "back electrode" can also be made of various materials. The transparent electrode is a simple metal such as Au or Ni, and IT
It can be formed by using a metal compound such as O (Indium Tin Oxide), CuI, SnO 2 , and ZnO. Among these, it is particularly preferable to use ITO from the viewpoint of productivity, stable conductivity, and the like. Also, the back electrode is
In addition to metals such as Al, Au, Ag, Mg and Cu, Mg-A
It can be formed of an alloy such as g or a mixture of Mg and Ag.
【００１０】 上記「光導電膜」は、受光した光の輝度
に応じて電気抵抗値が変化する光導電体の薄膜である。
この光導電膜についても、それぞれ種々の材質により形
成することができる。この例として銅フタロシアニン錯
体、セレン、硫化カドミウム等を挙げることができる。
これらのうち、銅フタロシアニン錯体が好ましい。銅フ
タロシアニン錯体は正孔注入層に用いることができ、正
孔注入層及び光導電膜を同時形成することができるため
である。上記光導電膜は、上記有機ＥＬ素子を構成する
正孔注入層と同時に形成する。例えば、上記光導電膜
は、上記正孔注入層の形成用マスクパターンに上記光導
電膜のパターンを設けることにより、上記正孔注入層と
同時に形成する。更に、光導電膜を配設する場所は、入
射光が受光可能な、有機ＥＬ素子内であれば任意に選択
することができる。The “photoconductive film” is a thin film of a photoconductor whose electric resistance value changes according to the brightness of the received light.
This photoconductive film can also be formed of various materials. Examples of this include copper phthalocyanine complex, selenium, and cadmium sulfide.
Of these, copper phthalocyanine complex is preferable. This is because the copper phthalocyanine complex can be used for the hole injecting layer and the hole injecting layer and the photoconductive film can be simultaneously formed. The light conductive film is formed simultaneously with the hole injection layer that constitutes the organic EL element. For example, the photoconductive film, by providing a pattern of the photoconductive layer to form a mask pattern of the hole injection layer is formed on <br/> simultaneously with the hole injection layer. Further, the location where the photoconductive film is provided can be arbitrarily selected as long as it is within the organic EL element capable of receiving incident light.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下、図１〜図７を用いて本発明
の有機ＥＬ表示装置の製造方法を実施例により説明す
る。
（１）有機ＥＬ表示装置の構成
本有機表示装置は図１に示すように、互いに接続された
有機ＥＬ素子１及び有機ＥＬ素子駆動回路２を備える。
ａ）有機ＥＬ素子の構成
有機ＥＬ素子１は図１及び２に示すように、ガラス製の
透明基板３、ＩＴＯ薄膜からなる陽極である透明電極４
１、有機ＥＬ薄膜４２、Ａｌ薄膜からなる陰極である背
面電極４３、光導電膜５、及び封止部材６を備えた７セ
グメント表示素子である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a method for manufacturing an organic EL display device of the present invention will be described with reference to Examples with reference to FIGS. (1) Structure of Organic EL Display Device As shown in FIG. 1, the present organic display device includes an organic EL element 1 and an organic EL element drive circuit 2 which are connected to each other. a) Structure of Organic EL Element As shown in FIGS. 1 and 2, the organic EL element 1 includes a transparent substrate 3 made of glass and a transparent electrode 4 which is an anode made of an ITO thin film.
1. A 7-segment display element including an organic EL thin film 42, a back electrode 43 which is a cathode made of an Al thin film, a photoconductive film 5, and a sealing member 6.
【００１２】有機ＥＬ薄膜４２は透明電極４１側から順
に、銅フタロシアニン錯体からなる正孔注入層４２１、
ＴＰＴＥ（トリフェニルアミンの４量体）からなる正孔
輸送層４２２、アルミキノリウム錯体をホストとしキナ
クリドンをドーピングした発光層４２３、アルミキノリ
ウム錯体からなる電子輸送層４２４、及びＬｉＦからな
る電子注入層４２５等の各層を順次積層して構成される
薄膜である。The organic EL thin film 42 comprises a hole injection layer 421 made of a copper phthalocyanine complex in order from the transparent electrode 41 side.
Hole transport layer 422 made of TPTE (triphenylamine tetramer), light emitting layer 423 doped with quinacridone using aluminum quinolium complex as a host, electron transport layer 424 made of aluminum quinolium complex, and electron injection made of LiF. It is a thin film formed by sequentially laminating each layer such as the layer 425.
【００１３】光導電膜５は図１及び２に示すように、透
明基板３の表面に形成されており、透明電極４１と同材
料のＩＴＯ薄膜からなる配線５１によって配線されてい
る。更に、この光導電膜５は、正孔注入層４２１と同材
料である銅フタロシアニン錯体の薄膜であり、正孔注入
層４２１の蒸着形成と同時に形成されている。また、銅
フタロシアニン錯体は、図４に示すように、入射した光
が高輝度であるほど電気抵抗値が低くなる光導電体であ
る。As shown in FIGS. 1 and 2, the photoconductive film 5 is formed on the surface of the transparent substrate 3 and is wired by a wiring 51 made of an ITO thin film made of the same material as the transparent electrode 41. Further, the photoconductive film 5 is a thin film of a copper phthalocyanine complex that is the same material as the hole injection layer 421, and is formed at the same time as the hole injection layer 421 is formed by vapor deposition. Further, as shown in FIG. 4, the copper phthalocyanine complex is a photoconductor whose electric resistance value decreases as the incident light has higher brightness.
【００１４】封止部材６は、各電極４１、４３及び有機
ＥＬ薄膜４２を酸素や水等に接触させないように密閉す
るためのものであり、金属や樹脂等からなり、有機ＥＬ
薄膜４２、背面電極４３及び光導電膜５を封止するため
の凹部空間を有するキャップ状体である。また、封止部
材６は、接着層６１により透明基板３の表面に固定され
ている。The sealing member 6 is for sealing the electrodes 41, 43 and the organic EL thin film 42 so as not to come into contact with oxygen, water, etc., and is made of metal, resin, etc.
It is a cap-shaped body having a recess space for sealing the thin film 42, the back electrode 43, and the photoconductive film 5. The sealing member 6 is fixed to the surface of the transparent substrate 3 by the adhesive layer 61.
【００１５】このような光導電膜５を備える有機ＥＬ素
子１は、素子１内の光導電膜５を用いて駆動電流を変
え、発光輝度の調整を行うことができるため、素子１周
囲の輝度変化に応じて、発光輝度の調整を行うことがで
きる。In the organic EL element 1 provided with such a photoconductive film 5, since the drive current can be changed by using the photoconductive film 5 in the element 1 to adjust the emission brightness, the brightness around the element 1 can be adjusted. The emission brightness can be adjusted according to the change.
【００１６】b)有機ＥＬ素子の作製方法
このような有機ＥＬ素子１は以下のようにして作製され
る。まず、透明基板３の表面に透明電極４１としてＩＴ
Ｏ薄膜をスパッタリング等の方法により形成した。この
際に、光導電膜５のための配線５１等も同時に形成し
た。次いで、透明基板３の表面に有機ＥＬ薄膜４２の各
層（正孔注入層４２１、正孔輸送層４２２、発光層４２
３、電子輸送層４２４、及び電子注入層４２５）を真空
蒸着により形成した。また、正孔注入層４２１の形成用
マスクパターンに光導電膜５のパターンを設けること
で、正孔注入層４２１及び光導電膜５は、同時に形成し
た。その後、有機ＥＬ薄膜４２の表面に背面電極４３と
してＡｌ薄膜を蒸着形成した。次いで、封止部材６を接
着剤によって透明基板３に接合し、透明電極４１、有機
ＥＬ薄膜４２、背面電極４３及び光導電膜５を封止し、
有機ＥＬ素子１を作製した。B) Method of Manufacturing Organic EL Element Such an organic EL element 1 is manufactured as follows. First, IT is formed on the surface of the transparent substrate 3 as the transparent electrode 41.
The O thin film was formed by a method such as sputtering. At this time, the wiring 51 and the like for the photoconductive film 5 were also formed at the same time. Next, each layer of the organic EL thin film 42 (hole injection layer 421, hole transport layer 422, light emitting layer 42) is formed on the surface of the transparent substrate 3.
3, the electron transport layer 424, and the electron injection layer 425) were formed by vacuum evaporation. Further, the hole injection layer 421 and the photoconductive film 5 were simultaneously formed by providing the pattern of the photoconductive film 5 on the mask pattern for forming the hole injection layer 421. Then, an Al thin film was formed as a back electrode 43 on the surface of the organic EL thin film 42 by vapor deposition. Next, the sealing member 6 is bonded to the transparent substrate 3 with an adhesive to seal the transparent electrode 41, the organic EL thin film 42, the back electrode 43 and the photoconductive film 5,
The organic EL device 1 was produced.
【００１７】c)有機ＥＬ素子駆動回路の構成
輝度測定工程及び輝度調整工程である有機ＥＬ素子駆動
回路２の回路例を図３に示す。この回路は図３に示すよ
うに、光導電膜５の電気抵抗値に比例して有機ＥＬ素子
１の駆動電流が変化する定電流回路である。C) Structure of organic EL element drive circuit FIG. 3 shows an example of the circuit of the organic EL element drive circuit 2 which is a luminance measuring step and a luminance adjusting step. As shown in FIG. 3, this circuit is a constant current circuit in which the drive current of the organic EL element 1 changes in proportion to the electric resistance value of the photoconductive film 5.
【００１８】（３）有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ表示装置
の効果
このような有機ＥＬ素子の輝度調整方法及びそれを用い
た表示装置は、光導電膜５によって調整された有機ＥＬ
素子１の定電流駆動を行うことで、有機ＥＬ素子１に入
射する入射光の輝度変化に応じて、発光輝度を調整し、
必要な輝度を維持することができる。(3) Effects of Organic EL Element and Organic EL Display Device Such a method for adjusting the brightness of an organic EL element and a display device using the same include an organic EL element adjusted by a photoconductive film 5.
By performing the constant current drive of the element 1, the emission brightness is adjusted according to the change in the brightness of the incident light entering the organic EL element 1,
The required brightness can be maintained.
【００１９】つまり、図４に示すように、光導電膜の電
気抵抗値は入射光が高輝度になるにつれて低くなる。こ
のような光導電膜を図３に示すような有機ＥＬ素子駆動
回路２に接続することで、入射光が高輝度になるほど有
機ＥＬ素子の駆動電流を増やすことができる。このた
め、図５に示すように、入射光が高輝度になるほど有機
ＥＬ素子の発光輝度を高輝度にすることができ（同図、
(a)参照）、必要輝度を保つことができる。これによっ
て、有機ＥＬ表示装置周辺の明るさが変わっても、利用
者の目の負担を掛けずに表示内容を視認することがで
き、更に、従来例（同図、(b)、(c)参照）に示すように
過分な輝度で発光しないので寿命の短縮を防ぐことがで
きる。That is, as shown in FIG. 4, the electric resistance value of the photoconductive film becomes lower as the incident light becomes brighter. By connecting such a photoconductive film to the organic EL element drive circuit 2 as shown in FIG. 3, the drive current of the organic EL element can be increased as the incident light becomes brighter. Therefore, as shown in FIG. 5, the emission brightness of the organic EL element can be increased as the incident light becomes higher in brightness (see FIG.
(See (a)), the required brightness can be maintained. As a result, even if the brightness around the organic EL display device changes, the displayed content can be visually recognized without burdening the user's eyes, and further, the conventional example (the same figure, (b), (c)). As shown in (1), light emission does not occur with excessive brightness, so that shortening of life can be prevented.
【００２０】また、有機ＥＬ素子１内に光導電膜５を備
えるため、新たに輝度計測用の素子を設ける必要がな
く、有機ＥＬ素子１の大きさのみの容積を確保するだけ
でよい。更に、光導電膜５は正孔注入層４２１と同材質
である銅フタロシアニン錯体を用いたので、正孔注入層
４２１と同時に形成することができる。また、透明電極
４１及び正孔注入層４２１を蒸着形成するためのマスク
パターンの変更のみで形成することができるため、光導
電膜５を備えない有機ＥＬ素子１と同様の工程で作製す
ることができ、コスト増となることがない。Further, since the photoconductive film 5 is provided in the organic EL element 1, it is not necessary to newly provide an element for measuring the brightness, and it is sufficient to secure the volume of only the size of the organic EL element 1. Furthermore, since the photoconductive film 5 uses the copper phthalocyanine complex which is the same material as the hole injection layer 421, it can be formed simultaneously with the hole injection layer 421. In addition, since the transparent electrode 41 and the hole injection layer 421 can be formed only by changing the mask pattern for vapor deposition, the organic EL device 1 without the photoconductive film 5 can be manufactured in the same process. This can be done without increasing the cost.
【００２１】尚、本発明においては、上記実施例に限ら
ず、目的、用途に応じて本発明の範囲内で種々変更した
実施例とすることができる。即ち、有機ＥＬ素子は実施
例に示したセグメント式だけではなく、ドットマトリク
ス式としてもよいし、単一素子とすることもできる。更
に、光導電膜５は、実施例に示した蒸着による形成ばか
りではなく、スパッタリング、印刷又はエッチング等に
よって形成することができる。The present invention is not limited to the above embodiment, but may be variously modified within the scope of the present invention depending on the purpose and application. That is, the organic EL element may be not only the segment type shown in the embodiment but also a dot matrix type, or a single element. Furthermore, the photoconductive film 5 can be formed not only by the vapor deposition shown in the embodiment but also by sputtering, printing, etching or the like.
【００２２】また、有機ＥＬ素子駆動回路２は、図３に
示す回路に限らず、任意に選択することができる。例え
ば、光導電膜５の電気抵抗をデジタル値として求め、コ
ンピュータを含む論理回路を用いて、図６(a)に示すよ
うな多段で階段状の輝度変化をさせるような有機ＥＬ素
子駆動回路とすることができる。更に、パルス幅変調に
よって有機ＥＬ素子の駆動電流を調整することで、発光
輝度を調整することができる。また、有機ＥＬ素子の駆
動電流を自由に決定するために、光導電膜５の電気抵抗
値と、駆動電流の換算表等を用意し、この換算表によっ
て駆動電流を決定することができる。The organic EL element drive circuit 2 is not limited to the circuit shown in FIG. 3 and can be arbitrarily selected. For example, an electric resistance of the photoconductive film 5 is obtained as a digital value, and a logic circuit including a computer is used to form an organic EL element drive circuit for changing the luminance in a stepwise manner as shown in FIG. can do. Further, the emission brightness can be adjusted by adjusting the drive current of the organic EL element by pulse width modulation. Further, in order to freely determine the drive current of the organic EL element, a conversion table of the electric resistance value of the photoconductive film 5 and the drive current is prepared, and the drive current can be determined by this conversion table.
【００２３】更に、実施例では、有機ＥＬ素子駆動回路
２で輝度測定工程及び輝度調整工程を構成していたが、
分離してもよい。また、輝度測定工程及び輝度調整工程
は、いずれか又は両方を有機ＥＬ素子外に設けることが
できるし、有機ＥＬ素子内に設けることもできる。Further, in the embodiment, the organic EL element drive circuit 2 constitutes the brightness measuring step and the brightness adjusting step.
You may separate. Further, either or both of the luminance measuring step and the luminance adjusting step can be provided outside the organic EL element, or can be provided inside the organic EL element.
【００２４】更に、光導電膜５は、実施例に示す銅フタ
ロシアニン錯体ばかりではなく、図４と同様に、入射光
が高輝度であるほど低抵抗となる任意の材質（例えば、
セレンや硫化カドミウム等）を用いることができる。ま
た、入射光が高輝度であるほど高抵抗となる任意の材質
を使用することができる。尚、後者の場合は、有機ＥＬ
素子駆動装置に用いる回路として図６に例示される回路
を挙げることができる。更に、光導電膜５は、光の入射
によって起電力を生ずる任意の光電池素子を用いること
ができる。また、光導電膜５は、複数の材質の混合物と
してもよいし、輝度の特性が異なる複数の膜を接続して
用いることもできる。Further, the photoconductive film 5 is not limited to the copper phthalocyanine complex shown in the embodiment, and as in the case of FIG.
Selenium, cadmium sulfide, etc.) can be used. Further, any material that has higher resistance as the incident light has higher brightness can be used. In the latter case, organic EL
As a circuit used in the element driving device, the circuit illustrated in FIG. 6 can be given. Furthermore, as the photoconductive film 5, any photovoltaic cell element that generates an electromotive force by incidence of light can be used. Further, the photoconductive film 5 may be a mixture of a plurality of materials, or a plurality of films having different luminance characteristics may be connected and used.
【００２５】[0025]
【発明の効果】本各発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法
によれば、有機ＥＬ表示装置への入射光の輝度に応じ
て、必要な発光輝度を変えることができるので、利用者
の目に負担を掛けることなく、有機ＥＬ素子の長寿命化
を図ることができる。また、光導電膜を有機ＥＬ素子内
に設けることで、配設や配線等の手間が掛からず、工程
を増やすことなく有機ＥＬ素子を作製することができ
る。According to the method of manufacturing an organic EL display device of the present invention, the required emission brightness can be changed according to the brightness of the incident light to the organic EL display device, and therefore, it can be used. It is possible to extend the life of the organic EL element without burdening the eyes of a person. Further, by providing the photoconductive film in the organic EL element, it is possible to fabricate the organic EL element without increasing the steps such as disposition and wiring.
【図１】本実施例の有機ＥＬ表示装置を説明するための
模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an organic EL display device of this embodiment.
【図２】本実施例の有機ＥＬ素子において、素子内の構
造を説明するための断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the internal structure of the organic EL element of this example.
【図３】本実施例の有機ＥＬ素子駆動回路の回路例を示
す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a circuit example of an organic EL element drive circuit of this embodiment.
【図４】銅フタロシアニン錯体の入射光の輝度と電気抵
抗値の変化の関係を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing the relationship between the brightness of incident light and the change in electric resistance of a copper phthalocyanine complex.
【図５】入射光の輝度の変化に対する、本実施例の有機
ＥＬ表示装置の発光輝度、必要輝度、及び従来の表示装
置の発光輝度の関係を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing the relationship between the emission brightness of the organic EL display device of the present embodiment, the required brightness, and the emission brightness of the conventional display device with respect to changes in the brightness of incident light.
【図６】入射光の輝度の変化に対する、参考例の有機Ｅ
Ｌ表示装置の発光輝度、及び必要輝度の関係を示すグラ
フである。FIG. 6 shows an organic E of a reference example with respect to a change in brightness of incident light.
It is a graph which shows the light emission luminance of L display device, and the relationship of required luminance.
【図７】高輝度になる程高抵抗となる光導電膜を備える
有機ＥＬ素子を駆動するための有機ＥＬ素子駆動回路の
回路例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing a circuit example of an organic EL element drive circuit for driving an organic EL element provided with a photoconductive film having higher resistance as the luminance becomes higher.
１；有機ＥＬ素子、２；有機ＥＬ素子駆動回路、３；透
明基板、４１；透明電極、４２；有機ＥＬ薄膜、４２
１；正孔注入層、４２２；正孔輸送層、４２３；発光
層、４２４；電子輸送層、４２５；電子注入層、４３；
背面電極、５；光導電膜、６；封止部材。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1; Organic EL element, 2; Organic EL element drive circuit, 3; Transparent substrate, 41; Transparent electrode, 42; Organic EL thin film, 42
1; hole injection layer, 422; hole transport layer, 423; light emitting layer, 424; electron transport layer, 425; electron injection layer, 43;
Back electrode, 5; photoconductive film, 6; sealing member.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｂ 33/08 Ｈ０５Ｂ 33/08 33/14 33/14 Ａ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H05B 33/08 H05B 33/08 33/14 33/14 A
Claims (2)
を内部に具備する有機ＥＬ素子と、該光導電膜に配線さ
れ、該光導電膜が受光した該入射光の輝度より該有機Ｅ
Ｌ素子の発光輝度を調整する有機ＥＬ素子駆動回路とを
備える有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、上記光導
電膜と上記有機ＥＬ素子を構成する正孔注入層とを同時
形成することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方
法。 1. A photoconductive film formed to receive incident light.
And an organic EL element having a
The brightness of the incident light received by the photoconductive film is higher than the brightness of the organic E
An organic EL element drive circuit that adjusts the emission brightness of the L element
A method for manufacturing an organic EL display device, comprising:
Simultaneously with the electrolysis film and the hole injection layer constituting the organic EL device
Method of manufacturing organic EL display device characterized by forming
Law.
を内部に具備する有機ＥＬ素子と、該光導電膜に配線さ
れ、該光導電膜が受光した該入射光の輝度より該有機Ｅ
Ｌ素子の発光輝度を調整する有機ＥＬ素子駆動回路とを
備える有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、上記有機
ＥＬ素子を構成する正孔注入層の形成用マスクパターン
に上記光導電膜のパターンを設けることにより、上記光
導電膜と上記正孔注入層とを同時形成することを特徴と
する有機ＥＬ表示装置の製造方法。 2. A photoconductive film formed so as to be able to receive incident light.
And an organic EL element having a
The brightness of the incident light received by the photoconductive film is higher than the brightness of the organic E
An organic EL element drive circuit that adjusts the emission brightness of the L element
A method for manufacturing an organic EL display device, comprising:
Mask pattern for forming hole injection layer constituting EL element
By providing the pattern of the photoconductive film on
The conductive film and the hole injection layer are formed simultaneously.
A method of manufacturing an organic EL display device.
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|---|---|---|---|
| JP36138799A JP3501057B2 (en) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | Manufacturing method of organic EL display device |
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