JP3493874B2 - Helium leak test equipment - Google Patents

Helium leak test equipment

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JP3493874B2
JP3493874B2 JP05027096A JP5027096A JP3493874B2 JP 3493874 B2 JP3493874 B2 JP 3493874B2 JP 05027096 A JP05027096 A JP 05027096A JP 5027096 A JP5027096 A JP 5027096A JP 3493874 B2 JP3493874 B2 JP 3493874B2
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helium
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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、密閉容器の漏れの
有無やICのクラックの有無等を検査する上で有用とな
るヘリウムリークテスト装置に関するものである。 【0002】 【従来の技術】封止検査や密閉検査を行うための有力な
手段の一つにヘリウムリークテスト装置がある。図3は
その基本構成を示すもので、ヘリウムのみを検出する質
量分析部(ANAL)1と、被測定物たるワークWを収
容するチャンバ2と、前記質量分析部1及びチャンバ2
を真空排気する排気手段たる油回転真空ポンプ(RP)
3及びターボ分子ポンプ(TMP)4と、チャンバ2内
をベントするための大気開放部5と、これら質量分析部
1、チャンバ2、RP3、TMP4及び大気開放部5の
間を相互に関連づける切替回路6と、この切替回路6を
制御する制御手段たるマイクロコンピュータユニット7
とを備えている。 【0003】切替回路6は、チャンバ2とRP3の間を
直接連通させる粗引きライン61を主体として構成さ
れ、ワークWはこの粗引きライン61の始端61aに着
脱可能で且つ接続部が気密状態となるように取り付けら
れる。粗引きライン61の途中には第1の排気バルブB
Vが介設され、この第1の排気バルブBVよりも下流側
の粗引きライン61の末端61bにRP3の吸気口3a
を接続すると共に、前記第1の排気バルブBVよりも上
流側の粗引きライン61から分岐させたライン62にテ
ストバルブTVを介して分析管1とTMP4の吸気口4
aとを並列に接続している。また、TMP4の排気口4
bを、第2の排気バルブFVを介設したライン63を通
じてRP3の吸気口3aに接続している。さらに、粗引
きライン61の始端61a付近に、リークバルブLVを
介設したリークライン64を通じて大気開放部5を接続
し、その直ぐ下流において粗引きライン61にピラニー
真空計(PM)8を設けている。 【0004】マイクロコンピュータユニット7は、CP
U71、メモリ72及びインターフェース73を具備し
てなる一般的なもので、そのメモリ72内には所定のプ
ログラムが格納されている。CPU71は、そのプログ
ラムに従って前記ピラニー真空計8から粗引きライン6
1の検出圧力Pを入力し、これに基づいて前記切替回路
6の各バルブBV、FV、TV、LVに所定の制御信号
a、b、c、dを出力するように構成されている。 【0005】図4はその制御の概要を示すフローチャー
トであり、図5〜図8は排気状態を示す模式的な回路図
である。以下、これらのフローチャート及び回路図に沿
って、その制御の概要を説明する。先ず、図4におい
て、スタート時点ではRP3及びTMP4の電源が投入
されているものとする。このスタート時点から、ステッ
プ11で第1の排気バルブBV、リークバルブLVおよ
びテストバルブTVを閉、第2の排気バルブFVを開に
する。これにより、図5に太線で示す排気ラインが構成
され、質量分析部1はTMP4によって真空に引かれ、
RP3はこのときTMP4のバックポンプとして機能す
る。この間、CPU71はステップ12でリークテスト
装置の立ち上げが完了したかどうか、つまり質量分析部
1が所定の真空度に排気されてその指示値が一定のバッ
クグランド値以下に下がったかどうかを判断し、YES
と判断した場合に、ステップ13でリークテストを行う
か否かの意思表示を作業員に求める。この装置は、作業
員が適宜の入力手段を通じてその入力を行い得るように
構成されており、作業員がこのYESの意思表示を行う
場合には、その時までにチャンバ2にヘリウムを封入し
たワークWを挿入しておく。そして、このYESの意思
表示があると、CPU71はステップ14に移って第2
の排気バルブFVを閉、第1の排気バルブBVを開にす
る。これにより、図6に太線で示す排気ラインが構成さ
れ、質量分析部1を真空に保持したままで、チャンバ2
内の排気を開始する。その後、CPU71はステップ1
5で真空計8の検出圧力Pが予め定めた設定圧力P2
下回ったか否かを監視する。この設定圧力P2は、チャ
ンバ2内がリークテストを始めるに相応しい減圧状態に
なったか否かを判断する目安となる敷居値で、例えば2
Pa程度に設定される。そして、この条件が満たされた
とき、ステップ16に移って第1の排気バルブBVを
閉、第2の排気バルブFVを開、テストバルブTVを開
にする。これにより、図7に太線で示すように、チャン
バ2から質量分析部1に向かうラインがTMP4及びR
P3によって真空に引かれ、このとき被測定物Wからヘ
リウムの漏れがあれば、質量分析部1はヘリウムを検出
し、その漏れ量を示す。CPU71はこのとき並行して
ステップ17で判定が完了したか否かを測定値の安定度
等を目安として判断しており、完了と判断した場合に
は、ステップ18に移ってテストバルブTVを閉、リー
クバルブLVを開にする。これにより、図8に太線で示
す排気ラインを維持しつつ、図中網掛けの太線で示すリ
ークラインを構成してチャンバ2内をベントする。この
間、CPU71はステップ19で真空計8の圧力が予め
定めた設定値P0を上回ったかどうかを監視しており、
上回ったと判断した場合にはステップ20でリークバル
ブLVを閉にして図5に示す状態に戻った後、ステップ
21で再テストを行うかどうかを作業者に求める。前記
設定値P0はチャンバ2内を開放してワークWを取り出
せる程度の圧力、例えば1×105Pa程度に設定され
ている。作業者が前記ステップ21でYESと回答する
と、CPU71はステップ14の手間に戻り、再び同じ
手順に従ってリークテストを実行する。再テストを行う
場合には、作業者は回答前にチャンバ2内のワークWを
入れ替えておく。また、NOと回答した場合には、ステ
ップ22で第2の排気バルブFVを閉にして、リークテ
ストを終える。なお、前記ステップ13でリークテスト
を行わない場合には、NOと回答することによってこの
ステップ22の手前にジャンプすることができる。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】ところが、以上のよう
な従来のリークテスト装置では、質量分析部1における
検出に誤判定が生じ易いという問題がある。すなわち、
一般にワークWをチャンバ2内に収容した状態で、ワー
クWの表面にはヘリウム封入作業時のヘリウムが吸着し
ている場合があり、また、チャンバ2内にも前回のリー
クテスト時に放出されたヘリウムが付着して残留してい
る場合もある。特に、ワークWが比較的大きいものであ
ったり、前回の測定時にグロスリークを発生したような
ときには、そのような状態が顕著である。そして、この
状態のままでリークテストを開始すると、ステップ16
において図7に示す排気ラインが構成されている段階
で、そのヘリウムが質量分析部1に回り込み、ワークW
自体に漏れがない場合でも質量分析部1が余剰な漏れを
検出して、漏れと判断することがある。このような事情
から、従来のヘリウムリークテスト装置は、測定精度を
向上させることが難しいものとなっている。また、この
ようなヘリウムの存在は、ステップ14における図6の
排気時間を長引かせるので、リークテストの大幅な効率
低下が生じる原因となっている。 【0007】 【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明は、チャンバ内を粗引きしている途中
で、一旦その粗引きを中断してチャンバ内に大気を導入
し、再び粗引きを開始することとしている。このため、
漏れ以外の原因でチャンバ内に残留するヘリウムをこの
ときの大気導入によってフラッシングし、チャンバ外に
排出することができる。 【0008】 【発明の実施の形態】本発明は、ヘリウムのみを検出す
る質量分析部と、被測定物を収容するチャンバと、前記
質量分析部及びチャンバを真空排気するための排気手段
と、チャンバ内をベントするための大気開放部と、これ
ら質量分析部、チャンバ、排気手段及び大気開放部の間
を相互に関連づける切替回路と、この切替回路を制御す
る制御手段とを具備してなり、この制御手段が、チャン
バに対して大気開放部を遮断し排気手段を接続して粗引
きしている状態から、一旦排気手段を遮断して大気開放
部を接続し、しかる後、再び大気開放部を遮断して排気
手段を接続する制御を行うように構成されていることを
特徴とする。 【0009】このような構成のものであれば、チャンバ
内は一定の粗引き工程後に一旦大気開放され、その際に
チャンバ内に勢いよく大気が導入されるため、その際に
チャンバ内壁や被測定物の表面が効果的にフラッシング
され、それらの部位に付着しているヘリウムが吹き飛ば
されてチャンバ内に拡散することになる。そして、その
後再び粗引きを開始したときに、そのヘリウムが排気手
段を通じてチャンバ外に有効に排出されることになる。 【0010】 【実施例】以下、本発明の一実施例を、図1及び図2を
参照して説明する。なお、図3〜図8と共通する部分に
は同一符号を付し、説明を省略する。図2に示すヘリウ
ムリークテスト装置は、見掛け上、図3に示した従来の
ものと同様の構成から成るが、図1及び図4のフローチ
ャートを対比しても明らかなように、制御手段たるマイ
クロコンピュータシステム7のCPU71がステップ1
4、15の間において新たなステップD〜Gを実行する
ように構成されている点が大きく相違するものである。 【0011】すなわち、ステップ14において図6に太
線で示す粗引きラインが構成された後、そのままステッ
プ15で検出圧力PがP2を下回るまで待つのではな
く、それよりも若干真空度の低い設定圧力P1(例えば
1×104Pa程度)を下回るか否かをステップDで判
断し、YESの場合にステップEに移って第1の排気バ
ルブBVを閉にし、粗引きを一旦中断するとともに、リ
ークバルブLVを開にする制御を行う。これにより、図
2に示すように質量分析部1に対する排気を維持しつ
つ、同図中網掛けの太線で示すようなリークラインが構
成され、大気開放部5を通じてチャンバ2に対するベン
トが行われる。そして、CPU71はステップFで大気
よりも若干低く設定した圧力P0(例えば1×105Pa
程度)を上回ったか否かを判断し、YESの場合にステ
ップGに移ってリークバルブLVを閉、第1の排気バル
ブBVを開にし、図6に示す排気状態に戻ってRPによ
る粗引きを再開する。 【0012】このため、この間にチャンバ2内における
残留ヘリウムの放出が効果的に行われることとなる。す
なわち、ステップD〜Gを粗引き途中に実行することに
よって、チャンバ2内は一定の粗引き工程後に一旦大気
開放され、その際にチャンバ2内に勢いよく大気が導入
され、その際にチャンバ2の内壁やワークWの表面に対
するフラッシング作用が営まれることになる。そして、
そのフラッシング作用によってチャンバ2の内壁やワー
クWの表面に付着しているヘリウムが吹き飛ばされてチ
ャンバ2内に拡散することになる。このため、その後再
び粗引きを開始したときに、そのヘリウムをRP3を通
じてチャンバ2外に有効に排出することができる。 【0013】このような工程は、従来の工程に比べてス
テップD〜Gが余分に入り込んでいる分だけ処理時間が
長引くように思われるが、実際には残留ヘリウムの除去
が粗引きのみによる場合に比べてより効果的に進行し、
ステップ15までの粗引きライン61の排気がより短時
間で完了するため、却って処理時間の短縮につながるも
のである。適用対象によってその効果はまちまちである
が、本発明者は平均的な値としてその粗引き時間を従来
に比べて半分程度に削減できる効果があることを確認し
ている。 【0014】以上のようにして、本実施例のヘリウムリ
ークテスト装置は、ワークWにヘリウムを封入する際に
その表面に付着したヘリウムや、チャンバ2内に前回の
リークテスト時に残留したヘリウムがあっても、それら
を短時間のうちにチャンバ2外に効率よく排出していち
早くリークテスト可能な状態に移行することができるの
で、粗引き工程に要する時間が従来に比べて短縮される
だけでなく、質量分析部1が残留ヘリウムを検出するこ
ともなくなり、リークテストの精度を低下させることな
くその効率を従来に比べて飛躍的に向上させることがで
きるという優れた効果を奏するものとなる。 【0015】なお、各部の具体的な構成は、上述した実
施例のみに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸
脱しない範囲で種々変形が可能である。例えば、前記実
施例では粗引き途中にチャンバ内をベントするために通
常のリークラインを利用したが、別途のリークラインを
構成しても構わない。この場合には、導入される大気が
ワークに直接吹き付けられるように接続部の向きを適宜
に設定したり、あるいはチャンバ内にノズルを設けて噴
出させるようにしてもよい。また、大気導入は間欠的な
パルスによって行うことも有効となる。さらに、上記実
施例ではワークの密閉度を検出する為に本発明を適用し
たが、ICのクラックの有無を検出する手法(ヘリウム
ボンビング)に適用しても有用なものとなる。 【0016】 【発明の効果】本発明は、以上説明した形態で実施さ
れ、以下に記載されるような効果を奏する。すなわち、
本発明のヘリウムリークテスト装置は、チャンバ内を粗
引きしている途中で、一旦その粗引きを中断してチャン
バ内に大気を導入するようにしたので、単にチャンバ内
の粗引きを続行する場合に比べてチャンバ内に残留する
ヘリウムをより短時間で排出することができる。このた
め、ワーク表面等に付着したヘリウムが質量分析部にお
いて漏れとして検出される不具合を防止でき、リークテ
ストの精度を低下させることなくその効率を有効に向上
させることができるという優れた効果を奏するものとな
る。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a helium leak test apparatus useful for inspecting a sealed container for leaks, IC cracks, and the like. . A helium leak test apparatus is one of the most effective means for performing a sealing test or a sealing test. FIG. 3 shows the basic structure of the mass spectrometer (ANAL) 1 for detecting only helium, a chamber 2 for accommodating a workpiece W to be measured, the mass spectrometer 1 and the chamber 2.
Oil rotary vacuum pump (RP) as an evacuation means for evacuating oil
3 and a turbo molecular pump (TMP) 4, an atmosphere opening section 5 for venting the inside of the chamber 2, and a switching circuit for interconnecting the mass spectrometry section 1, the chamber 2, the RP 3, the TMP 4 and the atmosphere opening section 5. And a microcomputer unit 7 serving as control means for controlling the switching circuit 6.
And The switching circuit 6 is mainly composed of a roughing line 61 for directly communicating between the chamber 2 and the RP 3, and the work W can be attached to and detached from a starting end 61 a of the roughing line 61, and the connection portion is in an airtight state. It is attached to become. In the course of the roughing line 61, the first exhaust valve B
V, an intake port 3a of RP3 is provided at an end 61b of the roughing line 61 downstream of the first exhaust valve BV.
And a test valve TV connected to a line 62 branched from a roughing line 61 upstream of the first exhaust valve BV.
and a are connected in parallel. Also, the exhaust port 4 of TMP4
b is connected to the intake port 3a of the RP3 through a line 63 provided with a second exhaust valve FV. Further, the atmosphere opening portion 5 is connected to the vicinity of the starting end 61a of the roughing line 61 through a leak line 64 provided with a leak valve LV, and a Pirani vacuum gauge (PM) 8 is provided in the roughing line 61 immediately downstream thereof. I have. The microcomputer unit 7 has a CP
It is a general one comprising a U71, a memory 72 and an interface 73, in which a predetermined program is stored. The CPU 71 sends the roughing line 6 from the Pirani vacuum gauge 8 according to the program.
1 is inputted, and based on the detected pressure P, predetermined control signals a, b, c, d are output to the valves BV, FV, TV, LV of the switching circuit 6. FIG. 4 is a flowchart showing the outline of the control, and FIGS. 5 to 8 are schematic circuit diagrams showing the exhaust state. Hereinafter, the outline of the control will be described with reference to these flowcharts and circuit diagrams. First, in FIG. 4, it is assumed that the power of the RP3 and the TMP4 is turned on at the start time. From this start point, in step 11, the first exhaust valve BV, the leak valve LV, and the test valve TV are closed, and the second exhaust valve FV is opened. As a result, an exhaust line shown by a thick line in FIG. 5 is formed, and the mass spectrometer 1 is evacuated by the TMP4,
At this time, RP3 functions as a back pump of TMP4. During this time, the CPU 71 determines in step 12 whether or not the startup of the leak test apparatus has been completed, that is, whether or not the mass spectrometer 1 has been evacuated to a predetermined degree of vacuum and the indicated value has dropped below a certain background value. , YES
When it is determined, the operator is asked in step 13 to indicate whether or not to perform a leak test. This apparatus is configured so that an operator can make an input through an appropriate input means. When the operator indicates this intention of YES, the work W in which helium is sealed in the chamber 2 by that time is displayed. Is inserted. Then, if there is a YES intention display, the CPU 71 proceeds to step 14 and proceeds to the second step.
Is closed, and the first exhaust valve BV is opened. Thereby, an exhaust line shown by a thick line in FIG. 6 is formed, and the chamber 2 is
Start the exhaust inside. Thereafter, the CPU 71 proceeds to step 1
5 the detected pressure P of the vacuum gauge 8 monitors whether falls below the set pressure P 2 which defines in advance. The set pressure P 2 is a threshold value for determining whether or not the inside of the chamber 2 has reached a reduced pressure suitable for starting a leak test.
It is set to about Pa. Then, when this condition is satisfied, the routine proceeds to step 16, where the first exhaust valve BV is closed, the second exhaust valve FV is opened, and the test valve TV is opened. As a result, as shown by the thick line in FIG.
The vacuum is drawn by P3. At this time, if there is a leak of helium from the measured object W, the mass spectrometric unit 1 detects the helium and indicates the leak amount. At this time, the CPU 71 determines in parallel whether or not the determination is completed in step 17 based on the stability of the measured value or the like. If it is determined that the determination is completed, the process proceeds to step 18 to close the test valve TV. , Open the leak valve LV. Thus, while maintaining the exhaust line shown by the thick line in FIG. 8, a leak line shown by the shaded thick line in the figure is formed, and the inside of the chamber 2 is vented. During this time, the CPU 71 monitors in step 19 whether the pressure of the vacuum gauge 8 has exceeded a predetermined set value P 0 ,
If it is determined that the value exceeds the threshold value, the leak valve LV is closed in step 20 to return to the state shown in FIG. 5, and then the operator is asked in step 21 whether to perform a retest. The set value P 0 is set to a pressure at which the inside of the chamber 2 can be opened to take out the work W, for example, about 1 × 10 5 Pa. If the worker answers YES in step 21, the CPU 71 returns to the trouble of step 14, and again executes the leak test according to the same procedure. When performing the retest, the operator replaces the work W in the chamber 2 before answering. If the answer is NO, the second exhaust valve FV is closed at step 22 to end the leak test. If the leak test is not performed in step 13, the user can jump to the position before step 22 by answering NO. [0006] However, the conventional leak test apparatus described above has a problem that the detection in the mass spectrometric unit 1 is likely to be erroneously determined. That is,
In general, when the work W is accommodated in the chamber 2, helium from the helium enclosing operation may be adsorbed on the surface of the work W, and the helium released during the previous leak test may also be in the chamber 2. May adhere and remain. In particular, when the work W is relatively large or when a gross leak has occurred during the previous measurement, such a state is remarkable. When the leak test is started in this state, step 16
At the stage where the exhaust line shown in FIG. 7 is configured, the helium flows into the mass spectrometer 1 and the work W
Even when there is no leak in itself, the mass spectrometric unit 1 may detect an excess leak and determine that the leak is present. Under such circumstances, it is difficult for the conventional helium leak test apparatus to improve the measurement accuracy. Further, the presence of such helium prolongs the evacuation time in FIG. 6 in step S14, and causes a significant decrease in the efficiency of the leak test. SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a method in which the roughing is temporarily interrupted during roughing in the chamber to release the atmosphere into the chamber. After that, roughing will be started again. For this reason,
Helium remaining in the chamber due to causes other than leakage can be flushed by the introduction of air at this time and discharged out of the chamber. [0008] The present invention provides a mass spectrometer for detecting only helium, a chamber for accommodating an object to be measured, exhaust means for evacuating the mass spectrometer and the chamber, and a chamber. An atmosphere opening section for venting the inside, a switching circuit for associating the mass analysis section, the chamber, the exhaust means and the atmosphere opening section with each other, and control means for controlling the switching circuit. From the state in which the control means shuts off the air release part to the chamber and connects the exhaust means to perform roughing, temporarily shuts off the exhaust means and connects the air release part, and then reopens the air release part. It is characterized in that it is configured to perform control for shutting off and connecting the exhaust means. With such a structure, the inside of the chamber is once released to the atmosphere after a certain roughing step, and at that time the atmosphere is vigorously introduced into the chamber. The surface of the object is effectively flushed, and the helium adhering to those parts is blown off and diffuses into the chamber. Then, when the roughing is started again thereafter, the helium is effectively discharged out of the chamber through the exhaust means. An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 3 to 8 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. The helium leak test apparatus shown in FIG. 2 has an apparently similar configuration to the conventional one shown in FIG. 3, but as apparent from comparison with the flowcharts in FIGS. The CPU 71 of the computer system 7 executes step 1
4 and 15 is that the new steps D to G are configured to be executed. [0011] That is, after the roughing line indicated by a thick line in FIG. 6 is configured in step 14, is not directly detected pressure P at the step 15 to wait to below P 2, lower setting of slightly vacuum than It is determined in step D whether or not the pressure is lower than the pressure P 1 (for example, about 1 × 10 4 Pa), and in the case of YES, the process proceeds to step E to close the first exhaust valve BV, to temporarily stop roughing, and Control to open the leak valve LV. As a result, while maintaining the exhaust air to the mass spectrometry unit 1 as shown in FIG. 2, a leak line as shown by a shaded thick line in FIG. 2 is formed, and the chamber 2 is vented through the atmosphere opening unit 5. Then, the CPU 71 sets the pressure P 0 (for example, 1 × 10 5 Pa) set slightly lower than the atmosphere in step F.
It is determined whether or not the exhaust gas amount has exceeded the above-described value. If YES, the process proceeds to step G to close the leak valve LV, open the first exhaust valve BV, return to the exhaust state shown in FIG. To resume. Therefore, during this period, the residual helium in the chamber 2 is effectively released. That is, by performing steps D to G during the roughing, the inside of the chamber 2 is once opened to the atmosphere after a certain roughing process, and at that time, the atmosphere is vigorously introduced into the chamber 2, The flushing action is performed on the inner wall and the surface of the work W. And
The helium adhering to the inner wall of the chamber 2 and the surface of the work W is blown off and diffused into the chamber 2 by the flushing action. Therefore, when the roughing is started again thereafter, the helium can be effectively discharged out of the chamber 2 through the RP3. In such a process, it seems that the processing time is prolonged by the extra steps D to G as compared with the conventional process. However, actually, the removal of the residual helium is performed only by roughing. Progresses more effectively than
Since the evacuation of the roughing line 61 up to step 15 is completed in a shorter time, the processing time is rather shortened. The effect varies depending on the application target, but the present inventor has confirmed that there is an effect that the roughing time can be reduced to about half of the conventional value as an average value. As described above, in the helium leak test apparatus of the present embodiment, helium adhering to the surface of helium when the helium is sealed in the work W and helium remaining in the chamber 2 during the previous leak test are removed. However, since they can be efficiently discharged out of the chamber 2 within a short time and the state can be quickly shifted to a state where a leak test can be performed, not only the time required for the roughing process is shortened as compared with the conventional one, but also In addition, the mass spectrometry unit 1 does not detect residual helium, and an excellent effect that the efficiency of the leak test can be drastically improved as compared with the conventional one without lowering the accuracy of the leak test. The specific configuration of each section is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. For example, in the above-described embodiment, a normal leak line is used to vent the inside of the chamber during rough evacuation, but a separate leak line may be configured. In this case, the direction of the connection portion may be appropriately set so that the introduced atmosphere is directly blown onto the workpiece, or a nozzle may be provided in the chamber to eject the air. It is also effective to introduce air into the atmosphere by intermittent pulses. Further, in the above-described embodiment, the present invention is applied to detect the degree of sealing of the work. However, the present invention is also useful when applied to a method of detecting the presence or absence of cracks in an IC (helium bombing). The present invention is embodied in the form described above, and has the following effects. That is,
In the helium leak test apparatus of the present invention, during roughing of the chamber, the roughing is temporarily interrupted and the atmosphere is introduced into the chamber. The helium remaining in the chamber can be discharged in a shorter time than in the case of. For this reason, it is possible to prevent a problem that helium adhering to a work surface or the like is detected as a leak in the mass spectrometry unit, and it is possible to effectively improve the efficiency of the leak test without lowering the accuracy thereof. It will be.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施例に係る制御の概要を示すフロ
ーチャート。 【図2】同実施例において大気導入が行われている状態
を示す模式的な回路図。 【図3】従来の装置構成を示す模式的な回路図。 【図4】従来の制御の概要を示す図1に対応したフロー
チャート。 【図5】同従来例における制御の一プロセスを示す模式
的な回路図。 【図6】同従来例における制御の一プロセスを示す模式
的な回路図。 【図7】同従来例における制御の一プロセスを示す模式
的な回路図。 【図8】同従来例における制御の一プロセスを示す模式
的な回路図。 【符号の説明】 1…質量分析部(ANAL) 2…チャンバ 3…排気手段(油回転真空ポンプ;RP) 4…排気手段(ターボ分子ポンプ;TMP) 5…大気開放部 6…切替回路 7…制御手段(マイクロコンピュータユニット) W…被測定物(ワーク)
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a flowchart showing an outline of control according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic circuit diagram showing a state in which air introduction is performed in the embodiment. FIG. 3 is a schematic circuit diagram showing a conventional device configuration. FIG. 4 is a flowchart showing an outline of conventional control and corresponding to FIG. FIG. 5 is a schematic circuit diagram showing one process of control in the conventional example. FIG. 6 is a schematic circuit diagram showing one process of control in the conventional example. FIG. 7 is a schematic circuit diagram showing one process of control in the conventional example. FIG. 8 is a schematic circuit diagram showing one process of control in the conventional example. [Description of Signs] 1 Mass analysis unit (ANAL) 2 Chamber 3 Exhaust unit (oil rotary vacuum pump; RP) 4 Exhaust unit (turbo molecular pump; TMP) 5 Air release unit 6 Switching circuit 7 Control means (microcomputer unit) W: Workpiece (workpiece)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】ヘリウムのみを検出する質量分析部と、被
測定物を収容するチャンバと、前記質量分析部及びチャ
ンバを真空排気するための排気手段と、チャンバ内をベ
ントするための大気開放部と、これら質量分析部、チャ
ンバ、排気手段及び大気開放部の間を相互に関連づける
切替回路と、この切替回路を制御する制御手段とを具備
してなり、この制御手段が、チャンバに対して大気開放
部を遮断し排気手段を接続して粗引きしている状態か
ら、一旦排気手段を遮断して大気開放部を接続し、しか
る後、再び大気開放部を遮断して排気手段を接続する制
御を行うように構成されていることを特徴とするヘリウ
ムリークテスト装置。
(57) Claims 1. A mass spectrometer for detecting only helium, a chamber for accommodating an object to be measured, exhaust means for evacuating the mass spectrometer and the chamber, and a chamber. An atmosphere opening section for venting the inside, a switching circuit for associating the mass analysis section, the chamber, the exhaust means and the atmosphere opening section with each other, and control means for controlling the switching circuit. From the state in which the control means shuts off the air release part to the chamber and connects the exhaust means to perform roughing, temporarily shuts off the exhaust means and connects the air release part, and then reopens the air release part. A helium leak test device configured to perform control for shutting off and connecting an exhaust means.
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