JP3492482B2 - Minority carrier lifetime measurement device - Google Patents

Minority carrier lifetime measurement device

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JP3492482B2
JP3492482B2 JP27945896A JP27945896A JP3492482B2 JP 3492482 B2 JP3492482 B2 JP 3492482B2 JP 27945896 A JP27945896 A JP 27945896A JP 27945896 A JP27945896 A JP 27945896A JP 3492482 B2 JP3492482 B2 JP 3492482B2
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wave
minority carrier
semiconductor wafer
carrier lifetime
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尚幸 吉田
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は,少数キャリアのラ
イフタイム測定装置に係り,詳しくは半導体ウェーハの
品質管理に用いられる,光伝導マイクロ波減衰法による
少数キャリアのライフタイム測定装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a minority carrier lifetime measuring device, and more particularly to a minority carrier lifetime measuring device used for quality control of semiconductor wafers by a photoconductive microwave attenuation method. .

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の超LSIに代表される半導体デバ
イスの超精密化傾向に伴い,そこに使用される半導体ウ
ェーハには,より厳しい品質管理が要求されるようにな
ってきている。この品質管理のためには半導体ウェーハ
の汚染や損傷の恐れのない非接触方式の評価方法が望ま
しく,例えば特公昭61−60576号公報に開示され
た半導体ウェーハの少数キャリアのライフタイム測定装
置が知られている。図5は従来の少数キャリアのライフ
タイム測定装置の一例A01の概略構成を示す図であ
る。図5に示す如く従来の少数キャリアのライフタイム
測定装置A01は,試料保持台兼搬送機構51と,試料
保持台兼搬送機構51に支持される試料52(半導体ウ
ェーハ)の表面に光パルスを照射する光パルス発生器5
3と,試料52の表面へのマイクロ波を発生させるガン
発振器54と,ガン発振器54から放射されるマイクロ
波を調整するインピーダンス整合器55,E−Hチュー
ナ56,57,マジックT58及び無反射終端59から
なる調整機構60と,調整機構60で調整されたマイク
ロ波を導波管61及び調整機構60を再び通過させて検
出する検波器62と,検波器62により検出されたマイ
クロ波の変化を表示するシンクロスコープ63とから構
成されている。
2. Description of the Related Art With the recent trend toward ultra-precision semiconductor devices represented by VLSI, semiconductor wafers used therefor are required to undergo more strict quality control. For this quality control, a non-contact type evaluation method that is free from the risk of contamination or damage to the semiconductor wafer is desirable. For example, a lifetime measuring device for a minority carrier of a semiconductor wafer disclosed in Japanese Patent Publication No. 61-60576 is known. Has been. FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of an example A01 of a conventional minority carrier lifetime measuring apparatus. As shown in FIG. 5, a conventional minority carrier lifetime measuring apparatus A01 irradiates an optical pulse on the surface of a sample holder / carrying mechanism 51 and a sample 52 (semiconductor wafer) supported by the sample holder / carrying mechanism 51. Optical pulse generator 5
3, a gun oscillator 54 that generates microwaves to the surface of the sample 52, an impedance matching device 55 that adjusts microwaves emitted from the gun oscillator 54, E-H tuners 56 and 57, a magic T58, and a reflectionless termination. The adjustment mechanism 60 composed of 59, the detector 62 for detecting the microwave adjusted by the adjustment mechanism 60 by passing through the waveguide 61 and the adjustment mechanism 60 again, and the change of the microwave detected by the detector 62 It is composed of a synchroscope 63 for displaying.

【0003】以下,測定原理を説明する。試料52に光
パルス発生器53から照射された光パルスにより試料5
2に自由電子−正孔対であるキャリアが励起される。こ
のキャリアは試料52の熱平衡状態でのキャリア濃度よ
りも過剰なものであり,試料52の表面の電気伝導度を
上昇させる。そして,光の照射が中断される光パルスと
光パルスとの間で過剰なキャリアが再結合してしだいに
消滅し,キャリア濃度を低下させる。このようなキャリ
ア濃度の変化,即ち電気伝導度の変化は少数キャリア側
において著しい。この状態で試料52に入射されたマイ
クロ波の反射率は上記した電気伝導度により変化する。
変化を生じたマイクロ波は反射波となって導波管61及
びE−Hチューナ57を通り検波器62に伝達される。
ここで検出されたマイクロ波の反射波はシンクロスコー
プ63により減衰曲線として表示される。この減衰曲線
から試料52の物性を表す少数キャリアのライフタイム
を測定することができる。しかし,装置A01の導波管
61の開口端と試料52との間での多重反射波などの不
要な反射波が存在し,その量は試料52の電気伝導度に
依存して変化する。従って,上記装置A01では広範囲
な電気伝導度を有する半導体ウェーハの少数キャリアの
ライフタイムを精度良く測定することが困難である。こ
のため,上記不要な反射波を除去するべく,本発明者等
はこれまでに以下のような装置A02,A03を開発し
てきた(特開平6−27048号,特開平7−5122
号)。
The measurement principle will be described below. The sample 5 is irradiated with the light pulse emitted from the light pulse generator 53 to the sample 52.
Carriers, which are free electron-hole pairs, are excited at 2. This carrier is in excess of the carrier concentration of the sample 52 in the thermal equilibrium state, and increases the electric conductivity of the surface of the sample 52. Then, excess carriers are recombined between the light pulses at which the light irradiation is interrupted and gradually disappear, so that the carrier concentration is lowered. Such a change in carrier concentration, that is, a change in electric conductivity is remarkable on the minority carrier side. The reflectance of the microwave incident on the sample 52 in this state changes due to the above-described electrical conductivity.
The changed microwave becomes a reflected wave and is transmitted to the wave detector 62 through the waveguide 61 and the E-H tuner 57.
The reflected wave of the microwave detected here is displayed as an attenuation curve by the synchroscope 63. The lifetime of the minority carrier, which represents the physical properties of the sample 52, can be measured from this attenuation curve. However, there are unnecessary reflected waves such as multiple reflected waves between the open end of the waveguide 61 of the device A01 and the sample 52, and the amount thereof changes depending on the electrical conductivity of the sample 52. Therefore, it is difficult for the device A01 to accurately measure the minority carrier lifetime of a semiconductor wafer having a wide range of electrical conductivity. Therefore, the present inventors have developed the following devices A02 and A03 in order to remove the unnecessary reflected waves (Japanese Patent Laid-Open Nos. 6-27048 and 7-5122).
issue).

【0004】図6は従来装置A02を示すものであっ
て,前述の装置A01における導波管61を2分割する
と共に(61a,61b),ガン発振器54により放射
されたマイクロ波をマジックT58’により2分割す
る。この2分割されたマイクロ波を上記2分割された導
波管61a,61bを介して試料52にそれぞれ放射
し,ここでの反射光を再び導波管61a,61bを経由
させてマジックT58’に導き,ここで干渉させる。導
波管61a側にはレーザ53によりレーザパルス光を照
射する。この時のマジックT58’により干渉させたマ
イクロ波の変化に対応する出力RFをアンプ65により
増幅して検波器62に入力する。一方,ガン発振器54
により発生したマイクロ波の一部を分波器67により取
り出して基準信号LOとして検波器62に入力し,ここ
で出力RFと混合検波する。検波器62からの出力IF
は波形処理回路66により処理され,ライフタイム表示
装置63’により表示される。又,導波管61a,61
bの開口側にはアンテナ64a,64bがそれぞれ設け
られている。
FIG. 6 shows a conventional device A02, in which the waveguide 61 in the device A01 is divided into two parts (61a, 61b), and the microwave radiated by the gun oscillator 54 is magic T58 '. Divide into two. The two-divided microwaves are radiated to the sample 52 through the two waveguides 61a and 61b, respectively, and the reflected light here is again passed through the waveguides 61a and 61b to the magic T58 '. Guide and interfere here. Laser 53 is irradiated with laser pulse light on the side of the waveguide 61a. The output RF corresponding to the change in the microwave interfered by the magic T58 'at this time is amplified by the amplifier 65 and input to the detector 62. On the other hand, the gun oscillator 54
A part of the microwave generated by is extracted by the demultiplexer 67 and is input to the detector 62 as the reference signal LO, where it is mixed with the output RF for detection. Output IF from the detector 62
Is processed by the waveform processing circuit 66 and displayed by the lifetime display device 63 '. In addition, the waveguides 61a, 61
Antennas 64a and 64b are provided on the opening side of b.

【0005】この従来装置A02において,上記2分割
された導波管61a,61b内を通過させたマイクロ波
の反射波は,導波管61a,61bの実効長を等しくす
ることにより同位相のものとなる。但し,励起光(レー
ザ53)の照射側のみにレベル変化を生じているため,
導波管61a,61bをそれぞれ経由してきたマイクロ
波の反射波同士を干渉させることによりマイクロ波の反
射波のレベル変化(変調成分)のみが検出されることに
なる。このようにして,不要な反射波を除去することに
より,半導体ウェーハの電気伝導度が広範囲なものであ
っても少数キャリアのライフタイムを正確に測定するこ
とができる。しかし従来装置A02では,上記不要な反
射波を除去するために半導体ウェーハ52の異なる位置
にマイクロ波を入射するため,半導体ウェーハ52や支
持台51が傾いていると,導波管61a,61bをそれ
ぞれ経由してきたマイクロ波の間に位相差が生じ,マイ
クロ波回路にアンバランスが生じてしまう。マイクロ波
回路にアンバランスが生じると,励起光を半導体ウェー
ハ52に照射していない場合でも,マイクロ波の合成干
渉段階でその電力が完全に零とはならず,アンプ65や
検波器62等のマイクロ波回路部品が飽和するほどの電
力が生じ,装置の感度が低下する恐れがあった。このア
ンバランスを補正するために,マイクロ波発振周波数を
制御調整する機構を備えたのが,従来装置A03であ
る。
In the conventional device A02, the reflected waves of the microwaves which have passed through the waveguides 61a and 61b divided into two parts have the same phase by making the effective lengths of the waveguides 61a and 61b equal. Becomes However, since the level change occurs only on the irradiation side of the excitation light (laser 53),
By interfering the reflected waves of the microwaves that have respectively passed through the waveguides 61a and 61b, only the level change (modulation component) of the reflected wave of the microwaves is detected. By thus removing unnecessary reflected waves, the minority carrier lifetime can be accurately measured even if the semiconductor wafer has a wide range of electrical conductivity. However, in the conventional device A02, the microwaves are incident on different positions of the semiconductor wafer 52 in order to remove the unnecessary reflected waves, and therefore, when the semiconductor wafer 52 and the support base 51 are tilted, the waveguides 61a and 61b are removed. There is a phase difference between the microwaves that have passed through each, causing imbalance in the microwave circuit. When the microwave circuit is unbalanced, even if the semiconductor wafer 52 is not irradiated with the excitation light, the power does not become completely zero at the stage of the microwave synthetic interference, and the amplifier 65, the detector 62, and the like do not operate. There was a risk that the power of the microwave circuit components would saturate and the sensitivity of the device would decrease. In order to correct this imbalance, the conventional device A03 has a mechanism for controlling and adjusting the microwave oscillation frequency.

【0006】図7は従来装置A03の概略構成を示すも
のであって,基本的な構成は従来装置A02と同じであ
る。従来装置A02と異なるのは,導波管61bを導波
管61aとはマイクロ波の片道で略半波長の整数倍だけ
異なる電気長(実効長)を有するものとすると共に,レ
ーザ53によりレーザパルス光を照射しない時に,検波
器67により検出された干渉波が少なくなるようにガン
発振器54により発生するマイクロ波の周波数を調整す
るマイクロ波周波数調整器68を設けた点である。従来
装置A03では,半導体ウェーハ等が傾いている場合で
も,マイクロ波の発振周波数を変化させることにより上
記電気長を調整して,マジックT58に入力される反射
波の位相差を0に近づけるようにすることができる。こ
のため,半導体ウェーハ等の傾きによる誤差を吸収し
て,半導体ウェーハのキャリアのライフタイムを正確に
測定することができる。
FIG. 7 shows a schematic structure of the conventional device A03, and the basic structure is the same as that of the conventional device A02. The difference from the conventional device A02 is that the waveguide 61b has an electrical length (effective length) different from that of the waveguide 61a by an integral multiple of a half wavelength in one way of microwave, and a laser pulse is generated by a laser 53. The point is that a microwave frequency adjuster 68 is provided to adjust the frequency of the microwave generated by the gun oscillator 54 so that the interference wave detected by the detector 67 is reduced when light is not irradiated. In the conventional device A03, even if the semiconductor wafer or the like is tilted, the electric length is adjusted by changing the oscillation frequency of the microwave so that the phase difference of the reflected wave input to the magic T58 approaches 0. can do. Therefore, the error due to the inclination of the semiconductor wafer or the like can be absorbed and the carrier lifetime of the semiconductor wafer can be accurately measured.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかし,従来装置A0
3では,多重反射の影響を除去するためにマイクロ波を
2分割して半導体ウェーハに照射しており,アンテナ部
の構造が複雑かつ大型になるという欠点は解消されてい
なかった。また,半導体ウェーハ等の傾きによる誤差を
吸収するために,マイクロ波の発振周波数を常時調整す
るための複雑な制御機構が必要であった。本発明は,こ
のような従来の技術における課題を解決するために,少
数キャリアのライフタイム測定装置を改良し,マイクロ
波の発振周波数を常時調整するための複雑な制御機構を
用いずに,広範囲の電気伝導度を有する半導体ウェーハ
の少数キャリアのライフタイムを正確に測定することの
できる少数キャリアのライフタイム測定装置を提供する
ことを目的とするものである。
However, the conventional device A0
In No. 3, the microwave is divided into two in order to irradiate the semiconductor wafer in order to remove the influence of multiple reflection, and the drawback that the structure of the antenna part becomes complicated and large has not been solved. Moreover, in order to absorb the error due to the tilt of the semiconductor wafer, a complicated control mechanism for constantly adjusting the oscillation frequency of the microwave was required. In order to solve the problems in the conventional art, the present invention improves a minority carrier lifetime measuring device and uses a wide range without using a complicated control mechanism for constantly adjusting the microwave oscillation frequency. It is an object of the present invention to provide a minority carrier lifetime measuring device capable of accurately measuring the minority carrier lifetime of a semiconductor wafer having the electric conductivity of 1.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために,半導体ウェーハに断続的に励起光を照射す
るパルス励起光照射手段と,上記パルス励起光照射手段
により上記励起光が照射される半導体ウェーハの領域に
マイクロ波を放射するマイクロ波放射手段と,半導体ウ
ェーハにて反射された上記マイクロ波の反射波若しくは
半導体ウェーハを透過した上記マイクロ波の透過波を検
出する検出手段とを具備し,上記反射波若しくは透過波
の上記パルス励起光照射前後の変化に基づいて半導体ウ
ェーハの少数キャリアのライフタイムを測定する少数キ
ャリアのライフタイム測定装置において,上記反射波若
しくは透過波を2分割する2分割手段と,上記2分割手
段により2分割された一方の反射波若しくは透過波を上
記検出手段に導くための第1の導波手段と,他方の反射
波若しくは透過波を所定時間だけ遅延して上記検出手段
に導くための第2の導波手段と,上記第1及び第2の導
波手段によりそれぞれ導かれた反射波若しくは透過波を
合成して上記検出手段に入力する合成手段とを具備し,
上記検出手段により検出された反射波若しくは透過波に
基づいて半導体ウェーハの少数キャリアのライフタイム
を測定してなることを特徴とする少数キャリアのライフ
タイム測定装置として構成されている。このため,励起
光が半導体ウェーハに照射されている場合若しくは照射
されていない場合の反射波若しくは透過波を時間差を設
けて合成することが可能となる。従って,マイクロ波の
変調成分以外の不要なマイクロ波の影響を従来より簡単
な構造で相殺して,キャリアの変化を正確に測定するこ
とができ,装置の小型化を図ることもできる。
In order to achieve the above object, the present invention provides pulse excitation light irradiation means for intermittently irradiating a semiconductor wafer with excitation light, and irradiation with the excitation light by the pulse excitation light irradiation means. A microwave radiating means for radiating a microwave to the region of the semiconductor wafer and a detecting means for detecting a reflected wave of the microwave reflected by the semiconductor wafer or a transmitted wave of the microwave transmitted through the semiconductor wafer. In the minority carrier lifetime measuring device for measuring the minority carrier lifetime of a semiconductor wafer based on a change in the reflected wave or the transmitted wave before and after irradiation with the pulsed excitation light, the reflected wave or the transmitted wave is divided into two. And a reflected wave or a transmitted wave, which is divided into two by the above-mentioned two-dividing means, is guided to the above-mentioned detecting means. And a second wave guide means for delaying the reflected wave or the transmitted wave on the other side by a predetermined time to guide it to the detection means, and the first and second wave guide means. And a synthesizing means for synthesizing the reflected waves or the transmitted waves guided to each other and inputting to the detecting means,
A minority carrier lifetime measuring apparatus is characterized in that the minority carrier lifetime of the semiconductor wafer is measured based on the reflected wave or the transmitted wave detected by the detecting means. Therefore, it becomes possible to combine reflected or transmitted waves when the semiconductor wafer is irradiated with the excitation light or not irradiated with the excitation light with a time difference. Therefore, the influence of unnecessary microwaves other than the modulation component of microwaves can be canceled by a simpler structure than in the past, the carrier change can be accurately measured, and the device can be downsized.

【0009】さらに,上記第2の導波手段を通過する反
射波若しくは透過波の振幅及び/若しくは位相を調整す
る調整手段を備えれば,励起光が半導体ウェーハに照射
されていない場合に,上記合成手段の出力を0に近づけ
るように設定することができ,装置特性等により表れる
オフセット等の影響をライフタイム測定から取り除くこ
とができる。さらに,上記マイクロ波放射手段の放射端
にマイクロ波集束手段を設ければ,励起光が照射された
半導体ウェーハの領域にマイクロ波の強度を集中させる
ことができ,装置感度を向上させることができる。さら
に,上記第2の導波手段の長さ及び/若しくは形状を上
記合成手段において合成された反射波若しくは透過波が
零となるように設定すれば,予め上記不要なマイクロ波
の大部分を取り除くことができる。さらに,上記第2の
導波手段による反射波若しくは透過波の遅延時間を調整
可能にすれば,上記反射波若しくは透過波の特性に応じ
て遅延時間を調整できるから,より正確な少数キャリア
のライフタイム測定を行うことができる。
Further, if adjusting means for adjusting the amplitude and / or the phase of the reflected wave or the transmitted wave passing through the second waveguide means is provided, the above-mentioned method can be used when the excitation light is not applied to the semiconductor wafer. The output of the synthesizing means can be set so as to be close to 0, and the influence of offset or the like, which appears due to device characteristics or the like, can be removed from the lifetime measurement. Further, if the microwave focusing means is provided at the radiating end of the microwave radiating means, the microwave intensity can be concentrated in the region of the semiconductor wafer irradiated with the excitation light, and the device sensitivity can be improved. . Further, if the length and / or the shape of the second waveguide means are set so that the reflected wave or the transmitted wave combined by the combining means becomes zero, most of the unnecessary microwaves are removed in advance. be able to. Furthermore, if the delay time of the reflected wave or the transmitted wave by the second waveguide means can be adjusted, the delay time can be adjusted according to the characteristics of the reflected wave or the transmitted wave, so that the life of the minority carrier is more accurate. Time measurement can be performed.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下添付図面を参照して,本発明
の実施の形態につき説明し,本発明の理解に供する。
尚,以下の実施の形態は,本発明を具体化した一例であ
って,本発明の技術的範囲を限定する性格のものではな
い。ここに,図1は本発明の一実施の形態に係る少数キ
ャリアのライフタイム測定装置の概略構成を示す図,図
2はマイクロ波放射手段の開口端形状の模式図,図3は
マイクロ波強度の時系列変化の一例を示すタイムチャー
トである。図1に示すように,本発明の一実施の形態に
係る少数キャリアのライフタイム測定装置は,マイクロ
波を発振するマイクロ波発振器1,マイクロ波発振器1
により発振されたマイクロ波を測定用マイクロ波aと局
発信号用マイクロ波bとに分配する方向性結合器2,測
定用マイクロ波aを半導体ウェーハ0に導くための導波
管3,サーキュレータ4,導波管5,半導体ウェーハ0
を保持搬送するための移動ステージ6,レーザを半導体
ウェーハ0に入射するためのパルスレーザ発振器7,半
導体ウェーハ0にて反射されたマイクロ波cを2分割す
るマジックT8,マジックT8により2分割されたマイ
クロ波の一方eを導波する導波管9,他方のマイクロ波
dを時間遅延させる遅延回路10と時間遅延されたマイ
クロ波d’の振幅及び位相を調整するアンプ11及び位
相シフタ12とを備える導波管13,2分割されたマイ
クロ波eとd’とを合成するためのマジックT14,マ
ジックT14により合成されたマイクロ波fを検出する
検波器15,検波器15により検波されたマイクロ波強
度をディジタル信号に変換するA/D変換器16,ディ
ジタル化されたマイクロ波強度よりライフタイムを算出
し,算出結果を表示する演算表示器17より構成されて
いる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings to provide an understanding of the present invention.
The following embodiments are examples of embodying the present invention and are not of the nature to limit the technical scope of the present invention. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a minority carrier lifetime measuring apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic diagram of an opening end shape of microwave radiating means, and FIG. 3 is a microwave intensity. 3 is a time chart showing an example of a time series change of. As shown in FIG. 1, a minority carrier lifetime measuring apparatus according to an embodiment of the present invention includes a microwave oscillator 1 that oscillates microwaves, and a microwave oscillator 1
The directional coupler 2 for distributing the microwave oscillated by the measuring microwave a to the local signal microwave b 2, the waveguide 3 for guiding the measuring microwave a to the semiconductor wafer 0, and the circulator 4 , Waveguide 5, Semiconductor wafer 0
A moving stage 6 for holding and transporting a laser beam, a pulse laser oscillator 7 for making a laser beam incident on the semiconductor wafer 0, a magic T8 for dividing the microwave c reflected by the semiconductor wafer 0 into two, and a magic T8 for dividing the microwave c into two. A waveguide 9 for guiding one of the microwaves e, a delay circuit 10 for time-delaying the other microwave d, an amplifier 11 and a phase shifter 12 for adjusting the amplitude and phase of the time-delayed microwave d ′ are provided. The waveguide 13 provided, a magic T14 for synthesizing the microwaves e and d'divided into two, a detector 15 for detecting the microwave f synthesized by the magic T14, and a microwave detected by the detector 15. A / D converter 16 that converts the intensity into a digital signal, calculates the lifetime from the digitized microwave intensity, and displays the calculation result And it is configured from the operation and display unit 17 that.

【0011】以下,本実施の形態に係る少数キャリアの
ライフタイム測定装置の動作の詳細を説明する。パルス
レーザ発振器7により発振されたレーザは,導波管5に
設けられた導光穴20を経て半導体ウェーハ0に断続的
に照射される。このレーザは空間分解能の面から数mm
以下に収束される。レーザが照射された半導体ウェーハ
0の照射領域では,光励起によりキャリアが生成され,
半導体ウェーハ表面の電気伝導度が上昇する。励起され
たキャリアは周辺に拡散し,正孔若しくは自由電子と再
結合して,レーザの照射がない間に指数関数的に減少
し,熱平衡状態に戻る。一方,マイクロ波発振器1によ
り発振されたマイクロ波は,方向性結合器2により測定
用マイクロ波aと局発信号用マイクロ波bとに分配され
る。測定用マイクロ波aは,導波管3,サーキュレータ
4,導波管5を経て,半導体ウェーハ0上のレーザが照
射された領域に照射される。ところで,マイクロ波の反
射率は,半導体ウェーハの電気伝導度に依存して変化す
る。従って,電気伝導度の変化,即ち上述したようなキ
ャリアの変化をマイクロ波により測定することが可能と
なる。
The operation of the minority carrier lifetime measuring apparatus according to this embodiment will be described in detail below. The laser oscillated by the pulse laser oscillator 7 is intermittently applied to the semiconductor wafer 0 through the light guide hole 20 provided in the waveguide 5. This laser is a few mm in terms of spatial resolution
It converges to the following. In the irradiation region of the semiconductor wafer 0 irradiated with the laser, carriers are generated by photoexcitation,
The electric conductivity of the surface of the semiconductor wafer increases. The excited carriers diffuse to the periphery and recombine with holes or free electrons, and exponentially decrease in the absence of laser irradiation to return to a thermal equilibrium state. On the other hand, the microwave oscillated by the microwave oscillator 1 is distributed by the directional coupler 2 to the measurement microwave a and the local oscillation signal microwave b. The measurement microwave a passes through the waveguide 3, the circulator 4, and the waveguide 5, and is applied to the region of the semiconductor wafer 0 irradiated with the laser. By the way, the reflectance of microwaves changes depending on the electrical conductivity of the semiconductor wafer. Therefore, it becomes possible to measure the change in electric conductivity, that is, the change in carrier as described above, by microwave.

【0012】ところで,マイクロ波系における検出感
度,調整の容易性,装置の小型化の面から,一般に,マ
イクロ波周波数として数10GHzのマイクロ波が用い
られるが,このマイクロ波を効率よく導波させるために
は,数ミリから数センチ角の導波管が用いられる。しか
し,単純な導波管開口では,レーザにより励起された領
域にマイクロ波を集中させることができないので,導波
管5の開口端には,例えば図2に示すようなリッジ構造
の開口端を用いる。上記開口端をマイクロ波を絞るリッ
ジ形状にすれば,マイクロ波強度をレーザの照射域に集
中させることが可能となり,反射されたマイクロ波の変
化を感度よく検出することができる。半導体ウェーハ0
の電気伝導度の変化により変調を受けたマイクロ波の反
射波cは,マジックT8により2分割される。2分割さ
れたマイクロ波の一方eは,導波管によりマジックT1
4に導波される。他方のマイクロ波dは,遅延回路1
0,アンプ11,位相シフタ12を備える導波管13を
経てマイクロ波d’としてマジックT14に導波され
る。マジックT14にて合成されたマイクロ波d’,e
の差出力fはミキサ15に入力され,検波される。尚,
アンプ11及び位相シフタ12は,レーザが半導体ウェ
ーハ0に照射されていない状態で,差出力fを所定値よ
りも小さくするためのものである。図3はマイクロ波d
を,例えば100ns程度マイクロ波eよりも遅延させ
た時の,マイクロ波d’,e及びその差出力fのマイク
ロ波強度(絶対値)を示す図である。マイクロ波d’,
e双方のレーザパルス入射前後それぞれに前記した多重
反射等の影響が含まれるが,同じ影響を受けたマイクロ
波同士の差をとるため,その影響は相殺される。従っ
て,遅延時間の間の差出力fより,正確にキャリア生成
・消滅を測定することができる。本実施の形態に係る少
数キャリアのライフタイム測定装置では導波管9及び1
3の長さ,形状等は,マジックT14等の特性に基づい
て設定されており,マイクロ波fに含まれる変調波以外
の不要なマイクロ波の大部分を取り除くことができる。
また,上記,遅延回路10,アンプ11,位相シフタ1
2を調整して,さらに上記不要なマイクロ波を取り除く
ことができる。
By the way, from the viewpoint of detection sensitivity in a microwave system, easiness of adjustment, and miniaturization of a device, a microwave of several tens GHz is generally used as a microwave frequency, but this microwave is efficiently guided. For this purpose, a waveguide of several millimeters to several centimeters square is used. However, since it is not possible to concentrate microwaves in the region excited by the laser with a simple waveguide opening, the opening end of the waveguide 5 has, for example, an opening end having a ridge structure as shown in FIG. To use. If the opening end is formed in a ridge shape that narrows down the microwave, the microwave intensity can be concentrated in the laser irradiation area, and the change in the reflected microwave can be detected with high sensitivity. Semiconductor wafer 0
The reflected wave c of the microwave modulated by the change of the electric conductivity of is divided into two by the magic T8. One of the two divided microwaves e is magic T1 by the waveguide.
It is guided to 4. The other microwave d is the delay circuit 1
A microwave d ′ is guided to the magic T 14 through a waveguide 13 including 0, an amplifier 11, and a phase shifter 12. Microwaves d ', e synthesized by Magic T14
The difference output f is input to the mixer 15 and detected. still,
The amplifier 11 and the phase shifter 12 are for making the differential output f smaller than a predetermined value in a state where the semiconductor wafer 0 is not irradiated with the laser. Fig. 3 shows microwave d
Is a diagram showing the microwave intensities (absolute values) of the microwaves d ′ and e and the difference output f thereof when the signal is delayed by about 100 ns from the microwave e. Microwave d ',
Although the influences of the above-described multiple reflection and the like are included before and after the incidence of both laser pulses, the influences are canceled out because a difference between the microwaves having the same influence is taken. Therefore, carrier generation / annihilation can be accurately measured from the difference output f between the delay times. In the minority carrier lifetime measuring apparatus according to the present embodiment, the waveguides 9 and 1 are used.
The length, shape, etc. of 3 are set on the basis of the characteristics of the magic T14, etc., and most of the unnecessary microwaves other than the modulated wave contained in the microwave f can be removed.
In addition, the delay circuit 10, the amplifier 11, the phase shifter 1 described above
2 can be adjusted to further remove the unnecessary microwave.

【0013】ミキサ15により検波された差出力fは,
A/D変換器16によりディジタル化されて演算表示器
17に入力される。演算表示器17では,入力された信
号に基づいて少数キャリアのライフタイムを演算し結果
を表示する。演算表示器17による演算は,例えば遅延
時間(100ns)の間に生じたマイクロ波の初期減衰
量に基づいて行われる。エピタキシャルウェーハ等の評
価に要求される表層評価には,この初期減衰の情報が有
効である。また,演算表示器17により100ns以降
のマイクロ波の減衰過程を演算することも可能である。
尚,検波出力レベルが小さく,信号のS/N比が小さい
時には,S/N比を高めるために,演算表示器17にお
いて,パルスレーザによる励起に同期して加算平均処理
を行う。このように,本実施の形態に係る少数キャリア
のライフタイム測定装置では,2分割されたマイクロ波
の反射波を時間的にずらして合成することにより,不要
な反射波の影響を相殺できるので,マイクロ波を半導体
ウェーハに入射するための導波管は1つでよく,半導体
ウェーハ等の傾きによる誤差がなくなるから,該誤差を
補正するための複雑な制御機構が不要となる。また,ア
ンテナ部の構造が簡単になるため,装置を小型化するこ
とができる。
The difference output f detected by the mixer 15 is
It is digitized by the A / D converter 16 and input to the operation display unit 17. The arithmetic display unit 17 calculates the minority carrier lifetime based on the input signal and displays the result. The calculation by the calculation display unit 17 is performed based on the initial attenuation amount of the microwave generated during the delay time (100 ns), for example. This initial attenuation information is effective for the surface layer evaluation required for the evaluation of epitaxial wafers. It is also possible to calculate the microwave attenuation process after 100 ns by the calculation display unit 17.
When the detection output level is low and the S / N ratio of the signal is low, the arithmetic / display unit 17 performs the averaging process in synchronization with the excitation by the pulse laser in order to increase the S / N ratio. As described above, in the minority carrier lifetime measuring apparatus according to the present embodiment, the influence of the unnecessary reflected wave can be canceled by synthesizing the reflected waves of the two-divided microwaves while shifting them temporally. Since only one waveguide is required for making the microwave incident on the semiconductor wafer and an error due to the inclination of the semiconductor wafer or the like is eliminated, a complicated control mechanism for correcting the error is unnecessary. Further, since the structure of the antenna part is simplified, the device can be downsized.

【0014】[0014]

【実施例】上記実施の形態においては,マイクロ波の伝
送に導波管を用いた例を示したが,導波管の代わりに同
軸線路やストリップ線路を用いてもよい。このような少
数キャリアのライフタイム測定装置も本発明における少
数キャリアのライフタイム測定装置の一例である。ま
た,上記実施の形態では,導波管5を介して,半導体ウ
ェーハ0に単純にマイクロ波を照射しているが,不要反
射をできるだけ低減し,半導体ウェーハへの放射効率を
高めるために,導波管5等にスタブ若しくはE−Hチュ
ーナ等を挿入してもよい。このような少数キャリアのラ
イフタイム測定装置も本発明における少数キャリアのラ
イフタイム測定装置の一例である。また,上記実施の形
態では,マイクロ波を検出するための手段として,単一
の局発信号による単一ミキサを用いたが,局発信号の位
相変化による検波出力の測定や,図4に示すように,異
なる位相の局発信号を位相シフタ21,22で生成し,
複数のミキサ20a,20bで直交検波測定してもよ
い。直交検波測定を行えば,変調マイクロ波の振幅及び
位相の変化を測定することができ,キャリアの拡散の様
子をより詳細に評価することができる。このような少数
キャリアのライフタイム測定装置も本発明における少数
キャリアのライフタイム測定装置の一例である。
[Embodiment] In the above-described embodiment, an example in which a waveguide is used for microwave transmission is shown, but a coaxial line or a strip line may be used instead of the waveguide. Such a minority carrier lifetime measuring apparatus is also an example of the minority carrier lifetime measuring apparatus in the present invention. Further, in the above embodiment, the semiconductor wafer 0 is simply irradiated with microwaves via the waveguide 5, but in order to reduce unnecessary reflection as much as possible and increase the radiation efficiency to the semiconductor wafer, A stub, an E-H tuner, or the like may be inserted in the wave tube 5 or the like. Such a minority carrier lifetime measuring apparatus is also an example of the minority carrier lifetime measuring apparatus in the present invention. Further, in the above embodiment, a single mixer using a single local oscillator signal is used as a means for detecting microwaves, but the detection output is measured by the phase change of the local oscillator signal and shown in FIG. In this way, the local oscillator signals of different phases are generated by the phase shifters 21 and 22,
The quadrature detection measurement may be performed by the plurality of mixers 20a and 20b. By performing quadrature detection measurement, changes in the amplitude and phase of the modulated microwave can be measured, and the state of carrier diffusion can be evaluated in more detail. Such a minority carrier lifetime measuring apparatus is also an example of the minority carrier lifetime measuring apparatus in the present invention.

【0015】[0015]

【発明の効果】本発明は,半導体ウェーハに断続的に励
起光を照射するパルス励起光照射手段と,上記パルス励
起光照射手段により上記励起光が照射される半導体ウェ
ーハの領域にマイクロ波を放射するマイクロ波放射手段
と,半導体ウェーハにて反射された上記マイクロ波の反
射波若しくは半導体ウェーハを透過した上記マイクロ波
の透過波を検出する検出手段とを具備し,上記反射波若
しくは透過波の上記パルス励起光照射前後の変化に基づ
いて半導体ウェーハの少数キャリアのライフタイムを測
定する少数キャリアのライフタイム測定装置において,
上記反射波若しくは透過波を2分割する2分割手段と,
上記2分割手段により2分割された一方の反射波若しく
は透過波を上記検出手段に導くための第1の導波手段
と,他方の反射波若しくは透過波を所定時間だけ遅延し
て上記検出手段に導くための第2の導波手段と,上記第
1及び第2の導波手段によりそれぞれ導かれた反射波若
しくは透過波を合成して上記検出手段に入力する合成手
段とを具備し,上記検出手段により検出された反射波若
しくは透過波に基づいて半導体ウェーハの少数キャリア
のライフタイムを測定してなることを特徴とする少数キ
ャリアのライフタイム測定装置として構成されている。
このため,励起光が半導体ウェーハに照射されている場
合,若しくは照射されていない場合の反射波若しくは透
過波とを時間差を設けて合成することが可能となる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, a pulsed excitation light irradiating means for intermittently irradiating a semiconductor wafer with excitation light, and a microwave for irradiating a region of a semiconductor wafer irradiated with the excitation light by the pulsed excitation light irradiation means. And a detection means for detecting the reflected wave of the microwave reflected by the semiconductor wafer or the transmitted wave of the microwave transmitted through the semiconductor wafer. In a minority carrier lifetime measuring device that measures the minority carrier lifetime of a semiconductor wafer based on changes before and after irradiation with pulsed excitation light,
A dividing means for dividing the reflected wave or the transmitted wave into two,
A first wave guide means for guiding one reflected wave or transmitted wave divided by the two dividing means to the detecting means, and the other reflected wave or transmitted wave delayed by a predetermined time to the detecting means. The second detection means for guiding and the combination means for combining the reflected wave or the transmitted wave respectively guided by the first and second guiding means and inputting to the detection means, The minority carrier lifetime measuring device is characterized in that the minority carrier lifetime of the semiconductor wafer is measured based on the reflected wave or the transmitted wave detected by the means.
Therefore, it becomes possible to combine a reflected wave or a transmitted wave when the semiconductor wafer is irradiated with the excitation light or not irradiated with the excitation light with a time difference.

【0016】ここで,時間差の調整に加えて,上記第2
の導波手段を通過する反射波若しくは透過波の振幅及び
/若しくは位相を調整する調整手段を備えれば,励起光
が半導体ウェーハに照射されていない場合に,上記合成
手段の出力をより0に近づけるように設定することがで
き,励起光照射による変調マイクロ波以外の定常的なマ
イクロ波(不要な波)を従来より簡単な構造で取り除く
ことができ装置を小型化することができる。さらに,上
記マイクロ波放射手段の放射端にマイクロ波集束手段を
設ければ,励起光が照射された半導体ウェーハの領域に
マイクロ波の強度を集中させることができ,装置感度を
向上させることができる。さらに,上記第2の導波手段
の長さ及び/若しくは形状を上記合成手段において合成
された反射波若しくは透過波が零となるように設定すれ
ば,予め上記変調マイクロ波以外の定常的なマイクロ波
の大部分を取り除くことができる。さらに,上記第2の
導波手段による反射波若しくは透過波の遅延時間を調整
可能すれば,上記反射波若しくは透過波の特性に応じ
て,遅延時間を調整することができ,少数キャリアのラ
イフタイムをより正確に測定するこができる。
Here, in addition to the adjustment of the time difference, the second
If the adjusting means for adjusting the amplitude and / or the phase of the reflected wave or the transmitted wave passing through the waveguiding means is provided, the output of the synthesizing means is further reduced to 0 when the excitation light is not applied to the semiconductor wafer. The microwaves can be set to be close to each other, and stationary microwaves (unnecessary waves) other than the microwaves modulated by the excitation light irradiation can be removed with a simpler structure than before, and the device can be downsized. Further, if the microwave focusing means is provided at the radiating end of the microwave radiating means, the microwave intensity can be concentrated in the region of the semiconductor wafer irradiated with the excitation light, and the device sensitivity can be improved. . Further, by setting the length and / or shape of the second wave guiding means so that the reflected wave or the transmitted wave combined by the combining means becomes zero, a stationary microwave other than the modulated microwave is previously set. Most of the waves can be removed. Furthermore, if the delay time of the reflected wave or the transmitted wave by the second waveguide means can be adjusted, the delay time can be adjusted according to the characteristics of the reflected wave or the transmitted wave, and the lifetime of the minority carrier is reduced. Can be measured more accurately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係る少数キャリアのラ
イフタイム測定装置の概略構成を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a minority carrier lifetime measuring apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】マイクロ波を半導体ウェーハに入射する導波管
の開口端形状の一例を示す図
FIG. 2 is a diagram showing an example of an open end shape of a waveguide for making a microwave incident on a semiconductor wafer.

【図3】マイクロ波強度を時系列に示したタイムチャー
ト。
FIG. 3 is a time chart showing the microwave intensity in time series.

【図4】本発明の一実施例に係る少数キャリアのライフ
タイム測定装置の概略構成を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of a minority carrier lifetime measuring apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図5】従来の少数キャリアのライフタイム測定装置A
01の概略構成を示す図。
FIG. 5: Conventional minority carrier lifetime measuring device A
The figure which shows the schematic structure of 01.

【図6】従来の少数キャリアのライフタイム測定装置A
02の概略構成を示す図。
FIG. 6 A conventional minority carrier lifetime measuring device A
The figure which shows the schematic structure of 02.

【図7】従来の少数キャリアのライフタイム測定装置A
03の概略構成を示す図。
FIG. 7: Conventional minority carrier lifetime measuring device A
The figure which shows schematic structure of 03.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

0…半導体ウェーハ 1…マイクロ波発振器 2…方向性結合器 3,5,9,13…導波管 4…サーキュレータ 6…移動ステージ 7…パルスレーザ 8,14…マジックT 10…遅延回路 11…アンプ 12…位相シフタ 15…ミキサ 16…A/D変換器 17…演算表示器 0 ... Semiconductor wafer 1. Microwave oscillator 2. Directional coupler 3, 5, 9, 13 ... Waveguide 4 ... Circulator 6 ... Movement stage 7 ... Pulse laser 8, 14 ... Magic T 10 ... Delay circuit 11 ... Amplifier 12 ... Phase shifter 15 ... Mixer 16 ... A / D converter 17 ... Calculation display

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 住江 伸吾 兵庫県神戸市西区高塚台1丁目5番5号 株式会社神戸製鋼所 神戸総合技術研 究所内 (72)発明者 射場 邦夫 兵庫県神戸市西区高塚台1丁目5番5号 神戸製鋼5号館 ジェネシス・テクノ ロジー株式会社内 (72)発明者 尾嶋 太 兵庫県神戸市西区高塚台1丁目5番5号 神戸製鋼5号館 ジェネシス・テクノ ロジー株式会社内 (56)参考文献 特開 平6−347423(JP,A) 特開 平6−27048(JP,A) 特開 平7−5122(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/66 G01N 22/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Shingo Sumie Inoue 1-5-5 Takatsukadai, Nishi-ku, Kobe-shi, Hyogo Prefecture Kobe Steel Works, Ltd. Kobe Research Institute (72) Inventor Kunio Range Nishi-ku, Kobe-shi, Hyogo Prefecture Takatsukadai 1-5-5 Kobe Steel No. 5 Building in Genesis Technology Co., Ltd. (72) Inventor Futoshi Ojima 1-5 Takazukadai, Nishi-ku, Kobe City, Hyogo Prefecture Kobe Steel No. 5 Building in Genesis Technology Co., Ltd. (56) References JP-A-6-347423 (JP, A) JP-A-6-27048 (JP, A) JP-A-7-5122 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7) , DB name) H01L 21/66 G01N 22/00

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半導体ウェーハに断続的に励起光を照射す
るパルス励起光照射手段と,上記パルス励起光照射手段
により上記励起光が照射される半導体ウェーハの領域に
マイクロ波を放射するマイクロ波放射手段と,半導体ウ
ェーハにて反射された上記マイクロ波の反射波若しくは
半導体ウェーハを透過した上記マイクロ波の透過波を検
出する検出手段とを具備し,上記反射波若しくは透過波
の上記パルス励起光照射前後の変化に基づいて半導体ウ
ェーハの少数キャリアのライフタイムを測定する少数キ
ャリアのライフタイム測定装置において,上記反射波若
しくは透過波を2分割する2分割手段と,上記2分割手
段により2分割された一方の反射波若しくは透過波を上
記検出手段に導くための第1の導波手段と,他方の反射
波若しくは透過波を所定時間だけ遅延して上記検出手段
に導くための第2の導波手段と,上記第1及び第2の導
波手段によりそれぞれ導かれた反射波若しくは透過波を
合成して上記検出手段に入力する合成手段とを具備し,
上記検出手段により検出された反射波若しくは透過波に
基づいて半導体ウェーハの少数キャリアのライフタイム
を測定してなることを特徴とする少数キャリアのライフ
タイム測定装置。
1. A pulsed excitation light irradiation means for intermittently irradiating a semiconductor wafer with excitation light, and a microwave radiation for radiating a microwave to a region of the semiconductor wafer irradiated with the excitation light by the pulsed excitation light irradiation means. Means for detecting the reflected wave of the microwave reflected by the semiconductor wafer or the transmitted wave of the microwave transmitted through the semiconductor wafer, and the pulsed excitation light irradiation of the reflected wave or the transmitted wave. In a minority carrier lifetime measuring device for measuring the minority carrier lifetime of a semiconductor wafer based on the change in front and back, it is divided into two by the dividing means for dividing the reflected wave or the transmitted wave into two and the two dividing means. First wave guide means for guiding one reflected wave or transmitted wave to the detection means, and the other reflected wave or transmitted wave A second wave guide means for delaying by a predetermined time to guide to the detecting means and a reflected wave or a transmitted wave respectively guided by the first and second wave guiding means are combined and input to the detecting means. And a synthesizing means for
A minority carrier lifetime measuring device, characterized in that the minority carrier lifetime of a semiconductor wafer is measured based on a reflected wave or a transmitted wave detected by the detecting means.
【請求項2】上記第2の導波手段を通過する反射波若し
くは透過波の振幅及び/若しくは位相を調整する調整手
段を備えてなる請求項1記載の少数キャリアのライフタ
イム測定装置。
2. The minority carrier lifetime measuring apparatus according to claim 1, further comprising adjusting means for adjusting the amplitude and / or phase of the reflected wave or the transmitted wave passing through the second waveguide means.
【請求項3】上記マイクロ波放射手段の放射端にマイク
ロ波集束手段が設けられてなる請求項1若しくは2記載
の少数キャリアのライフタイム測定装置。
3. The minority carrier lifetime measuring device according to claim 1, wherein a microwave focusing means is provided at a radiation end of said microwave radiation means.
【請求項4】上記第2の導波手段の長さ及び/若しくは
形状が,上記合成手段において合成された反射波若しく
は透過波が零となるように設定されてなる請求項1〜3
のいずれかに記載の少数キャリアのライフタイム測定装
置。
4. The length and / or shape of the second waveguide means is set such that the reflected wave or the transmitted wave combined by the combining means becomes zero.
Minority carrier lifetime measuring device according to any one of 1.
【請求項5】上記第2の導波手段による反射波若しくは
透過波の遅延時間を調整可能とした請求項1〜4記載の
少数キャリアのライフタイム測定装置。
5. The minority carrier lifetime measuring device according to claim 1, wherein the delay time of the reflected wave or the transmitted wave by the second waveguide means can be adjusted.
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