JP3488056B2 - Aberration correction device and information reproducing device - Google Patents

Aberration correction device and information reproducing device

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JP3488056B2 JP27180197A JP27180197A JP3488056B2 JP 3488056 B2 JP3488056 B2 JP 3488056B2 JP 27180197 A JP27180197 A JP 27180197A JP 27180197 A JP27180197 A JP 27180197A JP 3488056 B2 JP3488056 B2 JP 3488056B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術的分野】本発明は、レーザ光等の光
ビームを記録媒体に照射して当該記録媒体上の記録情報
を再生する再生装置、又は当該光ビームを用いて記録媒
体上に記録情報を記録する記録装置において、当該光ビ
ームの光軸が記録媒体の情報記録面に対して傾くことに
より当該情報記録面上に生じる波面収差(主としてコマ
収差)を光学的に補正する収差補正装置の技術分野に属
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reproducing apparatus for irradiating a recording medium with a light beam such as a laser beam to reproduce recorded information on the recording medium, or recording on a recording medium using the light beam. In a recording device for recording information, an aberration correction device for optically correcting wavefront aberration (mainly coma aberration) generated on the information recording surface of the recording medium by tilting the optical axis of the light beam with respect to the information recording surface. Belongs to the technical field of.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、上記波面収差を補正する収差補正
装置として、液晶の両面に電極を配置した構成を有する
収差補正装置が一般に知られている。この液晶を用いた
収差補正装置は、液晶においては、加えられる電位差に
応じて液晶分子の配向性が変化することを利用して、当
該液晶を透過する光ビームの屈折率を変化させて上記光
軸の傾きに起因する波面収差を補正するものである。す
なわち、液晶の部分毎に与える電位差を変化させ、光ビ
ームに対する屈折率を変化させることにより、当該光ビ
ームの光路長を液晶の部分毎に異ならせ(すなわち、部
分毎に異なる位相差を与え)、これにより情報記録面ま
での光路長を変化させて光軸の傾きを打ち消すのであ
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, as an aberration correction device for correcting the above wavefront aberration, an aberration correction device having a structure in which electrodes are arranged on both surfaces of a liquid crystal is generally known. The aberration correction device using this liquid crystal utilizes the fact that the orientation of the liquid crystal molecules changes in response to the applied potential difference in the liquid crystal, so that the refractive index of the light beam that passes through the liquid crystal is changed and It is intended to correct the wavefront aberration caused by the inclination of the axis. That is, by changing the potential difference applied to each part of the liquid crystal and changing the refractive index with respect to the light beam, the optical path length of the light beam is made different for each part of the liquid crystal (that is, different phase difference is given to each part). As a result, the optical path length to the information recording surface is changed to cancel the tilt of the optical axis.

【0003】ここで、上記光軸の傾きによる波面収差に
は、記録媒体がディスク状の記録媒体である場合、その
ラジアル方向に光軸が傾くことにより生じる波面収差
と、そのタンジェンシャル方向に光軸が傾くことにより
生じる波面収差があり、これらを共に補正する必要があ
る。
Here, regarding the wavefront aberration due to the inclination of the optical axis, when the recording medium is a disk-shaped recording medium, the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the radial direction and the light in the tangential direction are generated. There is a wavefront aberration caused by the tilt of the axis, and these must be corrected together.

【0004】そこで、従来の液晶を用いた収差補正装置
の構成としては、ディスク状記録媒体に対応したものの
場合、ラジアル方向の光軸の傾斜に起因する波面収差を
補正するための電極形状を備えた液晶素子とタンジェン
シャル方向の光軸の傾斜に起因する波面収差を補正する
ための電極形状を備えた液晶素子とを二つ重ねた構成と
するのが一般的であった。
Therefore, in the case of a conventional aberration correction device using a liquid crystal, which corresponds to a disk-shaped recording medium, an electrode shape for correcting the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the radial direction is provided. In general, a liquid crystal element and a liquid crystal element having an electrode shape for correcting the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the tangential direction are stacked.

【0005】ところで、上記液晶素子を含む光ピックア
ップを小型・軽量化するためには、上記収差補正装置自
体も小型化することが必要であり、そのためには、上記
液晶素子についてもその数を一つにするのが好ましい。
By the way, in order to reduce the size and weight of the optical pickup including the liquid crystal element, it is necessary to reduce the size of the aberration correction device itself. For that purpose, the number of the liquid crystal elements is also reduced. Preferably one.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一つの
液晶の両面にラジアル方向の光軸の傾斜に起因する波面
収差を補正するための電極とタンジェンシャル方向の光
軸の傾斜に起因する波面収差を補正するための電極を備
えた収差補正装置を考えた場合、従来の収差補正装置と
同様の構成で夫々の電極に対して電圧を印加すると、相
互の電極に印加した電圧によって液晶に印加すべき電位
差が相殺されてしまい、夫々の方向の波面収差を補正す
るのに十分な位相差を光ビームに与えることができない
場合があるという問題点があった。
However, an electrode for correcting the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the radial direction and the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the tangential direction are formed on both surfaces of one liquid crystal. When considering an aberration correction device having electrodes for correction, when a voltage is applied to each electrode with the same configuration as a conventional aberration correction device, it should be applied to the liquid crystal by the voltage applied to the mutual electrodes. There is a problem in that the potential difference is canceled out, and it may not be possible to give a sufficient phase difference to the light beam to correct the wavefront aberration in each direction.

【0007】そこで、本発明は、上記の問題点に鑑みて
なされたもので、その課題は、簡易な構成で小型化が可
能であると共に、光軸の傾斜による波面収差を効果的に
補正しうる収差補正装置及び当該収差補正装置を備えた
情報再生装置を提供することにある。
Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and the problem is that the size can be reduced with a simple structure, and the wavefront aberration due to the inclination of the optical axis can be effectively corrected. It is an object of the present invention to provide a possible aberration correction device and an information reproducing device including the aberration correction device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1に記載の発明は、レーザ光等の光ビーム
を出射する光源と当該光ビームを記録媒体上に集光する
対物レンズの間に配置され、前記光ビームに位相差を与
えることにより前記光ビームの波面収差を補正する液晶
等の補正手段と、前記記録媒体が第1の方向に傾斜する
ことにより発生する前記波面収差である第1波面収差を
補正するために、前記補正手段における前記光ビームが
通過する一の面に形成された透明電極等の第1電極と、
前記記録媒体が前記第1の方向と異なる第2の方向に傾
斜することにより発生する前記波面収差である第2波面
収差を補正するために、前記補正手段における前記光ビ
ームが通過する他の面に形成された透明電極等の第2電
極と、前記光ビームに前記位相差を与えて前記第1波面
収差と前記第2波面収差を補正するべく、前記第2電極
に対して第2電圧を印加すると共に、前記第1電極に対
して第1電圧を印加する再生制御部等の電圧印加手段
と、を備える。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention described in claim 1 is a light source for emitting a light beam such as a laser beam and an objective for condensing the light beam on a recording medium. Correcting means, such as a liquid crystal, arranged between the lenses, for correcting the wavefront aberration of the light beam by giving a phase difference to the light beam, and the wavefront generated when the recording medium is tilted in the first direction. A first electrode such as a transparent electrode formed on one surface of the correction means through which the light beam passes in order to correct the first wavefront aberration which is an aberration;
In order to correct the second wavefront aberration, which is the wavefront aberration caused by the recording medium tilting in the second direction different from the first direction, another surface through which the light beam passes in the correction means. A second voltage is applied to the second electrode such as a transparent electrode formed on the second electrode and the second electrode in order to correct the first wavefront aberration and the second wavefront aberration by giving the phase difference to the light beam. And a voltage application unit such as a reproduction controller that applies a first voltage to the first electrode.

【0009】請求項1に記載の発明の作用によれば、補
正手段は、光源と対物レンズの間に配置され、光ビーム
に位相差を与えることにより光ビームの波面収差を補正
する。
According to the operation of the invention described in claim 1, the correcting means is arranged between the light source and the objective lens, and corrects the wavefront aberration of the light beam by giving a phase difference to the light beam.

【0010】このとき、第1電極は、第1波面収差を補
正するために、補正手段における光ビームが通過する一
の面に形成されている。
At this time, the first electrode is formed on one surface of the correcting means through which the light beam passes in order to correct the first wavefront aberration.

【0011】また、第2電極は、第2波面収差を補正す
るために、補正手段における光ビームが通過する他の面
に形成されている。
The second electrode is formed on the other surface of the correcting means through which the light beam passes in order to correct the second wavefront aberration.

【0012】そして、電圧印加手段は、光ビームに位相
差を与えて第1波面収差と第2波面収差を補正するべ
く、第2電極に対して第2電圧を印加すると共に、第1
電極に対して第1電圧を印加する。
The voltage applying means applies a second voltage to the second electrode and applies a second voltage to the second electrode so as to correct the first wavefront aberration and the second wavefront aberration by giving a phase difference to the light beam.
A first voltage is applied to the electrodes.

【0013】よって、第1波面収差と第2波面収差とを
一の補正手段で補正できるので、一の補正手段を備えた
小型且つ簡易な構成の収差補正装置により二つの独立し
た波面収差を補正することができる。
Therefore, since the first wavefront aberration and the second wavefront aberration can be corrected by the one correcting means, two independent wavefront aberrations can be corrected by the aberration correcting device having the one correcting means and having a small and simple structure. can do.

【0014】上記の課題を解決するために、請求項2に
記載の発明は、請求項1に記載の収差補正装置におい
て、前記電圧印加手段は、前記第1電極と前記第2電極
により前記補正手段に与えられる電位差により前記光ビ
ームに与えられる前記位相差が、前記第1の波面収差を
補正するために必要な位相差と前記第2波面収差を補正
するために必要な位相差との和となるように前記第1電
圧及び前記第2電圧を印加するように構成される。
In order to solve the above problems, the invention according to claim 2 is the aberration correction device according to claim 1, wherein the voltage applying means corrects the correction by the first electrode and the second electrode. The phase difference given to the light beam by the potential difference given to the means is the sum of the phase difference required to correct the first wavefront aberration and the phase difference required to correct the second wavefront aberration. Is configured to apply the first voltage and the second voltage.

【0015】請求項2に記載の発明の作用によれば、請
求項1に記載の発明の作用に加えて、電圧印加手段は、
第1電極と第2電極により補正手段に与えられる電位差
により光ビームに与えられる位相差が、第1の波面収差
を補正するために必要な位相差と第2波面収差を補正す
るために必要な位相差との和となるように第1電圧及び
第2電圧を印加する。
According to the operation of the invention described in claim 2, in addition to the operation of the invention described in claim 1, the voltage applying means includes:
The phase difference given to the light beam by the potential difference given to the correction means by the first electrode and the second electrode is necessary to correct the phase difference necessary to correct the first wavefront aberration and the second wavefront aberration. The first voltage and the second voltage are applied so as to be the sum of the phase difference.

【0016】よって、光ビームに対して必要な位相差を
与えるだけの電位差を補正手段に与えることができる。
Therefore, it is possible to provide the correction means with a potential difference that gives a necessary phase difference to the light beam.

【0017】上記の課題を解決するために、請求項3に
記載の発明は、請求項1又は2に記載の収差補正装置に
おいて、前記電圧印加手段は、前記第1波面収差を補正
する前記位相差を前記光ビームに与えるべく前記補正手
段を駆動するための第1駆動信号を生成するCPU等の
第1算出手段と、前記第2波面収差を補正する前記位相
差を前記光ビームに与えるべく前記補正手段を駆動する
ための第2駆動信号を生成するCPU等の第2算出手段
と、前記第1駆動信号を前記第1電圧として前記第1電
極に印加するPWM回路等の第1印加手段と、前記第2
駆動信号を前記第2電圧として前記第2電極に印加する
PWM回路等の第2印加手段と、を備える。
In order to solve the above problems, the invention according to claim 3 is the aberration correction device according to claim 1 or 2, wherein the voltage applying means corrects the first wavefront aberration. A first calculation means such as a CPU that generates a first drive signal for driving the correction means to give a phase difference to the light beam, and a phase difference that corrects the second wavefront aberration to the light beam. Second calculating means such as a CPU for generating a second drive signal for driving the correcting means, and first applying means such as a PWM circuit for applying the first drive signal as the first voltage to the first electrode. And the second
Second applying means such as a PWM circuit for applying a drive signal to the second electrode as the second voltage.

【0018】請求項3に記載の発明の作用によれば、請
求項1又は2に記載の発明の作用に加えて、電圧印加手
段に含まれる第1算出手段は、第1波面収差を補正する
位相差を光ビームに与えるべく補正手段を駆動するため
の第1駆動信号を生成する。
According to the operation of the invention described in claim 3, in addition to the operation of the invention described in claim 1 or 2, the first calculating means included in the voltage applying means corrects the first wavefront aberration. A first drive signal is generated to drive the correction means to provide the phase difference to the light beam.

【0019】一方、第2算出手段は、第2波面収差を補
正する位相差を光ビームに与えるべく補正手段を駆動す
るための第2駆動信号を生成する。
On the other hand, the second calculating means generates a second drive signal for driving the correcting means so as to give a phase difference for correcting the second wavefront aberration to the light beam.

【0020】そして、第1印加手段は、第1駆動信号を
第1電圧として第1電極に印加する。
The first applying means applies the first drive signal as the first voltage to the first electrode.

【0021】また、第2印加手段は、第2駆動信号を第
2電圧として第2電極に印加する。
Further, the second applying means applies the second drive signal as the second voltage to the second electrode.

【0022】よって、光ビームに対して必要な位相差を
与えるだけの電位差を効果的に補正手段に与えることが
できる。
Therefore, it is possible to effectively provide the correction means with a potential difference that gives a necessary phase difference to the light beam.

【0023】上記の課題を解決するために、請求項4に
記載の発明は、請求項3に記載の収差補正装置におい
て、前記第1駆動信号及び前記第2駆動信号はパルス信
号であると共に、前記第2印加手段は、前記光ビームに
予め設定された所定位相差を与えるときの前記第1駆動
信号を基準として、前記第2駆動信号により前記光ビー
ムに前記所定位相差より大きい前記位相差を与えると
き、前記第1駆動信号の位相と前記第2駆動信号の位相
とを逆相とした当該第2駆動信号を前記第2電圧として
印加すると共に、前記第2駆動信号により前記光ビーム
に前記所定位相差よりも小さい前記位相差を与えると
き、前記第1駆動信号の位相と前記第2駆動信号の位相
とを同相とした当該第2駆動信号を前記第2電圧として
印加するように構成される。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 4 is the aberration correction device according to claim 3, wherein the first drive signal and the second drive signal are pulse signals, and The second applying unit uses the second drive signal as a reference to set the phase difference larger than the predetermined phase difference to the light beam with reference to the first drive signal when giving the predetermined phase difference to the light beam. Is applied, the second drive signal in which the phase of the first drive signal and the phase of the second drive signal are opposite to each other is applied as the second voltage, and the light beam is applied to the light beam by the second drive signal. When the phase difference smaller than the predetermined phase difference is applied, the second drive signal in which the phase of the first drive signal and the phase of the second drive signal are in phase is applied as the second voltage. Done .

【0024】請求項4に記載の発明の作用によれば、請
求項3に記載の発明の作用に加えて、第1駆動信号及び
第2駆動信号はパルス信号であると共に、第2印加手段
は、光ビームに所定位相差を与えるときの第1駆動信号
を基準として、第2駆動信号により光ビームに所定位相
差より大きい位相差を与えるとき、第1駆動信号の位相
と第2駆動信号の位相とを逆相とした当該第2駆動信号
を第2電圧として印加すると共に、第2駆動信号により
光ビームに所定位相差よりも小さい位相差を与えると
き、第1駆動信号の位相と第2駆動信号の位相とを同相
とした当該第2駆動信号を第2電圧として印加する。
According to the operation of the invention described in claim 4, in addition to the operation of the invention described in claim 3, the first drive signal and the second drive signal are pulse signals, and the second applying means is When a phase difference larger than the predetermined phase difference is given to the light beam by the second drive signal with reference to the first drive signal when giving the predetermined phase difference to the light beam, the phase of the first drive signal and the second drive signal When the second drive signal having a phase opposite to that of the second drive signal is applied as the second voltage and a phase difference smaller than a predetermined phase difference is given to the light beam by the second drive signal, the phase of the first drive signal and the second drive signal The second drive signal having the same phase as the drive signal is applied as the second voltage.

【0025】よって、第1駆動信号及び第2駆動信号が
パルス信号であっても、光ビームに対して必要な位相差
を与えるだけの電位差を補正手段に与えることができ
る。
Therefore, even if the first drive signal and the second drive signal are pulse signals, it is possible to provide the correction means with a potential difference that provides a necessary phase difference to the light beam.

【0026】上記の課題を解決するために、請求項5に
記載の発明は、請求項1から4のいずれか一項に記載の
収差補正装置において、前記記録媒体と前記光ビームの
光軸とのなす角度を検出し、検出信号を出力するチルト
センサ等の検出手段を更に備え、前記電圧印加手段は、
前記検出信号に基づいて、前記位相差を前記光ビームに
与えるように前記補正手段を駆動すべく、前記第1電圧
及び前記第2電圧を印加するように構成される。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 5 is the aberration correction device according to any one of claims 1 to 4, wherein the recording medium and the optical axis of the light beam are Further comprises a detecting means such as a tilt sensor for detecting the angle formed by the voltage applying means, and the voltage applying means,
Based on the detection signal, the first voltage and the second voltage are applied to drive the correction means so as to give the phase difference to the light beam.

【0027】請求項5に記載の発明の作用によれば、請
求項1から4のいずれか一項に記載の発明の作用に加え
て、検出手段は、記録媒体と光ビームの光軸とのなす角
度を検出し、検出信号を出力する。
According to the action of the invention described in claim 5, in addition to the action of the invention described in any one of claims 1 to 4, the detecting means is provided with the recording medium and the optical axis of the light beam. The angle formed is detected and a detection signal is output.

【0028】そして、電圧印加手段は、検出信号に基づ
いて、位相差を光ビームに与えるように補正手段を駆動
すべく、第1電圧及び第2電圧を印加する。
Then, the voltage applying means applies the first voltage and the second voltage based on the detection signal so as to drive the correcting means so as to give the phase difference to the light beam.

【0029】よって、光ビームと記録媒体のなす角度の
変化によって発生する波面収差を効果的に補正すること
ができる。
Therefore, it is possible to effectively correct the wavefront aberration caused by the change in the angle formed by the light beam and the recording medium.

【0030】上記の課題を解決するために、請求項6に
記載の発明は、請求項1から5のいずれか一項に記載の
収差補正装置において、前記記録媒体は、光ディスク等
のディスク状記録媒体であると共に、前記第1の方向
は、当該ディスク状記録媒体におけるラジアル方向又は
タンジェンシャル方向のうち、いずれか一方であり、前
記第2の方向は、前記ラジアル方向又は前記タンジェン
シャル方向のうち、いずれか他方であるように構成され
る。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 6 is the aberration correction apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the recording medium is a disk-shaped recording such as an optical disk. While being a medium, the first direction is one of a radial direction and a tangential direction in the disc-shaped recording medium, and the second direction is one of the radial direction and the tangential direction. , Either is configured to be the other.

【0031】請求項6に記載の発明の作用によれば、請
求項1から5のいずれか一項に記載の発明の作用に加え
て、記録媒体はディスク状記録媒体であると共に、第1
の方向はラジアル方向又はタンジェンシャル方向のうち
いずれか一方であり、第2の方向はラジアル方向又は前
記タンジェンシャル方向のうちいずれか他方であるの
で、ディスク状記録媒体のラジアル方向の傾斜に起因す
る波面収差とタンジェンシャル方向の傾斜に起因する波
面収差とを同時に補正することができる。
According to the operation of the invention described in claim 6, in addition to the operation of the invention described in any one of claims 1 to 5, the recording medium is a disk-shaped recording medium, and
Direction is either the radial direction or the tangential direction, and the second direction is the radial direction or the other of the tangential directions, and is therefore caused by the inclination of the disc-shaped recording medium in the radial direction. It is possible to simultaneously correct the wavefront aberration and the wavefront aberration caused by the inclination in the tangential direction.

【0032】上記の課題を解決するために、請求項7に
記載の発明は、請求項6に記載の収差補正装置におい
て、前記第1電圧又は前記第2電圧のうちいずれか一方
が前記記録媒体の前記ラジアル方向の傾斜により発生す
る波面収差を補正するために前記補正手段に印加される
電圧であり、前記第1電圧又は前記第2電圧のうちいず
れか他方が前記記録媒体の前記タンジェンシャル方向の
傾斜により発生する波面収差を補正するために前記補正
手段に印加される電圧であるように構成される。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 7 is the aberration correction device according to claim 6, wherein one of the first voltage and the second voltage is the recording medium. Of the first voltage or the second voltage, which is the voltage applied to the correction means for correcting the wavefront aberration generated by the inclination of the recording medium in the radial direction. Is a voltage applied to the correction means in order to correct the wavefront aberration caused by the inclination of.

【0033】請求項7に記載の発明の作用によれば、請
求項6に記載の発明の作用に加えて、第1電圧又は第2
電圧のうちいずれか一方が記録媒体のラジアル方向の傾
斜により発生する波面収差を補正するために補正手段に
印加される電圧であり、第1電圧又は第2電圧のうちい
ずれか他方が記録媒体のタンジェンシャル方向の傾斜に
より発生する波面収差を補正するために補正手段に印加
される電圧であるので、夫々の方向の波面収差を効果的
に補正するように電圧を印加することができる。
According to the action of the invention described in claim 7, in addition to the action of the invention described in claim 6, the first voltage or the second voltage is applied.
One of the voltages is a voltage applied to the correction means for correcting the wavefront aberration generated by the inclination of the recording medium in the radial direction, and the other of the first voltage and the second voltage is the voltage of the recording medium. Since the voltage is applied to the correction means in order to correct the wavefront aberration caused by the inclination in the tangential direction, the voltage can be applied so as to effectively correct the wavefront aberration in each direction.

【0034】上記の課題を解決するために、請求項8に
記載の発明は、請求項1から7のいずれか一項に記載の
収差補正装置において、前記補正手段は、前記第1電圧
及び前記第2電圧が印加されることにより屈折率を変化
させて透過する前記光ビームに前記位相差を与え、夫々
の方向の傾斜により発生する各前記波面収差を補正する
液晶であるように構成される。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 8 is the aberration correction device according to any one of claims 1 to 7, wherein the correction means includes the first voltage and the first voltage. It is configured to be a liquid crystal that changes the refractive index when a second voltage is applied to give the phase difference to the transmitted light beam and corrects each of the wavefront aberrations generated by the inclination of the respective directions. .

【0035】請求項8に記載の発明の作用によれば、請
求項1から7のいずれか一項に記載の発明の作用に加え
て、補正手段としての液晶は、第1電圧及び第2電圧が
印加されることにより屈折率を変化させて透過する光ビ
ームに位相差を与え、夫々の方向の傾斜により発生する
各波面収差を補正する。
According to the operation of the invention described in claim 8, in addition to the operation of the invention described in any one of claims 1 to 7, the liquid crystal serving as the correction means has the first voltage and the second voltage. Is applied to change the refractive index and give a phase difference to the transmitted light beam, thereby correcting each wavefront aberration generated by the inclination in each direction.

【0036】よって、簡潔な方法で第1波面収差及び第
2波面収差を補正することができる。
Therefore, the first wavefront aberration and the second wavefront aberration can be corrected by a simple method.

【0037】上記の課題を解決するために、請求項9に
記載の発明は、請求項1から8のいずれか一項に記載の
収差補正装置と、レーザダイオード等の前記光源と、前
記対物レンズと、前記収差補正装置を通過し、前記記録
媒体に照射された前記光ビームの当該記録媒体からの反
射光を受光し、受光信号を出力する受光器等の受光手段
と、前記受光信号に基づいて前記記録情報を再生する復
調部等の再生手段と、を備える。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 9 is the aberration correction device according to any one of claims 1 to 8, the light source such as a laser diode, and the objective lens. And a light receiving unit such as a light receiver that receives reflected light from the recording medium of the light beam that has passed through the aberration correction device and is applied to the recording medium, and outputs a light receiving signal, and based on the received light signal. And a reproduction unit such as a demodulation unit for reproducing the recorded information.

【0038】請求項9に記載の発明の作用によれば、請
求項1から8のいずれか一項に記載の発明の作用に加え
て、光源は光ビームを出射する。
According to the action of the invention described in claim 9, in addition to the action of the invention described in any one of claims 1 to 8, the light source emits a light beam.

【0039】また、対物レンズは光ビームを記録媒体上
に集光する。
The objective lens focuses the light beam on the recording medium.

【0040】そして、受光手段は、収差補正装置を通過
して記録媒体に照射された光ビームの当該記録媒体から
の反射光を受光し、受光信号を出力する。
Then, the light receiving means receives the reflected light from the recording medium of the light beam which has passed through the aberration correction device and is applied to the recording medium, and outputs a light receiving signal.

【0041】その後、再生手段は、受光信号に基づいて
記録情報を再生する。
After that, the reproducing means reproduces the recorded information based on the received light signal.

【0042】よって、収差補正装置により波面収差が補
正された光ビームを用いて記録情報が再生されるので、
正確に記録情報を再生することができる。
Therefore, since the recorded information is reproduced by using the light beam whose wavefront aberration is corrected by the aberration correction device,
The recorded information can be reproduced accurately.

【0043】[0043]

【発明の実施の形態】次に、本発明に好適な実施の形態
について、図面に基づいて説明する。なお、以下に説明
する実施の形態は、記録情報が記録されている記録媒体
及びディスク状記録媒体としての光ディスクから当該記
録情報を読み出す際に、当該光ディスクと光ビームの光
軸とのなす角の変化(光ディスク自体の反りや外部から
の振動又は回転による光ディスクの振動に起因する傾
き)により発生する波面収差を補正しつつ読み出す情報
再生装置に対して本発明を適用した場合の実施の形態で
ある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the embodiments described below, when the recording information is read from the recording medium on which the recording information is recorded and the optical disc as the disc-shaped recording medium, the angle between the optical disc and the optical axis of the light beam is determined. This is an embodiment in the case where the present invention is applied to an information reproducing apparatus which reads out while correcting a wavefront aberration caused by a change (a warp of the optical disc itself or an inclination caused by vibration of the optical disc due to external vibration or rotation). .

【0044】(I)第1実施形態 始めに、本発明に係る第1の実施形態について、図1乃
至図7を用いて説明する。なお、以下に説明する第1実
施形態は、光ディスクのラジアル方向に発生する波面収
差又はタンジェンシャル方向に発生する波面収差のいず
れか一方のみを補正する場合の実施の形態である。
(I) First Embodiment First, a first embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7. The first embodiment described below is an embodiment in which only one of the wavefront aberration occurring in the radial direction of the optical disc and the wavefront aberration occurring in the tangential direction is corrected.

【0045】先ず、第1実施形態の情報再生装置の全体
構成について、図1を用いて説明する。
First, the overall structure of the information reproducing apparatus of the first embodiment will be described with reference to FIG.

【0046】図1に示すように、第1実施形態の情報再
生装置Sは、光ディスク5を所定回転数で回転させるス
ピンドルモータ14と、発生する波面収差を補正しつつ
光ビームBを光ディスク5に照射し、その反射光に基づ
いて光ディスク5上の記録情報に対応する検出信号Sr
を出力する光ピックアップ13と、光ピックアップ13
内に含まれる後述の液晶パネルを駆動することにより上
記波面収差を補正すると共に検出信号Srに基づいて記
録情報を再生し再生信号Sdとして出力する電圧印加手
段及び再生手段としての再生制御部20とを備えて構成
されている。
As shown in FIG. 1, the information reproducing apparatus S of the first embodiment has a spindle motor 14 for rotating the optical disc 5 at a predetermined number of revolutions, and a light beam B for the optical disc 5 while correcting the generated wavefront aberration. The detection signal Sr corresponding to the recorded information on the optical disk 5 is emitted based on the reflected light.
Optical pickup 13 for outputting
By driving a liquid crystal panel, which will be described later, included therein, the wavefront aberration is corrected and a reproduction control section 20 as a reproducing means and a voltage applying means for reproducing recorded information based on the detection signal Sr and outputting it as a reproduced signal Sd. It is configured with.

【0047】また、光ピックアップ13は、光源として
のレーザダイオード1と、ハーフミラー2と、対物レン
ズ4と、集光レンズ6と、受光手段として受光器7と、
本発明に係る液晶としての液晶パネル10と、光ビーム
Bが照射される光ディスク5上の領域のラジアル方向の
傾き角(以下、ラジアル方向のチルト角という。)を検
出する検出手段としてのラジアル方向チルトセンサ11
と、光ビームBが照射される光ディスク5上の領域のタ
ンジェンシャル方向の傾き角(以下、タンジェンシャル
方向のチルト角という。)を検出する検出手段としての
タンジェンシャル方向チルトセンサ12と、により構成
されている。
The optical pickup 13 includes a laser diode 1 as a light source, a half mirror 2, an objective lens 4, a condenser lens 6, and a light receiver 7 as a light receiving means.
A liquid crystal panel 10 as a liquid crystal according to the present invention and a radial direction as a detection unit for detecting a tilt angle in the radial direction of an area on the optical disc 5 irradiated with the light beam B (hereinafter, referred to as a tilt angle in the radial direction). Tilt sensor 11
And a tangential direction tilt sensor 12 as a detecting means for detecting a tilt angle in the tangential direction (hereinafter, referred to as a tilt angle in the tangential direction) of an area on the optical disc 5 which is irradiated with the light beam B. Has been done.

【0048】一方、再生制御部20は、第1算出手段及
び第2算出手段としてのCPU21と、A/D変換器2
2及び25と、第1印加手段としてのPWM(Pulse W
idthModulation;パルス幅変調)回路23及び第2印加
手段としてのPWM回路26と、増幅器24及び27
と、により構成されている。
On the other hand, the reproduction control section 20 includes a CPU 21 as a first calculating means and a second calculating means, and an A / D converter 2.
2 and 25, and PWM (Pulse W) as the first applying means.
idthModulation circuit 23, a PWM circuit 26 as second applying means, and amplifiers 24 and 27
It consists of and.

【0049】次に、全体動作を説明する。Next, the overall operation will be described.

【0050】光ディスク5は、スピンドルモータ14に
より所定の回転数にて回転駆動されている。
The optical disk 5 is rotationally driven by the spindle motor 14 at a predetermined rotational speed.

【0051】この時、レ−ザダイオード1から出射され
た光ビームBはハ−フミラー2で一部が反射され、液晶
パネル10に入射する。そして、当該液晶パネル10を
透過する際に波面収差が補正され、その後、対物レンズ
4によって光ディスク5の情報記録面に集光される。
At this time, the light beam B emitted from the laser diode 1 is partially reflected by the half mirror 2 and enters the liquid crystal panel 10. Then, the wavefront aberration is corrected when passing through the liquid crystal panel 10, and then the objective lens 4 focuses the wavefront aberration on the information recording surface of the optical disc 5.

【0052】次に、光ディスク5の情報記録面において
反射された光ビームBは、再び対物レンズ4及び液晶パ
ネル10を通過して、ハーフミラー2を透過し、集光レ
ンズ6を介して受光器7上に集光される。そして、受光
器7において受光された光ビームBの反射光は、当該受
光器7において電気信号である検出信号Srに変換さ
れ、CPU21に供給される。その後、当該CPU21
において所定の復調処理等が施され、光ディスク5に記
録されていた記録情報に対応する再生信号Sdとして図
示しない再生回路に出力される。
Next, the light beam B reflected on the information recording surface of the optical disk 5 again passes through the objective lens 4 and the liquid crystal panel 10, passes through the half mirror 2, and passes through the condenser lens 6 to receive a light. Focused on 7. Then, the reflected light of the light beam B received by the light receiver 7 is converted into a detection signal Sr which is an electric signal in the light receiver 7, and is supplied to the CPU 21. Then, the CPU 21
Then, a predetermined demodulation process or the like is performed, and the reproduced signal Sd corresponding to the recording information recorded on the optical disc 5 is output to a reproducing circuit (not shown).

【0053】上述した動作と並行して、光ディスク5に
おけるラジアル方向のチルト角は、ラジアル方向チルト
センサ11により検出され、アナログ信号であるチルト
検出信号Sp1として出力される。そして、当該チルト検
出信号Sp1はA/D変換器25においてディジタル化さ
れ、CPU21に入力される。
In parallel with the above operation, the radial tilt angle of the optical disk 5 is detected by the radial tilt sensor 11 and is output as a tilt detection signal Sp1 which is an analog signal. Then, the tilt detection signal Sp1 is digitized by the A / D converter 25 and input to the CPU 21.

【0054】これに対し、光ディスク5におけるタンジ
ェンシャル方向のチルト角は、タンジェンシャル方向チ
ルトセンサ12により検出され、アナログ信号であるチ
ルト検出信号Sp2として出力される。そして、当該チル
ト検出信号Sp2はA/D変換器22においてディジタル
化され、CPU21に入力される。
On the other hand, the tilt angle in the tangential direction on the optical disk 5 is detected by the tangential direction tilt sensor 12 and output as a tilt detection signal Sp2 which is an analog signal. Then, the tilt detection signal Sp2 is digitized by the A / D converter 22 and input to the CPU 21.

【0055】ここで、ラジアル方向チルトセンサ11及
びタンジェンシャル方向チルトセンサ12は同一の構造
を有する光センサであり、1つの発光部と2つの受光部
を有している。そして、光ディスク5のラジアル方向の
チルト角を検出するように配置されたものがラジアル方
向チルトセンサ11であり、そのタンジェンシャル方向
のチルト角を検出するように配置されたものがタンジェ
ンシャル方向チルトセンサ12である。
Here, the radial direction tilt sensor 11 and the tangential direction tilt sensor 12 are optical sensors having the same structure and have one light emitting portion and two light receiving portions. The radial tilt sensor 11 is arranged to detect the radial tilt angle of the optical disk 5, and the tangential tilt sensor is arranged to detect the tilt angle of the tangential direction. Twelve.

【0056】次に、CPU21は、入力されたチルト検
出信号Sp1に基づいて、後述の波形を有する駆動信号S
dv1を生成し、PWM回路23においてPWM変調を施
した後増幅器24において増幅し、液晶パネル10にお
ける後述のパターン電極に出力する。
Next, the CPU 21 drives the drive signal S having a waveform described later on the basis of the input tilt detection signal Sp1.
dv1 is generated, subjected to PWM modulation in the PWM circuit 23, amplified in the amplifier 24, and output to a pattern electrode described later in the liquid crystal panel 10.

【0057】同時に、CPU21は、入力されたチルト
検出信号Sp2に基づいて、後述の波形を有する駆動信号
Sdv2を生成し、PWM回路26においてPWM変調を
施した後増幅器27において増幅し、液晶パネル10に
おける後述のパターン電極に出力する。
At the same time, the CPU 21 generates a drive signal Sdv2 having a waveform described later on the basis of the input tilt detection signal Sp2, PWM-modulates it in the PWM circuit 26 and then amplifies it in the amplifier 27, and then the liquid crystal panel 10. To a pattern electrode described later in.

【0058】CPU21の動作についてより具体的に
は、当該CPU21は、A/D変換器22又は25から
出力されたチルト検出信号Sp1又はSp2に基づいて、液
晶パネル10の後述する各パターン電極毎のラジアル方
向又はタンジェンシャル方向の収差補正量(すなわち、
ラジアル方向又はタンジェンシャル方向のチルト角によ
り生じる波面収差を打ち消すために液晶パネル10を通
過する光ビームBに与えるべき位相差)を算出する。こ
の時、CPU21は、予め図示しないROM(Read On
ly Memory)等に記憶されている収差補正量を示す補正
量データを用いてチルト検出信号Sp1又はSp2の値に応
じた収差補正量を算出する。そして、当該収差補正量を
示す駆動信号Sdv1又はSdv2がPWM回路23又は26
に供給される。
Regarding the operation of the CPU 21, more specifically, the CPU 21 operates on the basis of the tilt detection signal Sp1 or Sp2 output from the A / D converter 22 or 25 for each pattern electrode of the liquid crystal panel 10 described later. Aberration correction amount in the radial direction or tangential direction (that is,
A phase difference to be given to the light beam B passing through the liquid crystal panel 10 in order to cancel the wavefront aberration caused by the tilt angle in the radial direction or the tangential direction) is calculated. At this time, the CPU 21 reads the ROM (Read On
The correction amount data indicating the correction amount of aberration stored in the ly memory) or the like is used to calculate the correction amount of aberration according to the value of the tilt detection signal Sp1 or Sp2. Then, the drive signal Sdv1 or Sdv2 indicating the aberration correction amount is sent to the PWM circuit 23 or 26.
Is supplied to.

【0059】その後、PWM回路23又は26におい
て、駆動信号Sdv1又はSdv2に対してパルス幅の変換が
施される。そして、パルス幅が変換された駆動信号Sdv
1又はSdv2は増幅器24又は27において所定の増幅率
で増幅された後、液晶パネル10の各パターン電極に出
力される。
After that, the PWM circuit 23 or 26 performs pulse width conversion on the drive signal Sdv1 or Sdv2. Then, the drive signal Sdv whose pulse width has been converted
1 or Sdv2 is amplified by the amplifier 24 or 27 at a predetermined amplification factor and then output to each pattern electrode of the liquid crystal panel 10.

【0060】そして、各パターン電極に出力された駆動
信号Sdv1又はSdv2に応じて液晶パネル10を駆動して
その屈折率を制御し、当該液晶パネル10を通過する光
ビームBに対して位相差を与えることでラジアル方向又
はタンジェンシャル方向の波面収差を補正することとな
る。
Then, the liquid crystal panel 10 is driven according to the drive signal Sdv1 or Sdv2 output to each pattern electrode to control the refractive index thereof, and the phase difference with respect to the light beam B passing through the liquid crystal panel 10 is controlled. By giving it, the wavefront aberration in the radial direction or the tangential direction is corrected.

【0061】次に、本発明の液晶パネル10の構成及び
動作について、図2乃至図7を用いて説明する。
Next, the structure and operation of the liquid crystal panel 10 of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0062】図2にその縦断面図を示すように、実施形
態の補正手段としての液晶パネル10は、液晶分子Mを
含む液晶10gを挟んで、当該液晶10gに所定の分子
配向を与えるための配向膜10e及び10fが形成さ
れ、更に夫々の配向膜10e及び10fの外側にITO
(Indium-tin Oxide;インジウム錫酸化物)等により
なる第1電極としての透明電極10c及び第2電極とし
ての透明電極10dが形成されている。そして、最外部
には保護層としてのガラス基板10a及び10bが形成
されている。
As shown in the longitudinal sectional view in FIG. 2, the liquid crystal panel 10 as the correcting means of the embodiment sandwiches the liquid crystal 10g containing the liquid crystal molecules M and gives the liquid crystal 10g a predetermined molecular orientation. Alignment films 10e and 10f are formed, and ITO is formed outside each of the alignment films 10e and 10f.
A transparent electrode 10c as a first electrode and a transparent electrode 10d as a second electrode made of (Indium-tin Oxide) or the like are formed. Then, glass substrates 10a and 10b as protective layers are formed on the outermost portion.

【0063】この構成において、夫々の透明電極10c
及び10dは、後述するように、波面収差の分布に対応
したパターン電極に分割されており、透明電極10cが
ラジアル方向の光軸の傾斜に起因する波面収差を補正す
るための電極であり、透明電極10dがタンジェンシャ
ル方向の光軸の傾斜に起因する波面収差を補正するため
の電極である。
In this structure, each transparent electrode 10c
As will be described later, 10 and 10d are divided into pattern electrodes corresponding to the distribution of the wavefront aberration, and the transparent electrode 10c is an electrode for correcting the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the radial direction. The electrode 10d is an electrode for correcting the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the tangential direction.

【0064】また、液晶10gは、図2に示すように液
晶分子Mの光学軸方向とこれに垂直な方向とでその屈折
率が異なる、いわゆる複屈折効果を有しているものが用
いられ、透明電極10c及び10dに印加する電圧値を
変化させることにより、図2(a)乃至(c)に示すよ
うに、液晶分子Mの向きを水平方向から垂直方向まで自
在に変えることができる。
Further, as the liquid crystal 10g, as shown in FIG. 2, a liquid crystal having a so-called birefringence effect, in which the refractive index is different between the optical axis direction of the liquid crystal molecule M and the direction perpendicular thereto, is used. By changing the voltage value applied to the transparent electrodes 10c and 10d, the orientation of the liquid crystal molecules M can be freely changed from the horizontal direction to the vertical direction as shown in FIGS. 2 (a) to 2 (c).

【0065】このとき、CPU21は、上記各チルト検
出信号Sp1又はSp2に基づいて、透明電極10c及び1
0dの各パターン電極毎に印加する駆動信号Sdv1又は
Sdv2を算出し、液晶パネル10に出力する。
At this time, the CPU 21 makes the transparent electrodes 10c and 1c based on the tilt detection signals Sp1 and Sp2.
The drive signal Sdv1 or Sdv2 applied to each 0d pattern electrode is calculated and output to the liquid crystal panel 10.

【0066】次に、各透明電極10c及び10dの構成
について、図3を用いて説明する。
Next, the structure of each transparent electrode 10c and 10d will be described with reference to FIG.

【0067】始めに、透明電極10cは、図3(a)に
示すように線対称に配置された五つのパターン電極30
a、30b、31a、31b及び32に分割されてお
り、夫々のパターン電極は相互に絶縁されている。ま
た、これらのパターン電極のうち、パターン電極30a
と30bが同一の駆動信号Sdv1により駆動され、更に
パターン電極31aと31bが同一の駆動信号Sdv1に
より駆動される。なお、透明電極10cが図3(a)に
示す形状に分割されているのは、パターン電極の形状
(すなわち、独立して駆動制御される領域の区分)を後
述するラジアル方向に発生する波面収差の分布と略同一
の形状とするためである。また、透明電極10c全体の
大きさとしては、光ビームBの当該透明電極10cへの
入射範囲SPが、図3(a)に示す範囲となるような大
きさとされる。
First, the transparent electrode 10c is composed of five pattern electrodes 30 arranged line-symmetrically as shown in FIG.
It is divided into a, 30b, 31a, 31b and 32, and the respective pattern electrodes are insulated from each other. Of these pattern electrodes, the pattern electrode 30a
And 30b are driven by the same drive signal Sdv1, and the pattern electrodes 31a and 31b are driven by the same drive signal Sdv1. The transparent electrode 10c is divided into the shapes shown in FIG. 3A because the pattern electrode shape (that is, the division of the regions that are independently driven and controlled) causes wavefront aberration that occurs in the radial direction described later. This is because the shape is substantially the same as the distribution of. Further, the size of the entire transparent electrode 10c is set such that the incident range SP of the light beam B on the transparent electrode 10c falls within the range shown in FIG.

【0068】一方、透明電極10dは、図3(b)に示
すように線対称に配置された五つのパターン電極40
a、40b、41a、41b及び42に分割されてお
り、夫々のパターン電極は相互に絶縁されている。ま
た、これらのパターン電極のうち、パターン電極40a
と40bが同一の駆動信号Sdv2により駆動され、更に
パターン電極41aと41bが同一の駆動信号Sdv2に
より駆動される。なお、透明電極10dが図3(b)に
示す形状に分割されているのは、透明電極10cの場合
と同様に、パターン電極の形状を後述するタンジェンシ
ャル方向に発生する波面収差の分布と略同一の形状とす
るためである。また、透明電極10d全体の大きさとし
ては、光ビームBの当該透明電極10dへの入射範囲S
Pが、図3(b)に示す範囲となるような大きさとされ
る。
On the other hand, the transparent electrode 10d is composed of five pattern electrodes 40 arranged in line symmetry as shown in FIG. 3 (b).
a, 40b, 41a, 41b and 42, and the respective pattern electrodes are insulated from each other. Of these pattern electrodes, the pattern electrode 40a
And 40b are driven by the same drive signal Sdv2, and the pattern electrodes 41a and 41b are driven by the same drive signal Sdv2. The transparent electrode 10d is divided into the shape shown in FIG. 3B because the shape of the pattern electrode is substantially the same as the distribution of wavefront aberration generated in the tangential direction described later, as in the case of the transparent electrode 10c. This is because they have the same shape. Further, as the size of the entire transparent electrode 10d, the incident range S of the light beam B to the transparent electrode 10d is S.
The size of P is such that it falls within the range shown in FIG.

【0069】次に、液晶パネル10による光ディスク5
のチルト角に起因する波面収差の補正の原埋及び上記各
パターン電極の形状の決定要因について、図3乃至図5
を用いて説明する。なお、以下の説明は、ラジアル方向
の光軸の傾斜に起因する波面収差を補正する場合(すな
わち、透明電極10cに駆動信号Sdv1を印加して波面
収差を補正する場合)について説明するものである。
Next, the optical disk 5 using the liquid crystal panel 10
3 to 5 regarding the factors for determining the shape of each pattern electrode and the original filling of the correction of the wavefront aberration caused by the tilt angle of
Will be explained. Note that the following description will be made for the case of correcting the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the radial direction (that is, the case of applying the drive signal Sdv1 to the transparent electrode 10c to correct the wavefront aberration). .

【0070】まず、対物レンズ4の瞳面における波面収
差をW(r,φ)とする。ここで、(r,φ)は瞳面の
極座標である。
First, the wavefront aberration on the pupil plane of the objective lens 4 is W (r, φ). Here, (r, φ) is the polar coordinate of the pupil plane.

【0071】今、光ディスク5が光ビームBの軸に対し
て傾いた場合(すなわち、チルト角が発生した場含)に
は、上述のように波面収差(主としてコマ収差)が発生
し、対物レンズ4により光ビームBを絞ることができな
くなる。この場合に、チルト角に起困して発生する波面
収差Wtlt(r,φ)のうち、その大部分を占めるの
は、下記式(1)で表される波面収差である。
When the optical disk 5 is tilted with respect to the axis of the light beam B (that is, when a tilt angle is generated), wavefront aberration (mainly coma aberration) occurs as described above, and the objective lens 4 makes it impossible to focus the light beam B. In this case, most of the wavefront aberration Wtlt (r, φ) that occurs due to the tilt angle is the wavefront aberration represented by the following formula (1).

【0072】[0072]

【数1】 Wtlt(r,φ)≒ω31×r3×cosφ+ω11×r×cosφ …(1) ここで、ω31及びω11は光ディスク5のチルト角、基板
の厚さ、基板の屈折率及び対物レンズ4の開口数(N
A)で与えられる定数であり、ω31はコマ収差、ω11
像点の移動による収差を表している。この数式を用いて
瞳面での波面収差分布を計算した結果が、後述する図4
により示される波面収差分布(ラジアル方向のチルト角
に起因する波面収差分布)に対応する。
## EQU1 ## Wtlt (r, φ) ≈ω 31 × r 3 × cos φ + ω 11 × r × cos φ (1) where ω 31 and ω 11 are the tilt angle of the optical disk 5, the thickness of the substrate, and the refraction of the substrate. And the numerical aperture of the objective lens 4 (N
It is a constant given by A), ω 31 is coma, and ω 11 is aberration due to movement of the image point. The result of calculating the wavefront aberration distribution on the pupil plane using this mathematical formula is shown in FIG.
Corresponds to the wavefront aberration distribution (wavefront aberration distribution caused by the tilt angle in the radial direction).

【0073】また、瞳面上の波面収差W(r,φ)の標
準偏差をWrmsとすると、当該Wrmsは下記式(2)によ
り表される。
When the standard deviation of the wavefront aberration W (r, φ) on the pupil plane is Wrms, the Wrms is expressed by the following equation (2).

【0074】[0074]

【数2】 ここで、式(2)中のW0はW(r,φ)の瞳面上の平
均値である。このWrmsは、波面収差の評価に用いら
れ、Wrmsを小さくすれば波面収差の影響が少なく良好
な再生を行うことができる。
[Equation 2] Here, W 0 in the equation (2) is an average value of W (r, φ) on the pupil plane. This Wrms is used for evaluation of the wavefront aberration, and if Wrms is made small, the influence of the wavefront aberration is small and good reproduction can be performed.

【0075】ところで、式(2)から明らかなように、
波面収差を補正するにはW(r,φ)を小さくすればよ
い。そこで、光ディスク5がそのラジアル方向に傾いた
ことにより発生したWtlt(r,φ)を補正するため
に、液晶パネル10の透明電極10cにおける各パター
ン電極に印加される駆動信号Sdv1を制御して、あるパ
ターン電極に対応する液晶10gの領域の屈折率をΔn
だけ変化させたとすると、この屈折率の変化により当該
パターン電極に対応する領域を通過する光ビームBに対
して光路差Δn×d(dは液晶10gの厚さ)を与える
ことができる。
By the way, as is clear from the equation (2),
To correct the wavefront aberration, W (r, φ) may be reduced. Therefore, in order to correct Wtlt (r, φ) generated by the optical disc 5 tilting in the radial direction, the drive signal Sdv1 applied to each pattern electrode in the transparent electrode 10c of the liquid crystal panel 10 is controlled, The refractive index of the region of the liquid crystal 10g corresponding to a certain pattern electrode is Δn
If it is changed, the optical path difference Δn × d (d is the thickness of the liquid crystal 10g) can be given to the light beam B passing through the region corresponding to the pattern electrode due to the change in the refractive index.

【0076】そして、液晶10gで与えられる光路差を
Wlc(r,φ)とすると、液晶パネル10を配置したと
きの対物レンズ4の瞳面における波面収差W(r,φ)
は以下に示す式(3)で表される。
When the optical path difference given by the liquid crystal 10g is Wlc (r, φ), the wavefront aberration W (r, φ) on the pupil plane of the objective lens 4 when the liquid crystal panel 10 is arranged.
Is represented by the following equation (3).

【0077】[0077]

【数3】 W(r,φ)=Wtlt(r,φ)+Wlc(r,φ) …(3) この式(3)から明らかなように、光ディスク5のチル
ト角に起因する波面収差W(r,φ)を打ち消すには、
## EQU00003 ## W (r, .phi.) = Wtlt (r, .phi.) + Wlc (r, .phi.) (3) As is apparent from this equation (3), the wavefront aberration W ( To cancel r, φ),

【数4】 W(r,φ)=Wtlt(r,φ)+Wlc(r,φ)=0 とすれば良い。すなわち、液晶10gにより光ディスク
5のチルト角に起困する波面収差Wtlt(r,φ)に対
して逆極性の波面収差、つまり、
## EQU00004 ## W (r, .phi.) = Wtlt (r, .phi.) + Wlc (r, .phi.) = 0. That is, the wavefront aberration having a polarity opposite to that of the wavefront aberration Wtlt (r, φ) which causes the tilt angle of the optical disc 5 due to the liquid crystal 10g, that is,

【数5】Wlc(r,φ)=−Wtlt(r,φ) となる波面収差Wlc(r,φ)を光ビームBに与えれば
よいことがわかる。
## EQU5 ## It can be seen that the wavefront aberration Wlc (r, φ) such that Wlc (r, φ) = − Wtlt (r, φ) is given to the light beam B.

【0078】従って、液晶10gにより光ディスク5の
チルト角に起因する波面収差Wtlt(r,φ)に対して
逆極性の波面収差Wlc(r,φ)を与えるためには、図
4で示された光ディスク5のラジアル方向のチルト角に
起因する波面収差分布に対応して液晶10gを分割する
ようにパターン電極を設け、各パターン電極に対応する
領域への印加電圧を、チルト角に起因する波面収差に対
して逆極性の波面収差を与えるように制御すればよい。
Therefore, in order to give the wavefront aberration Wlc (r, φ) of the opposite polarity to the wavefront aberration Wtlt (r, φ) caused by the tilt angle of the optical disk 5 by the liquid crystal 10g, it is shown in FIG. Pattern electrodes are provided so as to divide the liquid crystal 10g according to the wavefront aberration distribution caused by the tilt angle of the optical disc 5 in the radial direction, and the voltage applied to the region corresponding to each pattern electrode is the wavefront aberration caused by the tilt angle. It suffices to control so as to give a wavefront aberration of opposite polarity.

【0079】ここで、図4は、当該ラジアル方向の光軸
の傾斜に起因する波面収差分布を対物レンズ4の瞳面上
で見た状態を示すものである。より具体的には、図4
は、光ディスク5の記録面がラジアル方向に+1°傾い
た場合の光スポットの最良像点における波面収差分布
を、入射する光ビームBの最大領域の範囲内において表
した図であり、当該波面収差分布を、波面収差の値が−
25nm〜+25nmの範囲を有する領域Aを中心とし
て50nmの範囲幅を有する領域A乃至Kの境界線によ
って表している。そして、図4中のX2−X2は、光デ
ィスク5の傾く方向に対応した軸(すなわち、ラジアル
方向)である。なお、図5において、当該波面収差分布
をX2−X2軸上における分布特性で表している。
Here, FIG. 4 shows a state in which the wavefront aberration distribution caused by the inclination of the optical axis in the radial direction is viewed on the pupil plane of the objective lens 4. More specifically, FIG.
FIG. 6 is a diagram showing the wavefront aberration distribution at the best image point of the light spot when the recording surface of the optical disc 5 is tilted by + 1 ° in the radial direction, within the maximum area of the incident light beam B. The value of the wavefront aberration is −
A boundary line between regions A to K having a range width of 50 nm is centered on the region A having a range of 25 nm to +25 nm. Then, X2-X2 in FIG. 4 is an axis (that is, a radial direction) corresponding to the tilting direction of the optical disk 5. In FIG. 5, the wavefront aberration distribution is represented by distribution characteristics on the X2-X2 axis.

【0080】また、波面収差の分布自体はチルト角の大
きさによらず一定の分布をしており、チルト角の大きさ
により変化するのは波面収差量である。この点を図5を
用いて説明すると、図5に示す曲線のピーク値はチルト
角が大きくなれば高くなり、チルト角が小さくなれば低
くなる。
Further, the distribution of wavefront aberration itself has a constant distribution regardless of the magnitude of the tilt angle, and it is the amount of wavefront aberration that changes depending on the magnitude of the tilt angle. Explaining this point with reference to FIG. 5, the peak value of the curve shown in FIG. 5 increases as the tilt angle increases, and decreases as the tilt angle decreases.

【0081】本実施形態では、この波面収差の分布に着
目して、実施形態の透明電極10cの分割形状を図4の
波面収差分布に類似した形状とし、各パターン電極に対
応する領域の液晶10gにより、生じている波面収差W
tlt(r,φ)を打ち消すように光ビームBに位相差を
与えて、チルト角に起因する波面収差Wtlt(r,φ)
の影響を再生に影響のない範囲まで減少させているので
ある。すなわち、液晶10gの各分割領域(各パターン
電極に対応する分割領域)毎に電圧制御を行うことで液
晶分子Mの向きを変化させ、各分割領域の屈折率を変え
ることにより光ビームBに位相差を与えてディスク5の
傾斜時に発生する波面収差Wtlt(r,φ)を補正する
のである。
In this embodiment, paying attention to the distribution of the wavefront aberration, the divided shape of the transparent electrode 10c of the embodiment is set to a shape similar to the wavefront aberration distribution of FIG. 4, and the liquid crystal 10g in the region corresponding to each pattern electrode. Caused by the wavefront aberration W
A phase difference is given to the light beam B so as to cancel tlt (r, φ), and the wavefront aberration Wtlt (r, φ) caused by the tilt angle is given.
The effect of is reduced to the extent that reproduction is not affected. That is, the voltage is controlled for each divided area of the liquid crystal 10g (divided areas corresponding to each pattern electrode) to change the orientation of the liquid crystal molecules M, and the refractive index of each divided area is changed so that the light beam B is positioned. The phase difference is given to correct the wavefront aberration Wtlt (r, φ) generated when the disk 5 is tilted.

【0082】以上説明したように、図3(a)に示す各
パターン電極は、光ディスク5の記録面がラジアル方向
に+1°傾いた場合の波面収差分布(図4参照)に基づ
いてその形状が設定されたものであり、透明電極10c
は、波面収差を5つの値で近似した場合に対応する五つ
のパターン電極を有している。
As described above, each pattern electrode shown in FIG. 3A has a shape based on the wavefront aberration distribution (see FIG. 4) when the recording surface of the optical disk 5 is tilted by + 1 ° in the radial direction. It is set, and the transparent electrode 10c
Has five pattern electrodes corresponding to the case where the wavefront aberration is approximated by five values.

【0083】なお、パターン電極32に対応する領域は
波面収差の値が0となる領域を含む領域であり、パター
ン電極31bに対応する液晶10gの領域とパターン電
極30bに対応する液晶10gの領域は対称的な形状で
あり、透過する光ビームBに与える位相差の値は逆極性
となっている。更に、パターン電極30aに対応する液
晶10gの領域とパターン電極31aに対応する液晶1
0gの領域は対称的な形状であり、透過する光ビームB
に与える位相差の値は逆極性となっている。
The area corresponding to the pattern electrode 32 is an area including the area where the value of the wavefront aberration is 0, and the area of the liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrode 31b and the area of the liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrode 30b. It has a symmetrical shape, and the value of the phase difference given to the transmitted light beam B has the opposite polarity. Further, the region of the liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrode 30a and the liquid crystal 1 corresponding to the pattern electrode 31a.
The 0 g area has a symmetrical shape, and the transmitted light beam B
The value of the phase difference given to has the opposite polarity.

【0084】なお、液晶10gの分割数(すなわち、上
記パターン電極の数)を更に多くして液晶10gを細分
化すれば、完全に光ディスク5のチルト角に起因する波
面収差を打ち消すことができるが、そのために、例えば
液晶10gを碁盤目状に分割することにより分割数を多
くすると、一の当該区分領域毎に駆動信号を制御して印
加する必要があり、そのためには、透明電極10cを各
区分領域に分割して作成しなければならず、透明電極1
0cの作成及び引き出し線等の配線を作成するが困難と
なる。
If the number of divisions of the liquid crystal 10g (that is, the number of pattern electrodes) is further increased and the liquid crystal 10g is subdivided, the wavefront aberration caused by the tilt angle of the optical disk 5 can be completely canceled. Therefore, for example, if the number of divisions is increased by dividing the liquid crystal 10g in a grid pattern, it is necessary to control and apply the drive signal for each one of the divided areas. It must be created by dividing it into divided areas.
It is difficult to create 0c and wiring such as a lead wire.

【0085】そこで、本発明の液晶パネル10において
は、透明電極10cの分割形状を、先に示した図3
(a)のように波面収差分布に類似した分割形状にする
ことにより、容易に作成可能であり、且つ当該波面収差
を効率的に補正することができるように構成している。
Therefore, in the liquid crystal panel 10 of the present invention, the divided shape of the transparent electrode 10c is shown in FIG.
By making the divided shape similar to the wavefront aberration distribution as shown in (a), it is possible to easily create and to efficiently correct the wavefront aberration.

【0086】また、上述した図2乃至図5による説明で
は、光ディスク5のラジアル方向に生じた波面収差を補
正する場合について説明したが、光ディスク5のタンジ
ェンシャル方向に生じた波面収差を補正する場合につい
ては、透明電極10cのパターン電極の形状等の内容を
90°回転させて適用すれば、タンジェンシャル方向の
光軸の傾斜に起因する波面収差を透明電極10dを使用
して補正する場合に対応する。従って、透明電極10d
における各パターン電極40a、40b、41a、41
b及び42の形状についても、タンジェンシャル方向に
平行な対称軸を対象とした波面収差分布(図4における
X2−X2軸をタンジェンシャル方向とした場合の波面
収差分布)に類似した形状とされている。
In the above description with reference to FIGS. 2 to 5, the case of correcting the wavefront aberration generated in the radial direction of the optical disk 5 has been described. However, the case of correcting the wavefront aberration generated in the tangential direction of the optical disk 5 is described. With regard to, if the content such as the shape of the pattern electrode of the transparent electrode 10c is rotated by 90 ° and applied, the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the tangential direction can be corrected using the transparent electrode 10d. To do. Therefore, the transparent electrode 10d
In the pattern electrodes 40a, 40b, 41a, 41
The shapes of b and 42 are also similar to the wavefront aberration distribution (wavefront aberration distribution when the X2-X2 axis in FIG. 4 is the tangential direction) with respect to the axis of symmetry parallel to the tangential direction. There is.

【0087】次に、各透明電極10c及び10dに対す
る駆動信号Sdv1及びSdv2の印加による液晶10gの駆
動について、図6及び図7を用いて説明する。なお、以
下の説明は、光ディスク5のタンジェンシャル方向に生
じている波面収差のみを補正するための実施形態を説明
するものであり、光ディスク5のラジアル方向の光軸の
傾斜に起因する波面収差については無補正としている。
すなわち、ラジアル方向のチルト角が0度であり、タン
ジェンシャル方向のチルト角のみがディスク上に存在し
ている場合についての実施形態である。
Next, driving of the liquid crystal 10g by applying the driving signals Sdv1 and Sdv2 to the transparent electrodes 10c and 10d will be described with reference to FIGS. 6 and 7. The following description is for explaining an embodiment for correcting only the wavefront aberration occurring in the tangential direction of the optical disc 5, and the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis of the optical disc 5 in the radial direction. Is uncorrected.
That is, this is an embodiment in which the tilt angle in the radial direction is 0 degree and only the tilt angle in the tangential direction exists on the disc.

【0088】なお、以後の実施形態では、透明電極10
c(ラジアル方向の波面収差を補正するための電圧を印
加するための電極)に印加される駆動信号Sdv1を基準
として説明を行う。
In the following embodiments, the transparent electrode 10
The drive signal Sdv1 applied to c (electrode for applying voltage for correcting wavefront aberration in the radial direction) will be described as a reference.

【0089】更に、図6は各透明電極10c及び10d
を構成するパターン電極に印加される駆動信号Sdv1及
びSdv2の波形を示すものであり、図7はタンジェンシ
ャル方向のチルト角が変化した場合の各パターン電極に
対する駆動信号Sdv1及びSdv2の変化を示すものであ
る。
Further, FIG. 6 shows the transparent electrodes 10c and 10d.
7A and 7B show waveforms of drive signals Sdv1 and Sdv2 applied to the pattern electrodes constituting the pattern electrodes. FIG. 7 shows changes of the drive signals Sdv1 and Sdv2 for the pattern electrodes when the tilt angle in the tangential direction changes. Is.

【0090】図6に示すように、タンジェンシャル方向
の光軸の傾斜に起因する波面収差のみを補正する場合に
は、透明電極10cにおける各パターン電極には、液晶
10gに与える電位差の基準を示すものとして、夫々の
パターン電極に同一の駆動信号Sdv1が印加される。す
なわち、パターン電極30a、30b、31a、31b
及び32の夫々に図6最上段乃至上から三段目に示す波
形の駆動信号Sdv1が印加されるのである。この駆動信
号Sdv1は、ラジアル方向のチルト角が0度のときに透
明電極10cに印加される駆動信号に相当する。
As shown in FIG. 6, when only the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the tangential direction is corrected, each pattern electrode in the transparent electrode 10c shows the reference of the potential difference given to the liquid crystal 10g. As a matter of course, the same drive signal Sdv1 is applied to each pattern electrode. That is, the pattern electrodes 30a, 30b, 31a, 31b
6 and the drive signal Sdv1 having the waveform shown in the third stage from the top in FIG. The drive signal Sdv1 corresponds to the drive signal applied to the transparent electrode 10c when the tilt angle in the radial direction is 0 degree.

【0091】なお、図6最上段乃至上から三段目に示す
駆動信号Sdv1は、それが印加されたとき、液晶パネル
10を透過する光ビームの全領域に対して同一である基
準の位相差を与え、光ビームの波面を変化させない、す
なわち、ガラス板を光ビームが通過するのと同じ効果を
有する位相差を与える駆動信号Sdv1である。更に、ラ
ジアル方向及びタンジェンシャル方向のチルト角が共に
0度であるときは、透明電極10cには上記の駆動信号
Sdv1が夫々のパターン電極毎に印加され、一方、透明
電極10dの全てのパターン電極は接地される。
The drive signal Sdv1 shown in the uppermost row to the third row from the top in FIG. 6 is a reference phase difference that is the same for all regions of the light beam that passes through the liquid crystal panel 10 when it is applied. Drive signal Sdv1 that gives a phase difference that does not change the wavefront of the light beam, that is, has the same effect as the light beam passes through the glass plate. Further, when both the tilt angle in the radial direction and the tilt angle in the tangential direction are both 0 degrees, the drive signal Sdv1 is applied to the transparent electrode 10c for each pattern electrode, while all the pattern electrodes of the transparent electrode 10d are applied. Is grounded.

【0092】これに対して、タンジェンシャル方向の光
軸の傾斜に起因する波面収差を補正するための透明電極
10dには、図6上から四段目及び最下段に示す波形の
駆動信号Sdv2が印加される。
On the other hand, the transparent electrode 10d for correcting the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the tangential direction is provided with the drive signals Sdv2 having the waveforms shown in the fourth and bottom steps from the top of FIG. Is applied.

【0093】ここで、図6上から四段目及び最下段に示
す駆動信号Sdv2は、透明電極10dにおけるパターン電
極40a及び40bに対応する液晶10gの領域ではチ
ルト角に起因する波面収差を補正するために光ビームB
に与える位相差を減少させる必要があり、パターン電極
41a及び41bに対応する液晶10gの領域ではチル
ト角に起因する波面収差を補正するために光ビームBに
与える位相差を増加させる必要があるようなチルト角が
タンジェンシャル方向に発生している場合に印加される
駆動信号Sdv2である。
Here, the drive signal Sdv2 shown in the fourth and bottom rows of FIG. 6 corrects the wavefront aberration caused by the tilt angle in the region of the liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrodes 40a and 40b in the transparent electrode 10d. For light beam B
It is necessary to decrease the phase difference given to the light beam B in order to correct the wavefront aberration caused by the tilt angle in the region of the liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrodes 41a and 41b. The drive signal Sdv2 is applied when a large tilt angle is generated in the tangential direction.

【0094】このとき、パターン電極41a及び41b
に対応する液晶10gの領域では光ビームBに与える位
相差を上記基準の位相差より大きくする必要があり、当
該領域の液晶10gに印加される電位差を大きくする必
要がある。よって、図6上から四段目に示すように、パ
ターン電極41a及び41bに対しては、上記駆動信号
Sdv1とは逆相の駆動信号Sdv2が印加される。
At this time, the pattern electrodes 41a and 41b
In the region of the liquid crystal 10g corresponding to, it is necessary to make the phase difference given to the light beam B larger than the reference phase difference, and it is necessary to make the potential difference applied to the liquid crystal 10g in the region large. Therefore, as shown in the fourth row from the top of FIG. 6, the drive signal Sdv2 having a phase opposite to that of the drive signal Sdv1 is applied to the pattern electrodes 41a and 41b.

【0095】これに対して、パターン電極40a及び4
0bの領域では、光ビームBに与える位相差を上記基準
の位相差より小さくする必要があり、この領域の液晶1
0gに印加される電位差を小さくする必要がある。よっ
て、図6最下段に示す示すように、パターン電極40a
及び40bに対しては、上記駆動信号Sdv1と同相の駆
動信号Sdv2が印加される。
On the other hand, the pattern electrodes 40a and 4
In the region of 0b, the phase difference given to the light beam B needs to be smaller than the reference phase difference.
It is necessary to reduce the potential difference applied to 0 g. Therefore, as shown in the bottom of FIG.
And 40b, the drive signal Sdv2 in phase with the drive signal Sdv1 is applied.

【0096】このように、パターン電極41a及び41
bに対して駆動信号Sdv1と逆相の駆動信号Sdv2が印加
されると共に、パターン電極40a及び40bに対して
駆動信号Sdv1と同相の駆動信号Sdv2が印加されること
により、液晶10gに対して、波面収差を補正するのに
必要な位相差を光ビームに与えるために必要な電位差が
生じさせられるのである。
In this way, the pattern electrodes 41a and 41a
The drive signal Sdv2 having a phase opposite to that of the drive signal Sdv1 is applied to the liquid crystal 10g, and the drive signal Sdv2 having the same phase as the drive signal Sdv1 is applied to the pattern electrodes 40a and 40b. The potential difference required to give the optical beam the phase difference required to correct the wavefront aberration is generated.

【0097】一方、パターン電極41a及び41b並び
に40a及び40bに与える駆動信号Sdv2の電圧は、
後述するように、チルト検出信号Sp2に基づいてCPU
21において算出された液晶10gにより光ビームBに
与えるべき位相差に対応して設定される。
On the other hand, the voltage of the drive signal Sdv2 given to the pattern electrodes 41a and 41b and 40a and 40b is
As will be described later, the CPU based on the tilt detection signal Sp2
It is set corresponding to the phase difference to be given to the light beam B by the liquid crystal 10g calculated in 21.

【0098】具体的には、チルト角が大きくなれば波面
収差の補正に必要な位相差が大きくなるため、液晶10
gに印加される電位差を大きくする必要があり、駆動信
号Sdv2の振幅が大きくなる。逆にチルト角が小さくな
れば、波面収差の補正に必要な位相差が小さくなり、液
晶10gにかかる電位差は小さくてよいので、駆動信号
Sdv2の振幅は小さくなる。ここで、夫々の振幅の最大
値と最小値の差が液晶10gにかかる電位差となる。
Specifically, as the tilt angle increases, the phase difference necessary for correcting the wavefront aberration increases, so that the liquid crystal 10
It is necessary to increase the potential difference applied to g, which increases the amplitude of the drive signal Sdv2. On the contrary, if the tilt angle becomes small, the phase difference necessary for correcting the wavefront aberration becomes small, and the potential difference applied to the liquid crystal 10g may be small, so that the amplitude of the drive signal Sdv2 becomes small. Here, the difference between the maximum value and the minimum value of the respective amplitudes is the potential difference applied to the liquid crystal 10g.

【0099】なお、パターン電極42については常に接
地されている。これは、パターン電極42の領域におけ
るチルト角に起因する波面収差量が小さく、補正する必
要がないからである。
The pattern electrode 42 is always grounded. This is because the amount of wavefront aberration caused by the tilt angle in the area of the pattern electrode 42 is small and it is not necessary to correct it.

【0100】次に、タンジェンシャル方向のチルト角が
変化した場合に、透明電極10dの各パターン電極に印
加される駆動信号Sdv2がどのように変化するかについ
て図7を用いて説明する。
Next, how the drive signal Sdv2 applied to each pattern electrode of the transparent electrode 10d changes when the tilt angle in the tangential direction changes will be described with reference to FIG.

【0101】なお、図7は、タンジェンシャル方向のチ
ルト角が零の場合(光ビームBの光軸と光ディスク5の
情報記録面とのなす角度が直角である理想的な場合)
と、チルト角が正負いずれかの方向に変化した場合とに
ついて、夫々、透明電極10c又は10dに含まれる各
パターン電極に印加される駆動信号Sdv1及び駆動信号
Sdv2の波形の変化(図7最上段乃至上から3段目)
と、実際に液晶10gのパターン電極40a、40b、
41a及び41bに対応する領域に加えられる電位差の
変化(すなわち、各パターン電極に対応する領域を通過
した光ビームBに与えられる位相差の大きさの変化。図
7上から4段目乃至最下段)を示したものである。ま
た、図7における太い両矢印は、チルト角の変化(右が
正、左が負、中央がチルト角零)を示している。
FIG. 7 shows that when the tilt angle in the tangential direction is zero (ideal case where the angle between the optical axis of the light beam B and the information recording surface of the optical disk 5 is a right angle).
And when the tilt angle changes in either positive or negative direction, the change in the waveform of the drive signal Sdv1 and the drive signal Sdv2 applied to each pattern electrode included in the transparent electrode 10c or 10d (the uppermost stage in FIG. 7). Or from the third row from the top)
And the pattern electrodes 40a, 40b of the liquid crystal 10g,
Changes in the potential difference applied to the regions corresponding to 41a and 41b (that is, changes in the magnitude of the phase difference given to the light beam B that has passed through the regions corresponding to the respective pattern electrodes. From the top to the bottom in FIG. ) Is shown. Also, thick double-headed arrows in FIG. 7 indicate changes in tilt angle (right is positive, left is negative, and center is zero tilt angle).

【0102】ここで、チルト角の正負の定義について
は、パターン電極40a及び40bに対応する光スポッ
トSP内の領域に負の波面収差が生じるチルト角を正と
し、逆にパターン電極40a及び40bに対応する光ス
ポットSP内の領域に正の波面収差が生じるチルト角を
負とする。
Here, with respect to the positive / negative definition of the tilt angle, the tilt angle at which a negative wavefront aberration is generated in the area within the light spot SP corresponding to the pattern electrodes 40a and 40b is positive, and conversely, the tilt angles are different between the pattern electrodes 40a and 40b. The tilt angle at which a positive wavefront aberration occurs in the corresponding area within the light spot SP is negative.

【0103】まず、チルト角が零の場合を見てみると、
この場合には、パターン電極40a、40b、41a及
び41bには、いずれも駆動信号Sdv2は印加されな
い。この結果、液晶10gに印加される電圧は駆動信号
Sdv1によるものだけとなり、よって、液晶10gに加
えられる電位差も当該駆動信号Sdv1に起因するものだ
けとなって通過する光ビームBには光スポットSP内の
全ての領域に上記基準の位相差が与えられ、光ビームB
の波面が変化されることなく液晶パネル10を透過透過
して光ディスク5に到達する。
First, looking at the case where the tilt angle is zero,
In this case, the drive signal Sdv2 is not applied to the pattern electrodes 40a, 40b, 41a and 41b. As a result, the voltage applied to the liquid crystal 10g is only due to the drive signal Sdv1, and therefore the potential difference applied to the liquid crystal 10g is also due to the drive signal Sdv1. The reference phase difference is given to all regions in the
Passes through the liquid crystal panel 10 and reaches the optical disk 5 without changing the wavefront thereof.

【0104】次に、光ディスク5の情報記録面が傾くこ
とにより、チルト角が正の方向に増加したとすると、こ
れを検出したチルト検出信号Sp2に基づいて、図7中最
上段及び上から二段目の右側に夫々示すような波形の駆
動信号Sdv2がパターン電極40a及び40b並び41
a及び41bに印加される。
Next, assuming that the tilt angle increases in the positive direction due to the tilt of the information recording surface of the optical disk 5, based on the tilt detection signal Sp2 that detects the tilt angle, the uppermost row in FIG. The drive signal Sdv2 having a waveform as shown on the right side of the step is arranged 41 on the pattern electrodes 40a and 40b.
a and 41b.

【0105】すなわち、この場合には、透明電極10d
のパターン電極40a及び40bに対応する液晶10g
の領域では、波面収差をタンジェンシャル方向のチルト
角に起因する波面収差分布に基づいて補正するために、
上記基準の位相差よりも大きい位相差を与える必要があ
る。つまり、パターン電極40a及び40bに対応する
液晶10gの領域には基準の位相差を発生させる電位差
より大きい電位差を印加する必要がある。よって、パタ
ーン電極40a及び40bには、図7上から二段目の右
側に示すように、対向している透明電極10cに印加さ
れている駆動信号Sdv1に対して逆相の駆動信号Sdv2が
印加される。
That is, in this case, the transparent electrode 10d
Liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrodes 40a and 40b of
In the region of, in order to correct the wavefront aberration based on the wavefront aberration distribution caused by the tilt angle in the tangential direction,
It is necessary to give a phase difference larger than the reference phase difference. That is, it is necessary to apply a potential difference larger than the potential difference that causes the reference phase difference to the region of the liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrodes 40a and 40b. Therefore, as shown in the right side of the second row from the top of FIG. 7, the drive signal Sdv2 having the opposite phase to the drive signal Sdv1 applied to the opposing transparent electrode 10c is applied to the pattern electrodes 40a and 40b. To be done.

【0106】一方、透明電極10dのパターン電極41
a及び41bに対応する液晶10gの領域では、波面収
差をタンジェンシャル方向のチルト角に起因する波面収
差分布に基いて補正するために、上記基準の位相差より
も小さい位相差を与える必要がある。つまり、パターン
電極41a及び41bに対応する液晶10gの領域に
は、基準の位相差を発生させる電位差より小さい電位差
を印可する必要がある。そこで、パターン電極41a及
び41bには、図7最上段の右側に示すように、対向し
ている透明電極10cに印加されている駆動信号Sdv1
に対して同相の駆動信号Sdv2が印加される。
On the other hand, the pattern electrode 41 of the transparent electrode 10d.
In the region of the liquid crystal 10g corresponding to a and 41b, in order to correct the wavefront aberration based on the wavefront aberration distribution caused by the tilt angle in the tangential direction, it is necessary to give a phase difference smaller than the reference phase difference. . That is, it is necessary to apply a potential difference smaller than the potential difference that causes the reference phase difference to the region of the liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrodes 41a and 41b. Therefore, as shown on the right side of the uppermost stage of FIG. 7, the drive signals Sdv1 applied to the transparent electrodes 10c facing each other are applied to the pattern electrodes 41a and 41b.
In-phase drive signal Sdv2 is applied to.

【0107】そして、この時でも、透明電極10cにお
ける各パターン電極には共通的に図7中上から三段目に
示される波形の駆動信号Sdv1が印加されているので、
結果として、液晶10gのパターン電極41a及び41
bに対応する領域に加えられる電位差は図7中上から四
段目の右側に示すような小さな振幅を有するものとな
り、一方、液晶10gのパターン電極40a及び40b
に対応する領域に加えられる電位差は図7中上から最下
段の右側に示すような大きな振幅を有するものとなる。
Even at this time, the drive signal Sdv1 having the waveform shown in the third row from the top in FIG. 7 is commonly applied to each pattern electrode in the transparent electrode 10c.
As a result, the pattern electrodes 41a and 41 of the liquid crystal 10g are formed.
The potential difference applied to the region corresponding to b has a small amplitude as shown on the right side of the fourth step from the top in FIG. 7, while the pattern electrodes 40a and 40b of the liquid crystal 10g are provided.
The potential difference applied to the region corresponding to has a large amplitude as shown from the top to the right in the bottom of FIG.

【0108】従って、液晶10gによりパターン電極4
1a及び41bに対応する領域を通過した光ビームBに
与えられる位相差は小さくなり、また、パターン電極4
0a及び40bに対応する領域を通過した光ビームBに
与えられる位相差は大きくなる。これにより、正の方向
に生じているチルト角による波面収差を補正すべき位相
差が光ビームBに与えられることとなる。
Therefore, the pattern electrode 4 is formed by the liquid crystal 10g.
The phase difference given to the light beam B passing through the regions corresponding to 1a and 41b becomes small, and the pattern electrode 4
The phase difference given to the light beam B passing through the regions corresponding to 0a and 40b becomes large. As a result, a phase difference for correcting the wavefront aberration due to the tilt angle generated in the positive direction is given to the light beam B.

【0109】なお、チルト角が負の方向に生じている場
合については、上述の同様の理論により、パターン電極
40a及び40bには、図7上から二段目の左側に示す
ように、対向している透明電極10cに印加されている
駆動信号Sdv1に対して同相の駆動信号Sdv2が印加され
る。また、パターン電極41a及び41bには、図7最
上段の左側に示すように、対向している透明電極10c
に印加されている駆動信号Sdv1に対して逆相の駆動信
号Sdv2が印加される。
In the case where the tilt angle is in the negative direction, the pattern electrodes 40a and 40b are opposed to each other as shown on the left side of the second stage from FIG. 7 according to the same theory as described above. In-phase drive signal Sdv2 is applied to drive signal Sdv1 applied to transparent electrode 10c. Further, as shown in the left side of the uppermost stage of FIG. 7, the pattern electrodes 41a and 41b face the transparent electrodes 10c facing each other.
The drive signal Sdv2 having the opposite phase is applied to the drive signal Sdv1 applied to the.

【0110】このように、光ディスク5のタンジェンシ
ャル方向のチルト角を検出したチルト検出信号Sp2に基
づいて透明電極10dにおける各電極パターンに印加さ
れる駆動信号Sdv2の波形が変化し、これにより、光ビ
ームBに対して与えられる位相差が液晶10gの領域に
よって異なるので、当該チルト角に起因する波面収差を
打ち消してこれを補正することができる。
As described above, the waveform of the drive signal Sdv2 applied to each electrode pattern in the transparent electrode 10d is changed based on the tilt detection signal Sp2 which detects the tilt angle of the optical disc 5 in the tangential direction, whereby the optical Since the phase difference given to the beam B differs depending on the region of the liquid crystal 10g, it is possible to cancel and correct the wavefront aberration caused by the tilt angle.

【0111】以上説明したように、第1実施形態の液晶
パネル10の動作によれば、液晶10gにおける光ビー
ムBが通過する両面に夫々透明電極10c及び10dが
形成されると共に、チルト検出信号Sp2に基づいて透明
電極10dに対して角度の変化に対応した振幅を有する
駆動信号Sdv2が印加され、液晶10gに係る電位差
が、チルト角に起因する波面収差を補正する位相差を光
ビームに与える電位差となるように透明電極10c及び
10dの各パターン電極に印加する電圧を制御してい
る。従って、チルト検出信号Sp2に対応して液晶10g
に加えられる電位差が変化することとなり、一の液晶1
0gにより小型且つ簡易な構成で波面収差を補正するこ
とができる。
As described above, according to the operation of the liquid crystal panel 10 of the first embodiment, the transparent electrodes 10c and 10d are formed on both surfaces of the liquid crystal 10g through which the light beam B passes, and the tilt detection signal Sp2 is generated. A drive signal Sdv2 having an amplitude corresponding to a change in angle is applied to the transparent electrode 10d based on the above, and the potential difference related to the liquid crystal 10g gives a phase difference for correcting the wavefront aberration caused by the tilt angle to the light beam. The voltage applied to each pattern electrode of the transparent electrodes 10c and 10d is controlled so that Therefore, the liquid crystal 10g corresponding to the tilt detection signal Sp2
The potential difference applied to the liquid crystal changes, and the liquid crystal 1
With 0 g, the wavefront aberration can be corrected with a small size and a simple configuration.

【0112】また、透明電極10dが光ディスク5にお
けるタンジェンシャル方向に生じる波面収差分布に対応
した形状を有する複数のパターン電極40a、40b、
41a、41b及び42により構成されていると共に、
各パターン電極の領域にチルト角に起因する波面収差を
補正するための位相差を発生させるための駆動信号が独
立に印加されるので、各パターン電極の位置に応じて液
晶10gに加えられる電位差が異なることとなり、光デ
ィスク5のタンジェンシャル方向に生じる波面収差を効
果的に補正することができる。
Further, the transparent electrode 10d has a plurality of pattern electrodes 40a, 40b having a shape corresponding to the wavefront aberration distribution generated in the tangential direction of the optical disc 5.
41a, 41b and 42,
Since the drive signal for generating the phase difference for correcting the wavefront aberration caused by the tilt angle is independently applied to the area of each pattern electrode, the potential difference applied to the liquid crystal 10g depends on the position of each pattern electrode. The difference is that the wavefront aberration occurring in the tangential direction of the optical disc 5 can be effectively corrected.

【0113】更にまた、波面収差が補正された光ビーム
Bを用いて光ディスク5上の記録情報が再生されるの
で、正確に記録情報を再生することができる。
Furthermore, since the recorded information on the optical disk 5 is reproduced by using the light beam B whose wavefront aberration is corrected, the recorded information can be reproduced accurately.

【0114】なお、上述の液晶パネル10を用いて、ラ
ジアル方向のチルト角に起因する波面収差のみを補正す
る場合(タンジェンシャル方向のチルト角が0度であり
ラジアル方向のチルト角のみが存在するのと同じ場合)
について説明すると、この場合には、透明電極10cの
各パターン電極の領域には、後述の図10の最上段乃至
上から3段目に示したようなチルト検出信号Sp1に基づ
く駆動信号が印加されると共に、透明電極10dの全て
のパターン電極は接地される。
When only the wavefront aberration caused by the tilt angle in the radial direction is corrected by using the liquid crystal panel 10 described above (the tilt angle in the tangential direction is 0 degree and only the tilt angle in the radial direction exists). Same as
In this case, in this case, a drive signal based on the tilt detection signal Sp1 as shown in the uppermost stage to the third stage from below in FIG. 10 is applied to the area of each pattern electrode of the transparent electrode 10c. In addition, all pattern electrodes of the transparent electrode 10d are grounded.

【0115】これにより、パターン電極32に対応する
液晶10gの領域には上記基準の位相差を光ビームBに
対して与えるような電位差が生じ、また、パターン電極
30a及び30bに対応する液晶10gの領域には上記
基準の位相差より大きい位相差が与える電圧差が生じ
る。更に、パターン電極31a及び31bに対応する液
晶10gの領域には上記基準の位相差より小さい位相差
が与える電位差が生じる。
As a result, a potential difference is generated in the region of the liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrode 32 so as to give the reference phase difference to the light beam B, and the liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrodes 30a and 30b is formed. In the region, a voltage difference that is larger than the reference phase difference is given. Further, in the region of the liquid crystal 10g corresponding to the pattern electrodes 31a and 31b, a potential difference having a phase difference smaller than the reference phase difference is generated.

【0116】よって、上述のタンジェンシャル方向のチ
ルト角に起因する波面収差の場合と同様に、液晶パネル
10を透過する光ビームBにラジアル方向のチルト角に
起因する波面収差を補正するための位相差を与えること
ができる。
Therefore, similarly to the case of the wavefront aberration caused by the tilt angle in the tangential direction, the position for correcting the wavefront aberration caused by the tilt angle in the radial direction is applied to the light beam B passing through the liquid crystal panel 10. A phase difference can be given.

【0117】(III)第2実施形態 次に、本発明に係る他の実施形態である第2実施形態に
ついて、図8乃至図13を用いて説明する。
(III) Second Embodiment Next, a second embodiment which is another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 8 to 13.

【0118】上述した第1実施形態は、光ディスクのラ
ジアル方向に発生する波面収差又はタンジェンシャル方
向に発生する波面収差のいずれか一方のみを補正する場
合について説明したが、本第2実施形態は、当該二つの
波面収差を同時に補正する場合に実施形態である。な
お、液晶10gに印加される電位差の制御以外の構成及
び動作は第1実施形態の情報再生装置Sと同様であるの
で細部の説明は省略する。
In the first embodiment described above, only one of the wavefront aberration generated in the radial direction of the optical disc and the wavefront aberration generated in the tangential direction is corrected, but the second embodiment is described below. This is an embodiment in the case of simultaneously correcting the two wavefront aberrations. Since the configuration and operation other than the control of the potential difference applied to the liquid crystal 10g are the same as those of the information reproducing apparatus S of the first embodiment, detailed description thereof will be omitted.

【0119】実際の光ディスク5においては、ラジアル
方向又はタンジェンシャル方向のいずれか一方のみにチ
ルト角生じていることは希であり、ほとんどの場合、タ
ンジェンシャル方向とラジアル方向の双方にチルト角が
生じている。そして、その場合には、光ディスク5にお
いては、図8に示すように、タンジェンシャル方向とラ
ジアル方向の双方の成分の波面収差を合成した波面収差
が発生する。なお、図8は、タンジェンシャル方向とラ
ジアル方向に同じ大きさのチルト角が発生している場合
の波面収差の分布であり、色の濃い領域ほど大きい波面
収差が発生していることを示している。
In an actual optical disk 5, it is rare that a tilt angle is generated in only one of the radial direction and the tangential direction, and in most cases, the tilt angle is generated in both the tangential direction and the radial direction. ing. In that case, in the optical disc 5, as shown in FIG. 8, a wavefront aberration that is a combination of the wavefront aberrations of the components in both the tangential direction and the radial direction occurs. It should be noted that FIG. 8 shows the distribution of the wavefront aberration when the tilt angles of the same magnitude are generated in the tangential direction and the radial direction, and shows that the darker the region is, the larger the wavefront aberration is. There is.

【0120】従って、真に良好な情報再生を実行しよう
とすると、この二つの方向に生じている波面収差を同時
に補正することが必要である。
Therefore, in order to execute truly good information reproduction, it is necessary to simultaneously correct the wavefront aberrations occurring in these two directions.

【0121】このため、第2実施形態においては、夫々
の透明電極10c及び10d(同一形状のパターン電極
(パターン電極30a、30b、31a、31b及び3
2並びにパターン電極40a、40b、41a、41b
及び42)を備え、相互に90°回転した関係で液晶1
0gの両面に形成されている。)に含まれている各パタ
ーン電極毎にチルト検出信号Sp1及びSp2に基づいて生
成された駆動信号Sdv1及びSdv2を印加し、これによ
り、各パターン電極により区分される液晶10gの領域
毎に異なる位相差を光ビームBに与えて二つの方向の光
軸の傾斜に起因する波面収差を同時に補正することとし
ている。
Therefore, in the second embodiment, the transparent electrodes 10c and 10d (pattern electrodes of the same shape (pattern electrodes 30a, 30b, 31a, 31b and 3) are formed.
2 and pattern electrodes 40a, 40b, 41a, 41b
And 42), and the liquid crystal 1 is rotated by 90 ° with respect to each other.
It is formed on both sides of 0 g. The drive signals Sdv1 and Sdv2 generated based on the tilt detection signals Sp1 and Sp2 included in each pattern electrode are applied to each of the pattern electrodes. The phase difference is given to the light beam B to simultaneously correct the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in the two directions.

【0122】ここで、液晶10gで光ビームBに与える
べき位相差は、ラジアル方向のチルト角に起因する波面
収差を補正するために必要な位相差とタンジェンシャル
方向のチルト角に起因する波面収差を補正するために必
要な位相差との和である。よって、液晶10gに上記の
2種類の位相差の和に相当する位相差を光ビームに与え
るような電位差を生じさせるように、透明電極10c及
び10dの各パターン電極に印加する駆動信号Sdv1及
び駆動信号Sdv2を後述するように制御する。
Here, the phase difference to be imparted to the light beam B by the liquid crystal 10g is the phase difference necessary for correcting the wavefront aberration caused by the tilt angle in the radial direction and the wavefront aberration caused by the tilt angle in the tangential direction. Is the sum of the phase difference necessary to correct Therefore, the drive signal Sdv1 and the drive signal applied to each pattern electrode of the transparent electrodes 10c and 10d are generated so as to generate a potential difference that gives the liquid crystal 10g a phase difference corresponding to the sum of the above two types of phase differences to the light beam. The signal Sdv2 is controlled as described later.

【0123】すなわち、液晶10gは、透明電極10c
及び10dの各パターン電極に対応する領域が合成され
ることにより、見かけ上図9に示すような領城に区分さ
れる。ここで、図9は液晶パネル10を光ビームBの透
過方向から見た平面図である。
That is, the liquid crystal 10g is the transparent electrode 10c.
By synthesizing the regions corresponding to the pattern electrodes 10 and 10d, the regions are apparently divided into territories as shown in FIG. Here, FIG. 9 is a plan view of the liquid crystal panel 10 seen from the transmission direction of the light beam B.

【0124】図9に示すように、液晶10gは、パター
ン電極41bと31bが平面的に重複している領域に対
応する区分領域50aと、パターン電極42と31bが
平面的に重複している領域に対応する区分領域50b
と、パターン電極40bと31bが平面的に重複してい
る領域に対応する区分領域50cと、パターン電極40
bと32が平面的に重複している領域に対応する区分領
域50dと、パターン電極40bと30bが平面的に重
複している領域に対応する区分領域50eと、パターン
電極42と30bが平面的に重複している領域に対応す
る区分領域50fと、パターン電極41bと30bが平
面的に重複している領域に対応する区分領域50gと、
パターン電極41bと32が平面的に重複している領域
に対応する区分領域50hと、パターン電極42と32
が平面的に重複している領域に対応する区分領域50i
と、パターン電極41aと32が平面的に重複している
領域に対応する区分領域50jと、パターン電極41a
と31aが平面的に重複している領域に対応する区分領
域50kと、パターン電極42と31aが平面的に重複
している領域に対応する区分領域50lと、パターン電
極40aと31aが平面的に重複している領域に対応す
る区分領域50mと、パターン電極40aと32が平面
的に重複している領域に対応する区分領域50nと、パ
ターン電極40aと30aが平面的に重複している領域
に対応する区分領域50oと、パターン電極42と30
aが平面的に重複している領域に対応する区分領域50
pと、パターン電極41aと30aが平面的に重複して
いる領域に対応する区分領域50qと、に区分される。
As shown in FIG. 9, in the liquid crystal 10g, the divided area 50a corresponding to the area where the pattern electrodes 41b and 31b overlap in a plane and the area where the pattern electrodes 42 and 31b overlap in a plane. Divided area 50b corresponding to
And a segmented region 50c corresponding to a region where the pattern electrodes 40b and 31b overlap in plan view, and the pattern electrode 40
The sectioned region 50d corresponding to a region where b and 32 overlap in a plane, the segmented region 50e corresponding to a region where the pattern electrodes 40b and 30b overlap in a plane, and the pattern electrodes 42 and 30b are planer. 50f corresponding to the area where the pattern electrodes 41b and 30b are two-dimensionally overlapped,
The divided area 50h corresponding to the area where the pattern electrodes 41b and 32 overlap in plan view, and the pattern electrodes 42 and 32
Area 50i corresponding to the area where
And a divided area 50j corresponding to an area where the pattern electrodes 41a and 32 overlap in plan view, and the pattern electrode 41a.
And 31a are two-dimensionally overlapped with each other, a divided area 50k is two-dimensionally overlapped, a pattern electrode 42 and 31a are two-dimensionally overlapped with each other, and the pattern electrodes 40a and 31a are two-dimensionally overlapped. There are a divided area 50m corresponding to the overlapping area, a divided area 50n corresponding to the area where the pattern electrodes 40a and 32 overlap in a plane, and an area where the pattern electrodes 40a and 30a overlap in a plane. Corresponding divided area 50o and pattern electrodes 42 and 30
a divided area 50 corresponding to an area where a is two-dimensionally overlapped
p and a divided region 50q corresponding to a region where the pattern electrodes 41a and 30a overlap in a plane.

【0125】そして、例えば図8に示す分布の波面収差
(タンジェンシャル方向とラジアル方向で等しい大きさ
のチルト角が発生しているときの波面収差)を補正する
場合には、図10に示すように、チルト検出信号Sp1及
びSp2に基づいて、パターン電極32には図10最上段
に示す波形の駆動信号Sdv1を印加し、パターン電極3
0a及び30bには図10上から二段目に示す波形の駆
動信号Sdv1を印加し、パターン電極31a及び31b
には図10上から三段目に示す波形の駆動信号Sdv1を
印加する。このとき、透明電極10cの各パターン電極
に印加される駆動信号Sdv1の電圧値の関係について
は、ラジアル方向のチルト角に起因する波面収差を補正
すべく光ビームBに与える位相差を生じさせるための電
位差を液晶10gに生じさせるように、
Then, for example, when correcting the wavefront aberration of the distribution shown in FIG. 8 (wavefront aberration when tilt angles of equal magnitude are generated in the tangential direction and the radial direction), as shown in FIG. Then, based on the tilt detection signals Sp1 and Sp2, the drive signal Sdv1 having the waveform shown in the uppermost stage of FIG.
The drive signals Sdv1 having the second waveform from the top of FIG. 10 are applied to 0a and 30b, and the pattern electrodes 31a and 31b are applied.
Is applied with the drive signal Sdv1 having the waveform shown in the third stage from the top of FIG. At this time, regarding the relationship of the voltage value of the drive signal Sdv1 applied to each pattern electrode of the transparent electrode 10c, in order to generate the phase difference given to the light beam B in order to correct the wavefront aberration caused by the tilt angle in the radial direction. In order to generate a potential difference of 10 g in the liquid crystal 10 g,

【数6】パターン電極30a及び30bに印加する駆動
信号Sdv1 > パターン電極32に印加する駆動信号
Sdv1 > パターン電極31a及び31bに印加する
駆動信号Sdv1 とする。
## EQU00006 ## The drive signal Sdv1 applied to the pattern electrodes 30a and 30b> the drive signal Sdv1 applied to the pattern electrode 32> the drive signal Sdv1 applied to the pattern electrodes 31a and 31b.

【0126】更に、各パターン電極に印加される駆動信
号Sdv1は夫々同相とされる。
Further, the drive signals Sdv1 applied to the respective pattern electrodes are in phase with each other.

【0127】一方、透明電極10dにはタンジェンシャ
ル方向のチルト角に起因する波面収差を補正すべく光ビ
ームBに与える位相差を生じさせるための駆動信号Sdv
2が印加される。すなわち、パターン電極41a及び4
1bには図10上から四段目に示す波形の駆動信号Sdv
2を印加し、パターン電極40a及び40bには図10
最下段に示す波形の駆動信号Sdv2を印加する。
On the other hand, on the transparent electrode 10d, a drive signal Sdv for generating a phase difference given to the light beam B in order to correct the wavefront aberration caused by the tilt angle in the tangential direction.
2 is applied. That is, the pattern electrodes 41a and 4
The drive signal Sdv having the waveform shown in the fourth row from the top in FIG.
2 is applied to the pattern electrodes 40a and 40b as shown in FIG.
The drive signal Sdv2 having the waveform shown at the bottom is applied.

【0128】なお、このとき、パターン電極41a及び
41bに印加する駆動信号Sdv2は、第1実施形態で述
べた基準の位相差よりも大きい位相差を与える必要があ
るため駆動信号Sdv1と逆相とし、パターン電極40a
及び40bに印加する駆動信号Sdv2は、第1実施形態
で述べた基準の位相差よりも小さい位相差を与える必要
があるため駆動信号Sdv1と同相とされる。
At this time, since the drive signal Sdv2 applied to the pattern electrodes 41a and 41b needs to have a phase difference larger than the reference phase difference described in the first embodiment, the drive signal Sdv1 has an opposite phase. , Pattern electrode 40a
The drive signal Sdv2 applied to the drive signals Sdv1 and 40b has the same phase as the drive signal Sdv1 because it is necessary to give a phase difference smaller than the reference phase difference described in the first embodiment.

【0129】また、パターン電極42については、第1
実施形態と同様に接地する。
Regarding the pattern electrode 42, the first
Ground as in the embodiment.

【0130】以上の駆動信号Sdv1及びSdv2の印加によ
り、上記液晶10gの各区分領域50a乃至50qに
は、図11に示す大きさの電位差が加えられ、従って、
各区分領域により図11に示す関係を有する大きさの位
相差が夫々の区分領域を通過する光ビームBに与えられ
ることとなる。
By applying the drive signals Sdv1 and Sdv2 as described above, a potential difference of the magnitude shown in FIG. 11 is applied to each of the divided regions 50a to 50q of the liquid crystal 10g.
A phase difference having a magnitude having the relationship shown in FIG. 11 is given to each of the divided areas to the light beam B passing through each of the divided areas.

【0131】なお、接地されているパターン電極42に
対して平面的に重複している区分領域50b、50i,
50p、50f及び50lについては、対向しているパ
ターン30a、30b、31a、31b及び32に印加
されている駆動信号Sdv1のみによる位相差が与えられ
る。
Incidentally, the divided regions 50b, 50i, which overlap in plan view with the grounded pattern electrode 42,
For 50p, 50f, and 50l, the phase difference is given only by the drive signal Sdv1 applied to the patterns 30a, 30b, 31a, 31b, and 32 that face each other.

【0132】これにより、区分領域50g及び50qを
通過する光ビームBが最も多く位相差が与えられ、区分
領域50h、50j、50p及び50fを通過する光ビ
ームBが次に多く位相差が与えられ、区分領域50o、
50e、50a、50k及び50iを通過する光ビーム
Bがその次に多く位相差が与えられ、区分領域50n、
50d、50l及び50bを通過する光ビームBが二番
目に少ない位相差が与えられ、区分領域50m及び50
cを通過する光ビームBが最も少ない位相差が与えられ
る。
As a result, the light beam B passing through the divided regions 50g and 50q has the largest phase difference, and the light beam B passing through the divided regions 50h, 50j, 50p and 50f has the next largest phase difference. , Divided area 50o,
The light beam B passing through 50e, 50a, 50k, and 50i is given the next largest phase difference, and the divided regions 50n,
The light beam B passing through 50d, 50l and 50b is given the second smallest phase difference, and the divided regions 50m and 50m
The light beam B passing through c is given the smallest phase difference.

【0133】この結果、図8の状態で発生していた波面
収差は、図12に示す状態まで低減することが可能とな
る。なお、図12においても、色の濃い領域ほど大きい
波面収差が発生していることを示している。
As a result, the wavefront aberration generated in the state shown in FIG. 8 can be reduced to the state shown in FIG. Note that FIG. 12 also shows that the darker the color is, the larger the wavefront aberration is.

【0134】ここで、ラジアル方向とタンジェンシャル
方向の双方にチルト角が発生している場合に、いずれか
一方の方向のみの波面収差を補正する場合と両方向に発
生している波面収差を同時に補正した場合とを比較する
と、光ディスク5上の光スポット内のある一点における
波面収差の大きさについては、図13に示すように、両
方向の光軸の傾斜に起因する波面収差を同時に補正した
場合が全体としての波面収差の大きさは最も小さくな
る。
Here, when the tilt angle is generated in both the radial direction and the tangential direction, the wavefront aberration in only one of the directions and the wavefront aberration in both directions are simultaneously corrected. Compared with the case of the above, as for the magnitude of the wavefront aberration at a certain point in the light spot on the optical disc 5, as shown in FIG. 13, there is a case where the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in both directions is simultaneously corrected. The magnitude of the wavefront aberration as a whole is the smallest.

【0135】以上説明したように、第2実施形態の液晶
パネル10の動作によれば、第1実施形態の効果に加え
て、透明電極10cが光ディスク5におけるラジアル方
向に生じる波面収差分布に対応した形状を有する複数の
パターン電極30a、30b、31a、31b及び32
により構成されていると共に、チルト検出信号Sp1に基
づき隣接するパターン電極30a、30b、31a、3
1b及び32に対して図10に示す電圧値の駆動信号S
dv1を印加するので、駆動信号Sdv1により光ディスク5
のラジアル方向に発生する波面収差が補正されることと
なり、一の液晶10gを用いて、光ディスク5における
タンジェンシャル方向に発生する波面収差とそのラジア
ル方向に発生する波面収差とを同時に補正することがで
きる。
As described above, according to the operation of the liquid crystal panel 10 of the second embodiment, in addition to the effect of the first embodiment, the transparent electrode 10c corresponds to the wavefront aberration distribution generated in the radial direction of the optical disc 5. A plurality of pattern electrodes 30a, 30b, 31a, 31b and 32 having a shape
And adjacent pattern electrodes 30a, 30b, 31a, 3 based on the tilt detection signal Sp1.
1b and 32, the drive signal S having the voltage value shown in FIG.
Since dv1 is applied, the optical disk 5 is driven by the drive signal Sdv1.
Since the wavefront aberration generated in the radial direction is corrected, the wavefront aberration generated in the tangential direction and the wavefront aberration generated in the radial direction of the optical disc 5 can be simultaneously corrected by using one liquid crystal 10g. it can.

【0136】また、各駆動信号がパルス信号であって
も、光ビームBに対して必要な位相差を与えるだけの電
位差を液晶10gに与えることができる。
Further, even if each drive signal is a pulse signal, it is possible to give a potential difference to the liquid crystal 10g that gives a necessary phase difference to the light beam B.

【0137】更に、上記各実施形態においては、液晶1
0gの両面の透明電極10c及び10dを夫々に5つの
パターン電極により構成した場合について説明したが、
これ以外に、図14(a)に示すパターン電極60a乃
至60eに分割された透明電極60と、図14(b)に
示すパターン電極61a乃至61eに分割された透明電
極61とを液晶10gの両面に中心軸を同じ方向として
夫々形成するようにすれば、一方の方向に生じている波
面収差のみに対して、図14(c)に示す区分領域70
a乃至70iの夫々毎に異なる位相差を与えて当該波面
収差を補正することができることとなり、図4に示す波
面収差の分布により近い形で当該波面収差を補正するこ
とができる。
Further, in each of the above embodiments, the liquid crystal 1
The case where the transparent electrodes 10c and 10d on both sides of 0 g are each composed of five pattern electrodes has been described.
In addition, the transparent electrode 60 divided into the pattern electrodes 60a to 60e shown in FIG. 14A and the transparent electrode 61 divided into the pattern electrodes 61a to 61e shown in FIG. 14B are provided on both sides of the liquid crystal 10g. If the central axes are formed in the same direction, the segmented regions 70 shown in FIG.
The wavefront aberration can be corrected by giving different phase differences to a to 70i, and the wavefront aberration can be corrected in a form closer to the distribution of the wavefront aberration shown in FIG.

【0138】更に図14(a)及び(b)に示す透明電
極60及び61を絶縁して重ねたものを液晶10gの一
の面に形成し、これに対向して同様の構成の透明電極を
90°回転させて液晶10gの他の面に形成すれば、タ
ンジェンシャル方向とラジアル方向の両方の波面収差を
より正確且つ同時に補正することができる。
Further, the transparent electrodes 60 and 61 shown in FIGS. 14 (a) and 14 (b) which are insulated and overlapped with each other are formed on one surface of the liquid crystal 10g, and a transparent electrode having the same structure is formed opposite to this. If the liquid crystal 10g is rotated by 90 ° and formed on the other surface of the liquid crystal 10g, wavefront aberrations in both the tangential direction and the radial direction can be corrected more accurately and simultaneously.

【0139】更にまた、上述の実施形態においては、パ
ターン電極に印加するパルス波形の位相を逆相として所
望の電位差を液晶10gを駆動する構成としたが、本発
明は、これ以外に、二つの方向の光軸の傾斜に起因する
波面収差を一つの液晶10gにて補正するに際し、各方
向の光軸の傾斜に起因する波面収差を同時に補正するた
めに必要な電位差が当該液晶10gに与えられる構成に
対して広く適用することができる。
Furthermore, in the above-described embodiment, the liquid crystal 10g is driven with a desired potential difference by setting the phase of the pulse waveform applied to the pattern electrode as the opposite phase, but the present invention has two other configurations. When correcting the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in each direction with one liquid crystal 10g, the potential difference necessary for simultaneously correcting the wavefront aberration caused by the inclination of the optical axis in each direction is given to the liquid crystal 10g. It can be widely applied to the configuration.

【0140】[0140]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1に記載の
発明によれば、第1波面収差と第2波面収差を一の補正
手段で補正できるので、一の補正手段を備えた小型且つ
簡易な構成の収差補正装置により二つの独立した波面収
差を補正することができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the first wavefront aberration and the second wavefront aberration can be corrected by one correction means, so that the one correction means is small and compact. Two independent wavefront aberrations can be corrected by the aberration correction device having a simple structure.

【0141】従って、小型の収差補正装置により光ビー
ムの波面収差を補正しつつ記録媒体に照射して記録情報
を再生することができる。
Therefore, it is possible to reproduce the recorded information by irradiating the recording medium while correcting the wavefront aberration of the light beam with the small-sized aberration correction device.

【0142】請求項2に記載の発明によれば、請求項1
に記載の発明の効果に加えて、第1電極と第2電極によ
り補正手段に与えられる電位差により光ビームに与えら
れる位相差が、第1の波面収差を補正するために必要な
位相差と第2波面収差を補正するために必要な位相差と
の和となるように第1電圧及び第2電圧を印加するの
で、光ビームに対して必要な位相差を与えるだけの電位
差を補正手段に与えることができる。
According to the invention of claim 2, claim 1
In addition to the effect of the invention described in (1), the phase difference given to the light beam by the potential difference given to the correction means by the first electrode and the second electrode is the same as the phase difference necessary for correcting the first wavefront aberration. Since the first voltage and the second voltage are applied so as to be the sum of the phase difference necessary to correct the two wavefront aberration, the correction means is provided with a potential difference enough to give the necessary phase difference to the light beam. be able to.

【0143】請求項3に記載の発明によれば、請求項1
又は2に記載の発明の効果に加えて、光ビームに対して
必要な位相差を与えるだけの電位差を効果的に補正手段
に与えることができる。
According to the invention of claim 3, claim 1
Alternatively, in addition to the effect of the invention described in 2, it is possible to effectively provide the correction means with a potential difference that provides a necessary phase difference to the light beam.

【0144】従って、効果的に波面収差を補正すること
ができる。
Therefore, the wavefront aberration can be effectively corrected.

【0145】請求項4に記載の発明によれば、請求項3
に記載の発明の効果に加えて、第1駆動信号及び第2駆
動信号がパルス信号であっても、光ビームに対して必要
な位相差を与えるだけの電位差を補正手段に与えること
ができる。
According to the invention of claim 4, claim 3
In addition to the effect of the invention described in (1), even if the first drive signal and the second drive signal are pulse signals, it is possible to give the correction means a potential difference that gives a necessary phase difference to the light beam.

【0146】請求項5に記載の発明によれば、請求項1
から4のいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、光
ビームと記録媒体のなす角度の変化によって発生する波
面収差を効果的に補正することができる。
According to the invention of claim 5, claim 1
In addition to the effect of the invention described in any one of items 1 to 4, it is possible to effectively correct the wavefront aberration generated by the change in the angle formed by the light beam and the recording medium.

【0147】請求項6に記載の発明によれば、請求項1
から5のいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、デ
ィスク状記録媒体のラジアル方向の傾斜に起因する波面
収差とタンジェンシャル方向の傾斜に起因する波面収差
とを同時に補正することができる。
According to the invention of claim 6, claim 1
In addition to the effect of the invention described in any one of 1 to 5, it is possible to simultaneously correct the wavefront aberration caused by the radial inclination of the disk-shaped recording medium and the wavefront aberration caused by the tangential inclination. .

【0148】請求項7に記載の発明によれば、請求項6
に記載の発明の効果に加えて、第1電圧又は第2電圧の
うちいずれか一方が記録媒体のラジアル方向の傾斜によ
り発生する波面収差を補正するために補正手段に印加さ
れる電圧であり、第1電圧又は第2電圧のうちいずれか
他方が記録媒体のタンジェンシャル方向の傾斜により発
生する波面収差を補正するために補正手段に印加される
電圧であるので、夫々の方向の波面収差を効果的に補正
するように電圧を印加することができる。
According to the invention of claim 7, claim 6
In addition to the effect of the invention described in (1), one of the first voltage and the second voltage is a voltage applied to the correction unit to correct the wavefront aberration generated by the inclination of the recording medium in the radial direction, The other of the first voltage and the second voltage is a voltage applied to the correction means to correct the wavefront aberration generated by the tangential tilt of the recording medium, so that the wavefront aberration in each direction is effective. The voltage can be applied so as to make a corrective correction.

【0149】請求項8に記載の発明によれば、請求項1
から7のいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、簡
潔な方法で第1波面収差及び第2波面収差を補正するこ
とができる。
According to the invention of claim 8, claim 1
In addition to the effect of the invention described in any one of 1 to 7, it is possible to correct the first wavefront aberration and the second wavefront aberration by a simple method.

【0150】請求項9に記載の発明によれば、請求項1
から8のいずれか一項に記載の発明の効果に加えて、収
差補正装置により波面収差が補正された光ビームを用い
て記録情報が再生されるので、正確に記録情報を再生す
ることができる。
According to the invention of claim 9, claim 1
In addition to the effect of the invention described in any one of 1 to 8, since the record information is reproduced by using the light beam whose wavefront aberration is corrected by the aberration corrector, the record information can be accurately reproduced. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施形態の情報再生装置の概要構成を示すブロ
ック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of an information reproducing apparatus of an embodiment.

【図2】液晶パネルの構成を示す縦断面図であり、
(a)は液晶分子が水平状態の液晶を示す縦断面図であ
り、(b)は液晶分子が斜めの液晶を示す縦断面図であ
り、(c)は液晶分子が垂直の液晶を示す縦断面図であ
る。
FIG. 2 is a vertical sectional view showing a configuration of a liquid crystal panel,
(A) is a vertical sectional view showing a liquid crystal in which the liquid crystal molecules are in a horizontal state, (b) is a vertical sectional view showing a liquid crystal in which the liquid crystal molecules are oblique, and (c) is a vertical section showing a liquid crystal in which the liquid crystal molecules are vertical. It is a side view.

【図3】第1実施形態の透明電極の構成を示す平面図で
あり、(a)は第1の透明電極の構成を示す平面図であ
り、(b)は第2の透明電極の構成を示す平面図であ
る。
FIG. 3 is a plan view showing a configuration of a transparent electrode of the first embodiment, (a) is a plan view showing a configuration of a first transparent electrode, and (b) is a configuration of a second transparent electrode. It is a top view shown.

【図4】波面収差の分布を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a distribution of wavefront aberration.

【図5】波面収差の大きさを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing the magnitude of wavefront aberration.

【図6】第1実施形態の各パターン電極に印加される駆
動信号の波形を示すタイミングチャートである。
FIG. 6 is a timing chart showing a waveform of a drive signal applied to each pattern electrode of the first embodiment.

【図7】第1実施形態における液晶に加えられる電位差
を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a potential difference applied to the liquid crystal in the first embodiment.

【図8】タンジェンシャル方向とラジアル方向の双方に
チルト角が生じている場合の波面収差分布を示す平面図
である。
FIG. 8 is a plan view showing a wavefront aberration distribution when tilt angles are generated in both the tangential direction and the radial direction.

【図9】第2実施形態の液晶の区分領域を示す平面図で
ある。
FIG. 9 is a plan view showing a divided area of the liquid crystal according to the second embodiment.

【図10】第2実施形態の各パターン電極に印加される
駆動信号の波形を示すタイミングチャートである。
FIG. 10 is a timing chart showing a waveform of a drive signal applied to each pattern electrode of the second embodiment.

【図11】第2実施形態における液晶の区分領域毎の位
相差を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a phase difference for each divided area of liquid crystal in the second embodiment.

【図12】補正後の波面収差の分布を示す平面図であ
る。
FIG. 12 is a plan view showing a distribution of wavefront aberration after correction.

【図13】本発明により補正した波面収差とチルト角と
の関係を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing the relationship between the wavefront aberration corrected by the present invention and the tilt angle.

【図14】変形形態の透明電極の構成を示す平面図であ
り、(a)は第1の透明電極の構成を示す平面図であ
り、(b)は第2の透明電極の構成を示す平面図であ
り、(c)は夫々の透明電極により区分される液晶上の
区分領域を示す平面図である。
FIG. 14 is a plan view showing a configuration of a transparent electrode of a modification, (a) is a plan view showing a configuration of a first transparent electrode, and (b) is a plan view showing a configuration of a second transparent electrode. It is a figure and (c) is a top view which shows the division area | region on a liquid crystal divided by each transparent electrode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…レーザダイオード 2…ハーフミラー 4…対物レンズ 5…光ディスク 6…集光レンズ 7…受光器 10…液晶パネル 11…ラジアル方向チルトセンサ 12…タンジェンシャル方向チルトセンサ 13…光ピックアップ 14…スピンドルモータ 20…再生制御部 21…CPU 22、25…A/D変換器 23、26…PWM回路 24、27…増幅器 Sr…検出信号 Sd…再生信号 Sdv1、Sdv2…駆動信号 Sp1、Sp2…チルト検出信号 10a、10b…ガラス基板 10c、10d、60、61…透明電極 10e、10f…配向膜 10g…液晶 30a、30b、31a、31b、32、40a、40
b、41a、41b、42、60a、60b、60c、
60d、60e、61a、61b、61c、61d、6
1e…パターン電極 50a、50b、50c、50d、50e、50f、5
0g、50h、50i、50j、50k、50l、50
m、50n、50o、50p、50q、70a、70
b、70c、70d、70e、70f、70g、70
h、70i…区分領域 SP…光スポット M…液晶分子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laser diode 2 ... Half mirror 4 ... Objective lens 5 ... Optical disk 6 ... Condensing lens 7 ... Light receiver 10 ... Liquid crystal panel 11 ... Radial direction tilt sensor 12 ... Tangential direction tilt sensor 13 ... Optical pickup 14 ... Spindle motor 20 ... reproduction control unit 21 ... CPU 22, 25 ... A / D converters 23, 26 ... PWM circuits 24, 27 ... Amplifier Sr ... Detection signal Sd ... Reproduction signals Sdv1, Sdv2 ... Drive signals Sp1, Sp2 ... Tilt detection signal 10a, 10b ... Glass substrates 10c, 10d, 60, 61 ... Transparent electrodes 10e, 10f ... Alignment film 10g ... Liquid crystals 30a, 30b, 31a, 31b, 32, 40a, 40
b, 41a, 41b, 42, 60a, 60b, 60c,
60d, 60e, 61a, 61b, 61c, 61d, 6
1e ... Pattern electrodes 50a, 50b, 50c, 50d, 50e, 50f, 5
0g, 50h, 50i, 50j, 50k, 50l, 50
m, 50n, 50o, 50p, 50q, 70a, 70
b, 70c, 70d, 70e, 70f, 70g, 70
h, 70i ... divisional area SP ... light spot M ... liquid crystal molecule

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−128785(JP,A) 特開 平9−106566(JP,A) 特開 平8−212611(JP,A) 特開 平6−273806(JP,A) 特開 平10−20263(JP,A) 特開 平6−28704(JP,A) 特開 平2−250034(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 7/135 Continuation of the front page (56) Reference JP-A-9-128785 (JP, A) JP-A-9-106566 (JP, A) JP-A-8-212611 (JP, A) JP-A-6-273806 (JP , A) JP 10-20263 (JP, A) JP 6-28704 (JP, A) JP 2-250034 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB) Name) G11B 7/135

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 光ビームを出射する光源と当該光ビーム
を記録媒体上に集光する対物レンズの間に配置され、前
記光ビームに位相差を与えることにより前記光ビームの
波面収差を補正する補正手段と、 前記記録媒体が第1の方向に傾斜することにより発生す
る前記波面収差である第1波面収差を補正するために、
前記補正手段における前記光ビームが通過する一の面に
形成された第1電極と、 前記記録媒体が前記第1の方向と異なる第2の方向に傾
斜することにより発生する前記波面収差である第2波面
収差を補正するために、前記補正手段における前記光ビ
ームが通過する他の面に形成された第2電極と、 前記光ビームに前記位相差を与えて前記第1波面収差と
前記第2波面収差を補正するべく、前記第2電極に対し
て第2電圧を印加すると共に、前記第1電極に対して第
1電圧を印加する電圧印加手段と、 を備えることを特徴とする収差補正装置。
1. A light source that emits a light beam and an objective lens that focuses the light beam on a recording medium are arranged to correct the wavefront aberration of the light beam by giving a phase difference to the light beam. A correction means, and in order to correct the first wavefront aberration which is the wavefront aberration generated when the recording medium tilts in the first direction,
A first electrode formed on one surface of the correction means through which the light beam passes, and the wavefront aberration generated when the recording medium tilts in a second direction different from the first direction. A second electrode formed on the other surface of the correction means through which the light beam passes to correct the second wavefront aberration; and the first wavefront aberration and the second electrode that impart the phase difference to the light beam. An aberration correction device comprising: a voltage applying unit that applies a second voltage to the second electrode and a first voltage to the first electrode to correct the wavefront aberration. .
【請求項2】 請求項1に記載の収差補正装置におい
て、 前記電圧印加手段は、前記第1電極と前記第2電極によ
り前記補正手段に与えられる電位差により前記光ビーム
に与えられる前記位相差が、前記第1の波面収差を補正
するために必要な位相差と前記第2波面収差を補正する
ために必要な位相差との和となるように前記第1電圧及
び前記第2電圧を印加することを特徴とする収差補正装
置。
2. The aberration correcting device according to claim 1, wherein the voltage applying unit is configured to reduce the phase difference given to the light beam by a potential difference given to the correcting unit by the first electrode and the second electrode. , Applying the first voltage and the second voltage so as to be the sum of the phase difference required to correct the first wavefront aberration and the phase difference required to correct the second wavefront aberration. An aberration correction device characterized by the above.
【請求項3】 請求項1又は2に記載の収差補正装置に
おいて、 前記電圧印加手段は、 前記第1波面収差を補正する前記位相差を前記光ビーム
に与えるべく前記補正手段を駆動するための第1駆動信
号を生成する第1算出手段と、 前記第2波面収差を補正する前記位相差を前記光ビーム
に与えるべく前記補正手段を駆動するための第2駆動信
号を生成する第2算出手段と、 前記第1駆動信号を前記第1電圧として前記第1電極に
印加する第1印加手段と、 前記第2駆動信号を前記第2電圧として前記第2電極に
印加する第2印加手段と、 を備えることを特徴とする収差補正装置。
3. The aberration correction device according to claim 1, wherein the voltage application unit drives the correction unit to give the phase difference that corrects the first wavefront aberration to the light beam. First calculating means for generating a first drive signal, and second calculating means for generating a second drive signal for driving the correcting means to give the phase difference for correcting the second wavefront aberration to the light beam. First applying means for applying the first drive signal as the first voltage to the first electrode, and second applying means for applying the second drive signal as the second voltage to the second electrode, An aberration correction device comprising:
【請求項4】 請求項3に記載の収差補正装置におい
て、 前記第1駆動信号及び前記第2駆動信号はパルス信号で
あると共に、 前記第2印加手段は、前記光ビームに予め設定された所
定位相差を与えるときの前記第1駆動信号を基準とし
て、前記第2駆動信号により前記光ビームに前記所定位
相差より大きい前記位相差を与えるとき、前記第1駆動
信号の位相と前記第2駆動信号の位相とを逆相とした当
該第2駆動信号を前記第2電圧として印加すると共に、 前記第2駆動信号により前記光ビームに前記所定位相差
よりも小さい前記位相差を与えるとき、前記第1駆動信
号の位相と前記第2駆動信号の位相とを同相とした当該
第2駆動信号を前記第2電圧として印加することを特徴
とする収差補正装置。
4. The aberration correction apparatus according to claim 3, wherein the first drive signal and the second drive signal are pulse signals, and the second applying unit is preset in the light beam. When the phase difference greater than the predetermined phase difference is given to the light beam by the second drive signal with reference to the first drive signal when giving the constant phase difference, the phase of the first drive signal and the second drive The second drive signal having a phase opposite to that of the signal is applied as the second voltage, and when the second drive signal gives the light beam the phase difference smaller than the predetermined phase difference, An aberration correction apparatus, wherein the second drive signal having the same phase as that of one drive signal and the phase of the second drive signal is applied as the second voltage.
【請求項5】 請求項1から4のいずれか一項に記載の
収差補正装置において、 前記記録媒体と前記光ビームの光軸とのなす角度を検出
し、検出信号を出力する検出手段を更に備え、 前記電圧印加手段は、前記検出信号に基づいて、前記位
相差を前記光ビームに与えるように前記補正手段を駆動
すべく、前記第1電圧及び前記第2電圧を印加すること
を特徴とする収差補正装置。
5. The aberration correction device according to claim 1, further comprising a detection unit that detects an angle formed by the recording medium and an optical axis of the light beam and outputs a detection signal. The voltage applying means applies the first voltage and the second voltage based on the detection signal to drive the correcting means so as to give the phase difference to the light beam. Aberration correction device.
【請求項6】 請求項1から5のいずれか一項に記載の
収差補正装置において、 前記記録媒体は、ディスク状記録媒体であると共に、 前記第1の方向は、当該ディスク状記録媒体におけるラ
ジアル方向又はタンジェンシャル方向のうち、いずれか
一方であり、前記第2の方向は、前記ラジアル方向又は
前記タンジェンシャル方向のうち、いずれか他方である
ことを特徴とする収差補正装置。
6. The aberration correction device according to claim 1, wherein the recording medium is a disc-shaped recording medium, and the first direction is a radial direction in the disc-shaped recording medium. Direction or tangential direction, and the second direction is either the radial direction or the tangential direction, and the other direction.
【請求項7】 請求項6に記載の収差補正装置におい
て、 前記第1電圧又は前記第2電圧のうちいずれか一方が前
記記録媒体の前記ラジアル方向の傾斜により発生する波
面収差を補正するために前記補正手段に印加される電圧
であり、 前記第1電圧又は前記第2電圧のうちいずれか他方が前
記記録媒体の前記タンジェンシャル方向の傾斜により発
生する波面収差を補正するために前記補正手段に印加さ
れる電圧であることを特徴とする収差補正装置。
7. The aberration correction device according to claim 6, wherein either one of the first voltage and the second voltage corrects a wavefront aberration generated by an inclination of the recording medium in the radial direction. The voltage applied to the correction means, and one of the first voltage and the second voltage is applied to the correction means to correct the wavefront aberration generated by the inclination of the recording medium in the tangential direction. An aberration correction device, which is an applied voltage.
【請求項8】 請求項1から7のいずれか一項に記載の
収差補正装置において、 前記補正手段は、前記第1電圧及び前記第2電圧が印加
されることにより屈折率を変化させて透過する前記光ビ
ームに前記位相差を与え、夫々の方向の傾斜により発生
する各前記波面収差を補正する液晶であることを特徴と
する収差補正装置。
8. The aberration correction device according to claim 1, wherein the correction unit changes the refractive index by applying the first voltage and the second voltage and transmits the light. An aberration correction device, characterized in that the liquid crystal is a liquid crystal that gives the phase difference to the light beam and corrects each of the wavefront aberrations generated by the inclination in each direction.
【請求項9】 請求項1から8のいずれか一項に記載の
収差補正装置と、 前記光源と、 前記対物レンズと、 前記収差補正装置を通過し、前記記録媒体に照射された
前記光ビームの当該記録媒体からの反射光を受光し、受
光信号を出力する受光手段と、 前記受光信号に基づいて前記記録情報を再生する再生手
段と、 を備えることを特徴とする情報再生装置。
9. The aberration correction device according to claim 1, the light source, the objective lens, and the light beam that passes through the aberration correction device and is irradiated onto the recording medium. 2. An information reproducing apparatus comprising: a light receiving unit that receives reflected light from the recording medium and outputs a light receiving signal; and a reproducing unit that reproduces the recorded information based on the light receiving signal.
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