JP3482825B2 - Color filter substrate for reflective liquid crystal display - Google Patents

Color filter substrate for reflective liquid crystal display

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JP3482825B2
JP3482825B2 JP20475997A JP20475997A JP3482825B2 JP 3482825 B2 JP3482825 B2 JP 3482825B2 JP 20475997 A JP20475997 A JP 20475997A JP 20475997 A JP20475997 A JP 20475997A JP 3482825 B2 JP3482825 B2 JP 3482825B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置や、
EL(エレクトロ・ルミネッセンス)表示装置等の出力
表示装置、あるいは、表示画面から直接に入力を行う入
出力表示装置、または、太陽電池等に使用される電極基
板に関し、特に、反射型液晶表示装置用のカラーフィル
タ基板に係わる。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a liquid crystal display device,
The present invention relates to an output display device such as an EL (electro luminescence) display device, an input / output display device for directly inputting from a display screen, or an electrode substrate used for a solar cell or the like, particularly for a reflective liquid crystal display device. Of color filter substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、一般に、電極が配設さ
れた一対の電極板と、これら電極板間に封入された液晶
物質とでその主要部が構成されている。上記電極間に電
圧を印加することにより液晶物質の配向状態を変化させ
てこの液晶物質を透過する光の偏光面を制御すると共
に、偏光フィルムによりその透過、不透過を制御して画
面表示を行うものである。
2. Description of the Related Art In general, a liquid crystal display device is mainly composed of a pair of electrode plates on which electrodes are arranged and a liquid crystal substance enclosed between the electrode plates. By applying a voltage between the electrodes, the alignment state of the liquid crystal substance is changed to control the plane of polarization of the light passing through the liquid crystal substance, and the polarizing film controls the transmission and non-transmission of the liquid crystal for screen display. It is a thing.

【0003】液晶表示装置は、バックライトとして光源
(ランプ)を内蔵する透過型液晶表示装置が一般的であ
る。しかし、これら透過型液晶表示装置は、バックライ
ト用ランプによる消費電力が大きく、電池駆動の場合は
使用時間が短いため、本来液晶表示装置が有すべき携帯
用としての特徴を活かしきれていないという問題があっ
た。このため、近年、外光を利用する(すなわち、バッ
クライト用ランプを内蔵しない)反射型の液晶表示装置
の開発が活発となっている。
The liquid crystal display device is generally a transmissive liquid crystal display device having a light source (lamp) as a backlight. However, since these transmissive liquid crystal display devices consume a large amount of power due to a backlight lamp and have a short operating time when driven by a battery, they are not able to take full advantage of the liquid crystal display device's inherent portable characteristics. There was a problem. For this reason, in recent years, development of a reflection type liquid crystal display device that utilizes external light (that is, no built-in backlight lamp) has become active.

【0004】反射型液晶表示装置として、例えば図3の
模式図に示すように、ガラス等の背面基板30の液晶39と
対向する面側に、反射膜31および、カラーフィルタ32を
順次積層した構造としたカラーフィルタ基板2を用いる
ものが多く提案されている。なお、カラーフィルタ32
は、例えばR(赤)、G(緑)、B(青)等に着色され
た光透過性の画素(以下、単に画素と記す)が、所定の
パターンに従って複数形成されているものである。ま
た、反射膜31は、前述した、電極を兼ねた反射電極とし
て用いる場合もあるものである。
As a reflective liquid crystal display device, for example, as shown in the schematic view of FIG. 3, a structure in which a reflective film 31 and a color filter 32 are sequentially laminated on the surface side of a rear substrate 30 such as glass facing the liquid crystal 39. There are many proposals using the color filter substrate 2. The color filter 32
Is a plurality of light-transmissive pixels (hereinafter, simply referred to as pixels) colored in R (red), G (green), B (blue), etc., formed in accordance with a predetermined pattern. Further, the reflection film 31 may be used as the above-mentioned reflection electrode which also serves as an electrode.

【0005】従来、図3に示す反射膜31として、アルミ
ニウム薄膜が多く使用されていたものである。しかし、
アルミニウムは、水分や塩基により腐蝕され易く、反射
電極として、光の反射率の低下や、電気的に断線しやす
いという問題があった。また、アルミニウムは光反射率
が低いという特性的な問題があるものである。
Conventionally, an aluminum thin film is often used as the reflection film 31 shown in FIG. But,
Aluminum has a problem that it is easily corroded by water or a base, and as a reflective electrode, it has a low light reflectance and is easily electrically disconnected. Further, aluminum has a characteristic problem of low light reflectance.

【0006】このため、反射膜の素材として銀を用いる
ことが提案されているものである。銀は、アルミニウム
と比較すると、上記の点、すなわち、耐腐蝕性や光の反
射率の点で優れているといえる(例えば、銀はアルミニ
ウムと比較して光の反射率が、およそ10%程度優れ
る)。しかし、銀は、ガラスやプラスチックといった基
板に対する密着力が低く、銀薄膜として基板上に形成し
た場合、基板より剥がれ易いといった欠点があるもので
ある。また、純度の高い銀にて、基板上に銀薄膜を形成
した場合、純度の高い銀薄膜は、熱や酸素の影響で凝集
し易いものであり、熱処理を行うことで、銀薄膜が白濁
したように見えてしまうという問題もある。
For this reason, it has been proposed to use silver as a material for the reflective film. It can be said that silver is superior to aluminum in the above points, that is, in terms of corrosion resistance and light reflectance (for example, silver has a light reflectance of about 10% as compared to aluminum. Excellent). However, silver has a drawback that it has a low adhesion to a substrate such as glass or plastic, and when it is formed on the substrate as a silver thin film, it is easily peeled off from the substrate. Further, when a silver thin film is formed on a substrate with high-purity silver, the high-purity silver thin film easily aggregates due to the influence of heat and oxygen, and the heat treatment causes the silver thin film to become cloudy. There is also the problem that it looks like.

【0007】本発明者らは、上述した銀の欠点を補い、
高反射率の銀を実用レベルで提供する技術を、特願平7
−88798号にて提案しているものである。この技術
は、図3中の点線で囲まれたB部を拡大した図4に示す
ように、反射膜41を、混合酸化物薄膜45および混合酸化
物薄膜47にて銀合金薄膜46を挟持した3層構造とするも
のであり、銀合金薄膜の表面を混合酸化物で覆うため、
銀合金薄膜が保護されるというメリットを有するもので
ある。
The present inventors have made up for the above-mentioned drawbacks of silver,
Japanese Patent Application No. Hei 7 (1999) describes a technology for providing silver with high reflectance at a practical level.
It has been proposed in No. -88798. In this technique, as shown in FIG. 4 in which a portion B surrounded by a dotted line in FIG. 3 is enlarged, a reflection film 41 is sandwiched between a mixed oxide thin film 45 and a mixed oxide thin film 47 and a silver alloy thin film 46. Since it has a three-layer structure and the surface of the silver alloy thin film is covered with the mixed oxide,
This has the advantage that the silver alloy thin film is protected.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】反射型液晶表示装置の
表示性能として、画面表示の際の「白」の明るさが最も
重要なポイントの一つとしてあげられる。「白」を明る
くするためには、液晶の表示モードを、電圧を印加しな
いときに、表示装置に入射した光が液晶物質を透過し、
透過光が反射膜31にて反射し表示画面が「白」に見え
る、いわゆるノーマリーホワイトモードとし、かつ、光
を反射する反射膜31を、鏡のように全面ベタ状に(すな
わち、全て電気的に繋がっている状態に)形成すること
が望ましい。このとき、「白」の開口率が 100%である
と定義するものである。
The brightness of "white" at the time of screen display is one of the most important points in the display performance of a reflective liquid crystal display device. In order to make "white" brighter, the liquid crystal display mode is set such that when no voltage is applied, the light incident on the display device passes through the liquid crystal substance,
The so-called normally white mode in which the transmitted light is reflected by the reflective film 31 and the display screen looks "white", and the reflective film 31 that reflects light is made to be a solid surface like a mirror (that is, all are electrically It is desirable to form them in a state in which they are continuously connected. At this time, the aperture ratio of "white" is defined as 100%.

【0009】また、近年、液晶表示装置は高い表示品位
が求められているものであり、このため、反射型液晶表
示装置においては、反射膜の耐性向上の要求も高まって
いるものである。すなわち、反射膜の耐性が劣っていた
場合、例えば周辺雰囲気中の水分(湿気)等により反射
膜にシミ等の欠陥が発生し、表示欠陥や電極の断線等が
生じ、表示品位が低下するためである。
Further, in recent years, liquid crystal display devices are required to have high display quality. Therefore, in the reflection type liquid crystal display device, there is an increasing demand for improving the durability of the reflective film. That is, when the resistance of the reflective film is poor, defects (such as spots) occur in the reflective film due to moisture (humidity) in the surrounding atmosphere, and display defects and disconnection of electrodes occur, which lowers the display quality. Is.

【0010】しかるに、本発明者の上記提案による技術
においては、反射膜である銀合金薄膜を電極として用い
るべく、例えばストライプ状にパターニングするため光
反射部が減り、「白」の開口率は 100%まで達せず85〜
90%の開口率となり、「白」の明るさが劣っているもの
であった。また、耐性という点においても、近年要求さ
れる性能を十分に満足しているとはいえず、例えば反射
膜の端部等にシミ等の欠陥が発生し、表示欠陥や電極の
断線等が生じたものである。
However, in the technique proposed by the present inventor, since the silver alloy thin film, which is a reflective film, is used as an electrode, for example, since the patterning is performed in stripes, the number of light reflecting portions is reduced and the "white" aperture ratio is 100. % Up to 85 ~
The aperture ratio was 90%, and the brightness of "white" was inferior. Also, in terms of resistance, it cannot be said that the performance required in recent years is sufficiently satisfied, and defects such as spots occur at the end of the reflective film, and display defects and electrode disconnection occur. It is a thing.

【0011】本発明は、上記の問題点に鑑みなされたも
ので、その課題とするところは、少なくとも、接着層
と、銀合金薄膜と、1ないし2面以上のカラーフィルタ
とを、基板上に順次積層した反射型液晶表示装置用カラ
ーフィルタ基板において、明るい画面表示が可能であ
り、かつ、耐性が高く表示欠陥が起こり難い反射型液晶
表示装置用カラーフィルタ基板を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and its problem is that at least an adhesive layer, a silver alloy thin film, and one or more color filters are provided on a substrate. It is an object of the present invention to provide a color filter substrate for a reflective liquid crystal display device, which is capable of displaying a bright screen on a color filter substrate for a reflective liquid crystal display device, which is sequentially stacked, and which has high resistance and is less likely to cause a display defect.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を行ったものである。その結果、
カラーフィルタ基板の端部に着目したものである。なぜ
ならば、従来のカラーフィルタ基板においては、前述し
た図4に示すように、反射膜41の一構成要素である銀合
金薄膜46は、カラーフィルタ基板の端面より露出してた
ものである。このため、図4に示す状態では、周辺雰囲
気中の水分(湿気)により、混合酸化物薄膜47および45
と、銀合金薄膜46との界面48、49が浸食され、これらの
層間の密着力不良が生じることを本発明者らは見いだし
たものである。また、人手の接触あるいは、カラーフィ
ルタ基板製造工程において、アルカリ洗浄後の水洗不足
等により、カラーフィルタ基板に、アルカリ(アルカリ
金属元素)が付着、残留していた場合、上述した層間の
密着力不良がより生じやすいことも、本発明者らは見い
だしたものである。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made extensive studies to solve the above problems. as a result,
The focus is on the edges of the color filter substrate. This is because, in the conventional color filter substrate, as shown in FIG. 4 described above, the silver alloy thin film 46 which is a component of the reflective film 41 is exposed from the end surface of the color filter substrate. Therefore, in the state shown in FIG. 4, due to the moisture (humidity) in the surrounding atmosphere, the mixed oxide thin films 47 and 45 are formed.
The present inventors have found that the interfaces 48 and 49 with the silver alloy thin film 46 are eroded, resulting in poor adhesion between these layers. In addition, when alkali (alkali metal element) adheres to and remains on the color filter substrate due to human contact or insufficient washing with water after the alkali cleaning in the color filter substrate manufacturing process, the above-mentioned poor adhesion between the layers. The present inventors have also found that is more likely to occur.

【0013】本発明者らは、前記混合酸化物薄膜47およ
び45と、銀合金薄膜46との界面が浸食される反応のメカ
ニズムを検討中であり、浸食の際に生じる反応生成物の
同定までは行っていない。しかし、この界面48、49部位
において、銀が酸化され、同時に、混合酸化物が還元さ
れることで水和物を形成しているおおよその状況は、後
述するように、明らかとしているものである。
The present inventors are studying the mechanism of the reaction in which the interface between the mixed oxide thin films 47 and 45 and the silver alloy thin film 46 is eroded. I haven't gone. However, the approximate situation in which silver is oxidized at the interfaces 48 and 49 and at the same time the mixed oxide is reduced to form a hydrate is clear, as will be described later. .

【0014】この界面における反応は、外気に露出した
銀合金薄膜46のパターン端部から進行するものである。
また、反応はかなり緩慢であり急激には進まないが、時
間が経過するにつれ、液晶物質を封止するシール部にま
で達することもあり、その場合、液晶の封止のシール強
度が低下するものであり、液晶表示装置の動作上好まし
いことではない。
The reaction at this interface proceeds from the pattern end of the silver alloy thin film 46 exposed to the outside air.
In addition, the reaction is rather slow and does not proceed rapidly, but as time passes, it may reach the seal part that seals the liquid crystal substance. In that case, the sealing strength of the liquid crystal seal decreases. However, this is not preferable for the operation of the liquid crystal display device.

【0015】本発明者らは以上の点から、液晶表示装置
とすべく液晶セル化した、すなわち、電極が配設された
一対の電極板間に液晶物質を封入したときに、反射膜の
パターンのエッジ(端部)が基板端面より露出しないよ
うにした反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板を提
案するものである。さらに、以下に、請求項1に係わる
発明の説明を行う。本発明者らは、アルカリ金属元素を
含むソーダガラスを基板として反射膜を形成した場合
と、アルカリ金属元素を含まない無アルカリガラス(例
えば、コーニング社製、7059材)を基板として反射
膜を形成した場合とでは、アルカリ金属元素を含むソー
ダガラスを基板とした反射膜の方が耐湿性が劣ること
を、経験的に見いだしているものである。その結果、本
発明者らは、反射膜の耐性に、基板に含まれるアルカリ
金属元素が影響を及ぼすと推測したものである。本発明
者らは、この推測を確かめるべく、以下に記すテストを
行ったものである。まず、アルカリ金属元素を含むソー
ダガラスをガラス基板とし、図11に示すように、3層構
造の反射膜11をガラス基板上に形成したものであり、反
射膜11の結晶状態を示す薄膜X線回折データ71を、図7
に示す。反射膜11は、後述する(実施例)と同様に、ス
パッタリング法により形成したものであり、混合酸化物
薄膜25と混合酸化物薄膜27とで銀合金薄膜26を挟持した
3層構成としている。また、混合酸化物薄膜25、27は、
酸化インジウムを基材として、酸化セリウム、酸化ス
ズ、および酸化チタンを添加したものであり、その組成
は、酸素を除く金属元素換算で、セリウムを32at%(原
子パーセント)、スズおよびチタンを1〜 0.5at%(原
子パーセント)とした。また、銀合金は、銀に、金を1
at%(原子パーセント)、銅を 0.5at%(原子パーセン
ト)各々添加したものである。次いで、上記反射膜11を
形成した基板50に、温度 120℃、湿度 100%、2気圧の
雰囲気中に10時間放置するプレッシャークッカーテスト
(PCT)を行ったものであり、PCT後の3層構造の
反射膜11の結晶状態を示す薄膜X線回折データ72を、図
7に示す。なお、図7および、後述する図8のグラフ図
において、横軸は、X線の回折角2θ(°)を、また、
縦軸は回折強度(CPS)を示している。図7より分か
るように、PCT前の反射膜の結晶状態を示す薄膜X線
回折データ71では、なだらかなピークが観察できるが顕
著なピークは認められず、反射膜に結晶化が進んでいる
とは言えないものである。それに対し、PCT後の反射
膜の結晶状態を示す薄膜X線回折データ72では、θを回
折角として、2θが28°となる付近に、明らかに顕著な
ピーク73(図7中の点線部)が現れており、反射膜に何
らかの結晶物が出来ていることが分かった。そこで、本
発明者らは、顕著なピーク73を発生させた結晶物として
アルカリ金属元素を想定したものであり、確認テストと
して、更に以下に記すテストを行ったものである。すな
わち、硝酸インジウム粉末を、温度 400℃にて3時間熱
処理し、酸化インジウム(In2 O3 )とした後の薄膜
X線回折データ81と、硝酸インジウムと水酸化ナトリウ
ム(NaOH)とを混合し、この混合物に、上述したと
同じく温度400℃にて3時間熱処理した後の薄膜X線回
折データ82とを得たものである。図8に、酸化インジウ
ム(In2 O3 )単体から得られた薄膜X線回折データ
81と、硝酸インジウムと水酸化ナトリウム(NaOH)
との混合物から得られた薄膜X線回折データ82とを合わ
せて記す。図8より明らかなように、硝酸インジウムと
水酸化ナトリウム(NaOH)との混合物は、2θが28
°となる付近に顕著なピーク83(図8中の点線部)が現
れており、これは、図7に示した、薄膜X線回折データ
72の顕著なピーク73と一致している。これより、図7の
薄膜X線回折データ72の顕著なピークは、Na(ナトリ
ウム)化合物の結晶化により現れたものと判断したもの
である。以上のテスト等より、本発明者らは、反射膜を
支持する基板が、アルカリ金属元素を含んでいた場合
(例えば基板が、アルカリ金属元素であるNa(ナトリ
ウム)を含むソーダガラスであった場合)、周辺雰囲気
中の水分(湿気)のもとに、基板よりアルカリ金属元素
が溶けだし、アルカリ金属元素が反射膜に拡散していく
ことを見いだしたものである。さらには、アルカリ金属
元素が反射膜に拡散すると、アルカリ金属元素が反射膜
を構成する銀合金薄膜にマイグレーションを引き起こ
し、結果として反射膜を破壊してしまい、シミ、剥離等
の欠陥を生じさせることを、本発明者らは見いだしたも
のである。このため、本発明者らは、反射膜を支持する
基板がアルカリ金属元素を殆ど含まない、さらに好まし
くはアルカリ金属元素を全く含まなければ、基板の周辺
雰囲気中に水分(湿気)があっても、反射膜にシミ等の
欠陥が生じない、すなわち、反射膜の耐湿性が向上する
と考え本発明に至ったものである。さらに後述するよう
に、銀薄膜と金属薄膜が接触する構成においては、水分
およびアルカリ金属元素の存在が反射膜に極めて悪い影
響を与えるものである。 このため、反射膜の劣化を押さ
える方策の一つとして、反射膜が露出して水分と接触し
ないよう、透明樹脂によるオーバーコート層、あるい
は、ITO(酸化インジウムと酸化スズの混合酸化物)
にて形成した透明電極等で、反射膜を覆うことが好まし
いといえる。
From the above points, the present inventors have made a liquid crystal cell into a liquid crystal display device, that is, when a liquid crystal substance is enclosed between a pair of electrode plates provided with electrodes, a pattern of a reflective film is formed. The present invention proposes a color filter substrate for a reflective liquid crystal display device in which the edge (end) is not exposed from the end face of the substrate. Further, the invention according to claim 1 will be described below. The present inventors formed a reflective film using a soda glass containing an alkali metal element as a substrate and a non-alkali glass containing no alkali metal element (for example, 7059 material manufactured by Corning Incorporated) as a substrate. It has been empirically found that the reflection film having a substrate made of soda glass containing an alkali metal element has lower moisture resistance. As a result, the present inventors presume that the resistance of the reflective film is affected by the alkali metal element contained in the substrate. The present inventors conducted the following test to confirm this assumption. First, a soda glass containing an alkali metal element is used as a glass substrate, and a reflective film 11 having a three-layer structure is formed on the glass substrate as shown in FIG. 11, and a thin film X-ray showing the crystalline state of the reflective film 11 is formed. The diffraction data 71 is shown in FIG.
Shown in. The reflection film 11 is formed by a sputtering method as in the later-described (Example), and has a three-layer structure in which the silver oxide thin film 26 is sandwiched between the mixed oxide thin film 25 and the mixed oxide thin film 27. Further, the mixed oxide thin films 25 and 27 are
Cerium oxide, tin oxide, and titanium oxide are added to indium oxide as a base material, and the composition is 32 at% (atomic percent) of cerium and 1 to 1 of tin and titanium in terms of metal elements excluding oxygen. It was 0.5 at% (atomic percent). In addition, silver alloy, silver 1 gold 1
At% (atomic percent) and copper are added at 0.5 at% (atomic percent), respectively. Then, the substrate 50 having the reflective film 11 formed thereon was subjected to a pressure cooker test (PCT) of leaving it in an atmosphere of a temperature of 120 ° C., a humidity of 100%, and a pressure of 2 atm for 10 hours. FIG. 7 shows thin film X-ray diffraction data 72 showing the crystalline state of the reflective film 11 of FIG. In addition, in FIG. 7 and the graph of FIG. 8 described later, the horizontal axis represents the diffraction angle 2θ (°) of the X-ray,
The vertical axis represents the diffraction intensity (CPS). As can be seen from FIG. 7, in the thin film X-ray diffraction data 71 showing the crystalline state of the reflective film before PCT, a gentle peak can be observed, but no prominent peak is observed, indicating that crystallization progresses in the reflective film. Cannot be said. On the other hand, in the thin film X-ray diffraction data 72 showing the crystalline state of the reflective film after PCT, it is obvious that the peak 73 (dotted line part in FIG. 7) is around 2θ of 28 ° with θ as the diffraction angle. Appeared, and it was found that some kind of crystalline substance was formed on the reflective film. Therefore, the inventors of the present invention assumed an alkali metal element as a crystal substance in which a remarkable peak 73 was generated, and further conducted the following test as a confirmation test. That is, the indium nitrate powder was heat-treated at a temperature of 400 ° C. for 3 hours to form indium oxide (In 2 O 3) thin film X-ray diffraction data 81, and indium nitrate and sodium hydroxide (NaOH) were mixed. The thin film X-ray diffraction data 82 was obtained after the mixture was heat-treated at 400 ° C. for 3 hours as described above. Figure 8 shows thin film X-ray diffraction data obtained from indium oxide (In2 O3) alone.
81, indium nitrate and sodium hydroxide (NaOH)
The thin film X-ray diffraction data 82 obtained from the mixture of As is clear from FIG. 8, the mixture of indium nitrate and sodium hydroxide (NaOH) has a 2θ of 28.
A prominent peak 83 (indicated by a dotted line in FIG. 8) appears in the vicinity of 0 °, which is the thin film X-ray diffraction data shown in FIG. 7.
Consistent with 72 prominent peaks 73. From this, it is judged that the remarkable peak of the thin film X-ray diffraction data 72 of FIG. 7 appeared due to the crystallization of the Na (sodium) compound. From the above tests, the present inventors have found that the substrate supporting the reflection film contains an alkali metal element (for example, the substrate is soda glass containing Na (sodium) which is an alkali metal element). ), The alkali metal element begins to melt from the substrate under moisture (humidity) in the surrounding atmosphere, and the alkali metal element diffuses into the reflective film. Furthermore, when the alkali metal element diffuses into the reflection film, the alkali metal element causes migration to the silver alloy thin film that constitutes the reflection film, and as a result, destroys the reflection film, causing defects such as spots and peeling. The present inventors have found out. For this reason, the inventors of the present invention have found that if the substrate supporting the reflective film contains almost no alkali metal element, more preferably no alkali metal element at all, even if there is moisture (humidity) in the atmosphere around the substrate. The present invention is based on the idea that defects such as spots do not occur in the reflective film, that is, the moisture resistance of the reflective film is improved. As described further below
In addition, when the silver thin film and the metal thin film are in contact with each other,
And the presence of alkali metal elements have a very bad effect on the reflective film.
It gives a sound. Therefore, the deterioration of the reflective film is suppressed.
One of the ways to get it is to expose the reflective film
Overcoat layer with transparent resin, or
Is ITO (a mixed oxide of indium oxide and tin oxide)
It is preferable to cover the reflective film with a transparent electrode formed in
Can be said.

【0016】すなわち、請求項1に係わる発明は、少な
くとも、接着層と、銀合金薄膜と、1ないし2面以上の
カラーフィルタとを、基板上に順次積層した反射型液晶
表示装置用カラーフィルタ基板において、1面毎のカラ
ーフィルタにつき、銀合金薄膜が電気的に独立した1個
のパターンよりなり、かつ、液晶表示装置とすべく液晶
セル化した際、基板の端面より前記銀合金薄膜のパター
ンが露出しないとともに、前記カラーフィルタ上に透明
樹脂によるオーバーコート層あるいは透明電極の少なく
とも一方を積層して、上記の銀合金薄膜を全面的に覆
い、加えて前記基板の表面あるいは基板そのものが、実
質的にアルカリ金属元素を含まない材料により構成され
たことを特徴とするものである。例えば、本発明に用い
る基板として、Na(ナトリウム)等のアルカリ金属元
素を含有するソーダガラスよりも、例えばコーニング社
製の7059材や1737材といった、アルカリ金属元
素を含まない無アルカリガラスを用いることが好ましい
ものである。
That is, the invention according to claim 1 is a color filter substrate for a reflection type liquid crystal display device, in which at least an adhesive layer, a silver alloy thin film, and a color filter having one or more surfaces are sequentially laminated on the substrate. In each of the color filters for each surface, the silver alloy thin film has one electrically independent pattern, and when the liquid crystal cell is formed into a liquid crystal display device, the silver alloy thin film pattern is formed from the end surface of the substrate. Not exposed and transparent on the color filter
Less resin overcoat layer or transparent electrode
Both are laminated to cover the entire surface of the above silver alloy thin film.
In addition, the surface of the substrate or the substrate itself is made of a material that does not substantially contain an alkali metal element. For example, as the substrate used in the present invention, use alkali-free glass containing no alkali metal element such as 7059 material or 1737 material manufactured by Corning Co., Ltd. rather than soda glass containing alkali metal element such as Na (sodium). Is preferred.

【0017】なお、上述したように本発明のカラーフィ
ルタ基板においては、基板上に形成するカラーフィルタ
は、1面であっても、あるいは生産性等を考慮し多面付
けとしても良い。基板上にカラーフィルタを多面付けし
た場合には、個々のカラーフィルタに相対するよう、カ
ラーフィルタと略同一サイズであり、電気的に接続した
1個のパターンとした(例えば、全面ベタ状とした)銀
合金薄膜を、カラーフィルタと同数、基板上に形成する
ものである。
As described above, in the color filter substrate of the present invention, the color filter formed on the substrate may be provided on one side or may be provided on multiple sides in consideration of productivity and the like. When multiple color filters are attached on the substrate, the size of the color filters is approximately the same as that of the color filters so as to face each color filter, and one electrically connected pattern is formed (for example, the entire surface is made solid). ) The same number of silver alloy thin films as the color filters are formed on the substrate.

【0018】カラーフィルタを多面付けしたカラーフィ
ルタ基板であった場合、カラーフィルタと同様にTFT
(薄膜トランジスタ)マトリクスが多面付けして形成さ
れた基板を、個々のカラーフィルタとTFT(薄膜トラ
ンジスタ)マトリクスとが相対するよう重ね、しかる
後、これら基板間に液晶を封入封止する。液晶の封入封
止後、相対したカラーフィルタとTFT(薄膜トランジ
スタ)マトリクスとがセットとなるよう断裁、分割を行
い、個々の液晶セルを得るものである。
In the case of a color filter substrate having multiple color filters attached, the TFT is similar to the color filter.
Substrates formed by attaching (thin film transistor) matrices on multiple surfaces are stacked so that individual color filters and TFT (thin film transistor) matrices face each other, and then liquid crystal is sealed between these substrates. After encapsulating and sealing the liquid crystal, the liquid crystal cell is obtained by cutting and dividing so that the color filter and the TFT (thin film transistor) matrix facing each other become a set.

【0019】この断裁、分割時に、後述する図1に示す
ように、銀合金薄膜の有効なパターンのエッジ(端部)
を、基板の破断面より露出させないことが、本発明の主
眼となるものである。なお、上述した「有効なパター
ン」とは、カラーフィルタパターンすなわち、画面表示
部に相対した、銀合金薄膜よりなる例えば全面ベタ状の
パターンのことである。すなわち、カラーフィルタ基板
の製造時に、製造の目安とすべく形成された、例えば位
置合わせ用のアライメントマーク15、15'、バーニヤと
呼称される精度用パターン、または、断裁線等のパター
ンは、上述した「有効なパターン」と電気的に独立して
いれば、基板の破断面より露出していても構わないとい
える。次いで、本発明のカラーフィルタ基板は、銀合金
薄膜の膜厚を薄くすることにより、基板の裏面に光源を
配した半透過型のカラーフィルタ基板として使用するこ
とも可能である。しかし、この場合、銀合金薄膜の膜厚
が薄いため、画素の形成されていない部位(非開口部)
では、基板裏面からの光が銀合金薄膜で遮光されずに透
過してしまうものである。これがため、暗い部屋内で、
上記半透過型としたカラーフィルタ基板を組み込んだ液
晶表示装置を使用すると、非開口部からの透過光が目立
ち、液晶表示装置の表示品位が低下してしまうものであ
る。このため、本発明者らは、本発明のカラーフィルタ
基板を半透過型のカラーフィルタ基板とする場合、非開
口部の透過光を無くし、かつ、少しでも色純度を確保す
るため、銀合金薄膜の膜厚を厚くするとともに、各画素
の中央部領域に相対した銀合金薄膜部位に開孔を設ける
ことを提案するものである。従って、請求項2に係わる
発明は、銀合金薄膜の一部に開孔を形成することによ
り、基板裏面からの光の透過を可能とした銀合金薄膜で
あることを特徴とするものである。なお、カラーフィル
タ基板を組み込む液晶表示装置の使用環境に応じて、カ
ラーフィルタ基板を反射型、または、透過型として製造
する場合、開孔の大きさ、位置等を適宜調整すること
で、容易に反射型、または、透過型に変えることが可能
となる。
At the time of this cutting and dividing, as shown in FIG. 1 described later, the edge of the effective pattern of the silver alloy thin film.
Is not exposed from the fractured surface of the substrate is the main object of the present invention. The above-mentioned "effective pattern" is a color filter pattern, that is, a solid pattern, for example, which is made of a silver alloy thin film and faces the screen display portion. That is, at the time of manufacturing the color filter substrate, for example, alignment marks 15, 15 'for alignment, accuracy patterns called vernier formed for the purpose of manufacturing, or a pattern such as a cutting line is as described above. It can be said that it may be exposed from the fracture surface of the substrate as long as it is electrically independent of the "effective pattern". Next, the color filter substrate of the present invention can be used as a semi-transmissive color filter substrate having a light source on the back surface of the substrate by reducing the thickness of the silver alloy thin film. However, in this case, since the thickness of the silver alloy thin film is small, the portion where the pixel is not formed (non-opening portion)
Then, the light from the back surface of the substrate is transmitted without being blocked by the silver alloy thin film. Because of this, in a dark room,
When the liquid crystal display device incorporating the semi-transmissive color filter substrate is used, the transmitted light from the non-aperture portion is conspicuous and the display quality of the liquid crystal display device is deteriorated. Therefore, when the color filter substrate of the present invention is used as a semi-transmissive color filter substrate, the present inventors eliminate the transmitted light in the non-opening portion and ensure the color purity as much as possible. It is proposed to increase the film thickness of and to provide an opening in the silver alloy thin film portion facing the central region of each pixel. Therefore, the invention according to claim 2 is characterized by being a silver alloy thin film capable of transmitting light from the back surface of the substrate by forming an opening in a part of the silver alloy thin film. In addition, according to the use environment of the liquid crystal display device incorporating the color filter substrate, when the color filter substrate is manufactured as a reflective type or a transmissive type, it can be easily adjusted by appropriately adjusting the size and position of the aperture. It is possible to change to a reflective type or a transmissive type.

【0020】前述したように、銀薄膜ないし銀合金薄膜
を反射膜として用いることは、光の反射率の点で好まし
い。しかし、これら銀系の薄膜は、ガラスやプラスチッ
ク等よりなる基板に対して密着力が十分ではない。この
ため、本発明者らは、基板への銀合金薄膜の密着性向上
のためには、基板への密着力のある金属薄膜、あるい
は、金属酸化物薄膜を予め基板上に形成し、しかる後、
銀合金薄膜を形成すれば良いことを見いだしたものであ
る。
As described above, it is preferable to use a silver thin film or a silver alloy thin film as the reflective film in terms of light reflectance. However, these silver-based thin films do not have sufficient adhesion to substrates made of glass or plastic. Therefore, in order to improve the adhesion of the silver alloy thin film to the substrate, the present inventors previously formed a metal thin film or a metal oxide thin film having an adhesive force on the substrate on the substrate, and then, ,
They have found that it is good to form a silver alloy thin film.

【0021】すなわち、請求項に係わる発明は、前記
接着層が、金属薄膜あるいは金属酸化物薄膜の少なくと
も一方より選択される接着層であることを特徴とするも
のである。
That is, the invention according to claim 3 is characterized in that the adhesive layer is an adhesive layer selected from at least one of a metal thin film and a metal oxide thin film.

【0022】接着層は、アルミニウムやアルミニウム合
金、ニッケル・クロム合金、マグネシウム合金、チタン
やタンタル等の高融点金属、あるいは、これらの合金に
て金属薄膜として形成して構わない。または、接着層
は、酸化インジウム、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸
化亜鉛、酸化チタン等の金属酸化物にて、あるいは、こ
れら金属酸化物の混合物にて、薄膜として形成しても構
わない。さらには、金属窒化物で形成しても構わない。
The adhesive layer may be formed of aluminum, an aluminum alloy, a nickel-chromium alloy, a magnesium alloy, a refractory metal such as titanium or tantalum, or a metal thin film of these alloys. Alternatively, the adhesive layer may be formed as a thin film from a metal oxide such as indium oxide, tin oxide, aluminum oxide, zinc oxide, or titanium oxide, or a mixture of these metal oxides. Further, it may be formed of metal nitride.

【0023】銀薄膜ないしは銀合金薄膜は、一般に、表
面に銀の硫化物を形成して変色しやく、また、柔らかく
傷つきやすいという欠点がある。これを補う目的で、銀
合金薄膜上に透明な金属酸化物膜を形成し、銀合金薄膜
を保護することが望ましい。
The silver thin film or the silver alloy thin film generally has the drawbacks that silver sulfides are formed on the surface to cause discoloration, and that they are soft and easily scratched. In order to compensate for this, it is desirable to form a transparent metal oxide film on the silver alloy thin film to protect the silver alloy thin film.

【0024】従って、請求項に係わる発明は、カラー
フィルタと銀合金薄膜との間に、金属酸化物薄膜を挿入
したことを特徴とするものである。
Therefore, the invention according to claim 4 is characterized in that a metal oxide thin film is inserted between the color filter and the silver alloy thin film.

【0025】銀合金薄膜上に形成する金属酸化物薄膜
は、透明であり、かつ、イオン性の溶出物が少ないもの
であれば、特に限定しない。例えば、元素の周期表4a
族、5a 族、3b 族、4b 族、あるいは、Zn(亜鉛)
の酸化物、または、これら酸化物の混合酸化物であって
も構わない。その中でも特に、酸化インジウム、酸化ス
ズ、酸化亜鉛等の酸化物に、酸化セリウム、酸化チタン
等の高屈折率の酸化物を加えた混合酸化物が好適といえ
る。
The metal oxide thin film formed on the silver alloy thin film is not particularly limited as long as it is transparent and has a small amount of ionic eluate. For example, Periodic Table of Elements 4a
Group, 5a group, 3b group, 4b group, or Zn (zinc)
The above oxide or a mixed oxide of these oxides may be used. Among them, mixed oxides obtained by adding oxides having a high refractive index such as cerium oxide and titanium oxide to oxides such as indium oxide, tin oxide and zinc oxide are particularly preferable.

【0026】本発明に用いる金属酸化物は、金属酸化物
薄膜による銀の粒界拡散を避けるため(銀は金属酸化物
の粒界や表面を移動しやすい)、結晶粒のない、アモル
ファス状の金属酸化物薄膜であることが好ましい。
The metal oxide used in the present invention has no crystal grain and is in an amorphous state in order to avoid grain boundary diffusion of silver by the metal oxide thin film (silver easily moves on the grain boundary and surface of the metal oxide). It is preferably a metal oxide thin film.

【0027】また、本発明者らは、銀薄膜と金属酸化物
薄膜が接触する構成においては、長期保存や(高温、高
湿の条件下における)湿中テストの結果として、銀薄膜
と金属酸化物薄膜との界面が弱くなり、剥がれやすくな
る傾向のあることを見いだしたものである。これにより
本発明者らは、水分(湿気)さらにはアルカリ金属元素
の存在下では、銀と酸化物の界面においては銀が酸化
(電子を放出)し、これにより、複雑な反応を伴いなが
ら金属酸化物が影響を受けていることが明らかであると
判断したものである。従って、銀の電子放出を抑制する
ことが、反射膜の耐性を上げるうえで重要であり、この
観点から、銀よりも仕事関数の高い金属を銀に添加した
銀合金薄膜を用いることが効果的であることを、本発明
者らは見いだしたものである。
In addition, the inventors of the present invention have found that, in the structure in which the silver thin film and the metal oxide thin film are in contact with each other, as a result of long-term storage or a humidity test (under high temperature and high humidity conditions), the silver thin film and the metal oxide film are oxidized. It was found that the interface with the thin film tends to be weakened and peeled off easily. As a result, the present inventors have found that in the presence of water (humidity) and also of an alkali metal element, silver oxidizes (emits electrons) at the interface between silver and an oxide, which causes a metal reaction with complicated reactions. It was judged that the oxide was clearly affected. Therefore, it is important to suppress the electron emission of silver in order to improve the resistance of the reflective film. From this viewpoint, it is effective to use a silver alloy thin film in which a metal having a work function higher than that of silver is added to silver. The present inventors have found that

【0028】AGNE PERIODIC TABLE
(元素周期律表)によれば、銀の仕事関数は4.28eVで
あり、同様に、銅は4.47eV、金は4.58eV、ニッケル
は4.84eV、パラジウムは4.82eV、プラチナ(白金)
は5.29eVであり、これら、銀より仕事関数の高い金属
を銀に添加することが好ましい。但し、これら銀に添加
する金属の総量が5at%(原子パーセント)を越える
と、銀合金薄膜の光反射率の低下が目立ち、かつ、金、
プラチナ、パラジウム等の貴金属は高価でありコスト的
にも影響が大きいため、銀に添加する金属の総量は5at
%(原子パーセント)以下が望ましい。
AGNE PERIODIC TABLE
According to the Periodic Table of Elements, the work function of silver is 4.28 eV, and similarly, copper is 4.47 eV, gold is 4.58 eV, nickel is 4.84 eV, palladium is 4.82 eV, and platinum (platinum) is used.
Is 5.29 eV, and it is preferable to add a metal having a work function higher than silver to silver. However, when the total amount of the metals added to these silver exceeds 5 at% (atomic percent), the light reflectance of the silver alloy thin film is conspicuously lowered, and gold,
Noble metals such as platinum and palladium are expensive and have a large cost impact, so the total amount of metals added to silver is 5 at.
% (Atomic percent) or less is desirable.

【0029】[0029]

【0030】[0030]

【0031】[0031]

【0032】[0032]

【0033】[0033]

【0034】[0034]

【0035】[0035]

【0036】[0036]

【0037】[0037]

【0038】[0038]

【0039】[0039]

【0040】[0040]

【0041】[0041]

【0042】[0042]

【0043】[0043]

【0044】[0044]

【0045】本発明においては、ITO(酸化スズと酸
化インジウムの混合酸化物)からなる透明電極を、カラ
ーフィルタ基板の構成要素として積層しても構わない。
この透明電極は、スパッリング法、または蒸着法等によ
り全面ベタ状に成膜した後、フォトリソグラフィ法等の
公知の手段により所定のパターンに形成しても良く、あ
るいは、マスクスパッタリング法を用い、所定のパター
ン形状にて形成しても良い。なお、IPSと呼称される
横電界方式を用いた液晶表示装置用のカラーフィルタ基
板においては、上記の透明電極は形成しなくても良いも
のである。また、透明電極に変えて反射膜を、コモン側
の駆動電極として用いることも可能である。この時は、
カラーフィルタやオーバーコートを薄く形成することに
より、上記の透明電極を省略しても良い。
In the present invention, a transparent electrode made of ITO (a mixed oxide of tin oxide and indium oxide) may be laminated as a constituent element of the color filter substrate.
This transparent electrode may be formed into a predetermined pattern by a known means such as a photolithography method after forming a solid film on the entire surface by a sparring method, an evaporation method or the like, or using a mask sputtering method, It may be formed in a predetermined pattern shape. In addition, in the color filter substrate for the liquid crystal display device using the horizontal electric field system called IPS, the above-mentioned transparent electrode may not be formed. It is also possible to use a reflective film as the common-side drive electrode instead of the transparent electrode. At this time,
The transparent electrode may be omitted by forming a thin color filter or overcoat.

【0046】本発明に用いることの可能な基板は、透明
な基板に限らず、白色あるいはその他の色に着色された
基板であっても構わない。さらに、基板自体に、電気回
路や、太陽電池、シリコンウェファー、アモルファスシ
リコンやポリシリコン、MIM(ダイオード素子)等の
半導体素子が形成されていても構わない。また、反射膜
上に、楕円偏光を含む偏光板、λ/4波長板、位相差フ
ィルム、光の散乱膜、マイクロレンズ、回折格子、ある
いはホログラム等の光機能フィルムを、間接あるいは直
接に形成しても構わない。
The substrate that can be used in the present invention is not limited to a transparent substrate, and may be a substrate colored in white or another color. Further, an electric circuit, a solar cell, a silicon wafer, semiconductor elements such as amorphous silicon or polysilicon, and MIM (diode element) may be formed on the substrate itself. Further, an optical functional film such as a polarizing plate including elliptically polarized light, a λ / 4 wavelength plate, a retardation film, a light scattering film, a microlens, a diffraction grating, or a hologram is indirectly or directly formed on the reflective film. It doesn't matter.

【0047】[0047]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態の例を
詳細に説明する。 <実施例1>図1に示すように、本実施例1に係わる反
射型液晶表示装置用カラーフィルター基板1は、厚さ
0.7mmの無アルカリガラス基板10(コーニング社製、1
737材)上に順次積層された、反射膜11と、公知の顔
料分散方式等で形成されたカラーフィルタ12と、アクリ
ル系樹脂等によるオーバーコート層13と、厚さ 140nmの
透明電極14とによりその主要部が構成されている。ここ
で、反射膜11は、本発明の主旨に基づき、少なくともカ
ラーフィルタ12の形成領域を覆うよう、かつ、基板10の
端部より内側となるよう、全面ベタ状に形成している。
なお、カラーフィルター基板の端部近傍には、反射膜11
と独立した、位置合わせ用のアライメントマーク15、1
5’を形成しているものであり、これは、反射膜11の形
成の際に、同時に形成したものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described in detail. Example 1 As shown in FIG. 1, the color filter substrate 1 for a reflective liquid crystal display device according to Example 1 has a thickness of
0.7mm non-alkali glass substrate 10 (Corning, 1
737 material), a reflective film 11, a color filter 12 formed by a known pigment dispersion method, an overcoat layer 13 made of an acrylic resin or the like, and a transparent electrode 14 having a thickness of 140 nm. Its main part is composed. Here, based on the gist of the present invention, the reflective film 11 is formed so as to be solid over the entire surface so as to cover at least the formation region of the color filter 12 and to be inside the end portion of the substrate 10.
It should be noted that the reflective film 11 is provided near the edge of the color filter substrate.
Alignment marks 15, 1 independent of
5'is formed at the same time when the reflective film 11 is formed.

【0048】図1の点線で囲まれたA部を拡大した図が
図2である。図2に示すように、本実施例1に係わる反
射膜11は、接着層である混合酸化物薄膜25(膜厚35nm)
と、銀合金薄膜26(膜厚 150nm)と、混合酸化物薄膜27
(膜厚70nm)とで形成した3層構成とした。なお、混合
酸化物薄膜25、27は、酸化インジウムを基材として、酸
化セリウム、酸化スズ、および酸化チタンを添加したも
のであり、その組成は、酸素を除く金属元素換算で、セ
リウムを32at%(原子パーセント)、スズおよびチタン
を1〜 0.5at%(原子パーセント)とした。また、銀合
金は、銀に、プラチナを 0.5at%(原子パーセント)、
金を1at%(原子パーセント)、銅を1at%(原子パー
セント)各々添加したものである。
FIG. 2 is an enlarged view of the portion A surrounded by the dotted line in FIG. As shown in FIG. 2, the reflective film 11 according to the first embodiment is a mixed oxide thin film 25 (film thickness 35 nm) which is an adhesive layer.
, Silver alloy thin film 26 (thickness 150 nm), mixed oxide thin film 27
(Thickness 70 nm). The mixed oxide thin films 25 and 27 were prepared by adding cerium oxide, tin oxide, and titanium oxide to indium oxide as a base material, and the composition thereof was 32 at% of cerium in terms of metal elements excluding oxygen. (Atomic percent), tin and titanium were 1 to 0.5 at% (atomic percent). In addition, silver alloy, silver, platinum at 0.5at% (atomic percent),
1 at% (atomic percent) of gold and 1 at% (atomic percent) of copper were added.

【0049】反射膜11は、スパッタリング装置を用い、
真空状態にて 100℃以下の基板温度にて連続して積層し
たものであり、基板10上に反射膜11を形成後、 300℃の
温度で1時間加熱する熱処理(アニール処理)を基板に
施したものである。しかる後、公知の手法にて、カラー
フィルタ12、オーバーコート層13、透明電極14を反射膜
11上に順次積層成膜し、本実施例1に係わるカラーフィ
ルター基板1を得た。
The reflective film 11 uses a sputtering device,
They are laminated in a vacuum state at a substrate temperature of 100 ° C. or less. After forming the reflective film 11 on the substrate 10, the substrate is subjected to heat treatment (annealing) for heating at a temperature of 300 ° C. for 1 hour. It was done. After that, the color filter 12, the overcoat layer 13, and the transparent electrode 14 are formed into a reflective film by a known method.
The color filter substrate 1 according to the present Example 1 was obtained by sequentially stacking and depositing on 11 layers.

【0050】本実施例1のカラーフィルター基板1を、
温度60℃、湿度95%とした高温、高湿の雰囲気中に 500
時間放置したが、反射膜11にはなんら外観の変化は生じ
ず、シミ等の不良は発生しなかった。また、カラーフィ
ルター12の形成前に、反射膜11の光反射率を測定したと
ころ、光反射率は90%以上と良好であり、実用上問題の
ないものであった。
The color filter substrate 1 of the first embodiment is
500 in a high temperature and high humidity environment with a temperature of 60 ° C and a humidity of 95%
After being left for a time, the appearance of the reflective film 11 did not change and defects such as spots did not occur. Further, when the light reflectance of the reflective film 11 was measured before forming the color filter 12, the light reflectance was as good as 90% or more, and there was no problem in practical use.

【0051】なお、本実施例1においては、銀合金薄膜
26上に混合酸化物薄膜27を積層したが、混合酸化物薄膜
27は省略しても構わない。また、本発明の反射膜11は、
3層構成にて基板11全面に形成後、公知のフォトリソグ
ラフィ法を用い、硫酸系のエッチング液等にてエッチン
グを行うことで、所望するパターン形状とすることがで
きるが、その他に、所定の開口パターンを有する金属マ
スクを用いたマスクスパッタリング法を用い、所望する
パターン形状とした反射膜11を形成しても構わない。
In the first embodiment, the silver alloy thin film is used.
A mixed oxide thin film 27 was laminated on 26
27 may be omitted. Further, the reflective film 11 of the present invention,
After forming a three-layer structure on the entire surface of the substrate 11, a desired pattern shape can be obtained by performing etching with a sulfuric acid-based etching solution or the like using a known photolithography method. The reflective film 11 having a desired pattern may be formed by using a mask sputtering method using a metal mask having an opening pattern.

【0052】<実施例2>図9に示すように、本実施例
2に係わるカラーフィルタ基板1は、厚さ 0.7mmの無ア
ルカリガラス基板90(コーニング社製、1737材)上
に順次積層された、反射膜91と、公知の顔料分散方式で
形成されたカラーフィルタ92と、アクリル系樹脂による
オーバーコート層93と、厚さ 140nmの透明電極94とによ
りその主要部が構成されている。なお、本実施例2に係
わる、反射膜91、カラーフィルタ92、オーバーコート層
93、透明電極94は、上述した実施例1と構成、材質およ
び形成方法を同一としたものである。
Example 2 As shown in FIG. 9, the color filter substrate 1 according to Example 2 is sequentially laminated on a 0.7 mm-thick non-alkali glass substrate 90 (1737 material manufactured by Corning Incorporated). The reflective film 91, the color filter 92 formed by a known pigment dispersion method, the acrylic resin overcoat layer 93, and the transparent electrode 94 having a thickness of 140 nm form a main part. The reflective film 91, the color filter 92, and the overcoat layer according to the second embodiment.
The configuration, material, and forming method of the transparent electrode 94 and the transparent electrode 94 are the same as those of the first embodiment.

【0053】ここで本実施例2においては、カラーフィ
ルタ92の各画素の中央部と相対する反射膜91部位に、各
画素の有効面積の約5%に相当する直径40μmの丸い開
孔95を開けているものであり、基板90の裏面より照射し
た光が開孔95を透過できるようにしている。なお、本実
施例2においては、基板90全面に3層構成とした反射膜
91を形成後、公知のフォトリソグラフィ法を用い、硫酸
系のエッチング液にてエッチングを行い反射膜91を所望
するパターン形状とする際に、開孔95も同時にエッチン
グにて形成したものである。また、上記本実施例2のカ
ラーフィルタ基板1をカラーフィルタ92側から見た平面
図が図10であり、各画素の中央部近傍に、反射膜91に設
けた丸い開孔95が示されている。なお、反射膜91に設け
る開孔95の形状、大きさ、および、位置は、調節するこ
とが可能であり、カラーフィルタ基板1の使用用途に応
じて適宜設定して構わない。
Here, in the second embodiment, a round opening 95 having a diameter of 40 μm, which corresponds to about 5% of the effective area of each pixel, is formed in the portion of the reflective film 91 facing the central portion of each pixel of the color filter 92. It is opened so that the light emitted from the back surface of the substrate 90 can pass through the opening 95. In the second embodiment, a reflective film having a three-layer structure is formed on the entire surface of the substrate 90.
After forming 91, the opening 95 is also formed by etching at the same time when the reflection film 91 is formed into a desired pattern shape by etching with a sulfuric acid-based etching solution using a known photolithography method. Further, FIG. 10 is a plan view of the color filter substrate 1 of the second embodiment as viewed from the color filter 92 side, and a round opening 95 provided in the reflective film 91 is shown near the center of each pixel. There is. The shape, size, and position of the opening 95 provided in the reflective film 91 can be adjusted, and may be appropriately set according to the intended use of the color filter substrate 1.

【0054】<比較例>次いで、参考のため、本発明の
カラーフィルタ基板と従来のカラーフィルタ基板との比
較例を以下に記す。
Comparative Example Next, for reference, a comparative example of the color filter substrate of the present invention and the conventional color filter substrate will be described below.

【0055】本比較例においては、アルカリ金属元素を
含まない無アルカリガラス基板51と、アルカリ金属元素
を含有するアルカリガラス基板61との2種類の基板を用
い、各々の基板につき反射膜を形成したものである。
In this comparative example, two types of substrates, that is, an alkali-free glass substrate 51 containing no alkali metal element and an alkali glass substrate 61 containing an alkali metal element were used, and a reflective film was formed on each substrate. It is a thing.

【0056】すなわち、無アルカリガラス基板51として
石英ガラスを、また、アルカリ金属元素を含有するアル
カリガラス基板61としてソーダガラスを用いたものであ
る。各々の基板に対し、上述した実施例1に記したと同
じ3層構成の反射膜11を積層形成し、しかる後、上記の
実施例1と同様の工程にて反射膜のパターン化、および
アニール処理等を行い、基板の異なる2種類の反射膜11
を得たものである。なお、本比較例においては、銀合金
を、銀に、金を1at%(原子パーセント)、銅を 0.5at
%(原子パーセント)各々添加した組成とし、混合酸化
物薄膜の組成は上記の実施例1と同様とした。また、本
比較例においては、銀合金薄膜の膜厚を厚くすると反射
光が強くなり観察しづらくなるため、銀合金薄膜の膜厚
を14nmと薄くしたものであり、膜厚35nmの混合酸化物薄
膜にて銀合金薄膜を挟持したものである。
That is, quartz glass is used as the non-alkali glass substrate 51, and soda glass is used as the alkali glass substrate 61 containing an alkali metal element. On each substrate, the reflection film 11 having the same three-layer structure as that described in the above-described Example 1 is laminated and formed, and thereafter, the reflection film is patterned and annealed by the same steps as those in Example 1 above. Two kinds of reflective films with different substrates after processing 11
Is what I got. In this comparative example, silver alloy, silver, gold at 1 at% (atomic percent), and copper at 0.5 at
% (Atomic percent), and the composition of the mixed oxide thin film was the same as in Example 1 above. In addition, in this comparative example, when the thickness of the silver alloy thin film is increased, the reflected light becomes stronger and it becomes difficult to observe.Therefore, the thickness of the silver alloy thin film is as thin as 14 nm, and the mixed oxide with the thickness of 35 nm is used. A thin film sandwiches a silver alloy thin film.

【0057】次いで、石英ガラスを基板51とする反射膜
(本発明のカラーフィルタ基板に係わる反射膜)を、温
度 120℃、湿度 100%、圧力2 atmとした高温多湿高圧
試験器内に10時間放置したものであり、放置後の反射膜
の形状を模式的に示す図面が図5である。また、同様
に、アルカリガラスを基板61とした反射膜を、温度 120
℃、湿度 100%、圧力2 atmとした高温多湿高圧試験器
内に10時間放置したものであり、放置後の従来の反射膜
の形状を模式的に示す図面が図6である。なお、図5、
図6ともに、例えばストライプ状にパターン化した反射
膜部位を部分的に拡大(1000倍)した平面図を示してい
るものであり、パターン化した反射膜 11aおよび 11bの
間より、下地となったガラス基板51(ガラス面60) およ
びガラス基板61(ガラス面70) が露出して見えているも
のである。なお、図6のX−X’線における断面は図11
と略同一となるものであるが、図5の断面も同様に略同
一となっているものである。
Then, a reflective film having quartz glass as the substrate 51 (a reflective film relating to the color filter substrate of the present invention) was placed in a high temperature and high humidity high pressure tester at a temperature of 120 ° C., a humidity of 100% and a pressure of 2 atm for 10 hours. FIG. 5 is a diagram schematically showing the shape of the reflection film after being left as it is. Similarly, a reflective film with an alkali glass substrate 61 is used at a temperature of 120
FIG. 6 is a drawing schematically showing the shape of a conventional reflective film after being left for 10 hours in a high-temperature and high-humidity high-pressure tester at a temperature of 100 ° C., a humidity of 100% and a pressure of 2 atm. In addition, FIG.
6A and 6B are plan views in which, for example, a reflection film portion patterned in a stripe shape is partially enlarged (1000 times), and a portion between the patterned reflection films 11a and 11b serves as a base. The glass substrate 51 (glass surface 60) and the glass substrate 61 (glass surface 70) are exposed and visible. The cross section taken along line XX 'of FIG. 6 is shown in FIG.
However, the cross section of FIG. 5 is also substantially the same.

【0058】図5に示すように、本発明の反射膜では、
反射膜 11a、 11bのパターンエッジ53部に変化は見られ
ない。しかし、図6に示すアルカリガラスを基板61とし
た反射膜では、反射膜 11a、 11bのパターンエッジ63部
は、ソーダガラスから溶けだしたアルカリ金属元素によ
り劣化を生じており、シミ状の欠陥を生じていたもので
ある。
As shown in FIG. 5, in the reflection film of the present invention,
No change is seen at the pattern edge 53 of the reflective films 11a and 11b. However, in the reflection film using the substrate 61 made of alkali glass as shown in FIG. 6, the pattern edges 63 of the reflection films 11a and 11b are deteriorated by the alkali metal element melted from the soda glass, and stain-like defects are generated. It was what was there.

【0059】本発明者らは、シミ状の欠陥が生じていた
パターンエッジ63部に、SIMSによる分析を行ったも
のであり、その結果、混合酸化物表面と、混合酸化物薄
膜と銀合金薄膜との界面とに、Na(ナトリウム)、K
(カリウム)、Ca(カルシウム)等のアルカリ金属元
素を集中して検出した。
The present inventors conducted an analysis by SIMS on the pattern edge 63 portion where the spot-like defect had occurred, and as a result, the mixed oxide surface, the mixed oxide thin film and the silver alloy thin film were obtained. At the interface with, Na (sodium), K
Alkali metal elements such as (potassium) and Ca (calcium) were concentrated and detected.

【0060】[0060]

【発明の効果】上述したように、本発明により、アルミ
ニウムを用いた反射膜より高反射率で、かつ、高信頼性
を有する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板を提
供することが可能となる。すなわち、反射膜を構成する
銀合金薄膜の端部(エッジ)が外気にさらされないた
め、周辺雰囲気中の水分(湿気)やアルカリ金属元素の
影響による反射膜の劣化が防止され、カラーフィルタ基
板の耐性が大幅に向上するものである。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a color filter substrate for a reflective liquid crystal display device having a higher reflectance and a higher reliability than a reflective film using aluminum. . That is, since the edges of the silver alloy thin film that constitutes the reflective film are not exposed to the outside air, deterioration of the reflective film due to the effects of moisture (humidity) and alkali metal elements in the surrounding atmosphere is prevented, and the color filter substrate The resistance is greatly improved.

【0061】また、従来のアルミニウムを用いた反射膜
では、アルミニウムがアルカリ性溶液により溶解するた
め、カラーフィルタ基板の製造工程において、例えばカ
ラーフィルタの形成前にアルカリ性溶液を用いた洗浄が
出来ない等種々の制約があった。しかるに、本発明に係
わる反射膜は、銀合金薄膜を使用し、かつ、銀合金薄膜
が保護されているため、そのようなアルカリによる制約
が解消されたものであり、反射膜を形成後、カラーフィ
ルタを形成する後工程に支障なく移行することが可能と
なり、生産効率、生産性が向上する等のメリットを有す
るものである。
Further, in the conventional reflection film using aluminum, since aluminum is dissolved by the alkaline solution, in the manufacturing process of the color filter substrate, for example, cleaning using the alkaline solution cannot be performed before forming the color filter. There was a restriction. However, since the reflective film according to the present invention uses the silver alloy thin film and the silver alloy thin film is protected, such restrictions due to alkali have been eliminated. It is possible to move to the post-process of forming the filter without any trouble, and there is a merit that the production efficiency and productivity are improved.

【0062】さらに加えて、反射膜がアルミニウムであ
った場合、カラーフィルタ等の有機材料を反射膜上に積
層すると、有機材料の屈折率の関係で反射膜の光反射率
が低下したものである。しかし、本発明においては、反
射膜に銀合金薄膜を用いるため、カラーフィルタ等の有
機材料を反射膜上に積層しても、有機材料の影響を受け
ず、光反射率の低下が生じない等、本発明は実用上優れ
ているといえる。
In addition, when the reflective film is aluminum, when an organic material such as a color filter is laminated on the reflective film, the light reflectance of the reflective film is lowered due to the refractive index of the organic material. . However, in the present invention, since a silver alloy thin film is used for the reflective film, even if an organic material such as a color filter is laminated on the reflective film, it is not affected by the organic material and the light reflectance does not decrease. It can be said that the present invention is excellent in practical use.

【0063】[0063]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のカラーフィルタ基板の一実施例を示す
断面説明図。
FIG. 1 is an explanatory sectional view showing an embodiment of a color filter substrate of the present invention.

【図2】本発明のカラーフィルタ基板の一実施例の要部
を示す断面説明図。
FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view showing a main part of an embodiment of a color filter substrate of the present invention.

【図3】従来のカラーフィルタ基板を用いた反射型液晶
表示装置の一例の要部を示す断面説明図。
FIG. 3 is a cross-sectional explanatory view showing a main part of an example of a reflective liquid crystal display device using a conventional color filter substrate.

【図4】従来のカラーフィルタ基板の一例の要部を示す
断面説明図。
FIG. 4 is a cross-sectional explanatory view showing a main part of an example of a conventional color filter substrate.

【図5】本発明のカラーフィルタ基板に耐性テストを実
施した後の様子を示す拡大図。
FIG. 5 is an enlarged view showing a state after a resistance test is performed on the color filter substrate of the present invention.

【図6】従来のカラーフィルタ基板に耐性テストを実施
した後の様子を示す拡大図。
FIG. 6 is an enlarged view showing a state after performing a resistance test on a conventional color filter substrate.

【図7】X線回折データの一例を示すグラフ図。FIG. 7 is a graph showing an example of X-ray diffraction data.

【図8】X線回折データの他の例を示すグラフ図。FIG. 8 is a graph showing another example of X-ray diffraction data.

【図9】本発明のカラーフィルタ基板の他の実施例を示
す断面説明図。
FIG. 9 is a sectional explanatory view showing another embodiment of the color filter substrate of the present invention.

【図10】本発明のカラーフィルタ基板の他の実施例の
要部を示す平面図。
FIG. 10 is a plan view showing the main part of another embodiment of the color filter substrate of the present invention.

【図11】ソーダガラス上に形成した反射膜の一例を示
す断面説明図。
FIG. 11 is an explanatory cross-sectional view showing an example of a reflective film formed on soda glass.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2・・・・・・・・・・・・カラーフィルタ基板 10、30、40、50、51、61、90・・基板 11、31、41、91・・・・・・・・反射膜 12、32、92・・・・・・・・・・カラーフィルタ 13、33、43、93・・・・・・・・オーバーコート層 14、34、36、94・・・・・・・・透明電極 15・・・・・・・・・・・・・・アライメントマーク 25、27、45、47・・・・・・・・混合酸化物薄膜 26、46・・・・・・・・・・・・銀合金薄膜 35・・・・・・・・・・・・・・TFT素子 37・・・・・・・・・・・・・・偏光フィルム 38・・・・・・・・・・・・・・光制御フィルム 39・・・・・・・・・・・・・・液晶 48、49・・・・・・・・・・・・界面 53、63・・・・・・・・・・・・パターンエッジ 60、70・・・・・・・・・・・・ガラス面 71、72、81、82・・・・・・・・X線回折データ 73、83・・・・・・・・・・・・ピーク 95・・・・・・・・・・・・・・開孔 1, 2, ......... Color filter substrate 10, 30, 40, 50, 51, 61, 90 11, 31, 41, 91 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Reflective film 12, 32, 92 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Color filter 13, 33, 43, 93 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Overcoat layer 14, 34, 36, 94 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Transparent electrode 15 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Alignment mark 25, 27, 45, 47 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Mixed oxide thin film 26, 46 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Silver alloy thin film 35 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ TFT element 37 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Polarizing film 38 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Light control film 39 ... 48, 49 ... 53, 63 ................... Pattern edge 60, 70 ................... Glass surface 71, 72, 81, 82 ... X-ray diffraction data 73、83 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Peak 95 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Open hole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−82762(JP,A) 特開 平9−179116(JP,A) 特開 平4−315129(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1335 G02B 5/20 101 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-6-82762 (JP, A) JP-A-9-179116 (JP, A) JP-A-4-315129 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1335 G02B 5/20 101

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】少なくとも、接着層と、銀合金薄膜と、1
ないし2面以上のカラーフィルタとを、基板上に順次積
層した反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板におい
て、1面毎のカラーフィルタにつき、銀合金薄膜が電気
的に独立した1個のパターンよりなり、かつ、液晶表示
装置とすべく液晶セル化した際、基板の端面より前記銀
合金薄膜のパターンが露出しないとともに、前記カラー
フィルタ上に透明樹脂によるオーバーコート層あるいは
透明電極の少なくとも一方を積層して、上記の銀合金薄
膜を全面的に覆い、加えて前記基板の表面あるいは基板
そのものが、実質的にアルカリ金属元素を含まない材料
により構成されたことを特徴とする反射型液晶表示装置
用カラーフィルタ基板。
1. An adhesive layer, a silver alloy thin film, and 1
Or a color filter substrate for reflection type liquid crystal display in which color filters having two or more surfaces are sequentially laminated on the substrate, the silver alloy thin film is composed of one electrically independent pattern for each color filter. In addition, when the liquid crystal cell is formed into a liquid crystal display device, the pattern of the silver alloy thin film is not exposed from the end face of the substrate, and the color
Overcoat layer of transparent resin on the filter or
By stacking at least one of the transparent electrodes,
A color filter substrate for a reflective liquid crystal display device, characterized in that the film is entirely covered, and in addition, the surface of the substrate or the substrate itself is made of a material substantially containing no alkali metal element.
【請求項2】銀合金薄膜の一部に開孔を形成することに
より、基板裏面からの光の透過を可能とした銀合金薄膜
であることを特徴とする請求項1に記載の反射型液晶表
示装置用カラーフィルタ基板。
2. The reflection type liquid crystal according to claim 1, wherein the silver alloy thin film is a silver alloy thin film capable of transmitting light from the back surface of the substrate by forming an opening in a part of the silver alloy thin film. Color filter substrate for display device.
【請求項3】接着層が、金属薄膜あるいは金属酸化物薄
膜の少なくとも一方より選択される接着層であることを
特徴とする請求項1または2に記載の反射型液晶表示装
置用カラーフィルタ基板。
3. The color filter substrate for a reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the adhesive layer is an adhesive layer selected from at least one of a metal thin film and a metal oxide thin film.
【請求項4】カラーフィルタと銀合金薄膜との間に、金
属酸化物薄膜を挿入したことを特徴とする請求項1、2
または3に記載の反射型液晶表示装置用カラーフィルタ
基板。
4. A metal oxide thin film is inserted between the color filter and the silver alloy thin film.
Alternatively, the color filter substrate for the reflective liquid crystal display device according to Item 3.
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