JP3460064B2 - Defect inspection method of master information carrier and magnetic film pattern magnetic transfer method using master information carrier - Google Patents

Defect inspection method of master information carrier and magnetic film pattern magnetic transfer method using master information carrier

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JP3460064B2
JP3460064B2 JP2001127677A JP2001127677A JP3460064B2 JP 3460064 B2 JP3460064 B2 JP 3460064B2 JP 2001127677 A JP2001127677 A JP 2001127677A JP 2001127677 A JP2001127677 A JP 2001127677A JP 3460064 B2 JP3460064 B2 JP 3460064B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク装
置やフロッピーディスク装置に用いられる磁気記録媒体
へのマスタ情報担体ディスクの欠陥検査方法に関するも
のである。本発明はまた、マスタ情報担体利用の磁性膜
パターン磁気転写方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for inspecting a master information carrier disk for defects on a magnetic recording medium used in a hard disk apparatus or a floppy disk apparatus. The present invention also related to the magnetic film pattern magnetic transfer method of the master information carrier used.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、磁気記録再生装置は、小型でかつ
大容量のものを実現するために、高記録密度化の傾向に
ある。
2. Description of the Related Art At present, a magnetic recording / reproducing apparatus tends to have a high recording density in order to realize a small size and a large capacity.

【0003】代表的な磁気ディスク装置であるハードデ
ィスクドライブの分野においては、既に面記録密度が1
0Gbit/sqinを超える装置が商品化されてお
り、1年後には、面記録密度が20Gbit/sqin
の装置の実用化が予測されるほどの急速な技術の進歩が
認められる。
In the field of hard disk drives, which are typical magnetic disk devices, the areal recording density has already reached 1
Devices exceeding 0 Gbit / sqin have been commercialized, and one year later, the areal recording density is 20 Gbit / sqin.
It is recognized that the technological progress is so rapid that it is expected that the device will be put to practical use.

【0004】このような高記録密度を可能とした技術的
背景には、線記録密度の向上もさることながら、わずか
数μmのトラック幅の信号をSN良く再生できる磁気抵
抗素子型ヘッドに依るところが大である。
The technical background that enables such a high recording density is due to the magnetoresistive element type head capable of reproducing a signal having a track width of only a few μm with good SN while improving the linear recording density. Is large.

【0005】また、高記録密度化に伴い磁気記録媒体に
対する浮動磁気スライダの浮上量の低減化も要求されて
きており、浮上中も何らかの要因でディスク/スライダ
の接触が発生する可能性が増大している。このような状
況下において、記録媒体にはより平滑性が要求されてき
ている。
Further, as the recording density is increased, it is also required to reduce the flying height of the floating magnetic slider with respect to the magnetic recording medium, and there is an increased possibility that the disk / slider may come into contact with the flying magnetic slider for some reason during the flying. ing. Under such circumstances, the recording medium is required to have a higher smoothness.

【0006】さて、ヘッドが狭トラックを正確に走査す
るためにはヘッドのトラッキングサーボ技術が重要な役
割を果たしている。このようなトラッキングサーボ技術
を用いた現在のハードディスクドライブでは、磁気記録
媒体に一定の角度間隔でトラッキング用サーボ信号やア
ドレス情報信号、再生クロック信号等が記録されてい
る。ドライブ装置は、ヘッドから一定時間間隔で再生さ
れるこれらの信号によりヘッドの位置を検出し修正し
て、ヘッドが正確にトラック上を走査することを可能に
している。
In order for the head to scan a narrow track accurately, the head tracking servo technique plays an important role. In a current hard disk drive using such a tracking servo technique, a tracking servo signal, an address information signal, a reproduction clock signal, etc. are recorded on a magnetic recording medium at regular angular intervals. The drive device detects and corrects the position of the head based on these signals reproduced from the head at regular time intervals, thereby enabling the head to accurately scan the track.

【0007】ここで、上述のようにサーボ信号やアドレ
ス情報信号、再生クロック信号等はヘッドが正確にトラ
ック上を走査するための基準信号となるものであるか
ら、その書き込み(フォーマティング)には高い位置決
め精度が必要である。現在のハードディスクドライブで
は、光干渉を利用した高精度位置検出装置を組み込んだ
専用のサーボ装置(サーボライタ)を用いて記録ヘッド
を位置決めしてフォーマティングが行われている。
Here, as described above, the servo signal, the address information signal, the reproduction clock signal, and the like serve as reference signals for the head to accurately scan the track, so that the writing (formatting) is not performed. High positioning accuracy is required. In the current hard disk drive, formatting is performed by positioning the recording head using a dedicated servo device (servo writer) incorporating a high-precision position detection device using optical interference.

【0008】しかしながら、上記サーボライタによるフ
ォーマティングには以下の課題が存在する。
However, there are the following problems in the formatting by the servo writer.

【0009】第1に、磁気ヘッドによる記録は、基本的
に磁気ヘッドと磁気記録媒体との相対移動に基づく線記
録であり、多数のトラックにわたって信号を書き込む必
要があるため、サーボライタによる方法では、プリフォ
ーマット記録に多大な時間を要するとともに、生産性を
上げるためには高価な専用のサーボライタが複数台必要
であり、プリフォーマット記録が高コストとなってい
た。
First, the recording by the magnetic head is basically line recording based on the relative movement between the magnetic head and the magnetic recording medium, and since it is necessary to write a signal over many tracks, the method by the servo writer is not used. In addition, it takes a lot of time to perform preformat recording, and a plurality of expensive dedicated servo writers are required to increase productivity, and preformat recording is expensive.

【0010】また、第2に、多くのサーボライタの導
入、維持管理には多額のコストがかかる。
Secondly, a large amount of cost is required to introduce and maintain many servo writers.

【0011】これらの課題はトラック密度が向上し、ト
ラック数が多くなるほど深刻であった。
These problems became more serious as the track density increased and the number of tracks increased.

【0012】そこで、フォーマティングをサーボライタ
ではなく、予め全てのサーボ情報が書き込まれたマスタ
情報担体とフォーマティングすべき磁気ディスクを重ね
合わせ、外部から転写用のエネルギーを与えることによ
り、マスタ上のサーボ情報を磁気ディスクに一括転写す
る方式が提案されている。
Therefore, the formatting is not performed by the servo writer, but the master information carrier on which all the servo information has been written in advance and the magnetic disk to be formatted are superposed, and transfer energy is externally applied to the master. A method of collectively transferring servo information to a magnetic disk has been proposed.

【0013】その一例として、特開平10−40544
号公報に示された磁気転写装置があげられる。
As an example thereof, Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-40544
An example is the magnetic transfer device disclosed in the publication.

【0014】同公報には、基体の表面に、情報信号に対
するパターン形状で強磁性材料からなる磁性部を形成し
てマスタ情報担体とし、このマスタ情報担体の表面を、
強磁性薄膜あるいは強磁性粉塗布層が形成されたシート
状もしくはディスク状磁気記録媒体の表面に接触させ、
所定の磁界をかけることにより、マスタ情報担体に形成
した情報信号に対応するパターン形状の磁化パターンを
ディスク状磁気記録媒体に記録する方法が開示されてい
る。
In this publication, a magnetic portion made of a ferromagnetic material is formed on the surface of a substrate in a pattern shape for an information signal to form a master information carrier, and the surface of this master information carrier is
Contacting the surface of a sheet-shaped or disk-shaped magnetic recording medium on which a ferromagnetic thin film or a ferromagnetic powder coating layer is formed,
A method of recording a magnetic pattern having a pattern shape corresponding to an information signal formed on a master information carrier on a disk-shaped magnetic recording medium by applying a predetermined magnetic field is disclosed.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】ところで、かかる従来
の磁気転写装置を用いた情報信号の記録においては、マ
スタ情報担体に設けられた情報信号に対応する配列パタ
ーンを磁化パターンとしてディスク状磁気記録媒体に一
括記録する方法であるが、ディスク状磁気記録媒体の表
面全体に亘って均一に安定して高密度の情報信号を記録
することが重要である。
By the way, in the recording of an information signal using such a conventional magnetic transfer device, a disk-shaped magnetic recording medium having an array pattern corresponding to the information signal provided on the master information carrier as a magnetization pattern. However, it is important to uniformly and stably record high-density information signals over the entire surface of the disk-shaped magnetic recording medium.

【0016】しかし、上記従来の磁気転写装置において
は、磁気転写のときにマスタ情報担体の表面上に異常突
起や異物が存在していた場合、両者が接触することによ
ってディスク状磁気記録媒体の表面に陥没部が発生す
る。
However, in the above-mentioned conventional magnetic transfer apparatus, when an abnormal protrusion or a foreign substance is present on the surface of the master information carrier at the time of magnetic transfer, the two contact with each other to cause the surface of the disk-shaped magnetic recording medium to contact. Depression part occurs.

【0017】図26(a),(b)は、従来の磁気転写
方法において磁気転写のときにマスタ情報担体の表面上
に異常突起や異物が存在していた場合に、ディスク状磁
気記録媒体とマスタ情報担体とを接触させ磁気転写を行
った後のディスク状磁気記録媒体の表面(符号a参照)
を示す図であり、中央の丸印はマスタ情報担体とディス
ク状磁気記録媒体の間に介在した異物により生じた陥没
部(符号b参照)である。陥没部の直近には反動による
微小突起(符号c参照)が生じている。図26(a)は
写真であり、これが不鮮明であるのを補うために対応さ
せて図26(b)に模式図を示している。また、図27
は、この陥没部の断面を測定した図である。
FIGS. 26 (a) and 26 (b) show a disk-shaped magnetic recording medium when an abnormal protrusion or foreign matter is present on the surface of the master information carrier during magnetic transfer in the conventional magnetic transfer method. Surface of disk-shaped magnetic recording medium after magnetic transfer by contact with a master information carrier (see symbol a)
FIG. 3 is a diagram showing a center circle, which is a depressed portion (see reference numeral b) caused by a foreign substance interposed between the master information carrier and the disk-shaped magnetic recording medium. Minute protrusions (see reference numeral c) due to the recoil occur in the immediate vicinity of the depressed portion. FIG. 26 (a) is a photograph, and a schematic diagram is shown in FIG. 26 (b) in correspondence with the fact that this is unclear. In addition, FIG.
[Fig. 4] is a diagram in which a cross section of this depression is measured.

【0018】図27において、ディスク状磁気記録媒体
の表面より50nm程度窪んだ陥没部(符号b参照)の
まわりには20nm程度の微小突起(符号c参照)が存
在していることが分かる。
In FIG. 27, it can be seen that minute projections (see reference numeral c) of about 20 nm are present around the depressed portion (see reference numeral b) which is recessed from the surface of the disk-shaped magnetic recording medium by about 50 nm.

【0019】ここで、前述したように浮動磁気スライダ
のディスク状磁気記録媒体表面からの浮上量としては通
常20nm程度であり、それに対して、ディスク状磁気
記録媒体上に図27に示すような20nm程度の微小突
起が存在すれば、データ記録再生時に、磁気ヘッドとデ
ィスク状磁気記録媒体とが接触するおそれがあり、かか
る場合、接触した瞬間に磁気ヘッドが飛ばされ、磁気ヘ
ッドとディスク状磁気記録媒体のクリアランスが大とな
り、信号の記録再生性能が低下し、また磁気ヘッドがデ
ィスク状磁気記録媒体と物理的に接触することにより、
磁気ヘッドの寿命が低下したり、ともすればディスク状
磁気記録媒体自体の破損につながる原因となっていた。
Here, as described above, the flying height of the floating magnetic slider from the surface of the disk-shaped magnetic recording medium is usually about 20 nm, whereas, on the other hand, the floating amount on the disk-shaped magnetic recording medium is 20 nm as shown in FIG. If there is a minute protrusion, the magnetic head and the disk-shaped magnetic recording medium may come into contact with each other during data recording / reproduction. In such a case, the magnetic head is skipped at the moment of contact, and the magnetic head and the disk-shaped magnetic recording medium are ejected. The clearance of the medium becomes large, the signal recording / reproducing performance deteriorates, and the magnetic head physically contacts the disk-shaped magnetic recording medium,
This has been a cause of shortening the life of the magnetic head and possibly causing damage to the disk-shaped magnetic recording medium itself.

【0020】図28は、磁気転写のときにマスタ情報担
体の表面上に異常突起や異物が存在していた場合に、磁
気転写を行った後のディスク状磁気記録媒体全体の表面
の突起の状態を光学的に測定した結果を示したものであ
り、ディスク状磁気記録媒体の表面に20nmあるいは
それを超える突起が存在することが分かる。
FIG. 28 shows the state of protrusions on the entire surface of the disk-shaped magnetic recording medium after magnetic transfer when abnormal protrusions or foreign substances are present on the surface of the master information carrier during magnetic transfer. The results of the optical measurement are shown, and it can be seen that protrusions of 20 nm or more exist on the surface of the disk-shaped magnetic recording medium.

【0021】このように、磁気転写のときにマスタ情報
担体の表面上に異常突起や異物が存在していた場合、デ
ィスク状磁気記録媒体とマスタ情報担体とを接触させ磁
気転写を行うことによって、磁気転写後のディスク状磁
気記録媒体上には陥没部が存在することとなり、記録再
生性能および磁気ヘッド寿命を低下させるという問題が
ある。この問題は今後の高記録密度化に伴って磁気ヘッ
ド、ディスク間の浮上量がさらに小さくなればますます
深刻な問題となる。
As described above, when an abnormal protrusion or a foreign substance is present on the surface of the master information carrier during magnetic transfer, the disk-shaped magnetic recording medium is brought into contact with the master information carrier to perform magnetic transfer, Since the depressions are present on the disk-shaped magnetic recording medium after magnetic transfer, there is a problem that the recording / reproducing performance and the life of the magnetic head are reduced. This problem becomes more and more serious as the flying height between the magnetic head and the disk becomes smaller with the future increase in recording density.

【0022】しかし、マスタ情報担体の表面上には、情
報信号に対するパターン形状が形成されているため、マ
スタ情報担体に存在する異常突起や異物を直接短時間で
検査することは極めて困難である。パターン形状の存在
が異常突起や異物の検出の妨げになるからである。
However, since the pattern shape for the information signal is formed on the surface of the master information carrier, it is extremely difficult to directly inspect the abnormal protrusions and foreign matters existing on the master information carrier in a short time. This is because the presence of the pattern shape hinders detection of abnormal protrusions and foreign matter.

【0023】この問題を回避する方法として、マスタ情
報担体の表面上を直接検査するのではなく、磁気転写後
の磁気記録媒体の表面の欠陥を光学的な方法で行う方法
が考案されている。しかし、かかる従来の方法では、マ
スタ情報担体に存在する微小な異常突起をも判別しよう
とすると、磁気転写を行う媒体は極めて平滑である必要
があり、コストアップを招くという課題があった。
As a method of avoiding this problem, a method has been devised in which the surface of the master information carrier is not directly inspected, but defects on the surface of the magnetic recording medium after magnetic transfer are performed by an optical method. However, in the conventional method, when trying to discriminate even minute abnormal protrusions existing on the master information carrier, the medium for magnetic transfer needs to be extremely smooth, which causes a problem of cost increase.

【0024】これは、磁気転写を行う媒体が超平滑でな
い場合は、磁気転写を行う前にも媒体に欠陥が存在する
ことになるため、マスタ情報担体が原因となる欠陥の判
別を精度良く行うことが困難であるためである。
This is because if the medium for magnetic transfer is not ultra-smooth, defects will exist in the medium even before magnetic transfer, so that the defects caused by the master information carrier can be accurately determined. Because it is difficult.

【0025】マスタ情報担体が原因となる微小欠陥が発
生した場合、このことが原因となるディスク状磁気記録
媒体の欠陥は磁気転写によって常に発生するものとなる
ため、欠陥が微小であったとしても大きな問題となって
いた。
When a small defect caused by the master information carrier occurs, the defect of the disk-shaped magnetic recording medium caused by this always occurs due to magnetic transfer. Therefore, even if the defect is very small. It was a big problem.

【0026】本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなさ
れたものであり、マスタ情報担体が原因となる微小欠陥
を確実に検出できる欠陥検出方法を提供することを目的
とする。
[0026] The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a defect detection how that can reliably detect minute defects master information carrier causes.

【0027】[0027]

【課題を解決するための手段】上記した課題の解決を図
ろうとする本発明は、磁気記録再生装置等の製品に組み
込むべき磁気記録媒体に対してトラッキングサーボ等の
ための情報信号を磁気転写させることに使用するマスタ
情報担体についての欠陥検査方法にかかわる。マスタ情
報担体は、磁気記録媒体に対して磁気転写すべき情報信
号相当の磁性膜パターンを有する。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above problems, the present invention magnetically transfers an information signal for tracking servo or the like onto a magnetic recording medium to be incorporated in a product such as a magnetic recording / reproducing apparatus. In particular, it relates to a defect inspection method for a master information carrier used. The master information carrier has a magnetic film pattern corresponding to an information signal to be magnetically transferred to a magnetic recording medium.

【0028】マスタ情報担体の欠陥検査方法についての
本発明は、マスタ情報担体に存在する可能性のある欠陥
を検査するに当たって、対象となっているマスタ情報担
体を直接に検査するのではなく、磁気記録媒体に相当す
る検査用基板を用意し、この検査用基板に対してマスタ
情報担体上に存在する可能性のある欠陥を転写すること
を大きな特徴とするものである。それは、間接的な欠陥
検査となっている。
The present invention concerning a method of inspecting a defect of a master information carrier is not a direct inspection of the master information carrier of interest when inspecting a defect which may exist in the master information carrier. A major feature is that an inspection substrate corresponding to a recording medium is prepared, and a defect that may exist on the master information carrier is transferred to the inspection substrate. It is an indirect defect inspection.

【0029】直接的な欠陥検査に代えて間接的な欠陥検
査の手法をとる理由は、前述のとおり、マスタ情報担体
にはトラッキングサーボ等のための情報信号に相当する
磁性膜パターンが形成されており、マスタ情報担体にお
いて直接的に欠陥検査を行うとなれば、磁性膜パターン
と異常突起や異物などの欠陥との区別がつきにくく、所
要の欠陥検査精度を確保しにくいためである。
The reason for using the indirect defect inspection method instead of the direct defect inspection is that, as described above, a magnetic film pattern corresponding to an information signal for tracking servo is formed on the master information carrier. This is because, if the defect inspection is performed directly on the master information carrier, it is difficult to distinguish between the magnetic film pattern and defects such as abnormal protrusions and foreign substances, and it is difficult to secure the required defect inspection accuracy.

【0030】そこで、マスタ情報担体上に存在する可能
性のある欠陥を検査用基板に転写することを通じて、そ
の検査用基板において転写されたであろう欠陥をチェッ
クすることにより、マスタ情報担体上の欠陥の様子を知
ろうとしているのである。
Therefore, by transferring the defects that may exist on the master information carrier to the inspection substrate, and by checking the defects that may have been transferred on the inspection substrate, the defects on the master information carrier can be checked. They are trying to find out what the defect is.

【0031】しかし、ことは、単に、マスタ情報担体上
に存在する可能性のある欠陥を検査用基板に転写して、
検査用基板上で欠陥検査すればよいという単純なもので
はない。それは、検査用基板に元々欠陥が存在している
と、その検査用基板上の欠陥をマスタ情報担体上の欠陥
と誤認してしまうおそれがあるからである。そのような
不都合は避けなければならない。本発明は、そのことま
でも考慮において創作したものである。
However, the point is that the defects that may exist on the master information carrier are simply transferred to the inspection substrate,
It is not a simple matter that the defect inspection should be performed on the inspection substrate. This is because if the inspection substrate originally has a defect, the defect on the inspection substrate may be mistaken for a defect on the master information carrier. Such inconvenience must be avoided. The present invention was created in consideration of that matter.

【0032】検査用基板上の欠陥をマスタ情報担体上の
欠陥と誤認することを避けるための要件として、少なく
とも次の4つの事項を配慮している。マスタ情報担体上
に存在する可能性のある欠陥を転写する前段階の検査用
基板を「第1状態の検査用基板」と呼び、マスタ情報担
体上の欠陥の転写処理が行われた検査用基板を「第2状
態の検査用基板」と呼ぶことにする。
At least the following four items are considered as requirements for avoiding erroneously recognizing a defect on the inspection substrate as a defect on the master information carrier. The inspection substrate at the previous stage of transferring a defect that may exist on the master information carrier is referred to as a “first state inspection substrate”, and the inspection substrate on which the defect transfer process on the master information carrier is performed. Will be referred to as a “second state inspection substrate”.

【0033】(1)マスタ情報担体上の欠陥を検査用基
板に転写するのに先立って、第1状態の検査用基板上に
元から存在する可能性のある欠陥をまず検査しておく。
(1) Prior to transferring the defects on the master information carrier to the inspection substrate, the defects that may originally exist on the inspection substrate in the first state are inspected first.

【0034】(2)次いで、欠陥検査の済んだ第1状態
の検査用基板に対してマスタ情報担体を密着させること
により、マスタ情報担体上の欠陥を欠陥検査済みの検査
用基板に対して転写する。これが第2状態の検査用基板
である。
(2) Then, the master information carrier is brought into close contact with the inspection substrate in the first state after the defect inspection, so that the defect on the master information carrier is transferred to the inspection substrate after the defect inspection. To do. This is the inspection substrate in the second state.

【0035】(3)マスタ情報担体から離間した欠陥転
写済みの第2状態の検査用基板について、この第2状態
の検査用基板上の欠陥を検査する。
(3) The defect-transferred inspection substrate in the second state, which is separated from the master information carrier, is inspected for defects on the inspection substrate in the second state.

【0036】(4)第2状態の検査用基板についての欠
陥検査結果と第1状態の検査用基板についての欠陥検査
結果とを比較する。
(4) The defect inspection result for the inspection substrate in the second state is compared with the defect inspection result for the inspection substrate in the first state.

【0037】第1状態の検査用基板にない欠陥であっ
て、第2状態の検査用基板には存在している欠陥は、マ
スタ情報担体から検査用基板に転写された欠陥、すなわ
ち、元々マスタ情報担体に存在していた欠陥である蓋然
性が高いものとなる。
Defects which are not present in the inspection substrate in the first state but are present in the inspection substrate in the second state are defects transferred from the master information carrier to the inspection substrate, that is, the original defects. It is highly probable that the defect existed in the information carrier.

【0038】本発明は、このような特異で絶妙な手法を
構築することにより、そもそもがトラッキングサーボ等
のための情報信号に相当する磁性膜パターンが形成され
ているゆえに異常突起や異物などの欠陥の識別が困難な
マスタ情報担体についての欠陥検査において、上記のよ
うな間接的欠陥検査となし、しかも間接的欠陥検査に伴
って新たに派生する問題点をも克服するようにしたの
で、磁性膜パターンの存在ゆえに欠陥識別がもともと困
難という宿命的状況にあるマスタ情報担体について、そ
の欠陥検査を高精度に行うことができる。
According to the present invention, by constructing such a peculiar and exquisite method, since a magnetic film pattern corresponding to an information signal for tracking servo or the like is formed in the first place, defects such as abnormal protrusions and foreign matter are formed. In the defect inspection of the master information carrier whose identification is difficult, the indirect defect inspection is not performed as described above, and the problems newly derived from the indirect defect inspection are overcome. Defect inspection can be performed with high accuracy on a master information carrier in a fatal situation where defect identification is originally difficult due to the existence of a pattern.

【0039】上記の本発明による新規な発想には、以下
に記述するような各種の工夫が展開される。
Various ideas as described below are developed in the novel idea according to the present invention.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を総括
的に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below.

【0041】本願第1の発明のマスタ情報担体の欠陥検
査方法は、磁気記録媒体に対して磁気転写すべき情報信
号相当の磁性膜パターンを有するマスタ情報担体の欠陥
検査方法であって、前記マスタ情報担体上の欠陥を転写
すべき第1状態の検査用基板について、この第1状態の
検査用基板上に元から存在する可能性のある欠陥を検査
する工程と、前記欠陥検査済みの第1状態の検査用基板
に対して前記マスタ情報担体を密着させ、前記マスタ情
報担体上に存在する可能性のある欠陥を前記欠陥検査済
みの検査用基板に対して転写させる工程と、前記マスタ
情報担体から離間した前記欠陥転写相当の第2状態の検
査用基板について、この第2状態の検査用基板上の欠陥
を検査する工程と、前記第2状態の検査用基板について
の欠陥検査結果と前記第1状態の検査用基板についての
欠陥検査結果との比較を通じて前記マスタ情報担体上に
存在する可能性のある欠陥を判別する工程とを含むこと
を特徴としている。
A master information carrier defect inspection method according to the first aspect of the present invention is a master information carrier defect inspection method having a magnetic film pattern corresponding to an information signal to be magnetically transferred to a magnetic recording medium. With respect to the inspection substrate in the first state to which the defect on the information carrier is to be transferred, a step of inspecting a defect that may originally exist on the inspection substrate in the first state; A step of bringing the master information carrier into close contact with the inspection substrate in a state, and transferring defects that may be present on the master information carrier to the inspection substrate that has been subjected to the defect inspection; A step of inspecting a defect on the inspection substrate in the second state for the inspection substrate in the second state corresponding to the defect transfer separated from the defect inspection result for the inspection substrate in the second state; It is characterized in that it comprises a step of determining a defect that may be present in the master information on a carrier by comparing the defect inspection result of the inspection for the substrate of the serial first state.

【0042】この第1の発明による作用については、上
記の〔課題を解決するための手段〕の項で説明したのと
実質的に同様のものとなる。すなわち、情報信号相当の
磁性膜パターンの形成のために異常突起や異物などの欠
陥の識別が困難という宿命を背負っているマスタ情報担
体について、その欠陥を検査用基板に転写した上で検査
するという間接的欠陥検査となし、しかも間接的欠陥検
査に伴って新たに派生する問題点をも克服しているの
で、マスタ情報担体上の欠陥についての欠陥精度を向上
させることが可能となる。
The operation of the first aspect of the invention is substantially the same as that described in the section [Means for solving the problems] above. In other words, the master information carrier, which is destined to have difficulty in identifying defects such as abnormal protrusions and foreign particles due to the formation of magnetic film patterns corresponding to information signals, is transferred to the inspection substrate and then inspected. Since it is not an indirect defect inspection and the problems newly derived from the indirect defect inspection are overcome, it is possible to improve the defect accuracy of the defect on the master information carrier.

【0043】本願第2の発明のマスタ情報担体の欠陥検
査方法は、上記第1の発明において、前記密着の工程の
前に、前記第1状態の検査用基板についての欠陥検査の
工程と、前記密着の工程との間に、前記第1状態の検査
用基板についての欠陥検査における欠陥の個数または欠
陥の大きさが所定値以下であるか否かを検査し、所定値
を超えるときは処理を中断し、所定値以下のときは前記
密着の工程に進む工程が追加されていることを特徴とし
ている。
The defect inspecting method of the master information carrier according to the second invention of the present application is, in the first invention, the step of inspecting the defect of the inspection substrate in the first state before the step of adhering, During the contact step, it is inspected whether or not the number of defects or the size of the defects in the defect inspection of the inspection substrate in the first state is equal to or less than a predetermined value. It is characterized in that a step is added to the step of interrupting and advancing to the step of adhering when the value is below a predetermined value.

【0044】この第2の発明による作用は次のとおりで
ある。マスタ情報担体上の欠陥検査を、検査用基板に移
しての間接的な欠陥検査としているが、このようなまっ
たく新しい手法を採用するときには、細心の注意を払う
必要がある。マスタ情報担体上の欠陥を転写する対象で
ある検査用基板に一定以上の欠陥があると、前記欠陥転
写が密着で行われる以上、検査用基板における一定以上
の欠陥が肝腎のマスタ情報担体に新たに欠陥を生じさせ
るなどの悪影響を及ぼすおそれがある。そうなると、本
末転倒である。そこで、密着前における第1状態の検査
用基板についての欠陥検査でもし欠陥が見つかったとき
は、その欠陥の個数または欠陥の大きさあるいはその双
方が所定値以下であるか否かを検査するようにする。所
定値を超えるときは、前記のような悪影響を避けるため
に処理を中断し、別の検査用基板に交換して、あるいは
同じ検査用基板でも洗浄するなどして、欠陥検査処理を
し直す。所定値以下のときは、悪影響なしとして、密着
の工程に進む。これにより、検査用基板を用いることに
起因する悪影響を未然に回避しつつ、マスタ情報担体に
ついての良好な欠陥検査を実現することが可能となる。
The operation of the second invention is as follows. Although the defect inspection on the master information carrier is an indirect defect inspection after transferring to the inspection substrate, it is necessary to pay close attention when adopting such a completely new method. If the inspection substrate that is the target of transferring the defects on the master information carrier has a certain number of defects or more, since the defect transfer is performed in close contact, a certain number or more defects on the inspection substrate are newly added to the master information carrier of the liver and kidney. There is a risk of adverse effects such as defects in the. If that happens, it will be a fall. Therefore, if a defect is found in the defect inspection of the inspection substrate in the first state before adhesion, it is inspected whether the number of defects, the size of defects, or both of them are below a predetermined value. To When it exceeds the predetermined value, the defect inspection process is performed again by interrupting the process in order to avoid the above-mentioned adverse effects, exchanging it with another inspection substrate, or cleaning the same inspection substrate. If it is less than the predetermined value, it is determined that there is no adverse effect and the process proceeds to the adhesion step. This makes it possible to implement a good defect inspection on the master information carrier while avoiding the adverse effects caused by using the inspection substrate.

【0045】本願第3の発明のマスタ情報担体の欠陥検
査方法は、上記第1・第2の発明において、前記第1状
態の検査用基板についての欠陥検査の工程は、欠陥検査
手段に対する前記第1状態の検査用基板の回転位相を測
定する作業を含み、前記第2状態の検査用基板について
の欠陥検査の工程は、欠陥検査手段に対する前記第2状
態の検査用基板の回転位相を測定する作業を含み、前記
比較を通じてのマスタ情報担体上の欠陥判別の工程は、
前記比較の作業の前に、前記2つの回転位相のずれを補
正する作業を含むことを特徴としている。
In the defect inspection method of the master information carrier of the third invention of the present application, in the first and second inventions, the step of the defect inspection for the inspection substrate in the first state is the one for the defect inspection means. The step of defect inspection for the inspection substrate in the second state includes the operation of measuring the rotation phase of the inspection substrate in the one state, and the rotation phase of the inspection substrate in the second state for the defect inspection means is measured. Including the work, the process of determining a defect on the master information carrier through the comparison includes
It is characterized in that the operation of correcting the deviation of the two rotational phases is included before the operation of the comparison.

【0046】この第3の発明による作用は次のとおりで
ある。すなわち、検査用基板は、欠陥検査手段に装着
て第1状態での欠陥検査を受け、欠陥検査手段から取り
出して密着手段に移載し、密着によってマスタ情報担体
の欠陥転写を受け、さらに密着手段から取り外して再び
欠陥検査手段に移載され、第2状態での欠陥検査を受け
る。第1状態での欠陥検査の欠陥検査手段と第2状態で
の欠陥検査の欠陥検査手段とは同じものでもよいし、異
なるものでもよいが、第1状態の検査用基板の回転位相
と第2状態の検査用基板の回転位相とが常にちょうどに
一致するとは限らない。むしろずれを生じる確率の方が
高いと予想される。そこで、第1状態の検査用基板につ
いての欠陥検査結果と第2状態の検査用基板についての
欠陥検査結果との比較に先立って、前記2つの回転位相
を一致させる回転位相補正を行うこととしている。この
回転位相補正は欠陥検査結果(データ)上で行われるの
が一般的である。この発明により、回転位相ずれに起因
する欠陥検査結果の精度劣化を回避して、欠陥検査精度
を高いものにすることが可能となる。
The operation of the third invention is as follows. That is, the inspection substrate is mounted on the defect inspection means and subjected to the defect inspection in the first state, taken out from the defect inspection means and transferred to the adhesion means, and is subjected to the defect transfer of the master information carrier by the adhesion, and further adhered. It is removed from the means and transferred to the defect inspection means again, and undergoes the defect inspection in the second state. The defect inspection means for the defect inspection in the first state and the defect inspection means for the defect inspection in the second state may be the same or different, but the rotational phase of the inspection substrate in the first state and the second The rotation phase of the inspection board in the state does not always match exactly. Rather, it is expected that the probability of deviation will be higher. Therefore, prior to the comparison between the defect inspection result for the inspection substrate in the first state and the defect inspection result for the inspection substrate in the second state, the rotational phase correction for matching the two rotational phases is performed. . This rotation phase correction is generally performed on the defect inspection result (data). According to the present invention, it is possible to avoid the deterioration of the accuracy of the defect inspection result due to the rotational phase shift and to improve the defect inspection accuracy.

【0047】本願第4の発明のマスタ情報担体の欠陥検
査方法は、上記第3の発明において、前記回転位相の補
正において、前記検査用基板に光を照射したときの前記
検査用基板からの正反射光の検知に基づいて検出した欠
陥の回転位相について補正を行うことを特徴としてい
る。
In the defect inspection method for a master information carrier according to a fourth invention of the present application, in the third invention, in the correction of the rotation phase, a correction from the inspection substrate when the inspection substrate is irradiated with light is performed. It is characterized in that the rotational phase of the defect detected based on the detection of the reflected light is corrected.

【0048】この第4の発明による作用は次のとおりで
ある。すなわち、正反射光は、主として検査用基板にお
ける陥没部(窪み)からのものである。これに対して、
散乱光は、主として検査用基板におけるパーティクルな
どの異物からのものである。散乱光は、レーザー照射の
位置や角度の微妙な変動で大きく散乱方向や受光強度が
変動する。したがって、検査用基板の回転位相の補正を
行う上では、方向性や強度がより安定している正反射光
の検知に基づく検出欠陥の回転位相に基づいて補正を行
うこととしている。これにより、欠陥検査精度をより高
いものにすることが可能となる。
The operation of the fourth invention is as follows. That is, the specularly reflected light is mainly from the depressed portion (hollow) in the inspection substrate. On the contrary,
The scattered light is mainly from foreign matters such as particles on the inspection substrate. The scattered light largely varies in scattering direction and received light intensity due to subtle variations in laser irradiation position and angle. Therefore, when the rotational phase of the inspection substrate is corrected, the correction is performed based on the rotational phase of the detected defect based on the detection of the specular reflection light whose directionality and intensity are more stable. This makes it possible to improve the defect inspection accuracy.

【0049】本願第5の発明のマスタ情報担体の欠陥検
査方法は、上記第3の発明において、前記回転位相の補
正において、前記検査用基板に光を照射したときの前記
検査用基板からの散乱光の検知に基づいて検出した欠陥
の回転位相について補正を行うことを特徴としている。
これは、散乱光主体で回転位相補正を行っても構わない
ということを記述している。ただし、欠陥検査の精度
は、正反射光の場合よりも劣る傾向がある。
The defect inspection method for a master information carrier according to the fifth invention of the present application is, in the third invention, the scattering of light from the inspection substrate when the inspection substrate is irradiated with light in the correction of the rotational phase. It is characterized in that the rotational phase of the defect detected based on the detection of light is corrected.
This describes that the rotational phase correction may be performed mainly with scattered light. However, the accuracy of defect inspection tends to be inferior to that in the case of specular reflection light.

【0050】本願第6の発明のマスタ情報担体の欠陥検
査方法は、上記第3の発明において、前記回転位相の補
正において、前記検査用基板に光を照射したときの前記
検査用基板からの正反射光の検知または散乱光の検知に
基づいて検出した欠陥の回転位相について補正を行うよ
うにし、かつ、前記正反射光の検知の欠陥の回転位相補
正を優先することを特徴としている。この場合の作用に
ついては、その説明を省略しても既述の事項から容易に
理解されるはずである。
A defect inspection method for a master information carrier according to a sixth aspect of the present invention is the method for inspecting defects of a master information carrier according to the third aspect, wherein the inspection substrate is directly radiated with light in the correction of the rotation phase. It is characterized in that the rotational phase of the defect detected based on the detection of the reflected light or the scattered light is corrected, and the rotational phase correction of the defect of the detection of the specular reflection light is prioritized. The operation in this case should be easily understood from the above items even if the description thereof is omitted.

【0051】なお、上記では、回転位相補正にあっては
正反射光や散乱光を利用するということを述べているだ
けであって、欠陥検査に正反射光や散乱光を用いること
を限定していると解してはならない。欠陥検査について
は、何も光学式に限定する必要性はないのである。電子
顕微鏡方式、その他の公知の任意の方式でもよい。
It should be noted that, in the above, it is only stated that the regular reflection light or the scattered light is used in the rotational phase correction, and the use of the regular reflection light or the scattered light in the defect inspection is limited. Do not understand that The defect inspection need not be limited to the optical type. An electron microscope method or any other known method may be used.

【0052】本願第7の発明のマスタ情報担体の欠陥検
査方法は、上記第1〜第6の発明において、前記第1状
態の検査用基板についての欠陥検査の工程は、前記第1
状態の検査用基板上の欠陥の個数をカウントするもので
あり、前記第2状態の検査用基板についての欠陥検査の
工程は、前記第2状態の検査用基板上の欠陥の個数をカ
ウントするものであり、前記比較を通じてのマスタ情報
担体上の欠陥判別の工程は、前記第1状態の検査用基板
についての欠陥カウント数と前記第2状態の検査用基板
についての欠陥カウント数との異同の判断を行い、同一
のときはマスタ情報担体において欠陥なしと判別し、異
なるときは欠陥ありと判別するものである、というもの
である。
In the defect inspection method of the master information carrier of the seventh invention of the present application, in the above first to sixth inventions, the defect inspection step for the inspection substrate in the first state is the first
The number of defects on the inspection substrate in the second state is counted, and the step of the defect inspection on the inspection substrate in the second state counts the number of defects on the inspection substrate in the second state. In the step of determining the defect on the master information carrier through the comparison, it is determined whether the defect count number for the inspection substrate in the first state and the defect count number for the inspection substrate in the second state are the same. If they are the same, it is determined that there is no defect in the master information carrier, and if they are different, it is determined that there is a defect.

【0053】この第7の発明による作用は次のとおりで
ある。第1状態の検査用基板上の欠陥の個数Mと第2状
態の検査用基板上の欠陥の個数Nが同じのM=Nである
ときは、マスタ情報担体には欠陥がないと判別し、M≠
Nの異なるときは、マスタ情報担体に欠陥があると判別
するのであるが、このような判別手法は、比較的に簡単
な手法であり、判別処理速度が高い。なお、M,Nは0
の場合もある。
The operation according to the seventh invention is as follows. When the number M of defects on the inspection substrate in the first state and the number N of defects on the inspection substrate in the second state are the same M = N, it is determined that the master information carrier has no defect, M ≠
When N is different, it is determined that the master information carrier has a defect. Such a determination method is a relatively simple method and has a high determination processing speed. Note that M and N are 0
In some cases.

【0054】本願第8の発明のマスタ情報担体の欠陥検
査方法は、上記第1〜第6の発明において、前記第1状
態の検査用基板についての欠陥検査の工程は、前記第1
状態の検査用基板上の欠陥の位置情報を抽出するもので
あり、前記第2状態の検査用基板についての欠陥検査の
工程は、前記第2状態の検査用基板上の欠陥の位置情報
を抽出するものであり、前記比較を通じてのマスタ情報
担体上の欠陥判別の工程は、前記第1状態の検査用基板
についての欠陥の位置情報と前記第2状態の検査用基板
についての欠陥の位置情報との異同の判断を行い、同一
のときはマスタ情報担体において欠陥なしと判別し、異
なるときは欠陥ありと判別するものである、というもの
である。
The defect inspecting method of the master information carrier according to the eighth invention of the present application is the above first to sixth inventions, wherein the defect inspecting step for the inspection substrate in the first state is the first inspecting method.
The position information of the defect on the inspection substrate in the second state is extracted, and the step of the defect inspection for the inspection substrate in the second state extracts the position information of the defect on the inspection substrate in the second state. In the step of determining the defect on the master information carrier through the comparison, the defect position information regarding the inspection substrate in the first state and the defect position information regarding the inspection substrate in the second state are used. It is determined that the master information carrier has no defect when they are the same, and that there is a defect when they are different.

【0055】この第8の発明による作用は次のとおりで
ある。第1状態の検査用基板における欠陥位置情報と第
2状態の検査用基板における欠陥位置情報が同一である
ときは、マスタ情報担体には欠陥がないと判別し、異な
るときは、マスタ情報担体に欠陥があると判別するので
あるが、このような判別手法は、欠陥位置情報を基準に
するものであるため、マスタ情報担体に欠陥があると判
別した事後のマスタ情報担体の精密検査や欠陥解析のた
めに、どのような種類の欠陥がどのような座標にあるの
かの詳細なデータの取得に有利となる。すなわち、その
欠陥が異常突起なのか、あるいは異物なのか、さらには
どのような分布であるのかなどについて、判断がしやす
くなる。これは、検査用基板を洗浄して再利用する上で
有効な技術である。
The operation of the eighth invention is as follows. When the defect position information on the inspection board in the first state and the defect position information on the inspection board in the second state are the same, it is determined that the master information carrier has no defect. Although it is determined that there is a defect, such a determination method is based on the defect position information, and therefore, it is determined that the master information carrier has a defect. Therefore, it is advantageous to obtain detailed data of what kind of defect is located at what coordinate. That is, it becomes easy to determine whether the defect is an abnormal protrusion, a foreign substance, or what kind of distribution. This is an effective technique for cleaning and reusing the inspection substrate.

【0056】本願第9の発明のマスタ情報担体の欠陥検
査方法は、上記第8の発明において、前記欠陥の位置情
報について、前記検査用基板の全領域を多数に区画した
微小な単位領域の複数領域にわたって連続して欠陥判別
したときには、その連続する複数の単位領域を1つの領
域とみなして、そのみなし領域の重心またはその近傍を
1つの欠陥の位置情報とすることを特徴としている。
In the defect inspection method for a master information carrier according to the ninth invention of the present application, in the eighth invention, the position information of the defect includes a plurality of minute unit areas in which the entire area of the inspection substrate is divided into a large number. When defects are continuously discriminated over a region, the plurality of continuous unit regions are regarded as one region, and the barycenter of the regarded region or its vicinity is used as position information of one defect.

【0057】この第9の発明による作用は次のとおりで
ある。すなわち、欠陥があるとする単位領域が複数連続
しているときは、それらが単一の欠陥の異なる部位を別
個に判別している可能性が高いことが経験的に知られて
いる。ある程度以上に長い線状の欠陥やある程度以上に
大きい広がりのある欠陥を1つのものとみなすことで、
欠陥検査の精度を高めることが可能となる。
The operation of the ninth invention is as follows. That is, it is empirically known that, when a plurality of unit areas that are determined to have a defect are continuous, it is highly possible that the unit areas separately discriminate different portions of a single defect. By considering a linear defect that is longer than a certain amount and a defect that has a large spread that is greater than a certain amount as one,
It is possible to improve the accuracy of defect inspection.

【0058】本願第10の発明のマスタ情報担体の欠陥
検査方法は、上記第1〜第9の発明において、前記検査
用基板として、前記マスタ情報担体との密着のときの面
方向位置ずれを考慮して、その面方向位置ずれの最大領
域相当以上の大きさのものを用いることを特徴としてい
る。
In the defect inspection method for a master information carrier according to the tenth invention of the present application, in the above-mentioned first to ninth inventions, the positional deviation in the surface direction at the time of the close contact with the master information carrier is taken into consideration as the inspection substrate. Then, the one having a size equal to or larger than the maximum area of the positional deviation in the surface direction is used.

【0059】この第10の発明による作用は次のとおり
である。まず、背景を説明する。磁気記録媒体とマスタ
情報担体とを密着するときに(注:ここではマスタ情報
担体の密着対象は検査用基板ではなく磁気記録媒体であ
る。)、両者の位置関係が常に完全に一致しているのが
理想的である。しかし、現実にはわずかにずれるもので
ある。これが、面方向位置ずれである。そのずれ量は、
数μm〜数100μmのオーダーであるが、磁気記録媒
体の外形より前記のずれ量だけ広い領域が面方向位置ず
れの最大領域である。マスタ情報担体における磁気記録
媒体相当領域に欠陥がなくても、面方向位置ずれの最大
領域と磁気記録媒体外形との間のきわめて細い環状の領
域:極細環状領域)に欠陥が存在する場合がある。
The operation of the tenth invention is as follows. First, the background will be described. When the magnetic recording medium and the master information carrier are brought into close contact with each other (Note: here, the object of close contact with the master information carrier is not the inspection substrate but the magnetic recording medium.) The positional relationship between the two is always the same. Is ideal. However, in reality, it is slightly different. This is the displacement in the surface direction. The amount of deviation is
Although it is on the order of several μm to several hundreds of μm, a region wider than the outer shape of the magnetic recording medium by the above-described amount of displacement is the maximum region of positional displacement in the surface direction. Even if there is no defect in the area corresponding to the magnetic recording medium in the master information carrier, there may be a defect in an extremely thin annular area (extremely annular area) between the maximum surface misalignment area and the outer shape of the magnetic recording medium. .

【0060】そのマスタ情報担体の極細環状領域に欠陥
特に異物がある場合に、磁気記録媒体に対してマスタ情
報担体が面方向位置ずれを起こすと、極細環状領域の異
物が磁気記録媒体表面に当接し、マスタ情報担体と磁気
記録媒体との全面にわたる均一密着の妨げになる。そう
なると、マスタ情報担体の情報信号を磁気記録媒体に磁
気転写する精度を低下させるおそれがある。したがっ
て、磁気記録媒体に密着させるマスタ情報担体に欠陥が
ないかどうかを検査するときに面方向位置ずれを考慮す
ると、極細環状領域を含めて検査する必要がある。
When the master information carrier is displaced in the surface direction with respect to the magnetic recording medium in the case where there is a defect, especially foreign matter, in the ultrafine annular area of the master information carrier, the foreign matter in the ultrafine annular area hits the surface of the magnetic recording medium. In contact with each other, it hinders uniform adhesion of the entire surface of the master information carrier and the magnetic recording medium. Then, the accuracy of magnetically transferring the information signal of the master information carrier to the magnetic recording medium may be reduced. Therefore, when inspecting the master information carrier that is brought into close contact with the magnetic recording medium for defects, it is necessary to include the ultra-fine annular region in consideration of the positional deviation in the surface direction.

【0061】もし、検査用基板が磁気記録媒体と同サイ
ズであるとして、密着時にマスタ情報担体と検査用基板
とが面方向位置ずれを起こすことなく正確に同心状に密
着されたときは(注:ここではマスタ情報担体の密着対
象は検査用基板である。)、マスタ情報担体の極細環状
領域に異物がある場合に、その異物の存在を見落とすお
それがある。この場合のマスタ情報担体が正常なマスタ
情報担体として情報信号の磁気転写に用いられると、そ
れは上記の磁気転写精度低下の一因となる。
If the inspection substrate has the same size as the magnetic recording medium, and the master information carrier and the inspection substrate are accurately and concentrically adhered to each other without any positional deviation in the surface direction during contact (Note : Here, the object to which the master information carrier adheres is the inspection substrate.) If there is a foreign substance in the ultrafine annular region of the master information carrier, the presence of the foreign substance may be overlooked. If the master information carrier in this case is used as a normal master information carrier for magnetic transfer of information signals, it will contribute to the above-mentioned decrease in magnetic transfer accuracy.

【0062】マスタ情報担体における極細環状領域を含
めての欠陥検査について、本願第10の発明と第11の
発明を提案する。
The tenth invention and the eleventh invention of the present application are proposed for the defect inspection including the ultrafine annular area in the master information carrier.

【0063】検査用基板として、本来、マスタ情報担体
から磁性膜パターンの情報信号を磁気転写すべき相手方
の磁気記録媒体と同サイズのものを用いることが考えら
れる。それが後述の第11の発明である。磁気記録媒体
よりも大きいサイズの検査用基板を用いるのが第10の
発明である。
It is conceivable to use an inspection substrate of the same size as the other party's magnetic recording medium to which the information signal of the magnetic film pattern is to be magnetically transferred from the master information carrier. That is the eleventh invention described below. A tenth aspect of the present invention is to use an inspection substrate having a size larger than that of the magnetic recording medium.

【0064】磁気記録媒体の外形内の領域と極細環状領
域とを合わせたものが面方向位置ずれの最大領域であ
る。検査用基板として、この面方向位置ずれの最大領域
相当以上の大きさのものを用いるのが第10の発明であ
る。この比較的に大きいサイズの検査用基板は、それ自
体が前記の極細環状領域をカバーする。マスタ情報担体
と検査用基板とを密着させるときに、両者がどのように
面方向位置ずれを起こしても、マスタ情報担体における
面方向位置ずれの最大領域を必ず検査用基板に密着させ
ることができる。すなわち、極細環状領域に異物があれ
ば、その異物の存在を確実に検査用基板に転写させるこ
とになる。つまり、極細環状領域における異物存在の見
落としを回避し、マスタ情報担体の欠陥検査精度を向上
させることが可能となる。
The maximum area of the positional deviation in the surface direction is a combination of the area within the outer shape of the magnetic recording medium and the ultrafine annular area. A tenth aspect of the present invention is to use a substrate having a size equal to or larger than the maximum area of the positional deviation in the surface direction as the inspection substrate. This relatively large size test substrate itself covers the micro annular region. When the master information carrier and the inspection substrate are brought into close contact with each other, the maximum area of the plane information positional displacement in the master information carrier can be brought into close contact with the inspection substrate without fail, no matter how they are displaced in the surface direction. . That is, if there is a foreign substance in the ultra-fine annular region, the presence of the foreign substance is surely transferred to the inspection substrate. That is, it is possible to avoid overlooking the presence of foreign matter in the ultrafine annular region and improve the defect inspection accuracy of the master information carrier.

【0065】また、後述の第11の発明の場合にはマス
タ情報担体と検査用基板との密着を、密着位置を変更し
て複数回行うが、この第10の発明の場合には、そのよ
うな密着位置変更を伴う繰り返し密着の必要性がなく、
1回だけの密着で済ませることが可能となり、検査能率
が良い。
Further, in the case of the eleventh invention described later, the master information carrier and the inspection substrate are brought into contact with each other a plurality of times by changing the contact position, but in the case of the tenth invention, this is the case. There is no need for repeated close contact with various close contact positions,
Since it is possible to complete the process only once, the inspection efficiency is good.

【0066】本願第11の発明のマスタ情報担体の欠陥
検査方法は、上記第1〜第9の発明において、前記検査
用基板として、前記磁気記録媒体とほぼ同じ大きさのも
のを用いるとともに、前記マスタ情報担体と前記検査用
基板との密着において、前記マスタ情報担体との密着の
ときの面方向位置ずれを考慮して、その面方向位置ずれ
の前記マスタ情報担体における最大領域の全体に対して
前記磁気記録媒体とほぼ同じ大きさの検査用基板が密着
するように、前記マスタ情報担体と前記検査用基板との
密着位置を変更して両者の密着を複数回行うことを特徴
としている。
In the defect inspection method for a master information carrier of the eleventh invention of the present application, in the first to ninth inventions, the inspection substrate having substantially the same size as the magnetic recording medium is used. In the close contact between the master information carrier and the inspection substrate, in consideration of the positional deviation in the surface direction when the master information carrier is in close contact, with respect to the entire maximum area in the master information carrier of the positional deviation in the surface direction. It is characterized in that the contact position of the master information carrier and the inspection substrate is changed so that the inspection information substrate and the inspection substrate having substantially the same size as the magnetic recording medium are in contact with each other a plurality of times.

【0067】この第11の発明による作用は次のとおり
である。すなわち、密着位置を変更してマスタ情報担体
と検査用基板との密着を複数回行うことにより、マスタ
情報担体における極細環状領域を含む面方向位置ずれの
最大領域の全体を検査用基板に密着させるので、極細環
状領域に異物があれば、その異物の存在を検査用基板に
確実に転写させることになる。つまり、極細環状領域に
おける異物存在の見落としを回避し、マスタ情報担体の
欠陥検査精度を向上させることが可能となる。
The operation of the eleventh invention is as follows. That is, by changing the contact position and contacting the master information carrier and the inspection substrate a plurality of times, the entire maximum area of the positional deviation of the master information carrier including the ultra-fine annular region is adhered to the inspection substrate. Therefore, if there is a foreign substance in the ultrafine annular region, the presence of the foreign substance can be reliably transferred to the inspection substrate. That is, it is possible to avoid overlooking the presence of foreign matter in the ultrafine annular region and improve the defect inspection accuracy of the master information carrier.

【0068】また、検査用基板として、本来、マスタ情
報担体から磁性膜パターンの情報信号を磁気転写すべき
相手方の磁気記録媒体と同サイズのものを用いること
は、磁気記録媒体または磁気記録媒体の素板を検査用基
板に転用することを可能にする。磁気記録媒体または磁
気記録媒体の素板を検査用基板に転用することは、専用
の検査用基板を特別に作製しなくてもよいことを意味
し、欠陥検査の設備を簡素化し、コストを低減化するこ
とを可能となす。
In addition, the use of the same size as the counterpart magnetic recording medium to which the information signal of the magnetic film pattern is originally to be magnetically transferred from the master information carrier is used as the inspection substrate. It enables to convert a blank plate into an inspection substrate. Transferring the magnetic recording medium or the base plate of the magnetic recording medium to the inspection substrate means that a special inspection substrate does not have to be specially manufactured, which simplifies the defect inspection facility and reduces the cost. It becomes possible to change.

【0069】なお、この第12の発明をさらに敷衍する
と、検査用基板のサイズは磁気記録媒体より小さい場合
があってよいことを示唆している。密着位置変更を伴う
繰り返し密着によってカバーすることが可能である。こ
のような条件の場合も本発明は含み得るものとする。
Further extension of the twelfth invention suggests that the size of the inspection substrate may be smaller than that of the magnetic recording medium. It is possible to cover by repeated contact with changing the contact position. The present invention may include such conditions.

【0070】本願第12の発明マスタ情報担体の欠陥検
査方法は、上記第1〜第11の発明において、前記検査
用基板として、前記磁気記録媒体の構成主成分を主成分
とする材料で構成されているものを用いることを特徴と
している。これは、磁気記録媒体または磁気記録媒体の
製造状況の少なくとも一部を検査用基板に転用する考え
方であり、コストダウンを図ることが可能となる。
A twelfth invention of the present application is the method for inspecting defects of a master information carrier according to any one of the first to eleventh inventions, wherein the inspection substrate is made of a material whose main component is a constituent main component of the magnetic recording medium. It is characterized by using the existing one. This is a concept in which at least a part of the magnetic recording medium or the manufacturing state of the magnetic recording medium is diverted to the inspection substrate, and the cost can be reduced.

【0071】本願第13の発明のマスタ情報担体の欠陥
検査方法は、上記第1〜第12の発明において、前記検
査用基板として、その硬度が前記マスタ情報担体の硬度
よりも低いものを用いることを特徴としている。
In the defect inspection method for a master information carrier of the thirteenth invention of the present application, in the above-mentioned first to twelfth inventions, as the inspection substrate, one whose hardness is lower than that of the master information carrier is used. Is characterized by.

【0072】この第13の発明による作用は次のとおり
である。すなわち、これとは逆に、マスタ情報担体の硬
度と同じ硬度またはより高い硬度の検査用基板を用いる
場合には、マスタ情報担体上の異物や異常突起に起因す
る窪みが検査用基板に生じにくくなる。この発明のよう
にマスタ情報担体の硬度より低い硬度の検査用基板を用
いることにより、マスタ情報担体上の異物や異常突起に
起因する窪みを検査用基板に確実に生じさせ、検査用基
板をもってのマスタ情報担体における異物や異常突起の
検出を確実化することが可能となる。
The operation of the thirteenth invention is as follows. That is, conversely, when using the inspection substrate having the same hardness as or higher than the hardness of the master information carrier, the inspection substrate is unlikely to be dented due to foreign matter or abnormal protrusions on the master information carrier. Become. By using the inspection substrate having a hardness lower than the hardness of the master information carrier as in the present invention, it is possible to surely cause the inspection substrate to have a dent caused by a foreign substance or an abnormal protrusion on the master information carrier. It is possible to ensure the detection of foreign matter and abnormal protrusions on the master information carrier.

【0073】本願第14の発明のマスタ情報担体の欠陥
検査方法は、上記第1〜第13の発明において、前記検
査用基板として、前記磁気記録媒体において塗布される
潤滑剤については、これを省略したものを用いることを
特徴としている。
In the defect inspection method for a master information carrier according to the fourteenth invention of the present application, in the first through thirteenth inventions, the lubricant applied on the magnetic recording medium as the inspection substrate is omitted. The feature is to use the one.

【0074】この第14の発明による作用は次のとおり
である。すなわち、これとは逆に、潤滑剤を塗布した検
査用基板を用いる場合には、マスタ情報担体上の異物が
検査用基板に吸着されにくくなる。この発明のように潤
滑剤なしの検査用基板を用いることにより、マスタ情報
担体上の異物に対する吸着性を高め、検査用基板をもっ
てのマスタ情報担体における異物の検出を確実化するこ
とが可能となる。
The operation of the fourteenth invention is as follows. That is, on the contrary, when a test substrate coated with a lubricant is used, foreign matter on the master information carrier is less likely to be adsorbed on the test substrate. By using the inspection substrate without the lubricant as in the present invention, it becomes possible to enhance the adsorption of foreign matter on the master information carrier and ensure the detection of foreign matter on the master information carrier with the inspection substrate. .

【0075】本願第15の発明のマスタ情報担体の欠陥
検査方法は、上記第1〜第14の発明において、前記検
査用基板として、密着側の表面が磁化されているものを
用いることを特徴としている。
The master information carrier defect inspection method of the fifteenth invention of the present application is characterized in that, in the above-mentioned first to fourteenth inventions, the inspection substrate has a magnetized contact side surface. There is.

【0076】この第15の発明による作用は次のとおり
である。すなわち、マスタ情報担体の磁性膜パターンに
異常突起が存在する場合、密着/離間の動作によってマ
スタ情報担体から磁性膜が剥がれることがあるが、検査
用基板の表面に磁気特性を有していると、前記の剥がれ
た磁性層は確実に検査用基板側に磁気吸着させることが
でき、マスタ情報担体の表面が剥離の磁性膜で汚染され
ることを防止する。
The operation of the fifteenth invention is as follows. That is, when there is an abnormal protrusion in the magnetic film pattern of the master information carrier, the magnetic film may be peeled off from the master information carrier due to the contact / separation operation, but it is said that the surface of the inspection substrate has magnetic characteristics. The peeled magnetic layer can be surely magnetically attracted to the inspection substrate side, and the surface of the master information carrier is prevented from being contaminated with the peeled magnetic film.

【0077】本願第16の発明はマスタ情報担体利用の
磁性膜パターン磁気転写方法にかかわるものであり、上
記第1〜第15の発明のマスタ情報担体の欠陥検査方法
によって欠陥検査され良品と判別されたマスタ情報担体
を用いて、前記マスタ情報担体における前記磁性膜パタ
ーンによる情報信号を磁気記録媒体に磁気転写する方法
であって、前記マスタ情報担体の前記磁性膜パターンが
形成された側の表面を前記磁気記録媒体に密着させ、外
部磁界を印加することによって前記磁気記録媒体に前記
マスタ情報担体の磁性膜パターンによる情報信号を磁気
転写することを特徴としている。
The sixteenth invention of the present application relates to a magnetic film pattern magnetic transfer method using a master information carrier, wherein the defect inspection is performed by the master information carrier defect inspection method of the first to fifteenth inventions, and it is determined as a non-defective product. A method of magnetically transferring an information signal by the magnetic film pattern in the master information carrier to a magnetic recording medium by using the master information carrier, wherein the surface of the master information carrier on the side where the magnetic film pattern is formed is It is characterized in that the information signal by the magnetic film pattern of the master information carrier is magnetically transferred to the magnetic recording medium by bringing it into close contact with the magnetic recording medium and applying an external magnetic field.

【0078】本願第17の発明もマスタ情報担体利用の
磁性膜パターン磁気転写方法にかかわるものであり、上
記第1〜第15の発明のマスタ情報担体の欠陥検査方法
によって欠陥検査され良品と判別されたマスタ情報担体
を用いて、前記マスタ情報担体における前記磁性膜パタ
ーンによる情報信号を前記磁気記録媒体に磁気転写する
方法であって、前記マスタ情報担体の前記磁性膜パター
ンをあらかじめ磁化しておき、前記マスタ情報担体の前
記磁化済みの磁性膜パターンが形成された側の表面を前
記磁気記録媒体に密着させることによって前記磁気記録
媒体に前記マスタ情報担体の磁性膜パターンによる情報
信号を磁気転写することを特徴としている。
The seventeenth invention of the present application also relates to the magnetic film pattern magnetic transfer method using the master information carrier, and the defect inspection is performed by the master information carrier defect inspection method of the first to fifteenth inventions, and it is determined as a non-defective product. A method of magnetically transferring an information signal by the magnetic film pattern in the master information carrier to the magnetic recording medium by using the master information carrier, wherein the magnetic film pattern of the master information carrier is magnetized in advance, Magnetically transferring an information signal based on the magnetic film pattern of the master information carrier to the magnetic recording medium by bringing the surface of the master information carrier on the side where the magnetized magnetic film pattern is formed into close contact with the magnetic recording medium. Is characterized by.

【0079】第16の発明と第17の発明との相違は、
外部磁界を印加するか、その代わりにあらかじめ磁化し
ておくかの違いである。これらの発明においては、欠陥
検査を適切になされたマスタ情報担体を用いて磁性膜パ
ターンによる情報信号を磁気記録媒体に磁気転写するの
で、情報信号の磁気転写を効率良くまた精度良く実現す
ることが可能となる。
The difference between the sixteenth invention and the seventeenth invention is that
The difference is whether an external magnetic field is applied or, instead, it is magnetized beforehand. In these inventions, since the information signal based on the magnetic film pattern is magnetically transferred to the magnetic recording medium by using the master information carrier that has been properly inspected for defects, the magnetic transfer of the information signal can be realized efficiently and accurately. It will be possible.

【0080】上記第16・第17の発明のマスタ情報担
体利用の磁性膜パターン磁気転写方法によって前記情報
信号が磁気転写された磁気記録媒体がディスク状のデ
スク状磁気記録媒体と、前記ディスク状磁気記録媒体に
対して記録/再生を行うための磁気ヘッドとを備えて構
成された磁気記録再生装置は、マスタ情報担体の磁性膜
パターンにおける情報信号が高精度に磁気転写されてい
るディスク状磁気記録媒体を搭載しているので、トラッ
キングサーボ等の制御の性能がすぐれたものになる。
[0080] The first 16-second 17 master information carrier utilization of the magnetic film patterns a magnetic transfer method magnetic recording medium in which the information signal is magnetically transferred by the shape of the disk de I <br/> disk-shaped magnetic recording medium of the invention And a magnetic recording / reproducing apparatus including a magnetic head for recording / reproducing on / from the disk-shaped magnetic recording medium, an information signal in a magnetic film pattern of a master information carrier is magnetically transferred with high accuracy. since the disc-shaped magnetic recording medium which are mounted, ing to those excellent performance of control such as tracking servo.

【0081】(具体的な実施の形態)以下、本発明にか
かわるマスタ情報担体の欠陥検査方法の具体的な実施の
形態を図面に基づいて説明する。
(Specific Embodiment) A specific embodiment of a defect inspection method for a master information carrier according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0082】(実施の形態1)図1〜図11を用いて本
発明の実施の形態1における磁気転写の内容について説
明する。
(Embodiment 1) The contents of magnetic transfer in Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0083】図1は本実施の形態における磁気転写装置
の断面図であり、磁気転写用のマスタ情報担体2と磁気
記録媒体としての磁気ディスク1が離間しているときの
状態を示す。図2はマスタ情報担体2と磁気ディスク1
が密着しているときの状態を示す。図3はマスタ情報担
体2における磁気ディスク1との接触面3を示した図で
あり、溝4はマスタ情報担体2の中心から放射状に広が
っている。本実施の形態では、溝の深さは5μm程度に
設定している。
FIG. 1 is a sectional view of the magnetic transfer apparatus according to the present embodiment, showing a state in which a master information carrier 2 for magnetic transfer and a magnetic disk 1 as a magnetic recording medium are separated from each other. FIG. 2 shows a master information carrier 2 and a magnetic disk 1.
Shows the state when is in close contact. FIG. 3 is a view showing the contact surface 3 of the master information carrier 2 with the magnetic disk 1, and the grooves 4 extend radially from the center of the master information carrier 2. In the present embodiment, the groove depth is set to about 5 μm.

【0084】図1において、1は磁気ディスク、2は磁
気転写用の磁気転写用マスタである。3はマスタ情報担
体2上の磁気ディスク1との接触面であり、接触面3に
はマスタ情報担体2の中心から放射状に広がった溝4が
設けられている。5はマスタ情報担体2の中心部に固着
されたボス、6は磁気ディスク1を支持するための支持
台であり、中心部に気体を流すための通気孔7が設けて
ある。8はマスタ情報担体2と磁気ディスク1の間の気
体を排出し、また両者間の空間である溝4に気体を圧送
するための通路、9は通路8から気体を排出するための
気体排出口、10は気体排出口9に接続された吸引ポン
プ、11は気体の排出を制御する排気弁である。また、
12は通路8に気体を圧送するための給気ポンプ、13
は気体の給気を制御する給気弁である。
In FIG. 1, 1 is a magnetic disk, and 2 is a magnetic transfer master for magnetic transfer. Reference numeral 3 denotes a contact surface of the master information carrier 2 with the magnetic disk 1, and the contact surface 3 is provided with a groove 4 radially extending from the center of the master information carrier 2. Reference numeral 5 denotes a boss fixed to the central portion of the master information carrier 2, 6 denotes a support base for supporting the magnetic disk 1, and a ventilation hole 7 for flowing gas is provided in the central portion. Reference numeral 8 is a passage for discharging gas between the master information carrier 2 and the magnetic disk 1 and for sending gas under pressure to the groove 4 which is a space between them, and 9 is a gas discharge port for discharging gas from the passage 8. Reference numeral 10 is a suction pump connected to the gas discharge port 9, and 11 is an exhaust valve for controlling the discharge of gas. Also,
12 is an air supply pump for pumping gas to the passage 8, 13
Is an air supply valve for controlling air supply.

【0085】ここで、給気ポンプ12には、0.01μ
mのエアーフィルタが設けられており(図示せず)、
0.01μm以上の異物が通路8に侵入しないように構
成されている。14はマスタ情報担体2を保持するため
の保持アームであり、マスタ情報担体2に固着されてい
る。
Here, the air supply pump 12 has 0.01 μm.
m air filter is provided (not shown),
It is configured so that foreign matter of 0.01 μm or more does not enter the passage 8. Reference numeral 14 is a holding arm for holding the master information carrier 2, which is fixed to the master information carrier 2.

【0086】固着方法としては、接着等の方法もある
が、図1のように、保持アーム14に設けられた貫通孔
から気体を吸引することによってマスタ情報担体2を吸
着してもよい。
As a fixing method, there is a method such as adhesion, but as shown in FIG. 1, the master information carrier 2 may be adsorbed by sucking gas from a through hole provided in the holding arm 14.

【0087】保持アーム14はさらにガイド部材16に
より上部のボス部を介して垂直方向に摺動自在に位置決
めされている。
The holding arm 14 is further positioned by a guide member 16 so as to be vertically slidable via an upper boss portion.

【0088】ただし、マスタ情報担体2の位置決め方法
は保持アーム14によるものに限ったものではなく、例
えばボス5の外周を、磁気ディスク1の内周孔に嵌合さ
せることによっても行うことができる。かかる場合に
は、ボス5の形状は図4のように構成され、マスタ情報
担体2と磁気ディスク1の間の気体はボス5の外周部に
設けられた切り欠き部51を通って排出、圧送される。
However, the method of positioning the master information carrier 2 is not limited to the method of using the holding arm 14, and it can be performed by fitting the outer circumference of the boss 5 to the inner circumference hole of the magnetic disk 1, for example. . In such a case, the shape of the boss 5 is configured as shown in FIG. 4, and the gas between the master information carrier 2 and the magnetic disk 1 is discharged and pumped through the notch 51 provided on the outer peripheral portion of the boss 5. To be done.

【0089】次に、図1〜図3を用いて吸引/圧送の工
程について詳細に説明する。
Next, the steps of suction / pressure feeding will be described in detail with reference to FIGS.

【0090】まず、図1を使用して、圧送による離間の
工程について説明する。排気弁11を閉じて給気弁13
を開放した状態で給気ポンプ12を動作させることによ
って、気体を通路8に流し込む。すると、通気孔7には
図1の矢印Aで示したように上方向に空気が圧送され
る。このことにより、通気孔7に圧送された空気は、ボ
ス5を上方向に押し上げ、さらに矢印Bに示すように、
空気は溝4に圧送される。溝4に圧送された空気は、溝
4を通ってマスタ情報担体2の中心から外周へ向かって
放射状に広がる。そして、さらに溝4からマスタ情報担
体2と磁気ディスク1との隙間を通って大気へと抜け
る。
First, the step of separating by pressure feeding will be described with reference to FIG. Exhaust valve 11 is closed and air supply valve 13
The gas is caused to flow into the passage 8 by operating the air supply pump 12 in a state in which is opened. Then, as shown by the arrow A in FIG. 1, air is pumped upward in the vent hole 7. As a result, the air pressure-fed to the ventilation hole 7 pushes the boss 5 upward, and as shown by the arrow B,
Air is pumped into the groove 4. The air pressure-fed to the groove 4 spreads radially from the center of the master information carrier 2 to the outer periphery through the groove 4. Then, it further escapes from the groove 4 to the atmosphere through the gap between the master information carrier 2 and the magnetic disk 1.

【0091】このときの時間経過と、マスタ情報担体2
と磁気ディスク1とで挟まれた空間(以下、空間Sと称
す)の気圧との関係を示すのが図5である。図5で時間
経過が3秒のあたりから空間Sの気圧が101.3kp
aから瞬間的に上昇し、その後、約1秒間は130kp
aほどの気圧を保持している期間が、上記に示したマス
タ情報担体2と磁気ディスク1が離間している状態に相
当する。
The time elapsed at this time and the master information carrier 2
FIG. 5 shows the relationship between the atmospheric pressure of the space sandwiched between the magnetic disk 1 and the magnetic disk 1 (hereinafter referred to as space S). In FIG. 5, the air pressure in the space S is 101.3 kp after the passage of time of 3 seconds.
Momentary rise from a, then 130 kp for about 1 second
The period in which the atmospheric pressure of about a is maintained corresponds to the state in which the master information carrier 2 and the magnetic disk 1 described above are separated from each other.

【0092】本実施の形態では、磁気ディスク1とマス
タ情報担体2が密着した状態からマスタ情報担体2が保
持アーム14と一体的に0.5mm上昇した時点で、保
持アーム14の上面がガイド部材16の下面と当接する
ことによって、磁気ディスク1とマスタ情報担体2間の
距離は制御される。
In this embodiment, the upper surface of the holding arm 14 is guided by the guide member when the master information carrier 2 rises 0.5 mm integrally with the holding arm 14 from the state where the magnetic disk 1 and the master information carrier 2 are in close contact with each other. By making contact with the lower surface of 16, the distance between the magnetic disk 1 and the master information carrier 2 is controlled.

【0093】次に、吸引による密着の工程について図2
を用いて説明する。
Next, the process of adhesion by suction will be described with reference to FIG.
Will be explained.

【0094】給気ポンプ12を停止させ、給気弁13を
閉じる。すると、磁気ディスク1を固着した保持アーム
14が自重で下方向に移動し、ボス5が磁気ディスク1
の内周孔と嵌合した状態で磁気ディスク1に載置され
る。その後、排気弁11を開き、吸引ポンプ10を作動
させる。すると、図2の矢印Cに示したように通気孔7
の気体が下方向に排出されるため、溝4の内部、すなわ
ち空間Sの気体も磁気ディスク1の内周孔とボス5との
隙間を通って排出されることになる。
The air supply pump 12 is stopped and the air supply valve 13 is closed. Then, the holding arm 14 to which the magnetic disk 1 is fixed moves downward due to its own weight, and the boss 5 moves the magnetic disk 1 to the boss 5.
Is mounted on the magnetic disk 1 in a state of being fitted with the inner peripheral hole of the magnetic disk 1. Then, the exhaust valve 11 is opened and the suction pump 10 is operated. Then, as shown by the arrow C in FIG.
Since the gas is discharged downward, the gas inside the groove 4, that is, the gas in the space S is also discharged through the gap between the inner peripheral hole of the magnetic disk 1 and the boss 5.

【0095】ここで、溝4は図3に示したごとく、マス
タ情報担体2の最外周まで抜けている形状ではないた
め、最外周のドーナツ状部分ではマスタ情報担体2と磁
気ディスク1とは全周にわたり密着した状態となってお
り、空間Sは密閉された状態となり、その圧力は大気圧
よりも低くなる。したがって、磁気ディスク1は大気圧
15によりマスタ情報担体2に押しつけられることとな
る。
Here, as shown in FIG. 3, the groove 4 does not have a shape that extends to the outermost periphery of the master information carrier 2, so that the master information carrier 2 and the magnetic disk 1 are completely formed in the outermost donut-shaped portion. It is in a state of being in close contact with the circumference, the space S is in a sealed state, and its pressure is lower than atmospheric pressure. Therefore, the magnetic disk 1 is pressed against the master information carrier 2 by the atmospheric pressure 15.

【0096】図5で空間Sの気圧が30kpaほどの区
間が上記密着状態に相当する。
In FIG. 5, the section in which the atmospheric pressure of the space S is about 30 kpa corresponds to the above-mentioned close contact state.

【0097】次に、図2に示すようにマグネット17を
矢印D方向に移動させ、マスタ情報担体2に接近させ、
その距離が1mm程度になったときに矢印D方向への移
動を停止し、次に磁気ディスク1の円周方向、すなわ
ち、ガイド部材16の周りに矢印Eの向きにマグネット
17を1回転以上回転させることにより、転写に必要な
磁界(外部磁界)を印加する。
Next, as shown in FIG. 2, the magnet 17 is moved in the direction of arrow D to approach the master information carrier 2,
When the distance becomes about 1 mm, the movement in the direction of arrow D is stopped, and then the magnet 17 is rotated one or more revolutions in the circumferential direction of the magnetic disk 1, that is, around the guide member 16 in the direction of arrow E. By doing so, a magnetic field (external magnetic field) necessary for transfer is applied.

【0098】以上のように、磁気転写では磁気ディスク
1の動作は密着/圧空のみであるため、磁気転写の前後
で磁気ディスク1の回転位相が大きくずれることはな
い。
As described above, in magnetic transfer, the operation of the magnetic disk 1 is only close contact / pneumatic pressure, so that the rotational phase of the magnetic disk 1 does not greatly shift before and after magnetic transfer.

【0099】ここで、マスタ情報担体2について図6〜
図8を用いて詳細に説明する。
Here, FIG. 6 to FIG.
This will be described in detail with reference to FIG.

【0100】マスタ情報担体2の一例の平面を模式的に
示す図6のように、マスタ情報担体2の一主面、すなわ
ち磁気ディスク1の強磁性薄膜表面に接触する側の表面
には、略放射状に信号領域2aが形成されている。図3
および図6は模式的に示した図であり、実際には、図6
における信号領域2aは図3における接触面上に構成さ
れているものである。
As shown in FIG. 6 which schematically shows a plane of an example of the master information carrier 2, one main surface of the master information carrier 2, that is, the surface of the magnetic disk 1 on the side in contact with the ferromagnetic thin film surface, is substantially formed. The signal regions 2a are radially formed. Figure 3
6 and FIG. 6 are schematic diagrams, and in reality, FIG.
The signal area 2a in FIG. 3 is formed on the contact surface in FIG.

【0101】図6の点線で囲んだ部分Fの拡大図を、図
7に模式的に示す。図7に示すように、信号領域2aに
は、磁気記録媒体に記録されるべきディジタル情報信号
のパターンが形成されている。例えば、プリフォーマッ
ト記録に対応する位置に、上記ディジタル情報信号に対
応したパターン形状で強磁性薄膜からなる磁性部による
マスタ情報パターンが形成されている。
An enlarged view of a portion F surrounded by a dotted line in FIG. 6 is schematically shown in FIG. As shown in FIG. 7, a pattern of a digital information signal to be recorded on the magnetic recording medium is formed in the signal area 2a. For example, a master information pattern is formed at a position corresponding to preformat recording by a magnetic portion formed of a ferromagnetic thin film in a pattern shape corresponding to the digital information signal.

【0102】図7において、ハッチングを施した部分が
強磁性薄膜によって構成された磁性部である。この図7
に示すマスタ情報パターンは、クロック信号、トラッキ
ング用サーボ信号、アドレス情報信号等の各々の領域を
トラック長さ方向に順次配列したものである。なお、図
7に示すマスタ情報パターンは一例であり、磁気記録媒
体に記録されるディジタル情報信号に応じて、マスタ情
報パターンの構成や配置等を適宜決定することとなる。
In FIG. 7, the hatched portion is the magnetic portion made of a ferromagnetic thin film. This Figure 7
The master information pattern shown in (1) is obtained by sequentially arranging areas of the clock signal, the tracking servo signal, the address information signal, etc. in the track length direction. The master information pattern shown in FIG. 7 is an example, and the configuration, arrangement, etc. of the master information pattern will be appropriately determined according to the digital information signal recorded on the magnetic recording medium.

【0103】例えば、ハードディスクドライブのよう
に、ハードディスクの磁性膜に、まずリファレンス信号
を記録し、そのリファレンス信号に基づきトラッキング
用サーボ信号などのプリフォーマット記録を行う場合に
は、本発明によるマスタ情報担体を用いてハードディス
クの磁性膜に、あらかじめプリフォーマット記録に用い
るリファレンス信号のみを転写記録し、そしてそのハー
ドディスクをドライブの筐体に組み込み、トラッキング
用サーボ信号などのプリフォーマット記録は、ハードデ
ィスクドライブの磁気ヘッドを使用して行うようにして
もよい。
For example, when a reference signal is first recorded on a magnetic film of a hard disk as in a hard disk drive and preformat recording such as a tracking servo signal is performed based on the reference signal, the master information carrier according to the present invention. Pre-format recording such as tracking servo signals is performed on the magnetic head of the hard disk drive by pre-recording only the reference signal used for pre-format recording on the magnetic film of the hard disk by using the May be used.

【0104】図6、図7に示した領域の一部断面を図8
に示す。
A partial cross section of the region shown in FIGS. 6 and 7 is shown in FIG.
Shown in.

【0105】図8に示すように、マスタ情報担体2は、
Si基板、ガラス基板、プラスティック基板などの非磁
性材料からなる円盤状の基体2bの一主面、すなわち磁
気ディスク1の表面が接触する側の表面に、情報信号に
対応する複数の微細な配列パターン形状で凹部2cを形
成し、その基体2bの凹部2cに磁性部である強磁性薄
膜2dを埋め込む形態で形成することにより構成されて
いる。
As shown in FIG. 8, the master information carrier 2 is
A plurality of minute array patterns corresponding to information signals are formed on one main surface of the disk-shaped substrate 2b made of a non-magnetic material such as a Si substrate, a glass substrate, a plastic substrate, that is, the surface on the side where the surface of the magnetic disk 1 contacts. The recess 2c is formed in a shape, and the ferromagnetic thin film 2d, which is a magnetic part, is embedded in the recess 2c of the base 2b.

【0106】ここで、強磁性薄膜2dとしては、硬質磁
性材料、半硬質磁性材料、軟質磁性材料を問わず、多く
の種類の磁性材料を用いることができ、磁気記録媒体に
ディジタル情報信号を転写記録できるものであればよ
い。例えば、Fe、Co、Fe−Co合金などを用いる
ことができる。
Here, as the ferromagnetic thin film 2d, many kinds of magnetic materials can be used regardless of hard magnetic material, semi-hard magnetic material, and soft magnetic material, and a digital information signal is transferred to a magnetic recording medium. Anything that can be recorded is acceptable. For example, Fe, Co, an Fe-Co alloy, or the like can be used.

【0107】なお、マスタ情報が記録される磁気記録媒
体の種類によらずに十分な記録磁界を発生させるために
は、磁性材料の飽和磁束密度が大きいほどよい。特に、
2000エルステッドを超える高保磁力の磁気ディスク
や磁性層の厚みの大きいフレキシブルディスクに対して
は、飽和磁束密度が0.8テスラ以下になると十分な記
録を行うことができない場合があるので、一般的には、
0.8テスラ以上、好ましくは1.0テスラ以上の飽和
磁束密度を有する磁性材料が用いられる。
In order to generate a sufficient recording magnetic field regardless of the type of magnetic recording medium on which master information is recorded, it is preferable that the saturation flux density of the magnetic material is large. In particular,
For a magnetic disk having a high coercive force exceeding 2000 Oersted and a flexible disk having a large magnetic layer thickness, sufficient recording may not be performed when the saturation magnetic flux density is 0.8 Tesla or less, and therefore, in general, it is generally impossible. Is
A magnetic material having a saturation magnetic flux density of 0.8 Tesla or more, preferably 1.0 Tesla or more is used.

【0108】また、強磁性薄膜2dの厚さは、ビット長
や磁気記録媒体の飽和磁化や磁性層の膜厚によるが、例
えばビット長約1μm、磁気記録媒体の飽和磁化約50
0emu/cc、磁気記録媒体の磁性層の厚さが約20
nmの場合では、50nm〜500nm程度あればよ
い。
The thickness of the ferromagnetic thin film 2d depends on the bit length, the saturation magnetization of the magnetic recording medium and the film thickness of the magnetic layer. For example, the bit length is about 1 μm, and the saturation magnetization of the magnetic recording medium is about 50.
0 emu / cc, the thickness of the magnetic layer of the magnetic recording medium is about 20
In the case of nm, it may be about 50 nm to 500 nm.

【0109】ここで、このような記録方法において、良
好な記録信号品質を得るためには、マスタ情報担体に設
けた強磁性薄膜としての軟質磁性薄膜もしくは半硬質磁
性薄膜の配列パターンに基づき、プリフォーマット記録
時にはこれを励磁して一様に磁化することが望ましく、
またマスタ情報担体を用いた信号記録に先立って、ハー
ドディスクなどの磁気記録媒体を一様に直流消去してお
くことが望ましい。
Here, in such a recording method, in order to obtain good recording signal quality, the pre-recording is performed based on the arrangement pattern of the soft magnetic thin film or the semi-hard magnetic thin film as the ferromagnetic thin film provided on the master information carrier. During format recording, it is desirable to excite it and magnetize it uniformly.
Further, it is desirable that the magnetic recording medium such as a hard disk is uniformly DC-erased before the signal recording using the master information carrier.

【0110】次に、かかるマスタ情報担体2を製造する
方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the master information carrier 2 will be described.

【0111】すなわち、本発明の記録方法に用いるマス
タ情報担体は、Si基板の表面に、レジスト膜を成膜
し、フォトリソグラフィ法のようなレーザービームまた
は電子ビームを用いたリソグラフィ技術によってレジス
ト膜を露光、現像してパターニングした後、ドライエッ
チング等によってエッチングして、情報信号に対応した
微細な凹凸形状を形成し、その後、Co等からなる強磁
性薄膜をスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレー
ティング法、CVD法、めっき法等により、凹部に強磁
性薄膜が埋め込まれた形態でかつ情報信号に対応した磁
性部を備えたマスタ情報担体を得ることができる。
That is, for the master information carrier used in the recording method of the present invention, a resist film is formed on the surface of a Si substrate, and the resist film is formed by a lithography technique such as a photolithography method using a laser beam or an electron beam. After exposure, development, and patterning, etching is performed by dry etching or the like to form a fine concavo-convex shape corresponding to an information signal, and then a ferromagnetic thin film made of Co or the like is sputtered, vacuum deposited, or ion plated. Method, CVD method, plating method, etc., it is possible to obtain a master information carrier in which a ferromagnetic thin film is embedded in a recess and which has a magnetic portion corresponding to an information signal.

【0112】なお、マスタ情報担体の表面に凹凸形状を
形成する方法は上述の方法に限定されるものではなく、
例えば、レーザービーム、電子ビームまたはイオンビー
ムを用いて微細な凹凸形状を直接形成したり、機械加工
によって微細な凹凸形状を直接形成してもよい。
The method of forming the uneven shape on the surface of the master information carrier is not limited to the above-mentioned method.
For example, a fine concavo-convex shape may be directly formed by using a laser beam, an electron beam or an ion beam, or a fine concavo-convex shape may be directly formed by machining.

【0113】次に、マスタ情報担体2に形成したパター
ン形状に対応した情報信号を磁気ディスクに転写記録す
る手順について、図9〜図11を用いてさらに詳しく説
明する。
Next, the procedure for transferring and recording the information signal corresponding to the pattern shape formed on the master information carrier 2 on the magnetic disk will be described in more detail with reference to FIGS. 9 to 11.

【0114】まず、マグネットを磁気ディスク1に近づ
けた状態で、磁気ディスク1の中心軸を回転軸として磁
気ディスク1と平行にマグネットを回転させることによ
り、図9の矢印で示すように磁気ディスク1を予め一方
向に磁化する(初期化)。
First, in the state where the magnet is brought close to the magnetic disk 1, the magnet is rotated parallel to the magnetic disk 1 with the central axis of the magnetic disk 1 as the rotation axis, so that the magnetic disk 1 as shown by the arrow in FIG. Is magnetized in one direction in advance (initialization).

【0115】次に、上述したように、磁気ディスク1に
マスタ情報担体2を位置決めして重ね合わせた状態で、
マスタ情報担体2と磁気ディスク1とを均一に密着さ
せ、その後、図2中矢印Eに示すように、初期化とは逆
方向に磁界を印加することにより、マスタ情報担体2の
磁性部(強磁性薄膜)2dが磁化され、そしてマスタ情
報担体2に重ね合わせた磁気ディスク1の所定の領域1
bに、図10に示すように磁性部2dのパターン形状に
対応した情報信号が記録される。なお、図10に示す矢
印は、このとき、磁気ディスク1に転写記録される磁化
パターンの磁界の方向を示している。
Next, as described above, with the master information carrier 2 positioned and superposed on the magnetic disk 1,
The master information carrier 2 and the magnetic disk 1 are brought into close contact with each other uniformly, and then a magnetic field is applied in the direction opposite to the initialization as shown by an arrow E in FIG. The magnetic thin film 2d is magnetized, and the predetermined area 1 of the magnetic disk 1 superposed on the master information carrier 2
In b, an information signal corresponding to the pattern shape of the magnetic portion 2d is recorded as shown in FIG. The arrow shown in FIG. 10 indicates the direction of the magnetic field of the magnetization pattern transferred and recorded on the magnetic disk 1 at this time.

【0116】図11にその磁化処理時の様子を示してお
り、図11に示すように、マスタ情報担体2を磁気ディ
スク1に密着させた状態で、マスタ情報担体2に外部か
ら磁界を印加して磁性部2dを磁化することによって、
磁気ディスク1の強磁性層1cに情報信号を記録するこ
とができる。すなわち、非磁性の基体2bに所定の情報
信号に対応する配列パターン形状で強磁性薄膜からなる
磁性部2dを形成して構成したマスタ情報担体2を用い
ることにより、その情報信号に対応した磁化パターンと
して磁気ディスク1に磁気的に転写記録することができ
る。
FIG. 11 shows a state during the magnetization process. As shown in FIG. 11, a magnetic field is applied to the master information carrier 2 from the outside while the master information carrier 2 is in close contact with the magnetic disk 1. By magnetizing the magnetic portion 2d by
Information signals can be recorded on the ferromagnetic layer 1c of the magnetic disk 1. That is, by using the master information carrier 2 formed by forming the magnetic portion 2d made of a ferromagnetic thin film in the array pattern shape corresponding to a predetermined information signal on the non-magnetic substrate 2b, the magnetization pattern corresponding to the information signal is used. Can be magnetically transferred and recorded on the magnetic disk 1.

【0117】なお、マスタ情報担体2のパターンを磁気
ディスク1に転写記録する際の方法として、上述のよう
にマスタ情報担体2を磁気ディスク1に接触させた状態
で外部磁界を印加する方法以外に、マスタ情報担体2の
磁性部2dをあらかじめ磁化させておき、その状態でマ
スタ情報担体2を磁気ディスク1に密着するように接触
させる方法もあり、その方法であっても情報信号を転写
記録することができる。
As a method for transferring and recording the pattern of the master information carrier 2 on the magnetic disk 1, other than the method of applying an external magnetic field with the master information carrier 2 in contact with the magnetic disk 1 as described above. There is also a method in which the magnetic portion 2d of the master information carrier 2 is magnetized in advance and the master information carrier 2 is brought into close contact with the magnetic disk 1 in that state. Even with this method, the information signal is transferred and recorded. be able to.

【0118】その後、再度図1に示した離間手段を実施
する。すなわち、排気弁11を閉じ、給気弁13を開
き、給気ポンプ12を作動させる。すると、矢印A,B
に示すように気体が圧送され、マスタ情報担体2は気体
が圧送する力によって保持アーム14と一体的に移動
し、保持アーム14の上面がガイド部材16と当接した
所で止まる。このとき、矢印Bに示したように、気体は
溝4を通してマスタ情報担体2の中心から外周側へ放射
状に圧送された状態を保っている。
Then, the separating means shown in FIG. 1 is implemented again. That is, the exhaust valve 11 is closed, the air supply valve 13 is opened, and the air supply pump 12 is operated. Then, arrows A and B
As shown in FIG. 3, the gas is pumped, the master information carrier 2 moves integrally with the holding arm 14 by the force of the gas pumping, and stops when the upper surface of the holding arm 14 contacts the guide member 16. At this time, as shown by the arrow B, the gas is kept in a state of being radially pumped from the center of the master information carrier 2 to the outer peripheral side through the groove 4.

【0119】ここで、マスタ情報担体2の接触面3上に
異常突起や異物が存在すると、磁気転写を実施すること
によって磁気ディスク1に欠陥が生じることになる。
Here, if an abnormal protrusion or a foreign substance is present on the contact surface 3 of the master information carrier 2, the magnetic transfer will cause a defect in the magnetic disk 1.

【0120】次に、図12〜図20を用いて本発明の実
施の形態におけるマスタ情報担体の欠陥検査方法および
磁気記録再生装置について説明する。
Next, a defect inspection method for a master information carrier and a magnetic recording / reproducing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0121】図12は本実施の形態におけるマスタ情報
担体の欠陥検査方法を示すフローチャートである。
FIG. 12 is a flow chart showing a method of inspecting a defect of the master information carrier in this embodiment.

【0122】まず、図12のST1およびST4の工程
である磁気ディスク表面上の欠陥を検査する工程につい
て説明する。ST1およびST4の工程は公知の手段で
ある欠陥検査装置を使用するものであり、ディスク表面
上にレーザーを照射して、各欠陥の形状、大きさ等に対
してそれぞれ異なって検出される光学的性質、すなわち
レーザー光の正反射光や散乱光を受光して欠陥を検出す
る方法を用いる。本実施の形態で使用した欠陥検査装置
の概要について以下に簡単に説明する。
First, the step of inspecting defects on the surface of the magnetic disk, which is the step of ST1 and ST4 of FIG. 12, will be described. The steps ST1 and ST4 are performed by using a defect inspection device which is a well-known means. Optical irradiation is performed by irradiating the surface of the disk with a laser and detecting the shape and size of each defect differently. A property is used, that is, a method of detecting a defect by receiving specular reflection light or scattered light of laser light is used. The outline of the defect inspection apparatus used in this embodiment will be briefly described below.

【0123】図13は、図12のST1およびST4の
工程で使用した欠陥検査装置について示した図である。
図13において、100はアルミニウム合金の基板の表
面に変形防止のために約10μmのNiPめっき層を形
成させた検査用基板、101はレーザー送光系、102
は正反射光受光系、103は散乱光受光系、104はデ
ータ処理装置である。検査用基板100の表面上にレー
ザースポットを形成するようにレーザー送光系101よ
り投光して、検査用基板100を載置する回転モータお
よび直線駆動部(図示せず)を用いて検査用基板100
表面を螺旋状にレーザースポットを走査する。検査用基
板100の表面上に欠陥があるときはレーザースポット
が散乱するので、その散乱光を散乱光受光系103によ
り受光して欠陥データ信号を得ている。正反射光は正反
射光受光系102が受光する。このように、欠陥の種類
によってその光の強弱が異なる正反射光や散乱光に対応
するように各受光系は設けられている。また、効率良く
目的とする光(すなわち正反射光や散乱光)を受光する
ために、フィルタやレンズ等の光学素子が設けられてい
る。各受光系により受光された光は、所定の回路を介し
て各々欠陥データに変換されて、データ処理装置104
に入力される。
FIG. 13 is a diagram showing the defect inspection apparatus used in the steps ST1 and ST4 of FIG.
In FIG. 13, reference numeral 100 is an inspection substrate in which a NiP plating layer of about 10 μm is formed on the surface of an aluminum alloy substrate to prevent deformation, 101 is a laser light transmission system, and 102
Is a specular reflection light receiving system, 103 is a scattered light receiving system, and 104 is a data processing device. For inspection by using a rotary motor and a linear drive unit (not shown) for placing the inspection substrate 100 on the inspection substrate 100 by projecting the laser light so that a laser spot is formed on the surface of the inspection substrate 100. Board 100
The surface is spirally scanned with a laser spot. When there is a defect on the surface of the inspection substrate 100, the laser spot is scattered, so the scattered light is received by the scattered light receiving system 103 to obtain a defect data signal. The regular reflection light is received by the regular reflection light receiving system 102. In this way, each light receiving system is provided so as to correspond to the specular reflection light and the scattered light having different light intensities depending on the type of defect. Further, optical elements such as filters and lenses are provided in order to efficiently receive desired light (that is, specularly reflected light and scattered light). The light received by each light receiving system is converted into defect data via a predetermined circuit, and the data processing device 104
Entered in.

【0124】各受光系が受光することによって得られた
欠陥データ信号は、ディスク表面上の所定の単位セル
(本実施の形態では、ディスクの半径方向の微小距離Δ
rと円周方向の微小距離Δθとで形成される微小な方形
セルである単位領域)に対応してメモリのアドレスに記
憶される。本実施の形態で使用した欠陥検査装置の単位
領域は、Δr=10μm、Δθ=0.125°である。
The defect data signal obtained by receiving light by each light receiving system is a predetermined unit cell on the disk surface (in this embodiment, a minute distance Δ in the radial direction of the disk).
It is stored in the address of the memory corresponding to a unit area which is a minute rectangular cell formed by r and a minute distance Δθ in the circumferential direction. The unit area of the defect inspection apparatus used in this embodiment is Δr = 10 μm and Δθ = 0.125 °.

【0125】しかし、このままでは1個の窪みやスクラ
ッチやパーティクルといったような所定の長さや幅を持
つ欠陥が1つの欠陥であるにもかかわらず、連続した複
数の単位領域にわたって存在しているときには、1個の
欠陥と認識されずに多数の欠陥として認識される。そこ
で、欠陥データを記憶したアドレスに隣接する所定個数
のアドレスのいずれかに欠陥データがあるときは両者が
連続するとして各アドレスの連続性を識別し、この識別
により連続しているとされたアドレスの群を1個の欠陥
と評価している。これにより各種の欠陥は、大きさや形
状にかかわらずに、群の個数が示される。欠陥の位置座
標は、連続しているとされたアドレスの群の重心と定義
する。
However, as it is, even if a defect having a predetermined length or width such as one dent, scratch or particle is one defect, when it exists over a plurality of continuous unit areas, Instead of being recognized as one defect, many defects are recognized. Therefore, if there is defective data in any of a predetermined number of addresses adjacent to the address storing the defective data, the continuity of each address is identified as being continuous, and the addresses determined to be continuous by this identification. Is evaluated as one defect. As a result, the number of groups of various defects is shown regardless of the size and shape. The position coordinates of a defect are defined as the center of gravity of a group of addresses that are considered to be continuous.

【0126】なお、本実施の形態で使用した欠陥検査装
置には、検査用基板100の投入および取り出し時に検
査用基板100の回転位相が大きくずれることのないよ
うに、検査時に検査用基板100表面を螺旋状に走査さ
せる回転モータ(図示せず)に対して欠陥検査前後に回
転位相に対して原点復帰をさせている。
In the defect inspection apparatus used in the present embodiment, the surface of the inspection substrate 100 is inspected at the time of inspection so that the rotational phase of the inspection substrate 100 does not greatly shift when the inspection substrate 100 is put in and taken out. A rotary motor (not shown) for spirally scanning is rotated back to the origin before and after the defect inspection.

【0127】ST1の工程において第1状態の検査用基
板100について、この第1状態の検査用基板100に
元から存在する可能性のある欠陥を検査する。
In step ST1, the inspection substrate 100 in the first state is inspected for any defects that may originally exist in the inspection substrate 100 in the first state.

【0128】次に、ST2の工程によって第1状態の検
査用基板100の表面上に異物が存在するかを確認す
る。確認の方法としては公知の手段である光学的な欠陥
検査方法を使用して第1状態の検査用基板100表面上
の異物を検査する。本実施の形態では、ST1の欠陥検
査装置とは別のST1と同等の光学的検査装置を使用し
て、異物の検出スライスレベルを1μmに設定し、1μ
m以上の異物が検査用基板の表面上に付着していないか
どうかを検査した。検査後に、1μm以上の異物が存在
していた場合はNG(不良品)と判断し、存在していな
かった場合はOK(良品)と判断する。OKの場合は次
のST3の工程を行う。NGのときは、その検査用基板
を洗浄し再生する。再生も不良のときには廃棄する。
Next, in step ST2, it is confirmed whether or not foreign matter is present on the surface of the inspection substrate 100 in the first state. As a confirmation method, an optical defect inspection method which is a known means is used to inspect the foreign matter on the surface of the inspection substrate 100 in the first state. In this embodiment, an optical inspection apparatus which is different from the defect inspection apparatus of ST1 and which is equivalent to ST1 is used to set the detection slice level of the foreign matter to 1 μm and
It was inspected whether or not foreign matter of m or more was attached on the surface of the inspection substrate. After the inspection, if there is a foreign matter of 1 μm or more, it is determined to be NG (defective product), and if it is not present, it is determined to be OK (good product). In the case of OK, the following step ST3 is performed. In the case of NG, the inspection substrate is cleaned and regenerated. If the reproduction is also defective, discard it.

【0129】このように、ST3の密着工程の前に第1
状態の検査用基板100の表面の異物を検査することに
よって、第1状態の検査用基板100の表面の異物が逆
にマスタ情報担体2に付着してマスタ情報担体2を損傷
することを未然に防ぐことが可能となる。
As described above, the first step is performed before the adhesion step of ST3.
By inspecting the foreign matter on the surface of the inspection substrate 100 in the state, the foreign matter on the surface of the inspection substrate 100 in the first state may conversely adhere to the master information carrier 2 and damage the master information carrier 2. It becomes possible to prevent it.

【0130】また、ST2の工程においてもST1の工
程と同様、第1状態の検査用基板100の投入および取
り出し時に第1状態の検査用基板100の回転位相が大
きくずれることのないように、検査時に第1状態の検査
用基板100表面を螺旋状に走査させる回転モータ(図
示せず)に対して欠陥検査前後に回転位相に対して原点
復帰をさせている。
Further, in the step ST2 as well as in the step ST1, the inspection substrate 100 in the first state is prevented from being largely deviated in the rotational phase when the inspection substrate 100 in the first state is put in and taken out. At the same time, a rotary motor (not shown) that scans the surface of the inspection substrate 100 in the first state spirally returns the origin to the rotational phase before and after the defect inspection.

【0131】ST3の工程は、マスタ情報担体2と欠陥
検査済みの第1状態の検査用基板100とを密着させる
工程であり、図1および図2で説明した内容と同じであ
る。すなわち、図1および図2中の磁気ディスク1を第
1状態の検査用基板100に置き換えればよく、他の構
成は全く同じである。
The step ST3 is a step of bringing the master information carrier 2 and the inspection substrate 100 in the first state in which the defect inspection has been completed into close contact with each other, and is the same as the contents described with reference to FIGS. That is, the magnetic disk 1 in FIGS. 1 and 2 may be replaced with the inspection substrate 100 in the first state, and the other configurations are exactly the same.

【0132】その後、第2状態の検査用基板100の表
面上の欠陥を検査する。すなわちST4の工程を行う。
このST4の工程は、マスタ情報担体2を第1状態の検
査用基板100に密着したことによってその検査用基板
100に欠陥が生じたか否かを検査するための工程であ
る。密着によってマスタ情報担体2上の欠陥が転写され
た状態の検査用基板は第2状態の検査用基板である。
After that, the defects on the surface of the inspection substrate 100 in the second state are inspected. That is, the process of ST4 is performed.
The step ST4 is a step for inspecting whether or not a defect has occurred in the inspection substrate 100 by bringing the master information carrier 2 into close contact with the inspection substrate 100 in the first state. The inspection substrate in which the defects on the master information carrier 2 are transferred by the contact is the inspection substrate in the second state.

【0133】図14はST1の工程で実施した第1状態
の検査用基板100の欠陥検査結果、図15はST4の
工程で実施した欠陥検査結果、すなわち密着後の第2状
態の検査用基板100の欠陥検査結果をそれぞれ示す。
図14および図15において、黒丸印(●)は正反射光
受光系102の受光素子によって受光された欠陥の重心
(中心)位置を、三角印(△)は散乱光受光系103の
受光素子によって受光された結果の重心(中心)位置を
示している。
FIG. 14 is a result of the defect inspection of the inspection substrate 100 in the first state performed in the step ST1, and FIG. 15 is a result of the defect inspection performed in the step ST4, that is, the inspection substrate 100 in the second state after the adhesion. The defect inspection results are shown respectively.
14 and 15, a black circle (●) indicates the center of gravity of a defect received by the light receiving element of the regular reflection light receiving system 102.
The (center) position and the triangle mark (Δ) indicate the center of gravity (center) position of the result of light reception by the light receiving element of the scattered light receiving system 103.

【0134】次に、図12のST5の工程であるマスタ
情報担体が原因となる欠陥を判別する工程について、図
16を使用して説明する。図16はST5の工程を示す
フローチャートである。図16において、ST6および
ST7はそれぞれST1の工程およびST4の工程の欠
陥検査結果であり、本実施の形態ではそれぞれ図14お
よび図15に相当する。ST8はST1の工程およびS
T4の工程の欠陥検査結果における検査用基板の回転位
相ずれを検出する工程である。まず、ST9に示したよ
うに、ST1の工程とST4の工程で実施した第1状態
および第2状態の検査用基板100の表面上の欠陥検査
結果に関して、両者の測定時の回転位相および位置がず
れる可能性のある範囲を指定する。本実施の形態におい
ては、ST1の工程、ST2の工程、ST4の工程にお
いて磁気ディスクの回転位相が大きくずれることのない
よう、回転モータに原点復帰機能を付加している。ま
た、ST3の密着の工程では第1状態の検査用基板10
0を回転させないため、ディスクの回転位相が大きくず
れることはない。しかし、検査用基板100の搬送過程
や原点復帰時のばらつき等で多少回転位相がずれる可能
性がある。このときの回転位相ずれおよび位置ずれの設
定範囲は、ばらつきの最大値を指定することが好まし
い。本実施の形態においては、回転位相ずれの範囲を1
0°、位置ずれの範囲を0.5mmと設定した。
Next, the step of ST5 of FIG. 12, which is a step of determining a defect caused by the master information carrier, will be described with reference to FIG. FIG. 16 is a flowchart showing the process of ST5. In FIG. 16, ST6 and ST7 are the defect inspection results of the step ST1 and the step ST4, respectively, and correspond to FIGS. 14 and 15 in the present embodiment, respectively. ST8 is the process of ST1 and S
This is a step of detecting the rotational phase shift of the inspection substrate in the defect inspection result of the step T4. First, as shown in ST9, regarding the defect inspection results on the surface of the inspection substrate 100 in the first state and the second state performed in the process of ST1 and the process of ST4, the rotation phase and position at the time of measurement of both are Specify the range that may shift. In the present embodiment, the rotary motor is provided with a return-to-origin function so that the rotational phase of the magnetic disk is not significantly deviated in the steps ST1, ST2, and ST4. Further, in the contact process of ST3, the inspection substrate 10 in the first state
Since 0 is not rotated, the rotation phase of the disk does not significantly shift. However, there is a possibility that the rotational phase may be slightly shifted due to variations in the process of transporting the inspection substrate 100 or when returning to the origin. It is preferable to specify the maximum value of the variation in the setting range of the rotational phase shift and the positional shift at this time. In the present embodiment, the range of the rotational phase shift is 1
The range of 0 ° and the positional deviation was set to 0.5 mm.

【0135】次に、ST10の工程を実施する。すなわ
ち、ST1の工程およびST4の工程の欠陥検査結果を
比較し、同一欠陥種類において、回転位相ずれ量が10
°以内かつ位置ずれ量が0.5mm以内である欠陥を列
挙する。その中で正反射光受光系102の受光素子で検
出された欠陥が存在するかどうかを判定する。もし、正
反射光受光系102の受光素子で検出された欠陥が存在
すれば、ST11に示したように、この欠陥同士の位相
ずれ量をST1の工程での第1状態の検査用基板100
とST4の工程での第2状態の検査用基板100とのず
れ量と判断する。もし正反射の受光素子Rで検出された
欠陥が存在しなければ散乱光の検出結果を位相ずれとし
て認識する。このように、回転位相補正を行う欠陥に使
用する欠陥を散乱光で検出した結果よりも正反射光で検
出した結果を優先する方が好ましい。この理由につい
て、図17を用いて説明する。
Next, step ST10 is carried out. That is, the defect inspection results of the process of ST1 and the process of ST4 are compared, and in the same defect type, the rotational phase shift amount is 10
Defects that are within ° and the amount of displacement is within 0.5 mm are listed. Among them, it is determined whether or not there is a defect detected by the light receiving element of the regular reflection light receiving system 102. If there is a defect detected by the light receiving element of the specular reflection light receiving system 102, as shown in ST11, the phase shift amount between the defects is the inspection substrate 100 in the first state in the step ST1.
And ST4, the amount of deviation from the inspection substrate 100 in the second state is determined. If there is no defect detected by the specular reflection light receiving element R, the detection result of scattered light is recognized as a phase shift. As described above, it is preferable to give priority to the result detected by the specular reflection light rather than the result detected by the scattered light of the defect used as the defect for the rotational phase correction. The reason for this will be described with reference to FIG.

【0136】図17は、ST1の工程およびST4の工
程で使用した検査用基板の欠陥検査装置の欠陥測定結果
であり、同一の検査用基板に対して測定ごとに原点復帰
を行い、回転モータを取り外さずに連続で20回測定を
行ったときの各種欠陥の重心(中心)位置を示した結果
である。図17において、(a),(b)は異物、すな
わち散乱光受光系103の受光素子で検出した欠陥であ
り、(c),(d)は凹み、すなわち正反射光受光系1
02の受光素子で検出した欠陥をそれぞれ示している。
また、図中の縦方向は検査用基板100の半径方向r、
横方向は検査用基板100の周方向θを示している。本
実施の形態で使用した欠陥検査装置の単位セルは、Δr
=10μm、Δθ=0.125°である。各セルの中の
数字は、そのセルの中に欠陥の中心が検出された回数を
示している。図17の測定結果より明らかなように、
(a),(b)すなわち散乱光受光系103の受光素子
で検出した欠陥位置のばらつきは、(c),(d)すな
わち正反射光受光系102の受光素子で検出した欠陥位
置のばらつきと比較すると、より大きくなっていること
が分かる。散乱光受光系103の受光素子はレーザース
ポットからの光の散乱部分を検出するため、同一の欠陥
を検出した場合でも、レーザー照射の位置や角度が微妙
にずれた場合に検出部分の位置ずれの原因となる可能性
が正反射と比較して高いためである。したがって、回転
位相補正を行う欠陥に使用する欠陥を散乱光で検出した
結果よりも正反射の受光素子で検出した結果の方を優先
することが好ましい。
FIG. 17 shows the defect measurement results of the inspection board defect inspection apparatus used in the steps ST1 and ST4. The same inspection board is returned to the origin for each measurement, and the rotary motor is turned on. It is the result which showed the gravity center (center) position of various defects when it measured 20 times continuously without removing. In FIG. 17, (a) and (b) are foreign matters, that is, defects detected by the light receiving element of the scattered light receiving system 103, and (c) and (d) are dents, that is, the regular reflection light receiving system 1.
Each of the defects detected by the light receiving element 02 is shown.
Further, the vertical direction in the drawing is the radial direction r of the inspection substrate 100,
The horizontal direction indicates the circumferential direction θ of the inspection substrate 100. The unit cell of the defect inspection apparatus used in this embodiment is Δr
= 10 μm and Δθ = 0.125 °. The number in each cell indicates the number of times the defect center was detected in that cell. As is clear from the measurement result of FIG.
(A) and (b), that is, variations in the defect position detected by the light receiving element of the scattered light receiving system 103 are the same as (c) and (d), that is, variations in the defect position detected by the light receiving element of the specular reflection light receiving system 102. By comparison, it can be seen that it is larger. Since the light receiving element of the scattered light receiving system 103 detects the scattered portion of the light from the laser spot, even if the same defect is detected, if the position or angle of laser irradiation is slightly deviated, the positional deviation of the detected portion This is because it is more likely to be the cause than the regular reflection. Therefore, it is preferable to give priority to the result detected by the specular reflection light receiving element over the result detected by the scattered light of the defect used as the defect for which the rotational phase correction is performed.

【0137】以上のことから明らかなように、回転位相
補正を行う欠陥に使用する欠陥を正反射の受光素子で検
出した結果を優先することによって、より精度の高い欠
陥検査を行うことが可能となる。
As is clear from the above, it is possible to perform a more accurate defect inspection by giving priority to the result of detecting the defect used for the defect for the rotational phase correction by the specular reflection light receiving element. Become.

【0138】ST1の工程およびST4の工程の欠陥検
査結果を比較し、正反射の受光素子で検出された欠陥に
おいて回転位相ずれ量が10°以内かつ位置ずれ量が
0.5mm以内である欠陥を列挙した結果を図18に示
す。
By comparing the defect inspection results of the ST1 process and the ST4 process, the defects detected by the specular reflection light receiving element and having a rotational phase shift amount of 10 ° or less and a positional shift amount of 0.5 mm or less are determined. The enumerated results are shown in FIG.

【0139】図18において、ΔRはST1の工程の欠
陥検査結果とST4の工程の欠陥検査結果との半径方向
の差、ΔθはST1の工程の欠陥検査結果とST4の工
程の欠陥検査結果との周方向の差を表している。図18
より、ST1の工程とST4の工程における欠陥検査結
果において、欠陥検査時の検査用基板100の回転位相
ずれは4.125°であると判断することができる。こ
れは多数決によって判定する。複数個の場合に同じデー
タがあるときは、それらの平均値を採用する。
In FIG. 18, ΔR is the difference in the radial direction between the defect inspection result of the step ST1 and the defect inspection result of the step ST4, and Δθ is the defect inspection result of the step ST1 and the defect inspection result of the step ST4. It represents the difference in the circumferential direction. FIG.
Therefore, in the defect inspection results in the steps ST1 and ST4, it can be determined that the rotational phase shift of the inspection substrate 100 during the defect inspection is 4.125 °. This is determined by majority vote. If the same data exists in multiple cases, the average value of them is adopted.

【0140】次に、図16のST13に示した位相補正
の工程を実施する。図18に示したように、ST1の工
程およびST4の工程における欠陥検査測定時の位相ず
れは4.125°である。この結果を基に、ST1の工
程の欠陥検査結果データを、位相のずれが補正される方
向、すなわち図14において時計方向に4.125°回
転させる。
Next, the step of phase correction shown in ST13 of FIG. 16 is carried out. As shown in FIG. 18, the phase shift at the time of defect inspection measurement in the step ST1 and the step ST4 is 4.125 °. Based on this result, the defect inspection result data in the step ST1 is rotated by 4.125 ° in the direction in which the phase shift is corrected, that is, in the clockwise direction in FIG.

【0141】次に、図16のST14に示した引き算処
理を実施する。引き算処理は、第2状態の検査用基板1
00についての欠陥検査結果と第1状態の検査用基板1
00についての欠陥検査結果との比較処理の代表例であ
る。
Next, the subtraction processing shown in ST14 of FIG. 16 is carried out. The subtraction process is the inspection substrate 1 in the second state.
00 for defect inspection and inspection substrate 1 in the first state
10 is a representative example of a comparison process with a defect inspection result for No. 00.

【0142】ST13の工程によって位相補正を実施し
たST1の工程とST4の工程との欠陥検査結果に対し
て、ST4の工程の欠陥検査結果からST1の工程の欠
陥検査結果を引き算する。すなわち、 〔ST4の工程の欠陥検査結果〕−〔ST1の工程の欠
陥検査結果〕 である。
The defect inspection result of the step ST1 is subtracted from the defect inspection result of the step ST1 and the step ST4 in which the phase correction is performed by the step ST13. That is, [defect inspection result of step ST4]-[defect inspection result of step ST1].

【0143】引き算を行うときには、同一欠陥と見なし
て引き算を行う範囲を設定する必要があるが、本実施の
形態においては、位置ずれのばらつきを考慮して、同一
種類の欠陥に対して半径方向rの差が0.05mm以
下、かつ周方向θの差が1°以下の欠陥を同一欠陥と見
なして引き算を行った。引き算を行った結果を図19に
示す。
When performing the subtraction, it is necessary to set the range in which the subtraction is performed by regarding it as the same defect. However, in the present embodiment, in consideration of the deviation of the positional deviation, the defects of the same type are radial direction. Defects in which the difference in r was 0.05 mm or less and the difference in the circumferential direction θ was 1 ° or less were regarded as the same defect and subtraction was performed. The result of the subtraction is shown in FIG.

【0144】図19は上記方法によってST14の工程
である引き算処理を行った後の欠陥表示データである。
図19の結果より、正反射光受光系102の受光素子で
検出された欠陥が2個、散乱光受光系103の受光素子
で検出された欠陥が7個存在することが分かる。
FIG. 19 shows defect display data after the subtraction process which is the step of ST14 is performed by the above method.
From the results of FIG. 19, it can be seen that there are two defects detected by the light receiving element of the specular reflection light receiving system 102 and seven defects detected by the light receiving element of the scattered light receiving system 103.

【0145】欠陥部分を顕微鏡で観察した結果、正反射
光受光系102の受光素子で検出された欠陥はマスタ情
報担体2の表面に存在する異常突起であり、散乱光受光
系103の受光素子で検出された欠陥はマスタ情報担体
2の表面に付着していた微小粒子であることが確認され
た。
As a result of observing the defective portion with a microscope, the defect detected by the light receiving element of the regular reflection light receiving system 102 is an abnormal protrusion existing on the surface of the master information carrier 2, and the defect by the light receiving element of the scattered light receiving system 103. It was confirmed that the detected defects were fine particles attached to the surface of the master information carrier 2.

【0146】ここで、検査用基板100には潤滑剤を塗
布していない方が好ましい。これは、通常の磁気ディス
クのように潤滑剤を塗布すると、異物の吸着性が低下す
るため、検査用基板100側に異物を付着させにくくな
り、それは欠陥検査の精度の低下をもたらすが、その精
度低下を回避してより高精度な欠陥検査を行うことがで
きるようにするために、一般的な磁気記録媒体とは違っ
て潤滑剤の塗布を行わないようにしているのである。
Here, it is preferable that no lubricant is applied to the inspection substrate 100. This is because when a lubricant is applied like a normal magnetic disk, the adsorbability of foreign matter is reduced, so it becomes difficult for foreign matter to adhere to the inspection substrate 100 side, which leads to a reduction in the accuracy of defect inspection. In order to avoid a decrease in accuracy and to perform a more accurate defect inspection, the lubricant is not applied unlike a general magnetic recording medium.

【0147】本実施の形態のように、潤滑剤を塗布しな
いままの表面がNiPめっき層となっている検査用基板
を使用することによって、マスタ情報担体に付着してい
る異物を確実に検査用基板に付着させることが可能とな
る。
As in this embodiment, by using the inspection substrate whose surface is the NiP plating layer without applying the lubricant, it is possible to surely inspect the foreign matter adhering to the master information carrier. It can be attached to the substrate.

【0148】また、本実施の形態に示したように、検査
用基板100の硬度は、マスタ情報担体2の硬度よりも
低い方が好ましい。これは、もし検査用基板100の表
面の硬度がマスタ情報担体2の硬度よりも高いとする
と、マスタ情報担体2の表面の硬度より高く、かつ検査
用基板100の硬度よりも低い異物がマスタ情報担体2
の表面上に存在していた場合、あるいはマスタ情報担体
2に異常突起が存在していた場合、検査用基板100表
面の硬度は異物あるいはマスタ情報担体2の硬度よりも
高いために検査用基板100表面に窪みが生じないこと
になる。逆に、本実施の形態に示したように、検査用基
板100表面の硬度をマスタ情報担体2の表面の硬度よ
りも低くすることによって、検査用基板100に確実に
窪みを発生させることになり、マスタ情報担体2に存在
する異物あるいは異常突起を確実に検出できることにな
る。
As shown in this embodiment, the hardness of the inspection substrate 100 is preferably lower than that of the master information carrier 2. This means that if the hardness of the surface of the inspection substrate 100 is higher than the hardness of the master information carrier 2, a foreign substance higher than the hardness of the surface of the master information carrier 2 and lower than the hardness of the inspection substrate 100 is the master information. Carrier 2
If it exists on the surface of the master information carrier 2, or if there is an abnormal protrusion on the master information carrier 2, the hardness of the surface of the testing substrate 100 is higher than the hardness of the foreign matter or the master information carrier 2, and thus the testing substrate 100. There will be no depression on the surface. On the contrary, as shown in the present embodiment, by making the hardness of the surface of the inspection substrate 100 lower than the hardness of the surface of the master information carrier 2, it is possible to surely generate the depression in the inspection substrate 100. Therefore, it is possible to reliably detect the foreign matter or the abnormal protrusion existing on the master information carrier 2.

【0149】また、本実施の形態では、検査用基板10
0としてアルミニウムの基板にNiPのめっき層を塗布
した構成としたが、これに限定されるものではなく、例
えばCo−Re−P、Co−Ni−P、Co−Ni−R
e−Pのような磁気特性を有したものでもよい。磁気特
性を有しためっき層を塗布することによって、以下に示
す効果が得られる。すなわち、マスタ情報担体2の表面
上に存在する磁性膜に異常突起が存在していた場合、密
着/離間の動作によってマスタ情報担体2の表面から磁
性膜が剥がれることになるが、検査用基板100の表面
に磁気特性を有しためっき層が塗布されていると、前記
の剥がれた磁性層を検査用基板100側に確実に磁気吸
着することができる。マスタ情報担体2の表面が剥離の
磁性膜で汚染されることを防止する。
Further, in this embodiment, the inspection substrate 10 is used.
Although the aluminum substrate is coated with a NiP plating layer as 0, the invention is not limited to this. For example, Co-Re-P, Co-Ni-P, Co-Ni-R.
It may have magnetic properties such as e-P. By applying a plating layer having magnetic properties, the following effects can be obtained. That is, when the magnetic film existing on the surface of the master information carrier 2 has an abnormal protrusion, the magnetic film is peeled off from the surface of the master information carrier 2 by the contact / separation operation. When the plating layer having magnetic characteristics is applied to the surface of the substrate 1, the peeled magnetic layer can be reliably magnetically attracted to the inspection substrate 100 side. The surface of the master information carrier 2 is prevented from being contaminated with the peeled magnetic film.

【0150】以上のような方法を採ることによって、マ
スタ情報担体表面上に存在する異常突起や異物を高感度
かつ正確に検出することが可能となる。
By adopting the method as described above, it becomes possible to detect abnormal protrusions or foreign matter existing on the surface of the master information carrier with high sensitivity and accuracy.

【0151】次に、正反射光受光系102の受光素子で
検出された窪みの欠陥の出力Vと、その欠陥の位置に対
して公知の手段であるグライドハイトテストによってヘ
ッドの浮上量を徐々に低下させ、ヘッドに取り付けられ
たAEセンサーでヒットし始めたときの磁気ディスク1
とヘッドとの距離dとの関係を図20に示す。
Next, the flying height of the head is gradually increased by the output V of the defect of the depression detected by the light receiving element of the regular reflection light receiving system 102 and the glide height test which is a known means for the position of the defect. Magnetic disk 1 when lowered and starting to hit with the AE sensor attached to the head
FIG. 20 shows the relationship between the distance d and the distance d from the head.

【0152】図20より、正反射光受光系102の受光
素子で検出された窪みの欠陥の出力と磁気ディスク/ヘ
ッド間距離との間には相関関係があることが分かる。こ
こで例えば、ある磁気記録再生装置の磁気ディスク/磁
気ヘッド間の浮上距離が20nmであるとすると、正反
射光受光系102の受光素子で検出された窪みの欠陥の
出力の検出スライスレベル、すなわち欠陥検出可能な出
力レベルを図20中のVaより低い所定の値に設定し、
ST5の工程で正反射光受光系102の受光素子の検出
が0であればOK、1個以上あればNGと判断すればよ
い。NGが発生した場合は、NGとなった欠陥はマスタ
情報担体2の異常突起あるいは付着異物が原因となるも
のであるため、磁気転写時に磁気ディスク全数に同一の
欠陥が発生する可能性がある。したがって、欠陥位置に
相当するマスタ情報担体2の表面上の欠陥を観察し、除
去する必要が生じる。ST5の工程で正反射光受光系1
02の受光素子の検出が0であれば、OKとなったマス
タ情報担体2を使用して磁気転写を行い、磁気転写後の
磁気ディスク1を磁気記録再生装置のドライブに組み込
めばよい。
It can be seen from FIG. 20 that there is a correlation between the output of the defect in the recess detected by the light receiving element of the regular reflection light receiving system 102 and the magnetic disk / head distance. Here, for example, if the flying distance between the magnetic disk / magnetic head of a certain magnetic recording / reproducing apparatus is 20 nm, the detection slice level of the output of the defect of the recess detected by the light receiving element of the regular reflection light receiving system 102, that is, The defect detectable output level is set to a predetermined value lower than Va in FIG. 20,
In the process of ST5, if the detection of the light receiving element of the specular reflection light receiving system 102 is 0, it may be judged as OK, and if it is one or more, it may be judged as NG. When the NG occurs, the defective NG is caused by the abnormal protrusion or the adhering foreign matter of the master information carrier 2. Therefore, the same defect may occur in all the magnetic disks during the magnetic transfer. Therefore, it becomes necessary to observe and remove the defect on the surface of the master information carrier 2 corresponding to the defect position. Regular reflection light receiving system 1 in step ST5
If the detection of the light receiving element 02 is 0, magnetic transfer is performed using the master information carrier 2 that has become OK, and the magnetic disk 1 after magnetic transfer may be incorporated in the drive of the magnetic recording / reproducing apparatus.

【0153】以上のような方法でマスタ情報担体が原因
となる欠陥を確実に検出することによって信頼性の高い
磁気記録再生装置を提供することが可能となる。
By reliably detecting the defect caused by the master information carrier by the above method, it is possible to provide a highly reliable magnetic recording / reproducing apparatus.

【0154】(実施の形態2)次に、図21〜図25を
用いて本発明の実施の形態2におけるマスタ情報担体の
欠陥検査方法について説明する。
(Second Embodiment) Next, a defect inspection method for a master information carrier according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0155】実施の形態1と本実施の形態が異なるの
は、マスタ情報担体2と検査用基板100との密着時の
マスタ情報担体2上の領域が、正規な磁気ディスク1に
磁気転写を行う際の磁気転写領域を完全に含んでいる点
である。
The difference between the first embodiment and the present embodiment is that the area on the master information carrier 2 when the master information carrier 2 and the inspection substrate 100 are in close contact with each other is magnetically transferred to the regular magnetic disk 1. This is the point that the magnetic transfer area at that time is completely included.

【0156】図21は、本実施の形態2の提案の前提と
なる課題を指摘するための図である。すなわち、検査用
基板100として磁気ディスク1と同じサイズのものを
用いることによる不都合を説明するための図である。図
21の(a),(b)はマスタ情報担体2と検査用基板
100との吸引/圧空時の関係を模式的に示した図であ
る。
FIG. 21 is a diagram for pointing out a problem on which the proposal of the second embodiment is based. That is, it is a diagram for explaining the inconvenience caused by using the inspection substrate 100 having the same size as the magnetic disk 1. FIGS. 21A and 21B are diagrams schematically showing the relationship between the master information carrier 2 and the inspection substrate 100 during suction / pressurization.

【0157】同図(a)において、マスタ情報担体2と
第1状態の検査用基板100との密着による検査によ
り、領域G内を検査する。領域Gの外側に異物があって
も、その異物は検出されないままとなる。領域Gは、磁
気ディスク1の外形に相当している。面方向位置ずれの
最大領域と磁気ディスク外形との間のきわめて細い環状
領域すなわち極細環状領域に異物が付着しているが、領
域Gの外であるので第1状態の検査用基板100には転
写されない。
In FIG. 15A, the area G is inspected by the inspection by the close contact between the master information carrier 2 and the inspection substrate 100 in the first state. Even if there is a foreign substance outside the area G, the foreign substance remains undetected. The area G corresponds to the outer shape of the magnetic disk 1. Foreign matter adheres to an extremely thin annular area, that is, an extremely thin annular area between the maximum area of the positional deviation in the surface direction and the outer shape of the magnetic disk, but since it is outside the area G, it is transferred to the inspection substrate 100 in the first state. Not done.

【0158】次に、第1状態の検査用基板100を正規
の磁気ディスク1に交換した後、磁気転写を行った場
合、検査用基板100と正規の磁気ディスク1が同じ大
きさの場合、取り付け位置のずれにより、同図(b)に
示すように、異物が残っている検査外の部分が磁気ディ
スク1と接触することになるため、磁気ディスク1のエ
ッジが異物と当接する場合がある。かかる場合において
は、異物の近傍において、磁気ディスク1とマスタ情報
担体2の密着度が低下し、磁気ディスク1に転写される
サーボ信号の出力が低下する。その結果、読み取りエラ
ーを発生し、磁気ディスク1の回転に乱れを生じること
となる。
Next, when the inspection substrate 100 in the first state is exchanged with the regular magnetic disk 1 and then magnetic transfer is performed, if the inspection substrate 100 and the regular magnetic disk 1 have the same size, they are attached. Due to the displacement of the position, the non-inspected portion where the foreign matter remains contacts with the magnetic disk 1 as shown in FIG. 7B, so that the edge of the magnetic disk 1 may contact the foreign matter. In such a case, the degree of adhesion between the magnetic disk 1 and the master information carrier 2 is reduced in the vicinity of the foreign matter, and the output of the servo signal transferred to the magnetic disk 1 is reduced. As a result, a read error occurs and the rotation of the magnetic disk 1 is disturbed.

【0159】そこで、検査用基板100として、正規の
磁気ディスク1よりもサイズの大きなものを使用するこ
とで、図21(a)での領域Gを広くし、磁気ディスク
1と検査用基板100の取り付け位置にずれが生じて
も、磁気ディスク全面にわたって正常な磁気転写を行う
ことができ、サーボ信号出力低下を招くことなく、高品
質な磁気ディスクを製造することができる。この場合、
マスタ情報担体2と検査用基板100との密着は1回で
済む。
Therefore, by using the inspection substrate 100 having a size larger than that of the regular magnetic disk 1, the area G in FIG. 21A is widened, and the magnetic disk 1 and the inspection substrate 100 are separated. Even if the mounting position deviates, normal magnetic transfer can be performed over the entire surface of the magnetic disk, and a high-quality magnetic disk can be manufactured without lowering the servo signal output. in this case,
The master information carrier 2 and the inspection substrate 100 need only be attached once.

【0160】ところで、通常、検査用基板100として
は、正規な磁気ディスクの製造工程の途中段階のもの、
例えば実施の形態1で示したようなアルミニウム合金を
基板としたディスクを使用することが多く、サイズが等
しいため、上記効果を得るために、検査用基板100と
マスタ情報担体2の吸引/圧空時には、検査用基板10
0を偏芯させる方法を採るとよい。コスト面で有利とな
る。
By the way, normally, the inspection substrate 100 is one in the middle of the manufacturing process of a regular magnetic disk,
For example, the disk having the aluminum alloy substrate as shown in the first embodiment is often used, and since the sizes are the same, in order to obtain the above effect, when the inspection substrate 100 and the master information carrier 2 are sucked / pressurized. Inspection board 10
A method of eccentricity of 0 may be adopted. It is advantageous in terms of cost.

【0161】すなわち、図22に示すように、密着/離
間を複数回行い、密着の度にマスタ情報担体2に対し
て、第1状態の検査用基板100の密着位置をW,X,
Y,Zのように順次ずらしていけば、正規の磁気ディス
ク1を完全に含む領域について、検査を行うことができ
る。また、この方法を採ることによって、検査の精度を
さらに向上させることが可能となる。この内容について
図23〜図25を使用して説明する。
That is, as shown in FIG. 22, contact / separation is performed a plurality of times, and the contact position of the inspection substrate 100 in the first state with respect to the master information carrier 2 is W, X,
By sequentially shifting like Y and Z, it is possible to inspect an area that completely includes the regular magnetic disk 1. Further, by adopting this method, it becomes possible to further improve the accuracy of the inspection. The contents will be described with reference to FIGS. 23 to 25.

【0162】図23〜図25は、本実施の形態2におけ
る欠陥検査結果を示している。
23 to 25 show defect inspection results in the second embodiment.

【0163】図23は第1状態の検査用基板100の表
面上の欠陥を検査する工程、すなわち図12におけるS
T1の工程での欠陥検査結果を示している。
FIG. 23 is a step of inspecting defects on the surface of the inspection substrate 100 in the first state, that is, S in FIG.
The defect inspection result in the process of T1 is shown.

【0164】ST1の工程の後にST2の工程、すなわ
ち第1状態の検査用基板100の表面上に1μm以上の
異物が存在するかどうかを欠陥検査装置によって検査
し、存在しなければST3の工程である密着の工程を行
う。ST3の工程では、図2中のガイド部材16に対し
て、図22に示したW,X,Y,Zの位置に第1状態の
検査用基板100が配置されるように駆動部(図示せ
ず)を設けてある。まず、図1に示すようにマスタ情報
担体2と第1状態の検査用基板100とが離間された状
態において、第1状態の検査用基板100が図22中W
の位置に配置されるように駆動部によってガイド部材1
6を移動させる。その後、図2に示した密着を行い、再
度図1に示した離間を行う。同様に、駆動部によってガ
イド部材16を移動させて図22中Xの位置に第1状態
の検査用基板100が配置されるように切り換え、それ
ぞれ密着/離間を行い、さらにYの位置で同様にし、最
後にZの位置で同様にする。密着/離間後の検査用基板
が第2状態の検査用基板である。
After the step ST1, the step ST2, that is, the presence or absence of foreign matter of 1 μm or more on the surface of the inspection substrate 100 in the first state is inspected by the defect inspection apparatus. Perform a certain adhesion process. In the process of ST3, the drive unit (not shown) is arranged so that the inspection substrate 100 in the first state is arranged at the W, X, Y, and Z positions shown in FIG. 22 with respect to the guide member 16 in FIG. No) is provided. First, when the master information carrier 2 and the inspection board 100 in the first state are separated from each other as shown in FIG. 1, the inspection board 100 in the first state is indicated by W in FIG.
Of the guide member 1 by the drive unit so as to be arranged at the position
Move 6 Then, the close contact shown in FIG. 2 is performed, and the separation shown in FIG. 1 is performed again. Similarly, the guide member 16 is moved by the driving unit so that the inspection substrate 100 in the first state is arranged at the position X in FIG. 22, contact / separation is performed, and the same is performed at the position Y. , And finally at the Z position. The inspection substrate after contact / separation is the inspection substrate in the second state.

【0165】この方法を採ることによって、磁気ディス
ク1の密着領域を含む領域に対して第1状態の検査用基
板100をマスタ情報担体2と密着させることができ
る。つまり、磁気ディスク1との位置ずれに起因して、
マスタ情報担体2上の磁気ディスク相当領域外にある異
物が磁気ディスク1に当接するおそれのある可能性領域
Hをすべて含んでの検査が可能となっている。図22に
おいて、可能性領域Hは磁気ディスク1に対して同心円
となっている。黒い点で示す異物が散在している領域が
極細環状領域(ハッチング参照)である。
By adopting this method, the inspection substrate 100 in the first state can be brought into close contact with the master information carrier 2 in the area including the close contact area of the magnetic disk 1. That is, due to the positional deviation from the magnetic disk 1,
It is possible to perform an inspection including all the areas H where there is a possibility that foreign matter on the master information carrier 2 outside the area corresponding to the magnetic disk may come into contact with the magnetic disk 1. In FIG. 22, the possibility area H is a concentric circle with respect to the magnetic disk 1. The area shown by black dots in which foreign substances are scattered is an ultrafine annular area (see hatching).

【0166】次に、図12中のST4の工程である第2
状態の検査用基板100の表面上の欠陥を検査する工程
を行う。その結果を図24に示す。
Next, the second step which is the step ST4 in FIG.
A step of inspecting for defects on the surface of the inspection substrate 100 in the state is performed. The result is shown in FIG.

【0167】次に図12中のST5の工程であるマスタ
情報担体2が原因となる欠陥を判別する工程を行う。そ
の結果を図25に示す。この結果から明らかなように、
マスタ情報担体2の第1状態の検査用基板100への密
着を場所を変えながら4回行ったことにより、マスタ情
報担体2の表面上に存在していた異物あるいは異常突起
が原因となる欠陥を検査用基板100に複数回検出する
ことになる。このことによって、極細環状領域に存在す
る可能性のある欠陥をも確実に検査用基板100に転写
することができ、検査漏れを確実に防ぐことが可能とな
る。なお、密着位置を変更しての複数回の密着の方向に
ついては、上記の90度ごとの4回に限る必要性はな
い。例えば、45度興の回でもよいし、120度おきの
3回でも良い。
Next, the step of ST5 in FIG. 12, which is a step of determining a defect caused by the master information carrier 2, is performed. The result is shown in FIG. As is clear from this result,
By performing the adhesion of the master information carrier 2 to the inspection substrate 100 in the first state four times while changing the place, the defect caused by the foreign matter or the abnormal protrusion existing on the surface of the master information carrier 2 is eliminated. The inspection substrate 100 is to be detected a plurality of times. As a result, even a defect that may exist in the extra-fine annular region can be reliably transferred to the inspection substrate 100, and inspection omission can be reliably prevented. It is not necessary that the contact direction is changed a plurality of times by changing the contact position at every 90 degrees. For example, it may be performed 45 times or three times at intervals of 120 degrees.

【0168】以上のような方法でマスタ情報担体が原因
となる欠陥を確実に検出することによって信頼性の高い
欠陥検出方法および磁気記録再生装置を提供することが
可能となる。
By reliably detecting the defects caused by the master information carrier by the above method, it is possible to provide a highly reliable defect detection method and a magnetic recording / reproducing apparatus.

【0169】[0169]

【発明の効果】本発明によれば、そもそもがトラッキン
グサーボ等のための情報信号に相当する磁性膜パターン
が形成されているゆえに異常突起や異物などの欠陥の識
別が困難なマスタ情報担体についての欠陥検査におい
て、既述のような間接的欠陥検査となし、しかも間接的
欠陥検査に伴って新たに派生する問題点をも克服する特
異で絶妙な手法を構築することにより、磁性膜パターン
の存在ゆえに欠陥識別がもともと困難という宿命的状況
にあるマスタ情報担体について、その欠陥検査を高精度
に行うことができる。ひいては、信頼性の高い磁気記録
再生装置を実現することが可能となる。
According to the present invention, a master information carrier in which it is difficult to identify a defect such as an abnormal protrusion or a foreign substance because a magnetic film pattern corresponding to an information signal for tracking servo or the like is formed in the first place. In the defect inspection, the existence of the magnetic film pattern is achieved by constructing a unique and exquisite method that does not use the indirect defect inspection as described above and overcomes the problems newly derived from the indirect defect inspection. Therefore, it is possible to perform the defect inspection with high accuracy on the master information carrier in a fatal situation where the defect identification is originally difficult. As a result, it is possible to realize a highly reliable magnetic recording / reproducing device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1におけるマスタ情報担体
と磁気ディスクが離間しているときの状態を示す図
FIG. 1 is a diagram showing a state in which a master information carrier and a magnetic disk are separated from each other according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1におけるマスタ情報担体
2磁気ディスクが密着しているときの状態を示す図
FIG. 2 is a diagram showing a state in which a master information carrier 2 and a magnetic disk according to Embodiment 1 of the present invention are in close contact with each other.

【図3】本発明の実施の形態1におけるマスタ情報担体
の磁気ディスクとの接触面を示す図
FIG. 3 is a diagram showing a contact surface of a master information carrier with a magnetic disk according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態1におけるボスの形状を示
す図
FIG. 4 is a diagram showing a shape of a boss according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態1における密着空間におい
ての経過時間と気圧との関係を示す図
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between elapsed time and atmospheric pressure in a close contact space according to the first embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態1におけるマスタ情報担体
の一例の平面を模式的に示す図
FIG. 6 is a diagram schematically showing a plane of an example of a master information carrier according to the first embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態1における図6のF部の拡
大図
FIG. 7 is an enlarged view of part F in FIG. 6 according to Embodiment 1 of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態1における図6、図7に示
した領域の一部断面図
FIG. 8 is a partial cross-sectional view of the region shown in FIGS. 6 and 7 according to the first embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態1における初期化を示す図FIG. 9 is a diagram showing initialization in the first embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施の形態1における磁気転写を示
す図
FIG. 10 is a diagram showing magnetic transfer according to the first embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施の形態1における磁化処理時の
様子を示す図
FIG. 11 is a diagram showing a state during magnetization processing according to the first embodiment of the present invention.

【図12】本発明の実施の形態1における欠陥検査工程
のフローチャートを示す図
FIG. 12 is a diagram showing a flowchart of a defect inspection process in the first embodiment of the present invention.

【図13】本発明の実施の形態1における欠陥検査装置
を示す図
FIG. 13 is a diagram showing a defect inspection apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図14】本発明の実施の形態1におけるST1の工程
での欠陥検査結果を示す図
FIG. 14 is a diagram showing a defect inspection result in the step ST1 in the first embodiment of the present invention.

【図15】本発明の実施の形態1におけるST4の工程
での欠陥検査結果を示す図
FIG. 15 is a diagram showing a defect inspection result in the step ST4 in the first embodiment of the present invention.

【図16】本発明の実施の形態1におけるマスタ情報担
体が原因となる欠陥を判別する工程のフローチャートを
示す図
FIG. 16 is a diagram showing a flowchart of a process of determining a defect caused by the master information carrier according to the first embodiment of the present invention.

【図17】本発明の実施の形態1における同一の検査用
基板に対して連続で20回測定を行ったときの各種欠陥
の重心位置を示す図
FIG. 17 is a diagram showing barycentric positions of various defects when the same inspection substrate according to the first embodiment of the present invention is continuously measured 20 times.

【図18】本発明の実施の形態1における正反射光受光
系の受光素子で検出された欠陥において回転位相ずれ量
が10°以内かつ位置ずれ量が0.5mm以内である欠
陥を列挙した結果を示す図
FIG. 18 is a result of listing defects having a rotational phase shift amount of 10 ° or less and a positional shift amount of 0.5 mm or less among the defects detected by the light receiving element of the regular reflection light receiving system according to the first embodiment of the present invention. Showing

【図19】本発明の実施の形態1における引き算を行っ
た結果を示す図
FIG. 19 is a diagram showing a result of subtraction according to the first embodiment of the present invention.

【図20】本発明の実施の形態1における正反射光受光
系の受光素子で検出された窪みの欠陥の出力と磁気ディ
スク/ヘッド間距離との関係を示す図
FIG. 20 is a diagram showing the relationship between the output of a defect in a dent detected by the light receiving element of the regular reflection light receiving system and the magnetic disk / head distance according to the first embodiment of the present invention.

【図21】本発明の実施の形態2におけるマスタ情報担
体と検査用基板との密着時の関係を模式的に示す図
FIG. 21 is a diagram schematically showing the relationship when the master information carrier and the inspection substrate according to Embodiment 2 of the present invention are in close contact with each other.

【図22】本発明の実施の形態2におけるマスタ情報担
体に対する検査用基板の密着位置を示す図
FIG. 22 is a diagram showing a contact position of the inspection substrate with respect to the master information carrier according to the second embodiment of the present invention.

【図23】本発明の実施の形態2におけるST1の工程
での欠陥検査結果を示す図
FIG. 23 is a diagram showing a defect inspection result in the step ST1 in the second embodiment of the present invention.

【図24】本発明の実施の形態2におけるST4の工程
での欠陥検査結果を示す図
FIG. 24 is a diagram showing a defect inspection result in the process of ST4 in the second embodiment of the present invention.

【図25】本発明の実施の形態2における引き算を行っ
た結果を示す図
FIG. 25 is a diagram showing a result of subtraction according to the second embodiment of the present invention.

【図26】従来の磁気転写後の磁気ディスク表面観察結
果を示す図
FIG. 26 is a view showing a result of observing a magnetic disk surface after conventional magnetic transfer.

【図27】従来の磁気ディスクの陥没部の断面図FIG. 27 is a sectional view of a depressed portion of a conventional magnetic disk.

【図28】従来の磁気転写方法によって磁気転写を行っ
た後の磁気記録媒体全体の表面の突起の状態を光学的に
測定した結果を示す図
FIG. 28 is a diagram showing a result of optically measuring the state of protrusions on the entire surface of the magnetic recording medium after magnetic transfer is performed by a conventional magnetic transfer method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 マスタ情報担体 100 検査用基板 101 レーザー送光系 102 正反射光受光系 103 散乱光受光系 104 データ処理装置 ST1 第1状態の検査用基板の表面上の欠陥を検査
する工程 ST2 第1状態の検査用基板の表面上の異物を検査
する工程 ST3 密着をする工程 ST4 第2状態の検査用基板の表面上の欠陥を検査
する工程 ST5 マスタ情報担体が原因となる欠陥を判別する
工程
2 master information carrier 100 inspection substrate 101 laser light transmission system 102 specular reflection light reception system 103 scattered light reception system 104 data processing device ST1 step ST2 for inspecting defects on the surface of the inspection substrate in the first state ST2 in the first state Step ST3 of inspecting for foreign matter on the surface of the inspection substrate ST3 Step of adhering ST4 Step of inspecting defects on the surface of the inspection substrate in the second state ST5 Step of discriminating defects caused by the master information carrier

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開2001−176065(JP,A) 特開2002−269739(JP,A) 特開2001−307323(JP,A) 特開2001−357523(JP,A) 特開2001−167434(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/84 G11B 5/86 G01N 21/95 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) References JP 2001-176065 (JP, A) JP 2002-269739 (JP, A) JP 2001-307323 (JP, A) JP 2001-357523 (JP, A) JP 2001-167434 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 5/84 G11B 5/86 G01N 21/95

Claims (19)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 磁気記録媒体に対して磁気転写すべき情
報信号相当の磁性膜パターンを有するマスタ情報担体の
欠陥検査方法であって、 前記マスタ情報担体上の欠陥を転写すべき第1状態の検
査用基板について、この第1状態の検査用基板上に元か
ら存在する可能性のある欠陥を検査する工程と、 前記欠陥検査済みの第1状態の検査用基板に対して前記
マスタ情報担体を密着させ、前記マスタ情報担体上に存
在する可能性のある欠陥を前記欠陥検査済みの検査用基
板に対して転写させる工程と、 前記マスタ情報担体から離間した前記欠陥転写相当の第
2状態の検査用基板について、この第2状態の検査用基
板上の欠陥を検査する工程と、 前記第2状態の検査用基板についての欠陥検査結果と前
記第1状態の検査用基板についての欠陥検査結果との比
較を通じて前記マスタ情報担体上に存在する可能性のあ
る欠陥を判別する工程とを含むことを特徴とするマスタ
情報担体の欠陥検査方法。
1. A method for inspecting a defect of a master information carrier having a magnetic film pattern corresponding to an information signal to be magnetically transferred to a magnetic recording medium, wherein the defect on the master information carrier is in a first state. A step of inspecting a defect that may originally exist on the inspection substrate in the first state, and a master information carrier for the defect-inspected inspection substrate in the first state. A step of closely contacting and transferring a defect that may exist on the master information carrier to the inspection substrate for which the defect inspection has been completed; and an inspection of a second state corresponding to the defect transfer separated from the master information carrier. The inspection board for defects in the second state, the defect inspection result for the inspection board in the second state, and the defect inspection result for the inspection board in the first state. Defect inspection method of the master information carrier which comprises a step of determining a defect that may be present in the master information on a carrier by comparing with.
【請求項2】 前記密着の工程の前に、前記第1状態の
検査用基板についての欠陥検査の工程と、前記密着の工
程との間に、前記第1状態の検査用基板についての欠陥
検査における欠陥の個数または欠陥の大きさが所定値以
下であるか否かを検査し、所定値を超えるときは処理を
中断し、所定値以下のときは前記密着の工程に進む工程
が追加されていることを特徴とする請求項1に記載のマ
スタ情報担体の欠陥検査方法。
2. A defect inspection for the inspection substrate in the first state between the defect inspection process for the inspection substrate in the first state before the adhesion process and the adhesion process. Inspecting whether the number of defects or the size of the defects is less than or equal to a predetermined value, when the value exceeds a predetermined value, the process is interrupted, and when the value is less than or equal to the predetermined value, a step of advancing to the adhesion step is added The defect inspection method for a master information carrier according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記密着の工程の前に、前記第1状態の
検査用基板についての欠陥検査の工程と、前記密着の工
程との間に、前記第1状態の検査用基板についての欠陥
検査において、所定値以上の大きさの欠陥の有無を検査
し、所定数以上の欠陥が存在するときは処理を中断し、
存在しないときは前記密着の工程に進む工程が追加され
ていることを特徴とする請求項1に記載のマスタ情報担
体の欠陥検査方法。
3. A defect inspection for the inspection substrate in the first state between a defect inspection process for the inspection substrate in the first state before the adhesion process and the adhesion process. In, inspect for the presence of defects of a predetermined value or more, if there are more than a predetermined number of defects, interrupt the process,
The method of inspecting a defect of a master information carrier according to claim 1, wherein a step of advancing to the step of adhering is added when the step does not exist.
【請求項4】 前記所定値が1μmである請求項3に記
載のマスタ情報担体の欠陥検査方法。
4. The defect inspection method for a master information carrier according to claim 3, wherein the predetermined value is 1 μm.
【請求項5】 前記第1状態の検査用基板についての欠
陥検査の工程は、欠陥検査手段に対する前記第1状態の
検査用基板の回転位相を測定する作業を含み、 前記第2状態の検査用基板についての欠陥検査の工程
は、欠陥検査手段に対する前記第2状態の検査用基板の
回転位相を測定する作業を含み、 前記比較を通じてのマスタ情報担体上の欠陥判別の工程
は、前記比較の作業の前に、前記2つの回転位相のずれ
を補正する作業を含むことを特徴とする請求項1から請
求項4までのいずれかに記載のマスタ情報担体の欠陥検
査方法。
5. The step of inspecting the inspection substrate in the first state includes a work of measuring a rotational phase of the inspection substrate in the first state with respect to a defect inspection means, and the inspection state in the second state. The step of defect inspection on the substrate includes an operation of measuring the rotation phase of the inspection substrate in the second state with respect to the defect inspection means, and the step of defect determination on the master information carrier through the comparison is the operation of the comparison. 5. The defect inspection method for a master information carrier according to claim 1, further comprising the step of correcting the shift between the two rotation phases.
【請求項6】 前記回転位相の補正において、前記検査
用基板に光を照射したときの前記検査用基板からの正反
射光の検知に基づいて検出した欠陥の回転位相について
補正を行うことを特徴とする請求項5に記載のマスタ情
報担体の欠陥検査方法。
6. The correction of the rotational phase, wherein the rotational phase of a defect detected based on the detection of specular reflection light from the inspection substrate when the inspection substrate is irradiated with light is corrected. The defect inspection method for a master information carrier according to claim 5.
【請求項7】 前記回転位相の補正において、前記検査
用基板に光を照射したときの前記検査用基板からの散乱
光の検知に基づいて検出した欠陥の回転位相について補
正を行うことを特徴とする請求項5に記載のマスタ情報
担体の欠陥検査方法。
7. The rotational phase is corrected by correcting the rotational phase of a defect detected based on detection of scattered light from the inspection substrate when the inspection substrate is irradiated with light. The defect inspection method for a master information carrier according to claim 5.
【請求項8】 前記回転位相の補正において、前記検査
用基板に光を照射したときの前記検査用基板からの正反
射光の検知または散乱光の検知に基づいて検出した欠陥
の回転位相について補正を行うようにし、かつ、前記正
反射光の検知の欠陥の回転位相補正を優先することを特
徴とする請求項5に記載のマスタ情報担体の欠陥検査方
法。
8. In the correction of the rotational phase, the rotational phase of a defect detected based on detection of specularly reflected light or scattered light from the inspection substrate when the inspection substrate is irradiated with light is corrected. 6. The method for inspecting a defect of a master information carrier according to claim 5, characterized in that the rotation phase correction of the defect of the detection of the specular reflection light is prioritized.
【請求項9】 前記第1状態の検査用基板についての欠
陥検査の工程は、前記第1状態の検査用基板上の欠陥の
個数をカウントするものであり、 前記第2状態の検査用基板についての欠陥検査の工程
は、前記第2状態の検査用基板上の欠陥の個数をカウン
トするものであり、 前記比較を通じてのマスタ情報担体上の欠陥判別の工程
は、前記第1状態の検査用基板についての欠陥カウント
数と前記第2状態の検査用基板についての欠陥カウント
数との異同の判断を行い、同一のときはマスタ情報担体
において欠陥なしと判別し、異なるときは欠陥ありと判
別するものである請求項1から請求項8までのいずれか
に記載のマスタ情報担体の欠陥検査方法。
9. The defect inspection step for the inspection substrate in the first state counts the number of defects on the inspection substrate in the first state, and for the inspection substrate in the second state. The step of defect inspection is to count the number of defects on the inspection substrate in the second state, and the step of defect determination on the master information carrier through the comparison is the inspection substrate in the first state. And the defect count of the inspection substrate in the second state are judged to be the same. If they are the same, it is judged that there is no defect in the master information carrier, and if they are different, it is judged that there is a defect. The defect inspection method for a master information carrier according to any one of claims 1 to 8.
【請求項10】 前記第1状態の検査用基板についての
欠陥検査の工程は、前記第1状態の検査用基板上の欠陥
の位置情報を抽出するものであり、 前記第2状態の検査用基板についての欠陥検査の工程
は、前記第2状態の検査用基板上の欠陥の位置情報を抽
出するものであり、 前記比較を通じてのマスタ情報担体上の欠陥判別の工程
は、前記第1状態の検査用基板についての欠陥の位置情
報と前記第2状態の検査用基板についての欠陥の位置情
報との異同の判断を行い、同一のときはマスタ情報担体
において欠陥なしと判別し、異なるときは欠陥ありと判
別するものである請求項1から請求項8までのいずれか
に記載のマスタ情報担体の欠陥検査方法。
10. The defect inspection step for the inspection substrate in the first state is to extract positional information of a defect on the inspection substrate in the first state, and the inspection substrate in the second state. In the defect inspection step for extracting defect position information on the inspection substrate in the second state, and the defect determination step on the master information carrier through the comparison is performed in the first state inspection step. It is determined whether the position information of the defect regarding the inspection substrate and the position information of the defect regarding the inspection substrate in the second state are the same. If they are the same, it is determined that there is no defect in the master information carrier, and if they are different, there is a defect. The method for inspecting a defect of a master information carrier according to any one of claims 1 to 8, which is a method for determining a defect.
【請求項11】 前記検査用基板の全領域を多数に区画
した微小な単位領域の複数領域にわたって連続して欠陥
判別したときには、その連続する複数の単位領域を1つ
の領域とみなして、そのみなし領域の重心またはその近
傍を1つの欠陥の位置情報とすることを特徴とする請求
項10に記載のマスタ情報担体の欠陥検査方法。
11. When a defect is continuously judged over a plurality of minute unit areas in which the entire area of the inspection substrate is divided into a large number, the continuous plurality of unit areas are regarded as one area, and are regarded as one area. 11. The defect inspection method for a master information carrier according to claim 10, wherein the center of gravity of the area or its vicinity is used as the position information of one defect.
【請求項12】 前記検査用基板として、前記マスタ情
報担体との密着のときの面方向位置ずれを考慮して、そ
の面方向位置ずれの最大領域相当以上の大きさのものを
用いることを特徴とする請求項1から請求項11までの
いずれかに記載のマスタ情報担体の欠陥検査方法。
12. The inspection substrate is a substrate having a size corresponding to a maximum area of the surface misregistration in consideration of the surface misalignment when the master information carrier is in close contact with the master information carrier. The defect inspection method for a master information carrier according to any one of claims 1 to 11.
【請求項13】 前記検査用基板として、前記磁気記録
媒体とほぼ同じ大きさのものを用いるとともに、前記マ
スタ情報担体と前記検査用基板との密着において、前記
マスタ情報担体との密着のときの面方向位置ずれを考慮
して、その面方向位置ずれの前記マスタ情報担体におけ
る最大領域の全体に対して前記磁気記録媒体とほぼ同じ
大きさの検査用基板が密着するように、前記マスタ情報
担体と前記検査用基板との密着位置を変更して両者の密
着を複数回行うことを特徴とする請求項1から請求項1
1までのいずれかに記載のマスタ情報担体の欠陥検査方
法。
13. The inspection substrate having substantially the same size as the magnetic recording medium is used, and when the master information carrier and the inspection substrate are in close contact with each other, when the master information carrier is in close contact with the master information carrier. In consideration of the positional deviation in the surface direction, the master information carrier is arranged so that the inspection substrate having substantially the same size as the magnetic recording medium comes into close contact with the entire maximum area of the master information carrier having the positional deviation in the surface direction. The contact position between the inspection substrate and the inspection substrate is changed so that the both are adhered a plurality of times.
1. A method for inspecting a defect of a master information carrier according to any one of 1 to 1.
【請求項14】 前記検査用基板として、前記磁気記録
媒体の構成主成分を主成分とする材料で構成されている
ものを用いることを特徴とする請求項1から請求項13
までのいずれかに記載のマスタ情報担体の欠陥検査方
法。
14. The inspection substrate, which is made of a material whose main component is a main component of the magnetic recording medium, is used.
A method for inspecting a defect of a master information carrier as described in any one of 1 above.
【請求項15】 前記検査用基板として、その硬度が前
記マスタ情報担体の硬度よりも低いものを用いることを
特徴とする請求項1から請求項14までのいずれかに記
載のマスタ情報担体の欠陥検査方法。
15. The defect of the master information carrier according to any one of claims 1 to 14, wherein the inspection substrate has a hardness lower than that of the master information carrier. Inspection method.
【請求項16】 前記検査用基板として、前記磁気記録
媒体において塗布される潤滑剤については、これを省略
したものを用いることを特徴とする請求項1から請求項
15までのいずれかに記載のマスタ情報担体の欠陥検査
方法。
16. The inspection substrate according to claim 1, wherein the lubricant applied on the magnetic recording medium is the lubricant omitted. Defect inspection method for master information carrier.
【請求項17】 前記検査用基板として、密着側の表面
が磁化されているものを用いることを特徴とする請求項
1から請求項16までのいずれかに記載のマスタ情報担
体の欠陥検査方法。
17. The defect inspection method for a master information carrier according to claim 1, wherein the inspection substrate has a magnetized surface on the contact side.
【請求項18】 上記請求項1から請求項17までのい
ずれかに記載のマスタ情報担体の欠陥検査方法によって
欠陥検査され良品と判別されたマスタ情報担体を用い
て、前記マスタ情報担体における前記磁性膜パターンに
よる情報信号を磁気記録媒体に磁気転写する方法であっ
て、 前記マスタ情報担体の前記磁性膜パターンが形成された
側の表面を前記磁気記録媒体に密着させ、外部磁界を印
加することによって前記磁気記録媒体に前記マスタ情報
担体の磁性膜パターンによる情報信号を磁気転写するこ
とを特徴とするマスタ情報担体利用の磁性膜パターン磁
気転写方法。
18. The magnetic property in the master information carrier is obtained by using the master information carrier which has been defect-inspected by the defect inspection method of the master information carrier according to any one of claims 1 to 17 and which is determined to be non-defective. A method of magnetically transferring an information signal according to a film pattern onto a magnetic recording medium, wherein the surface of the master information carrier on which the magnetic film pattern is formed is brought into close contact with the magnetic recording medium, and an external magnetic field is applied. A magnetic film pattern magnetic transfer method using a master information carrier, wherein an information signal based on the magnetic film pattern of the master information carrier is magnetically transferred to the magnetic recording medium.
【請求項19】 上記請求項1から請求項17までのい
ずれかに記載のマスタ情報担体の欠陥検査方法によって
欠陥検査され良品と判別されたマスタ情報担体を用い
て、前記マスタ情報担体における前記磁性膜パターンに
よる情報信号を前記磁気記録媒体に磁気転写する方法で
あって、 前記マスタ情報担体の前記磁性膜パターンをあらかじめ
磁化しておき、前記マスタ情報担体の前記磁化済みの磁
性膜パターンが形成された側の表面を前記磁気記録媒体
に密着させることによって前記磁気記録媒体に前記マス
タ情報担体の磁性膜パターンによる情報信号を磁気転写
することを特徴とするマスタ情報担体利用の磁性膜パタ
ーン磁気転写方法。
19. The magnetic property of the master information carrier is determined by using the master information carrier which has been defect-inspected by the defect inspection method of the master information carrier according to any one of claims 1 to 17 and which has been determined to be non-defective. A method of magnetically transferring an information signal according to a film pattern onto the magnetic recording medium, wherein the magnetic film pattern of the master information carrier is magnetized in advance to form the magnetized magnetic film pattern of the master information carrier. A magnetic film pattern magnetic transfer method using a master information carrier, characterized in that an information signal based on the magnetic film pattern of the master information carrier is magnetically transferred to the magnetic recording medium by bringing the surface of the other side into close contact with the magnetic recording medium. .
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