JP3451069B2 - Production and apparatus of alkylmonohydrohalosilane by redistribution reaction and then distillation - Google Patents
Production and apparatus of alkylmonohydrohalosilane by redistribution reaction and then distillationInfo
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-
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Description
【0001】本発明は、有機珪素化学において特に高く
評価されている出発物質であるアルキルモノヒドロシラ
ンの製造に関する。さらに詳しくは、本発明は、直接合
成から生成しても又は生成しなくてもよいハロゲン化シ
ランの間のアルキル置換基とハロゲン置換基との二重交
換(又は再分配)反応の結果として得られる複雑な混合
物内のこれらのアルキルモノヒドロハロシラン(AHH
S)(これらのシランの少なくとも1種はヒドロシラン
である)の分離に関する。この分離は蒸留によって行わ
れるが、本発明は特にこの段階を改良することにある。The present invention relates to the preparation of alkyl monohydrosilanes, a starting material which has been particularly valued in organosilicon chemistry. More particularly, the present invention results from a double exchange (or redistribution) reaction of alkyl and halogen substituents between halogenated silanes that may or may not result from direct synthesis. Of these alkyl monohydrohalosilanes (AHH
S) (at least one of these silanes is a hydrosilane). This separation is carried out by distillation, the invention lies in particular in improving this step.
【0002】限定するわけではないが、本発明は、塩素
化されたアルキルヒドロシラン又は塩素化されていても
よいアルキルシランからの再分配反応により生成したジ
アルキルヒドロクロルシランを精製することを特に目標
とする。このモノ−及びジアルキルヒドロクロルシラン
は、非常に多種多様な用途において、例えば有機珪素単
量体又はそれよりも縮合した基礎化合物の製造において
特に価値のある合成材料である。The present invention is particularly, but not exclusively, aimed at purifying dialkylhydrochlorosilanes produced by redistribution reactions from chlorinated alkylhydrosilanes or optionally chlorinated alkylsilanes. To do. The mono- and dialkylhydrochlorosilanes are synthetic materials of particular value in a very wide variety of applications, for example in the preparation of organosilicon monomers or more condensed base compounds.
【0003】この再分配反応のための出発物質は、直接
合成により得られる。この技術は、塩化アルキルを珪素
と銅触媒の存在下に反応させてアルキルクロルシランを
形成させることからなる。この合成の主たる生成物は、
ジアルキルジクロルシランである。その他の共生成物
は、モノアルキルヒドロジクロルシラン、ジアルキルヒ
ドロクロルシラン、トリアルキルクロルシラン及びアル
キルトリクロルシランである。The starting material for this redistribution reaction is obtained by direct synthesis. This technique consists of reacting an alkyl chloride with silicon in the presence of a copper catalyst to form an alkylchlorosilane. The main product of this synthesis is
It is a dialkyldichlorosilane. Other co-products are monoalkylhydrodichlorosilanes, dialkylhydrochlorosilanes, trialkylchlorosilanes and alkyltrichlorosilanes.
【0004】直接合成により生成した反応混合物から蒸
留によってモノ−及びジアルキルヒドロクロルシランを
単離することを想定することは可能であったであろう。
しかし、このモノ−及びジアルキルヒドロクロルシラン
が直接合成の少量の共生成物である限りにおいて、それ
らを得るためのこの方法は有益でないことは明らかであ
る。It would have been possible to envisage isolating the mono- and dialkylhydrochlorosilanes from the reaction mixture produced by the direct synthesis by distillation.
However, as long as the mono- and dialkylhydrochlorosilanes are minor co-products of the direct synthesis, it is clear that this method of obtaining them is not beneficial.
【0005】当然の結果として、モノ−及びジアルキル
クロルシラン(例えば、Me2HSiCl)を生成させ
るためには、本発明に従い、これらの生成物を、アルキ
ルヒドロジクロルシランとトリアルキルクロルシランと
の間又はアルキルヒドロジクロルシランとテトラアルキ
ルシランとの間の再分配反応から生じる粗製混合物から
回収することが好ましいことになる。珪素のアルキル、
塩素及び水素置換基の間の再分配反応は、ルイス酸のよ
うな触媒の存在下に実施される。As a corollary, in order to produce mono- and dialkylchlorosilanes (eg Me 2 HSiCl), according to the invention, these products are combined with alkylhydrodichlorosilanes and trialkylchlorosilanes. It would be preferable to recover from the crude mixture resulting from the redistribution reaction between the alkylhydrodichlorosilane and the tetraalkylsilane. Alkyl of silicon,
The redistribution reaction between chlorine and hydrogen substituents is carried out in the presence of a catalyst such as a Lewis acid.
【0006】なお、本発明を通じて、Meは1価の基C
H3を表わす。In the present invention, Me is a monovalent group C
Represents H 3 .
【0007】フランス特許FR−A−2,119,47
7号は、再分配反応によるジアルキルヒドロクロルシラ
ンの製造のためのこの技術の良い例を示している。この
特許に開示された方法は、メチルヒドロジクロルシラン
とトリメチルクロルシランとを0.5程度のMeHSi
Cl2/Me3SiClのモル比でAlCl3よりなる触
媒の存在下に反応させることからなる。反応混合物が反
応器内に3〜5×105Paの自然発生圧力下に置かれ
る。反応は、85〜170℃の温度で数時間行われる。
この再分配反応は、Me2HSiClと多くの副生成物
を生じる。再分配が完了すると、Me2HSiClの分
離収率は、これがほぼ71%でピークとなるので、異常
に低いことが明らかとなる。このような結果は、工業的
な有益性に関して不満足なものと見なさなければならな
い。French patent FR-A-2,119,47
No. 7 gives a good example of this technique for the production of dialkylhydrochlorosilanes by redistribution reaction. The method disclosed in this patent uses methylhydrodichlorosilane and trimethylchlorosilane as much as 0.5 MeHSi.
It consists of reacting in the presence of a catalyst consisting of AlCl 3 in a molar ratio Cl 2 / Me 3 SiCl. The reaction mixture is placed in the reactor under autogenous pressure of 3-5 × 10 5 Pa. The reaction is carried out at a temperature of 85 to 170 ° C. for several hours.
This redistribution reaction produces Me 2 HSiCl and many by-products. When the redistribution is complete, the separation yield of Me 2 HSiCl becomes unusually low, as it peaks at approximately 71%. Such results must be regarded as unsatisfactory with respect to industrial benefit.
【0008】当業界のこの状態を改善するために、19
96年6月12日付けのフランス特許出願第96075
69号(まだ、公開されていない)によって、再分配触
媒が考慮中の反応においてその役割を果たしたならばす
ぐにその触媒の禁止を採用することが提案がなされた。
この提案は、再分配反応中にAlCl3触媒により誘発
される妨害性の現象、即ち、精製しようと望む塩素化ジ
アルキル(メチル)ヒドロシランの不均化反応を減少さ
せ、事実除去することさえ可能にさせる。このような不
均化現象はMe2HSiClの収率にとって全く有害で
あることは明らかである。この改善で提供される禁止剤
は、流体又は樹脂形態で提供され且つアルコキシル化さ
れていてよいポリオルガノシロキサン又は(ポリ)シラ
ンである。触媒の金属/禁止剤酸素のモル比は、0.9
以下である値の範囲内で選択される。To improve this situation in the industry, 19
French patent application No. 96075 dated June 12, 1996
No. 69 (still unpublished) proposed to adopt a ban on the redistribution catalyst as soon as it played its role in the reaction under consideration.
This proposal makes it possible to reduce and even eliminate the disturbing phenomenon induced by the AlCl 3 catalyst during the redistribution reaction, ie the disproportionation reaction of the chlorinated dialkyl (methyl) hydrosilanes one wishes to purify. Let It is clear that such a disproportionation phenomenon is quite detrimental to the yield of Me 2 HSiCl. The inhibitors provided in this improvement are polyorganosiloxanes or (poly) silanes provided in fluid or resin form and which may be alkoxylated. The catalyst metal / inhibitor oxygen molar ratio is 0.9.
It is selected within the following range of values.
【0009】これらの改善は、ジアルキルヒドロクロル
シランの収率を優位に増大させることを可能にさせた。
しかして、再分配反応後には、妨害的な不均化が一掃さ
れるので、ジアルキルヒドロハロシラン(例えば、Me
2HSiCl)に富む再分配反応生成物の混合物からな
る蒸留物が得られる。しかし、粗製の再分配反応混合物
から蒸留によりアルキルヒドロハロシランを単離しよう
と試みると、AHHS(Me2HSiCl)の相当な損
失が認められる。These improvements made it possible to significantly increase the yield of dialkylhydrochlorosilanes.
Thus, after the redistribution reaction, interfering disproportionation is cleared, so that dialkylhydrohalosilanes (eg Me
A distillate is obtained which consists of a mixture of redistribution reaction products rich in ( 2 HSiCl). However, when attempting to isolate the alkylhydrohalosilane from the crude redistribution reaction mixture by distillation, a considerable loss of AHHS (Me 2 HSiCl) is observed.
【0010】再分配反応中のモノ−又はジアルキルヒド
ロクロルシランの損失というこの技術的な問題に直面し
て、本出願人は、その解決を本発明の必須の目的として
設定した。本発明の他の必須の目的は、上記の目的とし
た問題点を解決し且つ使用するのが特に簡単で経済的で
あるアルキルモノヒドロハロシラン(例えば、Me2H
SiCl又はMeHSiCl2)の製造方法を提供する
ことである。さらに、本発明の他の必須の目的は、上記
の目的とした問題点を解決し且つ特にこれらの物質を高
レベルの純度で得るのを可能にさせるアルキルモノヒド
ロハロシラン(例えば、Me2HSiCl又はMeHS
iCl2)の製造方法を提供することである。Faced with this technical problem of loss of mono- or dialkylhydrochlorosilanes during the redistribution reaction, the Applicant has set the solution as an essential objective of the present invention. Another essential aim of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to use alkylmonohydrohalosilanes (for example Me 2 H) which are particularly simple and economical to use.
It is to provide a method for producing SiCl or MeHSiCl 2 ). Furthermore, another essential object of the invention is to solve the above-mentioned problems and in particular to allow alkyl monohydrohalosilanes (for example Me 2 HSiCl) to be obtained with high levels of purity. Or MeHS
It is to provide a method for producing iCl 2 ).
【0011】これらの目的が達成できるようにするため
に、本出願人は、アルキルモノヒドロクロルシランの製
造方法を使用することに、さらに詳しくはこの方法の特
徴的な蒸留段階に特異的である問題点を立証することを
認識した。なぜならば、本出願人は、蒸留塔がアルミニ
ウム含有物質(これは塩化アルミニウム及び(又は)有
機アルミニウム化合物及び(又は)珪素/アルミニウム
化合物及び(又は)有機珪素/アルミニウム化合物であ
り得る)の微量の存在のためにアルキルモノヒドロクロ
ルシランの望ましくない反応の部位であり得ることを示
すことができたからである。これらの微量のアルミニウ
ム含有物質(例えば、AlCl3)は、再分配反応生成
物から塩素化されていてよいオルガノシラン及びオルガ
ノヒドロシラン型の副生成物への転化を促進させる。し
かして、それは、例えば、Me2HSiClがこの妨害
性の不均化のためにMe2SiH2及びMe2SiCl2に
転化されることである。後者がオルガノヒドロハロシラ
ン(AHHS)の製造方法のこの分離段階を激しく妨害
することが明らかである。In order to be able to achieve these objects, the Applicant is specific to using a process for the preparation of alkylmonohydrochlorosilanes, and more particularly to the characteristic distillation step of this process. I realized I would prove the problem. The Applicant has found that the distillation column may use trace amounts of aluminum-containing substances, which may be aluminum chloride and / or organoaluminum compounds and / or silicon / aluminium compounds and / or organosilicon / aluminium compounds. It could be shown that it could be the site of undesired reaction of the alkyl monohydrochlorosilanes due to its presence. These traces of aluminum-containing materials (eg AlCl 3 ) promote the conversion of redistribution reaction products to optionally chlorinated organosilane and organohydrosilane type byproducts. Thus, for example, Me 2 HSiCl is converted to Me 2 SiH 2 and Me 2 SiCl 2 due to this disturbing disproportionation. It is clear that the latter severely interferes with this separation step of the process for producing organohydrohalosilanes (AHHS).
【0012】本出願の進歩性は、技術的な問題を最新化
することに加えて、適当な温度範囲可変因子を選定し及
びAHHSと共に蒸留回路に存在して後者の不均化触媒
として作用できる化合物を失活させることからなる条件
を開発することによって補われ、強化された。当然のこ
ととして、本発明は、少なくとも1種のルイス酸により
接触させる不均化反応を受け易いアルキルモノヒドロハ
ロシラン(AHHS)を製造するための工業的で経済的
な方法に関し、この方法は次の必須の段階:
(a)式(1):(R)a(H)bSiX4-a-bの少なく
とも1種の第一化合物と式(2):(R’)cSiX4-c
の第二化合物(これらの式(1)及び(2)において、
a=0、1、2又は3であり、b=1、2又は3であ
り、c=1、2、3又は4であり、a+b≦であり、R
及びR’は互いに同一及び(又は)異なっていて、アル
キル及び(又は)アリール(好ましくは、メチル、エチ
ル、プロピル又はフェニル)から選択され、X置換基は
互いに同一及び(又は)異なっていて、ハロゲン、好ま
しくはClに相当し、ただし、式(1)及び(2)の2
種の化合物の少なくとも一つに少なくとも1個のX原子
が存在するものとする)との間の再分配反応(該再分配
反応はルイス酸から、好ましくはハロゲン化金属及び
(又は)硼酸金属から、さらに好ましくはAlCl3、
ZrCl4、KAlCl4、CuCl、H3BO3及びBF
3よりなる群から選択される触媒の存在下に行なわれ
る)、
(b)反応混合物への再分配反応触媒の禁止剤の少なく
とも1種の導入、
(c)粗製の再分配反応混合物(a)中に形成されたア
ルキルモノヒドロシランの好ましくは蒸留による分離及
び収集を含むタイプのものであり、
・段階(c)に関して、粗製反応混合物が少なくとも1
基の蒸留塔を伴う蒸留処理に付されること、・蒸
留回路の少なくとも一部分には、形成されたAHH
SがこのAHHSに関して再分配反応触媒として挙動し
得る物質の禁止剤の少なくとも1種の存在下に存在する
ことを特徴とするものである。In addition to modernizing the technical problem, the inventive step of the present application is that it can act as a disproportionation catalyst for the latter by selecting the appropriate temperature range variable and being present in the distillation circuit with AHHS. It was supplemented and enhanced by developing conditions that consisted of quenching the compound. Naturally, the present invention relates to an industrial and economical process for preparing alkyl monohydrohalosilanes (AHHS) which are susceptible to disproportionation reactions which are contacted by at least one Lewis acid. The following essential steps are: (a) Formula (1): (R) a (H) b At least one first compound of SiX 4-ab and formula (2): (R ′) c SiX 4-c.
A second compound (in these formulas (1) and (2),
a = 0, 1, 2 or 3, b = 1, 2 or 3, c = 1, 2, 3 or 4, a + b ≦, R
And R ′ are the same and / or different from each other and are selected from alkyl and / or aryl (preferably methyl, ethyl, propyl or phenyl), the X substituents are the same and / or different from each other, Corresponds to halogen, preferably Cl, provided that 2 of formulas (1) and (2)
A redistribution reaction with at least one X atom in at least one of the compounds of the species, said redistribution reaction being from a Lewis acid, preferably a metal halide and / or a metal borate. , More preferably AlCl 3 ,
ZrCl 4 , KAlCl 4 , CuCl, H 3 BO 3 and BF
Performed in the presence of a catalyst selected from the group consisting of 3 ), (b) introduction of at least one inhibitor of the redistribution reaction catalyst into the reaction mixture, (c) crude redistribution reaction mixture (a) Of the alkyl monohydrosilane formed therein, preferably including separation and collection by distillation, wherein for step (c) the crude reaction mixture is at least 1
Being subjected to a distillation process involving a base distillation column, at least a portion of the distillation circuit having formed AHH
S is behave as a redistribution catalyst with respect to this AHHS
It is characterized by being present in the presence of at least one inhibitor of the substance obtained .
【0013】蒸留回路において不均化を接触させる化合
物の持続的な禁止についての関心が蒸留の終了時に目標
のAHHSを極めて純粋な形態で得るのを可能にさせ
る。本発明に従う方法の核心部での蒸留は、1基以上の
蒸留塔(塔のライン)を使用してバッチ式又は連続式に
より実施することができる。塔のラインの使用は工業的
に好ましい。本発明に従う方法の段階(C1)において
使用される蒸留塔のラインは、少なくとも2基の塔
(I、II、・・・N番)、好ましくは少なくとも3基の
塔を含む。An interest in the persistent inhibition of the compounds which contact the disproportionation in the distillation circuit makes it possible to obtain the target AHHS in a very pure form at the end of the distillation. The distillation at the core of the process according to the invention can be carried out batchwise or continuously using one or more distillation columns (column lines). The use of tower lines is industrially preferred. The distillation column lines used in step (C 1 ) of the process according to the invention comprise at least 2 columns (I, II, ... N), preferably at least 3 columns.
【0014】蒸留回路全体にわたって禁止剤の存在を確
実にするためには、回路での禁止剤の少なくとも1回の
注入又は混入が本発明に従って実施される。この操作
は、ここでの説明では(C2)と称するが、以下に指示
するように、
(i)禁止剤を含む流体(好ましくは、液体)を、一方
では少なくとも蒸留ラインの第一の塔(I)に該AHH
Sを含む流体蒸気に関して向流方向で、他方では第二の
塔(II)のための供給流体中に注入することによって、
(ii)及び(又は)禁止剤を蒸留ラインの塔(II〜N
番)の少なくとも1基、、好ましくは塔(II)のための
供給流体と混合することによって有利に実施される。本
発明によれば、別法(i)が実際には特に使用される。In order to ensure the presence of the inhibitor throughout the distillation circuit, at least one injection or incorporation of the inhibitor in the circuit is carried out according to the invention. This operation, referred to herein as (C 2 ), is, as indicated below, (i) a fluid (preferably a liquid) containing the inhibitor, while at least the first column of the distillation line. (I) the AHH
By injecting (ii) and / or the inhibitor countercurrently with respect to the fluid vapor containing S, on the other hand, into the feed fluid for the second column (II), the columns (II to N of the distillation line)
It is advantageously carried out by admixing with at least one of the (1), preferably feed fluids for column (II). According to the invention, the alternative (i) is in particular used in practice.
【0015】本発明の好ましい条件に従えば、段階(C
2)は、目標のAHHSを含む流体を塔(I)の頂部で
生成し収集される凝縮物(DI)と混合し及びこの凝縮
物の少なくとも一部分の該塔(I)への還流物RIを規
定することによって実施され、その際に還流比rI=RI
/DI(ここで、RI=塔(I)の頂部での還流物、DI
=塔(I)の頂部での蒸留物)は0.5〜3、好ましく
は1.5〜2.5、さらに好ましくは2程度の値に調節
される。According to the preferred conditions of the invention, step (C
2 ) mixes a fluid containing the target AHHS with the condensate (D I ) produced and collected at the top of the column ( I ) and recirculates at least a portion of this condensate R to the column (I). It is carried out by defining I , in which case the reflux ratio r I = R I
/ D I (where R I = reflux at the top of column (I), D I
= Distillate at the top of column (I)) is adjusted to a value of 0.5 to 3, preferably 1.5 to 2.5, more preferably about 2.
【0016】塔(I)は、蒸留すべき流体のテーリン
グ、即ち再分配触媒(例えば、AlCl3)及びそれの
禁止剤(例えば、デカメチルペンタシロキサン)の除去
を意図する。塔(II)は、粗製反応混合物の最も軽質の
化合物、即ち、例えばアルキルジヒドロハロ(クロル)
シランMeH2SiCl及びMe2H2Siのトッピング
による分離を意図する。塔(III)は、目標のアルキル
モノヒドロシラン(例えば、MeH2SiCl)のテー
リングによる最終の単離を意図する。Column (I) is intended for the tailing of the fluid to be distilled, ie the removal of the redistribution catalyst (eg AlCl 3 ) and its inhibitor (eg decamethylpentasiloxane). Column (II) contains the lightest compounds of the crude reaction mixture, ie alkyldihydrohalo (chloro), for example.
The separation of the silanes MeH 2 SiCl and Me 2 H 2 Si by topping is intended. Column (III) is intended for final isolation by tailing the target alkyl monohydrosilane (eg MeH 2 SiCl).
【0017】精製しようと望むAHHS、それらが由来
する複雑な混合物並びに使用する装置は、蒸留操作(理
論段階の数、還流比、塔の底部及び頂部の温度及び圧
力、供給点)を制定する際の決定的な因子である。The AHHS one wishes to purify, the complex mixtures from which they are derived, and the equipment used, depend on the establishment of the distillation operation (number of theoretical stages, reflux ratio, column bottom and top temperatures and pressures, feed points). Is a decisive factor of.
【0018】本発明に従う方法の好ましい形態によれ
ば、塔(I)には、粗製反応混合物が、塔の底部及び頂
部のための圧力パラメーター(PbI、PtI)及び温度パ
ラメーター(θbI、θtI)、プレートの枚数nI並びに
還流比rIを、目標のAHHSヲ含む蒸留留分が塔
(I)の頂部で回収されるように、設定するために注意
しながら供給される。この留分は、次いで液体に凝縮さ
れ、これは還流物RI及び蒸留物DIに分別される。According to a preferred form of the process according to the invention, in column (I) the crude reaction mixture is fed with pressure parameters (P bI , P tI ) and temperature parameters (θ bI , for the bottom and top of the column). θ tI ), the number of plates n I and the reflux ratio r I are carefully fed to set the distillation fraction containing the target AHHS at the top of column (I). This fraction is then condensed into a liquid, which is separated into the reflux R I and the distillate D I.
【0019】禁止剤は、上で定義した別法(i)に従っ
て、一方でDI及び他方でRIを分離するバイパスの前に
又は後に、好ましくは前に混入される。その結果として
禁止剤の一部分がRIにより塔(II)に逆流することに
なるが、逆流する非常に少量のこの禁止剤の部分がそれ
でも妨害性の不均化を失わせるのに十分であることを見
出したことは特に驚くべきことである。The inhibitor is admixed according to alternative (i) as defined above, before or after the bypass separating on one hand D I and on the other hand R I , preferably before. The result is that a portion of the inhibitor will flow back into the column (II) by R I , but a very small amount of this backflowing portion of this inhibitor is still sufficient to eliminate the disturbing disproportionation. The finding is especially surprising.
【0020】第一の塔(I)の頂部凝縮物の還流比rI
は、還流物RIが生成した凝縮物の総量の60〜80容
量%、好ましくは70〜75容量%であるのに対して、
引き出されて次の塔(II)に移送される留分DIについ
て40〜20容量%、好ましくは30〜25容量%を占
めるようなものである。Reflux ratio r I of the top condensate of the first column (I)
Where the reflux R I is 60-80% by volume, preferably 70-75% by volume of the total amount of condensate formed,
It is such that it makes up 40 to 20% by volume, preferably 30 to 25% by volume, of the fraction D I withdrawn and transferred to the next column (II).
【0021】塔(II)へのDIの供給は、蒸留パラメー
ター、即ち:塔の底部及び頂部のための圧力パラメータ
ー(PbII、PtII)及び温度パラメーター(θbII、θ
tII)、プレートの枚数nII並びに還流比rIIを、一方
では、塔(II)の頂部で、蒸留物(DII)を形成し且つ
目標のAHHSの沸点よりも低い沸点を持つアルキルヒ
ドロハロシラン及びアルキルシランを含む蒸留留分を、
他方では、塔(II)の底部で、目標のAHHSを含む蒸
留留分(PII)を生成させ収集するように、選定するこ
とによって達成される。実際には、塔(II)の頂部で生
成したガス状流体の実質的に全部が、軽質留分(例え
ば、MeH2SiCl、Me2H2Si)を除いて、有利
に凝縮される。軽質留分と共にガスは、付加価値を高め
又は焼却するために蒸留回路から排出される。DIIの残
部を部分的に又は完全に、好ましくは完全に構成する液
状凝縮物は、塔(II)の頂部に逆流する。The supply of D I to the column (II) is carried out by distillation parameters: pressure parameters (P bII , P tII ) and temperature parameters (θ bII , θ) for the bottom and top of the column.
tII ), the number of plates n II and the reflux ratio r II , on the one hand, at the top of the column (II), an alkylhydrohalohalogen which forms a distillate (D II ) and has a boiling point lower than that of the target AHHS. A distillation fraction containing silane and alkylsilane,
On the other hand, it is achieved by choosing to produce and collect a distillate fraction (P II ) containing the target AHHS at the bottom of the column (II). In practice, substantially all of the gaseous fluid formed at the top of column (II) is advantageously condensed, except for the light fractions (eg MeH 2 SiCl, Me 2 H 2 Si). The gas, along with the light fraction, is discharged from the distillation circuit for added value or incineration. The liquid condensate, which partially or completely, preferably completely, constitutes the balance of D II , flows countercurrently into the top of column (II).
【0022】本発明によれば、残液(PII)が引き出さ
れて塔(III)の供給点に移送される。さらに、塔の底
部及び頂部のための圧力パラメーター(PbIII、
PtIII)及び温度パラメーター(θbIII、θtIII)、プ
レートの枚数nIII並びに還流比rIIIを、一方では、塔
の頂部で、目標のAHHSから本質的になる蒸留物(D
III)を、他方では、塔(II)の底部で、残液(PIII)
を形成し且つ目標のAHHSの沸点よりも高く又はこれ
に等しい沸点を持つアルキルヒドロハロシラン及びアル
キルシランを含む蒸留留分を、生成させ収集するよう
に、設定するために注意が払われた。実際には、蒸留物
DIIIは好ましくは凝縮され、まだ存在する可能性ある
不純物(例えば、Me2H2)は適当ならばガス状形態で
排出することができる。According to the invention, the residual liquid (P II ) is withdrawn and transferred to the feed point of the column (III). In addition, pressure parameters for the bottom and top of the column (P bIII ,
P tIII ) and temperature parameters (θ bIII , θ tIII ), the number of plates n III and the reflux ratio r III , on the one hand, at the top of the column, a distillate consisting essentially of the target AHHS (D
III ), on the other hand, at the bottom of the tower (II), the residual liquid (P III )
Care was taken to set up to generate and collect a distillate fraction containing alkylhydrohalosilanes and alkylsilanes that formed and which had a boiling point above or equal to the target AHHS boiling point. In practice, the distillate D III is preferably condensed and any impurities that may still be present (eg Me 2 H 2 ) can be expelled if appropriate in gaseous form.
【0023】蒸留パラメーターに加えて、禁止剤の選定
も本発明の有意義な要素である。従って、好ましい禁止
剤は、
・4〜10個のSi原子を含む環状のポリオルガノシロ
キサン(POS)(オクタメチルテトラシロキサン(D
4)及びデカメチルペンタシロキサン(D5)が好まし
い)、
・2〜100個の珪素原子を有するヒドロキシル化され
た又はヒドロキシル化されていない線状又は分岐状のP
OS、さらに好ましくは50mPa・sの粘度を有する
ポリメチルシロキサン、
・アルコキシル化されていてもよいPOS樹脂、
・アルコキシル化されていてもよいシラン、
・一官能性又は多官能性のアルコール(例えば、エタノ
ール)、
・ケトン(例えば、アセトン)
・及びこれらの混合物
である。In addition to distillation parameters, the choice of inhibitor is also a significant element of the invention. Thus, the preferred inhibitors are: • Cyclic polyorganosiloxanes (POS) containing 4 to 10 Si atoms (octamethyltetrasiloxane (D
4 ) and decamethylpentasiloxane (D 5 ) are preferred), • hydroxylated or non-hydroxylated linear or branched P having 2 to 100 silicon atoms
OS, more preferably polymethylsiloxane having a viscosity of 50 mPa · s, an optionally alkoxylated POS resin, an optionally alkoxylated silane, a monofunctional or polyfunctional alcohol (eg, Ethanol), ketones (eg, acetone), and mixtures thereof.
【0024】さらに詳しくは、禁止剤がシリコーン化合
物であるときは、それは、以下のものであることができ
る。
(i)下記の式(4)の単位からなり、連鎖の末端の一
方で式(5)の単位により終端し且つ多端で式(6)の
単位により終端している線状又は実質的に線状のPO
S、
(2i)式(4)の単位からなる環状のPOS、
(3i)数種の成分(1)又は(2i)の互いの混合
物、
(4i)1種以上の成分(i)と1種以上の成分(2
i)との混合物。More specifically, when the inhibitor is a silicone compound, it can be: (I) a linear or substantially linear line consisting of the unit of the following formula (4), terminated at one end of the chain by the unit of formula (5) and terminated at the multi-end by the unit of formula (6): Shaped PO
S, (2i) a cyclic POS consisting of units of formula (4), (3i) a mixture of several components (1) or (2i) with each other, (4i) one or more components (i) and one Above ingredients (2
Mixture with i).
【化1】
{上記の式において、・記号R1は同一でも異なってい
てもよく、1個以上のハロゲンにより置換されていてよ
い線状又は分岐状のC1〜C8アルキル基、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、オクチル又は3,3,3−トリ
フルオルプロピル;C5〜C8シクロアルキル基、例えば
シクロヘキシル又はシクロヘプチル;或いはC6〜C12
アリール基又はアラルキル基であってC6〜C12アリー
ル部分及びC1〜C4アルキル部分を有するもの(これら
の基は芳香族部分に1種以上のハロゲン、C1〜C3アル
キル及び(又は)C1〜C3アルコキシにより置換されて
いてよい)、例えばフェニル、キシリル、トリル、ベン
ジル、フェニルエチル、クロルフェニル又はジクロルフ
ェニルであり、・記号Yは同一でも異なっていてもよ
く、それぞれR1基か又はOR2基(R2は水素原子又は
線状若しくは分岐状のC1〜C3アルキル基である)のい
ずれかを表わす}[Chemical 1] {In the above formula, the symbols R 1 may be the same or different and may be a linear or branched C 1 -C 8 alkyl group which may be substituted by one or more halogen, such as methyl, ethyl, propyl. , octyl or 3,3,3; C 5 -C 8 cycloalkyl group such as cyclohexyl or cycloheptyl; or C 6 -C 12
Aryl or aralkyl groups having a C 6 -C 12 aryl moiety and a C 1 -C 4 alkyl moiety (these groups have one or more halogens, C 1 -C 3 alkyl and (or ) Optionally substituted by C 1 -C 3 alkoxy), for example phenyl, xylyl, tolyl, benzyl, phenylethyl, chlorophenyl or dichlorophenyl, the symbols Y may be the same or different and each is R Represents either one group or an OR 2 group (R 2 is a hydrogen atom or a linear or branched C 1 -C 3 alkyl group)}
【0025】用語“線状のPOS(i)”とは、式
(4)、(5)及び(6)の単位以外の単位、例えば
式:R1SiO3/2(T)及び(又は)SiO2(Q)を
3%以上示さないPOSを意味するものと理解された
い。ここに示した%は100個の珪素原子当たりのT及
び(又は)Q単位の数を表わす。The term "linear POS (i)" means a unit other than the units of formulas (4), (5) and (6), for example the formula: R 1 SiO 3/2 (T) and / or It is to be understood as meaning a POS which does not show more than 3% of SiO 2 (Q). The percentages given here represent the number of T and / or Q units per 100 silicon atoms.
【0026】禁止性のシリコーン化合物は、好ましく
は、多くとも1000mPa・sに等しい25℃での粘
度を有し、その記号R1の少なくとも60%(数で)が
メチル基を表わす(i)、(2i)、(3i)又は(4
i)型の流体からなる。非常に好適である禁止性のシリ
コーン化合物の例は、
・線状のPOS(i)として、連鎖末端のそれぞれでト
リメチルシロキシ単位[式(4)、(5)及び(6)に
おいて、R1=Y=CH3]により又はヒドロキシル基
[式(4)、(5)及び(6)において、R1=CH3及
びY=OH]によりブロックされていて、5〜300m
Pa・sである25℃での粘度を有するポリジメチルシ
ロキサン、
・環状のPOS(2i)として、3〜9個の単位の式
(4)(R1=CH3)を示す環状ポリジメチルシロキサ
ン、及び
・(3i)又は(4i)型の種々の可能な混合物
である。The prohibited silicone compounds preferably have a viscosity at 25 ° C. equal to at most 1000 mPa · s, at least 60% (by number) of the symbol R 1 representing a methyl group (i), (2i), (3i) or (4
i) Type fluid. Examples of very suitable inhibiting silicone compounds are: as linear POS (i), trimethylsiloxy units at each of the chain ends [in formulas (4), (5) and (6), R 1 = Y = CH 3 ] or a hydroxyl group [in formulas (4), (5) and (6) with R 1 = CH 3 and Y = OH], 5 to 300 m
A polydimethylsiloxane having a viscosity of Pa · s at 25 ° C., a cyclic polydimethylsiloxane having 3 to 9 units of the formula (4) (R 1 ═CH 3 ) as a cyclic POS (2i), And • various possible mixtures of type (3i) or (4i).
【0027】さらに詳しくは、これらのPOSは、 ・POS1:次式:More specifically, these POSs are ・ POS1: The following formula:
【化2】
の、50mPa・sに等しい25℃での粘度を持ち、次
の特性:計算分子量=283.3g、オイル1モル当た
りの酸素原子数=4.59を有する線状のα,ω−ジヒ
ドロキシル化されたポリジメチルシロキサンオイル、
・POS2:4個のジメチルシロキシ単位を含み、2m
Pa・sに等しい25℃での粘度を持ち、次の特性:計
算分子量=296g、オイル1モル当たりの酸素原子数
=4を有する環状のポリジメチルシロキサンオイル、
・POS3:5個のジメチルシロキシ単位を含み、2.
5mPa・sに等しい25℃での粘度を持ち、次の特
性:計算分子量=370g、オイル1モル当たりの酸素
原子数=5を有する環状のポリジメチルシロキサンオイ
ルである。[Chemical 2] A linear α, ω-dihydroxylation with a viscosity at 25 ° C. equal to 50 mPa · s and the following properties: calculated molecular weight = 283.3 g, number of oxygen atoms per mole of oil = 4.59. Polydimethylsiloxane oil, • POS2: contains 4 dimethylsiloxy units, 2 m
Cyclic polydimethylsiloxane oil having a viscosity at 25 ° C. equal to Pa · s and having the following properties: calculated molecular weight = 296 g, number of oxygen atoms per mole of oil = 4, POS3: 5 dimethylsiloxy units Including 2.
It is a cyclic polydimethylsiloxane oil having a viscosity at 25 ° C. equal to 5 mPa · s and the following properties: calculated molecular weight = 370 g, number of oxygen atoms per mole of oil = 5.
【0028】禁止剤として使用できるその他の珪素系化
合物を詳細に定義するために、
(i)次式:
(R0)eSi(OR2)4e
[ここで、記号R0は同一でも異なっていてもよく、そ
れぞれ水素原子;1個以上のハロゲンにより置換されて
いてよい線状又は分岐状のC1〜C8アルキル基;C5〜
C8シクロアルキル基;或いはC6〜C12アリール基又は
アラルキル基であってC6〜C12アリール部分及びC1〜
C4アルキル部分を有するもの(これらの基は芳香族部
分に1種以上のハロゲン、C1〜C3アルキル及び(又
は)C1〜C3アルコキシにより置換されていてよい)で
あり、
・記号R2は同一でも異なっていてもよく、それぞれ線
状若しくはC1〜C4アルキル基又はC6〜C12アリール
基を表わし、
・eは0、1、2又は3である]のシラン、
(2i)多くとも5000mPa・sに等しい25℃で
の粘度を有するシリコーン樹脂であって、下記の識別的
な特色:
・その構造内に、式:(R3)3SiO0.5(M)、
(R3)2SiO(D)、R3SiO1.5(T)及びSiO
2(Q)(これらの式において、記号R3は同一でも異な
っていてもよく、主に、記号R0に関して上で示した定
義を有する)の単位から選択される単位(これらの単位
の少なくとも一つはT単位又はQ単位である)を有する
こと、
・T及び(又は)Q単位の割合が、100個の珪素原子
当たりのT及び(又は)Q単位の数で表わして、10%
以上であること、
・また、1分子につきM、D及び(又は)T単位の珪素
原子に担持されている−OR4末端基(ここで、記号R4
は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、線
状若しくは分岐状のC1〜C4アルキル基又はC6〜C12
アリール基を表わし、−OR4末端の割合は珪素原子1
個当たりのこれら末端基の平均数で表わして、0.2〜
3の間である)を有することを示すもの
から選択される化合物が加えられる。In order to define in detail other silicon compounds that can be used as the inhibitor, (i) the following formula: (R 0 ) e Si (OR 2 ) 4e [wherein the symbol R 0 is the same or different. Each may be a hydrogen atom; a linear or branched C 1 -C 8 alkyl group optionally substituted by one or more halogens; C 5-
C 8 cycloalkyl group; or C 6 -C 12 an aryl group or an aralkyl group C 6 -C 12 aryl moiety and C 1 ~
Having a C 4 alkyl moiety (these groups may be substituted on the aromatic moiety by one or more halogens, C 1 -C 3 alkyl and / or C 1 -C 3 alkoxy); R 2 may be the same or different and each represents a linear or C 1 to C 4 alkyl group or a C 6 to C 12 aryl group, and e is 0, 1, 2 or 3], 2i) A silicone resin having a viscosity at 25 ° C equal to at most 5000 mPas, with the following distinguishing features: -within its structure the formula: (R 3 ) 3 SiO 0.5 (M),
(R 3 ) 2 SiO (D), R 3 SiO 1.5 (T) and SiO
2 (Q) (in these formulas, the symbols R 3 may be the same or different and predominantly has the definition given above for the symbol R 0 ) units (at least of these units) One is a T unit or a Q unit), and the proportion of T and / or Q units is 10%, expressed as the number of T and / or Q units per 100 silicon atoms.
Or more, and-OR 4 terminal group (herein, the symbol R 4 is carried on a silicon atom of M, D and / or T units per molecule.
May be the same or different and each is a hydrogen atom, a linear or branched C 1 -C 4 alkyl group or C 6 -C 12
It represents an aryl group, and the ratio of -OR 4 terminals is 1 silicon atom.
Expressed as the average number of these end groups per unit, 0.2 to
A compound selected from those which have the formula (between 3) are added.
【0029】特に、これらの禁止性のシリコーン化合物
は、下記のものであることができる。
・式(4)のアルコキシシラン(i)であって、R0が
同一であって、それぞれ線状若しくは分岐状のC1〜C4
アルキル基又はフェニル基を表わし、記号R2が同一で
あって、それぞれ線状若しくは分岐状のC1〜C3アルキ
ル基を表わし、e=1又は2であるもの。これらのアル
コキシシラン(i)は、例えば、次のものである。
MeSi(OMe)3 C6H5Si(OMe)3
(C6H5)2Si(OMe)2 MeSi(OC2H5)
3
C6H5Si(OC2H5)3 (C6H5)2Si(OC2
H5)2 In particular, these prohibited silicone compounds can be: Alkoxysilane (i) of formula (4), wherein R 0 is the same and each is linear or branched C 1 -C 4.
Alkyl group or phenyl group, the symbols R 2 are the same, each represents a linear or branched C 1 -C 3 alkyl group, and e = 1 or 2. These alkoxysilanes (i) are, for example: MeSi (OMe) 3 C 6 H 5 Si (OMe) 3 (C 6 H 5) 2 Si (OMe) 2 MeSi (OC 2 H 5)
3 C 6 H 5 Si (OC 2 H 5 ) 3 (C 6 H 5 ) 2 Si (OC 2
H 5 ) 2
【0030】・樹脂(2i):MQ、MDQ、TD及び
MDT型であり、多くとも1000mPa・sの25℃
での粘度を有する樹脂であって、その構造内で
・M、D及びT単位の記号R3が同一でも異なっていて
もよく、それぞれ線状のC1〜C4アルキル基を表わし、
・T及び(又は)Q単位の割合が30%以上であり、
・−OR4末端基(ここで、記号R4は水素又は線状のC
1〜C2アルキル基を表わし、該末端基の割合は0.3〜
2の間である)が存在する
ようなもの。これらの樹脂(2i)は、例えば、TD型
の樹脂であって、その構造内で
・D単位の記号R3がメチルであるが、T単位の記号R3
がn−プロピル基であり、
・T単位の割合が、100個の珪素原子当たりのT単位
の数で表わして、40〜65%の範囲内にあり、D単位
の割合が、100個の珪素原子当たりのD単位の数で表
わして、60〜35%の範囲内にあり、
・−OR4末端基(ここで、基R4はエチル基を表わす)
がD及びT単位の珪素原子により担持され、0.3〜
0.5の間の割合で存在する
ようなものである。Resin (2i): MQ, MDQ, TD and MDT type, at most 1000 mPa · s at 25 ° C.
A resin having a viscosity of, wherein the symbols R 3 of the M, D and T units may be the same or different within the structure and each represents a linear C 1 -C 4 alkyl group, And / or the proportion of Q units is 30% or more, -OR 4 terminal group (wherein the symbol R 4 is hydrogen or linear C
1 to C 2 alkyl group, and the ratio of the terminal groups is 0.3 to
Between 2) exists. These resins (2i) are, for example, TD type resins, and in the structure, the symbol R 3 of the D unit is methyl, but the symbol R 3 of the T unit is
Is an n-propyl group, the proportion of T units is in the range of 40 to 65%, expressed by the number of T units per 100 silicon atoms, and the proportion of D units is 100 silicon. Represented by the number of D units per atom, in the range of 60-35%, --OR 4 terminal group (wherein the group R 4 represents an ethyl group).
Is supported by silicon atoms of D and T units, and 0.3 to
It is as if present in a ratio between 0.5.
【0031】定量的には、禁止剤を蒸留回路に、蒸留前
の粗製反応混合物中に存在するAHHSの量に関して少
なくとも0.0001重量%の割合で、好ましくは0.
0010〜0.0100重量%の割合で、さらに好まし
くは0.0020〜0.0050重量%の割合で混入す
ることが好ましい。Quantitatively, the inhibitor is added to the distillation circuit in a proportion of at least 0.0001% by weight with respect to the amount of AHHS present in the crude reaction mixture before distillation, preferably 0.
It is preferable to mix in a ratio of 0010 to 0.0100% by weight, and more preferably 0.0020 to 0.0050% by weight.
【0032】本発明の他の有益な特色によれば、塔(II
I)からの残液(PIII)は、これを塔(I)の供給流れ
に混入させることによって再循環される。本発明に従う
方法の好ましい態様に関連して、目標のAHHSはジメ
チルモノヒドロクロルシラン及び(又は)メチルモノヒ
ドロジクロルシランであり、3基の蒸留塔(I、II及び
III)が使用される。この好ましい態様の関連でMe2H
SiClを単離するためには、下記の蒸留パラメーター
が選定される。
塔(I):
・圧力(実測バールで)
0.1≦PtI≦3、好ましくは1≦PtI≦2
0.1≦PbI≦3、好ましくは1≦PbI≦2
・温度(℃)
60≦θtI≦120、好ましくは80≦θtI≦100
90≦θbI≦150、好ましくは110≦θbI≦130
・rI=2±1
・nI=5〜15
塔(II)
・圧力(実測バールで)
1≦PtII≦8、好ましくは4≦PtII≦5
1≦PbII≦8、好ましくは4≦PbII≦5
・温度(℃)
30≦θtII≦85、好ましくは60≦θtII≦70
80≦θbII≦140、好ましくは115≦θbII≦12
5
・rII=100±50
・nII=10〜30
塔(III)
・圧力(実測バールで)
10-4≦PtIII≦1、好ましくは10-3≦PtIII≦10
0×10-3
10-4≦PbIII≦1、好ましくは10-3≦PbIII≦10
0×10-3
・温度(℃)
35≦θtIII≦57、好ましくは35≦θtIII≦38
63≦θbIII≦87、好ましくは63≦θbIII≦66
・rIII=20±10
・nIII=30〜70According to another advantageous feature of the invention, the tower (II
The bottoms (P III ) from I) is recycled by incorporating it into the feed stream of column (I). In connection with a preferred embodiment of the process according to the invention, the target AHHS is dimethylmonohydrochlorosilane and / or methylmonohydrodichlorosilane, and the three distillation columns (I, II and
III) is used. Me 2 H in the context of this preferred embodiment
The following distillation parameters are selected for the isolation of SiCl. Column (I): Pressure (at measured bar) 0.1 ≦ P tI ≦ 3, preferably 1 ≦ P tI ≦ 2 0.1 ≦ P bI ≦ 3, preferably 1 ≦ P bI ≦ 2 · Temperature (° C. ) 60 ≤ θ tI ≤ 120, preferably 80 ≤ θ tI ≤ 100 90 ≤ θ bI ≤ 150, preferably 110 ≤ θ bI ≤ 130 ・ r I = 2 ± 1 ・ n I = 5 to 15 tower (II) ・Pressure (measured bar) 1 ≦ P tII ≦ 8, preferably 4 ≦ P tII ≦ 5 1 ≦ P bII ≦ 8, preferably 4 ≦ P bII ≦ 5 Temperature (° C.) 30 ≦ θ tII ≦ 85, preferably 60 ≦ θ tII ≦ 70 80 ≦ θ bII ≦ 140, preferably 115 ≦ θ bII ≦ 12
5 · r II = 100 ± 50 · n II = 10 to 30 tower (III) · pressure (measured bar) 10 −4 ≦ P tIII ≦ 1, preferably 10 −3 ≦ P tIII ≦ 10
0 × 10 −3 10 −4 ≦ P bIII ≦ 1, preferably 10 −3 ≦ P bIII ≦ 10
0 × 10 −3 temperature (° C.) 35 ≦ θ tIII ≦ 57, preferably 35 ≦ θ tIII ≦ 38 63 ≦ θ bIII ≦ 87, preferably 63 ≦ θ bIII ≦ 66 · r III = 20 ± 10 · n III = 30-70
【0033】塔(I、II及びIII)のラインを使用する
この連続蒸留は、当業者には周知である還流率、流量、
圧力、ボイラー及び凝縮器を調節するための配列に関す
る。This continuous distillation using the lines of the columns (I, II and III) is well known to those skilled in the art at reflux rate, flow rate,
An arrangement for regulating pressure, boiler and condenser.
【0034】回路への禁止剤の注入に関しては、好まし
くは塔(I)の頂部で使用される流量は、明らかに、塔
(I)から出て第二の塔に入る凝縮流体中に固定しよう
と望む禁止剤の量に依存する。例示すれば、第一の塔の
出口で1000g/h程度の流量について、禁止剤の注
入のための流量は0.1〜5g/h、好ましくは0.4
〜1g/hである。Regarding the injection of inhibitor into the circuit, the flow rate preferably used at the top of column (I) should obviously be fixed in the condensing fluid leaving column (I) and entering the second column. And depends on the amount of inhibitor you want. By way of example, for a flow rate of around 1000 g / h at the outlet of the first column, the flow rate for injection of the inhibitor is 0.1-5 g / h, preferably 0.4.
~ 1 g / h.
【0035】しかして、本発明に従う方法は、工業的規
模で90%以上、好ましくは99%以上の純度でモノ−
又はジアルキルヒドロクロルシランを得るのを可能にさ
せる。事実、これは、モノ−又はジメチルヒドロクロル
シランの工業的で経済的な製造にとって特に魅力的な方
法である。Thus, the process according to the invention can be carried out on an industrial scale with a purity of 90% or more, preferably 99% or more.
Or it makes it possible to obtain a dialkylhydrochlorosilane. In fact, this is a particularly attractive method for the industrial and economical production of mono- or dimethylhydrochlorosilanes.
【0036】本発明は、別の観点から、上で定義したよ
うな方法を実施するための装置に関する。この装置は、
少なくとも3基の蒸留塔(I、II、III)であって、第一が
再分配触媒及びそれの禁止剤のテーリングを意図したも
の、第二がアルキルジヒドロハロシランのトッピングを
意図したもの及び第三が目標のAHHSと流入する蒸留
流れ中にまだ存在するその他の生成物との間の分離を意
図したものを含むこと、及びこれらの塔には、目標のA
HHSがその他の望ましくない副生成物に転化される副
反応を接触させることができる物質に関して活性である
少なくとも1種の禁止剤を混入させるための手段が据え
付けられていて、この混入手段は好ましくは禁止剤を有
利には塔(I)の頂部で生成する凝縮物中に移送させる
ための手段であることを特徴とする。The invention relates from another aspect to an apparatus for carrying out the method as defined above. This device
At least three distillation columns (I, II, III), the first of which is intended for tailing of the redistribution catalyst and its inhibitors, the second of which is intended for topping of alkyldihydrohalosilanes and Three intended to separate between the target AHHS and other products still present in the incoming distillation stream, and these columns contain the target AHHS
Means are provided for incorporating at least one inhibitor that is active with respect to the substance capable of contacting the side reaction in which the HHS is converted to other undesired by-products, this means of incorporation preferably being It is characterized in that it is a means for transferring the inhibitor into the condensate formed at the top of column (I).
【0037】本発明は、本発明に従う装置の好ましい具
体例並びに方法の好ましい具体例を説明する以下の実施
例に照らしてより良く理解されよう。本発明に従う装置
の好ましい具体例のブロック図を表わす添付の図面を参
照して本発明に従う装置の詳細な説明をする。The invention will be better understood in light of the following examples, which illustrate preferred embodiments of the device according to the invention as well as preferred embodiments of the method. A detailed description of a device according to the invention will now be given with reference to the accompanying drawings, which represent a block diagram of a preferred embodiment of the device according to the invention.
【0038】図面に示すように、装置は、反応器1及び
この反応器1と3基の蒸留塔(I、II、III)のラインとの
間に挿入された中間容器2を含む。反応器1は、再分配
段階(a)の部位として作用する。再分配触媒、例えば
AlCl3の禁止剤が反応の終了時に反応器1に導入さ
れる。この反応器1は、第一の内容物を第二にデカント
するのを可能にさせるパイプ3により中間容器2に接続
される。このようにデカントされた粗製の再分配反応混
合物は若干の軽質揮発性化合物、例えばMe2H2Siを
含むことができる。容器で生成したこれらの揮発性物質
は、付加価値を高め又は燃焼により破壊するためにガス
状で又は凝縮後に液体状で回収することができる。これ
は、図面において出口Aに相当する。As shown in the drawing, the apparatus comprises a reactor 1 and an intermediate vessel 2 inserted between this reactor 1 and the lines of three distillation columns (I, II, III). The reactor 1 acts as a site for the redistribution stage (a). A redistribution catalyst, eg an inhibitor of AlCl 3 , is introduced into the reactor 1 at the end of the reaction. This reactor 1 is connected to an intermediate vessel 2 by means of a pipe 3 which makes it possible to decant the first contents into the second. The crude redistribution reaction mixture thus decanted may contain some lightly volatile compounds, such as Me 2 H 2 Si. These volatiles produced in the vessel can be recovered in gaseous form for added value or destruction by combustion, or in liquid form after condensation. This corresponds to the outlet A in the drawing.
【0039】中間容器2に存在する反応混合物は、次い
でパイプ4より随意にポンプ21を使用して蒸留塔
(I)に移送することができる。パイプ14は、周知の
蒸留計算に相当する供給点で塔(I)に接続している
(濃縮段階及びストリッピング段階)。この塔(I)
は、その同族の塔(II)及び(III)と同様に、当業者
に知られたタイプのものである。それらは、気泡トレ
ー、孔あきトレー、弁トレー又は任意のタイプの堆積充
填物を有する塔である。添付の図面に示した装置の塔
(I、II、III)に関しては、それらのそれぞれが底部と頂
部を示し、その間で温度勾配が確立されることを観察さ
れたい。塔(I、II、III)のそれぞれの頭部には液状又は
ガス状の蒸留物(DI、DII、DIII)を生成させるため
の凝縮手段(5I、5II、5III)が会合している。塔
(I、II、III)のそれぞれの底部には、塔内で液体状態か
ら蒸気状態への変化のために必要とされる熱エネルギー
を提供するのに好適なボイラー(6I、6II、6III)が
備えられる。凝縮器(5I、5II、5III)及びボイラー
(6I、6II、6III)は、一方ではそれぞれパイプ(7
I、7II、7III)により、他方ではパイプ(8I、
8II、8III)により相当する塔に接続される。凝縮器
5Iは、塔(I)からの軽質化合物の蒸気をタンク9に
おいて収集される液状凝縮物へ転化させるのを可能にさ
せる。The reaction mixture present in the intermediate vessel 2 can then be transferred from the pipe 4 to the distillation column (I), optionally using the pump 21. The pipe 14 is connected to the column (I) at the feed point corresponding to the well-known distillation calculation (concentration stage and stripping stage). This tower (I)
Are of the type known to those skilled in the art, as are their cognate towers (II) and (III). They are columns with bubble trays, perforated trays, valve trays or any type of pile packing. Equipment tower shown in the accompanying drawings
For (I, II, III), observe that each of them exhibits a bottom and a top, between which a temperature gradient is established. At the head of each of the columns (I, II, III) there is a condensation means (5 I , 5 II , 5 III ) for producing liquid or gaseous distillates (D I , D II , D III ). I am meeting. Tower
At the bottom of each of the (I, II, III) is a boiler (6 I , 6 II , 6) suitable for providing the thermal energy needed for the change from liquid state to vapor state in the column. III ) is provided. The condensers (5 I , 5 II , 5 III ) and the boiler (6 I , 6 II , 6 III ) are, on the one hand, respectively pipes (7 I
I , 7 II , 7 III ), on the other hand the pipe (8 I ,
8 II , 8 III ) connected to the corresponding column. The condenser 5 I makes it possible to convert the light compound vapors from the column (I) into the liquid condensate collected in the tank 9.
【0040】また、塔(I)には、少なくとも1種の禁
止剤、有利には環状のポリシロキサンD5を混入させる
ための手段11、12及び13が備えられる。これらの
手段は、禁止剤のための容器11をパイプ12により塔
(I)からのトッピング蒸留留分から得られた液状凝縮
物を収集するためのタンク9に接続させてなるものであ
る。このパイプ12には、注入される禁止剤の少量を定
量的に決定するのを可能にさせる流量計13が備え付け
られる。MeH2SiCl、Me2H2Si、Me2HSi
Cl、MeH3Si、Me4Si、Me3SiCl及びM
e2SiCl2のような化合物を含む禁止剤/液状トッピ
ング凝縮物混合物が、パイプ15に入ってポンプ14を
使用して、還流物RIのためのパイプを形成する分岐1
6及び流体又は蒸留物DIを塔(II)に供給するための
分岐17からなるバイパスまで移送される。還流物のた
めのパイプ16は塔(I)の頂部に現れるが、パイプ1
7は塔(II)の供給点で現れ、この供給点は塔(I)の
ものと同様に選択される。このパイプ17には流れRI
及びDIを調節するのを可能にさせる弁18が備えられ
る。例えば、パイプ15から生じる流れの3分の1がパ
イプ17より移送され、残りの3分の2が還流パイプ1
6により移送される。The column (I) is also equipped with means 11, 12 and 13 for incorporating at least one inhibitor, preferably a cyclic polysiloxane D 5 . These means comprise a vessel 11 for the inhibitor connected by a pipe 12 to a tank 9 for collecting the liquid condensate obtained from the toppings distillate from column (I). The pipe 12 is equipped with a flow meter 13 which makes it possible to quantitatively determine the small amount of inhibitor injected. MeH 2 SiCl, Me 2 H 2 Si, Me 2 HSi
Cl, MeH 3 Si, Me 4 Si, Me 3 SiCl and M
inhibitor / liquid topping condensate mixture such comprising a compound as e 2 SiCl 2 is, by using the pump 14 enters the pipe 15, reflux R branches forming a pipe for the I 1
6 and the fluid or distillate D I is transferred to a bypass consisting of a branch 17 for feeding the column (II). The pipe 16 for the reflux appears at the top of column (I), but pipe 1
7 appears at the feed point of tower (II), which feed point is selected similarly to that of tower (I). This pipe 17 has a flow R I
And a valve 18 is provided which makes it possible to regulate D I. For example, one third of the flow originating from pipe 15 is transferred from pipe 17 and the remaining two thirds are reflux pipe 1
6 is transferred.
【0041】塔(I)からの残液PIがパイプ19によ
り蒸留回路から排出される。この出口で収集された生成
物PIは、例えば、再分配触媒(例えばAlCl3)、禁
止剤(これは環状のポリシロキサン、例えばデカメチル
ペンタシロキサン=D5であってよい)及び最も重質の
オルガノクロルシラン、例えばMe2SiCl2である。
塔(II)の頂部と会合した凝縮器5IIの出口で収集され
る液体に凝縮した蒸気は、パイプ20によりこの塔(I
I)の頂部に逆流する。凝縮器5IIにより液体に転化さ
れなかった軽質のオルガノシランガスは蒸留物DIIを構
成し、付加価値を高め又は燃焼により破壊されるように
する目的でパイプ22により排出される。塔(II)によ
り発生した軽質の生成物のトッピングは、結果として塔
(III)に供給しようとする液状残液PIIを生成させる
ことになる。PIIは、例えば、Me2H2SiCl、Me
HSiCl2、Me2SiCl2及びMe3SiClを含
む。The residual liquid P I from the column (I) is discharged from the distillation circuit via the pipe 19. The product P I collected at this outlet is, for example, a redistribution catalyst (eg AlCl 3 ), an inhibitor (which may be a cyclic polysiloxane, eg decamethylpentasiloxane = D 5 ) and the heaviest heavies. Organochlorosilanes such as Me 2 SiCl 2 .
The vapor condensed in the liquid collected at the outlet of the condenser 5 II associated with the top of the tower (II) is piped to this tower (I).
Backflow to the top of I). The light organosilane gas, which has not been converted to liquid by the condenser 5 II , constitutes the distillate D II and is discharged via the pipe 22 for the purpose of increasing its added value or being destroyed by combustion. The topping of the light product generated by the column (II) results in the formation of the liquid residual liquid P II which is to be fed to the column (III). P II is, for example, Me 2 H 2 SiCl, Me
Includes HSiCl 2 , Me 2 SiCl 2 and Me 3 SiCl.
【0042】PIIは、塔(I)及び(II)のための供給
点について使用したものと同じ方法を使用することによ
って選定された供給点でパイプ23(ポンプを使用し又
は使用せずに、好ましくはポンプを使用せずに)により
塔(III)に移送される。塔(III)の頂部には、精製し
ようと望むAHHSを含有する液状凝縮物を収集するた
めのパイプ24が備えられる。また、凝縮器5IIIは、
ガス抜きされた生成物の排出のためのパイプ25に接続
される。さらに、塔(III)の頂部には、純粋な又は実
質的に純粋なAHHSからなら還流物RIIIのためのパ
イプ26が備えられる。塔(III)の底部には、その一
部に、液体PIIIを収集するためのパイプ28が備えら
れるが、これはその液体の付加価値を高め、それを回収
し又は回収された化合物(これは、例えばMe3SiC
l及びMe2SiCl2であることができる)を破壊する
ための地点まで移送させるのを可能にさせる。P II is pipe 23 (with or without a pump) at the feed point selected by using the same method as used for the feed points for columns (I) and (II). , Preferably without a pump), to the column (III). The top of column (III) is equipped with a pipe 24 for collecting the liquid condensate containing the AHHS desired to be purified. The condenser 5 III is
It is connected to a pipe 25 for discharging the degassed product. In addition, at the top of the column (III) there is provided a pipe 26 for the reflux R III if pure or substantially pure AHHS. At the bottom of the column (III) there is in part provided a pipe 28 for collecting the liquid P III , which enhances the added value of the liquid and recovers it or the recovered compound (this Is, for example, Me 3 SiC
1 and Me 2 SiCl 2 ) can be transported to a point for destruction.
【0043】この装置の別の具体例によれば、なかんず
く、禁止剤の注入手段11、12及び13は、それらを
塔(I)の頂部の還流物RIのための返送ループに接続
することに加えて又はそれに接続する代わりに、還流物
RIのためのこのループの下流に位置した塔(II)に供
給するためのパイプ17に接続することができよう。ま
た、その他の別法によれば、禁止剤を塔(II)及び(又
は)(III)の頂部に導入することが可能である。According to another embodiment of this device, inter alia, the inhibitor injection means 11, 12 and 13 connect them to the return loop for the reflux R I at the top of the column (I). In addition to or instead of connecting to it, it could be connected to a pipe 17 for feeding the column (II) located downstream of this loop for the reflux R I. Also, according to another alternative, it is possible to introduce the inhibitor at the top of columns (II) and / or (III).
【0044】3基の蒸留塔(I〜III)のラインを伴う
本発明に従う方法、特に蒸留段階(c)の使用を以下に
記載する種々の試験により例示する。The process according to the invention with the lines of three distillation columns (I-III), in particular the use of the distillation stage (c), is illustrated by the various tests described below.
【0045】実施例
1)使用した物質
本実施例において考慮する合成は、MeHSiCl2と
Me3SiClを段階(a)でルイス酸触媒(この場合
はAlCl3である)の存在下に再分配することによっ
て製造されるMe2HSiCl(=目標のAHHS)の
合成である。この反応は反応器1で起こる。使用する禁
止剤は、5個のジメチルシロキシ単位(D5)を含み、
25℃の粘度が2.5mPa・sであり、次の特性:
計算分子量=370g
オイル1分子当たりの酸素原子数=5
を有する環状のポリジメチルシロキサン(PDMS)オ
イルである。Example 1) Materials Used The synthesis considered in this example is that MeHSiCl 2 and Me 3 SiCl are redistributed in step (a) in the presence of a Lewis acid catalyst (in this case AlCl 3 ). Synthesis of Me 2 HSiCl (= target AHHS) produced by. This reaction takes place in reactor 1. The inhibitor used contains 5 dimethylsiloxy units (D 5 ),
It is a cyclic polydimethylsiloxane (PDMS) oil having a viscosity at 25 ° C. of 2.5 mPa · s and the following properties: Calculated molecular weight = 370 g Oil number of oxygen atoms per molecule = 5.
【0046】2)使用した装置
上で説明したような装置を使用する。使用した連続蒸留
塔(I〜III)は、その高さが所望の理論プレート数に
相当するSulzer−Mellapack堆積充填物
を含む。その他の装置、凝縮器、ボイラー、弁などは既
知のタイプのものである。2) Equipment used The equipment as described above is used. The continuous distillation columns used (I-III) contain Sulzer-Mellapack stack packings whose height corresponds to the desired theoretical plate number. Other devices, condensers, boilers, valves, etc. are of known type.
【0047】3)段階(a)のための操作
5490gのMe3SiCl及び2900gのMeHS
iCl2を、窒素で予めパージしたステンレス鋼製の反
応器1に攪拌しながら装入して0.5のMeH/Me3
モル比を得る。この混合物に触媒、即ち252gの無水
塩化アルミニウムを添加する。反応器を密封し、圧力を
窒素により10×105Paに、次いで大気圧に調節す
る。攪拌は4枚羽根のタービンにより提供する。攪拌速
度は100rpmである。反応器を100℃まで加熱す
ると、圧力は4.5×105Paに確立されるようにな
る。温度は100℃に2時間保持する。反応器に294
gのPOS禁止性化合物を数分間で導入する。一緒にし
た混合物を攪拌しながら100℃で半時間保持し、次い
で反応器を20℃に冷却する。1.5×105Paの残
留圧力をガス抜きにより除く。このようにして、131
3gのMe2HSiCl及び活性でない触媒を含む87
57gの反応混合物が得られた。3) Operation for step (a) 5490 g Me 3 SiCl and 2900 g MeHS.
iCl 2 was charged into a reactor 1 made of stainless steel, which had been previously purged with nitrogen, with stirring to obtain 0.5 MeH / Me 3
Get the molar ratio. To this mixture is added the catalyst, 252 g of anhydrous aluminum chloride. The reactor is sealed and the pressure is adjusted to 10 × 10 5 Pa with nitrogen and then to atmospheric pressure. Agitation is provided by a 4-blade turbine. The stirring speed is 100 rpm. When the reactor is heated to 100 ° C., the pressure will be established at 4.5 × 10 5 Pa. The temperature is held at 100 ° C for 2 hours. 294 in the reactor
g of POS inhibiting compound is introduced in a few minutes. The combined mixture is kept at 100 ° C. for half an hour with stirring, then the reactor is cooled to 20 ° C. The residual pressure of 1.5 × 10 5 Pa is removed by degassing. In this way, 131
87 containing 3 g Me 2 HSiCl and inactive catalyst
57 g of reaction mixture was obtained.
【0048】4)段階(c):蒸留
R5を含む粗製反応混合物を塔(I)に1000g/h
の流量に従って供給するために容器2から引き出す。連
続操作のために、反応器1に、Me3SiCl、MeH
SiCl2、AlCl3及び環状PDMS D5を、10
00g/hの流量でD2を添加した粗製反応混合物を生
成させのを可能にさせるように、供給する。このように
生成した混合物を容器2にバッチ式で移送する。塔
(I)の入口での物質収支(ガスクロマトグラフィーに
より生じた)は、次の通りである。
150g/hのMe2HSiCl(目標のAHHS)
380g/hのMe2SiCl2
380g/hのMe3SiCl
20g/hのMeHSiCl2
41g/hの重質生成物=D5+AlCl3
29g/hの軽質生成物=Me2H2Si、MeH2Si
Cl、Me4Si及びその他の軽質生成物
合計で1000g/h4) Step (c): 1000 g / h of the crude reaction mixture containing distilled R 5 in column (I).
Withdraw from container 2 for feeding according to the flow rate of For continuous operation, reactor 3 was provided with Me 3 SiCl, MeH
10% SiCl 2 , AlCl 3 and cyclic PDMS D 5
It is fed in such a way that a crude reaction mixture with D 2 added at a flow rate of 00 g / h can be produced. The mixture thus produced is transferred to the container 2 in a batch mode. The mass balance at the inlet of column (I) (generated by gas chromatography) is as follows: 150 g / h Me 2 HSiCl (target AHHS) 380 g / h Me 2 SiCl 2 380 g / h Me 3 SiCl 20 g / h MeHSiCl 2 41 g / h heavy product = D 5 + AlCl 3 29 g / h Light product = Me 2 H 2 Si, MeH 2 Si
Cl, Me 4 Si and other light products total 1000 g / h
【0049】塔(I)の蒸留パラメーターを以下に示
す。
・温度(℃)
θtI=87.5、θbI=116
・圧力(実測バールで)
PtI=1.5、PbI=1.55
・nI=10(底部から8番目の理論段階での供給点)
・rI=RI/DI=1.8
ボイラー6Iにより生じる熱エネルギーは207kca
l/hである。0.7g/hのD5を容器9に連続的に
導入する。これらの0.7g/hをRIに0.45g/
h、DIに0.25g/hの割合で分配する。ガスクロ
マトグラフィーによるPIの分析から、塔(I)の底部
で下記の流量を計算することが可能となる。
AlCl3+D5 ・・・・41g/h
Me2SiCl2 ・・・・41g/h
下記の物質:
Me2HSiCl ・・・・ 150g/h
Me2SiCl2 ・・・・ 339g/h
Me3SiCl ・・・・ 380g/h
MeHSiCl2 ・・・・ 20g/h
軽質生成物 ・・・・ 29g/h
D5 ・・・・ 0.25g/h
合計で918.25g/h
を含むD2が塔(II)にパイプ17より導入する。The distillation parameters of column (I) are shown below. Temperature (° C) θ tI = 87.5, θ bI = 116 ・ Pressure (at measured bar) P tI = 1.5, P bI = 1.55 ・ n I = 10 (at the 8th theoretical stage from the bottom) Supply point) ・ r I = R I / D I = 1.8 The thermal energy generated by the boiler 6 I is 207 kca.
1 / h. 0.7 g / h of D 5 are continuously introduced into the container 9. 0.7 g / h of these is 0.45 g / R for R I
h and D I are distributed at a rate of 0.25 g / h. From the analysis of P I by gas chromatography it is possible to calculate the following flow rates at the bottom of column (I): AlCl 3 + D 5 ··· 41g / h Me 2 SiCl 2 ··· 41g / h The following substances: Me 2 HSiCl ··· 150g / h Me 2 SiCl 2 ··· 339g / h Me 3 SiCl・ ・ ・ 380 g / h MeHSiCl 2・ ・ ・ ・ 20 g / h Light product ・ ・ ・ 29 g / h D 5・ ・ ・ 0.25 g / h D 2 containing 918.25 g / h in total in the column It is introduced into the pipe (II) through the pipe 17.
【0050】この塔(II)の蒸留パラメーターを以下に
示す。
・温度(℃)
θtII=63、θbII=118
・圧力(実測バールで)
PtII=4.4、PbII=4.42
・nII=20(底部から8番目の理論段階での供給点)
・rII=RII/DII=ほぼ70
ボイラー6IIにより生じる熱エネルギーは102kca
l/hである。ガスクロマトグラフィーによるDII及び
PIIの分析は、それぞれ下記の結果を示す。
DII=29g/h、本質的にMeH2SiCl、Me2H
2Si及びその他の軽質生成物を含む。
PII= Me2HSiCl ・・・・ 150g/h
Me2SiCl2 ・・・・339g/h
Me3SiCl ・・・・ 380g/h
MeHSiCl2 ・・・・ 20g/h
D5 ・・・・ 0.25g/h
合計で889.25g/h
DIIをガス抜き22より排出させ、PIIを塔(III)に
パイプ23より導入する。The distillation parameters of this column (II) are shown below. Temperature (℃) θ tII = 63, θ bII = 118 · Pressure (in actual bars) P tII = 4.4, fed at the 8th theoretical stage from P bII = 4.42 · n II = 20 ( bottom Point) ・ r II = R II / D II = approximately 70 Thermal energy generated by the boiler 6 II is 102 kca
1 / h. Analysis of D II and P II by gas chromatography respectively shows the following results. D II = 29 g / h, essentially MeH 2 SiCl, Me 2 H
2 Includes Si and other light products. P II = Me 2 HSiCl ... 150 g / h Me 2 SiCl 2 ... 339 g / h Me 3 SiCl .... 380 g / h MeHSiCl 2 ... 20 g / h D 5 ... 0 0.25 g / h In total, 889.25 g / h D II is discharged from the gas vent 22 and P II is introduced into the tower (III) through the pipe 23.
【0051】この塔(III)の蒸留パラメーターを以下
に示す。
・温度(℃)
θtIII=36、θbIII=63.5
・圧力(実測バールで)
PtIII=30×10-3、PbIII=35×10-3
・nIII=48(底部から27番目の理論段階での供給
点)
・rIII=RIII/DIII=ほぼ20
ボイラー6IIIにより生じる熱エネルギーは180kc
al/hである。ガスクロマトグラフィーによるDIII
及びPIIIの分析は、それぞれ下記の結果を示す。
DIII=150g/hのMe2HSiCl、純度が99%
で、不純物として主にMeHSiCl2を含む。
PIII= Me3SiCl ・・・・ 380g/h
Me2SiCl2 ・・・・339g/h
MeHSiCl2 ・・・・ 20g/h
D5 ・・・・ 0.25g/h
合計で739.25g/h
ガス抜き25はMe2H2を全く又は実質的に発散させな
い。
5)比較例
塔(I)の頂部でD5を注入しない蒸留(c)を実施す
る。DIII=Me2HSiCl(75g/h)、1%以上
のMe2H2Siを含む。ガス抜き22及び25は、Me
2HSiClの妨害性不均化により生成する多量のMe2
H2を漏出させる。D5の注入なしでは蒸留塔に供給する
Me2HSiClの50%しか回収されないのに対し
て、D5の注入によりそれの100%が回収される。
[図面の簡単な説明]The distillation parameters of this column (III) are shown below.・ Temperature (° C) θ tIII = 36, θ bIII = 63.5 ・ Pressure (measured bar) P tIII = 30 × 10 -3 , P bIII = 35 × 10 -3・ n III = 48 (27th from bottom) The feed point at the theoretical stage of r) = r III = R III / D III = approximately 20 The thermal energy generated by the boiler 6 III is 180 kc
al / h. D III by gas chromatography
And P III analyzes show the following results respectively. D III = 150 g / h Me 2 HSiCl, purity 99%
Thus, MeHSiCl 2 is mainly contained as an impurity. P III = Me 3 SiCl ··· 380 g / h Me 2 SiCl 2 ··· 339 g / h MeHSiCl 2 ··· 20 g / h D 5 ··· 0.25 g / h Total 739.25 g / h h Degassing 25 does not emit Me 2 H 2 at all or substantially. 5) Distillation (c) without D 5 injection is carried out at the top of the comparative column (I). D III = Me 2 HSiCl (75 g / h), containing 1% or more of Me 2 H 2 Si. Gas vents 22 and 25 are Me
A large amount of Me 2 produced by the disturbing disproportionation of 2 HSiCl
Let H 2 leak. Without D 5 injection only 50% of the Me 2 HSiCl fed to the distillation column is recovered, whereas with D 5 injection 100% of it is recovered. [Brief description of drawings]
【図1】図1は、本発明に従う装置の好ましい具体例の
ブロック図である。FIG. 1 is a block diagram of a preferred embodiment of a device according to the present invention.
1は反応器であり、I、II及びIIIはそれぞれ3基の蒸
留塔である。1 is a reactor, and I, II and III are each three distillation columns.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ラファエル ギナマルド フランス国 エフ69350 ラ ミュラテ ィエール、アヴニュ シャルル ド ゴ ル、9 (72)発明者 フランソワ イジェルシェイム フランス国 エフ69003 リヨン、リュ ムワソネ、7 (72)発明者 ジルベール マルジェリア フランス国 エフ38150 ヴィル スー アンジュー、レ エル (56)参考文献 特開 昭47−13314(JP,A) 特許3288722(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07F 7/12 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Rafael Guinamarde F 69350 La Muratère, Avigne Charles de Gol, 9 (72) Inventor Francois Igerscheim F 69003 Lyon, Rum Wasone, 7 (72) ) Inventor Gilbert Margeria F 38150 Villeux-Anjou, Leer (56) References JP-A-47-13314 (JP, A) Patent 3288722 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7) , DB name) C07F 7/12
Claims (8)
とも1種の第一化合物と式(2):(R’)cSiX4-c
の第二化合物(これらの式(1)及び(2)において、
a=0、1、2又は3であり、b=1、2又は3であ
り、c=1、2、3又は4であり、a+b≦3であり、
R及びR’は互いに同一及び(又は)異なっていて、ア
ルキル及び(又は)アリールから選択される基であり、
X置換基は互いに同一及び(又は)異なっていて、ハロ
ゲンに相当し、ただし、式(1)及び(2)の2種の化
合物の少なくとも一つに少なくとも1個のX原子が存在
するものとする)との間の再分配反応(該再分配反応は
ルイス酸から選択される触媒の存在下に行なわれる)、 (b)反応混合物への再分配反応触媒の禁止剤の少なく
とも1種の導入、 (c)粗製の再分配反応混合物(a)中に形成されたア
ルキルモノヒドロシランの分離及び収集 を含む、少なくとも1種のルイス酸によって接触させる
不均化反応を受け易いアルキルモノヒドロハロシラン
(AHHS)の製造方法において、 ・段階(c)に関して、粗製反応混合物が少なくとも1
基の蒸留塔を伴う蒸留処理に付されること、・蒸 留回路の少なくとも一部には、形成されたAHHS
が、このAHHSに関して再分配反応触媒として挙動し
得る物質の禁止剤の少なくとも1種の存在下に存在する
こと を特徴とする、アルキルモノヒドロハロシランの製造方
法。1. The following essential steps: (A) Formula (1): (R)a(H)bSiX4-abLess
Both of the first compound and the formula (2): (R ')cSiX4-c
A second compound (in these formulas (1) and (2),
a = 0, 1, 2 or 3 and b = 1, 2 or 3
, C = 1, 2, 3 or 4, a + b ≦ 3,
R and R'are the same and / or different from each other, and
Rukiru and / or AllieOrIs a group selected from
The X substituents are the same and / or different from each other and are halo.
GeToCorresponding, but two types of formula (1) and (2)
There is at least one X atom in at least one of the compounds
Redistribution reaction between the
Lewis acidSelectPerformed in the presence of a selected catalyst), (B) Fewer inhibitors for the redistribution reaction catalyst to the reaction mixture
Both introduced one, (C) The crude redistributed reaction mixture formed in the reaction mixture (a).
Ruquil monohydrosilaneMinutes ofSeparation and collection IncludingContact with at least one Lewis acid
Alkyl monohydrohalosilane susceptible to disproportionation reaction
In the manufacturing method of (AHHS), -For step (c), at least 1 of the crude reaction mixture
Subject to a distillation process involving a base distillation column,・ Steam At least part of the retention circuitBeen formedAHHS
Behaves as a redistribution catalyst for this AHHSShi
obtainPresent in the presence of at least one of the substance inhibitors
thing For the production of alkyl monohydrohalosilanes characterized by
Law.
インを使用し、 (c2)AHHSを含む流体が、禁止剤と (i)禁止剤を含む流体を、一方では少なくとも蒸留ラ
インの第一の塔(I)に該AHHSを含む流体蒸気に関
して向流方向で、他方では第二の塔(II)のための供給
流体中に注入することによって、 (ii)及び(又は)禁止剤を蒸留ラインの塔(II〜N
番)の少なくとも1基の供給流体と混合することによっ
て 接触されるのを確実にする ことを含む請求項1に記載の方法。2. A fluid in which the distillation step (c) essentially uses (c 1 ) lines of at least two (I, II ... N ) distillation columns and comprises (c 2 ) AHHS. but the flow containing the inhibitor and (i) inhibitor, on the one hand, in countercurrent direction with respect to the fluid vapor comprising the AHHS the first column (I) of at least the distillation line, on the other hand the second column (II (Ii) and / or the inhibitor by injecting it into the feed fluid for the column (II-N) of the distillation line.
By admixing with the feed fluid for at least 1 group turn)
The method of claim 1 comprising ensuring that the contact Te.
HSを含む流体が禁止剤と、後者を塔(I)の頂部で生
成し収集された凝縮物(DI)と混合し及びこの凝縮物
の少なくとも一部分の該塔(I)への還流物RIを規定
することによって、接触されることを確実にし、その際
に還流比rI=RI/DI(ここで、RI=塔(I)の頂部
での還流物、DI=塔(I)の頂部での蒸留物である)
を0.5〜3の値に調節するようにすることを特徴とす
る請求項2に記載の方法。3. AH formed in step (c 2 )
The fluid containing HS mixes the inhibitor and the latter with the condensate (D I ) produced and collected at the top of the tower (I) and at least part of this condensate reflux R into the tower (I). By defining I , it is ensured that they are contacted, where the reflux ratio r I = R I / D I (where R I = reflux at the top of column (I), D I = tower). Distillate at the top of (I))
Is adjusted to a value between 0.5 and 3 .
のラインであって、それぞれ、粗製反応混合物の重質化
合物をテーリングするための塔(I)、粗製反応混合物
の軽質化合物をトッピングするための塔(II)及びAH
HSの最終分離のための塔(III)からなるものを使用
すること、 ・塔(I)に、塔の底部及び頂部のための圧力パラメー
ター(PbI、PtI)及び温度パラメーター(θbI、
θtI)、プレートの枚数nI並びに還流比rIを、形成さ
れたAHHSを含む蒸留留分が塔(I)の頂部で回収さ
れるように、設定することに注意しながら、粗製反応混
合物を供給すること、 ・この留分を液体として凝縮させて、これを還流物RI
及び蒸留物DIに分別すること、 ・塔(II)に、塔の底部及び頂部のための圧力パラメー
ター(PbII、PtII)及び温度パラメーター(θbII、
θtII)、プレートの枚数nII並びに還流比rIIを、 一方では、塔(II)の頂部で、蒸留物(DII)を形成し
且つ形成されたAHHSの沸点よりも低い沸点を持つア
ルキルヒドロハロシラン及びアルキルシランを含む蒸留
留分を、 他方では、塔(II)の底部で、形成されたAHHSを含
む蒸留留分(PII)を生成させ収集するように、設定す
ることに注意しながらDIを供給すること、及び ・塔(III)に、塔の底部及び頂部のための圧力パラメ
ーター(PbIII、PtIII)及び温度パラメーター(θ
bIII、θtIII)、プレートの枚数nIII並びに還流比r
IIIを、 一方では、塔の頂部で、形成されたAHHSから本質的
になる蒸留物(DIII)を、 他方では、塔(III)の底部で、残液(PIII)を形成し
且つ形成されたAHHSの沸点よりも高く又はこれに等
しい沸点を持つアルキルヒドロハロシラン及びアルキル
ハロシランを含む蒸留留分を、 生成させ収集するように、設定することに注意しなが
ら、PIIを供給することを特徴とする請求項1〜3のい
ずれかに記載の方法。4. In step (c 1 ), a line of three distillation columns, each column for tailing the heavy compounds of the crude reaction mixture, a light compound of the crude reaction mixture, Tower (II) and AH for toppings
Use of a column (III) for the final separation of HS, for column (I), pressure parameters (P bI , P tI ) and temperature parameters (θ bI , for the bottom and top of the column, θ bI ,
theta tI), the number n I and reflux ratio r I of the plate, is formed
Feeding the crude reaction mixture, taking care to set up so that the distillate fraction containing the recovered AHHS is recovered at the top of column (I), condensing this fraction as a liquid, The reflux R I
And fractionating into distillates D I , column (II), pressure parameters (P bII , P tII ) and temperature parameters (θ bII , for the bottom and top of the column ).
θ tII ), the number of plates n II and the reflux ratio r II , on the one hand, at the top of the column (II) an alkyl which forms a distillate (D II ) and has a boiling point lower than that of the AHHS formed. Note that the distillate fraction containing the hydrohalosilane and the alkylsilane, on the other hand, is set up to produce and collect the distillate fraction (P II ) containing the AHHS formed at the bottom of the column (II). While feeding D I , and to the column (III), pressure parameters (P bIII , P tIII ) and temperature parameters (θ b ) for the bottom and top of the column.
bIII , θ tIII ), the number of plates n III and the reflux ratio r
III, on the one hand at the top of the column a distillate (D III ) consisting essentially of the formed AHHS, and on the other hand at the bottom of the column (III) forming and forming a bottoms liquid (P III ). Feed P II , taking care to set up to generate and collect distillate fractions containing alkylhydrohalosilanes and alkylhalosilanes with boiling points above or equal to the boiling point of the AHHS produced. The method according to any one of claims 1 to 3, characterized in that:
キサン(POS)、 ・2〜100個の珪素原子を有するヒドロキシル化され
た又はヒドロキシル化されていない線状又は分岐状のP
OS及びそれらの混合物、 ・アルコキシル化されていてもよいPOS樹脂、 ・アルコキシル化されていてもよいシラン、 ・一官能性又は多官能性のアルコール、 ・ケトン、 ・及びこれらの混合物 から選択される請求項1〜4のいずれかに記載の方法。5. Inhibitors are: • Cyclic polyorganosiloxanes (POS) containing from 4 to 10 Si atoms; • Hydroxylated or non-hydroxylated linear with 2 to 100 silicon atoms. Or branched P
O S 及 beauty mixtures thereof selection may POS resin be alkoxylated, it may silane be alkoxylated, - monofunctional or polyfunctional alcohols, ketones, from - and mixtures thereof The method according to claim 1, wherein the method is performed.
存在するAHHSの量に関して少なくとも0.0001
重量%の割合で混入されることを特徴とする選択される
請求項1〜5のいずれかに記載の方法。6. The inhibitor is at least 0.0001 with respect to the amount of AHHS present in the crude reaction mixture before distillation.
The method according to claim 1 which is selected, characterized in that it is incorporated in a proportion of weight%.
ロクロルシランであること、 3基の蒸留塔(I、II、III)が使用されること、 下記の蒸留パラメーター: 塔(I): ・圧力(実測バールで) 0.1≦PtI≦3 0.1≦PbI≦3 ・温度(℃) 60≦θtI≦120 90≦θbI≦150 ・rI=2±1 ・nI=5〜15 塔(II): ・圧力(実測バールで) 1≦PtII≦8 1≦PbII≦8 ・温度(℃) 30≦θtII≦85 80≦θbII≦140 ・rII=100±50 ・nII=10〜30 塔(III): ・圧力(実測バールで) 10-4≦PtIII≦1 10-4≦PbIII≦1 ・温度(℃) 35≦θtIII≦57 63≦θbIII≦87 ・rIII=20±10 ・nIII=30〜70 が選択されること を特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の方法。7. The AHHS formed is dimethylmonohydrochlorosilane, three distillation columns (I, II, III) are used, the following distillation parameters: column (I): pressure ( in actual bar) 0.1 ≦ P tI ≦ 3 0.1 ≦ P bI ≦ 3 · temperature (℃) 60 ≦ θ tI ≦ 12 0 90 ≦ θ bI ≦ 15 0 · r I = 2 ± 1 · n I = 5-15 column (II): · pressure (in actual bars) 1 ≦ P tII ≦ 8 1 ≦ P bII ≦ 8 · temperature (℃) 30 ≦ θ tII ≦ 8 5 80 ≦ θ bII ≦ 14 0 · r II = 100 ± 50 · n II = 10~30 column (III): · pressure (in actual bars) 10 -4 ≦ P tIII ≦ 1 10 -4 ≦ P bIII ≦ 1 · temperature (℃) 35 ≦ θ tIII ≦ 5 7 Write according to any one of claims 1 to 6, characterized in that 63 ≦ θ bIII ≦ 8 7 · r III = 20 ± 10 · n III = 30~70 is selected .
I)を含み、第一が特に再分配触媒及びそれの禁止剤のテ
ーリングを意図したもの、第二がアルキルジヒドロハロ
シランのトッピングを意図したもの及び第三が形成され
たAHHSと流入する蒸留流れ中にまだ存在するその他
の生成物との間の分離を意図したものであること、及び ・これらの塔には、形成されたAHHSがその他の望ま
しくない副生物に転化される副反応を接触させ得る物質
に関して活性である少なくとも1種の禁止剤を混入させ
るための手段が据え付けられていて、これらの手段は禁
止剤を塔(I)の頂部で生成した凝縮物中に移送させる
ための手段であること を特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の方法。8. At least three distillation columns (I, II, II
I), wherein the first is intended specifically for the tailing of the redistribution catalyst and its inhibitors, the second is intended for the topping of alkyldihydrohalosilanes and the third is formed.
Was AHHS and that in the distillation stream which flows are intended to separation between the still other products present, and - in these towers were formed AHHS other undesirable conversion to byproducts Are equipped with means for incorporating at least one inhibitor which is active with respect to the substances with which the side reactions mentioned can be brought into contact, these means being provided with an inhibitor at the top of column (I). 8. A method according to any of claims 1 to 7, characterized in that it is a means for transferring it into the condensate produced.
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