JP3449823B2 - Driving method of solid-state imaging device - Google Patents

Driving method of solid-state imaging device

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JP3449823B2
JP3449823B2 JP12765795A JP12765795A JP3449823B2 JP 3449823 B2 JP3449823 B2 JP 3449823B2 JP 12765795 A JP12765795 A JP 12765795A JP 12765795 A JP12765795 A JP 12765795A JP 3449823 B2 JP3449823 B2 JP 3449823B2
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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、固体撮像装置の駆動方
に関する。 【0002】 【従来の技術】固体撮像装置、例えばCCDリニアセン
サの従来例を図7に示す。同図から明らかなように、C
CDリニアセンサ100は、入射光をその光量に応じた
電荷量の信号電荷に変換して蓄積する複数個の受光部1
01が一列に配列されてなるセンサ列102と、このセ
ンサ列102の各受光部101から信号電荷を読み出す
読み出しゲート部103と、この読み出しゲート部10
3によって読み出された信号電荷を受け、これを転送す
るCCD電荷転送部104と、このCCD電荷転送部1
04の転送先の端部に設けられて信号電荷を検出し、信
号電圧に変換する電荷検出部105と、この電荷検出部
105からの信号電圧を出力する出力回路106とを有
する構成となっている。 【0003】このCCDリニアセンサ100には、読み
出しパルス入力端子107を介して読み出しゲートパル
スφROGが、転送パルス入力端子108a,108b
を介して2相の転送パルスφH1,φH2がそれぞれ外
部から入力される。読み出しゲートパルスφROGは読
み出しゲート部103のゲート電極(図示せず)に印加
され、2相の転送パルスφH1,φH2はCCD電荷転
送部104の転送電極(図示せず)に印加される。ま
た、出力回路106からの出力信号Voutは、出力端
子109を介して外部へ出力される。 【0004】 【発明が解決しようとする課題】この種のCCDリニア
センサは、バーコードリーダなどに組み込んで用いられ
る。ところで、CCDリニアセンサが組み込まれるバー
コードリーダなどでは、その駆動電源として電池が多用
される傾向にあることから、低消費電力化が望まれる。
これに伴い、CCDリニアセンサの低電圧駆動化が進め
られている。このように、CCDリニアセンサを低電圧
で駆動した場合、図8において、受光部101から信号
電荷を読み出す際に読み出しゲート部103のゲート電
極111に印加される読み出しゲートパルスφROGの
振幅を十分に確保できないため、ゲート電極111の下
のポテンシャルが十分に深くなりきれず、受光部101
と電荷転送部104との間にポテンシャルの山112が
できてしまう。 【0005】このため、受光部101に蓄積されている
信号電荷は、電荷転送部104に完全に転送されず、そ
の一部が図8に実線で示すポテンシャルの山112で阻
止されることによって受光部101内に残ってしまう。
この残存した信号電荷は、残像として次の信号期間に影
響を与える。すなわち、CCDリニアセンサの駆動電圧
をただ単に一律に低電圧化した場合には、受光部101
からCCD電荷転送部104への信号電荷の読み出し能
力が損なわれることになるため、残像特性に悪影響を及
ぼすことになる。 【0006】このような問題を解決する対策として、C
CDリニアセンサの駆動電圧の低電圧化の下で、読み出
しゲート部103のゲート電極111にのみ高電圧の読
み出しゲートパルスφROGを与える方法がある。これ
によれば、読み出しゲートパルスφROGの振幅を十分
に確保できることにより、図8に点線で示すように、ゲ
ート電極111の下のポテンシャルが十分に深くなるの
で、受光部101から電荷転送部104への信号電荷の
転送残しの問題を解消できる。しかしながら、これを外
部回路にて実現した場合、高電圧の読み出しゲートパル
スφROGを発生するための電源を別に用意する必要が
あるなどのデメリットが生じる。 【0007】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、受光部から電荷転送
部へ信号電荷を読み出す際の転送残しの問題を外部に別
電源を用意することなく解消し、駆動電圧の低電圧化を
可能とした固体撮像装置の駆動方法を提供することにあ
る。 【0008】 【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、センサ部、読み出しゲート部および電
荷転送部と同一基板上に実装された昇圧回路とを具備し
て、センサ部の各受光部に蓄積された信号電荷を、セン
サ部側に配された読み出しゲート電極と電荷転送部側に
配された転送ゲート電極とを有する読み出しゲート部を
介して電荷転送部に読み出し、この電荷転送部にて信号
電荷を順次転送する固体撮像装置において、センサ部の
電荷蓄積期間内に前記昇圧回路によって駆動電圧を昇圧
しつつ読み出しゲート部の読み出しゲート電極に印加す
ることによって受光部で光電変換された信号電荷を読み
出してその下のバッファ段に蓄積する。 【0009】そして、電荷蓄積期間経過後の所定のタイ
ミングで読み出しゲートパルスを読み出しゲート部の転
送ゲート電極に印加するとともに、前記読み出しゲート
部の転送ゲート電極に読み出しゲートパルスを印加する
のと同期して、前記読み出しゲート部の読み出しゲート
電極に印加されていた駆動電圧を降圧させることによっ
てバッファ段に蓄積された信号電荷を電荷転送部に転送
するようにする。 【0010】 【作用】センサ部の各受光部に蓄積された信号電荷を、
センサ部側に配された読み出しゲート電極と電荷転送部
側に配された転送ゲート電極とを有する読み出しゲート
部を介して電荷転送部に読み出し、この電荷転送部にて
信号電荷を順次転送する固体撮像装置において、センサ
部、読み出しゲート部および電荷転送部と同一基板上に
実装(いわゆる、オンチップ化)された昇圧回路は、
体撮像装置の駆動電圧を昇圧することによって高電圧を
内部で生成する。この昇圧回路で得られる高電圧の昇圧
電圧を読み出しゲート部のゲート電極に印加すること
で、駆動電圧を低電圧化した場合でも、読み出しゲート
パルスの振幅を十分に確保できる。したがって、外部に
別電源を用意して高電圧を取り込まなくても、受光部に
蓄積された信号電荷を転送残しすることなく電荷転送部
へ読み出すことができる。 【0011】また、昇圧は瞬時に行うことはできないこ
とから、昇圧動作をセンサ部の電荷蓄積期間内に行うこ
とで、この電荷蓄積期間内で読み出しゲート電極に印加
される電圧が徐々に上昇する。すると、受光部で光電変
換された信号電荷が徐々に読み出しゲート電極下のバッ
ファ段に読み出され、電荷蓄積期間内にその読み出しが
完了する。このように、一旦バッファ段に信号電荷を蓄
積することで、電荷蓄積期間に転送動作を行う電荷転送
部からの電荷の飛び込みなどを回避できる。そして、電
荷蓄積期間経過後の所定のタイミングで転送ゲート電極
に読み出しゲートパルスを印加するとともに、これと同
期して読み出しゲート部の読み出しゲート電極に印加さ
れていた駆動電圧を降圧させることで、バッファ段に一
旦蓄積された信号電荷を電荷転送部に転送する。 【0012】 【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
つつ詳細に説明する。図1は、例えばCCDリニアセン
サに適用された本発明の一実施例を示す構成図である。
図1において、入射光をその光量に応じた電荷量の信号
電荷に変換する複数個の受光部11が、直線状に一列に
配列されてセンサ列12を構成している。このセンサ列
12の各受光部11で光電変換された信号電荷は、読み
出しゲート部13を介してCCD電荷転送部14に読み
出される。読み出しゲート部13には、センサ列12側
に各受光部11ごとに配された読み出しゲート電極15
とCCD電荷転送部14側に各受光部11ごとに配され
た転送ゲート電極16とが設けられている。図2に、そ
の1画素分の具体的な構成を示す。 【0013】CCD電荷転送部14は、読み出しゲート
部13によってセンサ列12から各受光部11毎に読み
出された信号電荷を受け、これを図の右から左方向へ順
次転送する。このCCD電荷転送部14の転送先の端部
には、CCD電荷転送部14によって転送されてきた信
号電荷を検出し、これを信号電圧に変換する例えばFD
A(Floating Diffusion Amplifier)構成の電荷検出部1
7が設けられている。この電荷検出部17で検出された
信号電圧は、ソースフォロワ回路などからなる出力回路
18に供給される。 【0014】上記構成のCCDリニアセンサ10には、
読み出しパルス入力端子19を介して読み出しゲートパ
ルスφROG1が、転送パルス入力端子20a,20b
を介して2相の転送パルスφH1,φH2がそれぞれ外
部から入力される。読み出しゲートパルスφROG1は
1信号期間(1ライン分の信号電荷を電荷転送部14が
転送完了させる時間)に1回読み出しゲート部13の転
送ゲート電極16に印加され、2相の転送パルスφH
1,φH2は受光部11の電荷蓄積期間において電荷転
送部14の転送電極(図示せず)に印加される。出力回
路18からの出力信号Voutは、出力端子21を介し
て外部へ出力される。 【0015】また、センサ列12、読み出しゲート部1
3、電荷転送部14などと同一の基板上に、例えば、互
いに逆相である2相の転送パルスφH1,φH2に基づ
いて昇圧動作を行い、その昇圧電圧を読み出しゲート部
13の読み出しゲート電極15に読み出しゲートパルス
φROG2として印加するチャージポンプ式昇圧回路2
2が設けられている。ここで、2相の転送パルスφH
1,φH2は、受光部11の電荷蓄積期間においてのみ
入力されるものである。その結果、チャージポンプ式昇
圧回路22では、受光部11の電荷蓄積期間内に昇圧動
作が行われることになる。 【0016】図3に、チャージポンプ式昇圧回路22の
構成の一例を示す。本例では、3段構成のものを示す
が、これに限定されるものではなく、2段もしくは4段
以上の多段構成のものであっても良い。図3において、
電源Vddと回路出力端31との間には、ゲートおよび
ドレインが共通接続されたダイオード接続の3個の昇圧
用MOSトランジスタQ1,Q2,Q3が、電源Vdd
側から回路出力端31側に向けて順方向に直列接続され
ている。 【0017】そして、2段目のMOSトランジスタQ2
のソースと3段目のMOSトランジスタQ3のドレイン
(ゲート)との共通接続点には、インバータ32および
コンデンサC1を介して転送パルスφH1が印加され、
1段目のMOSトランジスタQ1のソースと2段目のM
OSトランジスタQ2のドレイン(ゲート)との共通接
続点には、インバータ33およびコンデンサC2を介し
て転送パルスφH2が印加される。 【0018】また、回路出力端31とグランドの間には
負荷コンデンサCLが接続され、さらにこの負荷コンデ
ンサCLにはリセット用MOSトランジスタQ4が並列
に接続されている。このリセット用MOSトランジスタ
Q4のゲートには、読み出しゲートパルスφROG1が
2段縦続接続されたインバータ34,35を介して印加
される。これにより、負荷コンデンサCLの充電電荷が
リセットされる。そして、駆動電圧(電源Vddの電
圧)を3倍に昇圧したパルス電圧が読み出しゲートパル
スφROG2として回路出力端31に得られ、この読み
出しゲートパルスφROG2が読み出しゲート部13の
読み出しゲート電極15に印加される。 【0019】次に、上記構成のチャージポンプ式昇圧回
路22の昇圧動作について、図4のタイミングチャート
に基づいて説明する。なお、以下の動作説明では、簡単
のため、昇圧用MOSトランジスタQ1〜Q3の閾値V
thを無視して説明するものとする。先ず、受光部11
の電荷蓄積期間に入る直前のタイミングで、“H”レベ
ルの読み出しゲートパルスφROG1がインバータ3
4,35を介してリセット用MOSトランジスタQ4の
ゲートに印加され、当該MOSトランジスタQ4がオン
することで、負荷コンデンサCLの充電電荷がリセット
され、読み出しゲートパルスφROG2の電圧は0とな
っている。この状態から、電荷蓄積期間に移行すると、
それまで“H”レベル(Vddレベル)に固定となって
いた転送パルスφH1および“L”レベル(0レベル)
に固定となっていた転送パルスφH2が一定周期での反
転動作を開始する。 【0020】この電荷蓄積期間において、先ず、転送パ
ルスφH1が“L”レベルに反転すると、これがインバ
ータ32で反転されて波高値Vddのパルスとなり、コ
ンデンサC1および昇圧用MOSトランジスタQ3を介
して負荷コンデンサCLを充電する。そして、転送パル
スφH1が反転して“H”レベルになっても、逆相の転
送パルスφH2が“L”レベルとなるため、これがイン
バータ33で反転されて波高値Vddのパルスとなり、
コンデンサC2および昇圧用MOSトランジスタQ2,
Q3を介して負荷コンデンサCLの充電を継続する。し
たがって、最初の1周期目では、読み出しゲートパルス
φROG2の波高値はVddとなる。 【0021】次の周期で転送パルスφH1が再び“L”
レベルに反転すると、これがインバータ32で反転され
て昇圧用MOSトランジスタQ2のソース電圧Vddに
重畳されることで、2Vddの電圧にて負荷コンデンサ
CLを充電する。そして、転送パルスφH1が反転して
“H”レベルになっても、転送パルスφH2が“L”レ
ベルとなるため、これがインバータ33で反転されて波
高値Vddのパルスとなり、コンデンサC2を介して昇
圧用MOSトランジスタQ2のソース電圧Vddに重畳
され、昇圧用MOSトランジスタQ3を介して負荷コン
デンサCLの充電を継続する。したがって、2周期目で
は、読み出しゲートパルスφROG2の波高値は2Vd
dとなる。 【0022】さらに次の周期で転送パルスφH1が再度
“L”レベルに反転すると、これがインバータ32で反
転されて昇圧用MOSトランジスタQ2のソース電圧2
Vddに重畳されることで、3Vddの電圧にて負荷コ
ンデンサCLを充電する。そして、転送パルスφH1が
反転して“H”レベルになっても、転送パルスφH2が
“L”レベルとなるため、これがインバータ33て反転
されて波高値Vddのパルスとなり、コンデンサC2を
介して昇圧用MOSトランジスタQ2のソース電圧2V
ddに重畳され、昇圧用MOSトランジスタQ3を介し
て負荷コンデンサCLの充電を継続する。したがって、
3周期目では、読み出しゲートパルスφROG2の波高
値は3Vddとなる。 【0023】以上説明したの昇圧動作により、電荷蓄積
期間中にCCDリニアセンサ10の駆動電圧Vddを徐
々に昇圧し、最終的に約3倍の電圧まで昇圧できる。こ
うして得られた3Vddの読み出しゲートパルスφRO
G2は、読み出しゲート部13の読み出しゲート電極1
5に印加される。このように、チャージポンプ式昇圧回
路22を用いてCCDリニアセンサ10の駆動電圧Vd
dを昇圧することによって高電圧の読み出しゲートパル
スφROG2を内部で生成し、この読み出しゲートパル
スφROG2を用いて受光部11の信号電荷をCCD電
荷転送部14へ読み出す際の動作について、図5のポテ
ンシャル図を参照しつつ説明する。 【0024】図5において、動作モード(A),
(B),(C)の各ポテンシャルは、図4のA,B,C
の各タイミングにおける図2のA‐A′線断面でのポテ
ンシャル分布をそれぞれ示している。先ず、動作モード
(A)では、チャージポンプ式昇圧回路22において電
荷蓄積期間内に徐々に昇圧して得られる読み出しゲート
パルスφROG2が読み出しゲート電極15に印加され
ることで、読み出しゲート電極15の下のバッファ段の
ポテンシャルが徐々に深くなる。 【0025】これに伴い、受光部11での光電変換によ
って得られる信号電荷が読み出しゲート電極15の下の
バッファ段に読み出される。このとき、読み出しゲート
部13の転送ゲート電極16に印加される読み出しゲー
トパルスφROG1は“L”レベルにあるので、転送ゲ
ート電極16の下のポテンシャルは浅くなっている。し
たがって、受光部11から読み出しゲート電極15の下
のバッファ段に読み出された信号電荷は、当該バッファ
段に蓄積される。 【0026】次に、動作モード(B)では、“H”レベ
ルの読み出しゲートパルスφROG1が読み出しゲート
部15の転送ゲート電極16に印加されることで、転送
ゲート電極16の下のポテンシャルが深くなると同時
に、読み出しゲートパルスφROG2が0Vとなること
で、読み出しゲート電極15の下のバッファ段のポテン
シャルが浅くなる。これにより、バッファ段に蓄積され
た信号電荷が転送ゲート電極16の下に転送される。次
に、動作モード(C)では、読み出しゲートパルスφR
OG1が“L”レベルに反転することで、転送ゲート電
極16の下のポテンシャルが浅くなり、転送ゲート電極
16の下の信号電荷が最終的に電荷転送部14に転送さ
れる。 【0027】上述したように、CCDリニアセンサ10
において、同一の基板上に昇圧回路22を実装し、この
昇圧回路22によって駆動電圧Vddを昇圧することに
よって高電圧(本例では、3Vdd)の読み出しゲート
パルスφROG2を生成し、これを読み出しゲート部1
3の読み出しゲート電極15に印加するようにしたこと
により、外部から高電圧を取り込んで高電圧の読み出し
ゲートパルスφROG2を生成しなくても、受光部11
から電荷転送部14へ信号電荷を完全に読み出すことが
できる。これにより、外部に別電源を用意し、特別な電
圧を与えたり、特別な入力端子を用意したりしなくて
も、低電圧にてCCDリニアセンサ10を駆動すること
が可能となる。 【0028】また、昇圧回路の昇圧動作、特にチャージ
ポンプ式の昇圧回路22の昇圧動作には時間を要するこ
とになるが、読み出しゲートパルスφROG2の昇圧動
作を受光部11の電荷蓄積期間内で行うようにしたこと
により、受光部11で光電変換された信号電荷が読み出
しゲートパルスφROG2の昇圧に連れて読み出しゲー
ト電極15の下のバッファ段に読み出され、電荷蓄積期
間の終了と同時に読み出し動作も完了するので、受光部
11からの信号電荷の読み出しのための時間を特別に設
けなくて済むことになる。 【0029】なお、読み出しゲートパルスφROG2の
昇圧動作を受光部11の電荷蓄積期間内で行うために、
本実施例では、チャージポンプ式昇圧回路22を駆動す
るための互いに逆相の2相の駆動パルスとして電荷転送
部14を駆動するための2相の転送パルスφH1,φH
2を用いた。これによれば、転送パルスφH1,φH2
は電荷蓄積期間においてのみ反転動作を行うパルスであ
ることから、転送パルスφH1,φH2に対してタイミ
ング制御などの信号処理を施すことが全く必要なく、そ
のまま使用できる利点がある。 【0030】ただし、チャージポンプ式昇圧回路22の
2相の駆動パルスとしては、CCD電荷転送部14の転
送パルスφH1,φH2に限られるものではない。例え
ば、各種のタイミング信号を発生する内部タイミング発
生回路(図示せず)のためのマスタクロックや、当該内
部タイミング発生回路で生成されたパルスを用いること
も可能である。この場合には、マスタクロックなどに基
づいて互いに逆相の2相のパルスを生成するための回路
を追加する必要があることから、転送パルスφH1,φ
H2を用いる場合よりも回路構成が若干複雑になる。 【0031】また、読み出しゲート部13に読み出しゲ
ート電極15と転送ゲート電極16とを設け、読み出し
ゲート部13を2段ゲート構造としたことにより、転送
ゲート電極16の下のポテンシャルが、電荷蓄積期間中
に電荷転送部14の信号電荷が読み出しゲート電極15
の下のバッファ段の蓄積された信号電荷に混入するのを
阻止するバリアとして機能する。すなわち、電荷蓄積期
間中、電荷転送部14では転送動作が行われることにな
るが、その転送中の信号電荷が読み出しゲート電極15
の下のバッファ段に飛び込むのを未然に防止できる。こ
れにより、電荷蓄積期間内に受光部11から信号電荷を
読み出すようにしても、混色などの不具合が発生する心
配はない。 【0032】ところで、上記実施例では、昇圧回路とし
て、2相の駆動パルスを用いた多段のチャージポンプ式
昇圧回路を使用した場合について説明したが、これに限
定されるものではなく、図6に示す如き単相の駆動パル
スを用いた1段のチャージポンプ式昇圧回路を用いるこ
とも可能である。以下、この1段のチャージポンプ式昇
圧回路の具体的な回路構成について説明する。 【0033】図6において、読み出しゲートパルスφR
OG1は、縦続接続された5個のインバータ61〜65
を経てNANDゲート66の一方の入力となり、さらに
縦続接続された3個のインバータ67〜69を経てMO
SトランジスタQ61のドレインに印加されるととも
に、NANDゲート70の一入力となる。読み出しゲー
トパルスφROG1はさらに、直接NANDゲート6
6,70の各他方の入力となるとともに、インバータ7
1で反転されてMOSトランジスタ62のゲート入力と
なる。 【0034】NANDゲート66の出力は、インバータ
72で反転されてMOSトランジスタQ61のゲート入
力となる。MOSトランジスタQ61のソースは、MO
SトランジスタQ62のドレインに接続され、MOSト
ランジスタQ62のソースは接地されている。MOSト
ランジスタQ61,Q62のソース・ドレイン共通接続
点は回路出力端73に接続されている。回路出力端73
には、負荷コンデンサCLの一端が接続されている。こ
の負荷コンデンサCLの他端には、NANDゲート70
の出力がインバータ74で反転されて印加される。 【0035】上記構成のチャージポンプ式昇圧回路を用
いることで、駆動電圧Vddをほぼ2倍の電圧まで昇圧
することができる。ただし、CCDリニアセンサの駆動
電圧Vddをさらに低電圧化した場合に、図6のチャー
ジポンプ式昇圧回路を用いたのでは、2倍の電圧までの
昇圧が限度であるため、読み出しゲートパルスφROG
2の振幅を十分確保できないことになってしまう。この
観点からすれば、図3の多段式のチャージポンプ式昇圧
回路の方が、その段数を自由に増やすことができること
から、CCDリニアセンサの駆動電圧Vddをさらに低
電圧化した場合にも十分に対応できる利点がある。 【0036】なお、上記実施例では、リニアセンサに適
用した場合について説明したが、これに限定されるもの
ではなく、受光部が2次元配列されたエリアセンサにも
同様に適用し得るものである。 【0037】 【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
センサ部の各受光部に蓄積された信号電荷を、読み出し
ゲート部を介して電荷転送部に読み出し、この電荷転送
部にて信号電荷を順次転送する固体撮像装置において、
駆動電圧を昇圧して得られる昇圧電圧を読み出しゲート
部のゲート電極に印加する構成としたことにより、外部
から高電圧を取り込まなくても、内部生成の読み出しゲ
ートパルスにて受光部から電荷転送部へ信号電荷を完全
に読み出すことができるので、外部に別電源を用意し、
特別な電圧を与えたり、特別な入力端子を用意したりし
なくても、低電圧でデバイスを駆動することが可能とな
る。 【0038】また、読み出しゲート部がセンサ部側に配
された読み出しゲート電極と電荷転送部側に配された転
送ゲート電極とを有する固体撮像装置において、センサ
部の電荷蓄積期間内に駆動電圧を昇圧しつつ読み出しゲ
ート部の読み出しゲート電極に印加することによって受
光部で光電変換された信号電荷を読み出してその下のバ
ッファ段に蓄積し、電荷蓄積期間経過後の所定のタイミ
ングで読み出しパルスを読み出しゲート部の転送ゲート
電極に印加することによってバッファ段に蓄積された信
号電荷を電荷転送部に転送するようにしたことにより、
昇圧に時間を要しても電荷蓄積期間内に受光部からの信
号電荷の読み出しを完了でき、しかも読み出した信号電
荷中に電荷転送部からの信号電荷が混入することも防止
できるので、信号電荷の混入による混色などを防止しつ
つ短時間にかつ確実に信号電荷を読み出すことが可能と
なる。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for driving a solid-state imaging device.
About the law . 2. Description of the Related Art FIG. 7 shows a conventional example of a solid-state imaging device, for example, a CCD linear sensor. As is apparent from FIG.
The CD linear sensor 100 includes a plurality of light receiving units 1 for converting incident light into signal charges having a charge amount corresponding to the light amount and storing the signal charges.
01 are arranged in a line, a read gate unit 103 for reading signal charges from each light receiving unit 101 of the sensor line 102, and a read gate unit 10
3, a CCD charge transfer unit 104 for receiving and transferring the signal charges read out by the CCD charge transfer unit 1;
The charge detection unit 105 is provided at the end of the transfer destination of No. 04 to detect a signal charge and convert the signal charge into a signal voltage, and an output circuit 106 that outputs a signal voltage from the charge detection unit 105. I have. In this CCD linear sensor 100, a read gate pulse φROG is applied via a read pulse input terminal 107 to transfer pulse input terminals 108a and 108b.
, Two-phase transfer pulses φH1 and φH2 are input from outside. The read gate pulse φROG is applied to a gate electrode (not shown) of the read gate unit 103, and the two-phase transfer pulses φH1 and φH2 are applied to transfer electrodes (not shown) of the CCD charge transfer unit 104. The output signal Vout from the output circuit 106 is output to the outside via the output terminal 109. [0004] This type of CCD linear sensor is used by being incorporated in a bar code reader or the like. By the way, in a bar code reader or the like in which a CCD linear sensor is incorporated, a battery is often used as a driving power source, and therefore, low power consumption is desired.
Accordingly, low-voltage driving of the CCD linear sensor has been promoted. As described above, when the CCD linear sensor is driven at a low voltage, the amplitude of the read gate pulse φROG applied to the gate electrode 111 of the read gate unit 103 when the signal charge is read from the light receiving unit 101 in FIG. Since the potential cannot be secured, the potential under the gate electrode 111 cannot be sufficiently deep, and the light receiving portion 101
A potential peak 112 is formed between the charge transfer unit 104 and the charge transfer unit 104. For this reason, the signal charges stored in the light receiving section 101 are not completely transferred to the charge transfer section 104, and a part thereof is blocked by a potential peak 112 shown by a solid line in FIG. It remains in the unit 101.
This remaining signal charge affects the next signal period as an afterimage. That is, when the driving voltage of the CCD linear sensor is simply lowered uniformly, the light receiving unit 101
In this case, the ability to read signal charges from the CCD to the CCD charge transfer unit 104 is impaired, which adversely affects the afterimage characteristics. As a measure to solve such a problem, C
There is a method in which a high-voltage read gate pulse φROG is applied only to the gate electrode 111 of the read gate unit 103 while the drive voltage of the CD linear sensor is reduced. According to this, since the amplitude of the read gate pulse φROG can be sufficiently secured, the potential under the gate electrode 111 becomes sufficiently deep as shown by the dotted line in FIG. Can be solved. However, when this is realized by an external circuit, there are disadvantages such as the necessity of separately preparing a power supply for generating the high-voltage read gate pulse φROG. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to prepare a separate power supply outside in order to solve the problem of transfer residue when reading signal charges from a light receiving section to a charge transfer section. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for driving a solid-state imaging device which can solve the problem without reducing the driving voltage. In order to achieve the above object, the present invention provides a sensor unit, a read gate unit, and a power supply.
A load transfer unit and a booster circuit mounted on the same substrate.
The signal charge accumulated in each light receiving unit of the sensor unit is transferred to a charge transfer unit via a read gate unit having a read gate electrode arranged on the sensor unit side and a transfer gate electrode arranged on the charge transfer unit side. In the solid-state imaging device in which the signal charge is sequentially transferred by the charge transfer unit , the drive voltage is boosted by the booster circuit during the charge accumulation period of the sensor unit and applied to the read gate electrode of the read gate unit. The signal charge photoelectrically converted by the light receiving unit is read and stored in a buffer stage below the signal charge. Then, a predetermined time after the charge accumulation period elapses.
The read gate pulse is read by
And a read gate.
Read gate pulse to transfer gate electrode
In synchronization with the read gate of the read gate unit
By reducing the drive voltage applied to the electrodes,
Transfer the signal charge accumulated in the buffer stage to the charge transfer section
To do it. The signal charges accumulated in each light receiving section of the sensor section are
A solid-state circuit that reads signals to a charge transfer unit via a read gate unit having a read gate electrode disposed on the sensor unit side and a transfer gate electrode disposed on the charge transfer unit side, and sequentially transfers signal charges in the charge transfer unit. In an imaging device, a sensor
Section, readout gate section and charge transfer section on the same substrate
The mounted (so-called on-chip) booster circuit boosts the driving voltage of the solid-state imaging device to generate a high voltage.
Generate internally. By applying a high boosted voltage obtained by the booster circuit to the gate electrode of the read gate portion, the amplitude of the read gate pulse can be sufficiently ensured even when the drive voltage is reduced. Therefore, the signal charges accumulated in the light receiving unit can be read out to the charge transfer unit without leaving the transfer, even if a separate power supply is not provided outside and a high voltage is not taken in. Since the boosting cannot be performed instantaneously, by performing the boosting operation within the charge accumulation period of the sensor section, the voltage applied to the read gate electrode gradually increases during this charge accumulation period. . Then, the signal charge photoelectrically converted by the light receiving unit is gradually read out to the buffer stage below the readout gate electrode, and the readout is completed within the charge accumulation period. As described above, by temporarily storing the signal charges in the buffer stage, it is possible to avoid a jump of charges from the charge transfer unit performing the transfer operation during the charge storage period. Then, a readout gate pulse is applied to the transfer gate electrode at a predetermined timing after the elapse of the charge accumulation period, and the readout gate pulse is applied at the same time.
Applied to the read gate electrode of the read gate
By lowering the driving voltage, the signal charge once accumulated in the buffer stage is transferred to the charge transfer unit. Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram showing one embodiment of the present invention applied to, for example, a CCD linear sensor.
In FIG. 1, a plurality of light receiving units 11 that convert incident light into signal charges having a charge amount corresponding to the light amount are linearly arranged in a row to form a sensor row 12. The signal charge photoelectrically converted by each light receiving unit 11 of the sensor array 12 is read out to the CCD charge transfer unit 14 via the readout gate unit 13. The read gate unit 13 includes a read gate electrode 15 arranged for each light receiving unit 11 on the sensor row 12 side.
And a transfer gate electrode 16 arranged for each light receiving unit 11 on the CCD charge transfer unit 14 side. FIG. 2 shows a specific configuration for one pixel. The CCD charge transfer section 14 receives signal charges read out from the sensor array 12 for each light receiving section 11 by the readout gate section 13 and sequentially transfers the signal charges from right to left in the drawing. At the end of the transfer destination of the CCD charge transfer unit 14, a signal charge transferred by the CCD charge transfer unit 14 is detected and converted into a signal voltage, for example, FD.
Charge detection unit 1 having A (Floating Diffusion Amplifier) configuration
7 are provided. The signal voltage detected by the charge detection unit 17 is supplied to an output circuit 18 including a source follower circuit and the like. The CCD linear sensor 10 having the above configuration includes:
The read gate pulse φROG1 is transferred via the read pulse input terminal 19 to the transfer pulse input terminals 20a and 20b.
, Two-phase transfer pulses φH1 and φH2 are input from outside. The read gate pulse φROG1 is applied to the transfer gate electrode 16 of the read gate unit 13 once in one signal period (time during which the charge transfer unit 14 completes the transfer of the signal charges for one line), and the two-phase transfer pulse φH is applied.
1 and φH2 are applied to a transfer electrode (not shown) of the charge transfer unit 14 during the charge accumulation period of the light receiving unit 11. The output signal Vout from the output circuit 18 is output to the outside via the output terminal 21. The sensor array 12, the read gate unit 1
3. A boosting operation is performed on the same substrate as the charge transfer unit 14 and the like based on, for example, two-phase transfer pulses φH1 and φH2 having opposite phases to each other, and the boosted voltage is read by the read gate electrode 15 of the read gate unit 13. -Pump type booster circuit 2 for applying a read gate pulse φROG2 to the
2 are provided. Here, the two-phase transfer pulse φH
1, φH2 is input only during the charge accumulation period of the light receiving unit 11. As a result, in the charge pump booster circuit 22, the boost operation is performed during the charge accumulation period of the light receiving section 11. FIG. 3 shows an example of the configuration of the charge pump type booster circuit 22. In this example, a three-stage configuration is shown, but the present invention is not limited to this, and a multi-stage configuration of two or four or more stages may be used. In FIG.
Between the power supply Vdd and the circuit output terminal 31, three diode-connected boosting MOS transistors Q1, Q2, and Q3 whose gates and drains are commonly connected are connected to the power supply Vdd.
Are connected in series in the forward direction from the side toward the circuit output end 31 side. The second-stage MOS transistor Q2
A transfer pulse φH1 is applied to the common connection point between the source of the third stage and the drain (gate) of the third-stage MOS transistor Q3 via the inverter 32 and the capacitor C1,
The source of the first-stage MOS transistor Q1 and the second-stage M
A transfer pulse φH2 is applied to a common connection point with the drain (gate) of the OS transistor Q2 via the inverter 33 and the capacitor C2. A load capacitor CL is connected between the circuit output terminal 31 and the ground, and a reset MOS transistor Q4 is connected in parallel to the load capacitor CL. A read gate pulse φROG1 is applied to the gate of the reset MOS transistor Q4 via inverters 34 and 35 cascaded in two stages. Thereby, the charge of the load capacitor CL is reset. Then, a pulse voltage obtained by boosting the drive voltage (voltage of the power supply Vdd) by three times is obtained as the read gate pulse φROG2 at the circuit output terminal 31, and the read gate pulse φROG2 is applied to the read gate electrode 15 of the read gate unit 13. You. Next, the boosting operation of the charge pump type boosting circuit 22 having the above configuration will be described with reference to the timing chart of FIG. In the following description of the operation, for the sake of simplicity, the threshold V of the boosting MOS transistors Q1 to Q3 will be described.
The explanation is made ignoring th. First, the light receiving unit 11
The read gate pulse φROG1 at the “H” level is supplied to the inverter 3
The charge is applied to the gate of the reset MOS transistor Q4 via the gates 4 and 35, and when the MOS transistor Q4 is turned on, the charge of the load capacitor CL is reset, and the voltage of the read gate pulse φROG2 becomes zero. When shifting from this state to the charge accumulation period,
The transfer pulse φH1 and the “L” level (0 level), which have been fixed at the “H” level (Vdd level) until then.
The transfer pulse φH2, which has been fixed to, starts an inversion operation at a constant period. During the charge accumulation period, when the transfer pulse φH1 is first inverted to the “L” level, this is inverted by the inverter 32 to become a pulse of the peak value Vdd, and is transferred to the load capacitor via the capacitor C1 and the boosting MOS transistor Q3. Charge CL. Then, even if the transfer pulse φH1 is inverted and becomes “H” level, the transfer pulse φH2 of the opposite phase becomes “L” level, and this is inverted by the inverter 33 to become a pulse of the peak value Vdd,
Capacitor C2 and boosting MOS transistor Q2
The charging of the load capacitor CL is continued via Q3. Therefore, in the first cycle, the peak value of the read gate pulse φROG2 becomes Vdd. In the next cycle, the transfer pulse φH1 goes low again.
When the level is inverted, the level is inverted by the inverter 32 and superimposed on the source voltage Vdd of the boosting MOS transistor Q2, thereby charging the load capacitor CL with a voltage of 2Vdd. Then, even if the transfer pulse φH1 is inverted and goes to “H” level, the transfer pulse φH2 goes to “L” level. Therefore, the transfer pulse φH2 is inverted by the inverter 33 to become a pulse of the peak value Vdd, which is boosted via the capacitor C2. Superimposed on the source voltage Vdd of the MOS transistor Q2, and continues to charge the load capacitor CL via the boosting MOS transistor Q3. Therefore, in the second cycle, the peak value of the read gate pulse φROG2 is 2 Vd
d. When the transfer pulse φH1 is again inverted to the “L” level in the next cycle, this is inverted by the inverter 32 and the source voltage 2 of the boosting MOS transistor Q2 is inverted.
By being superimposed on Vdd, the load capacitor CL is charged with a voltage of 3 Vdd. Then, even if the transfer pulse φH1 is inverted and goes to “H” level, the transfer pulse φH2 goes to “L” level, and this is inverted by the inverter 33 to become a pulse of the peak value Vdd, which is boosted via the capacitor C2. Source voltage of MOS transistor Q2
Superimposed on dd, the charge of the load capacitor CL is continued via the boosting MOS transistor Q3. Therefore,
In the third cycle, the peak value of the read gate pulse φROG2 is 3 Vdd. By the above-described boosting operation, the drive voltage Vdd of the CCD linear sensor 10 is gradually increased during the charge accumulation period, and can finally be increased to about three times. The 3 Vdd read gate pulse φRO thus obtained
G2 is the read gate electrode 1 of the read gate unit 13.
5 is applied. As described above, the drive voltage Vd of the CCD linear sensor 10 is
The operation when reading out the signal charge of the light receiving unit 11 to the CCD charge transfer unit 14 using the read gate pulse φROG2 by internally generating a high-voltage read gate pulse φROG2 by boosting the potential d in FIG. This will be described with reference to the drawings. In FIG. 5, the operation modes (A),
The potentials of (B) and (C) correspond to A, B, and C in FIG.
2 respectively show potential distributions at the cross section taken along line AA 'in FIG. First, in the operation mode (A), the read gate pulse φROG2 obtained by gradually increasing the voltage in the charge accumulation period in the charge pump type booster circuit 22 is applied to the read gate electrode 15, so that the read gate pulse 15 The potential of the buffer stage gradually becomes deeper. Accordingly, signal charges obtained by photoelectric conversion in the light receiving section 11 are read out to the buffer stage below the readout gate electrode 15. At this time, since the read gate pulse φROG1 applied to the transfer gate electrode 16 of the read gate unit 13 is at the “L” level, the potential below the transfer gate electrode 16 is shallow. Therefore, signal charges read from the light receiving unit 11 to the buffer stage below the read gate electrode 15 are accumulated in the buffer stage. Next, in the operation mode (B), when the read gate pulse φROG1 of “H” level is applied to the transfer gate electrode 16 of the read gate section 15, the potential under the transfer gate electrode 16 becomes deeper. At the same time, when the read gate pulse φROG2 becomes 0 V, the potential of the buffer stage below the read gate electrode 15 becomes shallower. Thus, the signal charges accumulated in the buffer stage are transferred below the transfer gate electrode 16. Next, in the operation mode (C), the read gate pulse φR
When OG1 is inverted to the “L” level, the potential under the transfer gate electrode 16 becomes shallow, and the signal charge under the transfer gate electrode 16 is finally transferred to the charge transfer unit 14. As described above, the CCD linear sensor 10
In the above, the booster circuit 22 is mounted on the same substrate, and the booster circuit 22 boosts the drive voltage Vdd to generate a read gate pulse φROG2 of a high voltage (3 Vdd in this example), which is output to the read gate unit. 1
3 is applied to the readout gate electrode 15 so that a high voltage can be taken in from the outside to generate a high-voltage readout gate pulse φROG2 without having to generate a high-voltage readout gate pulse φROG2.
, The signal charges can be completely read out to the charge transfer unit 14. This makes it possible to drive the CCD linear sensor 10 at a low voltage without preparing a separate power supply outside and applying a special voltage or preparing a special input terminal. Although the boosting operation of the boosting circuit, particularly the boosting operation of the charge pump type boosting circuit 22, requires time, the boosting operation of the read gate pulse φROG2 is performed within the charge accumulation period of the light receiving section 11. As a result, the signal charge photoelectrically converted by the light receiving unit 11 is read out to the buffer stage below the readout gate electrode 15 with the rise of the readout gate pulse φROG2, and the readout operation is performed simultaneously with the end of the charge accumulation period. Since the process is completed, there is no need to provide a special time for reading the signal charges from the light receiving unit 11. In order to perform the boosting operation of the read gate pulse φROG2 within the charge accumulation period of the light receiving section 11,
In the present embodiment, two-phase transfer pulses φH1 and φH for driving the charge transfer unit 14 are used as two-phase drive pulses of opposite phases to drive the charge pump type booster circuit 22.
2 was used. According to this, the transfer pulses φH1, φH2
Is a pulse that performs an inversion operation only during the charge accumulation period, so that there is no need to perform any signal processing such as timing control on the transfer pulses φH1 and φH2, and there is an advantage that it can be used as it is. However, the two-phase drive pulses of the charge pump type booster circuit 22 are not limited to the transfer pulses φH1 and φH2 of the CCD charge transfer unit 14. For example, it is also possible to use a master clock for an internal timing generation circuit (not shown) that generates various timing signals, or a pulse generated by the internal timing generation circuit. In this case, it is necessary to add a circuit for generating two-phase pulses having phases opposite to each other based on a master clock or the like.
The circuit configuration is slightly more complicated than when H2 is used. Further, the read gate section 13 is provided with the read gate electrode 15 and the transfer gate electrode 16, and the read gate section 13 has a two-stage gate structure. The signal charge of the charge transfer section 14 is
Function as a barrier to prevent the stored signal charges from being mixed into the buffer stage below the buffer stage. In other words, during the charge accumulation period, the transfer operation is performed in the charge transfer unit 14, and the signal charges during the transfer are read out by the read gate electrode 15.
Can be prevented from jumping into the buffer stage below. As a result, even if the signal charges are read from the light receiving unit 11 during the charge accumulation period, there is no fear that a problem such as color mixing occurs. In the above embodiment, the case where a multi-stage charge pump type booster circuit using two-phase driving pulses is used as the booster circuit is described. However, the present invention is not limited to this. It is also possible to use a one-stage charge pump type booster circuit using a single-phase drive pulse as shown. Hereinafter, a specific circuit configuration of the one-stage charge pump type booster circuit will be described. In FIG. 6, the read gate pulse φR
OG1 is composed of five cascaded inverters 61-65.
To one input of the NAND gate 66, and further to the MO through three inverters 67 to 69 connected in cascade.
The voltage is applied to the drain of the S transistor Q61 and becomes one input of the NAND gate 70. The read gate pulse φROG1 is further supplied directly to the NAND gate 6
6 and 70 as well as an inverter 7
It is inverted by 1 and becomes the gate input of the MOS transistor 62. The output of NAND gate 66 is inverted by inverter 72 and becomes the gate input of MOS transistor Q61. The source of the MOS transistor Q61 is
Connected to the drain of S transistor Q62, the source of MOS transistor Q62 is grounded. The common source / drain connection point of the MOS transistors Q61 and Q62 is connected to the circuit output terminal 73. Circuit output terminal 73
Is connected to one end of a load capacitor CL. The other end of the load capacitor CL has a NAND gate 70
Are inverted by an inverter 74 and applied. By using the charge pump type booster circuit having the above configuration, the drive voltage Vdd can be boosted to almost twice the voltage. However, when the drive voltage Vdd of the CCD linear sensor is further reduced, the use of the charge pump type booster circuit of FIG. 6 limits the boosting to twice the voltage, so that the read gate pulse φROG
2 cannot be sufficiently secured. From this point of view, the multi-stage charge pump type booster circuit of FIG. 3 can increase the number of stages freely, so that the drive voltage Vdd of the CCD linear sensor can be sufficiently reduced even further. There are advantages that can be accommodated. In the above embodiment, the case where the present invention is applied to a linear sensor has been described. However, the present invention is not limited to this. The present invention can be similarly applied to an area sensor in which light receiving portions are two-dimensionally arranged. . As described above, according to the present invention,
In the solid-state imaging device, the signal charges accumulated in each light receiving unit of the sensor unit are read out to the charge transfer unit via the readout gate unit, and the signal transfer unit sequentially transfers the signal charges.
By applying a boosted voltage obtained by boosting the drive voltage to the gate electrode of the readout gate section, the charge transfer section can be transferred from the light receiving section to the internally generated readout gate pulse without taking in a high voltage from the outside. Since the signal charge can be completely read out, prepare another power supply externally,
The device can be driven at a low voltage without applying a special voltage or preparing a special input terminal. Further, in a solid-state imaging device having a read gate portion provided with a read gate electrode provided on the sensor portion side and a transfer gate electrode provided on the charge transfer portion side, a drive voltage is applied during a charge accumulation period of the sensor portion. By applying the voltage to the read gate electrode of the read gate unit while boosting the voltage, the signal charge photoelectrically converted by the light receiving unit is read and stored in the buffer stage below it, and the read pulse is read at a predetermined timing after the elapse of the charge storage period. By applying the signal charge accumulated in the buffer stage to the charge transfer unit by applying the voltage to the transfer gate electrode of the gate unit,
Even if it takes time to boost the voltage, it is possible to complete the reading of the signal charge from the light receiving section within the charge accumulation period, and prevent the signal charge from the charge transfer section from being mixed into the read signal charge. It is possible to read out the signal charges in a short period of time and reliably while preventing color mixing or the like due to the mixing of.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施例を示す構成図である。 【図2】読み出しゲート部周辺の1画素分の具体例を示
す構成図である。 【図3】チャージポンプ式昇圧回路の一例を示す回路図
である。 【図4】昇圧動作の説明に供するタイミングチャートで
ある。 【図5】信号電荷の読み出し動作の説明に供するポテン
シャル図である。 【図6】チャージポンプ式昇圧回路の他の例を示す回路
図である。 【図7】CCDリニアセンサの従来例を示す構成図であ
る。 【図8】従来の問題点の説明に供するポテンシャル図で
ある。 【符号の説明】 10 CCDリニアセンサ 11 受光部 12 センサ列 13 読み出しゲート部 14 CCD電荷転送部 15 読み出しゲート電極 16 転送ゲート電極 17 電荷検出部 22 チャージポンプ式昇圧回路
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram showing one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a configuration diagram illustrating a specific example of one pixel around a readout gate unit; FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an example of a charge pump type booster circuit. FIG. 4 is a timing chart for explaining a boosting operation; FIG. 5 is a potential diagram for describing a read operation of a signal charge; FIG. 6 is a circuit diagram showing another example of the charge pump type booster circuit. FIG. 7 is a configuration diagram showing a conventional example of a CCD linear sensor. FIG. 8 is a potential diagram for explaining a conventional problem. [Description of Signs] 10 CCD linear sensor 11 Light receiving section 12 Sensor row 13 Readout gate section 14 CCD charge transfer section 15 Readout gate electrode 16 Transfer gate electrode 17 Charge detection section 22 Charge pump type booster circuit

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H04N 1/024 - 1/207 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H04N 1/024-1/207

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 入射光をその光量に応じた電荷量の信号
電荷に変換して蓄積する受光部が複数個配列されてなる
センサ部と、 前記センサ部の各受光部から信号電荷を読み出す読み出
しゲート部と、 前記読み出しゲート部によって前記センサ部の各受光部
から読み出された信号電荷を転送する電荷転送部と 前記センサ部、前記読み出しゲート部および前記電荷転
送部と同一基板上に実装された昇圧回路と を具備し、 前記読み出しゲート部が前記センサ部側に配された読み
出しゲート電極と前記電荷転送部側に配された転送ゲー
ト電極とを有する固体撮像装置において、 前記センサ部の電荷蓄積期間内に前記昇圧回路によって
駆動電圧を昇圧しつつ前記読み出しゲート部の読み出し
ゲート電極に印加することによって前記センサ部の各受
光部で光電変換された信号電荷を読み出してその下のバ
ッファ段に蓄積し、 前記電荷蓄積期間経過後の所定のタイミングで読み出し
ゲートパルスを前記読み出しゲート部の転送ゲート電極
に印加するとともに、前記読み出しゲート部の転送ゲー
ト電極に読み出しゲートパルスを印加するのと同期し
て、前記昇圧回路から前記読み出しゲート部の読み出し
ゲート電極に印加されていた駆動電圧を降圧させること
によって前記バッファ段に蓄積された信号電荷を前記電
荷転送部に転送することを特徴とする駆動方法。
(57) [Claim 1] A sensor unit in which a plurality of light receiving units for arranging a plurality of light receiving units for converting incident light into signal charges having a charge amount corresponding to the amount of light and storing the signal charges are provided. A read gate for reading signal charges from each light receiving unit; a charge transfer unit for transferring signal charges read from each light receiving unit of the sensor unit by the read gate unit ; a sensor unit, the read gate unit; Charge transfer
A booster circuit mounted on the same substrate as the transfer unit , wherein the read gate unit includes a read gate electrode disposed on the sensor unit side and a transfer gate electrode disposed on the charge transfer unit side In the imaging device, the photoelectric conversion is performed in each light receiving unit of the sensor unit by applying a drive voltage to the read gate electrode of the read gate unit while boosting a driving voltage by the boosting circuit during a charge accumulation period of the sensor unit. The read signal charges are read and stored in a buffer stage below the read signal charges, and a read gate pulse is applied to a transfer gate electrode of the read gate unit at a predetermined timing after the elapse of the charge storage period , and the transfer of the read gate unit is performed. Game
Synchronized with the application of the read gate pulse to the
Reading from the read-out gate unit from the booster circuit
A driving method, wherein a signal charge accumulated in the buffer stage is transferred to the charge transfer unit by lowering a drive voltage applied to a gate electrode .
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