JP3446355B2 - How to clean metal strips - Google Patents

How to clean metal strips

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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、金属ストリップを連続
的に薬剤中で、酸洗や電解処理、めっき等の処理をし、
次いで処理後の金属ストリップを水洗浄し、残留する薬
剤を洗い流す方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a metal strip which is continuously treated with chemicals such as pickling, electrolytic treatment and plating.
Next, the present invention relates to a method of washing the treated metal strip with water to wash away the residual chemicals.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に金属ストリップの薬液処理後の水
洗浄は1〜3段程度のスプレー、もしくは浸漬槽とリン
ガロールの組み合わせで行われ、新水の補給は最終段の
スプレー洗浄タンクまたは浸漬槽洗浄タンクにて行われ
ている。この段数と補給水量は、設備設計時におおよそ
の金属ストリップへの薬剤成分残留濃度と過去の設備か
らの経験によって定められており、一度定められたら、
液濃度や金属ストリップ板厚、ライン速度等の操業条件
の変化によらず、ほぼ固定して使用するのが通常であっ
た。これは日本では比較的水が豊富で安いため、製品品
質に影響を及ぼさない、かなり安全側の値でこれらのも
のを決定しても経済的に無視できたからである。
2. Description of the Related Art Generally, water cleaning after chemical treatment of metal strips is performed by spraying about 1 to 3 stages or a combination of a dipping tank and ringarol, and replenishing fresh water with a spray washing tank or a dipping tank at the final stage. It is done in the wash tank. The number of steps and the amount of make-up water are determined by the approximate residual concentration of the chemical component on the metal strip and the experience from past facilities when designing the facility, and once determined,
Usually, it was usually fixed and used regardless of changes in operating conditions such as liquid concentration, metal strip plate thickness, and line speed. This is because in Japan, water is relatively abundant and cheap, so it does not affect product quality, and even if these values were decided at a fairly safe value, they could be ignored economically.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ような洗浄方法では例えば夏場に水不足となり、給水制
限を受けた場合、品質に影響を与えずに洗浄水を減らす
ことは難しかった。また海外等で水が必ずしも豊富でな
い地域にプラントを設置する場合、従来のような方法で
は経済的に必ずしも最適な方式とはいえなかった。
However, in the above-mentioned cleaning method, for example, when water is insufficient in the summer and water supply is restricted, it is difficult to reduce the amount of cleaning water without affecting the quality. Moreover, when installing a plant in an area where water is not always abundant, such as overseas, the conventional method has not always been economically optimal.

【0004】本発明は前記のような問題点を解決するこ
とを目的に最小限の新水補給で金属ストリップ洗浄を行
うことが可能な洗浄方法を提供することを目的とするも
のである。
An object of the present invention is to provide a cleaning method capable of cleaning a metal strip with a minimum amount of fresh water supply for the purpose of solving the above problems.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、金属ストリッ
プを連続的に薬剤中で処理し、多段のリンガーロールと
各リンガー間の洗浄水スプレーまたは浸漬槽で金属スト
リップを洗浄するに際して、洗浄新水供給量を当該設備
から排出される排水中の許容薬剤濃度により決定するこ
とを特徴とする金属ストリップの洗浄方法である。ま
た、この方法における洗浄新水供給量Q W は次式(1)
を満足するように決定してもよい。また、本発明は、金
属ストリップを連続的に薬剤中で処理し、多段のリンガ
ーロールと各リンガー間の洗浄水スプレーまたは浸漬槽
で金属ストリップを洗浄するに際して、金属ストリップ
が薬剤処理後に持出す薬液量を測定し、その値から次式
(1)を満足するように洗浄新水供給量Q W 決定する
ことを特徴とする金属ストリップの洗浄方法である
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a cleaning method for treating metal strips continuously in a chemical agent and cleaning the metal strips in a washing water spray or a dipping bath between multiple ringer rolls and each ringer. It is a method of cleaning a metal strip, characterized in that the amount of water supplied is determined by the concentration of permissible chemicals in the wastewater discharged from the facility . Well
The fresh water supply Q W in this method is calculated by the following equation (1).
May be determined so that Further, the present invention processes the metal strip continuously in the drug, when cleaning a metal strip in the wash water spray or immersion bath between multistage wringer roll and the ringer, metallic strips bring after drug treatment Measure the amount of chemical liquid and calculate the value from the following formula
A method for cleaning a metal strip is characterized in that the fresh water supply amount Q W for cleaning is determined so as to satisfy (1) .

【0006】 QW >(αA /αC )・QA …………(1) ただし、 αA :薬液槽の濃度 αC :水処理設備の受入許容薬剤濃度 QA :薬剤処理槽から持出される薬液量 である。Q W > (α A / α C ) ・ Q A ………… (1) where α A : concentration of chemical solution tank α C : acceptable concentration of chemical agent in water treatment facility Q A : from chemical treatment tank This is the amount of drug solution to be brought out.

【0007】また、本発明においては、金属ストリップ
を連続的に薬剤中で処理し、多段のリンガロールと各リ
ンガロール間の洗浄水スプレーまたは浸漬槽で金属スト
リップを洗浄するに際して、リンガロールおよび各リン
ガロール間の洗浄水スプレー段数を当該設備出側ストリ
ップに残留する許容薬剤濃度より決定することを特徴と
する金属ストリップの洗浄方法であり、本発明において
洗浄水スプレー段数nを下記漸化式(2)に基づいてα
An<αS となるように決定することを特徴とする金属ス
トリップの洗浄方法である。
Further, in the present invention, when the metal strips are continuously treated in the chemical and the metal strips are washed in a washing water spray or a dipping bath between the multi-stage ringarol and each ringarol, the ringallol and each ring A method for cleaning a metal strip, wherein the number of cleaning water spray stages between linger rolls is determined from the allowable chemical concentration remaining on the facility outlet strip, and in the present invention, the number of cleaning water spray stages n is defined by 2) based on
It is a method of cleaning a metal strip, characterized in that it is determined so that AnS.

【0008】[0008]

【数2】 [Equation 2]

【0009】また、本発明は、前記各発明において、多
段リンガロールと各リンガロール間に洗浄水スプレーを
持ち、各リンガロールおよび洗浄水スプレーの使用段数
を任意に切替可能としたことを特徴とする金属ストリッ
プの洗浄方法である。
Further, the present invention is characterized in that, in each of the above inventions, a multi-stage ringer roll and a wash water spray are provided between each ringer roll, and the number of stages used for each ringer roll and wash water spray can be arbitrarily switched. It is a method of cleaning a metal strip.

【0010】[0010]

【作用】図3(a)に一般的な金属ストリップの薬液処
理の概念図を示す。金属ストリップ1は薬液槽4により
薬液処理を受けリンガロール2で液絞りを受け、水洗槽
5で水洗ヘッダー3より水スプレーを受け洗浄される。
そして水洗槽5は何段かに連なっている。またこの水洗
槽5の一部がブラシスクラバーとなることや浸漬槽にな
ることもある。また水のかけ方も本図ではいずれの水洗
槽でも新水をかけているが、一般的にはサブタンク6を
いくつか設け、カスケードに使用することもある。そう
してかけられた洗浄用水はサブタンク6に入り、排水ポ
ンプ7により水処理設備8へ送液される。これを水バラ
ンスの点から見たのが図3(b)である。薬液槽4から
A (l/min )で薬液を持ち込み、それを新水供給量
W(l/min )で希釈して水処理設備8に送液され
る。
FIG. 3 (a) shows a conceptual diagram of general chemical treatment of a metal strip. The metal strip 1 is subjected to a chemical treatment in a chemical bath 4 and subjected to a liquid squeezing in a ringer roll 2, and is washed in a washing bath 5 with a water spray from a washing header 3.
And the washing tank 5 is connected in several steps. Further, a part of the washing tank 5 may be a brush scrubber or a dipping tank. In addition, as for the way of sprinkling water, fresh water is sprinkled in any of the washing tanks in this figure, but in general, some sub-tanks 6 may be provided and used in a cascade. The cleaning water thus applied enters the sub tank 6 and is sent to the water treatment facility 8 by the drainage pump 7. This is seen from the viewpoint of water balance in FIG. 3 (b). The chemical solution is brought in from the chemical solution tank 4 at Q A (l / min), diluted with the new water supply amount Q W (l / min), and then sent to the water treatment facility 8.

【0011】すなわち、水処理設備8への送液量Qは、 Q=QA +QW ≒QW (QA ≪QW ) …………(3) であり、希釈倍率Xは、 X=QA /QW …………(4) である。[0011] That is, feed rate Q of the water treatment facility 8, Q = Q A + Q W ≒ Q W (Q A «Q W) is ............ (3), the dilution ratio X is, X = Q A / Q W ………… (4).

【0012】一般に水処理設備では排水中の薬液成分除
去の能力の点から、受入許容薬剤濃度αC には自ずと限
界がある。薬液槽の濃度をαA とすると排液濃度αは、 α=αA ×X =αA (QA /QW ) …………(5) であり、水処理受入可能な条件は、 α<αC …………(6) と表され、これと(5)式から、必要な新水供給量QW
は QW >(αA /αC )・QA …………(7) となる。
Generally, in a water treatment facility, there is a limit to the permissible chemical concentration α C that can be received, from the viewpoint of the ability to remove chemical liquid components in waste water. Assuming that the concentration in the chemical tank is α A , the drainage concentration α is α = α A × X = α A (Q A / Q W ) ... (5), and the condition for accepting water treatment is α <Α C ………… (6), and from this and the formula (5), the required new water supply Q W
Is Q W > (α A / α C ) · Q A ………… (7).

【0013】すなわち、新水供給量QW は(7)式で決
定すればよいことがわかる。次に各水洗槽内での希釈に
ついて図4に示す。濃度αA の薬液槽からリンガロール
2で絞られた液は液膜厚t(上下)で金属ストリップに
乗り持ち出される。持出される薬液量QA は板幅W、板
速Vとして、 QA =t・W・V …………(8) となる。ここに水洗ヘッダー3より水量QW1(上下)で
水中の薬剤濃度αW1の洗浄水がかけられ、濃度αA1に希
釈された液ができ、次のリンガロールで絞られる。ここ
で、αA1は次式(9)で表される。
That is, it is understood that the fresh water supply amount Q W may be determined by the equation (7). Next, FIG. 4 shows the dilution in each washing tank. The liquid squeezed with the ringer roll 2 from the chemical solution tank of the concentration α A is carried out to the metal strip with the liquid film thickness t (upper and lower). The amount Q A of the chemical solution brought out is Q A = t · W · V (8) as the plate width W and the plate speed V. Here the wash water of the washing header 3 from the water Q W1 drug concentration in water in the (vertical) alpha W1 is applied, it is a liquid which is diluted to a concentration alpha A1, squeezed by the following ringer roll. Here, α A1 is expressed by the following equation (9).

【0014】[0014]

【数3】 [Equation 3]

【0015】2段目以降も同様であるので以下の漸化式
で近似できる。
Since the same applies to the second and subsequent stages, it can be approximated by the following recurrence formula.

【0016】[0016]

【数4】 [Equation 4]

【0017】金属ストリップに残留する許容薬剤濃度α
S として、(11)式から、必要な洗浄水スプレー段数
nを決定すればよいことがわかる。
Allowable drug concentration α remaining on the metal strip
As S , it can be seen from the equation (11) that the required number of cleaning water spray stages n should be determined.

【0018】[0018]

【数5】 [Equation 5]

【0019】[0019]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を説明する。
図1は本発明による方法の1例を示す説明図である。金
属ストリップ1は薬液槽4を通過後、水洗槽5に入る。
水洗槽5はリンガロール2により数段に分割され、各リ
ンガロール間には水洗ヘッダー3が設置されている。各
水洗ヘッダー3への供給管には自動弁11が設置されプ
ロセスコンピュータ(P/C)12の演算結果により水
洗段数が変更可能となっている。またこの洗浄水供給部
には流調弁9、流量計10、流量コントローラ18が設
置され、プロセスコンピュータ12の演算結果により洗
浄新水供給量を変更可能としている。そして金属ストリ
ップを洗浄した水は最終的にはサブタンク6に導かれ、
排水ポンプ7により水処理設備8へ送液される。また薬
液槽4へはストリップの液持出しに対応して原液タンク
17より補給ポンプ16により薬液補給がされる。
EXAMPLES The present invention will be described below based on examples.
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an example of a method according to the present invention. The metal strip 1 passes through the chemical liquid tank 4 and then enters the water washing tank 5.
The washing tank 5 is divided into several stages by the ringer rolls 2, and a washing header 3 is installed between each ringer roll. An automatic valve 11 is installed in the supply pipe to each washing header 3, and the number of washing stages can be changed according to the calculation result of the process computer (P / C) 12. Further, a flow control valve 9, a flow meter 10, and a flow controller 18 are installed in this washing water supply unit, and the amount of fresh water supplied can be changed according to the calculation result of the process computer 12. Then, the water used to wash the metal strip is finally guided to the sub tank 6,
Liquid is sent to the water treatment facility 8 by the drainage pump 7. Further, the chemical solution is replenished from the stock solution tank 17 to the chemical solution tank 4 by the replenishment pump 16 in correspondence with taking out of the strip.

【0020】以上のような構成の設備においてプロセス
コンピュータ12において薬液槽出側に液膜厚計14を
設置し、その値tとブライドルロール19に設置された
PLG13の出力から得られるライン速度V、そしてホ
ストコンピュータ(H/C)20から与えられる板幅W
より金属ストリップにより持出される薬液量QA =t・
W・Vを計算する。次に(7)式で新水供給量を計算
し、その値を流量コントローラ(FIC)18に設定す
る。これにより流量コントローラ18は流量計10での
測定値と設定値を比較して流調弁9の開度を決定する。
またプロセスコンピュータ12は(11)式より必要な
洗浄水スプレー段数を計算し、その結果自動弁11およ
びリンガロール2の開閉を決定する。
In the equipment having the above construction, a liquid film thickness meter 14 is installed on the process liquid side of the process computer 12, and the value t and the line speed V obtained from the output of the PLG 13 installed on the bridle roll 19, The board width W given from the host computer (H / C) 20
Amount of chemical liquid carried out by the metal strip Q A = t ・
Calculate W · V. Next, the fresh water supply amount is calculated by the equation (7), and the value is set in the flow rate controller (FIC) 18. Accordingly, the flow rate controller 18 determines the opening degree of the flow control valve 9 by comparing the measured value of the flow meter 10 with the set value.
Further, the process computer 12 calculates the required number of cleaning water spray stages from the equation (11), and as a result determines whether to open or close the automatic valve 11 and the ringer roll 2.

【0021】以上の説明では薬液の持出し量QA を決定
するのに液膜厚計の出力を用いたが、膜厚をある値に仮
定して板幅と板速から算出してもよい。またQA の値と
して薬液槽への原液補給量を流量計15により測定し、
それを用いることもできる。その他濃度計22により排
水濃度を直接測定し、新水量QW を決定することもでき
る。
In the above description, the output of the liquid film thickness meter was used to determine the carry-out amount Q A of the chemical liquid, but it may be calculated from the plate width and the plate speed assuming the film thickness to be a certain value. Also, as the value of Q A, the amount of the stock solution supplied to the chemical solution tank is measured by the flow meter 15,
It can also be used. It is also possible to directly measure the wastewater concentration with the densitometer 22 and determine the new water amount Q W.

【0022】図2は本発明による方法の他の例(カスケ
ード方式)を示す説明図である。この例では洗浄水の使
い方がカスケードとなっているが、新水供給の方法すな
わち流調弁9、流量計10、流量コントローラ18の使
い方は、図1の例と同様である。この実施例ではプロセ
スコンピュータ12は(11)式より必要な洗浄水スプ
レー段数を計算し、その結果リンガロール2の開閉とポ
ンプ21の作動、停止を決定する。
FIG. 2 is an explanatory view showing another example (cascade method) of the method according to the present invention. In this example, the usage of the wash water is cascaded, but the method of supplying fresh water, that is, the usage of the flow control valve 9, the flow meter 10, and the flow controller 18 is the same as in the example of FIG. In this embodiment, the process computer 12 calculates the required number of cleaning water spray stages from the equation (11), and as a result determines whether the ringer roll 2 is opened or closed and the pump 21 is operated or stopped.

【0023】以上の2例以外にも各洗浄水スプレー段の
1部をブラシスクラバーとするか、もしくはスプレー方
式ではなく浸漬槽方式を採るなどの応用が考えられる。
In addition to the above two examples, it is conceivable to use one part of each cleaning water spray stage as a brush scrubber or to adopt an immersion tank system instead of a spray system.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明により薬液処理後の金属ストリッ
プの洗浄水を削減できるようになった。
According to the present invention, it becomes possible to reduce the washing water for the metal strip after the chemical treatment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明による方法の1例を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing an example of a method according to the present invention.

【図2】本発明による方法の他の例を示す説明図であ
る。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing another example of the method according to the present invention.

【図3】(a)は一般的な金属ストリップの薬液処理の
概念図であり、(b)は水バランスを示す説明図であ
る。
FIG. 3A is a conceptual diagram of a general metal strip chemical treatment, and FIG. 3B is an explanatory diagram showing water balance.

【図4】洗浄時の希釈状況を示す概念図である。FIG. 4 is a conceptual diagram showing a dilution situation during cleaning.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金属ストリップ 2 リンガロール 3 水洗ヘッダー 4 薬液槽 5 水洗槽 6 サブタンク 7 排水ポンプ 8 水処理設備 9 流調弁(新水補給) 10 流量計(新水補給) 11 自動弁 12 プロセスコンピュータ(P/C) 13 PLG(ライン速度測定) 14 液膜厚計 15 流量計(原液、積算あり) 16 補給ポンプ 17 原液タンク 18 流量コントローラ(新水補給) 19 ブライドルロール 20 ホストコンピュータ(H/C) 21 ポンプ 22 濃度計 1 metal strip 2 Lingalore 3 Washable header 4 chemical tank 5 water washing tank 6 sub tank 7 drainage pump 8 water treatment equipment 9 Flow control valve (new water supply) 10 Flowmeter (new water supply) 11 Automatic valve 12 Process computer (P / C) 13 PLG (Line speed measurement) 14 Liquid film thickness meter 15 Flowmeter (stock solution, totalized) 16 Supply pump 17 Stock solution tank 18 Flow controller (new water supply) 19 bridle rolls 20 Host computer (H / C) 21 pumps 22 Densitometer

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 金属ストリップを連続的に薬剤中で処理
し、多段のリンガロールと各リンガロール間の洗浄水ス
プレーまたは浸漬槽で金属ストリップを洗浄するに際し
て、洗浄新水供給量を当該設備から排出される排水中の
許容薬剤濃度により決定することを特徴とする金属スト
リップの洗浄方法。
1. When the metal strips are continuously treated in the chemical and the metal strips are washed with a multi-stage ringa roll and a washing water spray between the ringa rolls or a dipping tank, the fresh water supply for washing is supplied from the equipment. A method for cleaning a metal strip, which is characterized in that it is determined according to an allowable chemical concentration in discharged wastewater.
【請求項2】 金属ストリップを連続的に薬剤中で処理
し、多段のリンガロールと各リンガロール間の洗浄水ス
プレーまたは浸漬槽で金属ストリップを洗浄するに際し
て、金属ストリップが薬剤処理後に持出す薬液量を測定
し、その値から次式(1)を満足するように洗浄新水供
給量 W を決定することを特徴とする金属ストリップの
洗浄方法。 W >(α A /α C )・Q A …………(1) ただし、 α A :薬液槽の濃度 α C :水処理設備の受入許容薬剤濃度 A :薬剤処理槽から持出される薬液量 である。
2. A chemical solution carried out by the metal strip after the chemical treatment when the metal strip is continuously treated in the chemical and the metal strip is washed by a multi-stage ringarol and a washing water spray or a dipping bath between the ringarols. the amount was measured, a metal strip cleaning method and determines the cleaning fresh water supply amount Q W so as to satisfy the following equation (1) from the value. Q W > (α A / α C ) ・ Q A ………… (1) where α A : Concentration of chemical liquid tank α C : Acceptable chemical concentration of water treatment facility Q A : Taken out from chemical treatment tank The amount of liquid medicine .
【請求項3】 請求項1における洗浄新水供給量QW
次式(1)を満足することを特徴とする金属ストリップ
の洗浄方法。 QW >(αA /αC )・QA …………(1) ただし、 αA :薬液槽の濃度 αC :水処理設備の受入許容薬剤濃度 QA :薬剤処理槽から持出される薬液量 である。
3. A washing fresh water supply amount Q W that definitive to claim 1, the method of cleaning metal strip which satisfies the following equation (1). Q W > (α A / α C ) ・ Q A ………… (1) However, α A : Concentration of chemical liquid tank α C : Acceptable chemical concentration of water treatment facility Q A : Taken out from chemical treatment tank The amount of liquid medicine.
【請求項4】 金属ストリップを連続的に薬剤中で処理
し、多段のリンガロールと各リンガロール間の洗浄水ス
プレーまたは浸漬槽で金属ストリップを洗浄するに際し
て、リンガロールおよび各リンガロール間の洗浄水スプ
レー段数を当該設備出側ストリップに残留する許容薬剤
濃度より決定することを特徴とする金属ストリップの洗
浄方法。
4. A metal strip is continuously treated in a chemical agent, and when washing the metal strip in a multi-stage washing water spray or a dip bath, the washing between the ringaroles and the respective ringaroles is performed. A method for cleaning a metal strip, characterized in that the number of water spray stages is determined from the allowable chemical concentration remaining on the strip on the outlet side of the facility.
【請求項5】 請求項4において洗浄水スプレー段数n
を下記漸化式(2)に基づき、αAn<αS となるように
決定することを特徴とする金属ストリップの洗浄方法。 【数1】
5. The number of cleaning water spray stages n according to claim 4.
Is determined so that α AnS based on the following recurrence formula (2). [Equation 1]
【請求項6】 多段リンガロールと各リンガロール間に
洗浄水スプレーを持ち、各リンガロールおよび洗浄水ス
プレーの使用段数を任意に切替可能としたことを特徴と
する請求項1、2、3、4又は5記載の金属ストリップ
の洗浄方法。
6. The washing water spray is provided between the multi-stage ringer roll and each ringer roll, and the number of stages used for each ringer roll and the washing water spray can be arbitrarily switched. 4. The method for cleaning a metal strip according to 4 or 5.
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