JP3445390B2 - Marking processing equipment - Google Patents

Marking processing equipment

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JP3445390B2
JP3445390B2 JP29660394A JP29660394A JP3445390B2 JP 3445390 B2 JP3445390 B2 JP 3445390B2 JP 29660394 A JP29660394 A JP 29660394A JP 29660394 A JP29660394 A JP 29660394A JP 3445390 B2 JP3445390 B2 JP 3445390B2
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Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は、音響光学Qスイッチを
用いたマーキング加工装置に関する。 【0002】 【従来の技術】図6は連続励起Qスイッチレーザ発振装
置の構成図である。集光鏡1の内部には、Nd−YAG
の固体レーザ媒質2が配置され、この固体レーザ媒質2
に対して励起ランプ3が並設されている。 【0003】又、固体レーザ媒質2の長手方向側には、
レーザ共振器4を構成する高反射率ミラー5及び出力ミ
ラー6がそれぞれ配置されている。このレーザ共振器4
内、つまり高反射率ミラー5と出力ミラー6との間に
は、音響光学Qスイッチ7(以下、Qスイッチ素子と称
する)が配置されている。 【0004】このQスイッチ素子7は、Qスイッチ駆動
回路8から供給される任意の繰り返し周波数毎の高周波
数電力によりスイッチング動作するものとなっている。
なお、励起ランプ3は、励起用ランプ光源9からランプ
用電圧が印加される。 【0005】かかる構成であれば、励起ランプ3が点灯
すると、固体レーザ媒質2は励起される。この励起によ
り固体レーザ媒質2からの放射光は、固体レーザ媒質2
内を透過して高反射率ミラー5と出力ミラー6との間で
往復し、レーザ発振が発生する。 【0006】この状態に、Qスイッチ駆動回路8からQ
スイッチ素子7に対して図7に示すような高周波電力が
供給されると、この高周波電力供給の間、レーザ共振器
4内での光損失が大きくなり、レーザ発振は停止し、固
体レーザ媒質2内の反転分布が大きくなる。 【0007】一方、Qスイッチ駆動回路8からQスイッ
チ素子7に対する高周波電力の供給を完全に停止する
と、この停止の間、レーザ共振器4内での光損失がゼロ
となり、レーザ発振が起こる。 【0008】このとき、出力ミラー6を透過して得られ
るレーザパルス出力は、大きな反転分布による誘導放出
が短時間に行われるので、高いピーク強度を有するパル
ス状のレーザ光となる。 【0009】このようにQスイッチ素子7に対する高周
波電力を完全に停止させるQスイッチング方式では、そ
のときの固体レーザ媒質2内の反転分布の大きさに応じ
てレーザパルスのピーク強度は変化する。 【0010】このため、Qスイッチ素子7の繰り返し周
波数が変化すると、この繰り返し周波数に応じて固体レ
ーザ媒質2内の反転分布の大きさも変化することから、
Qスイッチ素子7の繰り返し周波数の変化に対してレー
ザパルスのピーク強度を一定値に保持することは困難で
ある。 【0011】ところで、高いピーク強度を持つ連続励起
Qスイッチレーザ発振装置は、マーキング等の加工に幅
広く適用されている。このマーキング加工では、Qスイ
ッチレーザ光をマーキングパターンに従ってスキャンす
る方式が主流であり、加工仕上がりという点から、次の
2点が非常に重要となっている。 【0012】第1点は、加工物に照射されるレーザパル
スの数がマーキングするライン上で単位長さ当たり一定
値になること。第2点は、照射されるレーザパルスのピ
ーク強度が一定になることである。 【0013】しかしながら、実際のマーキングでは、高
速スキャンを行うため、スキャン速度は変化する。そこ
で、単位長さ当たりのレーザパルス数を一定に保つため
に、スキャン速度に応じてQスイッチ素子の繰り返し数
を可変しているが、繰り返し数を変化させると、上記の
通りレーザパルスのピーク強度まで変動してしまう。こ
のようにレーザパルスのピーク強度が変動すると、レー
ザ加工において良い仕上がりを得るのに大きな障害とな
ってしまう。 【0014】 【発明が解決しようとする課題】以上のようにQスイッ
チ素子の繰り返し数を変化させると、レーザパルスのピ
ーク強度も変動してしまう。そこで本発明は、Qスイッ
チ素子の繰り返し数が変化しても、一定のピーク強度に
保持したレーザパルスを出力できる連続励起Qスイッチ
レーザ発振方法及びその装置を提供することを目的とす
る。 【0015】 【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
請求項1に対応する発明は、固体レーザ媒質と、この
固体レーザ媒質を励起する励起ランプと、前記固体レー
ザ媒質からの放射光を固体レーザ媒質中に往復させてレ
ーザ発振を発生するレーザ発振器と、このレーザ発振器
中に配置されたQスイッチ素子と、このQスイッチ素子
を少なくとも1kHz以上の繰り返し周波数によりスイ
ッチング動作させるQスイッチ駆動手段とを備え、前記
Qスイッチ素子に高周波電力と残留高周波電力とを交互
に周期的に供給する構成となっているマーキング加工装
置において、前記繰り返し周波数が変化しても前記レー
ザ発振器から出射されるパルスレーザのピーク強度が一
定となるように、前記残留高周波電力は前記繰り返し周
波数に対して単調減少するように供給される構成となっ
ていることを特徴とするマーキング加工装置である。 【0016】 【0017】 【0018】 【0019】 【0020】 【作用】請求項1によれば、レーザ共振器内でレーザ発
振を発生させるとともにレーザ共振器内に配置されたQ
スイッチ素子を繰り返し動作させる場合、このQスイッ
チ素子の繰り返し動作に応動してQスイッチ素子に供給
する高周波電力を制御し、Qスイッチ素子の繰り返し数
が変化しても、一定のピーク強度のレーザパルスを出力
する。 【0021】 【0022】 【0023】 【0024】 【0025】 【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。なお、図6と同一部分には同一符号を付
してその詳しい説明は省略する。図1は連続励起Qスイ
ッチレーザ発振装置の構成図である。 【0026】Qスイッチ素子7には、Qスイッチ駆動回
路10が接続されている。このQスイッチ駆動回路10
は、光損失制御回路11からのQスイッチ素子7の繰り
返し周波数信号を受け、レーザパルスの出力時に、この
繰り返し周波数に対応した微小な高周波電力(以下、残
留高周波電力と称する)をQスイッチ素子7に供給する
機能を有している。 【0027】ここで、残留高周波数電力値の算出過程に
ついて説明する。Qスイッチ素子7の繰り返し周波数と
残留高周波電力との対応関係は、次のような方法で実験
的に求めた。 【0028】Qスイッチ素子7の繰り返し周波数と、レ
ーザパルス出力時にQスイッチ駆動回路10から供給す
る残留高周波電力をパラメータとし、出力されるレーザ
パルス波形をオシロスコープにより観察する。 【0029】この観察波形からレーザパルスのピーク強
度を読取り、その結果を図2に示す。すなわち、残留高
周波電力に対するレーザパルスのピーク強度が、各繰り
返し周波数20kHz、10kHz、5kHz、2kH
z、1kHzごとのピーク強度曲線A〜Eとして示され
ている。 【0030】このレーザパルスのピーク強度の結果か
ら、レーザパルスのピーク強度iの値に保持する場合、
Qスイッチ素子7の繰り返し周波数と残留高周波電力と
の間に満たすべき対応関係は、ピーク強度iと各ピーク
強度曲線A〜Eとの交点をとることによって求められ
る。この繰り返し周波数と残留高周波電力との対応関係
を図3に示す。 【0031】従って、Qスイッチ駆動回路10は、光損
失制御回路11からのQスイッチ素子7の繰り返し周波
数信号を受け、この繰り返し周波数に対応した残留高周
波電力を図3に示す繰り返し周波数と残留高周波電力と
の対応関係から求め、レーザパルスの出力時に、この残
留高周波電力をQスイッチ素子7に供給する機能を有し
ている。 【0032】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。励起ランプ3が点灯すると、固体レーザ
媒質2は励起される。この励起により固体レーザ媒質2
からの放射光は、固体レーザ媒質2内を透過して高反射
率ミラー5と出力ミラー6との間で往復し、レーザ発振
が発生する。 【0033】この状態に、Qスイッチ駆動回路8からQ
スイッチ素子7に対して、図4に示すように例えば70
Wの高周波電力が供給されると、この高周波電力供給の
間、レーザ共振器4内での光損失が大きくなり、レーザ
発振は停止し、固体レーザ媒質2内の反転分布が大きく
なる。 【0034】一方、光損失制御回路11は、Qスイッチ
素子7の繰り返し周波数信号をQスイッチ駆動回路10
に対して送出している。従って、次の周期にQスイッチ
駆動回路8は、光損失制御回路11からの繰り返し周波
数信号を受け、この繰り返し周波数に対応する残留高周
波電力を図3に示す対応関係から求め、この残留高周波
電力をQスイッチ素子7に供給する。 【0035】すなわち、Qスイッチ素子7に供給される
電力は、70Wの高い高周波電力から繰り返し周波数に
対応する微小な残留高周波電力に切り替わる。このよう
にQスイッチ素子7に供給される電力が残留高周波電力
に切り替わると、レーザ共振器4内の光損失は低下し、
レーザ発振状態になる。 【0036】従って、レーザ共振器4からレーザパルス
が出力される。このときの残留高周波電力は、Qスイッ
チ素子7の繰り返し周波数に応じた電力量に制御されて
いるので、出力されるレーザパルスのピーク強度は、Q
スイッチ素子7の繰り返し周波数の変化にかかわらず一
定値となる。 【0037】図5(a) 〜(c) はQスイッチ素子7の繰り
返し周波数1kHz、5kHz、10kHzの場合の1
レーザパルスのパルス波形を示している。これらパルス
波形からQスイッチ素子7の繰り返し周波数が変化して
も、レーザパルスのピーク強度は一定値に保持されるこ
とが分かる。 【0038】このように上記一実施例においては、レー
ザパルス出力時に、Qスイッチ素子7に対して繰り返し
周波数に応じた微小な残留高周波電力を供給するように
したので、レーザ共振器内の光損失が調整され、Qスイ
ッチ素子7の繰り返し周波数が変化しても一定ピーク強
度のレーザパルスを出力できる。 【0039】このレーザパルスのピーク強度の変更は、
図2に示すように所望のレーザパルスのピーク強度iと
各ピーク強度曲線A〜Eとの交点をとることによって図
3に示すQスイッチ素子7の繰り返し周波数と残留高周
波電力との対応関係を求め、この対応関係をQスイッチ
駆動回路10に保持させれば容易に実現できる。 【0040】従って、Qスイッチ素子7の繰り返し周波
数が変化しても一定ピーク強度のレーザパルスを出力で
きるので、レーザ加工において、良い加工仕上がりを得
る重要な2点、つまり、第1点は、加工物に照射される
レーザパルスの数がマーキングするライン上で単位長さ
当たり一定値になること、第2点は、照射されるレーザ
パルスのピーク強度が一定になること、を満足できる。 【0041】なお、本発明は、上記一実施例に限定され
るものでなく次の通りに変形してもよい。例えば、Qス
イッチ7に供給する高周波電力は、出力されるレーザパ
ルスのピーク強度を検出し、このピーク強度が一定値に
保持されるようにフィードバック制御してもよい。 【0042】 【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、Q
スイッチ素子の繰り返し数が変化しても、一定のピーク
強度に保持したレーザパルスを出力できるマーキング加
工装置を提供できる。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a marking processing apparatus using an acousto-optic Q switch. 2. Description of the Related Art FIG. 6 is a block diagram of a continuous-pumped Q-switched laser oscillation device. Nd-YAG
Is disposed, and the solid-state laser medium 2
, An excitation lamp 3 is arranged in parallel. On the longitudinal side of the solid-state laser medium 2,
A high-reflectance mirror 5 and an output mirror 6 constituting the laser resonator 4 are arranged. This laser resonator 4
An acousto-optic Q switch 7 (hereinafter, referred to as a Q switch element) is disposed inside, that is, between the high reflectance mirror 5 and the output mirror 6. The Q-switch element 7 performs a switching operation by using high-frequency power at an arbitrary repetition frequency supplied from a Q-switch drive circuit 8.
The excitation lamp 3 is supplied with a lamp voltage from an excitation lamp light source 9. With this configuration, when the excitation lamp 3 is turned on, the solid-state laser medium 2 is excited. The light emitted from the solid-state laser medium 2 by this excitation is converted into the solid-state laser medium 2
The laser beam passes through the mirror and reciprocates between the high-reflectance mirror 5 and the output mirror 6 to generate laser oscillation. In this state, the Q switch driving circuit 8
When high-frequency power as shown in FIG. 7 is supplied to the switch element 7, the optical loss in the laser resonator 4 increases during this high-frequency power supply, laser oscillation stops, and the solid-state laser medium 2 The population inversion within becomes larger. On the other hand, when the supply of high-frequency power from the Q switch drive circuit 8 to the Q switch element 7 is completely stopped, during this stop, the optical loss in the laser resonator 4 becomes zero, and laser oscillation occurs. At this time, the laser pulse output obtained by passing through the output mirror 6 is a pulsed laser beam having a high peak intensity because stimulated emission by a large population inversion is performed in a short time. As described above, in the Q switching method in which the high frequency power to the Q switch element 7 is completely stopped, the peak intensity of the laser pulse changes according to the magnitude of the population inversion in the solid-state laser medium 2 at that time. For this reason, when the repetition frequency of the Q switch element 7 changes, the magnitude of the population inversion in the solid-state laser medium 2 also changes according to the repetition frequency.
It is difficult to maintain the peak intensity of the laser pulse at a constant value with respect to the change in the repetition frequency of the Q switch element 7. Incidentally, a continuous excitation Q-switched laser oscillator having a high peak intensity has been widely applied to processing such as marking. In this marking processing, a method of scanning a Q-switch laser beam in accordance with a marking pattern is mainly used, and the following two points are very important from the viewpoint of processing finish. The first point is that the number of laser pulses applied to a workpiece becomes a constant value per unit length on a line to be marked. The second point is that the peak intensity of the irradiated laser pulse becomes constant. However, in actual marking, a high-speed scan is performed, so that the scan speed changes. Therefore, in order to keep the number of laser pulses per unit length constant, the number of repetitions of the Q-switch element is varied according to the scan speed. Fluctuates up to When the peak intensity of the laser pulse fluctuates in this way, it becomes a great obstacle to obtain a good finish in laser processing. [0014] As described above, when the number of repetitions of the Q switch element is changed, the peak intensity of the laser pulse also changes. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a continuous excitation Q-switch laser oscillation method and apparatus capable of outputting a laser pulse maintained at a constant peak intensity even when the number of repetitions of the Q-switch element changes. [0015] In order to achieve the above object,
The invention corresponding to claim 1 includes a solid-state laser medium,
An excitation lamp for exciting a solid-state laser medium;
The light emitted from the medium is reciprocated into the solid-state laser medium and
Laser oscillator for generating laser oscillation and this laser oscillator
A Q-switch element disposed therein and the Q-switch element
At a repetition frequency of at least 1 kHz.
And Q switch driving means for performing a switching operation.
Alternating high frequency power and residual high frequency power for Q switch element
Marking processing equipment that is supplied periodically to
The repetition frequency changes even if the repetition frequency changes.
The peak intensity of the pulsed laser emitted from the oscillator
So that the residual high-frequency power is
It is configured to be supplied so as to monotonically decrease with the wave number
A marking processing apparatus characterized in that: According to the first aspect, the laser oscillation is generated in the laser resonator, and the Q disposed in the laser resonator.
When the switching element is repeatedly operated, the high frequency power supplied to the Q switching element is controlled in response to the repeated operation of the Q switching element, and a laser pulse having a constant peak intensity is obtained even if the number of repetitions of the Q switching element changes. Is output. An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. The same parts as those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. FIG. 1 is a configuration diagram of a continuous excitation Q-switched laser oscillation device. A Q switch drive circuit 10 is connected to the Q switch element 7. This Q switch drive circuit 10
Receives a repetition frequency signal of the Q-switch element 7 from the optical loss control circuit 11, and outputs a small high-frequency power (hereinafter referred to as a residual high-frequency power) corresponding to the repetition frequency when outputting a laser pulse. It has the function of supplying to Here, the process of calculating the residual high frequency power value will be described. The correspondence between the repetition frequency of the Q switch element 7 and the residual high frequency power was experimentally obtained by the following method. Using the repetition frequency of the Q-switch element 7 and the residual high-frequency power supplied from the Q-switch drive circuit 10 when outputting a laser pulse as parameters, the output laser pulse waveform is observed with an oscilloscope. The peak intensity of the laser pulse is read from the observed waveform, and the result is shown in FIG. That is, the peak intensity of the laser pulse with respect to the residual high-frequency power is 20 kHz, 10 kHz, 5 kHz, and 2 kHz at each repetition frequency.
z are shown as peak intensity curves A to E for each 1 kHz. From the result of the peak intensity of the laser pulse, when the value of the peak intensity i of the laser pulse is held,
The corresponding relationship to be satisfied between the repetition frequency of the Q switch element 7 and the residual high-frequency power is obtained by taking the intersection of the peak intensity i and each of the peak intensity curves A to E. FIG. 3 shows the correspondence between the repetition frequency and the residual high frequency power. Accordingly, the Q-switch drive circuit 10 receives the repetition frequency signal of the Q-switch element 7 from the optical loss control circuit 11, and converts the residual high-frequency power corresponding to this repetition frequency to the repetition frequency and the residual high-frequency power shown in FIG. It has a function of supplying this residual high-frequency power to the Q switch element 7 when outputting a laser pulse. Next, the operation of the above-configured device will be described. When the excitation lamp 3 is turned on, the solid-state laser medium 2 is excited. This excitation causes the solid-state laser medium 2
Is transmitted through the solid-state laser medium 2 and reciprocates between the high-reflectance mirror 5 and the output mirror 6 to generate laser oscillation. In this state, the Q switch driving circuit 8
For example, as shown in FIG.
When the high-frequency power of W is supplied, the optical loss in the laser resonator 4 increases during the supply of the high-frequency power, the laser oscillation stops, and the population inversion in the solid-state laser medium 2 increases. On the other hand, the optical loss control circuit 11 converts the repetition frequency signal of the Q switch
Has been sent to Therefore, in the next cycle, the Q switch drive circuit 8 receives the repetition frequency signal from the optical loss control circuit 11, finds the residual high frequency power corresponding to the repetition frequency from the correspondence shown in FIG. It is supplied to the Q switch element 7. That is, the power supplied to the Q switch element 7 switches from a high frequency power of 70 W to a minute residual high frequency power corresponding to the repetition frequency. When the power supplied to the Q switch element 7 is switched to the residual high frequency power, the optical loss in the laser resonator 4 decreases,
A laser oscillation state is set. Accordingly, a laser pulse is output from the laser resonator 4. Since the residual high-frequency power at this time is controlled to a power amount corresponding to the repetition frequency of the Q switch element 7, the peak intensity of the output laser pulse is Q
It has a constant value irrespective of the change in the repetition frequency of the switch element 7. FIGS. 5 (a) to 5 (c) show the case where the repetition frequency of the Q switch element 7 is 1 kHz, 5 kHz and 10 kHz.
3 shows a pulse waveform of a laser pulse. It can be seen from these pulse waveforms that the peak intensity of the laser pulse is maintained at a constant value even when the repetition frequency of the Q switch element 7 changes. As described above, in the above-described embodiment, when outputting the laser pulse, the minute residual high-frequency power corresponding to the repetition frequency is supplied to the Q switch element 7, so that the optical loss in the laser resonator is reduced. Is adjusted, and a laser pulse having a constant peak intensity can be output even if the repetition frequency of the Q switch element 7 changes. The change of the peak intensity of the laser pulse is as follows.
As shown in FIG. 2, the correspondence between the repetition frequency of the Q switch element 7 and the residual high frequency power shown in FIG. 3 is obtained by taking the intersection of the peak intensity i of the desired laser pulse and each of the peak intensity curves A to E. If this correspondence is held in the Q switch drive circuit 10, this can be easily realized. Therefore, a laser pulse having a constant peak intensity can be output even if the repetition frequency of the Q-switch element 7 changes. Therefore, in laser processing, two important points for obtaining a good processing finish, that is, the first point, The second point satisfies that the number of laser pulses applied to the object has a constant value per unit length on the line to be marked, and the second point is that the peak intensity of the applied laser pulse is constant. The present invention is not limited to the above embodiment, but may be modified as follows. For example, the high frequency power supplied to the Q switch 7 may detect the peak intensity of the output laser pulse and perform feedback control so that the peak intensity is maintained at a constant value. As described above in detail, according to the present invention, Q
Even if the number of repetitions of the switching element changes, a marking device that can output a laser pulse with a constant peak intensity
We can provide a processing device .

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明に係わるマーキング加工装置の一実施例
を示す構成図。 【図2】図1のQスイッチ素子に供給する残留高周波電
力に対するパルスヒータ強度の関係を示す図。 【図3】図1のQスイッチ素子の繰り返し周波数に対す
る残留高周波電力の関係を示す図。 【図4】図1のQスイッチ素子に供給する残留高周波電
力を示す図。 【図5】図1の一定ピーク強度のレーザパルス波形を示
す図。 【図6】従来装置の構成図。 【図7】図6のQスイッチ素子に供給する高周波電力を
示す図。 【符号の説明】 2…固体レーザ媒質、3…励起ランプ、4…レーザ共振
器、5…高反射率ミラー、6…出力ミラー、7…音響光
学Qスイッチ、10…Qスイッチ駆動回路、11…光損
失制御回路。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a configuration diagram showing one embodiment of a marking processing apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a residual high frequency power supplied to a Q switch element of FIG . 1 and a pulse heater intensity. FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a repetition frequency and a residual high-frequency power of the Q switch element of FIG . 1 ; FIG. 4 is a diagram showing residual high-frequency power supplied to the Q switch element of FIG . 1 ; FIG. 5 is a diagram showing a laser pulse waveform having a constant peak intensity in FIG . 1 ; FIG. 6 is a configuration diagram of a conventional device. FIG. 7 is a diagram showing high-frequency power supplied to the Q switch element in FIG . 6 ; [Description of Signs] 2 ... solid laser medium, 3 ... excitation lamp, 4 ... laser resonator, 5 ... high reflectivity mirror, 6 ... output mirror, 7 ... acousto-optic Q switch, 10 ... Q switch drive circuit, 11 ... Light loss control circuit.

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01S 3/00 - 3/30 Continuation of front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01S 3/00-3/30

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 固体レーザ媒質と、 この固体レーザ媒質を励起する励起ランプと、 前記固体レーザ媒質からの放射光を固体レーザ媒質中に
往復させてレーザ発振を発生するレーザ発振器と、 このレーザ発振器中に配置されたQスイッチ素子と、 このQスイッチ素子を少なくとも1kHz以上の繰り返
し周波数によりスイッチング動作させるQスイッチ駆動
手段とを備え、前記Qスイッチ素子に高周波電力と残留
高周波電力とを交互に周期的に供給する構成となってい
るマーキング加工装置において、 前記繰り返し周波数が変化しても前記レーザ発振器から
出射されるパルスレーザのピーク強度が一定となるよう
に、前記残留高周波電力は前記繰り返し周波数に対して
単調減少するように供給される構成となっていることを
特徴とするマーキング加工装置
(57) [Claim 1] A solid- state laser medium, an excitation lamp for exciting the solid-state laser medium, and radiated light from the solid-state laser medium in the solid-state laser medium.
A laser oscillator that reciprocates to generate laser oscillation, a Q-switch element disposed in the laser oscillator, and a repetition of the Q-switch element of at least 1 kHz or more.
Q-switch drive for switching operation according to frequency
Means and high frequency power and residual
High-frequency power is supplied alternately and periodically.
In the marking processing device, even if the repetition frequency changes, the laser oscillator
Make the peak intensity of the emitted pulse laser constant
The residual high frequency power is
That the supply is monotonically decreasing
Characteristic marking processing equipment .
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