JP3435481B2 - Optical recording medium and manufacturing method thereof - Google Patents

Optical recording medium and manufacturing method thereof

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JP3435481B2
JP3435481B2 JP21424794A JP21424794A JP3435481B2 JP 3435481 B2 JP3435481 B2 JP 3435481B2 JP 21424794 A JP21424794 A JP 21424794A JP 21424794 A JP21424794 A JP 21424794A JP 3435481 B2 JP3435481 B2 JP 3435481B2
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optical recording
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徹 八代
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は改良された光学特性を有
する光記録媒体及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium having improved optical characteristics and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、追記型CD(コンパクトディス
ク)の開発が活発化してきている。これは、従来のCD
と異なりユーザが情報を記録することが可能で且つ記録
後の信号は従来のCDの規格を満足するため、市販CD
プレーヤで再生可能であるという特徴をもつ。このよう
なメディアを実現する方法の1つとして、特開平2−4
2652号公報において、基板上に色素をスピンコーテ
ィングして光吸収層を設け、その背後に金属反射層を設
けることが提案されている。更に、後の特開平2−13
2656号公報に述べられているように、光吸収層の複
素屈折率、膜厚を適当に選ぶことにより、記録後の信号
がCD規格を満足するようになり、追記型CDが実現で
きる。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of a write-once CD (compact disc) has become active. This is a conventional CD
Unlike a CD, a user can record information and the signal after recording satisfies the standard of the conventional CD, so that a commercial CD
It has the feature that it can be played back by the player. As one of methods for realizing such a medium, Japanese Patent Laid-Open No. 2-4
In Japanese Patent No. 2652, it is proposed that a dye is spin-coated on a substrate to provide a light absorption layer, and a metal reflection layer is provided behind it. Furthermore, Japanese Patent Laid-Open No. 2-13
As described in Japanese Patent No. 2656, by appropriately selecting the complex refractive index and the film thickness of the light absorption layer, the signal after recording satisfies the CD standard, and a write-once CD can be realized.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところが、特開平2−
42652号公報及び特開平2−132656号公報で
示されている色素を用いた追記型CDは、耐光性の点で
は未だ十分なものではなかった。即ち、太陽光に長時間
さらされて放置された場合等に信号特性が変化し、CD
規格を満足することができないという欠点があった。こ
れは光吸収層に用いられる色素材料、特に従来用いられ
ていたシアニン系色素が光により変化することに起因し
ている。そこでこの変化を抑制するために、特開昭63
−159090号公報に示されているように、光吸収層
に光安定化剤を含有することが知られている。しかし、
光安定化剤を少量(20%以下)添加した場合には、十
分な耐光性を得ることができず、逆に多量(20%以
上)に添加すると、光吸収層の光学的及び/又は熱的な
特性が変化し、各種の信号品質が低下するという問題点
があった。
However, Japanese Unexamined Patent Application Publication No.
The write-once type CDs using the dyes disclosed in JP-A-42652 and JP-A-2-132656 are still insufficient in light resistance. In other words, the signal characteristics change when exposed to sunlight for a long time, and the CD
There is a drawback that the standard cannot be satisfied. This is because the dye material used for the light absorption layer, particularly the cyanine dye that has been used conventionally, changes due to light. Therefore, in order to suppress this change, JP-A-63-63
It is known to contain a light stabilizer in the light absorption layer as disclosed in Japanese Patent Publication No. 159090. But,
When the light stabilizer is added in a small amount (20% or less), sufficient light resistance cannot be obtained, and conversely, when added in a large amount (20% or more), the optical and / or heat of the light absorption layer is not increased. However, there has been a problem that various characteristics are changed and various signal qualities are deteriorated.

【0004】一方、耐光性を向上する他の手段として、
光吸収層材料に高耐光性色素であるフタロシアニン系化
合物を用いることも提案されている(特開昭58−18
3296号、同58−37851号各公報)。しかし、
フタロシアニン系化合物では、光吸収層に要求される光
学特性、特に高屈折率を満足することが困難であった。
それは、光吸収層の光学特性は、記録再生するレーザー
光波長近傍での膜の吸光係数(単位膜厚当たりの吸光度
のことをいう)に依存し、追記型CDに要求される光学
特性を満足するためには、ある程度の吸光係数が必要で
あるが、一般的に、フタロシアニン系化合物の膜は従来
のシアニン系色素に比べ吸光係数が小さい(シアニン色
素の1/3〜1/2程度)ということによる。
On the other hand, as another means for improving the light resistance,
It has also been proposed to use a phthalocyanine compound, which is a highly light-resistant dye, as a material for the light-absorbing layer (JP-A-58-18).
Nos. 3296 and 58-37851). But,
It has been difficult for the phthalocyanine compound to satisfy the optical characteristics required for the light absorption layer, particularly the high refractive index.
The optical characteristics of the light absorption layer depend on the extinction coefficient (which means the absorbance per unit film thickness) of the film in the vicinity of the laser light wavelength for recording and reproduction, and satisfy the optical characteristics required for the write-once CD. In order to achieve this, a certain degree of extinction coefficient is required, but in general, a film of a phthalocyanine compound has a smaller extinction coefficient than that of a conventional cyanine dye (about 1/3 to 1/2 of cyanine dye). It depends.

【0005】従って、本発明の目的は、高耐光性でしか
も要求される光学特性を備えた光吸収層を有する光記録
媒体、より具体的には改良された光学特性を有する特定
のフタロシアニン系化合物の膜を光吸収層とする光記録
媒体、及びその製造方法を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide an optical recording medium having a light absorbing layer having high light resistance and required optical characteristics, and more specifically, a specific phthalocyanine compound having improved optical characteristics. The present invention provides an optical recording medium having the film as a light absorbing layer, and a method for manufacturing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究を
重ねた結果、前記従来技術の光記録媒体において、光吸
収層であるフタロシアニン系化合物の膜の吸光係数が小
さいのは、フタロシアニン系化合物の分子が平面構造で
あり分子会合しやすく、フタロシアニン系化合物の分子
が会合すると、分子間相互作用により光吸収スペクトル
がブロードになるということ、更にはフタロシアニン系
化合物においては、レーザー光波長域(760〜800
nm)で適当な複素屈折率を得るためには、光吸収層の
吸収ピーク波長(λmax)が710〜750nmの範
囲にあることがより好ましいということを見出し、本発
明を完成するに至った。
As a result of earnest studies, the inventors of the present invention have found that in the above-mentioned conventional optical recording medium, the light absorption layer of the phthalocyanine compound has a small absorption coefficient. The molecule of the compound has a planar structure and is likely to undergo molecular association. When the molecule of the phthalocyanine compound is associated, the light absorption spectrum becomes broad due to the intermolecular interaction. Furthermore, in the phthalocyanine compound, the laser light wavelength range ( 760-800
In order to obtain an appropriate complex refractive index in (nm), it was found that the absorption peak wavelength (λmax) of the light absorption layer is more preferably in the range of 710 to 750 nm, and the present invention has been completed.

【0007】即ち、本発明によれば、基板上に少なくと
も光吸収層を設けてなる光記録媒体において、該光吸収
層が下記一般式(I)で表わされる金属フタロシアニン
系化合物と、置換されていてもよいイミダゾール系化合
物から選ばれた窒素含有化合物とを、主成分とするもの
であることを特徴とする光記録媒体が提供される。
[0007] That is, according to the present invention, in an optical recording medium formed by providing at least a light-absorbing layer on a substrate, a metal phthalocyanine compound light absorbing layer is represented by the following formula (I), substitution of An optical recording medium comprising a nitrogen-containing compound selected from an imidazole-based compound which may be contained as a main component.

【化2】 (式中、M及びA1〜A8は、それぞれ以下のものを表わ
す。M:Mn、Fe、Co、Zn又はCd原子。A1
2、A3とA4、A5とA6及びA7とA8:それぞれのど
ちらか一方は−OR又は−SR基、他方は水素原子。
R:置換されていてもよい芳香族又は脂環式の炭化水素
基。)
[Chemical 2] (In the formula, M and A 1 to A 8 each represent the following. M: Mn, Fe, Co, Zn or Cd atom. A 1 and A 2 , A 3 and A 4 , A 5 and A 6 And A 7 and A 8 : one of them is an —OR or —SR group, and the other is a hydrogen atom.
R: an optionally substituted aromatic or alicyclic hydrocarbon group. )

【0008】また、本発明によれば、光吸収層が710
〜750nmの範囲に光吸収ピーク波長(λmax)を
有するものである光記録媒体が提供される。
Further, according to the present invention , the light absorption layer is provided with 710
Provided is an optical recording medium having a light absorption peak wavelength (λmax) in the range of ˜750 nm.

【0009】更に、本発明によれば、表面に情報ピット
及び/又は案内溝が形成されてなる基板上に、直接又は
他の層を介して前記一般式(I)で表わされる金属フタ
ロシアニン系化合物と、置換されていてもよいイミダゾ
ール系化合物から選ばれた窒素含有化合物とを、主成分
とする光吸収層を塗布成膜手段により設け、その上に直
接又は他の層を介して光反射層を真空成膜手段により設
け、更にその上に保護層を設けることを特徴とする光記
録媒体の製造方法が提供される。
Furthermore, according to the present invention, a metal phthalocyanine compound represented by the above general formula (I) is directly or via another layer on a substrate having information pits and / or guide grooves formed on the surface thereof. If, optionally substitution imidazo
Of a nitrogen-containing compound selected from the group-based compounds is provided as a main component by a coating and film-forming means, and a light-reflecting layer is provided thereon by a vacuum film-forming means directly or through another layer. Further, there is provided a method for manufacturing an optical recording medium, which further comprises a protective layer provided thereon.

【0010】本発明の光記録媒体は、前記一般式(I)
で表わされる金属フタロシアニン系化合物と前記の窒素
含有化合物との混合物を主成分とする光吸収層を設けた
ものとしたことから、薄層化したときのフタロシアニン
系化合物の分子会合が抑制されて、光吸収スペクトルが
ブロードになることが回避され、レーザー光波長近傍で
適切な複素屈折率を得ることができるものとなる。
The optical recording medium of the present invention has the above general formula (I).
Since a light absorption layer containing a mixture of a metal phthalocyanine compound represented by and a nitrogen-containing compound as a main component is provided, the molecular association of the phthalocyanine compound when being thinned is suppressed, It is possible to prevent the light absorption spectrum from becoming broad and to obtain an appropriate complex refractive index in the vicinity of the laser light wavelength.

【0011】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
光記録媒体は、光吸収層が前記一般式(I)で表わされ
る金属フタロシアニン系化合物と、置換されていてもよ
イミダゾール系化合物から選ばれた窒素含有化合物と
を、主成分とするものであることを特徴とする。即ち、
本発明の光記録媒体においては、光吸収層として前記一
般式(I)で表わされる金属フタロシアニン系化合物
と、置換されていてもよいイミダゾール系化合物から選
ばれた窒素含有化合物との混合物が使用される。該金属
フタロシアニン系化合物は、中心金属Mに前記窒素含有
化合物中の−N=又は−N<基が配位しやすく、金属フ
タロシアニン系化合物の分子間に前記窒素含有化合物が
入ることによって、金属フタロシアニン系化合物の分子
会合を防ぐことができるものとなる。また、前述したよ
うに、金属フタロシアニン系化合物においては、光吸収
層の吸収ピーク波長(λmax)が710〜750nm
の範囲にあることが、レーザー光波長近傍で適切な複素
屈折率を得るのに非常に好ましいことが、本発明者によ
り見い出されたが、フタロシアニン環のα位(A1
2、A3、A4、A5、A6、A7、A8)のOR基又はS
R基の効果により、光吸収層膜のλmaxがほぼ710
〜750nmの範囲に入るものとなる。
The present invention will be described in detail below. Optical recording medium of the present invention, a metal phthalocyanine compound light-absorbing layer is represented by formula (I), a nitrogen-containing compound selected from the replacement or unprotected imidazole compounds, the main component It is characterized by being. That is,
In the optical recording medium of the present invention, the mixture of the metal phthalocyanine compound represented by the general formula as light-absorbing layer (I), the nitrogen-containing compound selected from a good imidazole compounds be substitution is used. The metal phthalocyanine compound is such that the -N = or -N <group in the nitrogen-containing compound is easily coordinated to the central metal M, and the nitrogen-containing compound enters between the molecules of the metal phthalocyanine compound, whereby the metal phthalocyanine compound is introduced. The molecular association of the system compound can be prevented. As described above, in the metal phthalocyanine compound, the absorption peak wavelength (λmax) of the light absorption layer is 710 to 750 nm.
In the range of, be highly desirable to obtain appropriate complex refractive index at the laser wavelength near, but has been found by the present inventors, the phthalocyanine ring α-position (A 1,
A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , A 6 , A 7 , A 8 ) OR group or S
Due to the effect of the R group, λmax of the light absorption layer film is approximately 710.
It falls within the range of ˜750 nm.

【0012】本発明で使用される置換されていてもよい
イミダゾール系化合物から選ばれた窒素含有化合物は、
分子内に−N=又は−N<基を有する化合物である。そ
の具体例としては、以下のような化合物が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。これらの中で、
金属フタロシアニン系化合物の会合を防ぐ効果が高く、
且つ耐久性(耐熱性、耐光性)に優れているという点か
ら、イミダゾール系化合物が好ましい。更に、光吸収層
の熱安定性を維持するという点から、該窒素含有化合物
は、融点が150℃以上のものであることが好ましい。
融点が150℃未満の場合には、高温環境下で膜の特性
(特に光学特性)が変化しやすい。
[0012] may be replacement for use in the present invention
Nitrogen-containing compounds selected from imidazole compounds,
A compound having -N = or -N <group in the molecule. Specific examples thereof include, but are not limited to, the following compounds. Among these,
Highly effective in preventing association of metal phthalocyanine compounds,
In addition, imidazole compounds are preferable because they are excellent in durability (heat resistance and light resistance). Further, from the viewpoint of maintaining the thermal stability of the light absorption layer, the nitrogen-containing compound preferably has a melting point of 150 ° C. or higher.
When the melting point is less than 150 ° C., the film characteristics (especially optical characteristics) are likely to change in a high temperature environment.

【0013】イミダゾール、ベンズイミダゾール、メチ
ルベンズイミダゾール、ジメチルベンズイミダゾール、
トリメチルベンズイミダゾール、トリフェニルイミダゾ
ル等
[0013] imidazole, benzimidazole, methyl benzimidazole, dimethyl benzimidazole,
Trimethyl benz imidazole, Application Benefits phenylimidazo <br/> Lumpur like.

【0014】また、本発明で用いられる金属フタロシア
ニン系化合物は、前記一般式(I)で表わされる構造を
有し、中心金属Mとしては、Mn、Fe、Co、Zn及
びCdを用いることができる。これらの中心金属を有す
るフタロシアニン系化合物は、中心金属に前記窒素含有
化合物中の−N=又は−N<基が配位しやすく、会合を
防ぐ効果が高い。一方、前記フタロシアニン系化合物
は、フタロシアニン環のα位に置換されていてもよい
R基又はSR基を有するが、この場合Rは置換されてい
てもよい芳香族又は脂環式の炭化水素基であり、炭素数
1〜20のものが好ましい。ここで置換されたOR基又
はSR基の置換基としてはアルキル基、アルコキシ基な
どがあげられる。
The metal phthalocyanine compound used in the present invention has a structure represented by the above general formula (I), and as the central metal M, Mn, Fe, Co, Zn and Cd can be used. . In the phthalocyanine-based compound having these central metals, the -N = or -N <group in the nitrogen-containing compound is easily coordinated with the central metal, and the effect of preventing association is high. On the other hand, the phthalocyanine-based compound is O which may be substituted at the α-position of the phthalocyanine ring.
Has an R group or an SR group, where R is substituted
It may be an aromatic or alicyclic hydrocarbon group which may have 1 to 20 carbon atoms. OR group substituted here
Is an alkyl group or an alkoxy group as a substituent of the SR group.
I can give you something.

【0015】前記金属フタロシアニン系化合物に配位す
ることができる基(−N=又は−N<基)を有する前記
窒素含有化合物と、前記金属フタロシアニン系化合物と
の混合比は、モル比で1/2〜2/1(窒素含有化合物
/金属フタロシアニン系化合物の比)の範囲が好まし
い。モル比が1/2未満では、窒素含有化合物の効果が
十分に得られないし、逆に2/1超過では膜中の色素濃
度が低くなり、いずれの場合にも膜の吸光係数が小さく
なる。
A mixing ratio of the nitrogen-containing compound having a group (-N = or -N <group) capable of coordinating to the metal phthalocyanine compound and the metal phthalocyanine compound is 1 / molar ratio. The range of 2 to 2/1 (ratio of nitrogen-containing compound / metal phthalocyanine compound) is preferable. If the molar ratio is less than 1/2, the effect of the nitrogen-containing compound cannot be sufficiently obtained, and conversely if the molar ratio exceeds 2/1, the dye concentration in the film becomes low, and in any case, the extinction coefficient of the film becomes small.

【0016】また、光吸収層材料としては、前記フタロ
シアニン系化合物のみではなく、該フタロシアニン系化
合物に加えて、従来より情報記録媒体の記録材料として
知られている任意の色素を混合して用いることができ
る。このような色素として、例えば、シアニン系色素、
ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系
色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crなどの金属錯
塩系色素、ナフトキノン系・アントラキノン系色素、イ
ンドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフ
ェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、アミニ
ウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙
げることができる。更に、必要に応じて他の第3成分、
例えばバインダー、安定剤等を含有させることができ
る。なお、光吸収層の膜厚は、100〜5000Åが好
ましく、特に500〜3000Åが望ましい。光吸収層
の膜厚が、この範囲より薄くなると記録感度が低下し、
また厚くなると反射率が低下するからである。
As the material for the light absorbing layer, not only the phthalocyanine compound but also any dye conventionally known as a recording material of an information recording medium is used in addition to the phthalocyanine compound. You can As such a dye, for example, a cyanine dye,
Pyrylium / thiopyrylium dyes, azurenium dyes, squarylium dyes, metal complex salt dyes such as Ni and Cr, naphthoquinone / anthraquinone dyes, indophenol dyes, indoaniline dyes, triphenylmethane dyes, triallyl Examples thereof include methane-based dyes, aminium-based / diimmonium-based dyes, and nitroso compounds. Furthermore, if necessary, another third component,
For example, a binder, a stabilizer and the like can be contained. The thickness of the light absorption layer is preferably 100 to 5000 Å, and particularly preferably 500 to 3000 Å. If the thickness of the light absorption layer is less than this range, the recording sensitivity will decrease,
Also, as the thickness increases, the reflectance decreases.

【0017】本発明において使用する基板は、従来の情
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板材料の例としては、
ポリメチルメタクリレートのようなアクリル樹脂、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹
脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、アモルファ
スポリオレフィン、ポリエステル、ソーダ石灰ガラス等
のガラス及びセラミックスを挙げることができる。特に
寸法安定性、透明性及び平面性などの点から、ポリメチ
ルメタクリレート、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹
脂、アモルファスポリオレフィン、ポリエステル及びガ
ラスなどを挙げることができる。
The substrate used in the present invention can be arbitrarily selected from various materials used as substrates for conventional information recording media. Examples of substrate materials include
Examples thereof include acrylic resins such as polymethylmethacrylate, vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer, epoxy resins, polycarbonate resins, amorphous polyolefins, polyesters, glasses such as soda lime glass, and ceramics. In particular, from the viewpoint of dimensional stability, transparency and flatness, polymethyl methacrylate, polycarbonate resin, epoxy resin, amorphous polyolefin, polyester, glass and the like can be mentioned.

【0018】光吸収層が設けられる側の基板表面には、
平面性の改善、接着力の向上及び光吸収層の変質の防止
の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料と
しては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル
酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/無水マレイン酸
共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアク
リルアミド、スチレン/スルホン酸共重合体、スチレン
/ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチ
レン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリ
オレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル/
塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の
高分子物質:シランカップリング剤などの有機物質:及
び無機酸化物(SiO2、Al23等)、無機フッ化物
(MgF2)などの無機物質を挙げることができる。な
お、下塗層の層厚は一般に0.005〜20μmの範囲
にあり、好ましくは0.01〜10μmの範囲である。
On the surface of the substrate on which the light absorption layer is provided,
An undercoat layer may be provided for the purpose of improving flatness, improving adhesive strength, and preventing alteration of the light absorption layer. Examples of the material for the undercoat layer include polymethylmethacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylolacrylamide, styrene / sulfonic acid copolymer, styrene / Vinyltoluene copolymer, chlorosulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate /
Vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer,
Polymer substances such as polyethylene, polypropylene and polycarbonate: Organic substances such as silane coupling agents: and inorganic substances such as inorganic oxides (SiO 2 , Al 2 O 3 etc.) and inorganic fluorides (MgF 2 ). it can. The layer thickness of the undercoat layer is generally in the range of 0.005 to 20 μm, preferably 0.01 to 10 μm.

【0019】また、基板(又は下塗層)上には、トラッ
キング用溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形
成の目的で、プレグループ層が設けられてもよい。プレ
グループ層の材料としては、アクリル酸のモノエステ
ル、ジエステル、トリエステル及びテトラエステルのう
ちの少なくとも一種のモノマー(又はオリゴマー)と光
重合開始剤との混合物を用いることができる。
Further, a pregroup layer may be provided on the substrate (or undercoat layer) for the purpose of forming a groove for tracking or an unevenness representing information such as an address signal. As the material for the pregroup layer, a mixture of at least one monomer (or oligomer) of acrylic acid monoester, diester, triester, and tetraester and a photopolymerization initiator can be used.

【0020】更に、光吸収層の上には、S/N比、反射
率の向上及び記録時における感度の向上の目的で、反射
層が設けられてもよい。反射層の材料である光反射性物
質はレーザー光に対する反射率が高い物質であり、その
例としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、
Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、C
o、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、A
g、Au、Zn、Cd、Al、Ca、In、Si、G
e、Te、Pb、Po、Sn、Siなどの金属及び半金
属を挙げることができる。これらのうちで好ましいもの
はAu、Al及びAgである。これら物質は単独で用い
てもよいし、あるいは二種以上の組合せで又は合金とし
て用いてもよい。なお、反射層の層厚は一般に100〜
3000Åの範囲にある。また、反射層は基板と光吸収
層との間に設けられてもよく、この場合には情報の記録
再生は光吸収層側(基板とは反対の側)から行なわれ
る。
Further, a reflective layer may be provided on the light absorption layer for the purpose of improving the S / N ratio, the reflectance and the sensitivity during recording. The light-reflecting substance that is the material of the reflecting layer is a substance having a high reflectance for laser light, and examples thereof include Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V,
Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, C
o, Ni, Ru, Rh, Pd, Ir, Pt, Cu, A
g, Au, Zn, Cd, Al, Ca, In, Si, G
Metals and semimetals such as e, Te, Pb, Po, Sn and Si can be mentioned. Among these, preferable ones are Au, Al and Ag. These substances may be used alone or in combination of two or more or as an alloy. The layer thickness of the reflective layer is generally 100 to
It is in the range of 3000Å. Further, the reflective layer may be provided between the substrate and the light absorbing layer, and in this case, recording / reproducing of information is performed from the light absorbing layer side (the side opposite to the substrate).

【0021】また、光吸収層(又は反射層)の上には、
光吸収層などを物理的及び化学的に保護する目的で保護
層が設けられてもよい。この保護層は、基板の光吸収層
が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的
で設けられてもよい。保護層に用いられる材料の例とし
ては、SiO、SiO2、MgF2、SnO2等の無機物
質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂を挙
げることができる。なお、保護層の層厚は一般的には5
00Å〜50μmの範囲にある。
Further, on the light absorption layer (or reflection layer),
A protective layer may be provided for the purpose of physically and chemically protecting the light absorbing layer and the like. This protective layer may be provided on the side of the substrate where the light absorption layer is not provided for the purpose of enhancing scratch resistance and moisture resistance. Examples of materials used for the protective layer include inorganic substances such as SiO, SiO 2 , MgF 2 and SnO 2 , thermoplastic resins, thermosetting resins, and UV curable resins. The thickness of the protective layer is generally 5
It is in the range of 00Å to 50 μm.

【0022】次に、本発明の光記録媒体の製造方法につ
いて説明する。本発明の光記録媒体の製造方法は、表面
に情報ピット及び/又は案内溝が形成されてなる基板上
に、直接又は他の層を介して前記一般式(I)で表わさ
れる金属フタロシアニン系化合物と前記窒素含有化合物
とを主成分とする光吸収層を塗布成膜手段により設け、
その上に直接又は他の層を介して光反射層を真空成膜手
段により設け、更にその上に保護層を設けることを特徴
とする。即ち、本発明の製造方法は、下記の工程からな
る。 (イ)表面に情報ピット及び/又は案内溝が形成されて
いる基板上に、直接又は他の層を介して前記一般式
(I)で表わされる金属フタロシアニン系化合物と前記
窒素含有化合物とを主成分とする光吸収層を塗布成膜手
段により設ける工程、 (ロ)光吸収層上に直接又は他の層を介して光反射層を
真空成膜手段により設ける工程、及び (ハ)光吸収層上に保護層を設ける工程。
Next, a method of manufacturing the optical recording medium of the present invention will be described. The method for producing an optical recording medium of the present invention comprises a metal phthalocyanine compound represented by the above general formula (I) directly or via another layer on a substrate having information pits and / or guide grooves formed on the surface thereof. And a light absorption layer containing the nitrogen-containing compound as a main component is provided by coating and film forming means,
It is characterized in that a light reflecting layer is provided thereon by a vacuum film-forming means directly or via another layer, and a protective layer is further provided thereon. That is, the manufacturing method of the present invention comprises the following steps. (A) A metal phthalocyanine compound represented by the general formula (I) and the nitrogen-containing compound are mainly formed on a substrate having information pits and / or guide grooves formed on the surface, directly or through another layer. A step of providing a light absorbing layer as a component by a coating film forming means, (b) a step of providing a light reflecting layer on the light absorbing layer directly or through another layer by a vacuum film forming means, and (c) a light absorbing layer The process of providing a protective layer on top.

【0023】(光吸収層形成工程) 本発明の方法においては、先ず表面に情報ピット及び/
又は案内溝が形成されている基板上に、直接又は他の層
を介して、前記金属フタロシアニン系化合物と前記窒素
含有化合物とを主成分とする光吸収層が塗布成膜手段に
より設けられる。即ち、前記金属フタロシアニン系化合
物と前記窒素含有化合物との混合物を、液状の塗布液と
して基板上にコートすることにより、光吸収層が形成さ
れる。前記液状の塗布液は、前記2つの化合物を溶媒に
溶解することにより得られる。この塗布液を調整するた
めの溶媒としては、公知の有機溶媒(例えばアルコー
ル、セルソルブ、ハロゲン化炭素、ケトン、エーテル
等)を使用することができる。また、光吸収層の形成手
段としては、蒸着法、LB法、スピンコート法等が挙げ
られるが、光吸収層の濃度、粘度、溶剤の乾燥温度を調
節することにより層厚を制御できるため、スピンコート
法が望ましい。
(Light Absorbing Layer Forming Step) In the method of the present invention, first, information pits and / or
Alternatively, a light absorption layer containing the metal phthalocyanine compound and the nitrogen-containing compound as main components is provided by a coating film forming means directly or through another layer on the substrate in which the guide groove is formed. That is, a light absorbing layer is formed by coating a substrate with a mixture of the metal phthalocyanine compound and the nitrogen-containing compound as a liquid coating solution. The liquid coating solution is obtained by dissolving the two compounds in a solvent. As a solvent for preparing this coating solution, a known organic solvent (for example, alcohol, cellosolve, carbon halide, ketone, ether, etc.) can be used. Further, examples of the means for forming the light absorbing layer include vapor deposition method, LB method, spin coating method and the like. Since the layer thickness can be controlled by adjusting the concentration, viscosity and solvent drying temperature of the light absorbing layer, Spin coating is preferred.

【0024】なお、光吸収層が設けられる側の基体表面
に下塗層を設けることが、基板表面の平面性の改善や接
着力の向上あるいは光吸収層の変質防止等の目的で、行
なわれる。この場合の下塗層は、例えば前述した下塗層
用物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調整し
たのち、この塗布液をスピンコート、ディップコート、
エクストルージョンコートなどの塗布法により基板表面
に塗布することにより形成することができる。
An undercoat layer is provided on the surface of the substrate on the side where the light absorbing layer is provided for the purpose of improving the flatness of the substrate surface, improving the adhesive strength, and preventing the deterioration of the light absorbing layer. . The undercoat layer in this case is prepared by, for example, dissolving or dispersing the above-mentioned undercoat layer substance in a suitable solvent to prepare a coating solution, and then spin-coating, dip-coating the coating solution.
It can be formed by coating the substrate surface by a coating method such as extrusion coating.

【0025】(光反射層形成工程) 本発明の方法においては、次に光吸収層上に直接又は他
の層を介して光反射層が真空成膜手段により設けられ
る。即ち、前述した光反射性物質を、例えば蒸着、スパ
ッタリング又はイオンプレーティングすることにより、
光反射層が光吸収層の上に形成される。
(Light-Reflecting Layer Forming Step) In the method of the present invention, a light-reflecting layer is then provided on the light-absorbing layer directly or via another layer by a vacuum film forming means. That is, the above-mentioned light-reflecting substance, for example, by vapor deposition, sputtering or ion plating,
A light reflecting layer is formed on the light absorbing layer.

【0026】(保護層形成工程) 本発明の方法においては、光反射層上に保護層が設けら
れる。即ち、前述した無機物質や種々の樹脂からなる保
護層用材料を、真空成膜又は塗布成膜することにより形
成される。特にUV硬化性樹脂を用いるのが、好まし
く、該樹脂をスピンコート後、紫外線照射により硬化し
て形成される。
(Protective Layer Forming Step) In the method of the present invention, a protective layer is provided on the light reflecting layer. That is, it is formed by vacuum film formation or application film formation of the protective layer material made of the above-mentioned inorganic substance or various resins. In particular, it is preferable to use a UV curable resin, which is formed by spin coating the resin and then irradiating it with ultraviolet rays to cure it.

【0027】[0027]

【実施例】以下実施例について本発明を説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0028】実施例1 後記表1中(A)で表わされるテトラアルキルチオ金属
フタロシアニンと5,6−ジメチルベンズイミダゾール
をモル比1:1の割合でクロロホルムに溶解して塗布液
とし、直径120mm、厚さ1.2mmのガラス基板に
スピンコーティングすることにより光吸収層を設けた。
この光吸収層の光吸収スペクトル図を図1に示す。図1
から明らかなように、この光吸収層の光吸収スペクトル
は、吸収帯の右側ピーク(長波長側)が高いシャープな
形状をしていた。
Example 1 Tetraalkylthiometal phthalocyanine represented by (A) in Table 1 below and 5,6-dimethylbenzimidazole were dissolved in chloroform at a molar ratio of 1: 1 to prepare a coating solution having a diameter of 120 mm and a thickness of 120 mm. A light absorbing layer was provided by spin coating on a 1.2 mm thick glass substrate.
The light absorption spectrum of this light absorption layer is shown in FIG. Figure 1
As is clear from the above, the light absorption spectrum of this light absorption layer had a sharp shape with a high right peak (long wavelength side) of the absorption band.

【0029】比較例1 後記表1中(A)で表わされるテトラアルキルチオ金属
フタロシアニンをクロロホルムに溶解して塗布液とし、
直径120mm、厚さ1.2mmのガラス基板にスピン
コーティングすることにより光吸収層を設けた。この光
吸収層の光吸収スペクトル図を図1に示す。図1から明
らかなように、この光吸収層の光吸収スペクトルは、実
施例1の光吸収スペクトルと比べ、吸収帯の形状がブロ
ードであった。
Comparative Example 1 A tetraalkylthiometal phthalocyanine represented by (A) in Table 1 below was dissolved in chloroform to prepare a coating solution.
A light absorbing layer was provided by spin coating on a glass substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm. The light absorption spectrum of this light absorption layer is shown in FIG. As is apparent from FIG. 1, in the light absorption spectrum of this light absorption layer, the shape of the absorption band was broader than that of the light absorption spectrum of Example 1.

【0030】実施例2 実施例1において、テトラアルキルチオ金属フタロシア
ニンを後記表1中(B)で表わされるテトラアルコキシ
金属フタロシアニンに代えたこと以外は、実施例1と同
様にして吸収層を設けた。この光吸収層の光吸収スペク
トル図を図2に示す。図2から明らかなように、この光
吸収層の光吸収スペクトルは、吸収帯の右側ピーク(長
波長側)が高いシャープな形状をしていた。
Example 2 An absorbing layer was provided in the same manner as in Example 1 except that the tetraalkylthio metal phthalocyanine in Example 1 was replaced with the tetraalkoxy metal phthalocyanine represented by (B) in Table 1 below. The light absorption spectrum of this light absorption layer is shown in FIG. As is clear from FIG. 2, the light absorption spectrum of this light absorption layer had a sharp shape with a high right peak (long wavelength side) of the absorption band.

【0031】比較例2 比較例1において、テトラアルキルチオ金属フタロシア
ニンを後記表1中(B)で表わされるテトラアルコキシ
金属フタロシアニンに代えたこと以外は、比較例1と同
様にして光吸収層を設けた。この光吸収層の光吸収スペ
クトル図を図2に示す。図2から明らかなように、この
光吸収層の光吸収スペクトルは、実施例2の光吸収スペ
クトルと比べ、吸収帯の形状がブロードであった。
Comparative Example 2 A light absorbing layer was provided in the same manner as in Comparative Example 1 except that the tetraalkylthio metal phthalocyanine in Comparative Example 1 was replaced with the tetraalkoxy metal phthalocyanine represented by (B) in Table 1 below. . The light absorption spectrum of this light absorption layer is shown in FIG. As is apparent from FIG. 2, in the light absorption spectrum of this light absorption layer, the shape of the absorption band was broader than that of the light absorption spectrum of Example 2.

【0032】実施例3〜6 後記表1中(A)〜(D)で表わされる色素を用いて、
実施例1と同様に光吸収層を形成し、λmaxを求め
た。これらの光吸収層のλmaxは710〜750μm
の範囲にあった(表1参照)。
Examples 3 to 6 Using the dyes represented by (A) to (D) in Table 1 below,
A light absorption layer was formed in the same manner as in Example 1, and λmax was obtained. Λmax of these light absorption layers is 710 to 750 μm
Was in the range (see Table 1).

【0033】比較例3〜5 後記表1中(F)〜(H)で表わされる色素を用いて、
実施例1と同様に光吸収層を形成し、λmaxを求め
た。これらの光吸収層のλmaxは710〜750μm
の範囲になかった(表1参照)。
Comparative Examples 3 to 5 Using the dyes represented by (F) to (H) in Table 1 below,
A light absorption layer was formed in the same manner as in Example 1, and λmax was obtained. Λmax of these light absorption layers is 710 to 750 μm
Was not within the range (see Table 1).

【0034】実施例7〜9 後記表1中、(A)、(B)、(D)で表わされる色素
を用いて、実施例1と同様に光吸収層を設けた。これら
の光吸収層について、半導体レーザー光波長近傍での屈
折率を膜の反射率から概算した(図3参照)。
Examples 7 to 9 In the same manner as in Example 1, a light absorbing layer was provided using the dyes represented by (A), (B) and (D) in Table 1 below. For these light absorption layers, the refractive index in the vicinity of the wavelength of the semiconductor laser light was estimated from the reflectance of the film (see FIG. 3).

【0035】比較例6〜8 後記表1中(A)、(E)、(H)で表わされる色素を
用いて、比較例1と同様に光吸収層を設けた。これらの
光吸収層について、半導体レーザー光波長近傍での屈折
率を膜の反射率から概算した(図4参照)。図3と図4
から、本発明の光吸収層は従来法の光吸収層に比べ、半
導体レーザー光波長近傍で高い屈折率が得られることが
判る。
Comparative Examples 6 to 8 A light absorbing layer was provided in the same manner as in Comparative Example 1 using the dyes represented by (A), (E) and (H) in Table 1 below. For these light absorption layers, the refractive index in the vicinity of the wavelength of the semiconductor laser light was estimated from the reflectance of the film (see FIG. 4). 3 and 4
From the above, it can be seen that the light absorption layer of the present invention has a higher refractive index in the vicinity of the wavelength of the semiconductor laser light than the conventional light absorption layer.

【0036】実施例10 直径120mm、厚さ1.2mmのポリカーボネイト基
板の表面上に、深さ約1200Åの案内溝凹凸パターン
を有する基板を用意し、後記表1中(A)で表わされる
色素と5,6−ジメチルベンズイミダゾールをモル比
1:1の割合でエチルセロソルブを主成分とする溶媒に
溶解してスピンコーティングすることにより、基板表面
上に光吸収層を設けた。光吸収層の膜厚は約1500Å
であった。光吸収層の上にAuスパッタ法によりAuを
約800Åの厚さに設け反射層とし、更にその上に紫外
線硬化樹脂からなる保護層を約5μmの厚さに設けて、
本発明の光記録媒体を作製した。得られた光記録媒体に
波長785nm、N.A.0.5、線速1.4m/sの
条件でEFM信号を記録し、再生を行なったところ、I
topは65%、Clエラーは220以下であり、CD
規格を満足する値であった。
Example 10 A substrate having a guide groove concavo-convex pattern having a depth of about 1200 Å on the surface of a polycarbonate substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm was prepared, and a dye represented by (A) in Table 1 below was prepared. A light absorbing layer was provided on the surface of the substrate by dissolving 5,6-dimethylbenzimidazole in a solvent having ethylcellosolve as a main component in a molar ratio of 1: 1 and spin-coating the solution. The thickness of the light absorption layer is about 1500Å
Met. Au is formed on the light absorption layer by Au sputtering to a thickness of about 800Å to form a reflection layer, and a protective layer made of an ultraviolet curable resin is further formed on the light absorption layer to a thickness of about 5 μm.
An optical recording medium of the present invention was produced. The wavelength of 785 nm, N.V. A. When the EFM signal was recorded and reproduced under the conditions of 0.5 and a linear velocity of 1.4 m / s, I
Top is 65%, Cl error is 220 or less, CD
The value satisfied the standard.

【0037】実施例11 実施例10において、色素として後記表1中(B)で表
わされる化合物を用いたこと以外は、実施例12と同様
にして光記録媒体を作製し、評価したところ、Itop
は72%、Clエラーは220以下であり、CD規格を
満足する値であった。
Example 11 An optical recording medium was prepared and evaluated in the same manner as in Example 12 except that the compound represented by (B) in Table 1 below was used as the dye.
Was 72% and the Cl error was 220 or less, which were values satisfying the CD standard.

【0038】比較例9 実施例10において、5,6−ジメチルベンズイミダゾ
ールを添加しないこと以外は、実施例10と同様にして
光記録媒体を作製し、評価したところ、Itopは38
%、Clエラーは220以上であり、CD規格を満足で
きなかった。
Comparative Example 9 An optical recording medium was prepared and evaluated in the same manner as in Example 10 except that 5,6-dimethylbenzimidazole was not added, and itop was found to be 38.
%, The Cl error was 220 or more, and the CD standard could not be satisfied.

【0039】比較例10 実施例10において、色素として後記表1中(E)で表
わされる化合物を用いたこと以外は、実施例10と同様
にして光記録媒体を作製し、評価したところ、Itop
は40%、Clエラーは220以上であり、CD規格を
満足できなかった。
Comparative Example 10 An optical recording medium was prepared and evaluated in the same manner as in Example 10 except that the compound represented by (E) in Table 1 below was used as the dye.
Was 40% and the Cl error was 220 or more, which did not satisfy the CD standard.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】[0041]

【発明の効果】請求項1の光記録媒体は、光記録層が前
記一般式(I)で表わされる金属フタロシアニン系化合
物と前記窒素含有化合物とを主成分とするものとしたこ
とから、フタロシアニン系化合物の分子会合が抑制さ
れ、レーザー光波長域(760〜800nm)において
適切な複素屈折率をもつという優れた光学特性を有す
る。また、耐久性(耐熱性、耐光性)に優れるという効
果もある。
According to the optical recording medium of claim 1, the optical recording layer is composed mainly of the metal phthalocyanine compound represented by the general formula (I) and the nitrogen-containing compound. It has excellent optical characteristics that the molecular association of the compound is suppressed and the compound has an appropriate complex refractive index in the laser light wavelength range (760 to 800 nm). In addition, it has the effect of being excellent in durability (heat resistance, light resistance).
There is also a fruit.

【0042】(削除)(Delete)

【0043】請求項の光記録媒体は、光吸収層の光吸
収ピーク波長が710〜750nmの範囲にあるものと
したことから、レーザー光波長において、適切な複素屈
折率をより確実に得られるという効果が加わる。
According to the optical recording medium of the second aspect , the light absorption peak wavelength of the light absorption layer is in the range of 710 to 750 nm, so that an appropriate complex refractive index can be more reliably obtained at the laser light wavelength. The effect is added.

【0044】請求項の光記録媒体の製造方法は、光吸
収層を塗布成膜手段により形成させ、且つ光反射層を真
空成膜手段により形成させるものとしたことから、本発
明の光記録媒体を容易に安定して製造することができ
る。
In the method of manufacturing an optical recording medium according to a third aspect of the present invention, the light absorbing layer is formed by the coating film forming means and the light reflecting layer is formed by the vacuum film forming means. The medium can be easily and stably manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1及び比較例1で得られた光吸収層の光
吸収スペクトル図である。
FIG. 1 is a light absorption spectrum diagram of a light absorption layer obtained in Example 1 and Comparative Example 1.

【図2】実施例2及び比較例2で得られた光吸収層の光
吸収スペクトル図である。
FIG. 2 is a light absorption spectrum diagram of a light absorption layer obtained in Example 2 and Comparative Example 2.

【図3】実施例7〜9で得られた光吸収層の半導体レー
ザー光波長近傍における屈折率と波長との関係を示すグ
ラフである。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the refractive index and the wavelength in the vicinity of the semiconductor laser light wavelength of the light absorbing layers obtained in Examples 7 to 9.

【図4】比較例6〜8で得られた光吸収層の半導体レー
ザー光波長近傍における屈折率と波長との関係を示すグ
ラフである。
FIG. 4 is a graph showing the relationship between the refractive index and the wavelength in the vicinity of the semiconductor laser light wavelength of the light absorption layers obtained in Comparative Examples 6 to 8.

フロントページの続き (72)発明者 上田 裕 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株 式会社リコー内 (56)参考文献 特開 平3−215466(JP,A) 特開 平4−226388(JP,A) 特開 平4−226390(JP,A) 特開 昭62−39286(JP,A) 特開 昭59−16785(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41M 5/26 Front page continuation (72) Inventor Yu Ueda 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Inside Ricoh Co., Ltd. (56) Reference JP-A-3-215466 (JP, A) JP-A-4-226388 (JP, A) JP 4-226390 (JP, A) JP 62-39286 (JP, A) JP 59-16785 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7) , DB name) B41M 5/26

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板上に少なくとも光吸収層を設けてな
る光記録媒体において、該光吸収層が下記一般式(I)
で表わされる金属フタロシアニン系化合物と、置換さ
ていてもよいイミダゾール系化合物から選ばれた窒素含
有化合物とを、主成分とするものであることを特徴とす
る光記録媒体。 【化1】 (式中、M及びA1〜A8は、それぞれ以下のものを表わ
す。M:Mn、Fe、Co、Zn又はCd原子。A1
2、A3とA4、A5とA6及びA7とA8:それぞれのど
ちらか一方は−OR又は−SR基、他方は水素原子。
R:置換されていてもよい芳香族又は脂環式の炭化水素
基。)
1. An optical recording medium comprising at least a light absorbing layer provided on a substrate, wherein the light absorbing layer has the following general formula (I):
Optical recording medium, wherein in the metal phthalocyanine compound represented, and a nitrogen-containing compound selected from substitution which may be an imidazole compound, as a primary component. [Chemical 1] (In the formula, M and A 1 to A 8 each represent the following. M: Mn, Fe, Co, Zn or Cd atom. A 1 and A 2 , A 3 and A 4 , A 5 and A 6 And A 7 and A 8 : one of them is an —OR or —SR group, and the other is a hydrogen atom.
R: an optionally substituted aromatic or alicyclic hydrocarbon group. )
【請求項2】 前記光吸収層が710〜750nmの範
囲に光吸収ピーク波長(λmax)を有するものである
請求項1に記載の光記録媒体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the light absorption layer has a light absorption peak wavelength (λmax) in a range of 710 to 750 nm.
【請求項3】 表面に情報ピット及び/又は案内溝が形
成されてなる基板上に、直接又は他の層を介して前記一
般式(I)で表わされる金属フタロシアニン系化合物
と、置換されていてもよいイミダゾール系化合物から選
ばれた窒素含有化合物とを、主成分とする光吸収層を塗
布成膜手段により設け、その上に直接又は他の層を介し
て光反射層を真空成膜手段により設け、更にその上に保
護層を設けることを特徴とする請求項1又は2に記載の
光記録媒体の製造方法。
To 3. A surface information pits and / or guide grooves are formed on the substrate, a metal phthalocyanine compound represented by the general formula directly or through other layer (I), is substitution A light-absorbing layer containing a nitrogen-containing compound selected from imidazole-based compounds as a main component by coating and forming means, and a light-reflecting layer is vacuum-formed directly or through another layer thereon. provided by the means, further process for producing an optical recording medium according to claim 1 or 2, characterized in that a protective layer thereon.
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