JP3416529B2 - Image display device - Google Patents

Image display device

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JP3416529B2
JP3416529B2 JP17899198A JP17899198A JP3416529B2 JP 3416529 B2 JP3416529 B2 JP 3416529B2 JP 17899198 A JP17899198 A JP 17899198A JP 17899198 A JP17899198 A JP 17899198A JP 3416529 B2 JP3416529 B2 JP 3416529B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の電子放出素
子を配列した表示パネルを用いて画像を表示する画像表
示装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image display device that displays an image using a display panel in which a plurality of electron-emitting devices are arranged.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、電子放出素子として熱陰極素
子と冷陰極素子の2種類が知られている。このうち冷陰
極素子では、例えば表面伝導型放出素子や、電界放出型
素子(以下FE型と記す)や、金属/絶縁層/金属型放
出素子(以下MIM型と記す)、などが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, two types of electron-emitting devices, known as a hot cathode device and a cold cathode device, are known. Among them, as the cold cathode element, for example, a surface conduction type emission element, a field emission type element (hereinafter referred to as FE type), a metal / insulating layer / metal type emission element (hereinafter referred to as MIM type), etc. are known. There is.

【0003】表面伝導型放出素子としては、例えば、M.
I. Elinson, Radio E-ng. Electron Phys., 10, 1290,
(1965)や、後述する他の例が知られている。
The surface conduction electron-emitting device is, for example, M.
I. Elinson, Radio E-ng. Electron Phys., 10, 1290,
(1965) and other examples described later are known.

【0004】表面伝導型放出素子は、基板上に形成され
た小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことにより
電子放出が生ずる現象を利用するものである。この表面
伝導型放出素子としては、前記エリンソン(Elinson)等
によるSnO2薄膜を用いたものの他に、Au薄膜によ
るもの[G. Dittmer:“Thin Solid Films”, 9,317 (1
972)]や、In2O3/SnO2薄膜によるもの[M. Hart
well and C. G. Fonstad:”IEEE Trans. ED Conf.”,
519 (1975)]や、カーボン薄膜によるもの[荒木久
他:真空、第26巻、第1号、22(1983)]等が
報告されている。
The surface conduction electron-emitting device utilizes a phenomenon in which electron emission occurs when a current is passed through a thin film having a small area formed on a substrate in parallel with the film surface. The surface conduction electron-emitting device is made of an Au thin film in addition to the SnO2 thin film made by Elinson et al. [G. Dittmer: "Thin Solid Films", 9,317 (1
972)], and In2O3 / SnO2 thin films [M. Hart
well and CG Fonstad: “IEEE Trans. ED Conf.”,
519 (1975)] and carbon thin film [Haraki Araki
Others: Vacuum, Vol. 26, No. 1, 22 (1983)] and the like are reported.

【0005】これらの表面伝導型放出素子の素子構成の
典型的な例として、図30に前述のM. Hartwellらによ
る素子の平面図を示す。同図において、3001は基板
で、3004はスパッタで形成された金属酸化物よりな
る導電性薄膜である。導電性薄膜3004は図示のよう
にH字形の平面形状に形成されている。この導電性薄膜
3004に、後述の通電フォーミングと呼ばれる通電処
理を施すことにより、電子放出部3005が形成され
る。図中の間隔Lは、0.5〜1[mm],幅Wは、
0.1[mm]に設定されている。尚、図示の便宜か
ら、電子放出部3005は導電性薄膜3004の中央に
矩形の形状で示したが、これは模式的なものであり、実
際の電子放出部の位置や形状を忠実に表現しているわけ
ではない。
As a typical example of the device structure of these surface conduction type electron-emitting devices, FIG. 30 shows a plan view of the device by M. Hartwell et al. In the figure, 3001 is a substrate, and 3004 is a conductive thin film made of metal oxide formed by sputtering. The conductive thin film 3004 is formed in an H-shaped plane shape as illustrated. An electron-emitting portion 3005 is formed by subjecting this conductive thin film 3004 to an energization process called energization forming described later. The interval L in the figure is 0.5 to 1 [mm], and the width W is
It is set to 0.1 [mm]. For convenience of illustration, the electron emitting portion 3005 is shown in a rectangular shape in the center of the conductive thin film 3004, but this is a schematic one, and the actual position and shape of the electron emitting portion is faithfully expressed. It doesn't mean that.

【0006】M. Hartwellらによる素子をはじめとして
上述の表面伝導型放出素子においては、電子放出を行う
前に導電性薄膜3004に通電フォーミングと呼ばれる
通電処理を施すことにより電子放出部3005を形成す
るのが一般的であった。即ち、通電フォーミングとは、
前記導電性薄膜3004の両端に一定の直流電圧、もし
くは、例えば1V/分程度の非常にゆっくりとしたレー
トで昇圧する直流電圧を印加して通電し、導電性薄膜3
004を局所的に破壊もしくは変形もしくは変質せし
め、電気的に高抵抗な状態の電子放出部3005を形成
することである。尚、局所的に破壊もしくは変形もしく
は変質した導電性薄膜3004の一部には亀裂が発生す
る。この通電フォーミング後に導電性薄膜3004に適
宜の電圧を印加した場合には、前記亀裂付近において電
子放出が行われる。
In the above-mentioned surface conduction electron-emitting device including the device by M. Hartwell et al., The electron-emitting portion 3005 is formed by subjecting the conductive thin film 3004 to an energization process called energization forming before electron emission. Was common. That is, the energization forming is
A constant DC voltage or a DC voltage which is boosted at a very slow rate of, for example, about 1 V / min is applied to both ends of the conductive thin film 3004 to energize the conductive thin film 3.
That is, 004 is locally destroyed, deformed, or altered to form an electron emitting portion 3005 having a high electrical resistance. A crack occurs in a part of the conductive thin film 3004 which is locally destroyed, deformed or altered. When an appropriate voltage is applied to the conductive thin film 3004 after this energization forming, electrons are emitted near the crack.

【0007】上述の表面伝導型放出素子は、構造が単純
で製造も容易であることから、大面積にわたり多数の素
子を形成できる利点がある。そこで、例えば本出願人に
よる特開昭64−31332号公報において開示される
ように、多数の素子を配列して駆動するための方法が研
究されている。
The above-described surface conduction electron-emitting device has an advantage that a large number of devices can be formed over a large area because it has a simple structure and is easy to manufacture. Therefore, as disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 64-31332 by the present applicant, a method for arranging and driving a large number of elements has been studied.

【0008】FE型の例としては、例えば、W. P. Dyke
& W. W. Dolan,“Field emission”, Advance in Ele
ctron Physics, 8, 89 (1956)や、或は、C. A. Spind
t,“Physical properties of thin-film field emissi
on cathodes with molybdeniumcones”, J. Appl. Phy
s., 47, 5248 (1976)などが知られている。
As an example of the FE type, for example, WP Dyke
& WW Dolan, “Field emission”, Advance in Ele
ctron Physics, 8, 89 (1956) or CA Spind
t, “Physical properties of thin-film field emissi
on cathodes with molybdeniumcones ”, J. Appl. Phy
s., 47, 5248 (1976) are known.

【0009】このFE型の素子構成の典型的な例とし
て、図31に前述のC. A. Spindtらによる素子の断面図
を示す。同図において、3010は基板で、3011は
導電材料よりなるエミッタ配線、3012はエミッタコ
ーン、3013は絶縁層、3014はゲート電極であ
る。本素子は、エミッタコーン3012とゲート電極3
014の間に適宜の電圧を印加することにより、エミッ
タコーン3012の先端部より電界放出を起こさせるも
のである。また、FE型の他の素子構成として、図31
のような積層構造ではなく、基板上に基板平面とほぼ平
行にエミッタとゲート電極を配置した例もある。
As a typical example of this FE type element structure, FIG. 31 shows a sectional view of the element by the above-mentioned CA Spindt et al. In the figure, 3010 is a substrate, 3011 is an emitter wiring made of a conductive material, 3012 is an emitter cone, 3013 is an insulating layer, and 3014 is a gate electrode. This device includes an emitter cone 3012 and a gate electrode 3
By applying an appropriate voltage during 014, field emission is caused from the tip of the emitter cone 3012. In addition, as another element structure of the FE type, as shown in FIG.
There is also an example in which the emitter and the gate electrode are arranged substantially parallel to the substrate plane on the substrate instead of the above laminated structure.

【0010】また、MIM型の例としては、例えば、C.
A. Mead,“Operation of tunnel-emission Devices,
J. Appl. Phys., 32,646 (1961)などが知られている。
このMIM型の素子構成の典型的な例を図32に示す。
同図は断面図であり、図において、3020は基板で、
3021は金属よりなる下電極、3022は厚さ100
オングストローム程度の薄い絶縁層、3023は厚さ8
0〜300オングストローム程度の金属よりなる上電極
である。MIM型においては、上電極3023と下電極
3021の間に適宜の電圧を印加することにより、上電
極3023の表面より電子放出を起こさせるものであ
る。
As an example of the MIM type, for example, C.I.
A. Mead, “Operation of tunnel-emission Devices,
J. Appl. Phys., 32,646 (1961) and the like are known.
FIG. 32 shows a typical example of this MIM type element configuration.
This figure is a cross-sectional view, and in the figure, 3020 is a substrate,
Reference numeral 3021 denotes a lower electrode made of metal, and 3022 has a thickness of 100.
A thin insulating layer of about angstrom, 3023 has a thickness of 8
The upper electrode is made of a metal having a thickness of about 0 to 300 angstroms. In the MIM type, electrons are emitted from the surface of the upper electrode 3023 by applying an appropriate voltage between the upper electrode 3023 and the lower electrode 3021.

【0011】上述の冷陰極素子は、熱陰極素子と比較し
て低温で電子放出を得ることができるため、加熱用ヒー
タを必要としない。従って、熱陰極素子よりも構造が単
純であり、微細な素子を作成可能である。また、基板上
に多数の素子を高い密度で配置しても、基板の熱溶融な
どの問題が発生しにくい。また、熱陰極素子がヒータの
加熱により動作するため応答速度が遅いのとは異なり、
冷陰極素子の場合には応答速度が速いという利点もあ
る。このため、冷陰極素子を応用するための研究が盛ん
に行われてきている。
The cold cathode device described above does not require a heater for heating because it can obtain electron emission at a lower temperature than the hot cathode device. Therefore, the structure is simpler than that of the hot cathode device, and a fine device can be manufactured. Even if a large number of elements are arranged on the substrate with high density, problems such as heat melting of the substrate are unlikely to occur. In addition, unlike the slow response speed because the hot cathode element operates by heating the heater,
In the case of a cold cathode device, there is also an advantage that the response speed is fast. Therefore, research for applying the cold cathode device has been actively conducted.

【0012】例えば、表面伝導型放出素子は、冷陰極素
子のなかでも特に構造が単純で製造も容易であることか
ら、大面積にわたり多数の素子を形成できる利点があ
る。そこで、例えば本出願人による特開昭64−313
32号公報において開示されるように、多数の素子を配
列して駆動するための方法が研究されている。
For example, the surface conduction electron-emitting device has an advantage that a large number of devices can be formed over a large area because it has a particularly simple structure and is easy to manufacture among cold cathode devices. Therefore, for example, JP-A-64-313 by the present applicant
As disclosed in Japanese Patent No. 32, a method for arranging and driving a large number of devices has been studied.

【0013】また、表面伝導型放出素子の応用について
は、例えば、画像表示装置、画像記録装置などの画像形
成装置や、荷電ビーム源、等が研究されている。
Regarding the application of the surface conduction electron-emitting device, for example, an image forming apparatus such as an image display apparatus and an image recording apparatus, a charged beam source and the like have been studied.

【0014】特に、画像表示装置への応用としては、例
えば本出願人によるUSP5,066,883や特開平
2−257551号公報や特開平4−28137号公報
において開示されているように、表面伝導型放出素子と
電子の照射により発光する蛍光体とを組み合わせて用い
た画像表示装置が研究されている。表面伝導型放出素子
と蛍光体とを組み合わせて用いた画像表示装置は、従来
の他の方式の画像表示装置よりも優れた特性が期待され
ている。例えば、近年普及してきた液晶表示装置と比較
しても、自発光型であるためバックライトを必要としな
い点や、視野角が広い点が優れていると言える。
Particularly, as an application to an image display device, as disclosed in, for example, USP 5,066,883 by the present applicant, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-257551 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-28137, surface conduction. An image display device using a combination of a die-emitting device and a phosphor that emits light when irradiated with electrons has been studied. An image display device using a combination of a surface conduction electron-emitting device and a phosphor is expected to have better characteristics than other conventional image display devices. For example, it can be said that it is superior in that it does not require a backlight because it is a self-luminous type and that it has a wide viewing angle, even compared with liquid crystal display devices that have become popular in recent years.

【0015】また、FE型素子を多数個並べて駆動する
方法は、例えば本出願人によるUSP4,904,89
5に開示されている。また、FE型を画像表示装置に応
用した例として、例えば、R. Meyerらにより報告された
平板型表示装置が知られている。[R. Meyer:“Recent D
evelopment on Microtips Display at LETI”,Tech.Di
gest of 4th Int. Vacuum Microelectronics Conf., Na
gahama, pp. 6-9 (1991)]。
A method of arranging and driving a large number of FE type elements is disclosed in, for example, USP 4,904,89 by the present applicant.
5 are disclosed. As an example of applying the FE type to an image display device, for example, a flat panel display device reported by R. Meyer et al. Is known. [R. Meyer: “Recent D
evelopment on Microtips Display at LETI ”, Tech.Di
gest of 4th Int. Vacuum Microelectronics Conf., Na
gahama, pp. 6-9 (1991)].

【0016】また、MIM型を多数個並べて画像表示装
置に応用した例は、例えば本出願人による特開平3−5
5738号公報に開示されている。
An example in which a large number of MIM types are arranged and applied to an image display device is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-5 by the present applicant.
It is disclosed in Japanese Patent No. 5738.

【0017】本願発明者らは、上記従来技術に記載した
ものをはじめとして、さまざまな材料、製法、構造の表
面伝導型放出素子を試みてきた。さらに、多数の表面伝
導型放出素子を配列したマルチ電子源、並びにこのマル
チ電子源を応用した画像表示装置に付いて研究を行って
きた。例えば図33に示す電気的な配線方法によるマル
チ電子源を試みてきた。即ち、表面伝導型放出素子を2
次元的に多数個配列し、これらの素子を図示のようにマ
トリクス状に配線したマルチ電子源である。
The inventors of the present application have tried surface-conduction type emission devices having various materials, manufacturing methods and structures, including those described in the above-mentioned prior art. Further, research has been conducted on a multi-electron source in which a large number of surface conduction electron-emitting devices are arranged and an image display device to which the multi-electron source is applied. For example, a multi-electron source has been tried by the electric wiring method shown in FIG. That is, two surface conduction electron-emitting devices are used.
This is a multi-electron source in which a large number of elements are arranged in a dimension and these elements are wired in a matrix as shown.

【0018】図中、4001は表面伝導型放出素子を模
式的に示したもの、4002は行方向配線、4003は
列方向配線である。行方向配線4002及び列方向配線
4003は、実際には有限の電気抵抗を有するものであ
るが、図においては配線抵抗4004及び4005とし
て示されている。上述のような配線方法を、単純マトリ
クス配線と呼ぶ。なお、図示の便宜上、6×6のマトリ
クスで示しているが、マトリクスの規模はむろんこれに
限ったわけではなく、例えば画像表示す値用のマルチ電
子源の場合には、所望の画像表示を行うのに足りるだけ
の素子を配列し配線するものである。
In the figure, 4001 schematically shows a surface conduction electron-emitting device, 4002 is row-direction wiring, and 4003 is column-direction wiring. The row wiring 4002 and the column wiring 4003 actually have a finite electric resistance, but they are shown as wiring resistances 4004 and 4005 in the drawing. The wiring method as described above is called simple matrix wiring. Although a 6 × 6 matrix is shown for convenience of illustration, the scale of the matrix is not limited to this, and in the case of a multi electron source for displaying an image, a desired image is displayed. This is to arrange and wire the elements that are sufficient.

【0019】このように表面伝導型放出素子を単純マト
リクス配線したマルチ電子源においては、所望の電子ビ
ームを出力させるため、行方向配線4002および列方
向配線4003に適宜の電気信号を印加する。例えば、
マトリクスの中の任意の1行の表面伝導型放出素子を駆
動するには、選択する行の行方向配線4002には選択
電圧Vsを印加し、同時に非選択の行の行方向配線40
02には非選択電圧Vnsを印加する。これと同期して列
方向配線4003に電子ビームを出力するための駆動電
圧Veを印加する。この方法によれば、配線抵抗400
4及び4005による電圧効果を無視すれば、選択する
行の表面伝導型放出素子には(Ve−Vs)の電圧が印加
され、また非選択行の表面伝導型放出素子には(Ve−
Vns)の電圧が印加される。ここでVe,Vs,Vnsを適
宜の大きさの電圧にすれば、選択する行の表面伝導型放
出素子だけから所望の強度の電子ビームが出力されるは
ずであり、また列方向配線の各々に異なる駆動電圧Ve
を印加すれば、選択する行の素子の各々から異なる強度
の電子ビームが出力されるはずである。また、表面伝導
型放出素子の応答速度は高速であるため、駆動電圧Ve
を印加する時間の長さを変えれば、電子ビームが出力さ
れる時間の長さも変えることができるはずである。以
下、選択時の素子印加電圧(Ve−Vs)をVfと呼ぶ。
In the multi-electron source in which the surface conduction electron-emitting devices are wired in a simple matrix as described above, appropriate electric signals are applied to the row direction wirings 4002 and the column direction wirings 4003 in order to output a desired electron beam. For example,
In order to drive the surface conduction electron-emitting device of any one row in the matrix, the selection voltage Vs is applied to the row direction wiring 4002 of the selected row, and at the same time, the row direction wiring 40 of the non-selected row.
A non-selection voltage Vns is applied to 02. In synchronization with this, a drive voltage Ve for outputting an electron beam is applied to the column-direction wiring 4003. According to this method, the wiring resistance 400
4 and 4005, the voltage of (Ve-Vs) is applied to the surface conduction electron-emitting device of the selected row, and (Ve-Vs) is applied to the surface conduction electron-emitting device of the non-selected row.
Vns) is applied. Here, if Ve, Vs, and Vns are set to appropriate voltages, an electron beam of a desired intensity should be output only from the surface conduction electron-emitting device of the selected row, and each of the column-direction wirings should be output. Different drive voltage Ve
Is applied, electron beams of different intensities should be output from the elements of the selected row. Further, since the response speed of the surface conduction electron-emitting device is high, the driving voltage Ve
It should be possible to change the length of time for which the electron beam is output by changing the length of time for which is applied. Hereinafter, the element applied voltage (Ve-Vs) at the time of selection is referred to as Vf.

【0020】[0020]

【発明が解決しようとする課題】このような冷陰極素子
を単純マトリクス配線したマルチ電子源をテレビジョン
用の画像表示装置に適用した場合に以下の問題が発生し
ていた。例えばワイド表示(アスペクト比16:9)と
ノーマル表示(アスペクト比4:3)とを切り換えて表
示できる画像表示装置の場合は、その表示パネルは最大
アスペクト比「16:9」の画像を表示できる面積を有
している。このような表示パネルにアスペクト比「4:
3」の画像を表示する場合には、その表示パネルの内の
表示に使用されない冷陰極素子が生じることになる。こ
のような場合であっても、画像の表示のために駆動され
ない素子に対応するドライバ回路、即ち、シフトレジス
タや変調信号用ドライバなどへの通電が続けられている
ため無駄な電力を消費するという問題があった。
The following problems have occurred when a multi-electron source in which such cold cathode elements are wired in a simple matrix is applied to an image display device for a television. For example, in the case of an image display device capable of switching between wide display (aspect ratio 16: 9) and normal display (aspect ratio 4: 3), the display panel can display an image with a maximum aspect ratio of "16: 9". Have an area. Aspect ratio "4:
In the case of displaying the image of "3", cold cathode elements which are not used for the display are generated in the display panel. Even in such a case, the driver circuit corresponding to the element that is not driven for displaying an image, that is, the shift register, the driver for the modulation signal, and the like continues to be energized, and thus wasteful power is consumed. There was a problem.

【0021】本発明は上記従来例に鑑みてなされたもの
で、表示モードに応じて使用される素子に応じて、その
素子を駆動するドライバ回路への電力供給を停止して消
費電力を抑えるようにした画像表示装置に関するもので
ある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional example, and suppresses power consumption by stopping the power supply to the driver circuit for driving the element according to the display mode. The present invention relates to the image display device.

【0022】また本発明の目的は、ノーマル表示モード
の場合には、表示画面上における画像の表示位置を変更
できる画像表示装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an image display device capable of changing the display position of an image on the display screen in the normal display mode.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の画像表示装置は以下のような構成を備える。
即ち、複数の電子放出素子をマトリクス状に配線した表
示パネルと、前記表示パネルの複数の行配線を駆動する
行駆動手段と、前記表示パネルの複数の列配線を画像信
号に応じて駆動する列駆動手段とを有し、前記列駆動手
段が、前記複数の列配線に接続される複数個の駆動回路
を備えている画像表示装置において、前記表示パネルの
最大表示エリアを使用した表示を行なう第1表示モード
と、前記表示パネルの最大表示エリアよりも小さい表示
エリアを使用した表示を行なう第2表示モードとを切り
替えて表示を行うべく前記列駆動手段を制御する制御信
号を出力する制御部とを有し、 前記第2表示モードの場
合には、前記複数個の駆動回路のうち、当該表示エリア
外の列配線に接続される駆動回路へのクロック信号の入
力を停止するとともに、前記表示エリア内の列配線に接
続される駆動回路へのクロック信号の入力を許し、当該
クロック信号の入力が許されている駆動回路へ画像デー
タを入力することにより、前記第1表示モードの場合の
前記列駆動手段における消費電力より前記第2表示モー
ドの場合の前記列駆動手段における消費電力を小さくす
ことを特徴とする。上記目的を達成するために本発明
の画像表示装置は以下のような構成を備える。即ち、
数の電子放出素子をマトリクス状に配線した表示パネル
と、前記表示パネルの複数の行配線を駆動する行駆動手
段と、前記表示パネルの複数の列配線を画像信号に応じ
て駆動する列駆動手段とを有し、前記列駆動手段が、前
記複数の列配線に接続される複数個の駆動回路を備えて
いる画像表示装置において、 前記表示パネルの最大表示
エリアを使用した表示を行なう第1表示モードと、前記
表示パネルの最大表示エリアよりも小さい表示エリアを
使用した表示を行なう第2表示モードとを切り替えて表
示を行うべく、前記列駆動手段を制御する制御信号を出
力する制御部を具備し、 前記第2表示モードの場合に
は、前記複数個の駆動回路のうち当該表示エリア外の列
配線に接続される駆動回路への電力供給を停止するとと
もに、前記表示エリア内の列配線に接続される駆動回路
への電力供給を許し、当該電力供給が許されている駆動
回路へ画像データを入力することにより、前記第1表示
モードの場合の前記列駆動手段における消費電力より前
記第2表示モードの場合の前記列駆動手段における消費
電力を小さくすることを特徴とする。
In order to achieve the above object, the image display device of the present invention has the following configuration.
That is, a display panel in which a plurality of electron-emitting devices are wired in a matrix, a row driving unit that drives a plurality of row wirings of the display panel, and a column that drives a plurality of column wirings of the display panel according to an image signal. have a drive means, said column drive hands
A plurality of drive circuits whose stages are connected to the plurality of column wirings
A first display mode in which an image is displayed using the maximum display area of the display panel
If, cut a second display mode for performing display using a smaller display area than the maximum display area of the display panel
Instead, a control signal for controlling the column driving means to perform display.
And a control unit for outputting a No., field of the second display mode
In the case of the plurality of drive circuits, the display area
Input of clock signal to drive circuit connected to outer column wiring
Stop the force and connect the column wiring in the display area.
Allows input of clock signal to the drive circuit
Input the image data to the drive circuit that allows the input of clock signal.
By inputting the
The second display mode is determined by the power consumption of the column driving means.
Mode, the power consumption of the column driving means is reduced.
Characterized in that that. In order to achieve the above object, the image display device of the present invention has the following configuration. That is, multiple
Display panel with a number of electron-emitting devices wired in a matrix
And a row driver for driving a plurality of row wirings of the display panel
And a plurality of column wirings of the display panel according to the image signal.
And column driving means for driving the column driving means,
With multiple drive circuits connected to multiple column wirings
Image display device, the maximum display of the display panel
The first display mode for displaying using an area, and
Use a display area smaller than the maximum display area of the display panel.
Switch between the 2nd display mode and the used display.
A control signal for controlling the column driving means is issued to
In the case of the 2nd display mode,
Is a column outside the display area of the plurality of drive circuits
When the power supply to the drive circuit connected to the wiring is stopped
A drive circuit connected to the column wiring in the display area
Drive that allows power supply to the
By inputting image data to the circuit, the first display
Before the power consumption in the column driving means in the mode
Note Consumption in the column driving means in the second display mode
It is characterized by reducing the power.

【0024】[0024]

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の好適な実施の形態を詳細に説明する。
Preferred embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.

【0026】[実施の形態1]図1は、本実施の形態の
画像表示装置の構成を示すブロック図である。
[First Embodiment] FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an image display apparatus according to the present embodiment.

【0027】図において、1は表示パネルで、表示する
縦横が「16:9」のアスペクト比を有し、ここでは仮
に、水平方向に2556(852×3(RGB))個、
垂直方向に480個の蛍光体がR,G,Bそれぞれ縦ス
トライプ状にフェースプレート上に配列されており、各
蛍光体に対応する電子放出素子が行方向配線と列方向配
線とにより単純マトリクス状に配線されている。そし
て、この表示パネル1の電子放出素子を線順次(ラスタ
順)で駆動する例で説明する。
In the figure, reference numeral 1 is a display panel, which has an aspect ratio of 16: 9 in the vertical and horizontal directions. Here, it is assumed that 2556 (852 × 3 (RGB)) pieces in the horizontal direction,
Vertically arranged 480 phosphors are arranged on the face plate in the form of vertical stripes for each of R, G, B, and the electron-emitting devices corresponding to the phosphors are arranged in a simple matrix by the row wiring and the column wiring. Is wired to. Then, an example in which the electron-emitting devices of the display panel 1 are driven in line order (raster order) will be described.

【0028】NTSC信号が受信されてNTSCデコー
ダ4に入力されると、その受信信号が、アスペクト比が
「4:3」の一般のノーマルのTV信号か、或はアスペ
クト比が「16:9」のEDTV11,2のワイド信号
かが判断され、その判断信号s1がシステム制御部8に
入力される。
When the NTSC signal is received and input to the NTSC decoder 4, the received signal is a normal normal TV signal having an aspect ratio of "4: 3" or an aspect ratio of "16: 9". It is determined whether the EDTV 11 or 2 is a wide signal, and the determination signal s1 is input to the system control unit 8.

【0029】またHDTV信号が受信されてHDTVデ
コーダ5に入力されると、その受信信号がアスペクト比
「16:9」のワイド信号であるという判断信号s2が
システム制御部8に入力される。またPC(パーソナル
コンピュータ)が動作しているときは、PC6から出力
されたRGB信号の画像信号がアスペクト比「4:3」
のノーマル信号であることを示す判断信号s3がシステ
ム制御部8に入力される。9はユーザインターフェース
(I/F)で、表示パネル1に表示する画像をノーマル
(アスペクト比「4:3」)のNTSC信号を、ノーマ
ル表示/ワイド表示とするか、ワイド(アスペクト比
「16:9」)のNTSC信号のワイド表示とするか、
或はHDTV信号をワイド表示するか、PC6からの画
像信号をノーマル表示するか等を選択することができ
る。このユーザインターフェース9で選択された内容が
選択信号s4としてシステム制御部8に入力される。こ
のユーザインターフェース9で選択された信号が受信さ
れている場合は、システム制御部8は、その選択された
画像信号に対応するサンプリング周波数の制御信号s5
をA/D変換器7に入力する。これによりA/D変換器
7は、その選択された信号レートのサンプリング周波数
の制御信号s5によりR,G,B信号のそれぞれをデジ
タル信号に変換し、その結果であるデジタル画像信号s
10をデジタルプロセッサ10に出力する。
When the HDTV signal is received and input to the HDTV decoder 5, a determination signal s2 that the received signal is a wide signal having an aspect ratio of "16: 9" is input to the system controller 8. When the PC (personal computer) is operating, the image signal of the RGB signal output from the PC 6 has an aspect ratio of "4: 3".
The determination signal s3 indicating that the normal signal is the normal signal is input to the system control unit 8. Reference numeral 9 denotes a user interface (I / F), which displays an image displayed on the display panel 1 in a normal (aspect ratio "4: 3") NTSC signal as a normal display / wide display or in a wide (aspect ratio "16:"). 9 ") NTSC signal wide display,
Alternatively, a wide display of the HDTV signal or a normal display of the image signal from the PC 6 can be selected. The contents selected by the user interface 9 are input to the system controller 8 as a selection signal s4. When the signal selected by the user interface 9 is received, the system control unit 8 controls the sampling frequency corresponding to the selected image signal s5.
Is input to the A / D converter 7. As a result, the A / D converter 7 converts each of the R, G, B signals into a digital signal by the control signal s5 having the sampling frequency of the selected signal rate, and the resultant digital image signal s.
10 is output to the digital processor 10.

【0030】デジタルプロセッサ10は、この入力した
RGB信号に対してガンマ処理や、輪郭強調やノイズ抑
制のためにデジタルフィルタ処理を行い、その結果であ
るデジタル画像データをP/S(並直)変換部11に出
力する。また、デジタルプロセッサ10の動作を制御す
るための信号s6がシステム制御部8から入力されてい
る。この制御信号s6により、デジタルプロセッサ10
において輪郭強調制御やコントラスト制御等も行うこと
ができる。
The digital processor 10 performs gamma processing on the input RGB signals and digital filter processing for contour enhancement and noise suppression, and P / S (parallel) conversion of the resulting digital image data. Output to the unit 11. A signal s6 for controlling the operation of the digital processor 10 is input from the system control unit 8. By this control signal s6, the digital processor 10
In, edge enhancement control and contrast control can also be performed.

【0031】P/S変換部11は、デジタルプロセッサ
10から並列に入力されたR,G,Bの各デジタル信号
を、表示パネル1における蛍光体の色配列に対応した順
にシリアルに並べ替え、その並べ替えたシリアルデジタ
ル画像データs11を変調信号ドライバ部2に出力す
る。P/S変換部11には、パラレル/シリアル変換を
制御する制御信号s7がシステム制御部8から入力され
ている。
The P / S converter 11 serially rearranges the R, G, B digital signals input in parallel from the digital processor 10 in the order corresponding to the color arrangement of the phosphors on the display panel 1, and The rearranged serial digital image data s11 is output to the modulation signal driver unit 2. A control signal s7 for controlling parallel / serial conversion is input to the P / S converter 11 from the system controller 8.

【0032】変調信号ドライバ2は、シフトレジスタと
表示パネル1の電子放出素子を駆動するためのドライバ
とが1組になった、合計8組(D1〜D8)のシフトレジ
スタとドライバとで構成されており、ここではシリアル
デジタル画像データs11を8層に分割して駆動するよ
うにしている。ここでは、1組のドライバが扱うデータ
数は320(=2560/8)個である。また、この変調信号ド
ライバ2は、シリアルデジタル画像データs11を入力
するシフトレジスタとドライバの組を選択するためのD
S信号(DS1〜DS8)を入力するDS端子と、この組
の動作を制御するEN(イネーブル)信号(EN1〜E
N8)を入力するEN端子を有している。このDS信号
のオン/オフを制御することにより、2556個のシリ
アルデジタル画像データs11のうちの320個のデー
タを選択し、その選択した画像データを対応する組のシ
フトレジスタに入力する。こうして各組のドライバから
320個の画像データが出力され、DS信号とEN信号
をオン/オフすることにより合計320個×8個分のパ
ラレル画像データが8組のドライバから出力される。こ
れらDS信号,EN信号の出力タイミングを変更するこ
とにより、水平方向の8層の画像データのそれぞれの出
力順を変更することができる。走査信号ドライバ3は、
変調信号ドライバ2の出力に同期して、表示パネル1の
選択する行配線に駆動用の電圧を印加し、その選択した
行配線を水平同期信号に同期して順次切り換えていくこ
とにより表示パネル1に画像が表示される。
The modulation signal driver 2 is composed of a total of eight sets (D1 to D8) of shift registers and drivers, each set including a shift register and a driver for driving the electron-emitting devices of the display panel 1. In this case, the serial digital image data s11 is divided into eight layers and driven. Here, the number of data handled by one set of drivers is 320 (= 2560/8). Further, the modulation signal driver 2 is a D for selecting a pair of a shift register and a driver for inputting the serial digital image data s11.
DS terminal that inputs S signal (DS1 to DS8) and EN (enable) signal (EN1 to E) that controls the operation of this set.
It has an EN terminal for inputting N8). By controlling ON / OFF of the DS signal, 320 pieces of data of the 2556 pieces of serial digital image data s11 are selected, and the selected image data is input to the shift register of the corresponding set. In this way, 320 sets of image data are output from each set of drivers, and 320 sets × 8 sets of parallel image data are output from 8 sets of drivers by turning on / off the DS signal and the EN signal. By changing the output timing of the DS signal and the EN signal, the output order of the image data of the eight layers in the horizontal direction can be changed. The scanning signal driver 3 is
In synchronization with the output of the modulation signal driver 2, a driving voltage is applied to the row wirings selected by the display panel 1, and the selected row wirings are sequentially switched in synchronization with the horizontal synchronizing signal to display the panel 1. The image is displayed on.

【0033】図2は、本実施の形態の変調信号ドライバ
2の変調ドライバ組2aにおけるシフトレジスタ200
とドライバ201の組の1つの構成を示すブロック図で
ある。
FIG. 2 shows a shift register 200 in the modulation driver set 2a of the modulation signal driver 2 of this embodiment.
3 is a block diagram showing one configuration of a set of a driver 201 and a driver 201. FIG.

【0034】ドライバ201の動作を制御するEN(イ
ネーブル)信号は、変調ドライバ組2aを構成するシフ
トレジスタ200とドライバ201を動作させる制御ク
ロック(CLK)の出力制御を行っている。即ち、8組
の内のある組のEN信号(ENi)をオフにすると、そ
のオフされたEN信号に対応するシフトレジスタ200
とドライバ201への制御信号(CLK)の供給が停止
される。これによりその変調ドライバ組2aの動作が停
止し、その変調信号ドライバ組2aでの消費電力が抑え
られる。またDS信号(DSi)がオンになると、その
オンになった信号に対応する変調ドライバ組2aにシリ
アルデジタル画像データs11が入力され、オフになる
とその変調ドライバ組2aへの画像データs11の入力
が禁止される。また変調ドライバ組2aのドライバ20
1は、シフトレジスタ200からの画像データに応じた
パルス幅の信号を表示パネル1に出力する。
An EN (enable) signal for controlling the operation of the driver 201 controls the output of a control clock (CLK) for operating the shift register 200 and the driver 201 which constitute the modulation driver set 2a. That is, when the EN signal (ENi) of a certain set among the eight sets is turned off, the shift register 200 corresponding to the turned off EN signal is turned on.
Then, the supply of the control signal (CLK) to the driver 201 is stopped. As a result, the operation of the modulation driver set 2a is stopped, and the power consumption of the modulation signal driver set 2a is suppressed. Further, when the DS signal (DSi) is turned on, the serial digital image data s11 is input to the modulation driver set 2a corresponding to the turned-on signal, and when it is turned off, the image data s11 is input to the modulation driver set 2a. prohibited. In addition, the driver 20 of the modulation driver set 2a
1 outputs a signal having a pulse width corresponding to the image data from the shift register 200 to the display panel 1.

【0035】次に本発明の実施の形態の画像表示装置に
おいて、アスペクト比が「16:9」の場合と「4:
3」の場合の駆動方法について説明する。
Next, in the image display device according to the embodiment of the present invention, the aspect ratio is "16: 9" and "4:
A driving method in the case of "3" will be described.

【0036】受信した画像信号がHDTV信号である
か、EDTV信号(ワイド表示)であるか、或はノーマ
ルのNTSC信号をワイド表示した場合において、表示
するアスペクト比が「16:9」の場合を考える。この
場合には、A/D変換器7で、R,G,B毎に852個
の画像データがサンプリングされてデジタル信号に変換
され、デジタルプロセッサ10を通ってP/S変換部1
1に入力される。こうしてRBGの順に順次切り替えら
れ、852個×3の画像データにパラレル−シリアル変
換され、変調信号ドライバ2を介して表示パネル1に入
力されて画像が表示される。
When the received image signal is an HDTV signal, an EDTV signal (wide display), or a normal NTSC signal is displayed wide, the aspect ratio to be displayed is "16: 9". Think In this case, the A / D converter 7 samples 852 image data for each of R, G, and B and converts the sampled digital data into a digital signal.
Input to 1. In this way, the RBGs are sequentially switched in order, converted into 852 pieces × 3 pieces of image data by parallel-serial conversion, and input to the display panel 1 through the modulation signal driver 2 to display an image.

【0037】この場合のEN信号とDS信号の状態を図
3乃至図6を参照して説明する。
The states of the EN signal and the DS signal in this case will be described with reference to FIGS.

【0038】アスペクト比「16:9」で画像を表示す
る場合は、変調ドライバ組D1〜D8(図3)の全てのイ
ネーブル信号(EN1〜EN8)がイネーブル状態にな
る。またドライバセレクト信号DSは、図4に示すよう
に、2556個のデータの前後に2個ずつダミーデータ
“0”を足し合わせた2560個のデータの320個毎
に信号DS1から信号DS2,信号DS3,…,信号DS8
と順次切り換えてオンされる。ここでダミーデータ
“0”は、P/S変換部11から変調信号ドライバ2へ
データが転送される出力線に不図示のプルダウン抵抗が
接続されており、画像信号が受信されていないときは、
変調信号ドライバ2に出力される画像データs11が
“0”となるようにしている。これにより、図4に示す
ように、信号DS1を画像データ(R1,G1,B1,R
2,…)よりも2個前にオンするようにすれば、2個の
ダミーデータ“00”を挿入することができ、信号DS
8を画像データ(…,R852,G852,B852)よりも2個
だけ遅くオフするようにすれば、2個のダミーデータ
“00”を挿入することができ、全体として1走査ライ
ン当たり2560個の画像データとすることが出来る。
When displaying an image with an aspect ratio of "16: 9", all enable signals (EN1 to EN8) of the modulation driver sets D1 to D8 (FIG. 3) are enabled. As shown in FIG. 4, the driver select signal DS includes signals DS1 to DS2 and signal DS3 for every 320 data of 2560 data obtained by adding two dummy data "0" before and after the data of 2556 data. ,,, Signal DS8
Are sequentially switched on and turned on. Here, the dummy data “0” has a pull-down resistor (not shown) connected to an output line through which data is transferred from the P / S conversion unit 11 to the modulation signal driver 2, and when an image signal is not received,
The image data s11 output to the modulation signal driver 2 is set to "0". As a result, as shown in FIG. 4, the signal DS1 is converted into image data (R1, G1, B1, R).
If it is turned on two bits before 2, ...) Two dummy data "00" can be inserted, and the signal DS
If 8 is turned off later than the image data (..., R852, G852, B852) by two, two dummy data "00" can be inserted, and 2560 data per scanning line can be inserted as a whole. It can be image data.

【0039】一方、受信した信号が、NTSCのノーマ
ル表示か、PS6からのアスペクト比が「4:3」の画
像を表示する場合は、A/D変換器7でR,G,B毎に
640個の画像信号がサンプリングされてデジタルデー
タに変換され、デジタルプロセッサ10を通ってP/S
変換部11に入力されてRBGの順に順次切り替えら
れ、640個×3の画像データにパラレル−シリアル変
換される。
On the other hand, when the received signal displays the normal display of NTSC or the image with the aspect ratio "4: 3" from PS6, the A / D converter 7 outputs 640 for each R, G, B. The individual image signals are sampled, converted into digital data, and passed through the digital processor 10 for P / S.
The data is input to the conversion unit 11 and sequentially switched in the order of RBG, and is parallel-serial converted into 640 image data × 3.

【0040】この場合のイネーブル信号EN及びセレク
ト信号DS(s8)を図5及び図6を参照して説明す
る。
The enable signal EN and the select signal DS (s8) in this case will be described with reference to FIGS.

【0041】図5は、アスペクト比が「4:3」の画像
表示の場合、その画像を表示パネル1の画面の中央部に
表示したいのであれば、変調信号ドライバD1〜D8のイ
ネーブル信号EN1〜EN8の内、信号EN2〜EN7がイ
ネーブルになり、信号EN1とEN8はディスエーブルに
なる。また、セレクト信号DSは、図6に示すように、
1920個のデータを320個毎に信号DS2からDS
3,DS4,…,DS7により切り替えるようにオンされ
る。尚、ここで信号DS1とDS8は共にオフのままであ
る。
In the case of displaying an image having an aspect ratio of "4: 3" in FIG. 5, if it is desired to display the image in the center of the screen of the display panel 1, the enable signals EN1 to EN of the modulation signal drivers D1 to D8 are displayed. Of EN8, signals EN2-EN7 are enabled and signals EN1 and EN8 are disabled. Further, the select signal DS is, as shown in FIG.
Signals 320 to 320 for every 320 data, DS2 to DS
It is turned on by 3, DS4, ..., DS7. Here, both the signals DS1 and DS8 remain off.

【0042】つまり、アスペクト比「4:3」での画像
表示の場合は、イネーブル信号EN1とEN8はディスイ
ネーブルであるから、図5に示すように、変調信号ドラ
イバD1とD8へのシフトクロック等のクロック入力を停
止して画像データをシフトさせないことにより、各変調
ドライバ組のシフトレジスタとドライバで消費されてい
た電力を少なく抑えることができる。
That is, in the case of image display with an aspect ratio of "4: 3", since the enable signals EN1 and EN8 are disabled, as shown in FIG. 5, shift clocks to the modulation signal drivers D1 and D8, etc. By stopping the clock input of and not shifting the image data, the power consumed by the shift register and driver of each modulation driver group can be suppressed to a small amount.

【0043】ただし、PC6からの画像を表示する場
合、そのPC6に備えられたグラフィックカード(ビデ
オカード)がHDTV対応の場合はアスペクト比「4:
3」の表示ではなく、「16:9」での表示を行うこと
もできる。
However, when displaying an image from the PC 6, if the graphic card (video card) provided in the PC 6 is compatible with HDTV, the aspect ratio "4:
The display of "16: 9" may be performed instead of the display of "3".

【0044】図7は、本実施の形態の画像表示装置のシ
ステム制御部8の動作を示すフローチャートで、この処
理を実行する制御プログラムはシステム制御部8の不図
示のメモリに記憶されている。
FIG. 7 is a flow chart showing the operation of the system control unit 8 of the image display apparatus of this embodiment. A control program for executing this processing is stored in a memory (not shown) of the system control unit 8.

【0045】まずステップS101で、ユーザインター
フェース9からの選択信号s4を入力し、ステップS1
02で、この選択信号s4により選択されたNTSCデ
コーダ4、HDTVデコーダ5,或はPC6のいずれか
からの画像信号を選択する。このとき、判断信号s1〜
s3に基づいて、この選択した画像信号がアスペクト比
「4:3」のノーマル画像信号か、アスペクト比が「1
6:9」のワイド画像かを調べ(S103)、ノーマル
であればステップS104に進む。
First, in step S101, the selection signal s4 from the user interface 9 is input, and in step S1
In 02, the image signal from any of the NTSC decoder 4, the HDTV decoder 5, or the PC 6 selected by the selection signal s4 is selected. At this time, the judgment signals s1 to
Based on s3, the selected image signal is a normal image signal with an aspect ratio of "4: 3" or an aspect ratio of "1".
It is checked whether it is a wide image of "6: 9" (S103), and if it is normal, the process proceeds to step S104.

【0046】ステップS104では、ノーマル用のサン
プリングクロックをA/D変換器7に出力してサンプリ
ングし、デジタル化された画像信号をデジタルプロセッ
サ10,P/S11を制御して処理する(S105)。
次にステップS106に進み、イネーブル信号EN1,
EN8を共にディスイネーブルにし(図5)、ステップ
S107で、ドライブセレクトDS2〜DS7を出力する
(図6参照)。またこれに合わせてステップS108
で、表示データの水平同期信号に同期して走査信号ドラ
イバ3を駆動して行配線を選択する。
In step S104, the normal sampling clock is output to the A / D converter 7 for sampling, and the digitized image signal is processed by controlling the digital processor 10 and P / S11 (S105).
Next, in step S106, the enable signal EN1,
Both EN8 are disabled (FIG. 5), and drive selects DS2 to DS7 are output in step S107 (see FIG. 6). Also, in accordance with this, step S108
Then, the scanning signal driver 3 is driven in synchronization with the horizontal synchronizing signal of the display data to select the row wiring.

【0047】また一方ステップS103において、ワイ
ドモードが設定されているときはステップS109に進
み、ワイド用のサンプリング信号s5をA/D変換器7
に出力してRGB信号をサンプリングし、デジタル化さ
れた画像信号をデジタルプロセッサ10,P/S11を
制御して処理する(S110)。次にステップS111
に進み、イネーブル信号EN1〜EN8を全てイネーブル
にし(図3参照)、ステップS112で、ドライブセレ
クトDS1〜DS8を出力する(図4参照)。またこれに
合わせてステップS108で、表示データの水平同期信
号に同期して走査信号ドライバ3を駆動して行配線を選
択する。
On the other hand, when the wide mode is set in step S103, the process proceeds to step S109, and the sampling signal s5 for wide is converted into the A / D converter 7.
To the RGB signal, the RGB signal is sampled, and the digitized image signal is processed by controlling the digital processor 10 and P / S 11 (S 110). Then in step S111
Then, the enable signals EN1 to EN8 are all enabled (see FIG. 3), and drive select DS1 to DS8 are output in step S112 (see FIG. 4). In accordance with this, in step S108, the scanning signal driver 3 is driven in synchronization with the horizontal synchronizing signal of the display data to select the row wiring.

【0048】以上説明したように本実施の形態1によれ
ば、表示する画像のアスペクト比に応じて表示パネルを
表示駆動するためのドライバ回路を切り換え、しかも表
示に使用しないドライバにおける消費電力を抑えて画像
を表示することができる画像表示装置を提供することを
目的とする。
As described above, according to the first embodiment, the driver circuit for driving the display of the display panel is switched according to the aspect ratio of the image to be displayed, and the power consumption of the driver not used for the display is suppressed. An object of the present invention is to provide an image display device capable of displaying an image.

【0049】[実施の形態2]次に本発明の実施の形態
2について説明する。この実施の形態2では、変調信号
ドライバ2の8個の変調ドライバ組の動作を制御するE
N(イネーブル)信号により、各ドライバに供給される
電力を制御している。
[Second Embodiment] Next, a second embodiment of the present invention will be described. In the second embodiment, E which controls the operation of the eight modulation driver sets of the modulation signal driver 2 is used.
The power supplied to each driver is controlled by the N (enable) signal.

【0050】図7は、この実施の形態2の変調ドライバ
組2bの構成を示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing the structure of the modulation driver set 2b according to the second embodiment.

【0051】各組の変調ドライバ組2bに入力されるイ
ネーブル信号ENをオフにすると、そのオフにされた変
調信号ドライバ組におけるシフトレジスタ200及びド
ライバ201への+5Vの電力供給が停止され、その変
調信号ドライバ組2bにおける消費電力が少なく抑えら
れる。
When the enable signal EN input to the modulation driver set 2b of each set is turned off, + 5V power supply to the shift register 200 and the driver 201 in the turned off modulation signal driver set is stopped, and the modulation thereof is performed. The power consumption of the signal driver set 2b can be suppressed to be small.

【0052】尚、本実施の形態2におけるアスペクト比
が「4:3」或は「16:9」の場合の動作は、前述の
実施の形態1の場合と同様であるので、その説明を省略
する。
Since the operation when the aspect ratio is "4: 3" or "16: 9" in the second embodiment is the same as that in the first embodiment, the description thereof is omitted. To do.

【0053】[実施の形態3]次に本発明の実施の形態
3について説明する。なお、この実施の形態3における
画像表示装置の構成は前述の実施の形態1とほぼ同じ
で、アスペクト比「4:3」の画像表示を行う場合に、
表示パネル1の左側に画像を表示する点だけが異なって
いる。
[Third Embodiment] Next, a third embodiment of the present invention will be described. The configuration of the image display device according to the third embodiment is almost the same as that of the above-described first embodiment, and when displaying an image with an aspect ratio of "4: 3",
The only difference is that an image is displayed on the left side of the display panel 1.

【0054】即ち、アスペクト比が「4:3」の画像表
示の場合、A/D変換器7でR,G,B毎に640個の
画像データがサンプリングされ、デジタルプロセッサ1
0、P/S変換部11によりRBGの順に切り替え、6
40×3のデータにパラレル−シリアル変換する。こう
して変換された信号s11が変調信号ドライバ2に入力
される。このときの変調ドライバ制御信号s8によるイ
ネーブル信号ENとドライバセレクト信号DSの状態を
図9及び図10を参照して説明する。
That is, in the case of image display with an aspect ratio of "4: 3", 640 image data for R, G, B are sampled by the A / D converter 7, and the digital processor 1
0, P / S converter 11 switches to RBG in order, 6
Parallel-serial conversion into 40 × 3 data. The signal s11 thus converted is input to the modulation signal driver 2. The states of the enable signal EN and the driver select signal DS by the modulation driver control signal s8 at this time will be described with reference to FIGS. 9 and 10.

【0055】アスペクト比「4:3」の画像表示の場
合、画像を画面の左側に表示したいのであれば、変調ド
ライバD1〜D8のイネーブル信号EN1〜EN8の内、信
号EN1〜EN6をイネーブルにし、残りのイネーブル信
号EN7とEN8とをディスイネーブルにする。ドライバ
セレクト信号DSは、図10に示すように、1920個
のデータを320個毎にDS1からDS2,DS3,…,
DS6と切り替えてオンされる。そして、残りの信号D
S7とDS8は共にオフである。
In the case of displaying an image with an aspect ratio of "4: 3", if it is desired to display the image on the left side of the screen, the signals EN1 to EN6 among the enable signals EN1 to EN8 of the modulation drivers D1 to D8 are enabled, The remaining enable signals EN7 and EN8 are disabled. The driver select signal DS is, as shown in FIG. 10, for each 320 pieces of 1920 pieces of data, from DS1 to DS2, DS3 ,.
It is switched on by switching to DS6. And the remaining signal D
Both S7 and DS8 are off.

【0056】つまりアスペクト比「4:3」の画像表示
の場合、イネーブル信号EN7とEN8は共にディスイネ
ーブルであるから、変調信号ドライバ2の変調ドライバ
組D7とD8の動作を制御している制御クロックの入力が
遮断される(図2参照)ため、これまで制御クロックが
入ることより、変調ドライバの各組のシフトレジスタ2
00とドライバ201とで消費されていた電力量を少な
く抑えることができる。
That is, in the case of image display with an aspect ratio of "4: 3", the enable signals EN7 and EN8 are both disabled, so the control clock that controls the operation of the modulation driver group D7 and D8 of the modulation signal driver 2 is controlled. Input is cut off (see FIG. 2), the control clock is input until now, so that the shift register 2 of each set of the modulation driver is
00 and the driver 201 can reduce the amount of power consumed.

【0057】この場合のシステム制御部8における制御
処理は、前述の図7のフローチャートにおいて、ステッ
プS106でイネーブル信号EN7,8をディスイネーブ
ルにし、ステップS107で、ドライバセレクト信号D
S1〜DS6を出力することで対処できる。
In the control process in the system control unit 8 in this case, in the flow chart of FIG. 7, the enable signals EN7 and EN8 are disabled in step S106, and the driver select signal D is set in step S107.
This can be dealt with by outputting S1 to DS6.

【0058】尚、この変調ドライバ組の構成は、前述の
実施の形態の構成に限らず、実施の形態2のような構成
(図8)でも良い。 [実施の形態4]次に本発明の実施の形態4について説
明する。なお、この実施の形態4における画像表示装置
の構成は前述の実施の形態1とほぼ同じで、アスペクト
比「4:3」の画像表示を行う場合に、表示パネル1の
右側に画像を表示する点だけが異なっている。
The structure of this modulation driver group is not limited to the structure of the above-described embodiment, but may be the structure of the second embodiment (FIG. 8). [Fourth Embodiment] Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. The configuration of the image display device according to the fourth embodiment is almost the same as that of the above-described first embodiment, and an image is displayed on the right side of the display panel 1 when displaying an image with an aspect ratio of "4: 3". Only the points differ.

【0059】即ち、アスペクト比が「4:3」の画像表
示の場合、A/D変換器7でR,G,B毎に640個の
画像データがサンプリングされ、デジタルプロセッサ1
0、P/S変換部11によりRBGの順に切り替え、6
40×3のデータにパラレル−シリアル変換する。こう
して変換された信号s11が変調信号ドライバ2に入力
される。このときの変調ドライバ制御信号s8によるイ
ネーブル信号ENとドライバセレクト信号DSの状態を
図11及び図12を参照して説明する。
That is, in the case of image display with an aspect ratio of "4: 3", 640 image data for each R, G, B are sampled by the A / D converter 7, and the digital processor 1
0, P / S converter 11 switches to RBG in order, 6
Parallel-serial conversion into 40 × 3 data. The signal s11 thus converted is input to the modulation signal driver 2. The states of the enable signal EN and the driver select signal DS by the modulation driver control signal s8 at this time will be described with reference to FIGS. 11 and 12.

【0060】アスペクト比「4:3」の画像表示の場
合、画像を画面の右側に表示したいのであれば、変調ド
ライバD1〜D8のイネーブル信号EN1〜EN8の内、信
号EN3〜EN8をイネーブルにし、残りのイネーブル信
号EN1とEN2とをディスイネーブルにする。ドライバ
セレクト信号DSは、図10に示すように、1920個
のデータを320個毎にDS3からDS4,DS5,…,
DS8と切り替えてオンされる。そして、残りの信号D
S1とDS2は共にオフである。
In the case of displaying an image having an aspect ratio of "4: 3", if it is desired to display the image on the right side of the screen, the signals EN3 to EN8 among the enable signals EN1 to EN8 of the modulation drivers D1 to D8 are enabled, The remaining enable signals EN1 and EN2 are disabled. The driver select signal DS is, as shown in FIG. 10, for each 320 pieces of 1920 pieces of data, DS3 to DS4, DS5 ,.
It is switched on with the DS8. And the remaining signal D
Both S1 and DS2 are off.

【0061】つまりアスペクト比「4:3」の画像表示
の場合、イネーブル信号EN1とEN2は共にディスイネ
ーブルであるから、変調信号ドライバ2の変調ドライバ
組D1とD2の動作を制御している制御クロックの入力が
遮断される(図2参照)ため、これまで制御クロックが
入ることより、変調ドライバの各組のシフトレジスタ2
00とドライバ201とで消費されていた電力量を少な
く抑えることができる。
That is, in the case of image display with an aspect ratio of "4: 3", the enable signals EN1 and EN2 are both disabled, so the control clock that controls the operations of the modulation driver sets D1 and D2 of the modulation signal driver 2 Input is cut off (see FIG. 2), the control clock is input until now, so that the shift register 2 of each set of the modulation driver is
00 and the driver 201 can reduce the amount of power consumed.

【0062】この場合のシステム制御部8における制御
処理は、前述の図7のフローチャートにおいて、ステッ
プS106でイネーブル信号EN1,2をディスイネーブ
ルにし、ステップS107で、ドライバセレクト信号D
S3〜DS8を出力することで対処できる。
In the control processing in the system control section 8 in this case, in the flow chart of FIG. 7, the enable signals EN1 and EN2 are disabled in step S106, and the driver select signal D is set in step S107.
This can be dealt with by outputting S3 to DS8.

【0063】尚、この変調ドライバ組の構成は、前述の
実施の形態の構成に限らず、実施の形態2のような構成
(図8)でも良い。
The structure of this modulation driver group is not limited to the structure of the above-described embodiment, but may be the structure of the second embodiment (FIG. 8).

【0064】[実施の形態5]本発明の実施の形態5の
画像表示装置の構成を図13に示す。尚、この図13に
おいて、前述の実施の形態と同じ部分は同じ番号を付し
て、その説明を省略する。この実施の形態5は、前述の
実施の形態1の変調信号ドライバ2が8組の変調ドライ
バで構成されていたのに対し、本実施の形態5では16
組で構成された変調信号ドライバ12を備えている。
[Fifth Embodiment] FIG. 13 shows the arrangement of an image display apparatus according to the fifth embodiment of the present invention. In FIG. 13, the same parts as those in the above-mentioned embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. In the fifth embodiment, the modulation signal driver 2 of the first embodiment is composed of eight sets of modulation drivers, whereas in the fifth embodiment, 16 modulation drivers are provided.
The modulation signal driver 12 configured as a set is provided.

【0065】このように変調信号ドライバ12における
変調ドライバ組の数を増やすと並列に出力するシフトレ
ジスタの数が増えるため、変調信号ドライバ12内でデ
ータをシフトするクロックの周波数を低くすることがで
き、これにより、更に消費電力を少なくことが出来る。
As described above, when the number of modulation driver groups in the modulation signal driver 12 is increased, the number of shift registers output in parallel increases, so that the frequency of the clock for shifting data in the modulation signal driver 12 can be lowered. Therefore, the power consumption can be further reduced.

【0066】尚、この変調信号ドライバ12の各変調ド
ライバ組の構成は、前述の実施の形態1の構成(図2)
でも、或は実施の形態2の構成(図5)でも良い。
The structure of each modulation driver group of the modulation signal driver 12 is the same as that of the first embodiment (FIG. 2).
Alternatively, the configuration of the second embodiment (FIG. 5) may be used.

【0067】本実施の形態5における、画像信号のアス
ペクト比が「16:9」の場合と「4:3」の場合の表
示装置の駆動方法について説明する。
A method of driving the display device according to the fifth embodiment when the aspect ratio of the image signal is "16: 9" and "4: 3" will be described.

【0068】受信した画像信号がHDTV信号か、ED
TV信号か、或はノーマルのNTSCをワイド表示した
ようなアスペクト比が「16:9」の画像表示の場合、
A/D変換器7でR,G,B毎に852個の画像信号が
サンプリングされ、デジタルプロセッサ10を通り、P
/S変換部11でパラレル−シリアル変換される。こう
して変換されたシリアル信号s12は、変調信号ドライ
バ12にRBGの順に順次切り替えられて852×3の
画像データとして入力される。このときのイネーブル信
号EN(EN1〜EN16)とドライバセレクト信号DS(DS1
〜DS16)の状態を図14〜図17を参照して説明する。
Whether the received image signal is an HDTV signal or ED
In the case of a TV signal or an image display with an aspect ratio of "16: 9" such as a wide display of normal NTSC,
The A / D converter 7 samples 852 image signals for each of R, G, and B, passes through the digital processor 10, and outputs P
The / S converter 11 performs parallel-serial conversion. The serial signal s12 thus converted is sequentially switched to the modulation signal driver 12 in the order of RBG and input as 852 × 3 image data. At this time, the enable signal EN (EN1 to EN16) and the driver select signal DS (DS1
.About.DS16) will be described with reference to FIGS.

【0069】アスペクト比が「16:9」の画像表示の
場合は、D1〜D16で示された各変調ドライバ組に対応
するイネーブル信号EN1〜EN16は全てイネーブルで
ある。各ドライバセレクト信号DSは、前述の図4に示
すように、2556個のデータの前後に2個ずつダミー
データ“00”を付加した合計2560個のデータを作
成し、160個毎にセレクト信号DS1からDS2,DS
3,…,DS16と順次切り替えて出力される。ここで、
ダミーデータ“00”は、P/S変換部11から変調信
号ドライバ12へデータを転送する際、不図示のプルダ
ウン抵抗により画像信号が受信されていないときは、デ
ータが“0”となるようにしている。よって図4に示す
ように、セレクト信号DS1を画像データ(R1,G1,
B1,R2,…)の2画素前にオンするようにすれば、2
個のダミーデータ“00”を挿入することができ、セレ
クト信号DS16を画像データ(…,R852,G852,B85
2)よりも2画素分遅くオフするようにすれば2個のダ
ミーデータ“00”を挿入することができる。
In the case of the image display with the aspect ratio of "16: 9", all the enable signals EN1 to EN16 corresponding to the modulation driver groups indicated by D1 to D16 are all enabled. As shown in FIG. 4, each driver select signal DS creates a total of 2560 data by adding two dummy data “00” before and after the 2556 data, and selects the select signal DS1 for every 160 data. To DS2, DS
3, ..., DS16 are sequentially switched and output. here,
The dummy data “00” is set so that the data becomes “0” when the image signal is not received by the pull-down resistor (not shown) when the data is transferred from the P / S conversion unit 11 to the modulation signal driver 12. ing. Therefore, as shown in FIG. 4, the select signal DS1 is set to the image data (R1, G1,
If it is turned on two pixels before B1, R2, ...)
Individual dummy data "00" can be inserted, and the select signal DS16 is used as image data (..., R852, G852, B85).
Two dummy data "00" can be inserted by turning off by 2 pixels later than 2).

【0070】図14は、このようにアスペクト比「1
6:9」で表示する場合を示す図、図15は、この場合
のドライバセレクト信号DS1〜DS16のタイミング例
を示している。
FIG. 14 shows that the aspect ratio is "1".
FIG. 15 shows a case of displaying at "6: 9", and FIG. 15 shows a timing example of the driver select signals DS1 to DS16 in this case.

【0071】また受信した画像信号が、NTSCをノー
マル表示した場合、或はPC6からの画像信号に基づく
表示で、表示時のアスペクト比が「4:3」の場合、A
/D変換器7でR,G,B毎に640個の画像データが
サンプリングされ、デジタルプロセッサ10、P/S変
換部11で、RBGの順に640×3の画像データにパ
ラレル−シリアル変換される。こうして変換されたシリ
アル信号s12が変調信号ドライバ12に入力されると
きのイネーブル信号ENとドライバセレクト信号DSの
状態を図16,図17により説明する。
When the received image signal is the normal display of NTSC or the display based on the image signal from the PC 6 and the aspect ratio at the time of display is "4: 3", A
640 image data are sampled for each of R, G, and B by the / D converter 7, and are parallel-serial converted into 640 × 3 image data in the order of RBG by the digital processor 10 and the P / S converter 11. . The states of the enable signal EN and the driver select signal DS when the serial signal s12 thus converted is input to the modulation signal driver 12 will be described with reference to FIGS.

【0072】アスペクト比が「4:3」の画像表示の場
合、画面の中央部に表示したいのであれば、変調ドライ
バ組D1〜D16のイネーブル信号EN1〜EN16におい
て、EN3〜EN14をイネーブルにし、イネーブル信号
EN1,EN2とEN15,EN16を全てディスイネーブル
にする(図16)。ドライブセレクト信号DSは、図1
7に示すように、1920個のデータを160個毎にD
S3からDS4,DS5,…,DS14と切り替えてオンさ
れる。また、信号DS1,DS2とDS15,DS16は全て
オフである。
In the case of image display with an aspect ratio of "4: 3", if it is desired to display in the center of the screen, EN3 to EN14 are enabled and enabled in the enable signals EN1 to EN16 of the modulation driver sets D1 to D16. All signals EN1, EN2 and EN15, EN16 are disabled (Fig. 16). The drive select signal DS is shown in FIG.
As shown in Fig. 7, 1920 data is D every 160 data.
It is turned on by switching from S3 to DS4, DS5, ..., DS14. Also, the signals DS1, DS2 and DS15, DS16 are all off.

【0073】ただし、アスペクト比「4:3」の画像を
表示パネル1aの中央部に限定するものではなく、他の
場所に表示しても良い。その方法としては、ドライブセ
レクト信号DS1〜DS16の連続する14個のDSを昇
べき順に切り替え、選ばなかった4つのセレクト信号D
Sをオフにしておけばよい。このような切り換え方法に
より、本実施の形態5では5つの表示位置を選ぶことが
できる。
However, the image having the aspect ratio of "4: 3" is not limited to the central portion of the display panel 1a, and may be displayed at another place. As a method thereof, 14 consecutive DSs of the drive select signals DS1 to DS16 are switched in ascending order and four select signals D not selected are selected.
Turn off S. With this switching method, five display positions can be selected in the fifth embodiment.

【0074】(表示パネル1の構成とその製造法)次
に、本実施の形態に適用した画像表示装置の表示パネル
1又は1aの構成とその製造法について、具体的な例を
示して説明する。
(Structure of Display Panel 1 and Manufacturing Method Thereof) Next, the structure and the manufacturing method of the display panel 1 or 1a of the image display device applied to this embodiment will be described with reference to specific examples. .

【0075】図18は、実施の形態に用いた表示パネル
の斜視図であり、内部構造を示すために表示パネル1,
1aの一部を切り欠いて示している。
FIG. 18 is a perspective view of a display panel used in the embodiment, in which the display panel 1 is shown to show the internal structure.
A part of 1a is notched and shown.

【0076】図中、1005はリアプレート、1006
は側壁、1007はフェースプレートであり、1005
〜1007により表示パネルの内部を真空に維持するた
めの気密容器を形成している。気密容器を組み立てるに
あたっては、各部材の接合部に十分な強度と気密性を保
持させるため封着する必要があるが、例えばフリットガ
ラスを接合部に塗布し、大気中あるいは窒素雰囲気中
で、摂氏400〜500度で10分以上焼成することに
より封着を達成した。気密容器内部を真空に排気する方
法については後述する。
In the figure, 1005 is a rear plate, and 1006.
Is a side wall, 1007 is a face plate, and 1005
˜1007 form an airtight container for maintaining a vacuum inside the display panel. When assembling an airtight container, it is necessary to seal the joints of each member in order to maintain sufficient strength and airtightness. Sealing was achieved by firing at 400-500 degrees for 10 minutes or more. A method of evacuating the inside of the airtight container will be described later.

【0077】リアプレート1005には、基板1001
が固定されているが、該基板上には冷陰極素子1002
がN×M個形成されている。ここでN,Mは2以上の正
の整数であり、目的とする表示画素数に応じて適宜設定
される。例えば、高品位テレビジョンの表示を目的とし
た表示装置においては、N=3000,M=1000以
上の数を設定することが望ましい。本実施の形態におい
ては、N=3072,M=1024とした。これらN×
M個の冷陰極素子は、M本の行方向配線1003とN本
の列方向配線1004により単純マトリクス配線されて
いる。前記、1001〜1004によって構成される部
分をマルチ電子源と呼ぶ。なお、マルチ電子源の製造方
法や構造については、後で詳しく述べる。
The rear plate 1005 has a substrate 1001.
, But the cold cathode device 1002 is fixed on the substrate.
Are formed by N × M. Here, N and M are positive integers of 2 or more and are appropriately set according to the target number of display pixels. For example, in a display device intended for high-definition television display, it is desirable to set the numbers N = 3000 and M = 1000 or more. In this embodiment, N = 3072 and M = 1024. These N ×
The M cold cathode elements are arranged in a simple matrix by M row-direction wirings 1003 and N column-direction wirings 1004. The portion composed of 1001 to 1004 is called a multi-electron source. The manufacturing method and structure of the multi electron source will be described in detail later.

【0078】本実施の形態においては、気密容器のリア
プレート1005にマルチ電子源の基板1001を固定
する構成としたが、マルチ電子源の基板1001が十分
な強度を有するものである場合には、気密容器のリアプ
レートとしてマルチ電子源の基板1001自体を用いて
もよい。
In this embodiment, the multi-electron source substrate 1001 is fixed to the rear plate 1005 of the airtight container. However, when the multi-electron source substrate 1001 has sufficient strength, The multi-electron source substrate 1001 itself may be used as the rear plate of the airtight container.

【0079】また、フェースプレート1007の下面に
は、蛍光膜1008が形成されている。本実施の形態は
カラー表示装置であるため、蛍光膜1008の部分には
CRTの分野で用いられる赤、緑、青、の3原色の蛍光
体が塗り分けられている。各色の蛍光体は、例えば図1
9(A)に示すようにストライプ状に塗り分けられ、蛍
光体のストライプの間には黒色の導電体1010が設け
てある。黒色の導電体1010を設ける目的は、電子ビ
ームの照射位置に多少のずれがあっても表示色にずれが
生じないようにする事や、外光の反射を防止して表示コ
ントラストの低下を防ぐ事、電子ビームによる蛍光膜の
チャージアップを防止する事などである。黒色の導電体
1010には、黒鉛を主成分として用いたが、上記の目
的に適するものであればこれ以外の材料を用いても良
い。
A fluorescent film 1008 is formed on the lower surface of the face plate 1007. Since the present embodiment is a color display device, the phosphor film 1008 is coated with phosphors of three primary colors of red, green and blue used in the field of CRT. The phosphors of each color are shown in FIG.
As shown in FIG. 9 (A), the conductors are painted in stripes, and black conductors 1010 are provided between the phosphor stripes. The purpose of providing the black conductor 1010 is to prevent the display color from deviating even if the irradiation position of the electron beam is slightly deviated, and to prevent the reduction of the display contrast by preventing the reflection of external light. This is to prevent the fluorescent film from being charged up by the electron beam. Although graphite was used as a main component for the black conductor 1010, other materials may be used as long as they are suitable for the above purpose.

【0080】また、3原色の蛍光体の塗り分け方は図1
9(A)に示したストライプ状の配列に限られるもので
はなく、例えば図19(B)に示すようなデルタ状配列
や、それ以外の配列であってもよい。なお、モノクロー
ムの表示パネルを作成する場合には、単色の蛍光体材料
を蛍光膜1008に用いればよく、また黒色導電材料は
必ずしも用いなくともよい。
Further, the method of separately applying the phosphors of the three primary colors is shown in FIG.
The arrangement is not limited to the stripe arrangement shown in FIG. 9A, but may be a delta arrangement as shown in FIG. 19B or an arrangement other than that. When a monochrome display panel is created, a monochromatic phosphor material may be used for the phosphor film 1008, and a black conductive material may not necessarily be used.

【0081】また、蛍光膜1008のリアプレート側の
面には、CRTの分野では公知のメタルバック1009
を設けてある。メタルバック1009を設けた目的は、
蛍光膜1008が発する光の一部を鏡面反射して光利用
率を向上させるためや、負イオンの衝突から蛍光膜10
08を保護する事や、電子ビーム加速電圧を印加するた
めの電極として作用させる事や、蛍光膜1008を励起
した電子の導電路として作用させる事などである。メタ
ルバック1009は、蛍光膜1008をフェースプレー
ト基板1007上に形成した後、蛍光膜表面を平滑化処
理し、その上にAlを真空蒸着する方法により形成し
た。なお、蛍光膜1008に低電圧用の蛍光体材料を用
いた場合には、メタルバック1009は用いない。
On the surface of the fluorescent film 1008 on the rear plate side, a metal back 1009 known in the field of CRT is used.
Is provided. The purpose of providing the metal back 1009 is
In order to improve the light utilization efficiency by specularly reflecting a part of the light emitted by the fluorescent film 1008, and from the collision of negative ions, the fluorescent film 10
08 is protected, the electrode is used to apply an electron beam acceleration voltage, and the fluorescent film 1008 is used as a conductive path for excited electrons. The metal back 1009 was formed by forming a fluorescent film 1008 on the face plate substrate 1007, smoothing the surface of the fluorescent film, and vacuum-depositing Al on the surface. The metal back 1009 is not used when a low voltage fluorescent material is used for the fluorescent film 1008.

【0082】また、本実施の形態では用いなかったが、
加速電圧の印加用や蛍光膜の導電性向上を目的として、
フェースプレート基板1007と蛍光膜1008との間
に、例えばITOを材料とする透明電極を設けてもよ
い。
Although not used in this embodiment,
For the purpose of applying acceleration voltage and improving the conductivity of the fluorescent film,
A transparent electrode made of, for example, ITO may be provided between the face plate substrate 1007 and the fluorescent film 1008.

【0083】また、Dx1〜DxMおよびDy1〜DyNおよび
Hvは、この表示パネルと不図示の電気回路とを電気的
に接続するために設けた気密構造の電気接続用端子であ
る。Dx1〜DxMはマルチ電子源の行方向配線1003
と、Dy1〜DyNはマルチ電子源の列方向配線1004
と、Hvはフェースプレートのメタルバック1009と
電気的に接続している。
Dx1 to DxM, Dy1 to DyN, and Hv are terminals for electrical connection having an airtight structure provided for electrically connecting the display panel and an electric circuit (not shown). Dx1 to DxM are row-direction wirings 1003 of the multi-electron source
And Dy1 to DyN are column direction wirings 1004 of the multi-electron source.
, Hv is electrically connected to the metal back 1009 of the face plate.

【0084】また、気密容器内部を真空に排気するに
は、気密容器を組み立てた後、不図示の排気管と真空ポ
ンプとを接続し、気密容器内を10のマイナス7乗[to
rr]程度の真空度まで排気する。その後、排気管を封止
するが、気密容器内の真空度を維持するために、封止の
直前あるいは封止後に気密容器内の所定の位置にゲッタ
ー膜(不図示)を形成する。ゲッター膜とは、例えばB
aを主成分とするゲッター材料をヒータもしくは高周波
加熱により加熱し蒸着して形成した膜であり、該ゲッタ
ー膜の吸着作用により気密容器内は1×10マイナス5
乗ないしは1×10マイナス7乗[torr]の真空度に維
持される。
To evacuate the inside of the airtight container to a vacuum, after assembling the airtight container, an exhaust pipe (not shown) and a vacuum pump are connected to each other, and the inside of the airtight container is reduced to the power of 10 −7 [to].
Evacuate to a vacuum degree of about [rr]. Then, the exhaust pipe is sealed, but in order to maintain the degree of vacuum in the airtight container, a getter film (not shown) is formed at a predetermined position in the airtight container immediately before or after the sealing. The getter film is, for example, B
It is a film formed by heating a getter material containing a as a main component with a heater or high-frequency heating and vapor deposition, and the inside of the airtight container is 1 × 10 −5 due to the adsorption action of the getter film.
The degree of vacuum of 1 to 10 × 7 [torr] is maintained.

【0085】以上、本実施の形態の表示パネルの基本構
成と製法を説明した。
The basic structure and manufacturing method of the display panel of this embodiment have been described above.

【0086】次に、前記実施の形態の表示パネルに用い
たマルチ電子源の製造方法について説明する。本実施の
形態の画像表示装置に用いるマルチ電子源は、冷陰極素
子を単純マトリクス配線した電子源であれば、冷陰極素
子の材料や形状あるいは製法に制限はない。従って、例
えば表面伝導型放出素子やFE型、あるいはMIM型な
どの冷陰極素子を用いることができる。
Next, a method of manufacturing the multi-electron source used in the display panel of the above embodiment will be described. The multi-electron source used in the image display device of the present embodiment is not limited in material, shape, or manufacturing method of the cold cathode element as long as it is an electron source in which cold cathode elements are wired in a simple matrix. Therefore, for example, a surface conduction electron-emitting device, an FE type, or a MIM type cold cathode device can be used.

【0087】但し、表示画面が大きくてしかも安価な表
示装置が求められる状況の下では、これらの冷陰極素子
の中でも、表面伝導型放出素子が特に好ましい。即ち、
FE型ではエミッタコーンとゲート電極の相対位置や形
状が電子放出特性を大きく左右するため、極めて高精度
の製造技術を必要とするが、これは大面積化や製造コス
トの低減を達成するには不利な要因となる。また、MI
M型では、絶縁層と上電極の膜厚を薄くてしかも均一に
する必要があるが、これも大面積化や製造コストの低減
を達成するには不利な要因となる。その点、表面伝導型
放出素子は、比較的製造方法が単純なため、大面積化や
製造コストの低減が容易である。また、発明者らは、表
面伝導型放出素子の中でも、電子放出部もしくはその周
辺部を微粒子膜から形成したものがとりわけ電子放出特
性に優れ、しかも製造が容易に行えることを見いだして
いる。従って、高輝度で大画面の画像表示装置のマルチ
電子源に用いるには、最も好適であると言える。そこ
で、上記実施の形態の表示パネルにおいては、電子放出
部もしくはその周辺部を微粒子膜から形成した表面伝導
型放出素子を用いた。そこで、まず好適な表面伝導型放
出素子について基本的な構成と製法および特性を説明
し、その後で多数の素子を単純マトリクス配線したマル
チ電子源の構造について述べる。
However, in the situation where a display device having a large display screen and a low cost is required, the surface conduction electron-emitting device is particularly preferable among these cold cathode devices. That is,
In the FE type, since the relative position and shape of the emitter cone and the gate electrode greatly affect the electron emission characteristics, extremely high precision manufacturing technology is required. This is required to achieve a large area and reduce manufacturing cost. It becomes a disadvantageous factor. Also, MI
In the M type, it is necessary to make the insulating layer and the upper electrode thin and uniform, which is also a disadvantageous factor for achieving a large area and a reduction in manufacturing cost. In this respect, the surface conduction electron-emitting device has a relatively simple manufacturing method, so that it is easy to increase the area and reduce the manufacturing cost. Further, the inventors have found that among the surface conduction electron-emitting devices, those in which the electron-emitting portion or its peripheral portion is formed of a fine particle film have particularly excellent electron-emitting characteristics and can be easily manufactured. Therefore, it can be said that it is most suitable for use in a multi-electron source of an image display device of high brightness and large screen. Therefore, in the display panel of the above-described embodiment, the surface conduction electron-emitting device in which the electron emitting portion or its peripheral portion is formed of the fine particle film is used. Therefore, the basic configuration, manufacturing method, and characteristics of a suitable surface conduction electron-emitting device will be described first, and then the structure of a multi-electron source in which a large number of devices are wired in a simple matrix will be described.

【0088】(表面伝導型放出素子の好適な素子構成と
製法)電子放出部もしくはその周辺部を微粒子膜から形
成する表面伝導型放出素子の代表的な構成には、平面型
と垂直型の2種類があげられる。
(Preferable Element Structure and Manufacturing Method of Surface Conduction Type Emitting Element) Typical structures of the surface conduction type emitting element in which the electron emitting portion or its peripheral portion is formed of a fine particle film include a planar type and a vertical type. There are different types.

【0089】(平面型の表面伝導型放出素子)まず最初
に、平面型の表面伝導型放出素子の素子構成と製法につ
いて説明する。図20に示すのは、平面型の表面伝導型
放出素子の構成を説明するための平面図(a)および断
面図(b)である。図中、1101は基板、1102と
1103は素子電極、1104は導電性薄膜、1105
は通電フォーミング処理により形成した電子放出部、1
113は通電活性化処理により形成した薄膜である。
(Plane Type Surface Conduction Type Emitting Element) First, the element structure and manufacturing method of the plane type surface conduction type emitting element will be described. FIG. 20 is a plan view (a) and a cross-sectional view (b) for explaining the configuration of the flat surface conduction electron-emitting device. In the figure, 1101 is a substrate, 1102 and 1103 are element electrodes, 1104 is a conductive thin film, 1105.
Is an electron emission portion formed by the energization forming process, 1
Reference numeral 113 is a thin film formed by the energization activation process.

【0090】基板1101としては、例えば、石英ガラ
スや青板ガラスをはじめとする各種ガラス基板や、アル
ミナをはじめとする各種セラミクス基板、あるいは上述
の各種基板上に例えばSiO2を材料とする絶縁層を積
層した基板、などを用いることができる。
As the substrate 1101, for example, various glass substrates such as quartz glass and soda lime glass, various ceramic substrates such as alumina, or an insulating layer made of, for example, SiO 2 is laminated on the above various substrates. Substrate, etc. can be used.

【0091】また、基板1101上に基板面と平行に対
向して設けられた素子電極1102と1103は、導電
性を有する材料によって形成されている。例えば、N
i,Cr,Au,Mo,W,Pt,Ti,Cu,Pd,
Ag等をはじめとする金属、或はこれらの金属の合金、
あるいはIn2O3−SnO2をはじめとする金属酸化
物、ポリシリコンなどの半導体、などの中から適宜材料
を選択して用いればよい。電極を形成するには、例えば
真空蒸着などの製膜技術とフォトリソグラフィー、エッ
チングなどのパターニング技術を組み合わせて用いれば
容易に形成できるが、それ以外の方法(例えば印刷技
術)を用いて形成してもさしつかえない。
Further, the device electrodes 1102 and 1103 provided on the substrate 1101 so as to face each other in parallel to the substrate surface are made of a conductive material. For example, N
i, Cr, Au, Mo, W, Pt, Ti, Cu, Pd,
Metals such as Ag, or alloys of these metals,
Alternatively, an appropriate material may be selected and used from metal oxides such as In2O3-SnO2 and semiconductors such as polysilicon. The electrodes can be easily formed by combining a film forming technique such as vacuum deposition and a patterning technique such as photolithography and etching, but it can be formed by using another method (for example, a printing technique). It doesn't matter.

【0092】素子電極1102と1103の形状は、当
該電子放出素子の応用目的に合わせて適宜設計される。
一般的には、電極間隔Lは通常は数百オングストローム
から数百マイクロメータの範囲から適当な数値を選んで
設計されるが、なかでも表示装置に応用するために好ま
しいのは数マイクロメータより数十マイクロメータの範
囲である。また、素子電極の厚さdについては、通常は
数百オングストロームから数マイクロメータの範囲から
適当な数値が選ばれる。
The shapes of the device electrodes 1102 and 1103 are appropriately designed according to the application purpose of the electron-emitting device.
Generally, the electrode interval L is designed by selecting an appropriate value from the range of several hundred angstroms to several hundreds of micrometers, but it is preferable that the electrode interval L is several micrometers or more for application to a display device. It is in the range of 10 micrometers. In addition, as for the thickness d of the device electrode, an appropriate numerical value is usually selected from the range of several hundred angstroms to several micrometers.

【0093】また、導電性薄膜1104の部分には、微
粒子膜を用いる。ここで述べた微粒子膜とは、構成要素
として多数の微粒子を含んだ膜(島状の集合体も含む)
のことをさす。微粒子膜を微視的に調べれば、通常は、
個々の微粒子が離間して配置された構造か、あるいは微
粒子が互いに隣接した構造か、あるいは微粒子が互いに
重なり合った構造が観測される。
A fine particle film is used for the conductive thin film 1104. The fine particle film described here is a film containing a large number of fine particles as constituent elements (including an island-shaped aggregate).
Refers to. A microscopic examination of the particulate film usually reveals that
A structure in which individual fine particles are arranged apart from each other, a structure in which fine particles are adjacent to each other, or a structure in which fine particles overlap each other are observed.

【0094】微粒子膜に用いた微粒子の粒径は、数オン
グストロームから数千オングストロームの範囲に含まれ
るものであるが、なかでも好ましいのは10オングスト
ロームから200オングストロームの範囲のものであ
る。また、微粒子膜の膜厚は、以下に述べるような諸条
件を考慮して適宜設定される。すなわち、素子電極11
02あるいは1103と電気的に良好に接続するのに必
要な条件、後述する通電フォーミングを良好に行うのに
必要な条件、微粒子膜自身の電気抵抗を後述する適宜の
値にするために必要な条件、などである。
The particle diameter of the fine particles used for the fine particle film is in the range of several angstroms to several thousand angstroms, but the range of 10 angstroms to 200 angstroms is particularly preferable. Further, the film thickness of the fine particle film is appropriately set in consideration of various conditions as described below. That is, the device electrode 11
02 or 1103, conditions necessary for good electrical connection, conditions required for conducting the energization forming described below satisfactorily, conditions necessary for setting the electric resistance of the fine particle film itself to an appropriate value described below. , And so on.

【0095】具体的には、数オングストロームから数千
オングストロームの範囲のなかで設定するが、なかでも
好ましいのは10オングストロームから500オングス
トロームの間である。
Specifically, it is set within the range of several angstroms to several thousand angstroms, but the range of 10 angstroms to 500 angstroms is particularly preferable.

【0096】また、微粒子膜を形成するのに用いられう
る材料としては、例えば、Pd,Pt,Ru,Ag,A
u,Ti,In,Cu,Cr,Fe,Zn,Sn,T
a,W,Pb,などをはじめとする金属や、PdO,S
nO2,In2O3 ,PbO,Sb2O3,などをはじめと
する酸化物や、HfB2,ZrB2,LaB6,CeB6,
YB4,GdB4,などをはじめとする硼化物や、Ti
C,ZrC,HfC,TaC,SiC,WC,などをは
じめとする炭化物や、TiN,ZrN,HfN,などを
はじめとする窒化物や、Si,Geなどをはじめとする
半導体や、カーボン、などがあげられ、これらの中から
適宜選択される。
Materials that can be used to form the fine particle film include, for example, Pd, Pt, Ru, Ag, and A.
u, Ti, In, Cu, Cr, Fe, Zn, Sn, T
Metals such as a, W, Pb, etc., PdO, S
oxides such as nO2, In2O3, PbO, Sb2O3, HfB2, ZrB2, LaB6, CeB6,
Borides such as YB4, GdB4, etc., Ti
Carbides such as C, ZrC, HfC, TaC, SiC, WC, etc., nitrides such as TiN, ZrN, HfN, etc., semiconductors such as Si, Ge, etc., carbon, etc. And can be appropriately selected from these.

【0097】以上述べたように、導電性薄膜1104を
微粒子膜で形成したが、そのシート抵抗値については、
10の3乗から10の7乗[オーム/□]の範囲に含ま
れるよう設定した。
As described above, the conductive thin film 1104 is formed of a fine particle film, and its sheet resistance value is
It was set so as to fall within the range of 10 3 to 10 7 [ohm / □].

【0098】なお、導電性薄膜1104と素子電極11
02および1103とは、電気的に良好に接続されるの
が望ましいため、互いの一部が重なりあうような構造を
とっている。その重なり方は、図20の例においては、
下から、基板、素子電極、導電性薄膜の順序で積層した
が、場合によっては下から基板、導電性薄膜、素子電
極、の順序で積層してもさしつかえない。
The conductive thin film 1104 and the device electrode 11
Since 02 and 1103 are preferably electrically connected well, they have a structure in which some of them overlap each other. In the example of FIG. 20, the overlapping manner is
The substrate, the device electrode, and the conductive thin film are stacked in this order from the bottom, but in some cases, the substrate, the conductive thin film, and the device electrode may be stacked in this order from the bottom.

【0099】また、電子放出部1105は、導電性薄膜
1104の一部に形成された亀裂状の部分であり、電気
的には周囲の導電性薄膜よりも高抵抗な性質を有してい
る。亀裂は、導電性薄膜1104に対して、後述する通
電フォーミングの処理を行うことにより形成する。亀裂
内には、数オングストロームから数百オングストローム
の粒径の微粒子を配置する場合がある。なお、実際の電
子放出部の位置や形状を精密かつ正確に図示するのは困
難なため、図20においては模式的に示した。
Further, the electron emitting portion 1105 is a crack-like portion formed in a part of the conductive thin film 1104, and has an electrically higher resistance than the surrounding conductive thin film. The crack is formed by subjecting the conductive thin film 1104 to a later-described energization forming process. Fine particles having a particle diameter of several angstroms to several hundred angstroms may be arranged in the cracks. Since it is difficult to accurately and accurately show the actual position and shape of the electron-emitting portion, the electron-emitting portion is schematically shown in FIG.

【0100】また、薄膜1113は、炭素もしくは炭素
化合物よりなる薄膜で、電子放出部1105およびその
近傍を被覆している。薄膜1113は、通電フォーミン
グ処理後に、後述する通電活性化の処理を行うことによ
り形成する。
The thin film 1113 is a thin film made of carbon or a carbon compound and covers the electron emitting portion 1105 and its vicinity. The thin film 1113 is formed by performing the energization activation process described later after the energization forming process.

【0101】薄膜1113は、単結晶グラファイト、多
結晶グラファイト、非晶質カーボン、のいずれかか、も
しくはその混合物であり、膜厚は500[オングストロ
ーム]以下とするが、300[オングストローム]以下
とするのがさらに好ましい。なお、実際の薄膜1113
の位置や形状を精密に図示するのは困難なため、図20
においては模式的に示した。また、平面図(a)におい
ては、薄膜1113の一部を除去した素子を図示した。
The thin film 1113 is any one of single crystal graphite, polycrystalline graphite, amorphous carbon, or a mixture thereof, and the film thickness is 500 [angstrom] or less, but 300 [angstrom] or less. Is more preferable. The actual thin film 1113
Since it is difficult to accurately illustrate the position and shape of
In the figure, it is shown schematically. Further, in the plan view (a), an element in which a part of the thin film 1113 is removed is shown.

【0102】以上、好ましい素子の基本構成を述べた
が、実施の形態においては以下のような素子を用いた。
The basic structure of a preferable element has been described above, but the following elements are used in the embodiments.

【0103】即ち、基板1101には青板ガラスを用
い、素子電極1102と1103にはNi薄膜を用い
た。素子電極の厚さdは1000[オングストロー
ム]、電極間隔Lは2[マイクロメータ]とした。微粒
子膜の主要材料としてPdもしくはPdOを用い、微粒
子膜の厚さは約100[オングストローム]、幅Wは1
00[マイクロメータ]とした。
That is, soda lime glass was used for the substrate 1101, and Ni thin films were used for the device electrodes 1102 and 1103. The thickness d of the device electrode was 1000 [angstrom], and the electrode interval L was 2 [micrometer]. Pd or PdO is used as the main material of the fine particle film, and the thickness of the fine particle film is about 100 [angstrom] and the width W is 1
00 [micrometer].

【0104】次に、好適な平面型の表面伝導型放出素子
の製造方法について説明する。図21(a)〜(e)
は、表面伝導型放出素子の製造工程を説明するための断
面図で、各部材の表記は図20と同一である。
Next, a method of manufacturing a suitable flat surface conduction electron-emitting device will be described. 21 (a) to (e)
20A and 20B are cross-sectional views for explaining the manufacturing process of the surface conduction electron-emitting device, and the notation of each member is the same as that in FIG.

【0105】1)まず、図21(a)に示すように、基
板1101上に素子電極1102および1103を形成
する。この形成するにあたっては、あらかじめ基板11
01を洗剤、純水、有機溶剤を用いて十分に洗浄後、素
子電極の材料を堆積させる。(堆積する方法としては、
例えば、蒸着法やスパッタ法などの真空成膜技術を用れ
ばよい。)その後、堆積した電極材料を、フォトリソグ
ラフィー・エッチング技術を用いてパターニングし、
(a)に示した一対の素子電極(1102と1103)
を形成する。
1) First, as shown in FIG. 21A, device electrodes 1102 and 1103 are formed on a substrate 1101. Before forming this, the substrate 11
After thoroughly cleaning 01 with a detergent, pure water, and an organic solvent, the material of the element electrode is deposited. (As a method of depositing,
For example, a vacuum film forming technique such as a vapor deposition method or a sputtering method may be used. ) After that, the deposited electrode material is patterned using photolithography / etching technology,
A pair of device electrodes (1102 and 1103) shown in (a).
To form.

【0106】2)次に、同図(b)に示すように、導電
性薄膜1104を形成する。
2) Next, a conductive thin film 1104 is formed as shown in FIG.

【0107】形成するにあたっては、まず前記(a)の
基板に有機金属溶液を塗布して乾燥し、加熱焼成処理し
て微粒子膜を成膜した後、フォトリソグラフィー・エッ
チングにより所定の形状にパターニングする。ここで、
有機金属溶液とは、導電性薄膜に用いる微粒子の材料を
主要元素とする有機金属化合物の溶液である。(具体的
には、本実施の形態では主要元素としてPdを用いた。
また、実施の形態では塗布方法として、ディッピング法
を用いたが、それ以外の例えばスピンナー法やスプレー
法を用いてもよい。)また、微粒子膜で作られる導電性
薄膜の成膜方法としては、本実施の形態で用いた有機金
属溶液の塗布による方法以外の、例えば真空蒸着法やス
パッタ法、あるいは化学的気相堆積法などを用いる場合
もある。
In forming the film, first, an organometallic solution is applied to the substrate (a), dried, and heated and baked to form a fine particle film, which is then patterned into a predetermined shape by photolithography and etching. . here,
The organometallic solution is a solution of an organometallic compound whose main element is the material of the fine particles used for the conductive thin film. (Specifically, Pd is used as the main element in the present embodiment.
Further, although the dipping method is used as the coating method in the embodiments, other methods such as a spinner method or a spray method may be used. ) Further, as a method for forming a conductive thin film formed of a fine particle film, other than the method of applying the organometallic solution used in the present embodiment, for example, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or a chemical vapor deposition method. In some cases, etc. are used.

【0108】3)次に、同図(c)に示すように、フォ
ーミング用電源1110から素子電極1102と110
3の間に適宜の電圧を印加し、通電フォーミング処理を
行って、電子放出部1105を形成する。
3) Next, as shown in FIG. 11C, the forming power supply 1110 to the device electrodes 1102 and 110 are removed.
An appropriate voltage is applied between 3 and an energization forming process is performed to form the electron emitting portion 1105.

【0109】通電フォーミング処理とは、微粒子膜で作
られた導電性薄膜1104に通電を行って、その一部を
適宜に破壊、変形、もしくは変質せしめ、電子放出を行
うのに好適な構造に変化させる処理のことである。微粒
子膜で作られた導電性薄膜のうち電子放出を行うのに好
適な構造に変化した部分(すなわち電子放出部110
5)においては、薄膜に適当な亀裂が形成されている。
なお、電子放出部1105が形成される前と比較する
と、形成された後は素子電極1102と1103の間で
計測される電気抵抗は大幅に増加する。
The energization forming process energizes the electroconductive thin film 1104 made of a fine particle film to appropriately destroy, deform or alter a part of the electroconductive thin film 1104 to change the structure suitable for electron emission. It is a process that causes it. A portion of the conductive thin film made of the fine particle film, which has been changed to a structure suitable for emitting electrons (that is, the electron emitting portion 110).
In 5), an appropriate crack is formed in the thin film.
Note that the electric resistance measured between the element electrodes 1102 and 1103 after the formation is significantly increased as compared with before the formation of the electron emission portion 1105.

【0110】通電方法をより詳しく説明するために、図
22に、フォーミング用電源1110から印加する適宜
の電圧波形の一例を示す。微粒子膜で作られた導電性薄
膜をフォーミングする場合には、パルス状の電圧が好ま
しく、本実施の形態の場合には同図に示したようにパル
ス幅T1の三角波パルスをパルス間隔T2で連続的に印
加した。その際には、三角波パルスの波高値Vpfを、
順次昇圧した。また、電子放出部1105の形成状況を
モニタするためのモニタパルスPmを適宜の間隔で三角
波パルスの間に挿入し、その際に流れる電流を電流計1
111で計測した。
In order to describe the energization method in more detail, FIG. 22 shows an example of an appropriate voltage waveform applied from the forming power supply 1110. When forming a conductive thin film made of a fine particle film, a pulsed voltage is preferable, and in the case of the present embodiment, a triangular wave pulse having a pulse width T1 is continuously provided at a pulse interval T2 as shown in FIG. Applied. In that case, the peak value Vpf of the triangular pulse is
The pressure was sequentially increased. Also, monitor pulses Pm for monitoring the formation state of the electron emission portion 1105 are inserted between the triangular wave pulses at appropriate intervals, and the current flowing at that time is measured by the ammeter 1.
Measured at 111.

【0111】本実施の形態においては、例えば10のマ
イナス5乗[torr]程度の真空雰囲気下において、
例えばパルス幅T1を1[ミリ秒]、パルス間隔T2を
10[ミリ秒]とし、波高値Vpfを1パルスごとに
0.1[V]ずつ昇圧した。そして、三角波を5パルス
印加するたびに1回の割りで、モニタパルスPmを挿入
した。フォーミング処理に悪影響を及ぼすことがないよ
うに、モニターパルスの電圧Vpmは0.1[V]に設
定した。そして、素子電極1102と1103の間の電
気抵抗が1×10の6乗[オーム]になった段階、即
ち、モニタパルス印加時に電流計1111で計測される
電流が1×10のマイナス7乗[A]以下になった段階
で、フォーミング処理にかかわる通電を終了した。
In the present embodiment, for example, in a vacuum atmosphere of about 10 −5 [torr],
For example, the pulse width T1 is set to 1 [millisecond], the pulse interval T2 is set to 10 [millisecond], and the peak value Vpf is increased by 0.1 [V] for each pulse. The monitor pulse Pm was inserted once every five pulses of the triangular wave were applied. The voltage Vpm of the monitor pulse was set to 0.1 [V] so as not to adversely affect the forming process. Then, when the electric resistance between the element electrodes 1102 and 1103 reaches 1 × 10 6 [ohm], that is, when the monitor pulse is applied, the current measured by the ammeter 1111 is 1 × 10 −7 [ohm]. A] At the stage when it became below, the energization related to the forming process was terminated.

【0112】なお、上記の方法は、本実施の形態の表面
伝導型放出素子に関する好ましい方法であり、例えば微
粒子膜の材料や膜厚、あるいは素子電極間隔Lなど表面
伝導型放出素子の設計を変更した場合には、それに応じ
て通電の条件を適宜変更するのが望ましい。
The above method is a preferable method for the surface conduction electron-emitting device according to the present embodiment. For example, the design of the surface conduction electron-emitting device such as the material and film thickness of the fine particle film or the element electrode spacing L is changed. In that case, it is desirable to appropriately change the energization conditions accordingly.

【0113】4)次に、図21の(d)に示すように、
活性化用電源1112から素子電極1102と1103
の間に適宜の電圧を印加し、通電活性化処理を行って、
電子放出特性の改善を行う。
4) Next, as shown in FIG.
From the activation power source 1112 to the device electrodes 1102 and 1103
Appropriate voltage is applied between the two to perform energization activation treatment,
The electron emission characteristics are improved.

【0114】通電活性化処理とは、前記通電フォーミン
グ処理により形成された電子放出部1105に適宜の条
件で通電を行って、その近傍に炭素もしくは炭素化合物
を堆積せしめる処理のことである。(図においては、炭
素もしくは炭素化合物よりなる堆積物を部材1113と
して模式的に示した。)なお、通電活性化処理を行うこ
とにより、行う前と比較して、同じ印加電圧における放
出電流を典型的には100倍以上に増加させることがで
きる。
The energization activation process is a process of energizing the electron-emitting portion 1105 formed by the energization forming process under appropriate conditions to deposit carbon or a carbon compound in the vicinity thereof. (In the figure, a deposit made of carbon or a carbon compound is schematically shown as the member 1113.) Note that by performing the energization activation treatment, the emission current at the same applied voltage is typically compared to that before the activation. Specifically, it can be increased 100 times or more.

【0115】具体的には、10のマイナス4乗ないし1
0のマイナス5乗[torr]の範囲内の真空雰囲気中で、
電圧パルスを定期的に印加することにより、真空雰囲気
中に存在する有機化合物を起源とする炭素もしくは炭素
化合物を堆積させる。堆積物1113は、単結晶グラフ
ァイト、多結晶グラファイト、非晶質カーボン、のいず
れかか、もしくはその混合物であり、膜厚は500[オ
ングストローム]以下、より好ましくは300[オング
ストローム]以下である。
Specifically, 10 to the minus 4th power or 1
In a vacuum atmosphere within the range of 0 minus 5 [torr],
By periodically applying a voltage pulse, carbon or a carbon compound originating from an organic compound existing in a vacuum atmosphere is deposited. The deposit 1113 is any one of single crystal graphite, polycrystalline graphite, and amorphous carbon, or a mixture thereof, and the film thickness is 500 [angstrom] or less, more preferably 300 [angstrom] or less.

【0116】通電方法をより詳しく説明するために、図
23(a)に、活性化用電源1112から印加する適宜
の電圧波形の一例を示す。本実施の形態においては、一
定電圧の矩形波を定期的に印加して通電活性化処理を行
ったが、具体的には,矩形波の電圧Vacは14
[V],パルス幅T3は1[ミリ秒],パルス間隔T4
は10[ミリ秒]とした。なお、上述の通電条件は、本
実施の形態の表面伝導型放出素子に関する好ましい条件
であり、表面伝導型放出素子の設計を変更した場合に
は、それに応じて条件を適宜変更するのが望ましい。
In order to explain the energization method in more detail, FIG. 23A shows an example of an appropriate voltage waveform applied from the activation power supply 1112. In the present embodiment, the energization activation process is performed by periodically applying a rectangular wave having a constant voltage. Specifically, the rectangular wave voltage Vac is 14
[V], pulse width T3 is 1 [millisecond], pulse interval T4
Was set to 10 [milliseconds]. The above-mentioned energization conditions are preferable conditions for the surface conduction electron-emitting device of the present embodiment, and when the design of the surface conduction electron emission device is changed, it is desirable to appropriately change the condition accordingly.

【0117】図20(d)に示す1114は該表面伝導
型放出素子から放出される放出電流Ieを捕捉するため
のアノード電極で、直流高電圧電源1115および電流
計1116が接続されている。(なお、基板1101
を、表示パネルの中に組み込んでから活性化処理を行う
場合には、表示パネルの蛍光面をアノード電極1114
として用いる。)活性化用電源1112から電圧を印加
する間、電流計1116で放出電流Ieを計測して通電
活性化処理の進行状況をモニタし、活性化用電源111
2の動作を制御する。電流計1116で計測された放出
電流Ieの一例を図23(b)に示すが、活性化電源1
112からパルス電圧を印加しはじめると、時間の経過
とともに放出電流Ieは増加するが、やがて飽和してほ
とんど増加しなくなる。このように、放出電流Ieがほ
ぼ飽和した時点で活性化用電源1112からの電圧印加
を停止し、通電活性化処理を終了する。
Reference numeral 1114 shown in FIG. 20D is an anode electrode for capturing the emission current Ie emitted from the surface conduction electron-emitting device, to which a DC high voltage power supply 1115 and an ammeter 1116 are connected. (Note that the substrate 1101
In the case where the activation treatment is carried out after being incorporated into the display panel, the fluorescent surface of the display panel is set to the anode electrode 1114.
Used as. ) While applying the voltage from the activation power supply 1112, the emission current Ie is measured by the ammeter 1116 to monitor the progress of the energization activation process, and the activation power supply 111
2 control the operation. An example of the emission current Ie measured by the ammeter 1116 is shown in FIG.
When the pulse voltage is started to be applied from 112, the emission current Ie increases with the passage of time, but eventually saturates and hardly increases. In this way, when the emission current Ie is almost saturated, the voltage application from the activation power supply 1112 is stopped, and the energization activation process ends.

【0118】なお、上述の通電条件は、本実施の形態の
表面伝導型放出素子に関する好ましい条件であり、表面
伝導型放出素子の設計を変更した場合には、それに応じ
て条件を適宜変更するのが望ましい。
The above-mentioned energization conditions are preferable conditions for the surface conduction electron-emitting device of the present embodiment, and when the design of the surface conduction electron emission device is changed, the conditions should be changed accordingly. Is desirable.

【0119】以上のようにして、図21(e)に示す平
面型の表面伝導型放出素子を製造した。
As described above, the plane type surface conduction electron-emitting device shown in FIG. 21 (e) was manufactured.

【0120】(垂直型の表面伝導型放出素子)次に、電
子放出部もしくはその周辺を微粒子膜から形成した表面
伝導型放出素子のもうひとつの代表的な構成、すなわち
垂直型の表面伝導型放出素子の構成について説明する。
(Vertical Surface-Conduction Type Emission Element) Next, another typical structure of the surface-conduction-type emission element in which the electron emission portion or its periphery is formed of a fine particle film, that is, vertical-type surface conduction type emission element. The configuration of the element will be described.

【0121】図24は、垂直型の基本構成を説明するた
めの模式的な断面図であり、図中の1201は基板、1
202と1203は素子電極、1206は段差形成部
材、1204は微粒子膜を用いた導電性薄膜、1205
は通電フォーミング処理により形成した電子放出部、1
213は通電活性化処理により形成した薄膜である。
FIG. 24 is a schematic cross-sectional view for explaining the basic structure of the vertical type, in which 1201 is a substrate.
202 and 1203 are element electrodes, 1206 is a step forming member, 1204 is a conductive thin film using a fine particle film, 1205
Is an electron emission portion formed by the energization forming process, 1
213 is a thin film formed by the energization activation process.

【0122】垂直型が先に説明した平面型と異なる点
は、素子電極のうちの片方(1202)が段差形成部材
1206上に設けられており、導電性薄膜1204が段
差形成部材1206の側面を被覆している点にある。従
って、図20の平面型における素子電極間隔Lは、垂直
型においては段差形成部材1206の段差高Lsとして
設定される。なお、基板1201、素子電極1202お
よび1203、微粒子膜を用いた導電性薄膜1204、
については、前記平面型の説明中に列挙した材料を同様
に用いることが可能である。また、段差形成部材120
6には、例えばSiO2 のような電気的に絶縁性の材料
を用いる。
The vertical type is different from the above-described flat type in that one of the element electrodes (1202) is provided on the step forming member 1206, and the conductive thin film 1204 covers the side surface of the step forming member 1206. The point is that they are covered. Therefore, the device electrode interval L in the flat type shown in FIG. 20 is set as the step height Ls of the step forming member 1206 in the vertical type. In addition, the substrate 1201, the device electrodes 1202 and 1203, the conductive thin film 1204 using a fine particle film,
For, the materials listed in the description of the planar type can be similarly used. Further, the step forming member 120
For 6, an electrically insulating material such as SiO2 is used.

【0123】次に、垂直型の表面伝導型放出素子の製法
について説明する。
Next, a method of manufacturing a vertical type surface conduction electron-emitting device will be described.

【0124】図25(a)〜(f)は、製造工程を説明
するための断面図で、各部材の表記は前記図24と同一
である。
25 (a) to 25 (f) are sectional views for explaining the manufacturing process, and the notation of each member is the same as that in FIG.

【0125】1)まず、図25(a)に示すように、基
板1201上に素子電極1203を形成する。
1) First, as shown in FIG. 25A, a device electrode 1203 is formed on a substrate 1201.

【0126】2)次に、同図(b)に示すように、段差
形成部材を形成するための絶縁層を積層する。絶縁層
は、例えばSiO2 をスパッタ法で積層すればよいが、
例えば真空蒸着法や印刷法などの他の成膜方法を用いて
もよい。
2) Next, as shown in FIG. 11B, an insulating layer for forming a step forming member is laminated. The insulating layer may be formed by laminating, for example, SiO2 by a sputtering method.
For example, another film forming method such as a vacuum vapor deposition method or a printing method may be used.

【0127】3)次に、同図(c)に示すように、絶縁
層の上に素子電極1202を形成する。
3) Next, as shown in FIG. 13C, the device electrode 1202 is formed on the insulating layer.

【0128】4)次に、同図(d)に示すように、絶縁
層の一部を、例えばエッチング法を用いて除去し、素子
電極1203を露出させる。
4) Next, as shown in FIG. 9D, a part of the insulating layer is removed by using, for example, an etching method to expose the device electrode 1203.

【0129】5)次に、同図(e)に示すように、微粒
子膜を用いた導電性薄膜1204を形成する。形成する
には、前記平面型の場合と同じく、例えば塗布法などの
成膜技術を用いればよい。
5) Next, as shown in FIG. 7E, a conductive thin film 1204 using a fine particle film is formed. For formation, a film forming technique such as a coating method may be used as in the case of the flat type.

【0130】6)次に、前記平面型の場合と同じく、通
電フォーミング処理を行い、電子放出部を形成する。
(図21(c)を用いて説明した平面型の通電フォーミ
ング処理と同様の処理を行えばよい。) 7)次に、前記平面型の場合と同じく、通電活性化処理
を行い、電子放出部近傍に炭素もしくは炭素化合物を堆
積させる。(図21(d)を用いて説明した平面型の通
電活性化処理と同様の処理を行えばよい。) 以上のようにして、図25(f)に示す垂直型の表面伝
導型放出素子を製造した。 (表示装置に用いた表面伝導型放出素子の特性)以上、
平面型と垂直型の表面伝導型放出素子について素子構成
と製法を説明したが、次に表示装置に用いた素子の特性
について述べる。
6) Next, as in the case of the flat type, an energization forming process is performed to form an electron emitting portion.
(The same process as the planar energization forming process described with reference to FIG. 21C may be performed.) 7) Next, as in the case of the planar type, the energization activation process is performed to perform the electron emission portion. Deposit carbon or a carbon compound in the vicinity. (The same process as the planar energization activation process described with reference to FIG. 21D may be performed.) As described above, the vertical surface conduction electron-emitting device shown in FIG. Manufactured. (Characteristics of surface conduction electron-emitting device used for display device)
The device configuration and manufacturing method of the planar and vertical type surface conduction electron-emitting devices have been described. Next, the characteristics of the device used in the display device will be described.

【0131】図26に、表示装置に用いた素子の、(放
出電流Ie)対(素子印加電圧Vf)特性、および(素子
電流If)対(素子印加電圧Vf)特性の典型的な例を示
す。なお、放出電流Ieは素子電流Ifに比べて著しく小
さく、同一尺度で図示するのが困難であるうえ、これら
の特性は素子の大きさや形状等の設計パラメータを変更
することにより変化するものであるため、2本のグラフ
は各々任意単位で図示した。
FIG. 26 shows typical examples of (emission current Ie) vs. (device applied voltage Vf) characteristics and (device current If) vs. (device applied voltage Vf) characteristics of the device used in the display device. . The emission current Ie is significantly smaller than the device current If, and it is difficult to illustrate them on the same scale. Moreover, these characteristics are changed by changing design parameters such as the size and shape of the device. Therefore, the two graphs are shown in arbitrary units.

【0132】表示装置に用いた素子は、放出電流Ieに
関して以下に述べる3つの特性を有している。
The element used for the display device has the following three characteristics regarding the emission current Ie.

【0133】第1に、ある電圧(これを閾値電圧Vthと
呼ぶ)以上の大きさの電圧を素子に印加すると急激に放
出電流Ieが増加するが、一方、閾値電圧Vth未満の電
圧では放出電流Ieはほとんど検出されない。すなわ
ち、放出電流Ieに関して、明確な閾値電圧Vthを持っ
た非線形素子である。
First, when a voltage larger than a certain voltage (which is called a threshold voltage Vth) is applied to the element, the emission current Ie rapidly increases. On the other hand, when the voltage is less than the threshold voltage Vth, the emission current Ie increases. Ie is hardly detected. That is, it is a non-linear element having a clear threshold voltage Vth with respect to the emission current Ie.

【0134】第2に、放出電流Ieは素子に印加する電
圧Vfに依存して変化するため、電圧Vfで放出電流Ie
の大きさを制御できる。
Secondly, since the emission current Ie changes depending on the voltage Vf applied to the element, the emission current Ie at the voltage Vf.
You can control the size of.

【0135】第3に、素子に印加する電圧Vfに対して
素子から放出される電流Ieの応答速度が速いため、電
圧Vfを印加する時間の長さによって素子から放出され
る電子の電荷量を制御できる。
Thirdly, since the response speed of the current Ie emitted from the element is fast with respect to the voltage Vf applied to the element, the charge amount of electrons emitted from the element depends on the length of time for which the voltage Vf is applied. You can control.

【0136】以上のような特性を有するため、表面伝導
型放出素子を表示装置に好適に用いることができた。例
えば多数の素子を表示画面の画素に対応して設けた表示
装置において、第1の特性を利用すれば、表示画面を順
次走査して表示を行うことが可能である。すなわち、駆
動中の素子には所望の発光輝度に応じて閾値電圧Vth以
上の電圧を適宜印加し、非選択状態の素子には閾値電圧
Vth未満の電圧を印加する。駆動する素子を順次切り替
えてゆくことにより、表示画面を順次走査して表示を行
うことが可能である。
Due to the above-mentioned characteristics, the surface conduction electron-emitting device could be suitably used for the display device. For example, in a display device in which a large number of elements are provided corresponding to the pixels of the display screen, by utilizing the first characteristic, it is possible to sequentially scan and display the display screen. That is, a voltage equal to or higher than the threshold voltage Vth is appropriately applied to the driven element according to the desired light emission luminance, and a voltage lower than the threshold voltage Vth is applied to the non-selected element. By sequentially switching the elements to be driven, it is possible to sequentially scan the display screen for display.

【0137】また、第2の特性かまたは第3の特性を利
用することにより、発光輝度を制御することができるた
め、諧調表示を行うことが可能である。 (多数素子を単純マトリクス配線したマルチ電子源の構
造)次に、上述の表面伝導型放出素子を基板上に配列し
て単純マトリクス配線したマルチ電子源の構造について
述べる。
By utilizing the second characteristic or the third characteristic, it is possible to control the light emission brightness, so that it is possible to perform the gradation display. (Structure of a Multi Electron Source in which Many Elements are Wired in a Simple Matrix) Next, a structure of a multi electron source in which the above surface conduction electron-emitting devices are arranged on a substrate and wired in a simple matrix will be described.

【0138】図27に示すのは、図18の表示パネルに
用いたマルチ電子源の平面図である。基板上には図20
で示したものと同様な表面伝導型放出素子が配列され、
これらの素子は行方向配線電極1003と列方向配線電
極1004により単純マトリクス状に配線されている。
行方向配線電極1003と列方向配線電極1004の交
差する部分には、電極間に絶縁層(不図示)が形成され
ており、電気的な絶縁が保たれている。
FIG. 27 is a plan view of the multi-electron source used for the display panel of FIG. Figure 20 on the board
Arrayed surface conduction electron-emitting devices similar to those shown in
These elements are wired in a simple matrix by row-direction wiring electrodes 1003 and column-direction wiring electrodes 1004.
An insulating layer (not shown) is formed between the electrodes at the intersections of the row-direction wiring electrodes 1003 and the column-direction wiring electrodes 1004 to maintain electrical insulation.

【0139】図27のA−A’に沿った断面を、図28
に示す。
The cross section taken along the line AA 'in FIG. 27 is shown in FIG.
Shown in.

【0140】なお、このような構造のマルチ電子源は、
あらかじめ基板上に行方向配線電極1003、列方向配
線電極1004、電極間絶縁層(不図示)、および表面
伝導型放出素子の素子電極と導電性薄膜を形成した後、
行方向配線電極1003および列方向配線電極1004
を介して各素子に給電して通電フォーミング処理と通電
活性化処理を行うことにより製造した。
The multi-electron source having such a structure is
After forming the row-direction wiring electrodes 1003, the column-direction wiring electrodes 1004, the interelectrode insulating layer (not shown), and the device electrodes of the surface conduction electron-emitting device and the conductive thin film on the substrate in advance,
Row-direction wiring electrode 1003 and column-direction wiring electrode 1004
The device was manufactured by supplying power to each element through the device and performing an energization forming process and an energization activation process.

【0141】図29は、前記説明の表面伝導型放出素子
を電子源として用いたディスプレイパネルに、例えばテ
レビジョン放送をはじめとする種々の画像情報源より提
供される画像情報を表示できるように構成した表示装置
の一例を示すための図である。
FIG. 29 shows a structure in which image information provided from various image information sources such as television broadcasting can be displayed on a display panel using the surface conduction electron-emitting device described above as an electron source. It is a figure for showing an example of the display device which did.

【0142】図中、2100はディスプレイパネルで前
述の表示パネル1,1aに相当している。2101はデ
ィスプレイパネルの駆動回路、2102はディスプレイ
コントローラ、2103はマルチプレクサ、2104は
デコーダ、2105は入出力インターフェース回路、2
106はCPU、2107は画像生成回路、2108お
よび2109および2110は画像メモリインターフェ
ース回路、2111は画像入力インターフェース回路、
2112および2113はTV信号受信回路、2114
は入力部である。(なお、本表示装置は、例えばテレビ
ジョン信号のように映像情報と音声情報の両方を含む信
号を受信する場合には、当然映像の表示と同時に音声を
再生するものであるが、本発明の特徴と直接関係しない
音声情報の受信,分離,再生,処理,記憶などに関する
回路やスピーカなどについては説明を省略する。)以
下、画像信号の流れに沿って各部の機能を説明する。
In the figure, reference numeral 2100 denotes a display panel, which corresponds to the above-mentioned display panels 1 and 1a. 2101 is a display panel drive circuit, 2102 is a display controller, 2103 is a multiplexer, 2104 is a decoder, 2105 is an input / output interface circuit, 2
106 is a CPU, 2107 is an image generation circuit, 2108 and 2109 and 2110 are image memory interface circuits, 2111 is an image input interface circuit,
2112 and 2113 are TV signal receiving circuits, 2114
Is an input unit. (Note that when the display device receives a signal including both video information and audio information, such as a television signal, it naturally reproduces audio at the same time as displaying video. Descriptions of circuits, speakers, etc. relating to reception, separation, reproduction, processing, storage, etc. of audio information not directly related to characteristics will be omitted.) The functions of the respective parts will be described below in accordance with the flow of image signals.

【0143】まず、TV信号受信回路2113は、例え
ば電波や空間光通信などのような無線伝送系を用いて伝
送されるTV画像信号を受信する為の回路である。受信
するTV信号の方式は特に限られるものではなく、例え
ば、NTSC方式、PAL方式、SECAM方式などの
諸方式でもよい。また、これらよりさらに多数の走査線
よりなるTV信号(例えばMUSE方式をはじめとする
いわゆる高品位TV)は、大面積化や大画素数化に適し
た前記ディスプレイパネルの利点を生かすのに好適な信
号源である。TV信号受信回路2113で受信されたT
V信号は、デコーダ2104に出力される。
First, the TV signal receiving circuit 2113 is a circuit for receiving a TV image signal transmitted using a wireless transmission system such as radio waves or spatial optical communication. The system of the TV signal to be received is not particularly limited, and various systems such as NTSC system, PAL system and SECAM system may be used. Further, a TV signal (for example, a so-called high-definition TV such as the MUSE method) including a larger number of scanning lines than these is suitable for taking advantage of the display panel suitable for a large area and a large number of pixels. It is a signal source. T received by the TV signal receiving circuit 2113
The V signal is output to the decoder 2104.

【0144】また、TV信号受信回路2112は、例え
ば同軸ケーブルや光ファイバーなどのような有線伝送系
を用いて伝送されるTV画像信号を受信するための回路
である。前記TV信号受信回路2113と同様に、受信
するTV信号の方式は特に限られるものではなく、また
本回路で受信されたTV信号もデコーダ2104に出力
される。
The TV signal receiving circuit 2112 is a circuit for receiving a TV image signal transmitted by using a wired transmission system such as a coaxial cable or an optical fiber. Similar to the TV signal receiving circuit 2113, the system of the TV signal to be received is not particularly limited, and the TV signal received by this circuit is also output to the decoder 2104.

【0145】また、画像入力インターフェース回路21
11は、例えばTVカメラや画像読み取りスキャナーな
どの画像入力装置から供給される画像信号を取り込むた
めの回路で、取り込まれた画像信号はデコーダ2104
に出力される。画像メモリインターフェース回路211
0は、ビデオテープレコーダ(以下VTRと略す)に記
憶されている画像信号を取り込むための回路で、取り込
まれた画像信号はデコーダ2104に出力される。画像
メモリインターフェース回路2109は、ビデオディス
クに記憶されている画像信号を取り込むための回路で、
取り込まれた画像信号はデコーダ2104に出力され
る。画像メモリインターフェース回路2108は、いわ
ゆる静止画ディスクのように、静止画像データを記憶し
ている装置から画像信号を取り込むための回路で、取り
込まれた静止画像データはデコーダ2104に出力され
る。
Further, the image input interface circuit 21
Reference numeral 11 denotes a circuit for capturing an image signal supplied from an image input device such as a TV camera or an image reading scanner. The captured image signal is a decoder 2104.
Is output to. Image memory interface circuit 211
Reference numeral 0 is a circuit for capturing an image signal stored in a video tape recorder (hereinafter abbreviated as VTR), and the captured image signal is output to the decoder 2104. The image memory interface circuit 2109 is a circuit for fetching an image signal stored in the video disc,
The captured image signal is output to the decoder 2104. The image memory interface circuit 2108 is a circuit for capturing an image signal from a device that stores still image data, such as a so-called still image disc, and the captured still image data is output to the decoder 2104.

【0146】入出力インターフェース回路2105は、
本表示装置と、外部のコンピュータもしくはコンピュー
タネットワークもしくはプリンタなどの出力装置とを接
続するための回路である。画像データや文字データ・図
形情報の入出力を行うのはもちろんのこと、場合によっ
ては本表示装置の備えるCPU2106と外部との間で
制御信号や数値データの入出力などを行うことも可能で
ある。
The input / output interface circuit 2105 is
It is a circuit for connecting the display device to an external computer, a computer network, or an output device such as a printer. It is of course possible to input and output image data, character data, and graphic information, and in some cases, input and output control signals and numerical data between the CPU 2106 of this display device and the outside. .

【0147】また、画像生成回路2107は、前記入出
力インターフェース回路2105を介して外部から入力
される画像データや文字・図形情報や、あるいはCPU
2106より出力される画像データや文字・図形情報に
基づき表示用画像データを生成するための回路である。
本回路の内部には、例えば画像データや文字・図形情報
を蓄積するための書き換え可能メモリや、文字コードに
対応する画像パターンが記憶されている読みだし専用メ
モリや、画像処理を行うためのプロセッサなどをはじめ
として画像の生成に必要な回路が組み込まれている。本
回路により生成された表示用画像データは、デコーダ2
104に出力されるが、場合によっては前記入出力イン
ターフェース回路2105を介して外部のコンピュータ
ネットワークやプリンタ入出力することも可能である。
The image generation circuit 2107 is provided with image data, character / graphic information, or a CPU which is externally input via the input / output interface circuit 2105.
2106 is a circuit for generating display image data based on image data and character / graphic information output from the 2106.
Inside this circuit, for example, a rewritable memory for accumulating image data and character / graphic information, a read-only memory in which image patterns corresponding to character codes are stored, and a processor for performing image processing Etc. and the circuits necessary for image generation are incorporated. The display image data generated by this circuit is the decoder 2
Although it is output to 104, it is also possible to input / output to / from an external computer network or printer via the input / output interface circuit 2105 in some cases.

【0148】CPU2106は、主として本表示装置の
動作制御や、表示画像の生成や選択や編集に関わる作業
を行う。例えば、マルチプレクサ2103に制御信号を
出力し、ディスプレイパネルに表示する画像信号を適宜
選択したり組み合わせたりする。また、その際には表示
する画像信号に応じてディスプレイパネルコントローラ
2102に対して制御信号を発生し、画面表示周波数や
走査方法(例えばインターレースかノンインターレース
か)や一画面の走査線の数など表示装置の動作を適宜制
御する。また、前記画像生成回路2107に対して画像
データや文字・図形情報を直接出力したり、あるいは前
記入出力インターフェース回路2105を介して外部の
コンピュータやメモリをアクセスして画像データや文字
・図形情報を入力する。なお、CPU2106は、むろ
んこれ以外の目的の作業にも関わるものであっても良
い。例えば、パーソナルコンピュータやワードプロセッ
サなどのように、情報を生成したり処理する機能に直接
関わっても良い。
The CPU 2106 mainly performs operations relating to operation control of the display device and generation, selection and editing of a display image. For example, a control signal is output to the multiplexer 2103 to appropriately select or combine image signals to be displayed on the display panel. At that time, a control signal is generated for the display panel controller 2102 according to the image signal to be displayed, and the screen display frequency, the scanning method (for example, interlaced or non-interlaced), the number of scanning lines in one screen, etc. are displayed. The operation of the device is controlled appropriately. Further, the image data or the character / graphic information is directly output to the image generation circuit 2107, or an external computer or memory is accessed through the input / output interface circuit 2105 to display the image data or the character / graphic information. input. It should be noted that the CPU 2106 may of course be involved in tasks for other purposes. For example, it may be directly related to a function of generating and processing information, such as a personal computer or a word processor.

【0149】あるいは、前述したように入出力インター
フェース回路2105を介して外部のコンピュータネッ
トワークと接続し、例えば数値計算などの作業を外部機
器と協動して行っても良い。
Alternatively, as described above, the computer may be connected to an external computer network through the input / output interface circuit 2105, and work such as numerical calculation may be performed in cooperation with an external device.

【0150】入力部2114は、前記CPU2106に
使用者が命令やプログラム、あるいはデータなどを入力
するためのものであり、例えばキーボードやマウスのほ
か、ジョイスティック,バーコードリーダー,音声認識
装置など多様な入力機器を用いることが可能である。
The input unit 2114 is used by the user to input commands, programs, data, etc. to the CPU 2106, and various inputs such as a joystick, a bar code reader, a voice recognition device in addition to a keyboard and a mouse. It is possible to use equipment.

【0151】デコーダ2104は、前記2107ないし
2113より入力される種々の画像信号を3原色信号、
または輝度信号とI信号,Q信号に逆変換するための回
路である。なお、同図中に点線で示すように、デコーダ
2104は内部に画像メモリを備えるのが望ましい。こ
れは、例えばMUSE方式をはじめとして、逆変換する
に際して画像メモリを必要とするようなテレビ信号を扱
うためである。また、画像メモリを備えることにより、
静止画の表示が容易になる、あるいは前記画像生成回路
2107およびCPU2106と協動して画像の間引
き,補間,拡大,縮小,合成をはじめとする画像処理や
編集が容易に行えるようになるという利点が生まれるか
らである。
The decoder 2104 converts various image signals input from the above 2107 to 2113 into three primary color signals,
Alternatively, it is a circuit for inversely converting the luminance signal into the I signal and the Q signal. Note that it is desirable that the decoder 2104 includes an image memory therein, as indicated by a dotted line in the figure. This is to handle a television signal that requires an image memory for reverse conversion, such as the MUSE method. Also, by providing an image memory,
An advantage that a still image can be easily displayed, or image processing and editing including image thinning, interpolation, enlargement, reduction, and composition can be easily performed in cooperation with the image generation circuit 2107 and the CPU 2106. Is born.

【0152】マルチプレクサ2103は、前記CPU2
106より入力される制御信号に基づき表示画像を適宜
選択するものである。すなわち、マルチプレクサ210
3はデコーダ2104から入力される逆変換された画像
信号のうちから所望の画像信号を選択して駆動回路21
01に出力する。その場合には、一画面表示時間内で画
像信号を切り替えて選択することにより、いわゆる多画
面テレビのように、一画面を複数の領域に分けて領域に
よって異なる画像を表示することも可能である。
The multiplexer 2103 is the CPU 2
A display image is appropriately selected based on a control signal input from 106. That is, the multiplexer 210
Reference numeral 3 denotes a drive circuit 21 for selecting a desired image signal from the inversely converted image signals input from the decoder 2104.
Output to 01. In that case, by switching and selecting image signals within one screen display time, it is possible to divide one screen into a plurality of areas and display different images depending on the areas, as in a so-called multi-screen television. .

【0153】ディスプレイパネルコントローラ2102
は、前記CPU2106より入力される制御信号に基づ
き駆動回路2101の動作を制御するための回路であ
る。まず、ディスプレイパネルの基本的な動作に関わる
ものとして、例えばディスプレイパネルの駆動用電源
(図示せず)の動作シーケンスを制御するための信号を
駆動回路2101に対して出力する。
Display panel controller 2102
Is a circuit for controlling the operation of the drive circuit 2101 based on a control signal input from the CPU 2106. First, regarding the basic operation of the display panel, for example, a signal for controlling an operation sequence of a power supply (not shown) for driving the display panel is output to the drive circuit 2101.

【0154】ディスプレイパネルの駆動方法に関わるも
のとして、例えば画面表示周波数や走査方法(例えばイ
ンターレースかノンインターレースか)を制御するため
の信号を駆動回路2101に対して出力する。また、場
合によっては表示画像の輝度やコントラストや色調やシ
ャープネスといった画質の調整に関わる制御信号を駆動
回路2101に対して出力する場合もある。駆動回路2
101は、ディスプレイパネル2100に印加する駆動
信号を発生するための回路であり、前記マルチプレクサ
2103から入力される画像信号と、前記ディスプレイ
パネルコントローラ2102より入力される制御信号に
基づいて動作するものである。
As a component related to the display panel driving method, for example, a signal for controlling the screen display frequency and the scanning method (for example, interlace or non-interlace) is output to the drive circuit 2101. In some cases, a control signal relating to image quality adjustment such as brightness, contrast, color tone, and sharpness of a display image may be output to the drive circuit 2101. Drive circuit 2
Reference numeral 101 denotes a circuit for generating a drive signal applied to the display panel 2100, which operates based on an image signal input from the multiplexer 2103 and a control signal input from the display panel controller 2102. .

【0155】以上、各部の機能を説明したが、図29に
例示した構成により、本表示装置においては多様な画像
情報源より入力される画像情報をディスプレイパネル2
100に表示することが可能である。すなわち、テレビ
ジョン放送をはじめとする各種の画像信号はデコーダ2
104において逆変換された後、マルチプレクサ210
3において適宜選択され、駆動回路2101に入力され
る。一方、ディスプレイコントローラ2102は、表示
する画像信号に応じて駆動回路2101の動作を制御す
るための制御信号を発生する。駆動回路2101は、上
記画像信号と制御信号に基づいてディスプレイパネル2
100に駆動信号を印加する。
The functions of the respective parts have been described above. With the configuration illustrated in FIG. 29, the display panel 2 displays image information input from various image information sources in this display device.
100 can be displayed. That is, various image signals such as television broadcasting are transmitted to the decoder 2
After inverse conversion at 104, multiplexer 210
3 is appropriately selected and input to the drive circuit 2101. On the other hand, the display controller 2102 generates a control signal for controlling the operation of the drive circuit 2101 according to the image signal to be displayed. The drive circuit 2101 controls the display panel 2 based on the image signal and the control signal.
A drive signal is applied to 100.

【0156】これにより、ディスプレイパネル2100
において画像が表示される。これらの一連の動作は、C
PU2106により統括的に制御される。
As a result, the display panel 2100
The image is displayed at. These series of operations are C
It is totally controlled by the PU 2106.

【0157】また、本表示装置においては、前記デコー
ダ2104に内蔵する画像メモリや、画像生成回路21
07およびCPU2106が関与することにより、単に
複数の画像情報の中から選択したものを表示するだけで
なく、表示する画像情報に対して、例えば拡大,縮小,
回転,移動,エッジ強調,間引き,補間,色変換,画像
の縦横比変換などをはじめとする画像処理や、合成,消
去,接続,入れ換え,はめ込みなどをはじめとする画像
編集を行う事も可能である。また、本実施の形態の説明
では特に触れなかったが、上記画像処理や画像編集と同
様に、音声情報に関しても処理や編集を行うための専用
回路を設けても良い。
Further, in the present display device, the image memory built in the decoder 2104 and the image generation circuit 21.
Due to the involvement of 07 and the CPU 2106, not only the one selected from a plurality of image information is displayed, but also the image information to be displayed is enlarged or reduced, for example.
It is also possible to perform image processing such as rotation, movement, edge enhancement, thinning, interpolation, color conversion, aspect ratio conversion of images, and image editing such as composition, deletion, connection, replacement, and fitting. is there. Although not particularly mentioned in the description of the present embodiment, a dedicated circuit for processing and editing audio information may be provided as in the above-mentioned image processing and image editing.

【0158】従って本実施の形態の表示装置は、テレビ
ジョン放送の表示機器,テレビ会議の端末機器,静止画
像および動画像を扱う画像編集機器,コンピュータの端
末機器,ワードプロセッサをはじめとする事務用端末機
器,ゲーム機などの機能を一台で兼ね備えることが可能
で、産業用あるいは民生用として極めて応用範囲が広
い。なお、図29は、表面伝導型放出素子を電子源とす
るディスプレイパネルを用いた表示装置の構成の一例を
示したにすぎず、これのみに限定されるものではないこ
とは言うまでもない。例えば、図29の構成要素のうち
使用目的上必要のない機能に関わる回路は省いても差し
支えない。またこれとは逆に、使用目的によってはさら
に構成要素を追加しても良い。例えば、本表示装置をテ
レビ電話機として応用する場合には、テレビカメラ,音
声マイク,照明機,モデムを含む送受信回路などを構成
要素に追加するのが好適である。
Therefore, the display device of this embodiment is a display device for television broadcasting, a terminal device for a video conference, an image editing device for handling still images and moving images, a terminal device for a computer, an office terminal such as a word processor. It is possible to combine the functions of a device, a game console, etc., and has a very wide range of applications for industrial or consumer use. It is needless to say that FIG. 29 merely shows an example of the configuration of a display device using a display panel having a surface conduction electron-emitting device as an electron source, and the present invention is not limited to this. For example, of the constituent elements in FIG. 29, circuits relating to functions that are unnecessary for the purpose of use may be omitted. On the contrary, the constituent elements may be added depending on the purpose of use. For example, when the display device is applied as a video telephone, it is preferable to add a television camera, a voice microphone, an illuminator, a transmission / reception circuit including a modem, and the like to the components.

【0159】本実施の形態の表示装置においては、とり
わけ表面伝導型放出素子を電子源とするディスプレイパ
ネルが容易に薄形化できるため、表示装置全体の奥行き
を小さくすることが可能である。それに加えて、表面伝
導型放出素子を電子源とするディスプレイパネルは大画
面化が容易で輝度が高く視野角特性にも優れるため、本
表示装置は臨場感あふれ迫力に富んだ画像を視認性良く
表示することが可能である。
In the display device of the present embodiment, the display panel using the surface conduction electron-emitting device as an electron source can be easily thinned, so that the depth of the entire display device can be reduced. In addition, a display panel using surface conduction electron-emitting devices as an electron source can easily enlarge the screen, has high brightness, and has excellent viewing angle characteristics, so this display device provides a realistic and powerful image with good visibility. It is possible to display.

【0160】なお本発明は、複数の機器(例えばホスト
コンピュータ,インタフェイス機器,リーダ,プリンタ
など)から構成されるシステムに適用しても、一つの機
器からなる装置(例えば、複写機,ファクシミリ装置な
ど)に適用してもよい。
Even if the present invention is applied to a system composed of a plurality of devices (eg, host computer, interface device, reader, printer, etc.), a device composed of one device (eg, copying machine, facsimile device) Etc.)

【0161】また本発明の目的は、前述した実施形態の
機能を実現するソフトウェアのプログラムコードを記録
した記憶媒体を、システムあるいは装置に供給し、その
システムあるいは装置のコンピュータ(またはCPUや
MPU)が記憶媒体に格納されたプログラムコードを読
出し実行することによっても達成される。
Further, an object of the present invention is to supply a storage medium having a program code of software for realizing the functions of the above-described embodiments to a system or an apparatus so that the computer (or the CPU or MPU) of the system or the apparatus can operate. It is also achieved by reading and executing the program code stored in the storage medium.

【0162】この場合、記憶媒体から読出されたプログ
ラムコード自体が前述した実施形態の機能を実現するこ
とになり、そのプログラムコードを記憶した記憶媒体は
本発明を構成することになる。
In this case, the program code itself read from the storage medium realizes the function of the above-described embodiment, and the storage medium storing the program code constitutes the present invention.

【0163】プログラムコードを供給するための記憶媒
体としては、例えば、フロッピディスク,ハードディス
ク,光ディスク,光磁気ディスク,CD−ROM,CD
−R,磁気テープ,不揮発性のメモリカード,ROMな
どを用いることができる。
As a storage medium for supplying the program code, for example, a floppy disk, a hard disk, an optical disk, a magneto-optical disk, a CD-ROM, a CD
-R, magnetic tape, non-volatile memory card, ROM, etc. can be used.

【0164】また、コンピュータが読出したプログラム
コードを実行することにより、前述した実施形態の機能
が実現されるだけでなく、そのプログラムコードの指示
に基づき、コンピュータ上で稼働しているOS(オペレ
ーティングシステム)などが実際の処理の一部または全
部を行い、その処理によって前述した実施形態の機能が
実現される場合も含まれる。
Moreover, not only the functions of the above-described embodiments are realized by executing the program code read by the computer, but also the OS (operating system) running on the computer based on the instructions of the program code. ) And the like perform some or all of the actual processing, and the processing realizes the functions of the above-described embodiments.

【0165】さらに、記憶媒体から読出されたプログラ
ムコードが、コンピュータに挿入された機能拡張ボード
やコンピュータに接続された機能拡張ユニットに備わる
メモリに書込まれた後、そのプログラムコードの指示に
基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わ
るCPUなどが実際の処理の一部または全部を行い、そ
の処理によって前述した実施形態の機能が実現される場
合も含まれる。
Further, after the program code read from the storage medium is written in the memory provided in the function expansion board inserted into the computer or the function expansion unit connected to the computer, based on the instruction of the program code, This also includes a case where a CPU or the like included in the function expansion board or the function expansion unit performs some or all of the actual processing and the processing realizes the functions of the above-described embodiments.

【0166】以上説明したように本実施の形態によれ
ば、ワイド表示かノーマル表示に応じて、有効にドライ
バ回路を使用でき、無駄な電力の消費を防止できる。
As described above, according to the present embodiment, it is possible to effectively use the driver circuit according to the wide display or the normal display, and prevent wasteful power consumption.

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、表
示モードに応じて使用される素子に応じて、その素子を
駆動するドライバ回路への電力供給を停止して消費電力
を抑えることができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to suppress the power consumption by stopping the power supply to the driver circuit that drives the element according to the display mode. it can.

【0167】また本発明によれば、ノーマルモードの表
示の場合には、表示画面上における画像の表示位置を変
更できるという効果がある。
Further, according to the present invention, in the case of the normal mode display, there is an effect that the display position of the image on the display screen can be changed.

【0168】[0168]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1の画像表示装置の構成を
示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of an image display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1における変調信号ドライ
バ組の構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a modulation signal driver set according to the first embodiment of the present invention.

【図3】実施の形態1におけるアスペクト比「16:
9」の画像を表示する場合の制御信号を説明する図であ
る。
FIG. 3 shows an aspect ratio “16:
It is a figure explaining the control signal when displaying the image of "9".

【図4】実施の形態1におけるアスペクト比「16:
9」の画像を表示する場合の制御信号のタイミング図で
ある。
FIG. 4 shows an aspect ratio “16:
It is a timing diagram of a control signal when displaying an image of "9".

【図5】実施の形態1におけるアスペクト比「4:3」
の画像を表示する場合の制御信号を説明する図である。
FIG. 5 is an aspect ratio “4: 3” according to the first embodiment.
It is a figure explaining the control signal when displaying the image of.

【図6】実施の形態1におけるアスペクト比「4:3」
の画像を表示する場合の制御信号のタイミング図であ
る。
FIG. 6 is an aspect ratio “4: 3” according to the first embodiment.
6 is a timing diagram of control signals when displaying the image of FIG.

【図7】本発明の実施の形態1におけるシステム制御部
8の制御処理を示すフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart showing a control process of the system control unit 8 according to the first embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態2の変調信号ドライバ組の
構成を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a modulation signal driver set according to a second embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態3におけるアスペクト比
「4:3」の画像を表示する他の例を説明する図であ
る。
FIG. 9 is a diagram illustrating another example of displaying an image with an aspect ratio of “4: 3” according to the third embodiment of the present invention.

【図10】実施の形態3におけるアスペクト比「4:
3」の画像を表示する場合の制御信号のタイミング図で
ある。
FIG. 10 is an aspect ratio “4:
It is a timing diagram of a control signal when displaying an image of "3".

【図11】本発明の実施の形態4におけるアスペクト比
「4:3」の画像を表示する場合の他の例を説明する図
である。
FIG. 11 is a diagram illustrating another example of displaying an image having an aspect ratio of “4: 3” according to the fourth embodiment of the present invention.

【図12】実施の形態4におけるアスペクト比「4:
3」の画像を表示する場合の制御信号のタイミング図で
ある。
FIG. 12 is an aspect ratio “4:
It is a timing diagram of a control signal when displaying an image of "3".

【図13】本発明の実施の形態5の画像表示装置の構成
を示すブロック図である。
FIG. 13 is a block diagram showing a configuration of an image display device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図14】実施の形態5におけるアスペクト比「16:
9」の画像を表示する場合を説明する図である。
FIG. 14 is an aspect ratio “16:
It is a figure explaining the case where an image of "9" is displayed.

【図15】実施の形態5におけるアスペクト比「16:
9」の画像を表示する場合の制御信号のタイミング図で
ある。
FIG. 15 shows an aspect ratio “16:
It is a timing diagram of a control signal when displaying an image of "9".

【図16】実施の形態5におけるアスペクト比「4:
3」の画像を表示する場合を説明する図である。
FIG. 16 is an aspect ratio “4:
It is a figure explaining the case where an image of "3" is displayed.

【図17】実施の形態5におけるアスペクト比「4:
3」の画像を表示する場合の制御信号のタイミング図で
ある。
FIG. 17 is an aspect ratio “4:
It is a timing diagram of a control signal when displaying an image of "3".

【図18】本発明の実施の形態の画像表示装置の表示パ
ネルの一部を切り欠いて示した斜視図である。
FIG. 18 is a perspective view in which a part of the display panel of the image display device according to the embodiment of the present invention is cut away.

【図19】表示パネルのフェースプレートの蛍光体配列
を例示した平面図である。
FIG. 19 is a plan view showing an example of a phosphor array on a face plate of a display panel.

【図20】実施の形態で用いた平面型の表面伝導型放出
素子の平面図(a),断面図(b)である。
FIG. 20 is a plan view (a) and a sectional view (b) of a planar surface conduction electron-emitting device used in the embodiment.

【図21】平面型の表面伝導型放出素子の製造工程を示
す断面図である。
FIG. 21 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of a flat surface conduction electron-emitting device.

【図22】通電フォーミング処理の際の印加電圧波形を
示す図である。
FIG. 22 is a diagram showing applied voltage waveforms during energization forming processing.

【図23】通電活性化処理の際の印加電圧波形(a),
放電電流Ieの変化(b)を示す図である。
FIG. 23 is a waveform (a) of applied voltage during energization activation processing,
It is a figure which shows the change (b) of discharge current Ie.

【図24】実施の形態で用いた垂直型の表面伝導型放出
素子の断面図である。
FIG. 24 is a cross-sectional view of a vertical surface conduction electron-emitting device used in the embodiment.

【図25】垂直型の表面伝導型放出素子の製造工程を示
す断面図である。
FIG. 25 is a cross-sectional view showing the manufacturing process of the vertical surface conduction electron-emitting device.

【図26】実施の形態で用いた表面伝導型放出素子の典
型的な特性を示すグラフ図である。
FIG. 26 is a graph showing typical characteristics of the surface conduction electron-emitting device used in the embodiment.

【図27】実施の形態で用いたマルチ電子源の基板の平
面図である。
FIG. 27 is a plan view of the substrate of the multi-electron source used in the embodiment.

【図28】実施の形態で用いたマルチ電子源の基板の一
部断面図である。
FIG. 28 is a partial cross-sectional view of the substrate of the multi-electron source used in the embodiment.

【図29】本発明の実施の形態である画像表示装置を用
いた多機能画像表示装置のブロック図である。
FIG. 29 is a block diagram of a multifunctional image display device using the image display device according to the embodiment of the present invention.

【図30】従来知られた表面伝導型放出素子の一例を示
す図である。
FIG. 30 is a diagram showing an example of a conventionally known surface conduction electron-emitting device.

【図31】従来知られたFEの一例を示す図である。FIG. 31 is a diagram showing an example of a conventionally known FE.

【図32】従来知られたMIM型の一例を示す図であ
る。
FIG. 32 is a diagram showing an example of a conventionally known MIM type.

【図33】発明者らが試みた電子放出素子の配線方法を
説明する図である。
FIG. 33 is a diagram illustrating a wiring method of an electron-emitting device that the inventors have tried.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G09G 3/36 G09G 3/22 G09G 3/20 611 G09G 3/20 650 G09G 3/20 660 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G09G 3/36 G09G 3/22 G09G 3/20 611 G09G 3/20 650 G09G 3/20 660

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数の電子放出素子をマトリクス状に配
線した表示パネルと、前記表示パネルの複数の行配線を
駆動する行駆動手段と、前記表示パネルの複数の列配線
を画像信号に応じて駆動する列駆動手段とを有し、前記
列駆動手段が、前記複数の列配線に接続される複数個の
駆動回路を備えている画像表示装置において、 前記表示パネルの最大表示エリアを使用した表示を行な
う第1表示モードと、前記表示パネルの最大表示エリア
よりも小さい表示エリアを使用した表示を行なう第2表
示モードとを切り替えて表示を行うべく前記列駆動手段
を制御する制御信号を出力する制御部とを有し、 前記第2表示モードの場合には、前記複数個の駆動回路
のうち、当該表示エリア外の列配線に接続される駆動回
路へのクロック信号の入力を停止するとともに、前記表
示エリア内の列配線に接続される駆動回路へのクロック
信号の入力を許し、当該クロック信号の入力が許されて
いる駆動回路へ画像データを入力することにより、前記
第1表示モードの場合の前記列駆動手段における消費電
力より前記第2表示モードの場合の前記列駆動手段にお
ける消費電力を小さくする ことを特徴とする画像表示装
置。
1. A display panel in which a plurality of electron-emitting devices are wired in a matrix, a row driving means for driving a plurality of row wirings of the display panel, and a plurality of column wirings of the display panel according to an image signal. possess a column driving means for driving said
The column driving means includes a plurality of column wirings connected to the plurality of column wirings.
In an image display device including a drive circuit, a first display mode for performing display using the maximum display area of the display panel and a second display mode for performing display using a display area smaller than the maximum display area of the display panel. A control section for outputting a control signal for controlling the column driving means to perform display by switching between display modes, and in the case of the second display mode, the plurality of drive circuits.
Of the drive circuit connected to the column wiring outside the display area
In addition to stopping the input of the clock signal to the
Clock to the drive circuit connected to the column wiring in the display area
Allows the input of a signal and allows the input of the clock signal
By inputting image data to the drive circuit,
Power consumption in the column driving means in the first display mode
Force to the column driving means in the case of the second display mode.
Image display device characterized by reducing power consumption .
【請求項2】 前記第2表示モードの場合に前記クロッ
ク信号の入力が許されている駆動回路は複数個あり、そ
れらの駆動回路に時系列的に順次、画像データを入力す
ことを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。
2. The clock when the second display mode is selected.
There are multiple drive circuits that are allowed to input
Input image data to these drive circuits in time series.
The image display apparatus according to claim 1, characterized in that that.
【請求項3】 複数の電子放出素子をマトリクス状に配
線した表示パネルと、前記表示パネルの複数の行配線を
駆動する行駆動手段と、前記表示パネルの複数の列配線
を画像信号に応じて駆動する列駆動手段とを有し、前記
列駆動手段が、前記複数の列配線に接続される複数個の
駆動回路を備えている画像表示装置において、 前記表示パネルの最大表示エリアを使用した表示を行な
う第1表示モードと、前記表示パネルの最大表示エリア
よりも小さい表示エリアを使用した表示を行なう第2表
示モードとを切り替えて表示を行うべく、前記列駆動手
段を制御する制御信号を出力する制御部を具備し、 前記第2表示モードの場合には、前記複数個の駆動回路
のうち当該表示エリア外の列配線に接続される駆動回路
への電力供給を停止するとともに、前記表示エリア内の
列配線に接続される駆動回路への電力供給を許し、当該
電力供給が許されている駆動回路へ画像データを入力す
ることにより、前記第1表示モードの場合の前記列駆動
手段における消費電力より前記第2表示モードの場合の
前記列駆動手段における消費電力を小さくすることを特
徴とする画像表示装置。
3. A plurality of electron-emitting devices are arranged in a matrix.
Wired display panel and multiple row wiring of the display panel
Row driving means for driving, and a plurality of column wirings of the display panel
A column driving means for driving in accordance with an image signal,
The column driving means includes a plurality of column wirings connected to the plurality of column wirings.
In an image display device equipped with a drive circuit, display is performed using the maximum display area of the display panel.
First display mode and maximum display area of the display panel
Table 2 for display using a smaller display area
In order to display by switching the display mode,
A plurality of drive circuits in the case of the second display mode , the control circuit outputting a control signal for controlling the stages;
Drive circuit connected to the column wiring outside the display area
Power supply to the display area and
Allows power supply to the drive circuit connected to the column wiring,
Input image data to the drive circuit where power supply is permitted.
To drive the column in the first display mode.
In the case of the second display mode from the power consumption in the means
The feature is to reduce the power consumption in the column driving means.
Image display device.
【請求項4】 前記第2表示モードの場合に前記電力供
給が許されている駆動回路は複数個あり、それらの駆動
回路に時系列的に順次、画像データを入力することを特
徴とする請求項3に記載の画像表示装置。
4. The power supply in the case of the second display mode.
There are multiple drive circuits that are allowed to supply
The feature is that image data is sequentially input to the circuit in time series.
The image display device according to claim 3, which is a characteristic.
【請求項5】 前記第1表示モードはアスペクト比が1
6:9のワイド表示モードであり、前記第2表示モード
はアスペクト比が4:3のノーマル表示モードであるこ
とを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の
画像表示装置。
5. The aspect ratio is 1 in the first display mode.
6: 9 is wide display mode, the second display mode aspect ratio of 4: image display apparatus according to any one of claims 1 to 4, characterized in that a 3 normal display mode.
【請求項6】 前記電子放出素子は表面伝導型放出素子
であることを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項
に記載の画像表示装置。
6. The image display apparatus according to any one of claims 1 to 5, characterized in that said electron-emitting devices are surface conduction electron-emitting devices.
【請求項7】 前記電子放出素子はFE型放出素子又は
MIM型放出素子であることを特徴とする請求項1乃至
のいずれか1項に記載の画像表示装置。
7. The electron emission device is an FE type emission device or
2. An MIM type emission device , characterized in that
The image display device according to any one of 5 above.
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