JP3414076B2 - Inspection method of shadow mask - Google Patents

Inspection method of shadow mask

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JP3414076B2 JP26827895A JP26827895A JP3414076B2 JP 3414076 B2 JP3414076 B2 JP 3414076B2 JP 26827895 A JP26827895 A JP 26827895A JP 26827895 A JP26827895 A JP 26827895A JP 3414076 B2 JP3414076 B2 JP 3414076B2
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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、所定パターンに従
って金属板を貫通する孔が開口されるシャドウマスクを
検査する方法に係わり、特に金属素材上に形成されたレ
ジスト膜に設けられた開孔形状の検査に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for inspecting a shadow mask in which a hole penetrating a metal plate is opened according to a predetermined pattern, and in particular, an opening shape provided in a resist film formed on a metal material. Regarding inspection.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、カラー受像管等に用いるシャドウ
マスクは、例えば図7に示すような工程で造られる。金
属素材、すなわち、シャドウマスク材1として例えば板
厚0.13mmの低炭素鋼板を用い、その両面を脱脂、整面、
洗浄処理した後、その両面にカゼインまたはポリビニル
アルコールと、重クロム酸アンモニウムからなる水溶性
感光液を塗布乾燥して、フォトレジスト膜2(以下、レ
ジスト膜と記す)を形成する。次いで、シャドウマスク
材1の一方の面に小孔像のポジ露光用パターンマスク
を、また、他方の面に大孔像のポジ露光用パターンマス
クを介してレジスト膜2にパターン露光を行う。その
後、温水にて、未露光未硬化のレジスト膜を溶解する現
像処理を行った後、レジスト膜2に対して硬膜処理およ
びバーニング処理を施し、図7(a)に示すように、所
定パターンに従って設けられた開孔3aを持つ小孔レジス
ト膜2aと、開孔3bを持つ大孔レジスト膜2bを表裏に有す
るシャドウマスク材1が得られる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a shadow mask used for a color picture tube or the like is manufactured by a process shown in FIG. 7, for example. A metal material, that is, a low carbon steel plate having a thickness of 0.13 mm is used as the shadow mask material 1, and both surfaces thereof are degreased, surface-treated,
After the cleaning treatment, a water-soluble photosensitive solution composed of casein or polyvinyl alcohol and ammonium dichromate is applied on both surfaces and dried to form a photoresist film 2 (hereinafter referred to as a resist film). Then, the resist film 2 is pattern-exposed on one surface of the shadow mask material 1 through a positive exposure pattern mask for a small hole image and on the other surface through a large hole image positive exposure pattern mask. After that, a developing process for dissolving the unexposed and uncured resist film is performed with warm water, and then a hardening process and a burning process are applied to the resist film 2 to form a predetermined pattern as shown in FIG. A shadow mask material 1 having a small-hole resist film 2a having an opening 3a and a large-hole resist film 2b having an opening 3b provided on the front and back sides is obtained.

【0003】次いで、第一段階のエッチングを表裏両面
から行なう。エッチング液には塩化第二鉄液のボーメ濃
度35〜50を用い、スプレー圧 1.5〜3.5kg/cm2 のスプレ
ーエッチングで行なうのが一般的である。この第一エッ
チング工程では、図7(b)に示すように、エッチング
進度は、途中で止めるのが肝要である。
Next, the first stage etching is performed from both front and back surfaces. As the etching solution, a Baume concentration of ferric chloride solution of 35 to 50 is generally used, and spray etching is generally performed at a spray pressure of 1.5 to 3.5 kg / cm 2 . In this first etching step, as shown in FIG. 7B, it is important to stop the etching progress on the way.

【0004】次いで、シャドウマスク材1を水洗洗浄お
よび乾燥後、図7(c)に示すように、前段のエッチン
グで形成された小孔側の凹部を完全に埋め尽くすエッチ
ング防止層4を形成する。続いて、図7(d)に示すよ
うに、大孔側からのみシャドウマスク材1をエッチング
する第二エッチング工程を行ない、大孔側から小孔に貫
通する開口9を形成する。最後に、エッチング防止層4
およびレジスト膜2を剥がし、水洗乾燥して図7(e)
に示すフラット型のシャドウマスク5を得るものであ
る。なお、シャドウマスクの種類によっては、上述した
エッチング防止層4を形成することなく、エッチング工
程のみで、開口9を形成するものもある。
Next, after the shadow mask material 1 is washed with water and dried, as shown in FIG. 7 (c), an etching prevention layer 4 is formed which completely fills the small-hole-side concave portion formed by the preceding etching. . Subsequently, as shown in FIG. 7D, a second etching step of etching the shadow mask material 1 only from the large hole side is performed to form an opening 9 penetrating from the large hole side to the small hole. Finally, the etching prevention layer 4
Then, the resist film 2 is peeled off, washed with water and dried, and then, as shown in FIG.
The flat type shadow mask 5 shown in FIG. Depending on the type of shadow mask, the opening 9 may be formed only by the etching process without forming the above-mentioned etching prevention layer 4.

【0005】カラー受像管等に用いるシャドウマスクに
は、径の小さい貫通した開口9が多数形成されている。
シャドウマスク上に形成されるべき開口9の形状は、シ
ャドウマスク製造前の設計段階において予め設定されて
おり、その形状はシャドウマスクがカラー受像管等に組
み込まれた際、カラー受像管等が所望する性能を発揮で
きるよう設定されている。そのため、製造されたシャド
ウマスクに形成された開口9があらかじめ設定された通
りの形状となっているか否かは、シャドウマスクが組み
込まれたカラー受像管等が所望する性能を発揮できるか
否かを左右する重要な要素といえる。
In a shadow mask used for a color picture tube or the like, a large number of small-diameter penetrating openings 9 are formed.
The shape of the opening 9 to be formed on the shadow mask is preset in the design stage before manufacturing the shadow mask, and the shape is desired when the shadow mask is incorporated in the color picture tube or the like. It is set so that it can exhibit its performance. Therefore, whether or not the opening 9 formed in the manufactured shadow mask has a shape as set in advance depends on whether or not a color picture tube in which the shadow mask is incorporated can exhibit desired performance. It can be said to be an important factor that influences.

【0006】上述した図7(a)の例に示すように、シ
ャドウマスク材1に所望する開口9を形成すべくエッチ
ングを行う前に、所定パターンに従って一部金属面を露
出させた開孔3を有するレジスト膜2を形成している。
このレジスト膜2を耐エッチング層としてシャドウマス
ク材に対しエッチングを行うことにより、レジスト膜2
に設けられた開孔3(以下、単に開孔3と記す)より露
出したシャドウマスク材1部位が選択的にエッチングさ
れ、所望されるパターン、例えば開口9がシャドウマス
ク材1に形成されることとなる。
As shown in the above-mentioned example of FIG. 7A, before the etching for forming the desired opening 9 in the shadow mask material 1, an opening 3 having a partially metal surface exposed according to a predetermined pattern is formed. Forming a resist film 2 having
By etching the shadow mask material using this resist film 2 as an etching resistant layer, the resist film 2
A portion of the shadow mask material 1 exposed through the opening 3 (hereinafter simply referred to as the opening 3) provided in the shadow mask material 1 is selectively etched to form a desired pattern, for example, the opening 9 in the shadow mask material 1. Becomes

【0007】そのため、開孔3が、例えば、パターン露
光に用いる露光用パターンマスクにパターン欠陥があ
る、または、シャドウマスク材1を搬送するためのロー
ラーに異物が付着しレジスト膜2に傷を付ける等で、所
望された形状通りの開孔3となっていない場合、シャド
ウマスク材1に穿孔形成される開口9も所望される形状
とはならないといえる。すなわち、開孔3は、所望され
た形状通りの開孔となっていることが肝要といえる。ち
なみに、露光用パターンマスクのパターン欠陥として、
露光用パターンマスク製造の際にマスク上のパターンが
欠る、または、余分なパターンがパターンマスクに形成
される等があり、また、露光装置に露光用パターンマス
クを装着する時パターンマスク表面上に異物が付着し、
パターン露光の際に異物が影となる場合等もあげられ
る。
Therefore, the opening 3 has a pattern defect in the exposure pattern mask used for pattern exposure, or foreign matter adheres to the roller for carrying the shadow mask material 1 to scratch the resist film 2. Therefore, it can be said that the opening 9 formed by perforating the shadow mask material 1 does not have the desired shape when the opening 3 does not have the desired shape. That is, it can be said that it is essential that the opening 3 has an opening having a desired shape. By the way, as a pattern defect of the exposure pattern mask,
When the exposure pattern mask is manufactured, the pattern on the mask may be missing, or an extra pattern may be formed on the pattern mask. Foreign matter adheres,
There is also a case where a foreign substance becomes a shadow during pattern exposure.

【0008】通常、金属ロールから長尺帯状に供給され
たシャドウマスク材1を用い、シャドウマスクは連続し
て製造されており、例えば欠陥のある露光用パターンマ
スクを使用した場合、同一箇所で共通の形状不良の開口
9が穿孔されたシャドウマスクが多数製造されてしま
う。不良の開口9が穿孔されたシャドウマスクはいかん
ともしがたく多くの場合破棄される。そのため、新たに
シャドウマスクを製造し直さなければならず、再生産に
よる材料資材のロスおよび製造工程への負担になるとい
える。
Usually, a shadow mask material 1 supplied in a long strip shape from a metal roll is used to continuously manufacture shadow masks. For example, when a defective exposure pattern mask is used, the shadow mask material is commonly used at the same location. A large number of shadow masks in which the openings 9 having poor shape are perforated are manufactured. A shadow mask with perforated defective openings 9 is difficult and often discarded. Therefore, it is necessary to remanufacture the shadow mask anew, resulting in loss of material and materials due to remanufacturing and a burden on the manufacturing process.

【0009】このため、開孔3が所望される形状となっ
ているか、または、各シャドウマスク材上のレジスト膜
2に共通する傷は無いかを早期に検査し、不良があった
場合、露光用パターンマスクの変更、清掃、または、シ
ャドウマスク材搬送用ローラーの清掃等の対応をとる必
要がある。しかし、以下に記す理由等により開孔3の形
状検査は困難であり、このため、例えば露光用パターン
マスクの欠陥等を起因とし、各シャドウマスク材上のレ
ジスト膜2が共通する同一の箇所に形状不良の開孔3を
持っていても、従来はエッチング工程終了後の検査で、
その共通欠陥が発見されていた。特に、シャドウマスク
の種類によっては二次エッチングまで行なう場合がある
ため不良発見まで多くの時間が掛かり、不良発見時点
で、すでに共通欠陥を持つ多くのシャドウマスク材がエ
ッチングされている場合が多かった。
Therefore, it is inspected at an early stage whether the opening 3 has a desired shape or whether the resist film 2 on each shadow mask material has a common flaw. It is necessary to take measures such as changing and cleaning the pattern mask for cleaning, or cleaning the roller for conveying the shadow mask material. However, it is difficult to inspect the shape of the opening 3 for the reason described below. Therefore, for example, due to a defect of the exposure pattern mask, the resist film 2 on each shadow mask material is formed in the same location in common. Even if it has a hole 3 with a bad shape, conventionally, it was
The common flaw was discovered. In particular, depending on the type of shadow mask, secondary etching may be performed, so it takes a long time to find a defect, and at the time of finding a defect, many shadow mask materials having common defects were often etched. .

【0010】すなわち、開孔3の形状検査として、例え
ば人間の眼により顕微鏡等を用い行うことが考えられ
る。しかし、レジスト膜2には微細かつ多数の開孔が形
成されており、人間が全ての開孔に対し検査することは
到底無理といえ、かつ、行ったとしても検査モレが生じ
る等効率が悪いという理由による。そのため、自動検査
機を用いた機械的な検査も提案されていた。
That is, it is conceivable to inspect the shape of the opening 3 by using a microscope or the like with human eyes. However, since the resist film 2 is formed with a large number of fine holes, it cannot be said that it is impossible for a person to inspect all the holes, and even if it is performed, the inspection leaks and the efficiency is low. For that reason. Therefore, mechanical inspection using an automatic inspection machine has also been proposed.

【0011】ちなみに自動検査機では、例えば以下のよ
うにして形状の検査を行っている。すなわち、図6の例
に示すように、例えば高周波蛍光灯等を光照射手段、す
なわち光源6として光をシャドウマスク材1に照射し、
光照射部位より反射した光を、光源6と同一面側に設け
た、レジスト膜表面の外観を測定する測定手段7とし
て、例えば固体撮像カメラ等で光像として受け、この光
像を電気信号に変換後、電気信号を例えばコンピュータ
等の判定手段11で受け、判定手段11は孔が所望されるも
のか、または、傷か否かを検査判定するものである。そ
の形状検査の際、一定のパターンに従って配列された開
孔3を持つシャドウマスク材1においては、比較検査法
が一般的に用いられている。すなわち、一定領域内の隣
接する複数の開孔3同志の形状比較を行うことで、他の
開孔3と異なる形状を持つ開孔3を不良として抽出する
方法である。これをシャドウマスクとなるシャドウマス
ク材の開孔が形成された全領域について行なうものであ
る。なお、検査部位を移動する場合、光源6と測定手段
7とを連動して移動させるか、または、シャドウマスク
材1を移動させるものであり、一連の検査および移動の
処理は例えば判定手段11により制御されているものであ
る。
Incidentally, the automatic inspection machine inspects the shape as follows, for example. That is, as shown in the example of FIG. 6, for example, a high-frequency fluorescent lamp or the like is used as a light irradiation unit, that is, a light source 6 is used to irradiate the shadow mask material 1 with light.
The light reflected from the light irradiation portion is received as an optical image by a solid-state imaging camera or the like as a measuring means 7 for measuring the appearance of the surface of the resist film provided on the same side as the light source 6, and this optical image is converted into an electric signal. After the conversion, the electrical signal is received by the determination means 11 such as a computer, and the determination means 11 is for inspecting and determining whether the hole is a desired one or a flaw. At the time of the shape inspection, a comparative inspection method is generally used for the shadow mask material 1 having the openings 3 arranged according to a certain pattern. That is, this is a method in which the shapes of a plurality of adjacent openings 3 in a certain area are compared to extract an opening 3 having a shape different from that of another opening 3 as a defect. This is performed for the entire area where the openings of the shadow mask material that will be the shadow mask are formed. When moving the inspection site, the light source 6 and the measuring means 7 are moved in conjunction with each other, or the shadow mask material 1 is moved. A series of inspection and movement processing is performed by the determination means 11, for example. It is controlled.

【0012】しかし、上述した自動検査機を用いる検査
においても開孔3の形状検査は、以下の理由により誤差
が多く信頼性の低いものであり、開孔3の形状検査は困
難であった。すなわち、金属素材よりシャドウマスク材
1を製造する際、ローラー等で金属素材を圧延し、例え
ば長尺帯状にするものであり、その際、図5の平面図に
示すようにシャドウマスク材1表面には例えばスジ状ま
たは斑状等の紋様8が形成されているものである。
However, even in the inspection using the above-described automatic inspection machine, the shape inspection of the opening 3 has many errors and is unreliable for the following reasons, and the shape inspection of the opening 3 is difficult. That is, when the shadow mask material 1 is manufactured from a metal material, the metal material is rolled with a roller or the like to have, for example, a long strip shape. At that time, as shown in the plan view of FIG. For example, a streak-like or spot-like pattern 8 is formed.

【0013】また、シャドウマスク材1上に形成された
レジスト膜2は多くの場合半透明状態であり、レジスト
膜2をとおして、図5の平面図に示すように下部のシャ
ドウマスク材1表面の紋様8が透けて見えるものであ
る。すなわち、レジスト膜2は、上述した自動検査機に
よる照射光を透過するものであり、開孔3より露出した
シャドウマスク材1面とレジスト膜2面とのコントラス
トは低いといえる。
In many cases, the resist film 2 formed on the shadow mask material 1 is in a semitransparent state, and the surface of the shadow mask material 1 on the lower surface is seen through the resist film 2 as shown in the plan view of FIG. The pattern 8 is visible. That is, it can be said that the resist film 2 transmits the irradiation light from the above-described automatic inspection machine, and the contrast between the surface of the shadow mask material 1 exposed from the opening 3 and the surface of the resist film 2 is low.

【0014】光源6よりシャドウマスク材1表面に光照
射を行うと、光照射部位では、上述した紋様8が特に強
調されて見えるため、紋様8に開孔3部の輪郭が埋も
れ、上記したような、例えば固体撮像カメラ等よりなる
測定手段7を用いシャドウマスク材表面の光像を測定し
ても、開孔3部の形状を明確に捉えることが困難になっ
ていた。このため、自動検査機による形状検査は不可能
といえ、かりに、形状検査を行っても、所望する形状に
形成された開孔3であっても形状不良と判定される場合
が多く、かつ、レジスト膜2に傷が付き不要な開孔が生
じていても見落とす等、信頼性の低いものであった。
When the surface of the shadow mask material 1 is irradiated with light from the light source 6, the above-mentioned pattern 8 looks particularly emphasized at the light-irradiated portion, so that the outline of the opening 3 is buried in the pattern 8, and However, even if the optical image on the surface of the shadow mask material is measured by using the measuring means 7 including, for example, a solid-state imaging camera, it is difficult to clearly capture the shape of the three openings. Therefore, it can be said that the shape inspection by the automatic inspection machine is impossible, and even if the shape inspection is performed, it is often determined that the shape of the opening 3 formed in the desired shape is defective, and Even if the resist film 2 was scratched and an unnecessary opening was generated, it was overlooked and the reliability was low.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑み、シャドウマスク材上に形成されたレジス
ト膜に、所望された通りに開孔が設けられたか否かを容
易に検査する方法を立案したものであり、シャドウマス
クの検査において検査ミスが無く、かつ、検査効率を向
上したシャドウマスクの検査方法を提供することを目的
としている。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, the present invention can easily inspect whether a resist film formed on a shadow mask material is provided with openings as desired. The present invention is intended to provide a shadow mask inspection method that has no inspection error in the shadow mask inspection and has improved inspection efficiency.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、板
状の金属素材上に感光性樹脂層を塗布形成する工程と、
露光用パターンマスクを介し前記感光性樹脂層にパター
ン露光を行なう工程と、前記感光性樹脂層に現像を行な
い所定パターンに従って一部金属面を露出させた後、硬
膜処理およびバーニング処理を行いレジスト膜とするレ
ジスト膜形成工程と、前記レジスト膜より露出した金属
面をエッチングすることにより、所定パターンに従って
金属素材を貫通する孔を穿孔するエッチング工程とを少
なくとも行うことで得られるシャドウマスクの検査方法
において、前記レジスト膜形成工程後、前記金属素材の
同一面側で対称となる二箇所の位置に設け、かつ前記金
属素材を製造する際に行われた圧延の方向と略平行方向
かつ金属素材面の斜め上方向より前記金属素材面の略同
一部位に光照射を行う光照射手段と、前記光照射部位の
上方に設けた、前記光照射部位のレジスト膜表面の外観
を測定する手段と、前記測定結果から、レジスト膜に形
成された開孔が所望される形状を満たしているかを判定
する手段とを具備することを特徴とするシャドウマスク
の検査方法を提供することで、上記の課題を解決したも
のである。
That is, according to the present invention, there is provided a step of coating and forming a photosensitive resin layer on a plate-shaped metal material,
A step of pattern-exposing the photosensitive resin layer through an exposure pattern mask, and exposing the photosensitive resin layer to expose a part of the metal surface according to a predetermined pattern, and then performing a hardening treatment and a burning treatment to form a resist. Shadow mask inspection method obtained by at least performing a resist film forming step of forming a film and an etching step of forming a hole penetrating a metal material according to a predetermined pattern by etching a metal surface exposed from the resist film In the step of, after the resist film forming step, the metal material is provided at two symmetrical positions on the same side of the metal material, and the metal material surface is substantially parallel to the direction of rolling performed when the metal material is manufactured. A light irradiating means for irradiating light to substantially the same part of the metal material surface from an obliquely upper direction, and a front part provided above the light irradiating part. It is characterized by comprising means for measuring the appearance of the resist film surface at the light irradiation site, and means for judging from the measurement results whether the openings formed in the resist film satisfy the desired shape. The above problem is solved by providing a method for inspecting a shadow mask.

【0017】また、本発明の変形として、前記レジスト
膜形成工程後、レジスト膜の開孔より露出した金属面部
位を整面し表面平滑とする手段と、該金属面部位へ金属
メッキを行い表面平滑かつ高反射率の識別層を形成する
手段と、金属メッキ処理後、前記金属素材の同一面側で
対称となる二箇所の位置に設け、かつ前記金属素材を製
造する際に行われた圧延の方向と略平行方向かつ金属素
材面の斜め上方向より前記金属素材面の略同一部位に光
照射を行う光照射手段と、前記光照射部位の上方に設け
た、前記光照射部位のレジスト膜表面の外観を測定する
手段と、前記測定結果から、レジスト膜に形成された開
孔が所望される形状を満たしているかを判定する手段と
を具備することを特徴とするシャドウマスクの検査方法
とすることも、上記の課題を解決する手段として有効と
いえる。
Further, as a modification of the present invention, after the resist film forming step, means for smoothing the surface of the metal surface exposed from the openings of the resist film to smooth the surface, and metal plating the surface of the metal surface A means for forming an identification layer having a smooth and high reflectance and, after metal plating treatment, provided at two positions symmetrical with each other on the same surface side of the metal material, and rolling performed when manufacturing the metal material. Light irradiation means for irradiating light on substantially the same portion of the metal material surface from a direction substantially parallel to the direction of the metal material and obliquely above the metal material surface, and a resist film of the light irradiation portion provided above the light irradiation portion. A method for inspecting a shadow mask, comprising: a means for measuring the appearance of the surface; and a means for determining, from the measurement result, whether or not the openings formed in the resist film satisfy a desired shape. Can also be on It said effective as means for solving the problems.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき、
説明する。本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検
討を行い、まず、自動検査機による検査を困難なものと
している、シャドウマスク材1表面の紋様8に着目した
ものである。前述したように、シャドウマスク材1表面
のスジ状または斑状等の紋様8は、金属素材への圧延の
際に形成されるが、紋様8は微小な凹凸が集まって形成
されているものであり、各凹凸は金属素材への圧延の方
向に応じた共通する形状部位を持っているものである。
すなわち、図4に示すように、シャドウマスク材1表面
の各凹凸12は圧延方向と略平行方向の面となった側壁13
を持つものであり、自動検査の際、光源6より照射され
た照射光が側壁13に当たることで、陰影または光反射を
生じ、これにより、光照射時に紋様8が強調されると推
定したものである。なお、図4においては、シャドウマ
スク材1への圧延は紙面垂直方向に行われているもので
ある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The embodiments of the present invention will be described below.
explain. The inventors of the present invention have made earnest studies to achieve the above-mentioned object, and first focused on the pattern 8 on the surface of the shadow mask material 1, which makes inspection by an automatic inspection machine difficult. As described above, the stripe-like or spot-like pattern 8 on the surface of the shadow mask material 1 is formed during rolling of the metal material, but the pattern 8 is formed by collecting fine irregularities. The irregularities have a common shape part depending on the rolling direction of the metal material.
That is, as shown in FIG. 4, each unevenness 12 on the surface of the shadow mask material 1 is a side wall 13 which is a surface substantially parallel to the rolling direction.
In the automatic inspection, it is presumed that the irradiation light emitted from the light source 6 hits the side wall 13 to cause a shadow or light reflection, whereby the pattern 8 is emphasized during the light irradiation. is there. In FIG. 4, the rolling to the shadow mask material 1 is performed in the direction perpendicular to the paper surface.

【0019】そこで、本発明者らは、上述したように各
凹凸12が圧延の方向に応じた共通する形状部位を持つこ
とから、光照射時の光照射方向に着目し本発明にいたっ
たものである。すなわち、各凹凸12の側壁13は圧延方向
と略平行方向の面となっているため、圧延方向と略同一
の方向より光照射を行えば、照射光は側壁13に当たらな
いといえる。その結果、従来の光照射時に生じていた、
壁面13による陰影、または、光反射が生じず、これによ
り紋様8の強調が行われないと推定し、本発明にいたっ
たものである。
Therefore, the present inventors have reached the present invention by paying attention to the light irradiation direction at the time of light irradiation, because each unevenness 12 has a common shape portion corresponding to the rolling direction as described above. Is. That is, since the side wall 13 of each unevenness 12 is a surface in a direction substantially parallel to the rolling direction, it can be said that the irradiation light does not strike the side wall 13 if light irradiation is performed in a direction substantially the same as the rolling direction. As a result, when using conventional light irradiation,
The present invention is based on the presumption that the pattern 8 is not emphasized due to the fact that the wall surface 13 does not cause a shadow or light reflection.

【0020】図1は本発明の実施形態を示す説明図であ
る。図中のシャドウマスク材1は前述した(従来の技
術)の項に記した工程に従い、硬膜処理まで終了し、開
孔3が形成されたレジスト膜2を有しているものであ
る。レジスト膜2に形成された開孔形状の検査は、従来
通り、例えば高周波蛍光灯等を光源6としてシャドウマ
スク材1面に光照射を行い、光照射部位の開孔3の輪郭
形状を、光源6と同一面側の光照射部位の上方に設け
た、光照射部位のレジスト膜表面の外観を測定する測定
手段7、例えば固体撮像カメラ等で光像として受け、こ
の光像を電気信号に変換後、電気信号を例えばコンピュ
ータ等の判定手段11で受け、判定手段11は孔が所望され
るものか、または、傷か否かを検査判定するものであ
る。
FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of the present invention. The shadow mask material 1 in the figure has a resist film 2 in which openings 3 have been formed after completion of the film hardening process in accordance with the steps described in the above (Prior Art). In the inspection of the opening shape formed in the resist film 2, light irradiation is performed on the surface of the shadow mask material 1 by using, for example, a high-frequency fluorescent lamp as a light source 6, and the contour shape of the opening 3 at the light irradiation portion is determined as in the conventional light source. 6, which is provided above the light irradiation site on the same surface as 6, and receives as a light image by a measuring means 7, such as a solid-state imaging camera, which measures the appearance of the resist film surface of the light irradiation site, and converts this light image into an electric signal. After that, an electric signal is received by the judging means 11 such as a computer, and the judging means 11 is for judging whether the hole is a desired one or a flaw.

【0021】なお、自動検査機の検査判定方式として
は、例えば(従来の技術)の項に記した比較検査法とす
るものである。すなわち、一定領域内、例えば光照射領
域内の隣接する複数の開孔3同志の輪郭形状の比較を行
うことで、他の開孔3と異なる輪郭形状を持つ開孔3を
不良として抽出する方法であり、これを形状検査が必要
とされるシャドウマスクの全領域について行なうもので
ある。また、検査部位を移動する場合、光源6と測定手
段7とを連動して駆動手段(図示せず)によりシャドウ
マスク材1上を移動させるか、または、光源6と測定手
段7との位置を固定し、シャドウマスク材1を駆動手段
(図示せず)により移動させるものであり、一連の検査
および移動の処理は、例えば判定手段11により制御する
ものである。
The inspection determination method of the automatic inspection machine is, for example, the comparative inspection method described in the section (Prior Art). That is, by comparing the contour shapes of a plurality of adjacent openings 3 in a certain area, for example, the light irradiation area, a method of extracting an opening 3 having a different contour shape from other openings 3 as a defect. This is done for all areas of the shadow mask for which shape inspection is required. Further, when moving the inspection site, the light source 6 and the measuring means 7 are interlocked with each other and moved on the shadow mask material 1 by a driving means (not shown), or the positions of the light source 6 and the measuring means 7 are moved. The shadow mask material 1 is fixed and moved by a driving means (not shown), and a series of inspection and movement processes are controlled by the judging means 11, for example.

【0022】ここで本発明の検査方法では、図1中に示
すように光源6を、シャドウマスク材1を製造する際に
行われた圧延の方向と略同一方向かつシャドウマスク材
1面の斜め上方向に設けている。また、光源6は、前記
金属素材の同一面側で対称となる二箇所の位置に設け、
シャドウマスク材1面の略同一部位に光照射を行うもの
である。
Here, in the inspection method of the present invention, as shown in FIG. 1, the light source 6 is set in a direction substantially the same as the rolling direction performed when the shadow mask material 1 is manufactured and at an angle to the surface of the shadow mask material 1. It is provided in the upper direction. Further, the light source 6 is provided at two symmetrical positions on the same surface of the metal material,
Light irradiation is performed on substantially the same portion of the surface of the shadow mask material.

【0023】上述したように、シャドウマスク材1を製
造する際に行われた圧延の方向と略同一方向より光照射
を行うことにより、圧延の際に形成された凹凸12の、圧
延方向と略平行方向の面となった側壁13に光が直接当た
らず、側壁13による陰影または光反射が生じず、紋様8
の強調が行われない。これにより、レジスト膜2に形成
された開孔3部の輪郭形状を捕らえることが可能とな
る。
As described above, by irradiating the light in the same direction as the rolling direction performed when the shadow mask material 1 is manufactured, the unevenness 12 formed during rolling is approximately the same as the rolling direction. The side wall 13 which is a parallel surface is not directly exposed to light, and the side wall 13 does not cause a shadow or light reflection.
Is not emphasized. This makes it possible to capture the contour shape of the openings 3 formed in the resist film 2.

【0024】また、シャドウマスク材1面の斜め上方向
より光照射を行うが、シャドウマスク材1面への照射角
度Xが小さい場合、入射光がシャドウマスク材1面で正
反射を起こしやすくなり、シャドウマスク材1面の上方
へ向かう光量が減り、測定手段7で光像を捕らえ難くな
る。また、シャドウマスク材1面へ垂直に光照射が行わ
れた場合、シャドウマスク材1表面の紋様8が強調さ
れ、開孔3部の輪郭形状との見分けが難しくなるもので
ある。このため、シャドウマスク材1面への光照射角度
Xは、15°以上かつ90°未満とすることが望ましい
ことを本発明者らは、経験的に見いだしているものであ
る。
Further, light irradiation is performed obliquely above the surface of the shadow mask material 1. If the irradiation angle X on the surface of the shadow mask material 1 is small, the incident light is likely to be specularly reflected on the surface of the shadow mask material. The amount of light that goes upward on the surface of the shadow mask material 1 decreases, and it becomes difficult for the measuring means 7 to capture an optical image. Further, when the surface of the shadow mask material 1 is vertically irradiated with light, the pattern 8 on the surface of the shadow mask material 1 is emphasized, and it is difficult to distinguish it from the contour shape of the three openings. Therefore, the present inventors have empirically found that the light irradiation angle X on the surface of the shadow mask material 1 is preferably 15 ° or more and less than 90 °.

【0025】次いで、本発明では、図1に示すように、
シャドウマスク材1の同一面側に、シャドウマスク材1
面への光照射部位をもとに対称となる二箇所の位置に光
源6を設けている。この各光源6により、シャドウマス
ク材1の圧延の方向と略平行方向かつシャドウマスク材
1面の斜め上方向より、シャドウマスク材1面の略同一
部位に、シャドウマスク材1面に対し略同一の入射角度
Xにて光照射を行うものである。すなわち、上述したよ
うに、レジスト膜2は多くの場合半透明状態であるた
め、開孔3部と開孔3より露出したシャドウマスク材1
面との区別はつき難いものであった。そこで、図2に示
すように、斜め二方向から光照射を行うことで、レジス
ト膜2に形成された開孔3の側面14に陰影が生じず、か
つ、側面14が全周囲に渡って反射して光るため、開孔3
の輪郭部にコントラストがつき、開孔3の輪郭形状がよ
り明瞭となる。その結果、自動検査機はレジスト膜2の
開孔3の輪郭を容易に識別するものである。
Next, in the present invention, as shown in FIG.
On the same side of the shadow mask material 1, the shadow mask material 1
The light sources 6 are provided at two positions that are symmetrical with respect to the light irradiation site on the surface. With each of the light sources 6, from the direction substantially parallel to the rolling direction of the shadow mask material 1 and the obliquely upward direction of the surface of the shadow mask material 1, the shadow mask material 1 surface is substantially the same portion and substantially the same as the shadow mask material 1 surface. The light irradiation is performed at the incident angle X of. That is, as described above, since the resist film 2 is in a semitransparent state in many cases, the openings 3 and the shadow mask material 1 exposed from the openings 3 are formed.
It was difficult to distinguish from the surface. Therefore, as shown in FIG. 2, by irradiating light from two oblique directions, the side surface 14 of the opening 3 formed in the resist film 2 is not shaded, and the side surface 14 is reflected over the entire circumference. To shine and then open hole 3
The contour of the open area 3 has contrast, and the contour shape of the opening 3 becomes clearer. As a result, the automatic inspection machine easily identifies the contour of the opening 3 in the resist film 2.

【0026】次いで、すでに本発明者らは、レジスト膜
2に形成された開孔3から露出したシャドウマスク材1
面を整面後、露出部位に金属メッキを行った後、従来通
りの自動検査を行う方法を提案しているものであるが、
この方法を援用し、開孔3から露出したシャドウマスク
材1面を整面後、露出部位に金属メッキを行った後、図
1に記した本発明による検査を行うことも、本課題の解
決手段として有効といえる。
Next, the inventors of the present invention have already exposed the shadow mask material 1 exposed through the openings 3 formed in the resist film 2.
It proposes a conventional automatic inspection method after the surface is trimmed and the exposed area is metal-plated.
Using this method, the surface of the shadow mask material 1 exposed from the openings 3 is surface-aligned, the exposed portion is metal-plated, and then the inspection according to the present invention shown in FIG. 1 is performed. It can be said that it is effective as a means.

【0027】すなわち、レジスト膜2が半透明状態で、
開孔3より露出したシャドウマスク材1面とレジスト膜
2面とのコントラストが低いため、開孔3部位に金属メ
ッキを行い、開孔3部位と他のシャドウマスク材1面と
のコントラストをつけ、開孔3の輪郭形状を明確にする
ものであり、以下に図面を用い説明を行う。
That is, when the resist film 2 is semitransparent,
Since the contrast between the surface of the shadow mask material 1 exposed from the opening 3 and the surface of the resist film 2 is low, metal plating is performed on the portion of the opening 3 to provide contrast between the portion of the opening 3 and other surface of the shadow mask material. The outline shape of the opening 3 is clarified, and will be described below with reference to the drawings.

【0028】金属メッキを行ったうえで検査を行う方法
は、連続した長尺帯状のシャドウマスク材からの抜き取
り検査とするものである。まず、製造工程より抜き出し
た、図3(a)に示す開孔3を有するレジスト膜2が形
成されたシャドウマスク材1に対しプリエッチングを行
ない、図3(b)に示すように、開孔3部から露出した
シャドウマスク材1部位の整面を行なう。上述したよう
に、シャドウマスク材1表面には微小な凹凸が有る。後
述するように、本発明では開孔3部から露出したシャド
ウマスク材1部位に金属メッキを行なうが、凹凸の有る
シャドウマスク材1表面上にそのまま金属メッキを行う
と、下部の凹凸に対応して金属メッキ表面も凹凸を形成
してしまう。そこで、開孔3から露出したシャドウマス
ク材1にプリエッチング、すなわち、極わずかにエッチ
ングを行ない整面することで、表面の微小な凹凸を溶解
除去し、平滑な露出表面としている。
The method of conducting the inspection after the metal plating is performed is a sampling inspection from a continuous long strip-shaped shadow mask material. First, pre-etching is performed on the shadow mask material 1 extracted from the manufacturing process and having the resist film 2 having the openings 3 shown in FIG. 3 (a), and as shown in FIG. The shadow mask material 1 part exposed from 3 parts is subjected to surface conditioning. As described above, the surface of the shadow mask material 1 has minute irregularities. As will be described later, in the present invention, the portion of the shadow mask material 1 exposed from the three holes is metal-plated. As a result, the metal plating surface also has irregularities. Therefore, the shadow mask material 1 exposed from the openings 3 is subjected to pre-etching, that is, etching is performed slightly to adjust the surface to dissolve and remove the minute irregularities on the surface to form a smooth exposed surface.

【0029】次いで、シャドウマスク材1に金属メッ
キ、例えば電気メッキ等を行なうことで、図3(c)に
示すように、開孔3から露出した、すなわち、レジスト
膜2から露出したシャドウマスク材1部位のみに金属メ
ッキを施し、表面平滑かつ高反射率の金属メッキ層10を
識別層として設ける。
Next, the shadow mask material 1 is subjected to metal plating, such as electroplating, to expose the shadow mask material 1 from the openings 3, that is, the resist film 2 as shown in FIG. 3C. Metal plating is applied to only one site, and a metal plating layer 10 having a smooth surface and high reflectance is provided as an identification layer.

【0030】次いで、金属メッキの終了したシャドウマ
スク材1に対し、上述した図1の説明で記したように、
シャドウマスク材1を製造する際に行われた圧延の方向
と略同一方向かつシャドウマスク材1面の斜め上方二方
向より光照射を行い検査を行なうものである。
Next, for the shadow mask material 1 on which the metal plating has been completed, as described in the description of FIG. 1 above,
The inspection is performed by irradiating light from substantially the same direction as the rolling direction performed when the shadow mask material 1 is manufactured and two directions obliquely above the surface of the shadow mask material 1.

【0031】表面平滑かつ高反射率の金属メッキ層10は
照射された光を効率よく反射して光り、レジスト膜とメ
ッキ部、すなわち、レジスト膜の開孔部領域とのコント
ラストが強調され、開孔3部と他のレジスト膜部位との
区別が容易につくようになり、かつ、圧延の方向と略同
一方向より光照射を行うことで、開孔3部位以外のシャ
ドウマスク材1面の紋様8が目立たなくなる。しかも、
上述したように斜め二方向より光照射を行うことで開孔
3の側面14に陰影が生じず、かつ、側面14が全周囲に渡
って反射して光り、開孔3の輪郭形状はより明確となる
ものである。その結果、自動検査機がレジスト膜2の開
孔3の輪郭を容易に識別できるようになる。
The metal plating layer 10 having a smooth surface and a high reflectance efficiently reflects the radiated light and shines to emphasize the contrast between the resist film and the plated portion, that is, the opening portion area of the resist film. The holes 3 and other resist film parts can be easily distinguished, and the pattern of the shadow mask material 1 surface other than the holes 3 parts can be obtained by irradiating light in the same direction as the rolling direction. 8 becomes unnoticeable. Moreover,
As described above, by irradiating light from two oblique directions, the side surface 14 of the opening 3 is not shaded, and the side surface 14 reflects and shines over the entire circumference, so that the contour shape of the opening 3 is clearer. It will be. As a result, the automatic inspection machine can easily identify the contour of the opening 3 in the resist film 2.

【0032】なお、本発明によるシャドウマスクの検査
方法の実施の形態は、上述した図1の形態に限定される
ものではなく、本発明の趣旨に基づき種々の変形を行っ
ても構わないことはいうまでもない。例えば、説明を簡
略にするため図1ではシャドウマスク材1の片面のみ記
しているが、シャドウマスク材1の両面で同様の検査を
行っても構わないといえる。
The embodiment of the method for inspecting a shadow mask according to the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment shown in FIG. 1, and various modifications may be made based on the spirit of the present invention. Needless to say. For example, although only one surface of the shadow mask material 1 is shown in FIG. 1 for simplification of description, it can be said that the same inspection may be performed on both surfaces of the shadow mask material 1.

【0033】[0033]

【発明の効果】本発明のシャドウマスクの検査方法にお
いては、圧延の方向と略同一方向より光照射を行うこと
で、シャドウマスク材1表面に有る紋様8を目立たなく
し、かつ、斜め二方向より光照射を行うことで開孔3の
輪郭を反射により光らせ明確にすることで、自動検査機
はレジスト膜2の開孔3の輪郭形状を容易に識別でき、
レジスト膜2に設けられた開孔3の形状検査に、例えば
比較検査方式の自動検査機を用いることが可能となる。
In the method for inspecting a shadow mask of the present invention, the pattern 8 on the surface of the shadow mask material 1 is made inconspicuous by irradiating the light in a direction substantially the same as the rolling direction, and the pattern 8 is inclined in two directions. By illuminating and clarifying the outline of the opening 3 by reflection, the automatic inspection machine can easily identify the outline shape of the opening 3 of the resist film 2,
For the shape inspection of the openings 3 provided in the resist film 2, it is possible to use, for example, a comparative inspection type automatic inspection machine.

【0034】このため、レジスト膜2に形成された開孔
3の形状検査を機械的に行えることで、検査効率および
検査精度が向上し、かつ、人手により検査した場合に生
じる検査モレもなく、また、検査員の技量に左右される
こともなく検査ができる。
Therefore, the shape of the opening 3 formed in the resist film 2 can be mechanically inspected, so that the inspection efficiency and inspection accuracy are improved, and there is no inspection leakage that occurs when the inspection is performed manually. Further, the inspection can be performed without being influenced by the skill of the inspector.

【0035】また、従来はレジスト膜2に設けられた開
孔3の形状検査が困難であったため、例えば露光用パタ
ーンマスクの欠陥等を起因とし、レジスト膜が形状不良
の開孔をもっていても、最終エッチング工程後にその不
良が発見され、不良発見時点で、すでに共通欠陥を持つ
多くのシャドウマスク材1がエッチングされている場合
が多かった。しかし本発明では、エッチング工程前の、
開孔を持つレジスト膜が形成された時点でレジスト膜に
開孔された孔の形状検査を行なうことができ、不良が発
見された場合、速やかに不良を取り除く処置を行なうこ
とが可能となる。これにより、従来発生していた材料資
材のロスおよび製造工程への負担を防止できるといえ
る。
Further, conventionally, it was difficult to inspect the shape of the opening 3 formed in the resist film 2. Therefore, even if the resist film has an opening having a defective shape due to, for example, a defect of the exposure pattern mask, In many cases, the defect was discovered after the final etching step, and many shadow mask materials 1 having common defects were already etched at the time of finding the defect. However, in the present invention, before the etching step,
When the resist film having holes is formed, the shape of the holes formed in the resist film can be inspected, and when a defect is found, it is possible to quickly remove the defect. Therefore, it can be said that the loss of material and the burden on the manufacturing process, which have occurred conventionally, can be prevented.

【0036】また従来は、エッチング工程後に不良を発
見しても、その不良がレジスト膜2の開孔不良によるも
のか、またはエッチング工程内の要因等他の要因による
ものかの判断が難しかった。しかし、本発明では、レジ
スト膜に開孔された孔の検査を行なうことで、エッチン
グ工程には不良の無いレジスト膜を持つシャドウマスク
材を流せることになる。これにより、エッチング後に発
見された不良は、エッチング工程内の要因等により生じ
たものと判断でき、不良防止すなわち工程改善の範囲を
狭められることで対処を速やかに行うことが可能となる
等、品質の良いシャドウマスクを得る上で本発明は実用
上優れているといえる。
Further, conventionally, even if a defect is found after the etching process, it is difficult to judge whether the defect is due to a defective opening of the resist film 2 or due to other factors such as a factor in the etching process. However, in the present invention, by inspecting the holes formed in the resist film, the shadow mask material having a resist film having no defect can be flowed in the etching process. As a result, it is possible to judge that the defects found after etching are caused by factors in the etching process, and it is possible to prevent defects, that is, to narrow down the range of process improvement, so that it is possible to take prompt measures. It can be said that the present invention is practically excellent in obtaining a good shadow mask.

【0037】[0037]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるシャドウマスクの検査方法の一実
施例の要部を示す説明図。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a main part of an embodiment of a shadow mask inspection method according to the present invention.

【図2】本発明によるシャドウマスクの検査方法の一実
施例の要部を示す断面説明図。
FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view showing a main part of an embodiment of a shadow mask inspection method according to the present invention.

【図3】(a)〜(c)は本発明によるシャドウマスク
の検査方法の他の実施例の要部を工程順に示す説明図。
FIGS. 3A to 3C are explanatory views showing a main part of another embodiment of the method for inspecting a shadow mask according to the present invention in the order of steps.

【図4】シャドウマスク材に形成された凹凸の一例を示
す拡大断面図。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing an example of unevenness formed on a shadow mask material.

【図5】シャドウマスク材表面の紋様の一例を示す平面
説明図。
FIG. 5 is an explanatory plan view showing an example of a pattern on the surface of a shadow mask material.

【図6】自動検査機の原理の一例を示す説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram showing an example of the principle of an automatic inspection machine.

【図7】(a)〜(e)はシャドウマスクの製造方法の
一例を工程順に示す説明図。
7A to 7E are explanatory views showing an example of a method of manufacturing a shadow mask in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シャドウマスク材 2 レジスト膜 3 開孔 4 エッチング防止層 5 シャドウマスク 6 光源 7 測定手段 8 紋様 9 開口 10 金属メッキ層 11 判定手段 12 凹凸 13 側壁 14 側面 1 Shadow mask material 2 Resist film 3 holes 4 Etching prevention layer 5 shadow mask 6 light source 7 Measuring means 8 patterns 9 openings 10 Metal plating layer 11 Judgment means 12 unevenness 13 Side wall 14 sides

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 9/42 H01J 9/14 G01N 21/88 G01M 11/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01J 9/42 H01J 9/14 G01N 21/88 G01M 11/00

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】板状の金属素材上に感光性樹脂層を塗布形
成する工程と、露光用パターンマスクを介し前記感光性
樹脂層にパターン露光を行なう工程と、前記感光性樹脂
層に現像を行ない所定パターンに従って一部金属面を露
出させた後、硬膜処理およびバーニング処理を行いレジ
スト膜とするレジスト膜形成工程と、前記レジスト膜よ
り露出した金属面をエッチングすることにより、所定パ
ターンに従って金属素材を貫通する孔を穿孔するエッチ
ング工程とを少なくとも行うことで得られるシャドウマ
スクの検査方法において、前記レジスト膜形成工程後、
前記金属素材の同一面側で対称となる二箇所の位置に設
け、かつ前記金属素材を製造する際に行われた圧延の方
向と略平行方向かつ金属素材面の斜め上方向より前記金
属素材面の略同一部位に光照射を行う光照射手段と、前
記光照射部位の上方に設けた、前記光照射部位のレジス
ト膜表面の外観を測定する手段と、前記測定結果から、
レジスト膜に形成された開孔が所望される形状を満たし
ているかを判定する手段とを具備することを特徴とする
シャドウマスクの検査方法。
1. A step of coating and forming a photosensitive resin layer on a plate-shaped metal material, a step of performing pattern exposure on the photosensitive resin layer through an exposure pattern mask, and a step of developing the photosensitive resin layer. After a part of the metal surface is exposed according to a predetermined pattern, a resist film forming step of performing a hardening process and a burning process to form a resist film, and a metal surface exposed from the resist film is etched to form a metal according to the predetermined pattern. In a shadow mask inspection method obtained by performing at least an etching step of forming a hole penetrating a material, after the resist film forming step,
The metal material surface is provided at two symmetrical positions on the same side of the metal material, and is substantially parallel to the direction of rolling performed when the metal material is manufactured and diagonally above the metal material surface. Light irradiation means for irradiating light to substantially the same portion, a means for measuring the appearance of the resist film surface of the light irradiation portion provided above the light irradiation portion, and from the measurement result,
A method for inspecting a shadow mask, comprising: a means for determining whether an opening formed in a resist film has a desired shape.
【請求項2】前記レジスト膜形成工程後、レジスト膜の
開孔より露出した金属面部位を整面し表面平滑とする手
段と、該金属面部位へ金属メッキを行い表面平滑かつ高
反射率の識別層を形成する手段と、金属メッキ処理後、
前記金属素材の同一面側で対称となる二箇所の位置に設
け、かつ前記金属素材を製造する際に行われた圧延の方
向と略平行方向かつ金属素材面の斜め上方向より前記金
属素材面の略同一部位に光照射を行う光照射手段と、前
記光照射部位の上方に設けた、前記光照射部位のレジス
ト膜表面の外観を測定する手段と、前記測定結果から、
レジスト膜に形成された開孔が所望される形状を満たし
ているかを判定する手段とを具備することを特徴とする
請求項1記載のシャドウマスクの検査方法。
2. A means for smoothing the surface of a metal surface exposed from the opening of the resist film by smoothing the surface after the resist film forming step, and metal plating the surface of the metal surface for smooth surface and high reflectance. Means for forming an identification layer, and after metal plating treatment,
The metal material surface is provided at two symmetrical positions on the same side of the metal material, and is substantially parallel to the direction of rolling performed when the metal material is manufactured and diagonally above the metal material surface. Light irradiation means for irradiating light to substantially the same portion, a means for measuring the appearance of the resist film surface of the light irradiation portion provided above the light irradiation portion, and from the measurement result,
The shadow mask inspecting method according to claim 1, further comprising means for determining whether or not the openings formed in the resist film satisfy a desired shape.
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