JP3396773B2 - Method for manufacturing active matrix type liquid crystal display element - Google Patents

Method for manufacturing active matrix type liquid crystal display element

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JP3396773B2
JP3396773B2 JP15440297A JP15440297A JP3396773B2 JP 3396773 B2 JP3396773 B2 JP 3396773B2 JP 15440297 A JP15440297 A JP 15440297A JP 15440297 A JP15440297 A JP 15440297A JP 3396773 B2 JP3396773 B2 JP 3396773B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はAV機器およびパソ
コンやワープロ等の平面ディスプレイに使用される液晶
表示素子、特に表示特性に視野角依存性の少ない横電界
モードのアクティブマトリクス型液晶表示素子の製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device used for flat panel displays of AV equipment and personal computers, word processors, etc., and in particular, production of a horizontal electric field mode active matrix liquid crystal display device having little viewing angle dependence on display characteristics. It is about the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子は、液晶テレビ,パソコ
ン,ワープロ等に応用されており、最近ではOA用ディ
スプレイやプロジェクションTVとしても広く使用さ
れ、その表示品位は年々向上している。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices have been applied to liquid crystal televisions, personal computers, word processors, etc., and have recently been widely used as OA displays and projection TVs, and their display quality has been improving year by year.

【0003】特にスイッチング素子として薄膜トランジ
スタ(以下、TFTという)を用いたアクティブマトリ
クス型方式のTwisted Nematic液晶表示
装置は大容量の表示を行っても高いコントラストが保た
れるという大きな特徴を持ち、特に近年市場要望の極め
て高い、ラップトップパソコンやノートパソコン、さら
には、エンジニアリングワークステーション用の大型,
大容量フルカラーディスプレイの中心として開発,商品
化が盛んである。
In particular, an active matrix type twisted nematic liquid crystal display device using a thin film transistor (hereinafter referred to as a TFT) as a switching element has a great feature that a high contrast is maintained even when a large capacity display is carried out. Very large market demand for laptops and laptops, as well as large engineering workstations,
It is being actively developed and commercialized as the center of a large-capacity full-color display.

【0004】このようなアクティブマトリクス方式の液
晶表示素子において、広く用いられている液晶表示モー
ドに、Twisted Nematic(以下、TNと
いう)方式がある。TN方式は液晶層を挟持する電極基
板間で液晶分子が90°捻れた構造をとるパネルを2枚
の偏光板により挟んだものである。電極基板間に電圧を
印加すると液晶分子は捻れ構造をほどきながら電界の向
きに配列しようとし、この分子の配列状態により、パネ
ルを透過してくる光の偏光状態が変わり、光の透過率が
変調されるからである。しかし、同じ分子配列状態で
も、液晶パネルに入射してくる光の入射方向によって透
過光の偏光状態は変化するので、入射方向に対応して光
の透過率は異なってくる。すなわち、液晶パネルの特性
は視角依存性を持つ。この視角特性は主視角方向すなわ
ち液晶層の中間層における液晶分子の長軸方向に対し視
点を斜めに傾けると輝度の逆転現象を引き起こす。すな
わち、この表示モードの場合、ある電圧の時の表示輝度
が、それより低い電圧時の輝度より明るくなる現象をい
い、特に黒表示のため高電圧を印加した時の輝度逆転現
象は、液晶パネルの画質上、重要な課題となっている。
In such an active matrix type liquid crystal display element, a Twisted Nematic (hereinafter referred to as TN) type is widely used as a liquid crystal display mode. In the TN method, a panel having a structure in which liquid crystal molecules are twisted by 90 ° is sandwiched between two polarizing plates between electrode substrates sandwiching a liquid crystal layer. When a voltage is applied between the electrode substrates, the liquid crystal molecules try to align themselves in the direction of the electric field while unwinding the twisted structure, and the alignment state of these molecules changes the polarization state of the light that passes through the panel, thus increasing the light transmittance. This is because it is modulated. However, even in the same molecular arrangement state, the polarization state of the transmitted light changes depending on the incident direction of the light incident on the liquid crystal panel, so that the light transmittance varies depending on the incident direction. That is, the characteristics of the liquid crystal panel have a viewing angle dependency. This viewing angle characteristic causes a phenomenon of brightness inversion when the viewpoint is tilted obliquely with respect to the main viewing angle direction, that is, the long axis direction of the liquid crystal molecules in the intermediate layer of the liquid crystal layer. That is, in this display mode, it means that the display brightness at a certain voltage becomes brighter than that at a lower voltage. Especially, the brightness reversal phenomenon when a high voltage is applied for black display is caused by the liquid crystal panel. Has become an important issue in terms of image quality.

【0005】この課題を解決するために、TN型液晶表
示方式のように基板垂直方向に電界を印加するのではな
く、液晶に印加する方向を基板に対してほぼ平行な方向
とする横電界方式があり、例えば特公昭63−2190
7号や特開平6−160878号により開示されてい
る。一般的な横電界方式の液晶表示素子は、櫛形状の画
素電極と共通電極が咬合された電極基板と対向基板に液
晶が挟持されたパネルを2枚の偏光板で挟んだ構造であ
る。ここで、画素電極と共通電極間に電圧を印加するこ
とによって、電極間の液晶の分子配列を平面的に変化さ
せ、光の透過率を変調し画像を表示する。この横電界方
式では液晶分子の配列変化が電極基板に対して平行に変
化することから、光の変調の視野角依存性が少ない。
In order to solve this problem, instead of applying an electric field in the direction perpendicular to the substrate as in the TN type liquid crystal display system, a lateral electric field system in which the direction applied to the liquid crystal is substantially parallel to the substrate. There is, for example, Japanese Examined Patent Publication Sho 63-2190
No. 7 and JP-A-6-160878. A general horizontal electric field type liquid crystal display element has a structure in which a panel in which liquid crystal is sandwiched between an electrode substrate in which a comb-shaped pixel electrode and a common electrode are engaged and a counter substrate is sandwiched by two polarizing plates. Here, by applying a voltage between the pixel electrode and the common electrode, the molecular alignment of the liquid crystal between the electrodes is changed in a plane, and the light transmittance is modulated to display an image. In this lateral electric field method, since the alignment change of liquid crystal molecules changes in parallel to the electrode substrate, the viewing angle dependence of light modulation is small.

【0006】TN型および横電界型のいずれにおいて
も、液晶を配向させる手段としては、電極基板上に形成
したポリイミド等の配向層表面を樹脂繊維布を用いて擦
るラビング法が一般的に行われている。一般的なラビン
グ法は、毛足1〜5mm程度のレーヨンやナイロン布を
巻き付けたロールを回転させ、毛先が0.1〜0.5m
m程度触れるような状態で基板もしくはロールを移動さ
せ、基板全面を処理する。このラビング法によって、毛
先が基板を擦った方向に液晶の配向方位が決まる。
In both the TN type and the in-plane switching type, a rubbing method of rubbing the surface of an alignment layer such as polyimide formed on an electrode substrate with a resin fiber cloth is generally used as a means for aligning liquid crystals. ing. A general rubbing method is to rotate a roll around rayon or nylon cloth having a hair length of about 1 to 5 mm, and the tip of the hair is 0.1 to 0.5 m.
The entire surface of the substrate is processed by moving the substrate or roll while touching it for about m. By this rubbing method, the orientation direction of the liquid crystal is determined in the direction in which the tips of the hairs rub the substrate.

【0007】基板のラビング時には、基板端面の影響
や、実際のアクティブマトリクス型液晶表示素子用のT
FTアレイ基板上に形成されている画素電極や外部駆動
回路から電気信号を受けるための電極引き出し電極や信
号を基板内部に伝えるための信号配線電極のため約0.
1〜1μmの凹凸段差の影響により、図4に示すように
ラビングロール41に巻き付けたラビング布42を回転
させ、基板43を矢印44の方向にラビング処理を行う
と基板端面や段差部が擦られることによって毛先がより
分けられ、ラビング布42の毛に偏在部45が発生す
る。
At the time of rubbing the substrate, the influence of the end face of the substrate and the T for the actual active matrix type liquid crystal display element are used.
The pixel electrode formed on the FT array substrate and the electrode extraction electrode for receiving an electric signal from the external drive circuit and the signal wiring electrode for transmitting the signal to the inside of the substrate have a thickness of about 0.
When the rubbing cloth 42 wound around the rubbing roll 41 is rotated and the substrate 43 is rubbed in the direction of the arrow 44 as shown in FIG. 4 due to the influence of the unevenness of 1 to 1 μm, the substrate end face and the stepped portion are rubbed. As a result, the bristle tips are further separated, and unevenly distributed portions 45 are generated in the bristles of the rubbing cloth 42.

【0008】また、図5(A)はラビング工程の概略
図、図5(B)はその要部拡大図であり、回転させたラ
ビングロール51に巻き付けたラビング布52に電極基
板53を矢印54の方向に移動させラビング処理を行
う。この時の1本の毛55の直径は10〜30μmが一
般的であり、毛先が矢印56の方向へ電極基板53を擦
る時、電極基板53上に形成された画素電極等の凸部5
7の前後には、布が擦れない領域、すなわち、液晶の配
向方向が規定できない非配向領域58ができる。この非
配向領域58は図6に示すような一般的なTNモードの
液晶表示素子では、対向基板61に設けた遮光層62
が、アレイ基板63に形成した電極や配線部の凸部64
によって発生する非配向領域65が隠れるように貼り合
わされるため、非配向領域65が表示品位に影響しな
い。ここで、66は対向共通電極、67は液晶層、68
は配向層、69はカラーフィルター層、610は画素電
極を示している。しかしながら、図7に示すような一般
的な横電界型の液晶表示素子では、光透過量をより大き
くとるために、対向基板71に形成する遮光層72は、
配線段差部73のみを隠すように配置され貼り合わされ
る。よって、アレイ基板74を形成した画素電極である
櫛形状電極の段差部75に発生する非配向領域76は、
対向基板71の遮光層72に完全には隠れず、非配向領
域76が表示品位に直接影響する。すなわち、部分的な
非配向領域76の大きさの違いが存在すると、表示不良
となる。ここで、77は配向層、78はカラーフィルタ
ー層、79は液晶層を示している。
FIG. 5 (A) is a schematic view of the rubbing process, and FIG. 5 (B) is an enlarged view of the main part thereof. The rubbing cloth 52 wound around the rotated rubbing roll 51 has the electrode substrate 53 and the arrow 54. The rubbing process is performed by moving in the direction of. The diameter of one bristle 55 at this time is generally 10 to 30 μm, and when the tip of the bristles rubs the electrode substrate 53 in the direction of arrow 56, the convex portion 5 such as a pixel electrode formed on the electrode substrate 53 is formed.
Before and after 7, there is a region where the cloth does not rub, that is, a non-alignment region 58 in which the alignment direction of the liquid crystal cannot be defined. In the general TN mode liquid crystal display element as shown in FIG. 6, the non-alignment region 58 is the light shielding layer 62 provided on the counter substrate 61.
However, the projections 64 of the electrodes and wiring formed on the array substrate 63
Since the non-alignment region 65 generated by the above is attached so as to be hidden, the non-alignment region 65 does not affect the display quality. Here, 66 is a counter common electrode, 67 is a liquid crystal layer, 68
Is an alignment layer, 69 is a color filter layer, and 610 is a pixel electrode. However, in a general horizontal electric field type liquid crystal display element as shown in FIG. 7, the light-shielding layer 72 formed on the counter substrate 71 has a large amount of light transmission.
The wiring step portion 73 is arranged and bonded so as to hide only the wiring step portion 73. Therefore, the non-aligned region 76 generated in the step portion 75 of the comb-shaped electrode which is the pixel electrode on which the array substrate 74 is formed is
It is not completely hidden by the light shielding layer 72 of the counter substrate 71, and the non-aligned region 76 directly affects the display quality. That is, if there is a partial difference in size of the non-oriented region 76, display failure will occur. Here, 77 is an alignment layer, 78 is a color filter layer, and 79 is a liquid crystal layer.

【0009】前記したようにラビング工程においては、
ラビング処理を行うことによって基板端面や基板表面の
凹凸の影響でラビング布の偏在が発生し、この状態で、
横電界モードの液晶表示素子のラビング時には、ラビン
グ布の偏在部と通常部で非配向領域の大きさが異なり、
ロールまたは基板の進行方向に影響を与えるために、図
4に示すように、表示領域上にスジ状のムラ46が発生
する。このようなムラ46は、ラビング処理枚数が増え
るに従い、布の偏在も顕著になるため、スジムラの発生
状況が悪化していく。
As described above, in the rubbing process,
The rubbing process causes uneven distribution of the rubbing cloth under the influence of the unevenness of the substrate end surface and the substrate surface.
When rubbing the liquid crystal display element in the horizontal electric field mode, the size of the non-aligned region is different between the unevenly distributed portion and the normal portion of the rubbing cloth,
As shown in FIG. 4, streak-like unevenness 46 is generated on the display area in order to affect the traveling direction of the roll or the substrate. Such unevenness 46 causes uneven distribution of cloth as the number of rubbing-processed sheets increases, so that the occurrence state of uneven streaks becomes worse.

【0010】このスジ状のムラに対しては、非配向領域
の低減、すなわち、段差部低減が考えられ、その手段と
して櫛形状電極上に平坦層を形成する方法が考えられる
が、工程の増加によるコスト上昇や歩留まりの低下、ま
た、平坦層により液晶に印加される実効的電圧の現象が
起こる。また、上記ラビング法に代わる配向方法として
酸化珪素の斜方蒸着やラングミュア・プロジェット膜や
化学吸着法による配向膜形成が試みられているが量産性
の点でラビング法に大きく劣る。
With respect to the stripe-shaped unevenness, reduction of the non-oriented region, that is, reduction of the step portion can be considered, and a method of forming a flat layer on the comb-shaped electrode can be considered as a means thereof, but the number of steps is increased. This causes an increase in cost, a decrease in yield, and a phenomenon of an effective voltage applied to the liquid crystal due to the flat layer. Further, as an alternative alignment method to the rubbing method, oblique vapor deposition of silicon oxide, Langmuir-Projet film, or alignment film formation by a chemical adsorption method has been tried, but it is significantly inferior to the rubbing method in terms of mass productivity.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明では基板に櫛形
状電極を有する横電界モードにおいて量産性に優れるラ
ビング法において、前記する従来例に見られる表示ムラ
のない高品位な表示素子を得ることを目的にするもので
ある。
According to the present invention, a rubbing method having a comb-shaped electrode on a substrate and excellent in mass productivity in a lateral electric field mode can obtain a high-quality display element having no display unevenness as seen in the above-mentioned conventional example. The purpose is.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は前記する目的の
ために、マトリクス状に配置された複数の信号配線と走
査配線およびその各交差点に対応して設けたスイッチン
グ素子と、前記スイッチング素子に接続された櫛形状の
画素電極と、前記画素電極と咬合して形成された櫛形状
の共通電極とを有するアレイ基板と、前記アレイ基板に
対向して配置された対向基板と、前記アレイ基板と前記
対向基板に挟持された液晶層と、前記アレイ基板と対向
基板の外部に配置された2枚の偏光板を有し、前記画素
電極と前記共通電極間に、前記アレイ基板と対向基板に
対して平行な電界を発生させることにより液晶分子の配
列を変化させるアクティブマトリクス型液晶表示素子の
製造方法において、前記アレイ基板の表示領域外の外周
に前記櫛形状の電極間隔と同じかあるいはそれ以下の間
隔で等間隔の凸段差を形成し、前記アレイ基板上に形成
した配向層を樹脂繊維布でラビングすることによって液
晶の配向方位を規定する製造方法としたものである。
For the above-mentioned object, the present invention provides a switching element provided corresponding to a plurality of signal wirings and scanning wirings arranged in a matrix and their respective intersections, and the switching element. An array substrate having comb-shaped pixel electrodes connected to each other and a comb-shaped common electrode formed by interlocking with the pixel electrodes; a counter substrate arranged to face the array substrate; and the array substrate. A liquid crystal layer sandwiched between the counter substrate and two polarizing plates disposed outside the array substrate and the counter substrate, and between the pixel electrode and the common electrode, with respect to the array substrate and the counter substrate. In the method of manufacturing an active matrix liquid crystal display element in which the alignment of liquid crystal molecules is changed by generating parallel electric fields, the comb-shaped electrodes are provided on the outer periphery of the array substrate outside the display region. It is a manufacturing method in which convex steps with equal intervals or less than the intervals are formed, and the alignment layer formed on the array substrate is rubbed with a resin fiber cloth to define the alignment direction of the liquid crystal. is there.

【0013】また、凸段差は、櫛形状の電極間隔と同じ
かあるいはそれ以下の間隔で等間隔の凸段差を形成した
枠をアレイ基板の外周に配置して形成し、ラビングする
ことにより本発明の目的を達成するものである。
Further, the convex steps are formed by arranging a frame on the outer periphery of the array substrate in which the convex steps are formed at equal or smaller intervals than the comb-shaped electrode interval and are rubbed. To achieve the purpose of.

【0014】また、櫛形状の電極間隔と同じかあるいは
それ以下の間隔で等間隔の凸段差を形成した基板をラビ
ングした後、アレイ基板をラビングして本発明の目的を
達成するものである。
Further, the object of the present invention is achieved by rubbing the array substrate after rubbing a substrate on which convex steps are formed at equal intervals or less than the comb-shaped electrode interval.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明は各請求項記載の形態で実
施できるものであり、請求項1記載のように、マトリク
ス状に配置された複数の信号配線と走査配線およびその
各交差点に対応して設けたスイッチング素子と、前記ス
イッチング素子に接続された櫛形状の画素電極と、前記
画素電極と咬合して形成された櫛形状の共通電極とを有
するアレイ基板と、前記アレイ基板に対向して配置され
た対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板に挟持さ
れた液晶層と、前記アレイ基板と対向基板の外部に配置
された2枚の偏光板を有し、前記画素電極と前記共通電
極間に、前記アレイ基板と対向基板に対して平行な電界
を発生させることにより液晶分子の配列を変化させるア
クティブマトリクス型液晶表示素子において、前記アレ
イ基板の表示領域外の外周に前記櫛形状の電極間隔と同
じかあるいはそれ以下の間隔で等間隔の凸段差を形成
し、アレイ基板をラビング処理することによって液晶の
配向方位を規定するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention can be implemented in the form described in each claim, and as described in claim 1, corresponds to a plurality of signal wirings and scanning wirings arranged in a matrix and their intersections. And an array substrate having a comb-shaped pixel electrode connected to the switching element, and a comb-shaped common electrode formed by interlocking with the pixel electrode, and facing the array substrate. And a liquid crystal layer sandwiched between the array substrate and the counter substrate, and two polarizing plates disposed outside the array substrate and the counter substrate. In an active matrix type liquid crystal display device in which an array of liquid crystal molecules is changed by generating an electric field parallel to the array substrate and a counter substrate between electrodes, a display area of the array substrate Periphery the same or less space between the electrode spacing of the comb-shaped form equidistant projected step in the defines an alignment direction of the liquid crystal by the array substrate to rubbing treatment.

【0016】また、請求項2記載のように、櫛形状電極
を形成したアレイ基板の外周に櫛形状の電極間隔と同じ
かあるいはそれ以下の間隔で等間隔の凸段差を形成した
枠を配置し、ラビングすることによって液晶の配向方位
を規定するものである。
Further, as described in claim 2, a frame in which convex steps are formed at equal intervals or at intervals equal to or less than the comb-shaped electrode interval is arranged on the outer periphery of the array substrate on which the comb-shaped electrodes are formed. By rubbing, the orientation direction of the liquid crystal is defined.

【0017】また、請求項3記載のように、櫛形状電極
を形成したアレイ基板の櫛形状の電極間隔と同じかある
いはそれ以下の間隔で等間隔の凸段差を形成した基板を
ラビングし、その後、櫛形状電極を形成したアレイ基板
をラビングすることによって液晶の配向方位を規定する
ものである。
According to a third aspect of the present invention, the substrate on which convex steps are formed at equal intervals or less than the inter-electrode interval of the comb-shaped electrodes of the array substrate on which the comb-shaped electrodes are formed is rubbed, and thereafter. The alignment direction of the liquid crystal is defined by rubbing the array substrate on which the comb-shaped electrodes are formed.

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明に係わる具体的な実施例につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0019】(実施例1)図1(A)は本発明の実施例
1における液晶表示素子の製造方法に用いた横電界モー
ドのTFTアレイ基板の概略正面図、図1(B)は図1
(A)における(B)部分の拡大図である。
Example 1 FIG. 1A is a schematic front view of a lateral electric field mode TFT array substrate used in a method of manufacturing a liquid crystal display element in Example 1 of the present invention, and FIG.
It is an enlarged view of the (B) part in (A).

【0020】アレイ基板1上には、マトリクス状にスイ
ッチング素子と画素電極を配置した表示領域2、その信
号線の引き出し部3、走査線の引き出し部4が形成され
ている表示領域の周囲には等ピッチの凸段差5が形成さ
れている。図1(B)はアレイ基板1の表示領域内外の
境界部の拡大図である。アレイ基板1上に走査電極6を
クロムを用いて図のような形状にパターン形成した。そ
れと同時に共通電極7を画素長辺方向に沿って図のよう
な形状に形成した。なお、共通電極7の幅は5μmであ
り、材料はクロムに限定せず、アルミニウム、アルミニ
ウムを主成分とする金属等、導電性単層膜または多層膜
を用いても良い。TFTのゲート絶縁膜として窒化シリ
コン(SiNx )をその上に積層させる。次に、TFT
のスイッチ機能を司るスイッチング素子8をプラズマC
VD法によってアモルファスシリコン(α−Si)を積
層させ、再び、窒化シリコン(SiNx )の絶縁層形
成、パターン化した。その後スパッタリング法によって
堆積させたチタン/アルミニウム(Ti/Al)の二層
を堆積させ、その後ドライエッチングによってスイッチ
ング素子と共に、信号電極9および画素電極10をパタ
ーン形成した。なお、画素電極10の幅は5μmであ
り、材料はチタン/アルミニウム(Ti/Al)に限定
せず、導電性金属の単層膜または多層膜を用いても良
い。そしてこの時、共通電極7と画素電極10との間隔
は10μmとした。基板面から3000Åの凸構造とし
た。そして、前記絶縁膜形成時に表示領域外において直
径5μmで3000Åの段差の円形の凸段差5を5μm
の間隔で形成した。なお、凸段差5の材料は、絶縁材料
に限定せず導電性金属の単層膜または多層膜を用いても
良い。
On the array substrate 1, a display area 2 in which switching elements and pixel electrodes are arranged in a matrix, a signal line lead-out portion 3 thereof, and a scanning line lead-out portion 4 are formed around the display area. The convex steps 5 having an equal pitch are formed. FIG. 1B is an enlarged view of the boundary portion inside and outside the display area of the array substrate 1. The scanning electrodes 6 were patterned on the array substrate 1 by using chromium in the shape shown in the figure. At the same time, the common electrode 7 was formed in the shape as shown in the figure along the long side direction of the pixel. The width of the common electrode 7 is 5 μm, and the material is not limited to chromium, and a conductive single-layer film or a multilayer film such as aluminum or a metal containing aluminum as a main component may be used. Silicon nitride (SiN x ) is laminated thereon as a gate insulating film of the TFT. Next, TFT
The switching element 8 that controls the switching function of the plasma C
Amorphous silicon (α-Si) was laminated by the VD method, and an insulating layer of silicon nitride (SiN x ) was formed and patterned again. After that, two layers of titanium / aluminum (Ti / Al) deposited by the sputtering method were deposited, and then the signal electrode 9 and the pixel electrode 10 were patterned together with the switching element by dry etching. The width of the pixel electrode 10 is 5 μm, and the material is not limited to titanium / aluminum (Ti / Al), and a single layer film or a multilayer film of a conductive metal may be used. At this time, the distance between the common electrode 7 and the pixel electrode 10 was 10 μm. The convex structure was 3000 Å from the substrate surface. Then, when the insulating film is formed, a circular convex step 5 having a diameter of 5 μm and a step of 3000 Å is 5 μm outside the display area.
Formed at intervals of. The material of the convex steps 5 is not limited to the insulating material, and a single layer film or a multilayer film of a conductive metal may be used.

【0021】このように完成した薄膜トランジスタアレ
イ基板と遮光帯を形成した対向カラーフィルター基板
に、ポリイミド膜をフレキソ印刷し、乾燥硬化し配向層
とし、ラビング処理を行った。ラビング処理は、1本の
繊維径が20μmで20000本/cm2 の密度のレー
ヨン布を直径100mmのロールに巻き付け、ロールを
800rpmにて回転させ、そして、毛足が基板に0.
2mm押し込まれた状態で、前記アレイ基板と対向基板
を所定の方向に処理を行った。ここで、櫛形状電極を形
成したアレイ基板1において、ラビング布が表示領域2
をラビング処理する前に、表示領域外に形成した等ピッ
チの凸段差を擦ることによって、ラビング布の偏りが矯
正されるため、表示領域の櫛形電極段差部に発生する非
配向領域を均一にすることができる。ラビング処理後の
アレイ基板1と対向基板を貼り合わせ、液晶を真空注入
法にて注入し、液晶表示素子を作製した結果、スジ状の
ムラは発生しなかった。また、1本のロールに対して2
000枚のラビング処理を行い液晶表示素子を作製した
が、表示品位の劣化は見られなかった。
A polyimide film was flexographically printed on the thus completed thin film transistor array substrate and a counter color filter substrate having a light-shielding band formed thereon, dried and cured to form an alignment layer, and subjected to rubbing treatment. For the rubbing treatment, one rayon cloth having a fiber diameter of 20 μm and a density of 20,000 fibers / cm 2 was wound around a roll having a diameter of 100 mm, the roll was rotated at 800 rpm, and the fluff was applied to the substrate at a density of 0.
The array substrate and the counter substrate were processed in a predetermined direction while being pressed by 2 mm. Here, in the array substrate 1 on which the comb-shaped electrodes are formed, the rubbing cloth is the display area 2.
Before the rubbing process, the unevenness of the rubbing cloth is corrected by rubbing the convex steps of equal pitch formed outside the display area, so that the non-aligned areas generated in the comb-shaped electrode step portion of the display area are made uniform. be able to. After the rubbing treatment, the array substrate 1 and the counter substrate were bonded together, and liquid crystal was injected by a vacuum injection method to fabricate a liquid crystal display element. As a result, no stripe-shaped unevenness was generated. Also, 2 for each roll
A rubbing treatment of 000 sheets was performed to manufacture a liquid crystal display element, but no deterioration in display quality was observed.

【0022】なお、本実施例では表示領域に隣接する領
域に凸段差を形成したが、図2に示すように凸段差を基
板周辺部に形成した場合でも同様な構成のアレイを作製
し、同様な方法で横電界型液晶表示素子を作製した結
果、凸段差の効果により、ラビング布の偏在が矯正さ
れ、ラビングスジの発生は見られなかった。ここで、2
1は横電界型のアレイ基板、22は表示領域、23は信
号線の引き出し部、24は走査線の引き出し部、25は
凸段差、26は走査電極、27は共通電極、28はスイ
ッチング素子、29は信号電極、30は画素電極を示し
ている。
In this embodiment, the convex step is formed in the area adjacent to the display area. However, even if the convex step is formed in the peripheral portion of the substrate as shown in FIG. As a result of manufacturing a horizontal electric field type liquid crystal display element by any method, uneven distribution of the rubbing cloth was corrected by the effect of the convex step, and no rubbing streak was observed. Where 2
1 is a horizontal electric field type array substrate, 22 is a display region, 23 is a signal line lead-out portion, 24 is a scanning line lead-out portion, 25 is a convex step, 26 is a scanning electrode, 27 is a common electrode, 28 is a switching element, Reference numeral 29 is a signal electrode, and 30 is a pixel electrode.

【0023】また、本実施例では凸段差25の形状を円
形としたが、櫛形状電極と同じかあるいはそれ以下の間
隔で等ピッチであれば段差によるラビング布の矯正効果
に変化は見られず、段差の大きさについても、アレイ基
板21の段差と同程度以上であれば同等な結果が得られ
た。
In this embodiment, the convex step 25 has a circular shape, but if the pitch is the same as or smaller than that of the comb-shaped electrode and the pitch is equal, the effect of correcting the rubbing cloth by the step does not change. With respect to the size of the step, as long as it is equal to or larger than the step of the array substrate 21, the same result was obtained.

【0024】(比較例)前記した、実施例1と同様な方
法および電極構成で、基板周辺部に等間隔の凸段差を形
成しない場合の、従来からの横電界TFTアレイ基板を
作製し、ラビング処理を行い液晶表示素子を作製した。
この結果、ラビング時の基板の進行方向に薄いスジ状の
ムラが見られた。そして、1本のラビングローラーにお
いて100枚のラビング処理を行うとスジが明確化し、
ラビング回数を重ねる度に徐々にスジの発生が顕著にな
った。
(Comparative Example) A conventional lateral electric field TFT array substrate was prepared and rubbed by the same method and electrode configuration as those of Example 1 described above, in the case where convex steps at equal intervals were not formed in the peripheral portion of the substrate. A liquid crystal display device was manufactured by performing the treatment.
As a result, thin stripe-like unevenness was observed in the direction of travel of the substrate during rubbing. Then, when 100 rubbing treatments are performed on one rubbing roller, streaks are clarified,
The generation of streaks gradually became more prominent with each rubbing.

【0025】(実施例2)図3(A)は本発明の実施例
2における液晶表示素子に用いた横電界モードのTFT
アレイ基板の概略図、図3(B)は図3(A)の拡大図
である。
(Embodiment 2) FIG. 3A shows a lateral electric field mode TFT used in a liquid crystal display device according to Embodiment 2 of the present invention.
A schematic view of the array substrate, and FIG. 3B is an enlarged view of FIG.

【0026】前記比較例で作製した従来の横電界型液晶
表示アレイ基板31(従来の横電界型の構成)におい
て、ラビング装置の定盤の外周に直径5μmで1μmの
段差の円形の凸段差を形成した枠を配置し、ラビング処
理を行った。ラビング布が基板周辺に配置した等間隔の
定盤上に形成した凸段差を擦ることによってラビング布
の偏在が矯正され均一なラビング処理が行え、ラビング
スジの発生は見られなかった。ここで、31は従来の横
電界型のアレイ基板、32は表示領域、33は信号線の
引き出し部、34は走査線の引き出し部、35は凸段差
形成枠、36は走査電極、37は共通電極、38はスイ
ッチング素子、39は信号電極、40は画素電極を示し
ている。
In the conventional horizontal electric field type liquid crystal display array substrate 31 (conventional horizontal electric field type structure) manufactured in the comparative example, a circular convex step having a step of 5 μm in diameter and 1 μm is formed on the outer periphery of the surface plate of the rubbing device. The formed frame was placed and subjected to rubbing treatment. The uneven distribution of the rubbing cloth was corrected by rubbing the convex steps formed on the surface plate of the rubbing cloth arranged around the substrate at equal intervals, and uniform rubbing treatment was performed, and no rubbing streak was observed. Here, 31 is a conventional lateral electric field type array substrate, 32 is a display region, 33 is a signal line lead-out portion, 34 is a scanning line lead-out portion, 35 is a convex step forming frame, 36 is a scanning electrode, and 37 is common. Electrodes, 38 are switching elements, 39 is a signal electrode, and 40 is a pixel electrode.

【0027】また、本実施例では凸段差の形状を円形と
したが、櫛形状電極と同じかあるいはそれ以下の間隔で
等ピッチであれば段差によるラビング布の矯正効果に変
化は見られず、段差の大きさについても、アレイ基板の
段差と同程度以上であれば同等な結果が得られた。
Further, in this embodiment, the shape of the convex step is circular, but if the pitch is the same as or smaller than that of the comb-shaped electrode and the pitch is equal, no change in the correction effect of the rubbing cloth due to the step is observed. With respect to the size of the step, as long as it is equal to or more than the step of the array substrate, the same result was obtained.

【0028】(実施例3)ガラス基板上に3000Åの
SiNx の膜を形成し、フォトリソグラフィ法によっ
て、幅5μmで5μmピッチで3000Åの段差の凹凸
ストライプパターンを形成した基板を作製し、これを従
来の横電界櫛型のアレイ基板をラビング処理する前にラ
ビングすることによって、アレイ基板のパターンによっ
て偏在するラビングスジの発生はなかった。
(Embodiment 3) A substrate on which a 3000 Å SiN x film is formed on a glass substrate and a rugged striped pattern of 3000 Å steps with a width of 5 μm and a pitch of 5 μm is formed by a photolithography method is prepared. By rubbing the conventional horizontal electric field comb type array substrate before rubbing treatment, there was no occurrence of rubbing stripes unevenly distributed depending on the pattern of the array substrate.

【0029】なお、本実施例では等ピッチの凹凸パター
ンを、ストライプパターンとしたが、櫛形状電極と同じ
かあるいはそれ以下の間隔で等ピッチであれば段差のパ
ターンによるラビング布の矯正効果に変化は見られず、
段差の大きさについても、アレイ基板の段差と同程度以
上であれば同等な結果が得られた。
In this embodiment, the concavo-convex pattern having an equal pitch is a stripe pattern. However, if the pitch is the same as the comb-shaped electrodes or equal to the comb-shaped electrodes or less, the correction effect of the rubbing cloth is changed by the step pattern. Is not seen,
With respect to the size of the step, as long as it is equal to or more than the step of the array substrate, the same result was obtained.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように本発明において、下
記に記載するような液晶表示装置としての効果が得られ
る。
As described above, according to the present invention, the following effects as a liquid crystal display device can be obtained.

【0031】請求項1記載の発明によれば、基板の表示
領域外の外周に形成した等間隔の凸段差が、ラビング時
に発生するラビング布の偏在を矯正するために、表示領
域が均一にラビングされ、高品位の液晶表示素子を製造
することができる。
According to the first aspect of the present invention, the unevenly-spaced convex steps formed on the outer periphery of the display area of the substrate correct the uneven distribution of the rubbing cloth that occurs during rubbing, so that the display area is uniformly rubbed. Thus, a high quality liquid crystal display device can be manufactured.

【0032】また、請求項2記載の発明によれば、ラビ
ング時の基板周辺に等ピッチの段差を形成した枠を配置
することによって、ラビング時に発生するラビング布の
偏在が矯正され、表示領域が均一にラビングされ、高品
位の液晶表示素子を製造することができる。
According to the second aspect of the present invention, by disposing the frame in which the steps of equal pitch are formed around the substrate during rubbing, uneven distribution of the rubbing cloth occurring during rubbing is corrected, and the display area is A high-quality liquid crystal display device can be manufactured by being uniformly rubbed.

【0033】また、請求項3記載の発明によれば、等ピ
ッチの段差ダミー基板をラビングした後に生産品である
基板をラビングする。これによって、ラビング布の偏在
が矯正され、表示領域が均一にラビングされ、高品位の
液晶表示素子を製造することができる。
According to the third aspect of the present invention, the stepped dummy substrate having an equal pitch is rubbed, and then the product substrate is rubbed. As a result, uneven distribution of the rubbing cloth is corrected, the display area is uniformly rubbed, and a high-quality liquid crystal display device can be manufactured.

【0034】本発明は、液晶表示パネルを製作する上で
非常に利点の多い工法であり、かつ表示性能の高い液晶
表示装置を製作することができる。
The present invention is a manufacturing method having a great advantage in manufacturing a liquid crystal display panel, and can manufacture a liquid crystal display device having high display performance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(A)本発明の実施例1に係わる液晶表示素子
の概略平面図 (B)(A)中に丸で示した部分の拡大図
FIG. 1A is a schematic plan view of a liquid crystal display element according to a first embodiment of the present invention, and FIGS. 1B and 1A are enlarged views of circled portions.

【図2】(A)本発明の実施例1に係わる他の液晶表示
素子の概略平面図 (B)(A)中に丸で示した部分の拡大図
FIG. 2A is a schematic plan view of another liquid crystal display element according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2B is an enlarged view of a portion indicated by a circle in FIG.

【図3】(A)本発明の実施例2に係わる液晶表示素子
の概略平面図 (B)(A)中に丸で示した部分の拡大図
FIG. 3A is a schematic plan view of a liquid crystal display element according to a second embodiment of the present invention, and FIGS. 3B and 3A are enlarged views of a circled portion.

【図4】ラビング布の偏在の概念説明図FIG. 4 is a conceptual explanatory view of uneven distribution of rubbing cloth.

【図5】ラビング工程の概念説明図FIG. 5 is a conceptual explanatory diagram of a rubbing process.

【図6】TNモードのパネルの概略断面図FIG. 6 is a schematic sectional view of a TN mode panel.

【図7】櫛形電極による横電界モードの概略断面図FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a lateral electric field mode using a comb-shaped electrode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,21,31 アレイ基板 2,22,32 表示領域 3,23,33 信号線の引き出し部 4,24,34 走査線の引き出し部 5,25 凸段差 6,26,36 走査電極 7,27,37 共通電極 8,28,38 スイッチング素子 9,29,39 信号電極 10,30,40 画素電極 35 凸段差形成枠 1,21,31 array substrate 2,22,32 display area 3,23,33 Lead-out part of signal line 4,24,34 Scan line lead-out section 5,25 convex step 6,26,36 scanning electrodes 7, 27, 37 Common electrode 8, 28, 38 Switching element 9, 29, 39 Signal electrodes 10, 30, 40 pixel electrodes 35 Convex step forming frame

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−160878(JP,A) 特開 平4−115225(JP,A) 特開 平1−186913(JP,A) 特開 平3−69920(JP,A) 特開 平5−181139(JP,A) 特開 平7−181494(JP,A) 特開 平9−292615(JP,A) 実開 平4−46423(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1337 500 G02F 1/1343 G02F 1/1368 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-6-160878 (JP, A) JP-A-4-115225 (JP, A) JP-A-1-186913 (JP, A) JP-A-3- 69920 (JP, A) JP 5-181139 (JP, A) JP 7-181494 (JP, A) JP 9-292615 (JP, A) Actually open 4-46423 (JP, U) (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1337 500 G02F 1/1343 G02F 1/1368

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 マトリクス状に配置された複数の信号配
線と走査配線およびその各交差点に対応して設けたスイ
ッチング素子と、前記スイッチング素子に接続された櫛
形状の画素電極と、前記画素電極と咬合して形成された
櫛形状の共通電極とを有するアレイ基板と、前記アレイ
基板に対向して配置された対向基板と、前記アレイ基板
と前記対向基板に挟持された液晶層と、前記アレイ基板
と対向基板の外部に配置された2枚の偏光板を有し、前
記画素電極と前記共通電極間に、前記アレイ基板と対向
基板に対して平行な電界を発生させることにより液晶分
子の配列を変化させるアクティブマトリクス型液晶表示
素子において、前記アレイ基板の表示領域外の外周に前
記櫛形状の電極間隔と同じかあるいはそれ以下の間隔で
等間隔の凸段差を形成し、前記アレイ基板上に形成した
配向層を樹脂繊維布でラビングすることによって液晶の
配向方位を規定することを特徴とするアクティブマトリ
クス型液晶表示素子の製造方法。
1. A plurality of signal wirings and scanning wirings arranged in a matrix and switching elements provided corresponding to respective intersections thereof, comb-shaped pixel electrodes connected to the switching elements, and the pixel electrodes. An array substrate having a comb-shaped common electrode formed by interlocking, a counter substrate arranged to face the array substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the array substrate and the counter substrate, and the array substrate And an array of liquid crystal molecules by generating an electric field parallel to the array substrate and the counter substrate between the pixel electrode and the common electrode. In the active matrix type liquid crystal display device to be changed, convex steps are formed on the outer periphery of the array substrate outside the display area at equal intervals or less than the comb-shaped electrode interval. A method of manufacturing an active matrix type liquid crystal display device, which comprises forming an alignment layer formed on the array substrate and rubbing the alignment layer formed on the array substrate with a resin fiber cloth to define the alignment direction of the liquid crystal.
【請求項2】 マトリクス状に配置された複数の信号配
線と走査配線およびその各交差点に対応して設けたスイ
ッチング素子と、前記スイッチング素子に接続された櫛
形状の画素電極と、前記画素電極と咬合して形成された
櫛形状の共通電極とを有するアレイ基板と、前記アレイ
基板に対向して配置された対向基板と、前記アレイ基板
と前記対向基板に挟持された液晶層と、前記アレイ基板
と対向基板の外部に配置された2枚の偏光板を有し、前
記画素電極と前記共通電極間に、前記アレイ基板と対向
基板に対して平行な電界を発生させることにより液晶分
子の配列を変化させるアクティブマトリクス型液晶表示
素子において、前記アレイ基板の外周に前記櫛形状の電
極間隔と同じかあるいはそれ以下の間隔で等間隔の凸段
差を形成した枠を配置し、前記アレイ基板をラビングす
ることを特徴とするアクティブマトリクス型液晶表示素
子の製造方法。
2. A plurality of signal wirings and scanning wirings arranged in a matrix and switching elements provided corresponding to respective intersections thereof, comb-shaped pixel electrodes connected to the switching elements, and the pixel electrodes. An array substrate having a comb-shaped common electrode formed by interlocking, a counter substrate arranged to face the array substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the array substrate and the counter substrate, and the array substrate And an array of liquid crystal molecules by generating an electric field parallel to the array substrate and the counter substrate between the pixel electrode and the common electrode. In the active matrix type liquid crystal display element to be changed, a frame is formed on the outer periphery of the array substrate, in which convex steps are formed at equal intervals or less than the comb-shaped electrode interval. And rubbing the array substrate. A method of manufacturing an active matrix type liquid crystal display device.
【請求項3】 マトリクス状に配置された複数の信号配
線と走査配線およびその各交差点に対応して設けたスイ
ッチング素子と、前記スイッチング素子に接続された櫛
形状の画素電極と、前記画素電極と咬合して形成された
櫛形状の共通電極とを有するアレイ基板と、前記アレイ
基板に対向して配置された対向基板と、前記アレイ基板
と前記対向基板に挟持された液晶層と、前記アレイ基板
と対向基板の外部に配置された2枚の偏光板を有し、前
記画素電極と前記共通電極間に、前記アレイ基板と対向
基板に対して平行な電界を発生させることにより液晶分
子の配列を変化させるアクティブマトリクス型液晶表示
素子において、前記櫛形状の電極間隔と同じかあるいは
それ以下の間隔で等間隔の凸段差を形成した基板をラビ
ングした後、前記アレイ基板をラビングすることを特徴
とするアクティブマトリクス型液晶表示素子の製造方
法。
3. A plurality of signal wirings and scanning wirings arranged in a matrix and switching elements provided corresponding to respective intersections thereof, comb-shaped pixel electrodes connected to the switching elements, and the pixel electrodes. An array substrate having a comb-shaped common electrode formed by interlocking, a counter substrate arranged to face the array substrate, a liquid crystal layer sandwiched between the array substrate and the counter substrate, and the array substrate And an array of liquid crystal molecules by generating an electric field parallel to the array substrate and the counter substrate between the pixel electrode and the common electrode. In the active matrix type liquid crystal display element to be changed, after rubbing a substrate on which convex steps are formed at equal intervals or less than the comb-shaped electrode interval, A method of manufacturing an active matrix type liquid crystal display device, which comprises rubbing a ray substrate.
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