JP3390183B2 - Wafer replacement system for diffusion furnace - Google Patents

Wafer replacement system for diffusion furnace

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JP3390183B2 JP14554791A JP14554791A JP3390183B2 JP 3390183 B2 JP3390183 B2 JP 3390183B2 JP 14554791 A JP14554791 A JP 14554791A JP 14554791 A JP14554791 A JP 14554791A JP 3390183 B2 JP3390183 B2 JP 3390183B2
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は拡散炉用のウエハー立替
システムに関し、特にウエハーカセットから拡散処理用
ウエハーボートへのウエハー立替システムに関する。 【0002】 【従来の技術】従来の拡散処理用ウエハー立替には、縦
型拡散炉ではウエハーハンドリングアームによる5枚一
括立替方式と、枚葉立替方式と、あるいはこれらを併用
した方式があり、横型拡散炉と縦型拡散炉の一部では立
替ロボットによる25枚一括立替方式がある。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】この従来のウエハー立
替方式では、まずウエハーハンドリングアームによる5
枚一括あるいは枚葉立替方式では例えば100枚拡散処
理用のウエハーボートに100枚のウエハーを立て替え
る場合、最低20回の繰り返しが必要であり、立替に多
くの時間を要する。また、ウエハーボートにダミー等の
ウエハーが既に存在する場合には、5枚一括立替方式で
はウエハーの立替枚数や立替位置に制限が加えられる。
枚葉あるいは5枚との併用立替方式では、これらの制限
はなくなるが、立替時間が更に多く必要である等の問題
がある。 【0004】次に25枚一括立替方式の場合は、立替に
要する時間は短縮できるが、この場合もウエハーボート
にダミー等のウエハーが存在する場合には、ウエハーの
立替枚数や立替位置に制限が加えられてしまうという問
題がある。 【0005】本発明の目的は、ウエハーの立替枚数や立
替位置に制限が加えられない拡散炉用ウエハー立替シス
テムを提供することにある。 【0006】 【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る拡散炉用ウエハー立替システムは、ウ
エハーボート内に既にローディングされているウエハー
のウエハーボート内位置を記憶するデータ記憶部と、ウ
エハーキャリア内のウエハーを10枚以上同時に抜き取
可能で、前記ウエハーボート内に既にウエハーがロー
ディングされている位置以外のウエハーボート内位置
に、抜き取ったウエハー全てあるいは各々の別々にロー
ディングするウエハーハンドリングアームと、前記10
枚以上のウエハーハンドリングアームを全てあるいは各
々別々に動作させるウエハーハンドリングアーム駆動部
と、これらを制御するウエハーハンドリングアームコン
トローラとを有し、 前記ウエハーキャリア内にウエハー
が連続的に入っている場合には、前記ウエハーハンドリ
ングアームのすべてを用いて前記ウエハーキャリアから
ウエハーを抜き取り、 前記ウエハーキャリア内にウエハ
ーが不連続に入っている場合には、前記ウエハーハンド
リングアームの必要なものだけを用いて前記ウエハーキ
ャリアからウエハーを抜き取り、 前記ウエハーボート内
に既にローディングされているウエハーの位置に応じ
て、前記抜き取ったウエハーを全部まとめて、あるいは
各々別々に前記ウエハーボートにローディングを行なう
ものである。 【0007】 【作用】本発明のウエハー立替システムは、既にウエハ
ーボートに入っているウエハーのボート内のデータを持
ち、オペレーターの入力指示と既にボート内にあるウエ
ハーの位置を自動判定し、ウエハーキャリア内のウエハ
ーを全部まとめて、あるいは各々別々に立替動作を行う
ようにしたものである。 【0008】 【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は、本発明の一実施例に係るウエハー立替シス
テム機構部を示す概念図、図2は、本発明のウエハー立
替システム全体を示す概念図である。 【0009】図において、本実施例にかかるウエハー立
替システムは、ウエハボート5,ウエハーキャリア6,
ウエハー立替システム機構部7を装備している。 【0010】さらに、本実施例に係るウエハー立替シス
テム機構部7は、ウエハーボート5内に既にローディン
グされているウエハーのウエハーボート内位置を記憶す
るデータ記憶部4と、ウエハーキャリア6内のウエハー
を10枚以上同時に抜き取り、ウエハーボート5内に既
にウエハーがローディングされている位置以外のウエハ
ーボート内位置に、抜き取ったウエハー全てあるいは各
々別々にローディングするウエハーハンドリングアーム
1,32……3n-1,3nと、10枚以上のウエハーハン
ドリングアーム31,32……3n-1,3nを全てあるいは
各々別々に動作させるウエハーハンドリングアーム駆動
部1と、これらを制御するウエハーハンドリングアーム
コントローラ2とを有する。 【0011】実施例において、ウエハーの立替はウエハ
ーキャリア6からウエハーボート5へあるいは逆方向に
行う。仮に、ウエハーハンドリングアーム31〜3nが1
0枚の場合(つまりn=10の場合)を考える。ウエハ
ーをローディングしたいウエハーボート5の位置にウエ
ハーがない場合でウエハーキャリア9に端から10枚連
続でウエハーが入っている場合は、ウエハーハンドリン
グアームコントローラ2の指示により10枚のウエハー
ハンドリングアーム31〜310の全てが同時に動いて、
ウエハーキャリア9から10枚のウエハーを同時に抜い
てウエハーボート8に同時にローディングする。その逆
も同様に行う。 【0012】次に、ウエハーボート5にウエハーが既に
ローディングされている場合を考える。例えば、ウエハ
ーボート8の第1,2,4,5,6,9,17,18番
目のスロットにウエハーがローディングされている場合
で、ウエハーキャリア9には端から10枚連続でウエハ
ーが入っている場合には、データ記憶部11に記憶され
ているウエハーボート内のウエハー位置データとウエハ
ーハンドリングアームコントローラ2の指示によりまず
10枚のウエハーハンドリングアーム31〜310が同時
に動いてウエハーキャリア9から10枚のウエハーを同
時に取り出す。 【0013】次に、ウエハーハンドリングアーム31
保持しているウエハーを、ウエハーハンドリングアーム
駆動部1のウエハーハンドリングアーム31用のモータ
ーのみ作動させることによりウエハーボート8の第3番
目のスロットにロードする。 【0014】さらに、ウエハーハンドリングアーム32
とウエハーハンドリングアーム33に保持されているウ
エハーを、ウエハーハンドリングアーム32とウエハー
ハンドリングアーム33用のモーターを同時に作動させ
ることによりウエハーボートの第7番目と第8番目のス
ロットに同時にロードする。 【0015】最後にウエハーハンドリングアーム34
10に保持されているウエハーを同様にそれぞれ同時に
ウエハーボート5の第10番目〜第16番目のスロット
にロードする。 【0016】ウエハーキャリア6にウエハーが不連続に
入っている場合にも、ウエハーハンドリングアームの必
要なものだけを使用することによって同様にウエハーを
ローディングすることができる。また、ウエハーハンド
リングアームの数を増やすことによりウエハーキャリア
6の全てにウエハーが入っている場合(通常25枚)に
も全数同時にウエハーハンドリングアームに保持するこ
とができ、ウエハー立替システムがウエハーキャリア6
とウエハーボート5との間を複数回移動する必要はな
い。 【0017】以上、ウエハーハンドリングアームに特に
真空吸着の必要がない縦型拡散炉の場合について説明し
たが、真空吸着を使用しウエハーハンドリングアームが
下向きになるように立替システムを設置することによ
り、横型拡散炉に適用することもできる。 【0018】 【発明の効果】以上説明したように本発明は、ウエハー
ボートに既に入っているウエハーのボート内位置のデー
タを持ちオペレーターの入力指示と既にボート内にある
ウエハーの位置を自動判定し、10枚以上のウエハーハ
ンドリングアームを使用してウエハーキャリア内のウエ
ハーを全部まとめて、あるいは各々別々にウエハボート
にローディングするようにしたので、一回の立替で同時
に多数のウエハーをウエハーボートにローティングで
き、さらにウエハーボートに既にダミー等のウエハーが
入っている場合にも同時に多数のウエハーを抜き取り、
ウエハボートの必要な位置に必要な枚数のウエハーをロ
ーディングすることができるため、ウエハーの立替枚数
や立替位置に制限がなくなるという効果がある。また、
立替時間を短縮できるという効果もある。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer transfer system for a diffusion furnace, and more particularly to a wafer transfer system for transferring a wafer from a wafer cassette to a wafer boat for diffusion processing. 2. Description of the Related Art Conventional wafer processing for diffusion processing can be performed in a vertical diffusion furnace by a batch processing method using five wafers using a wafer handling arm, a single wafer processing method, or a combination of these methods. In some diffusion furnaces and vertical diffusion furnaces, there is a 25-package replacement system using a replacement robot. [0003] In this conventional wafer refilling method, first, a wafer handling arm is used.
In the batch or single wafer replacement system, for example, when replacing 100 wafers in a wafer boat for diffusion processing of 100 wafers, at least 20 repetitions are required, and the replacement requires a lot of time. When a wafer such as a dummy is already present in the wafer boat, the number of refilled wafers and the position of refilling are limited in the 5-packet reloading method.
In the case of a single-wafer or five-wafer replenishment system, these restrictions are eliminated, but there is a problem that a longer repatriation time is required. [0004] Next, in the case of the 25 wafer batch replacement system, the time required for the replacement can be shortened. However, in this case, if there is a wafer such as a dummy in the wafer boat, the number of replacement wafers and the replacement position are limited. There is a problem that it is added. An object of the present invention is to provide a wafer replacement system for a diffusion furnace in which the number of replacement wafers and the replacement position are not restricted. [0006] In order to achieve the above object, a wafer refilling system for a diffusion furnace according to the present invention comprises a data storing a position in a wafer boat of a wafer already loaded in the wafer boat. The storage unit and 10 or more wafers in the wafer carrier can be simultaneously extracted , and all or each of the extracted wafers is separately loaded to a position in the wafer boat other than the position where the wafers are already loaded in the wafer boat. and the wafer handling arm, the 10
It includes a wafer handling arm driving unit for operating more than two wafers handling arm all or each separately, and a wafer handling arm controller for controlling these wafers into the wafer in the carrier
If the wafers are contained continuously,
From the wafer carrier using all of the
Remove the wafer and place the wafer in the wafer carrier.
If the wafer is in a discontinuity,
Using only the necessary ring arm,
The wafer from the carrier and into the wafer boat.
According to the position of the wafer already loaded
The whole of the extracted wafers, or
Loading each wafer boat separately
Things . The wafer refilling system of the present invention has data in the boat of wafers already in the wafer boat, automatically judges an operator's input instruction and the position of the wafer already in the boat, and sets a wafer carrier. In this case, the whole wafers are collectively operated or each of them is separately operated. Next, the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a conceptual diagram showing a wafer transfer system mechanism according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a conceptual diagram showing an entire wafer transfer system of the present invention. In FIG. 1, a wafer transfer system according to the present embodiment includes a wafer boat 5, a wafer carrier 6,
A wafer transfer system mechanism 7 is provided. Further, the wafer transfer system mechanism 7 according to the present embodiment stores the data in the wafer boat 5 in the data storage 4 for storing the position of the wafer already loaded in the wafer boat 5 and the wafer in the wafer carrier 6. Wafer handling arms 3 1 , 3 2, ..., 3 n− , which simultaneously extract 10 or more wafers and load all or each of the extracted wafers at a position in the wafer boat other than the position where the wafers are already loaded in the wafer boat 5. 1 , 3n , and ten or more wafer handling arms 3 1 , 3 2 ... 3 n-1 , 3 n -1 and 3 n -1 , 3 n -1 , and wafer handling arm drive unit 1 for operating each separately, and a wafer handling arm for controlling these And a controller 2. In the embodiment, the replacement of the wafer is performed from the wafer carrier 6 to the wafer boat 5 or in the opposite direction. If the wafer handling arms 3 1 to 3 n are 1
Consider the case of 0 sheets (that is, the case of n = 10). If containing the wafer at 10 sheets from the end contiguous to the wafer carrier 9 in the absence of the wafer to the position of the wafer boat 5 to be loaded wafer, 10 sheets of the wafer handling arm 3 1, according to an instruction of the wafer handling arm controller 2 All three 10 move at the same time,
Ten wafers are simultaneously pulled out from the wafer carrier 9 and loaded onto the wafer boat 8 at the same time. The reverse is performed in the same way. Next, a case where wafers are already loaded on the wafer boat 5 will be considered. For example, in the case where wafers are loaded in the first, second, fourth, fifth, sixth, ninth, seventeenth, and eighteenth slots of the wafer boat 8, ten wafers continuously enter the wafer carrier 9 from the end. If you are from wafer positional data and the wafer handling arm controller first ten by second indication wafer handling arm 3 1 to 3 10 wafer carriers 9 moving simultaneously in a wafer boat, which is stored in the data storage unit 11 10 wafers are taken out at the same time. [0013] Next, the wafers held in the wafer handling arm 3 1, the third slot in the wafer boat 8 by operating only a motor for wafer handling arm 3 1 of the wafer handling arm driving unit 1 Load I do. Further, the wafer handling arm 3 2
And the wafer held by the wafer handling arm 3 3, simultaneously loaded into the seventh and the eighth slot of the wafer boat by actuating wafer handling arm 3 2 and the wafer handling arm 3 3 for motors simultaneously . [0015] Finally, the wafer handling arm 3 4 ~
Each wafer held on 3 10 similarly loaded to a 10 th to the 16 th slot of the wafer boat 5 at the same time. Even when the wafer is discontinuous in the wafer carrier 6, the wafer can be similarly loaded by using only a necessary wafer handling arm. In addition, by increasing the number of wafer handling arms, even when all wafer carriers 6 contain wafers (usually 25 wafers), all wafer carriers can be simultaneously held on the wafer handling arm.
There is no need to move between the wafer boat 5 and the wafer boat 5 a plurality of times. The vertical diffusion furnace which does not particularly require vacuum suction on the wafer handling arm has been described above. However, by using vacuum suction and installing a vertical system so that the wafer handling arm faces downward, a horizontal type diffusion furnace can be used. It can also be applied to diffusion furnaces. As described above, according to the present invention, data on the position of a wafer already in the wafer boat is stored in the boat, and an input instruction from an operator and the position of the wafer already in the boat are automatically determined. Since all wafers in a wafer carrier are loaded into a wafer boat all at once using a wafer handling arm of 10 or more, a large number of wafers can be loaded into a wafer boat at the same time. It is possible to remove many wafers at the same time even if wafers such as dummy are already in the wafer boat,
Since the required number of wafers can be loaded at the required position of the wafer boat, there is an effect that there is no limit on the number of wafer replacements and the replacement position. Also,
There is also an effect that the replacement time can be reduced.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施例に係るウエハー立替システム
機構部を示す概念図である。 【図2】ウエハー立替システム全体を示す概念図であ
る。 【符号の説明】 1 ウエハーハンドリングアーム駆動部 2 ウエハーハンドリングアームコントローラ 31〜3n ウエハーハンドリングアーム 4 データ記憶部 5 ウエハボート 6 ウエハーキャリア
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a conceptual diagram showing a wafer transfer system mechanism according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a conceptual diagram showing the entire wafer transfer system. [Description of Signs] 1 Wafer handling arm drive unit 2 Wafer handling arm controller 3 1 to 3 n Wafer handling arm 4 Data storage unit 5 Wafer boat 6 Wafer carrier

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 ウエハーボート内に既にローディングさ
れているウエハーのウエハーボート内位置を記憶するデ
ータ記憶部と、 ウエハーキャリア内のウエハーを10枚以上同時に抜き
取り可能で、前記ウエハーボート内に既にウエハーがロ
ーディングされている位置以外のウエハーボート内位置
に、抜き取ったウエハー全てあるいは各々の別々にロー
ディングするウエハーハンドリングアームと、前記 10枚以上のウエハーハンドリングアームを全てあ
るいは各々別々に動作させるウエハーハンドリングアー
ム駆動部と、 これらを制御するウエハーハンドリングアームコントロ
ーラとを有し、 前記ウエハーキャリア内にウエハーが連続的に入ってい
る場合には、前記ウエハーハンドリングアームのすべて
を用いて前記ウエハーキャリアからウエハーを抜き取
り、 前記ウエハーキャリア内にウエハーが不連続に入ってい
る場合には、前記ウエハーハンドリングアームの必要な
ものだけを用いて前記ウエハーキャリアからウエハーを
抜き取り、 前記ウエハーボート内に既にローディングされているウ
エハーの位置に応じて、前記抜き取ったウエハーを全部
まとめて、あるいは各々別々に前記ウエハーボートにロ
ーディングを行なう ことを特徴とする拡散炉用ウエハー
立替システム。
(57) [Claim 1] A data storage unit for storing a position in a wafer boat of a wafer already loaded in the wafer boat, and 10 or more wafers in a wafer carrier can be simultaneously extracted . , the wafer boat in a location other than that already wafer into the wafer in the boat is loaded, and the wafer handling arm loading separately all wafer or each withdrawn, all or each of the ten or more wafers handling arm and the wafer handling arm driving unit for operating independently, and a wafer handling arm controller for controlling these wafer contains continuously to the wafer in the carrier
If all the wafer handling arms are
Use the to remove the wafer from the wafer carrier
The wafer is in a discontinuous state in the wafer carrier.
The wafer handling arm
A wafer from the wafer carrier using only
The wafer already loaded in the wafer boat
Depending on the position of the wafer, remove all the wafers
Collectively or separately into the wafer boat
A wafer refilling system for a diffusion furnace, which performs loading .
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