JP3387659B2 - Heat-dependent detector and manufacturing method - Google Patents

Heat-dependent detector and manufacturing method

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JP3387659B2
JP3387659B2 JP26931994A JP26931994A JP3387659B2 JP 3387659 B2 JP3387659 B2 JP 3387659B2 JP 26931994 A JP26931994 A JP 26931994A JP 26931994 A JP26931994 A JP 26931994A JP 3387659 B2 JP3387659 B2 JP 3387659B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、熱依存性検出器および
製造方法、より詳細には、温度、湿度、ガス、赤外線、
圧力、真空度、加速度、流量・流速等、測定値が熱(温
度)に依存する被測定対象物理を測定する検出器および
その製造方法に関する。
FIELD OF THE INVENTION This invention relates to heat-dependent detectors and methods of manufacture, and more particularly to temperature, humidity, gas, infrared,
The present invention relates to a detector for measuring physical objects to be measured whose measured values depend on heat (temperature) such as pressure, degree of vacuum, acceleration, flow rate and flow velocity, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】図6は、従来の検出器の一例を説明する
ための構成図で、図6(a)は平面図、図6(b)は図
6(a)のB−B線断面図を示し、図中、21は、例え
ば、Si基板、22は該Si基板に21に設けられた空
洞で、周知のように、該空洞22の上部には、例えば、
SiO2,Ta25等のような絶縁膜子からなる橋23
が架けられ、該橋23の上には、例えば、Pt,NiC
r等からなる抵抗体パターン24が配設され、更に、該
抵抗体パターン24の上には、SiO2,Ta25等か
らなる保護膜25が設けられ、ボンデングワイヤ26を
通して前記抵抗体パターン24に電流が流され、該抵抗
体パターン24は、その発熱部もしくは感温(熱)部A
が加熱される。
2. Description of the Related Art FIG. 6 is a configuration diagram for explaining an example of a conventional detector. FIG. 6 (a) is a plan view and FIG. 6 (b) is a sectional view taken along line BB of FIG. 6 (a). In the drawing, 21 is, for example, a Si substrate, 22 is a cavity provided in the Si substrate 21, and, as is well known, the upper portion of the cavity 22 is, for example,
Bridge 23 made of insulating film such as SiO 2 or Ta 2 O 5
Is laid on the bridge 23, for example, Pt, NiC
A resistor pattern 24 made of r or the like is provided, and a protective film 25 made of SiO 2 , Ta 2 O 5 or the like is further provided on the resistor pattern 24, and the resistor is passed through a bonding wire 26. An electric current is passed through the pattern 24, and the resistor pattern 24 has a heating portion or a temperature sensing (heat) portion A.
Is heated.

【0003】上述のごとき検出器を用いて、例えば、湿
度を測定する場合を例に説明すると、抵抗24の抵抗値
が周囲の温度及び湿度に依存するため、例えば、最初に
湿度感度が0になるような微少電流を流して周囲温度に
関する抵抗値を測定し、次いで、湿度感度を有する電流
を流して周囲温度及び湿度に関する抵抗値を測定し、次
いで、この温度及び湿度に関する測定値から前記温度に
関する測定値を差し引いて、周囲の湿度を測定するよう
にしている。
Taking the case of measuring the humidity using the detector as described above as an example, the resistance value of the resistor 24 depends on the ambient temperature and humidity. A resistance value related to ambient temperature is measured by passing such a minute current, and then a resistance value related to ambient temperature and humidity is measured by flowing a current having humidity sensitivity. The ambient humidity is measured by subtracting the measured value for.

【0004】上述のごとき検出装置は、半導体及び集積
回路の微細加工技術を用いて、基板21と空間を隔てて
(基板21に空洞22を設けて基板21との熱伝導を避
けて)発熱又は感温部Aを形成しているが、チップは半
導体製造技術の通常の程度からして、そのサイズは厚さ
0.1〜2mm、広さ0.5×0.5mm〜10×10m
mである。この寸法内に上述の空洞22を設けると、発
熱部又は感温部Aと空洞壁22bの距離が、特に空洞底
部22aに対して50〜300μmと接近してしまい、
大きな間隔をとれない。この距離が近いと、発熱部Aよ
りはるかに熱容量の大きい基板21の温度状態により発
熱部が影響を受けてしまい、せっかくの空洞部による熱
絶縁の効果がなくなってしまう。すなわち、基板21か
らの熱輻射および空洞22内の雰囲気の熱伝導が距離が
近いため、このような熱絶縁の効果がなくなってしまう
という欠点を生ずる。
The detection device as described above uses a fine processing technique for semiconductors and integrated circuits to generate heat or to separate a space from the substrate 21 (a cavity 22 is provided in the substrate 21 to avoid heat conduction with the substrate 21). Although the temperature sensitive portion A is formed, the size of the chip is 0.1 to 2 mm in thickness and the width is 0.5 × 0.5 mm to 10 × 10 m in view of the normal level of semiconductor manufacturing technology.
m. If the above-described cavity 22 is provided within this dimension, the distance between the heat-generating portion or temperature-sensing portion A and the cavity wall 22b becomes particularly close to 50 to 300 μm with respect to the cavity bottom 22a,
I can't take a big distance. If this distance is short, the heat generating portion is affected by the temperature state of the substrate 21 having a far larger heat capacity than the heat generating portion A, and the effect of thermal insulation due to the hollow portion is lost. That is, since the heat radiation from the substrate 21 and the heat conduction of the atmosphere in the cavity 22 are close in distance, there is a drawback that the effect of such heat insulation is lost.

【0005】図7は、従来の検出装置の他の例を説明す
るための要部構成図で、図中、21は基板、22は空
洞、23は絶縁膜からなる橋、24は発熱又は感温材
料、24aは該発熱又は感温材料24に対するリードパ
ターン、26はボンデングワイヤ、27はリードワイ
ヤ、28はパッケージベース、29はパッケージキャッ
プで、基板21乃至ボンデングワイヤ26よりなる検出
部は、図4の場合と同様にして、周囲の温度、湿度、そ
の他の物理量を測定する。
FIG. 7 is a main part configuration diagram for explaining another example of a conventional detection device. In the figure, 21 is a substrate, 22 is a cavity, 23 is a bridge made of an insulating film, and 24 is heat or a feeling. A warm material, 24a is a lead pattern for the heat-generating or temperature-sensitive material 24, 26 is a bonding wire, 27 is a lead wire, 28 is a package base, 29 is a package cap, and the detection unit composed of the substrate 21 to the bonding wire 26 is The ambient temperature, humidity and other physical quantities are measured in the same manner as in FIG.

【0006】上述のごとき検出装置において、基板上の
感温材料24が受ける熱の影響として、周辺基板21か
らの熱輻射(a1)、外部パッケージ29からの熱輻射
(a2)、ブリッジのサスペション23からの熱伝導
(b1)、パッケージベース28からの熱伝導(b2)、
周辺の対流(b3)の熱伝導等がある。この感温材料2
4の周囲温度の変化に対する応答時間は、周囲温度が8
0℃である状態を20℃にした場合、感温材料24が2
0℃になるまでに約20minを要する。感温材料24
は、基板21の空洞部22を介しているため、パッケー
ジ28,29や基板21と接触しておらず、しかも、微
小熱容量であることもあり、もっと急速に周囲雰囲気の
温度になじんでも良いものと考えられるが、実際は、上
述のように多大な時間を要してしまう。因に、パッケー
ジベースの応答時間も約20minである。従って、感温
材料は空洞部が有っても無くても応答時間は短くならな
い。
In the detection device as described above, the influence of the heat received by the temperature-sensitive material 24 on the substrate is that the heat radiation from the peripheral substrate 21 (a 1 ), the heat radiation from the external package 29 (a 2 ), the bridge Heat conduction from the suspension 23 (b 1 ), heat conduction from the package base 28 (b 2 ),
There is heat conduction in the surrounding convection (b 3 ). This temperature sensitive material 2
The response time of the ambient temperature of 4 is 8
If the temperature of 0 ° C. is changed to 20 ° C., the temperature sensitive material 24 becomes 2
It takes about 20 minutes to reach 0 ° C. Temperature-sensitive material 24
Is not in contact with the packages 28, 29 and the substrate 21 because it is through the cavity 22 of the substrate 21, and may have a small heat capacity, so that it may adapt to the temperature of the ambient atmosphere more rapidly. However, in reality, it takes a lot of time as described above. The package-based response time is also about 20 min. Therefore, the temperature sensitive material does not have a short response time with or without a cavity.

【0007】上述のごとき検出装置においては、発熱又
は感温部の材料及びその配置をアレンジすることによ
り、例えば、温度、湿度、ガス、赤外線、圧力、真空
度、加速度、流量・流速度を被測定対象の物理現象とし
て、以下の1〜7の原理、すなわち、 1.電気抵抗体の抵抗値変化として、 2.雰囲気を脱吸着させる感応膜を有し、該感応膜の電
気抵抗値が変化するものとして、 3.雰囲気を脱吸着させる感応膜を有し、該感応膜の静
電容量が変化するものとして、 4.雰囲気を脱吸着させる感応膜を有し、該感応膜の重
量変化を共振周波数変化として、 5.雰囲気を脱吸着させる感応膜を有し、該感応膜の化
学反応により反応熱を生じ、この熱を別の抵抗体の抵抗
値変化として、 6.温度変化を熱電対膜の出力電圧変化として、 7.たわみ量をピエゾ抵抗効果の出力電圧変化として、 利用することにより測定される。
In the detection device as described above, for example, temperature, humidity, gas, infrared rays, pressure, vacuum degree, acceleration, flow rate and flow velocity are detected by arranging the materials of heat generation or temperature sensing parts and their arrangement. As the physical phenomenon to be measured, the following principles 1 to 7, namely, 1. As the resistance value change of the electric resistor, 2. It has a sensitive film for desorbing an atmosphere and the electric resistance value of the sensitive film changes. 3. It has a sensitive film that desorbs an atmosphere, and the capacitance of the sensitive film changes. 4. A sensitive film for desorbing an atmosphere is provided, and a change in weight of the sensitive film is used as a change in resonance frequency. 5. Having a sensitive film for desorbing the atmosphere, the reaction heat is generated by the chemical reaction of the sensitive film, and this heat is used as the resistance value change of another resistor. 6. The temperature change is taken as the output voltage change of the thermocouple membrane, It is measured by using the amount of deflection as the output voltage change of the piezoresistive effect.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】前記1乃至7の測定原
理を用いて被測定対象の物理量を測定する場合、その測
定値は、温度により影響を受けるものであるから、被測
定対象の温度が正確に分っていないと、意味のない測定
結果になってしまう。例えば、気体の圧力をピエゾ抵抗
によって検出する際に、その気体の温度が分っていない
と、正確な圧力は分らない。気体の温度とピエゾ抵抗の
温度(ピエゾ抵抗に温度依存性がある)が、ある知られ
た関係にあれば良いが、そうでない場合には、温度補償
なる手段により解決しようとする。しかし、温度平衡に
なるまでピエゾ抵抗を気体中に放置すれば別であるが、
実際には、気体の温度変動とピエゾ抵抗の温度変化がピ
エゾ抵抗の多大なる熱容量が原因で追従できない。その
結果、温度補償が不完全になってしまう。
When the physical quantity of the object to be measured is measured by using the above-mentioned measurement principles 1 to 7, the measured value is influenced by the temperature. If you don't know it accurately, you will get meaningless measurement results. For example, when the pressure of a gas is detected by piezo resistance, if the temperature of the gas is not known, the accurate pressure cannot be known. It suffices that the temperature of the gas and the temperature of the piezoresistive (the piezoresistive have temperature dependence) have a certain known relationship, but if not, a solution of temperature compensation is used. However, if the piezoresistor is left in gas until temperature equilibrium is reached,
Actually, the temperature change of the gas and the temperature change of the piezoresistance cannot follow because of the large heat capacity of the piezoresistance. As a result, temperature compensation becomes incomplete.

【0009】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなさ
れたもので、特に、基板上に感温又は感湿材料等の熱依
存性検出素子が設けられた検出器において、フレームに
固着される熱依存性検出素子を、熱容量が大きく雰囲気
温度の変化に対して熱応答の遅いフレームから離間した
位置に設け、しかも、検出感度を低下させることなく熱
容量を小さくすることにより、正しい雰囲気温度におい
ての被測定対象の物理量を検知して基準温度における物
理量に補正可能にすることを第1の目的とし、更には、
熱依存性検出素子を製造する際、要部の熱依存性検出素
子を痛めることがないように熱依存性検出素子のまわり
に半導体基板による保護外框を設け、該保護外框を熱依
存性検出素子がフレームに固着された後に取り除くこと
により、該熱依存性検出素子の歩留りを向上させること
を他の目的としてなされたものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and in particular, in a detector in which a heat-dependent detection element such as a temperature-sensitive or moisture-sensitive material is provided on a substrate, it is fixed to a frame. By providing the heat-dependent detection element at a position away from the frame, which has a large heat capacity and a slow thermal response to changes in the ambient temperature, and reduces the heat capacity without lowering the detection sensitivity, the correct temperature The first object is to detect the physical quantity of the object to be measured and correct it to the physical quantity at the reference temperature.
When manufacturing a heat-dependent detection element, a protective outer frame with a semiconductor substrate is provided around the heat-dependent detection element so as not to damage the heat-dependent detection element of the main part, and the protection outer frame is made to depend on the heat dependency. Another purpose is to improve the yield of the heat-dependent detection element by removing the detection element after it is fixed to the frame.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、(1)表面に絶縁膜を有する基板と、該
基板を一端側で固着支持するフレームと、前記絶縁膜上
に設けられた被測定対象の物理量を検出するための熱依
存性検出素子を有し、該熱依存性検出素子は、前記フレ
ームに固着された前記基板の自由端側に設けられ、該熱
依存性検出素子が設けられた部分には前記基板を有しな
いようにしたこと、更には、(2)表面に絶縁膜を有す
る基板と、前記絶縁膜上に設けられた被測定対象の物理
量を検出するための熱依存性検出素子と、該熱依存性検
出素子に接続され、前記基板が一端側で絶縁固着支持さ
れるリードを有し、前記熱依存性検出素子が設けられた
部分には前記基板を有しないようにしたこと、或いは、
(3)前記熱依存性検出素子の形成時に、前記フレーム
又はリードに固着される前記基板の固着側から、前記自
由端側に、切り離し溝により支持され、前記熱依存性検
出素子を保護するための保護外框を設け、前記フレーム
又はリードに前記熱依存性検出素子を固着した後に、該
保護外框を切り離すようにすること、更には、(4)表
面に絶縁膜を有する基板上に、複数の前記熱依存性検出
素子を直線的に形成し、形成された複数の熱依存性検出
素子間に生じる間隙を充填材で埋めて固化後、個々の前
記熱依存性検出素子を切り離して前記フレーム又はリー
ドに絶縁固着して、前記充填材を除去することを特徴と
したものである。
In order to solve the above problems, the present invention provides (1) a substrate having an insulating film on its surface, a frame for fixing and supporting the substrate at one end side, and an insulating film on the insulating film. The thermal dependence detecting element is provided for detecting the physical quantity of the measured object provided, and the thermal dependence detecting element is provided on the free end side of the substrate fixed to the frame, and the thermal dependence is provided. The portion provided with the detection element is not provided with the substrate, and (2) the substrate having an insulating film on the surface and the physical quantity of the object to be measured provided on the insulating film are detected. A heat-dependent detection element, and a lead connected to the heat-dependent detection element, the substrate being insulated and fixedly supported at one end side, and the substrate provided in a portion where the heat-dependent detection element is provided. Not having, or
(3) When the heat-dependent detection element is formed, the frame
Alternatively, from the fixing side of the substrate fixed to the lead to the free end side, a protective outer frame for protecting the heat-dependent detection element, which is supported by a separation groove, is provided, and the frame is provided.
Alternatively , after fixing the heat-dependent detection element to a lead , the protective outer frame is separated, and further, (4) a plurality of the heat-dependent detection elements are provided on a substrate having an insulating film on the surface. Formed linearly, after filling the gap generated between the formed plurality of heat-dependent detection elements with a filling material and solidifying, the individual heat-dependent detection elements are separated and insulated and fixed to the frame or lead, It is characterized in that the filler is removed.

【0011】[0011]

【作用】半導体集積回路の微細加工技術により、基板面
の絶縁膜上の一端側に熱依存性検出素子を、他端側に該
熱依存性検出素子のリードパッドを設け、更に熱依存性
検出素子が設けられた基板部を取り除くことにより熱容
量を小さくし熱応答性を高め、基板の他端側を熱容量の
大きいリードが設けられたフレーム又はリードに固着
し、フレームの温度に影響されない雰囲気温度における
被測定対象の物理量を求めることを可能にする。更に
は、上記熱依存性検出素子を製造するための一つの方法
は、熱依存性検出素子を痛めることないように基板に切
り離し溝を有する保護外框を設け、該基板をリードパッ
ド側でフレームに固着し、保護外框を、フレームに固着
後切り離し溝から切り離すもので、他方の方法は、微細
加工技術により複数の熱依存性検出素子が造られた基板
の空洞部に樹脂を埋め込み、これを各別の熱依存性検出
素子に切断後樹脂を溶解するものである。
By the fine processing technology of the semiconductor integrated circuit, the thermal dependency detecting element is provided on one end side and the lead pad of the thermal dependency detecting element is provided on the other end side on the insulating film on the substrate surface, and the thermal dependency detecting element is further provided. Atmospheric temperature that is not affected by the temperature of the frame by fixing the other end of the board to the frame or the lead with the large heat capacity by reducing the heat capacity by removing the board part on which the element is provided It is possible to obtain the physical quantity of the object to be measured in. Further, one method for manufacturing the heat-dependent detection element is to provide a protective outer frame having a cut groove on the substrate so as not to damage the heat-dependent detection element, and to frame the substrate on the lead pad side. The protective outer frame is fixed to the frame and then separated from the separation groove after fixing to the frame.The other method is to embed resin in the cavity of the substrate on which multiple heat-dependent detection elements are made by microfabrication technology. The resin is dissolved after being cut into separate heat-dependent detection elements.

【0012】[0012]

【実施例】【Example】

〔実施例1〕(請求項1に対応) 図1は、本発明による熱依存性検出器の要部構造の一例
を説明するための図であり、図1(a)は熱依存性検出
器の部分平面図、図1(b)は図1(a)の矢視B−
B′線断面図であり、図中、1はフレーム、2は基板、
3は絶縁膜、4は熱依存性検出素子、5は抵抗体パター
ン、6はリード、7はボンデングワイヤ、8は保護膜で
ある。
[Embodiment 1] (corresponding to claim 1) FIG. 1 is a view for explaining an example of a main structure of a heat dependence detector according to the present invention, and FIG. 1 (a) is a heat dependence detector. 1B is a partial plan view of FIG.
FIG. 2 is a sectional view taken along the line B ′, in which 1 is a frame, 2 is a substrate,
Reference numeral 3 is an insulating film, 4 is a heat dependency detecting element, 5 is a resistor pattern, 6 is a lead, 7 is a bonding wire, and 8 is a protective film.

【0013】図1(a)に示した熱依存性検出器は、熱
依存性検出素子4を感温素子とした場合の例である。基
板2は、例えば、N型のSi(100)の矩形状基板
で、表面にSiO2,Ta25等の絶縁膜3が形成され
ている。基板2上の絶縁膜3の上には、ホトリソグラフ
ィ技術、成膜技術およびエッチング技術等の半導体集積
回路の微細加工方法により抵抗体パターン5が基板2の
一端側に形成される。
The heat-dependent detector shown in FIG. 1A is an example in which the heat-dependent detecting element 4 is a temperature sensitive element. The substrate 2 is, for example, an N-type Si (100) rectangular substrate, and an insulating film 3 of SiO 2 , Ta 2 O 5 or the like is formed on the surface thereof. On the insulating film 3 on the substrate 2, a resistor pattern 5 is formed on one end side of the substrate 2 by a fine processing method of a semiconductor integrated circuit such as a photolithography technique, a film forming technique and an etching technique.

【0014】抵抗体パターン5は、被測定対象の物理量
(図示の場合、温度)を検知するためのもので、Pt、
NiCr等からなる抵抗薄膜による同心円状のパターン
が直列接続され高抵抗値とした感温センサであり、端部
には、同一抵抗薄膜からなる平行な幅広のリードパター
ン5a、およびリードパッド5bが接続されている。
The resistor pattern 5 is for detecting the physical quantity (temperature in the case shown) of the object to be measured, and Pt,
This is a temperature-sensitive sensor having a high resistance value in which concentric circular patterns made of resistive thin films made of NiCr or the like are connected in series, and parallel wide lead patterns 5a made of the same resistive thin films and lead pads 5b are connected to the ends. Has been done.

【0015】基板2は、熱依存性検出素子4の熱容量を
小さくするために、熱依存性検出素子4をフレーム1に
固着する部分以外と、リードパターン5aおよび抵抗体
パターン5の外周部分を異方性エッチングにより(11
1)面に従って取り除かれている。更に、抵抗体パター
ン5の部分は、抵抗体パターン5より僅かに大きい円形
部分の絶縁膜3を残して基板部分は異方性エッチングに
より取り除かれる。取り除かれた基板はアンダーカット
とならないように上下面からエッチングされ、図1
(b)に示すように、断面“く”の字形になっている。
なお、絶縁膜3の中央には孔3aが設けられ、熱依存性
検出素子4部分の熱容量を更に小さくしている。
In order to reduce the heat capacity of the heat-dependent detection element 4, the substrate 2 differs from the portion where the heat-dependent detection element 4 is fixed to the frame 1 and the outer peripheral portions of the lead pattern 5a and the resistor pattern 5. By anisotropic etching (11
1) Removed according to face. Further, the portion of the resistor pattern 5 is removed by anisotropic etching while leaving the circular insulating film 3 slightly larger than the resistor pattern 5. The removed substrate is etched from the top and bottom to prevent undercut,
As shown in (b), it has a V-shaped cross section.
A hole 3a is provided in the center of the insulating film 3 to further reduce the heat capacity of the heat dependency detecting element 4 portion.

【0016】以上の如く形成された熱依存性検出素子4
は、基板固着部2aの部分でフレーム1に接着剤等によ
り片持梁状に固着され、リード6とリードパッド5bと
の間をボンデングワイヤ7で接続される。
The heat-dependent detection element 4 formed as described above.
Is fixed to the frame 1 in a cantilever shape at the substrate fixing portion 2a with an adhesive or the like, and the lead 6 and the lead pad 5b are connected by a bonding wire 7.

【0017】上述した構造の熱依存性検出器は、熱依存
性検出素子4が熱容量の大きいフレーム1から離間した
位置に配置され、リードパターン5a部分で片持梁状に
支持されているので、熱依存性検出素子4に対するフレ
ーム1側からの熱影響が小さく、しかも、熱依存性検出
素子4に基板2を有しないので熱容量は小さく、熱依存
性検出素子4により環境温度に従って温度検出をするこ
とが可能となる。
In the heat-dependent detector having the above-described structure, the heat-dependent detector element 4 is arranged at a position separated from the frame 1 having a large heat capacity, and is supported in a cantilever shape by the lead pattern 5a. The heat effect from the frame 1 side to the heat-dependent detection element 4 is small, and moreover, the heat-dependent detection element 4 does not have the substrate 2, so the heat capacity is small, and the temperature is detected by the heat-dependent detection element 4 according to the ambient temperature. It becomes possible.

【0018】図1に示した熱依存性検出器を、例えば、
気体の流速,流量センサとして用いる場合、熱依存性検
出素子4は抵抗パターン5に所定の電流を印加して発熱
して生ずる熱量が気体の流れにより放熱し、温度変化に
よる抵抗値の変化として流速が検知される。このときの
気体の流れは、矢印で示す(紙面に平行な)面に対して
垂直なZ方向,Y,X方向のいずれかの流れの中に設置
することができる。しかし、X方向としては、フレーム
1等の熱影響を受けることがないように、熱依存性検出
素子4が上流側となるように限定する必要がある。
The heat-dependent detector shown in FIG.
When used as a gas flow rate / flow rate sensor, the heat dependency detecting element 4 applies a predetermined current to the resistance pattern 5 to generate heat, and the generated heat is radiated by the gas flow, and the flow rate changes as a change in resistance value due to temperature change. Is detected. The gas flow at this time can be set in any of the Z-direction, Y-direction, and X-direction flows perpendicular to the plane (parallel to the paper surface) indicated by the arrow. However, in the X direction, it is necessary to limit the heat-dependent detection element 4 to the upstream side so as not to be affected by the heat of the frame 1 and the like.

【0019】なお、図1に示した熱依存性検出素子4
は、一端側でフレーム1に固着されているが、フレーム
1を省いてリード6に直接固着することも可能である。
The thermal dependence detecting element 4 shown in FIG.
Is fixed to the frame 1 at one end side, but it is also possible to omit the frame 1 and directly fix to the lead 6.

【0020】〔実施例2〕(請求項2に対応) 図2は、熱依存性検出素子をリードに直接固着支持され
た例を説明するための図であり、図2(a)は平面図、
図2(b)は図2(a)の矢視B−B′線断面図、図2
(c1),(c2),(c3)は図2(a)の矢視C−C′
線断面図で、図中、9は絶縁層、10は接着材であり、
図1と同様の作用をする部分には、図1の場合と同じ参
照番号が付してある。
[Embodiment 2] (corresponding to claim 2) FIG. 2 is a view for explaining an example in which a heat-dependent detection element is directly fixed and supported on a lead, and FIG. 2 (a) is a plan view. ,
2B is a sectional view taken along the line BB ′ of FIG.
(C 1 ), (c 2 ), and (c 3 ) are views taken along the line CC ′ of FIG.
In the figure, 9 is an insulating layer, 10 is an adhesive,
The same reference numerals as in the case of FIG. 1 are attached to the portions having the same operations as in FIG.

【0021】図1に示した基板2表面の絶縁膜3上に
は、熱依存性検出素子4が設けられ、裏面にはフレーム
1が直接固着されているが、図2に示した熱依存性検出
器の基板2の裏面には、熱酸化,PVD(Physcal Vapo
r Deposition)又はCVD(Chemical Vapor Depositio
n)等による薄膜状のSiO2等による絶縁層9が形成さ
れており、一対のリード6に接着材10により絶縁固着
されている。
The thermal dependence detecting element 4 is provided on the insulating film 3 on the surface of the substrate 2 shown in FIG. 1, and the frame 1 is directly fixed to the back surface thereof. However, the thermal dependence shown in FIG. On the back surface of the substrate 2 of the detector, thermal oxidation, PVD (Physcal Vapo)
r Deposition) or CVD (Chemical Vapor Depositio)
An insulating layer 9 made of thin film SiO 2 or the like formed by n) or the like is formed, and is insulated and fixed to the pair of leads 6 by an adhesive material 10.

【0022】図2に示すように、基板2を有しない絶縁
膜3上に設けられた熱依存性検出素子4の基板2の下面
に絶縁層9を形成して、該基板2を直接リード6に固着
することにより、フレーム1が不要となりコスト低減さ
れる。図1(c1)はリード6が金属(メタル)の場
合、図1(c2)はリード6が絶縁体(ポリイミド,ガ
ラエボ等)で表面全体にCuやAuの導電材6aが接着
されている場合、図1(c3)はリード6が絶縁体で表
面に部分的にCuやAuの導電材6aが接着されている
場合の基板2とリード6の固着方法を、基板2に絶縁層
9がある場合は、導電性リードに直接固着可能であり、
絶縁層9がない場合は、絶縁性リードに固着する。
As shown in FIG. 2, an insulating layer 9 is formed on the lower surface of the substrate 2 of the thermal dependency detecting element 4 provided on the insulating film 3 having no substrate 2, and the substrate 2 is directly lead 6 Since the frame 1 is fixed, the frame 1 becomes unnecessary and the cost is reduced. In FIG. 1 (c 1 ), when the lead 6 is a metal, in FIG. 1 (c 2 ) the lead 6 is an insulator (polyimide, glass evo, etc.) and a conductive material 6 a of Cu or Au is adhered to the entire surface. 1 (c 3 ) shows a method of fixing the substrate 2 and the lead 6 in the case where the lead 6 is an insulator and a conductive material 6a of Cu or Au is partially adhered to the surface. If there is 9, it can be directly fixed to the conductive lead,
If the insulating layer 9 is not provided, it is fixed to the insulating lead.

【0023】なお、熱依存性検出素子4は、抵抗体によ
る感温センサだけでなく、抵抗パターン5の一部を削除
し、この部分に、TiO2,V25等の多孔質燒結体、
スチレン重合体等の合成樹脂等の感湿導電材料等を接続
することにより感湿センサやその他の熱依存性検出素子
とすることもできる。
The heat-dependent detection element 4 is not limited to the temperature sensor made of a resistor, but a part of the resistance pattern 5 is deleted, and a porous sintered body of TiO 2 , V 2 O 5 or the like is added to this portion. ,
By connecting a moisture-sensitive conductive material such as a synthetic resin such as a styrene polymer or the like, the moisture-sensitive sensor or other heat-dependent detection element can be used.

【0024】しかし、このように構成され熱依存性検出
素子4は薄型であり、微細構造物を扱う上で機械的強度
が低いから、直接加工治工具等が構造物に接触しないよ
うに保護する必要がある。そのために、構造物周辺に
は、その保護となる外框を設置することが有効である。
以下、保護外框を有する熱依存性検出器の製造方法を述
べる。
However, since the heat dependency detecting element 4 thus constructed is thin and has a low mechanical strength when handling a fine structure, it is protected so that a machining tool or the like does not directly contact the structure. There is a need. Therefore, it is effective to install an outer fence around the structure to protect it.
Hereinafter, a method for manufacturing a heat-dependent detector having a protective outer frame will be described.

【0025】〔実施例3〕(請求項3に対応) 図3は、本発明による熱依存性検出器の製造方法を説明
するための平面図であり、図4は、図3の各部断面の形
状を説明するための図であり、図4(a)に図2の矢視
A−A′線断面図、図4(b)は、図2の矢視B−B′
線断面図、図4(c)は、図3の矢視C−C′断面図
で、図中、11は空洞部、12は切り離し溝、13は保
護外框であり、図1と同様の作用をする部分には、図1
の場合と同じ参照番号を付してある。
[Third Embodiment] (Corresponding to Claim 3) FIG. 3 is a plan view for explaining a method of manufacturing a thermal dependence detector according to the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view of each portion of FIG. It is a figure for demonstrating a shape, FIG.4 (a) is the arrow AA 'sectional view taken on the line of FIG. 2, FIG.4 (b) is the arrow BB' of FIG.
A line sectional view, FIG. 4 (c) is a sectional view taken along the line CC ′ of FIG. 3, in which 11 is a hollow portion, 12 is a separating groove, and 13 is a protective outer frame. Figure 1 shows the parts that act.
The same reference numerals as in the above are attached.

【0026】次に、熱依存性検出器の製造方法を、図3
に従って説明する。 (1)Si基板に切離し溝を有する保護外框を設ける。
表面に、TiO3,Ta25等の絶縁膜3を有する矩形
状のSi基板(100)に、図1(a)に示した熱依存
性検出素子4を、ホトリソグラフィ技術、成膜技術及び
エッチング技術によりパターン形成して成膜し、抵抗パ
ターン5を形成し、更に、異方性エッチングにより、基
板2に固着部2a、リード部2b、検出部2cを形成す
る工程と同一工程で保護外框13を作る。
Next, a method of manufacturing the heat-dependent detector will be described with reference to FIG.
Follow the instructions below. (1) A protective outer frame having a separation groove is provided on the Si substrate.
The thermal dependency detection element 4 shown in FIG. 1A is formed on a rectangular Si substrate (100) having an insulating film 3 made of TiO 3 , Ta 2 O 5 or the like on the surface thereof, by photolithography technology, film formation technology. And a pattern is formed by an etching technique to form a resistance pattern 5, and is anisotropically etched in the same step as the step of forming the fixed portion 2a, the lead portion 2b, and the detection portion 2c on the substrate 2. Make the outer frame 13.

【0027】保護外框13は、矩形状の基板2の一辺側
の固着部2aを除いた他の三辺の外周により構成された
U字状で、両端が基板2の固着部2aに、切り離し溝1
2によって接続されている。切り離し溝12は、(11
1)面によるV字状で、図3の矢視A−A線において、
図4(a)−(1)に示す、表側のみの溝12aの場
合、図4(a)−(2)に示す、裏側のみの溝12b、
更に図4(a)−(3)に示す、表面両面からの溝12
a,12bの溝入れを行う場合がある。
The protective outer frame 13 has a U-shape constituted by the outer circumferences of the other three sides excluding the fixing portion 2a on one side of the rectangular substrate 2, and both ends thereof are separated from the fixing portion 2a of the substrate 2. Groove 1
Connected by two. The separation groove 12 is (11
1) V-shaped by the plane, in the line AA of the arrow in FIG.
In the case of the front side only groove 12a shown in FIGS. 4 (a)-(1), the back side only groove 12b shown in FIGS. 4 (a)-(2),
Further, as shown in FIGS. 4 (a)-(3), the groove 12 from both surfaces
Grooving of a and 12b may be performed.

【0028】保護外框13を設けるため、熱依存性検出
素子4、リード部2bとの間に空洞部11を設ける。空
洞部11は、基板2の表裏側から異方性エッチングによ
り形成するので熱依存性検出素子4の部分では、図4
(b)に示すように絶縁膜3上に抵抗パターン5が形成
され保護膜8で覆われた部分だけが残る。
In order to provide the protective outer frame 13, the cavity portion 11 is provided between the heat dependency detecting element 4 and the lead portion 2b. Since the cavity 11 is formed by anisotropic etching from the front and back sides of the substrate 2, in the portion of the thermal dependence detection element 4, the cavity 11 is formed as shown in FIG.
As shown in (b), the resistance pattern 5 is formed on the insulating film 3, and only the portion covered with the protective film 8 remains.

【0029】図4(c)に示す矢視C−C′線の空洞部
11は、基板2の固着部2aと保護外框13を残すだけ
である。 (2)基板をフレームに固着する。図3に示す熱依存性
検出素子4、および切り離し溝12で支持される保護外
框13を有する基板2は、接着剤等により一端側の固着
部2a部分でフレーム1に固着する。 (3)保護外框を切り離す。保護外框13は、熱依存性
検出素子4等の構造物が完成すると、保護の目的は完了
し、しかも熱容量が大きいため熱依存性検出素子4に熱
影響を及ぼすので、切り離し溝12の部分から切り離
す。 (4)ワイヤボンディングを行う。フレーム1のリード
6と、基板2の熱依存性検出素子4のリードパターン5
aとは、該リードパターン5aのリードパッド5bにお
いてボンディングワイヤ7により接続される。なお、
(3)の保護外框を切り離す工程と、 (4)のワ
イヤボンディングを行う工程とを逆にしてもよい。 (5)パッケージ封止する。フレーム1に固着された熱
依存性検出素子4は、例えば、フレーム1を介してリー
ドワイヤ(図示せず)を有するパッケージベース(図示
せず)に固着されて前記リードワイヤと熱依存性検出素
子4とが接続されてから、パッケージでキャップ(図示
せず)により封止され熱依存性検出器が完成する。
The cavity 11 along the line CC 'shown in FIG. 4 (c) only leaves the fixing portion 2a of the substrate 2 and the protective outer frame 13. (2) Fix the substrate to the frame. The heat-dependent detection element 4 shown in FIG. 3 and the substrate 2 having the protective outer frame 13 supported by the separation groove 12 are fixed to the frame 1 at the fixing portion 2a on one end side with an adhesive or the like. (3) Separate the protective outer frame. When the structure such as the heat-dependent detection element 4 is completed, the protective outer frame 13 completes the purpose of protection, and has a large heat capacity, which affects the heat-dependent detection element 4 thermally. Disconnect from. (4) Wire bonding is performed. The lead 6 of the frame 1 and the lead pattern 5 of the thermal dependence detection element 4 of the substrate 2
a is connected by a bonding wire 7 at the lead pad 5b of the lead pattern 5a. In addition,
The step (3) of separating the protective outer frame and the step (4) of wire bonding may be reversed. (5) Package sealing. The heat-dependent detection element 4 fixed to the frame 1 is fixed to a package base (not shown) having a lead wire (not shown) via the frame 1 and the lead wire and the heat-dependent detection element, for example. 4 is connected, and then the package is sealed with a cap (not shown) to complete the heat-dependent detector.

【0030】以上の工程に示すように、基板2に熱依存
性検出素子4を半導体集積回路の微細加工技術により作
るとき、同時に、基板2に保護外框13を設け、フレー
ム1に固着してから保護外框13を切り離し溝12より
切り離すので熱依存性検出素子を痛めることがなく歩留
りが向上する。
As shown in the above steps, when the heat dependency detecting element 4 is formed on the substrate 2 by the fine processing technique of the semiconductor integrated circuit, at the same time, the protective outer frame 13 is provided on the substrate 2 and fixed to the frame 1. The protective outer frame 13 is separated from the groove 12 so that the heat-dependent detection element is not damaged and the yield is improved.

【0031】上述のように、薄膜状の熱依存性検出素子
4を加工治工具等により、痛めないために熱依存性検出
素子4の周りに保護外框13を設ける熱依存性検出器の
製造方法について述べたが、保護外框13を設けず、熱
依存性検出素子4を保護することも可能である。
As described above, the manufacture of the heat-dependent detector in which the protective outer frame 13 is provided around the heat-dependent detection element 4 in order to prevent the thin film-shaped heat-dependent detection element 4 from being damaged by a processing jig or the like. Although the method has been described, it is also possible to protect the heat-dependent detection element 4 without providing the protective outer frame 13.

【0032】〔実施例4〕(請求項4に対応) 図5は、熱依存性検出器の他の製造方法の工程を説明す
るための図であり、図5(a)は第1工程による基板の
平面図、図5(b1)は切り離した熱依存性検出素子の
状態、図5(b2)は図5(b1)の矢視B1−B1線断面
図、図5(c1)はフレームに接着した状態、図5
(c2)は図5(c1)の矢視C1−C1線断面図、図5
(d1)は完成図を示す図、図5(d2)は図5(d1
の矢視D1−D1線断面図であり、図中、14は単一の基
板、15は間隙部、16は樹脂で、図1,3と同様の作
用をする部分には、図1,3の場合と同様の参照番号が
付してある。
[Fourth Embodiment] (Corresponding to Claim 4) FIG. 5 is a view for explaining a step of another manufacturing method of the thermal dependence detector, and FIG. 5 (a) shows the first step. plan view of the substrate, FIG. 5 (b 1) the state of the heat-dependent detection elements separate from, 5 (b 2) is 5 (b 1) arrow B 1 -B 1 line sectional view of FIG. 5 ( c 1 ) is adhered to the frame, FIG.
(C 2) are arrow C 1 -C 1 line sectional view of FIG. 5 (c 1), 5
(D 1 ) is a diagram showing a completed drawing, and FIG. 5 (d 2 ) is FIG. 5 (d 1 ).
1 is a cross-sectional view taken along the line D 1 -D 1 of FIG. 1 , in which 14 is a single substrate, 15 is a gap, and 16 is a resin. , 3, the same reference numerals are attached.

【0033】次に、熱依存性検出器の他の製造方法を図
5に従って説明する。 (1)Si等の単一の基板上に複数の熱依存性検出素子
を作成し(図5(a)に斜線にて示す)、各熱依存性検
出素子間に生じる間隙部15に樹脂を埋める。図3に従
って説明したと同様に、熱依存性検出素子4をホトリソ
グラフィ技術,成膜技術およびエッチング技術によりパ
ターン形成して成膜し、複数の熱依存性検出素子4をX
方向,Y方向に直線的に形成する(図5(a)の斜線
部)。このため、各々の薄膜状の熱検出素子4および隣
接する熱検出素子4間の間隙部(図5(a)の白抜き
部)15が生ずる。この間隙部15にアクリル等の樹脂
等の充填材を埋め込み、固化する(図5(a))。 (2)各々の熱依存性検出素子を切り離す。間隙部15
内にアクリル等の樹脂16が埋め込まれた単一の基板1
4は、ダイシング等により縦,横方向に線X1−X1,X
2−X2,…,Xn−Xn,Y1−Y1,Y2−Y2,Y3−Y3
に従って樹脂16を有する個別の熱依存性検出素子4を
切り離す(図5(b1)(b2))。 (3)フレームに接着する。樹脂16を固着した状態の
まま熱依存性検出素子4をリードバッド側でフレーム1
に接着材で固着する(図5(c1)(c2))。 (4)樹脂を溶かして取り除く。図5(c)に示すフレ
ーム1に固着した熱依存性検出素子4を、フレーム1と
の接着材を溶解することなくアクリルの樹脂16だけを
溶かす有機溶剤により、樹脂16を溶かして取り除き
(図5(d1)(d2))、フレーム1に固着された熱依
存性検出素子4を得る。
Next, another method of manufacturing the heat-dependent detector will be described with reference to FIG. (1) A plurality of heat-dependent detection elements are formed on a single substrate such as Si (shown by hatching in FIG. 5A), and resin is applied to the gap 15 formed between the heat-dependent detection elements. fill in. In the same manner as described with reference to FIG. 3, the heat-dependent detection element 4 is patterned and formed into a film by the photolithography technology, the film formation technology, and the etching technology, and the plurality of heat-dependent detection elements 4 are separated by X.
Direction and Y direction are formed linearly (hatched portion in FIG. 5A). Therefore, a thin film-shaped heat detecting element 4 and a gap portion (white portion in FIG. 5A) 15 between adjacent heat detecting elements 4 are generated. A filling material such as a resin such as acrylic is embedded in the gap 15 and solidified (FIG. 5A). (2) Separate each heat-dependent detection element. Gap 15
A single substrate 1 in which a resin 16 such as acrylic is embedded
4 is the lines X 1 -X 1 , X in the vertical and horizontal directions due to dicing or the like.
2 -X 2, ..., X n -X n, Y 1 -Y 1, Y 2 -Y 2, Y 3 -Y 3
The individual heat-dependent detection elements 4 having the resin 16 are separated according to (FIG. 5 (b 1 ) (b 2 )). (3) Adhere to the frame. With the resin 16 fixed, the thermal dependency detecting element 4 is attached to the frame 1 on the lead pad side.
It is fixed to the surface with an adhesive (Fig. 5 (c 1 ) (c 2 )). (4) Melt and remove the resin. The heat-dependent detection element 4 fixed to the frame 1 shown in FIG. 5C is removed by dissolving the resin 16 with an organic solvent that dissolves only the acrylic resin 16 without dissolving the adhesive material with the frame 1 (see FIG. 5 (d 1 ) (d 2 )), the heat-dependent detection element 4 fixed to the frame 1 is obtained.

【0034】この製造方法によると、間隙部15内に樹
脂16を埋め込み固着してから樹脂16部分とともに、
各々の熱依存性検出素子4を切り離すので、切削時間が
短縮され、外力を加えることなく樹脂を溶かすので、熱
依存性検出素子4は保護外框13を設けた場合と同様の
保護がなされ、しかも、ローコストに製造することがで
きる。
According to this manufacturing method, the resin 16 is embedded and fixed in the gap portion 15, and then, together with the resin 16 portion,
Since each heat-dependent detection element 4 is separated, the cutting time is shortened and the resin is melted without applying an external force, so that the heat-dependent detection element 4 is protected in the same manner as when the protective outer frame 13 is provided, Moreover, it can be manufactured at low cost.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によると、以下のような効果がある。 (1)請求項1に対応する効果:熱依存性検出素子を熱
容量の大きいフレームに固着支持される基板の一端側か
ら遠い位置の自由端側に設け、しかも熱依存性検出素子
の部分の基板を取り除き絶縁膜のみとしたので熱容量は
小さく環境温度に従った被測定対象の物理量を応答よく
検知することができる。 (2)請求項2に対応する効果:請求項1と同様の効果
を有し、しかも、フレームを省き、熱依存性検出素子を
直接リードに絶縁固着したので、ローコストの熱依存性
検出器が得られる。 (3)請求項3に対応する効果:熱依存性検出素子と、
該熱依存性検出素子を保護するための切り離し溝を有す
る保護外框を、同時に加工し、加工完了後、フレーム
はリードに固着してから保護外框を切り離すので熱依存
性検出素子を痛めることがなく歩留りが向上する。 (4)請求項4に対応する効果:請求項3と同様の効果
を有し、複数の熱依存性検出素子が設けられ、基板の各
々の熱依存性検出素子の間の隙間部に樹脂を埋め込み固
化してから個々の熱依存性検出素子を樹脂部を含んで切
り離すので、切削工数が短かくでき、ローコストの熱依
存性検出器が得られる。
As is apparent from the above description, the present invention has the following effects. (1) Effect corresponding to claim 1: The thermal dependency detecting element is provided on the free end side of a position far from the one side of the substrate fixedly supported by the frame having a large heat capacity, and the substrate of the portion of the thermal dependency detecting element Since the insulating film is removed and only the insulating film is used, the heat capacity is small and the physical quantity of the measured object according to the environmental temperature can be detected with good response. (2) Effect corresponding to claim 2: The same effect as claim 1 is obtained, and further, since the frame is omitted and the heat dependency detecting element is directly insulated and fixed to the lead, a low cost heat dependency detector is provided. can get. (3) Effect corresponding to claim 3: a heat-dependent detection element,
A protective outer frame having a separation groove for protecting the heat-dependent detection element is simultaneously processed, and after the processing is completed, the frame or
Since the protective outer frame is cut off after being fixed to the lead , the heat-dependent detection element is not damaged and the yield is improved. (4) Effect corresponding to claim 4: It has the same effect as claim 3, a plurality of heat-dependent detection elements are provided, and resin is provided in the gap between the heat-dependent detection elements of the substrate. After embedding and solidifying, the individual thermal dependency detecting elements are separated by including the resin portion, so that the number of cutting steps can be shortened and a low cost thermal dependency detector can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明による熱依存性検出器の要部構造の一
例を説明するための図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining an example of a main part structure of a heat dependency detector according to the present invention.

【図2】 熱依存性検出素子をリードに直接固着支持さ
れた例を説明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining an example in which a heat-dependent detection element is directly fixed and supported on a lead.

【図3】 本発明による熱依存性検出器の製造方法を説
明するための平面図である。
FIG. 3 is a plan view for explaining a method of manufacturing a heat dependence detector according to the present invention.

【図4】 図3の各部断面の形状を説明するための図で
ある。
FIG. 4 is a diagram for explaining a cross-sectional shape of each part of FIG.

【図5】 熱依存性検出器の他の製造方法の工程を説明
するための図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a step of another manufacturing method of the thermal dependence detector.

【図6】 従来の検出器の一例を説明するための構成図
である。
FIG. 6 is a configuration diagram for explaining an example of a conventional detector.

【図7】 従来の検出装置の他の例を説明するための要
部構成図である。
FIG. 7 is a main part configuration diagram for explaining another example of the conventional detection device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…フレーム、2…基板、3…絶縁膜、4…熱依存性検
出素子、5…抵抗体パターン、6…リード、7…ボンデ
ングワイヤ、8…保護膜、9…絶縁層、10…接着材、
11…空洞部、12…切り離し溝、13…保護外框、1
4…単一の基板、15…間隙部、16…樹脂。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Frame, 2 ... Substrate, 3 ... Insulating film, 4 ... Thermal dependence detection element, 5 ... Resistor pattern, 6 ... Lead, 7 ... Bonding wire, 8 ... Protective film, 9 ... Insulating layer, 10 ... Adhesion Material,
11 ... Hollow part, 12 ... Separation groove, 13 ... Protective outer frame, 1
4 ... Single substrate, 15 ... Gap, 16 ... Resin.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−191953(JP,A) 特開 昭64−35352(JP,A) 特開 昭59−143946(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 27/00 - 27/24 G01F 1/68 - 1/699 G01P 5/10 - 5/12 G01J 1/00 - 1/46 ─────────────────────────────────────────────────── --Continued from the front page (56) References JP-A-61-191953 (JP, A) JP-A-64-35352 (JP, A) JP-A-59-143946 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 7 , DB name) G01N 27/00-27/24 G01F 1/68-1/699 G01P 5/10-5/12 G01J 1/00-1/46

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 表面に絶縁膜を有する基板と、該基板を
一端側で固着支持するフレームと、前記絶縁膜上に設け
られた被測定対象の物理量を検出するための熱依存性検
出素子を有し、該熱依存性検出素子は、前記フレームに
固着された前記基板の自由端側に設けられ、該熱依存性
検出素子が設けられた部分には前記基板を有しないよう
にしたことを特徴とする熱依存性検出器。
1. A substrate having an insulating film on its surface, a frame for fixing and supporting the substrate at one end side, and a heat-dependent detection element provided on the insulating film for detecting a physical quantity of an object to be measured. The heat-dependent detection element is provided on the free end side of the substrate fixed to the frame, and the substrate is not provided in a portion where the heat-dependent detection element is provided. Characterizing heat-dependent detector.
【請求項2】 表面に絶縁膜を有する基板と、前記絶縁
膜上に設けられた被測定対象の物理量を検出するための
熱依存性検出素子と、該熱依存性検出素子に接続され、
前記基板が一端側で絶縁固着支持されるリードを有し、
前記熱依存性検出素子が設けられた部分には前記基板を
有しないようにしたことを特徴とする熱依存性検出器。
2. A substrate having an insulating film on its surface, a thermal dependence detecting element provided on the insulating film for detecting a physical quantity of an object to be measured, and connected to the thermal dependence detecting element,
The substrate has a lead which is fixedly supported on one end by insulation.
A heat-dependent detector characterized in that the substrate is not provided in a portion where the heat-dependent detection element is provided.
【請求項3】 前記熱依存性検出素子の形成時に、前記
フレーム又はリードに固着される前記基板の固着側か
ら、前記自由端側に、切り離し溝により支持され、前記
熱依存性検出素子を保護するための保護外框を設け、前
記フレーム又はリードに前記熱依存性検出素子を固着し
た後に、該保護外框を切り離すようにすることを特徴と
する請求項1又は2に記載の熱依存性検出を製造する
方法。
3. The thermal dependence detecting element is protected at the time of forming the thermal dependence detecting element from the fixing side of the substrate fixed to the frame or the lead to the free end side by a separation groove to protect the thermal dependence detecting element. 3. The thermal dependence according to claim 1 or 2, wherein a protective outer frame is provided to protect the protective frame and the frame or the lead is fixed to the heat-dependent detecting element, and then the protective outer frame is separated. method of manufacturing a detector.
【請求項4】 表面に絶縁膜を有する基板上に、複数の
前記熱依存性検出素子を直線的に形成し、形成された複
数の熱依存性検出素子間に生じる間隙を充填材で埋めて
固化後、個々の前記熱依存性検出素子を切り離して前記
フレーム又はリードに絶縁固着して、前記充填材を除去
することを特徴とする請求項1又は2に記載の熱依存性
検出器の製造方法。
4. A plurality of the heat-dependent detection elements are linearly formed on a substrate having an insulating film on the surface, and a gap generated between the formed plurality of heat-dependent detection elements is filled with a filler. After the solidification, the individual heat-dependent detection elements are separated and insulated and fixed to the frame or the lead to remove the filling material, and the production of the heat-dependent detector according to claim 1 or 2. Method.
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