JP3376990B2 - SEPP circuit and manufacturing method thereof - Google Patents

SEPP circuit and manufacturing method thereof

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JP3376990B2 JP2000153755A JP2000153755A JP3376990B2 JP 3376990 B2 JP3376990 B2 JP 3376990B2 JP 2000153755 A JP2000153755 A JP 2000153755A JP 2000153755 A JP2000153755 A JP 2000153755A JP 3376990 B2 JP3376990 B2 JP 3376990B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、SEPP回路、特
に半導体装置内に暗電流を調整する抵抗を設けたSEP
P回路及びその製法に属する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a SEPP circuit, and more particularly to a SEP provided with a resistor for adjusting a dark current in a semiconductor device.
It belongs to the P circuit and its manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7に示す従来のSEPP(Single Ende
d Push-Pull)回路は、直流電源(9)に直列に接続される
第1の半導体装置(1)及び第2の半導体装置(2)と、第1
の半導体装置(1)と第2の半導体装置(2)との接続点と直
流電源(9)の負側端子との間に直列に且つ第2の半導体
装置(2)と並列に接続されたコンデンサ(11)及び負荷(1
0)とを備えた無変成器(OTL)回路である。第1の半
導体装置(1)は、同一極性の一対のNPNトランジスタ
(3a, 3b)から成る第1のダーリントン回路(3)と、NP
Nトランジスタ(3a)のベースに接続された温度補償用の
ダイオード(4)を構成するダイオード(4a, 4b)とを備え
ている。NPNトランジスタ(3a)及びNPNトランジス
タ(3b)のコレクタは直流電源(9)の正側端子に接続さ
れ、NPNトランジスタ(3b)のエミッタは抵抗(12)を介
してコンデンサ(11)に接続される。第2の半導体装置
(2)は、同一極性の一対のPNPトランジスタ(5a, 5b)
から成る第2のダーリントン回路(5)と、PNPトラン
ジスタ(5a)のベースに接続された温度補償用のダイオー
ド(6)を構成するダイオード(6a, 6b)とを備えている。
PNPトランジスタ(5b)のエミッタは抵抗(13)を介して
コンデンサ(11)に接続され、PNPトランジスタ(5a, 5
b)のコレクタは直流電源(9)の負側端子に接続される。
また、ダイオード(4, 6)は抵抗(7)を介して接続され
る。点線で示すように、第1の半導体装置(1)と第2の
半導体装置(2)はそれぞれ樹脂封止された個別の樹脂封
止電子部品として構成される。
2. Description of the Related Art A conventional SEPP (Single Ende) shown in FIG.
The d-push-pull circuit includes a first semiconductor device (1) and a second semiconductor device (2) connected in series to a DC power supply (9), and a first semiconductor device (1).
Connected in series between the connection point between the semiconductor device (1) and the second semiconductor device (2) and the negative terminal of the DC power supply (9) and in parallel with the second semiconductor device (2). Capacitor (11) and load (1
0) and a non-transformer (OTL) circuit. The first semiconductor device (1) is a pair of NPN transistors of the same polarity.
A first Darlington circuit (3) consisting of (3a, 3b) and an NP
And a diode (4a, 4b) forming a temperature compensating diode (4) connected to the base of the N-transistor (3a). The collectors of the NPN transistor (3a) and the NPN transistor (3b) are connected to the positive terminal of the DC power supply (9), and the emitter of the NPN transistor (3b) is connected to the capacitor (11) via the resistor (12). . Second semiconductor device
(2) is a pair of PNP transistors of the same polarity (5a, 5b)
A second Darlington circuit (5) and a diode (6a, 6b) forming a temperature compensating diode (6) connected to the base of the PNP transistor (5a).
The emitter of the PNP transistor (5b) is connected to the capacitor (11) via the resistor (13), and the PNP transistor (5a, 5b) is connected.
The collector of b) is connected to the negative terminal of the DC power supply (9).
Further, the diodes (4, 6) are connected via the resistor (7). As indicated by the dotted line, the first semiconductor device (1) and the second semiconductor device (2) are each configured as a resin-sealed electronic component that is resin-sealed.

【0003】動作の際に、対称に接続した第1のダーリ
ントン回路(3)のNPNトランジスタ(3a)及び第2のダ
ーリントン回路(5)のPNPトランジスタ(5a)の各ベー
ス端子に大きさが同じで位相が180度異なる制御信号
が付与される。正の半サイクルでNPNトランジスタ(3
a)がオンになると、直流電源(9)からNPNトランジス
タ(3b)、コンデンサ(11)及び負荷(10)に電流が流れ、コ
ンデンサ(11)が充電される。負の半サイクルでPNPト
ランジスタ(5a)がオンになると、コンデンサ(11)に蓄積
されたエネルギはPNPトランジスタ(5b)を通じて負荷
(10)に供給される。ここで、第1及び第2のダイオード
(4, 6)は第1のダーリントン回路(3)及び第2のダーリ
ントン回路(5)のベース・エミッタ端子間電圧の温度依
存性を補償するように作用し、抵抗(7)は暗電流(アイ
ドリング電流)を調整する作用がある。即ち、第1のダ
ーリントン回路(3)及び第2のダーリントン回路(5)に所
定値のアイドリング電流を流すことによって、トランジ
スタの特性曲線の非直線性を互いに補正し合いながら相
補的に動作するので、直線性が改善され、歪みの無い大
きな出力電力を得ることができる。
In operation, the base terminals of the NPN transistor (3a) of the first Darlington circuit (3) and the PNP transistor (5a) of the second Darlington circuit (5) which are symmetrically connected have the same size. A control signal having a phase difference of 180 degrees is given. NPN transistor (3
When a) is turned on, current flows from the DC power supply (9) to the NPN transistor (3b), the capacitor (11) and the load (10), and the capacitor (11) is charged. When the PNP transistor (5a) is turned on in the negative half cycle, the energy stored in the capacitor (11) is loaded through the PNP transistor (5b).
Supplied to (10). Where the first and second diodes
(4, 6) acts so as to compensate for the temperature dependence of the voltage between the base and emitter terminals of the first Darlington circuit (3) and the second Darlington circuit (5), and the resistor (7) causes dark current ( It has the function of adjusting the idling current). That is, by operating the first Darlington circuit (3) and the second Darlington circuit (5) with an idling current of a predetermined value, the non-linearities of the characteristic curves of the transistors are compensated for each other to operate in a complementary manner. The linearity is improved, and a large output power without distortion can be obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】第1の半導体装置(1)
及び第2の半導体装置(2)を製造する際に、第1のダー
リントン回路(3)及び第2のダーリントン回路(5)のベー
ス・エミッタ端子間の電圧VBE1,VBE2にバラツキが存
在する。このため、抵抗(7)のレベルを調整することに
よって暗電流を適正なレベルに制御し、第1のダーリン
トン回路(3)及び第2のダーリントン回路(5)のコレクタ
端子に流れる電流ICを所望値に設定する必要がある。
コレクタ端子に流れる電流ICの所望値は例えば40〜
100[mA]程度である。従来では、ダイオード(4, 6)間
に抵抗(7)を外付け抵抗として接続し、半導体装置(1,
2)を購入したユーザが使用時に周辺回路の諸特性に併せ
て抵抗(7)の抵抗値を調整しなければならなかったた
め、抵抗値を調整する必要のないSEPP回路が望まれ
た。また、バイポーラトランジスタの代わりに、MIS
FET(金属−絶縁物−半導体接触電界効果型トランジ
スタ)、MESFET(金属−半導体接触電界効果型ト
ランジスタ)、IGBT(絶縁ゲート型バイポーラトラ
ンジスタ)等を使用するSEPP回路も同様に、ユーザ
側で抵抗の調整を必要とした。
[Problems to be Solved by the Invention] First semiconductor device (1)
And when manufacturing the second semiconductor device (2), there are variations in the voltages V BE1 and V BE2 between the base and emitter terminals of the first Darlington circuit (3) and the second Darlington circuit (5). . Therefore, the dark current is controlled to an appropriate level by adjusting the level of the resistor (7), and the current I C flowing through the collector terminals of the first Darlington circuit (3) and the second Darlington circuit (5) is adjusted. It must be set to the desired value.
The desired value of the current I C flowing through the collector terminal is, for example, 40 to
It is about 100 [mA]. Conventionally, the resistor (7) is connected as an external resistor between the diodes (4, 6), and the semiconductor device (1,
Since the user who purchased 2) had to adjust the resistance value of the resistor (7) in accordance with the characteristics of the peripheral circuit at the time of use, a SEPP circuit that does not need to adjust the resistance value was desired. Also, instead of the bipolar transistor, MIS
Similarly, a SEPP circuit using a FET (metal-insulator-semiconductor contact field effect transistor), MESFET (metal-semiconductor contact field effect transistor), IGBT (insulated gate bipolar transistor), etc., has a resistance on the user side. Needed adjustment.

【0005】そこで、本発明は、ユーザ側で抵抗値を調
整する必要のないSEPP回路及びその製法を提供する
ことを目的とする。また、本発明は、暗電流調整用の抵
抗を樹脂封止体により一体に封止できるSEPP回路及
びその製法を提供することを目的とする。
Therefore, an object of the present invention is to provide a SEPP circuit which does not require the user to adjust the resistance value and a manufacturing method thereof. Another object of the present invention is to provide a SEPP circuit in which a resistor for dark current adjustment can be integrally sealed with a resin sealing body, and a manufacturing method thereof.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明によるSEPP回
路は、第1の増幅素子(53)及び第1の増幅素子(53)の制
御端子に印加される電圧を制御する第1の抵抗(58)を有
する第1の半導体装置(51)と、第2の増幅素子(55)及び
第2の増幅素子(55)の制御端子に印加される電圧を制御
する第2の抵抗(59)を有する第2の半導体装置(52)とを
備え、第1の半導体装置(51)と第2の半導体装置(52)が
直列に接続される。第1の増幅素子(53)の制御端子と第
2の増幅素子(55)の制御端子との間に第1の抵抗(58)と
第2の抵抗(59)と直列に温度補償素子(54)を接続する。 A 温度補償素子(54)に流れる電流(ID)と第1の抵抗(5
8)の抵抗値(R1)との積と温度補償素子(54)の端子電圧
(VF1)との和は第1の増幅素子(53)の閾値(VTH1)より一
定レベル(V0)だけ高く、第2の抵抗(59)に流れる電流(I
D)と第2の抵抗(59)の抵抗値(R2)との積は第2の増幅
素子(55)の閾値(VTH2)より前記一定レベル(V0)だけ低い
こと、又は B 温度補償素子(54)に流れる電流(ID)と第1の抵抗(5
8)の抵抗値(R1)との積は第1の増幅素子(53)の閾値(V
TH1)より一定レベル(V0)だけ低く、第2の抵抗(59)に流
れる電流(ID)と第2の抵抗(59)の抵抗値(R2)との積と
温度補償素子(54)の端子電圧(VF1)との和は第2の増幅
素子(55)の閾値(VTH2)より一定レベル(V0)だけ高いこと
のA又はBのいずれかの条件を満足する抵抗値(R1,
2)に第1の抵抗(58)と第2の抵抗(59)がそれぞれ調整
される。また、第1の半導体装置(51)と第2の半導体装
置(52)とはそれぞれ樹脂封止体(64, 74)により封止され
ている。なお、本発明における閾値(VTH1, VTH2)とは、
第1及び第2の増幅素子(53, 55)がバイポーラトランジ
スタのときは所定値のアイドリング電流を流したときの
ベース・エミッタ間電圧をいい、第1及び第2の増幅素
子(53, 55)がMISFET、MESFET等のときは所
定値のアイドリング電流を流したときのゲート・ソース
間電圧をいう。
A SEPP circuit according to the present invention comprises a first resistor (58) for controlling a voltage applied to a first amplifying element (53) and a control terminal of the first amplifying element (53). And a second resistor (59) for controlling the voltage applied to the control terminals of the second amplifying element (55) and the second amplifying element (55). A second semiconductor device (52) is provided, and the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52) are connected in series. The temperature compensating element (54) is connected in series with the first resistor (58) and the second resistor (59) between the control terminal of the first amplifying element (53) and the control terminal of the second amplifying element (55). ) Is connected. A The current ( ID ) flowing through the temperature compensation element (54) and the first resistance (5
8) Resistance value (R 1 ) product and temperature compensation element (54) terminal voltage
The sum of (V F1 ) is higher than the threshold value (V TH1 ) of the first amplifying element (53) by a constant level (V 0 ), and the current (I
The product of D ) and the resistance value (R 2 ) of the second resistor (59) is lower than the threshold value (V TH2 ) of the second amplifying element (55) by the constant level (V 0 ), or the B temperature The current ( ID ) flowing through the compensation element (54) and the first resistance (5
The product of 8) and the resistance value (R 1 ) is the threshold value (V
TH1 ) is lower by a certain level (V 0 ), and the product of the current ( ID ) flowing through the second resistor (59) and the resistance value (R 2 ) of the second resistor (59) and the temperature compensation element (54 ) Is higher than the threshold voltage (V TH2 ) of the second amplifying element (55) by a constant level (V 0 ), and the sum of the terminal voltage (V F1 ) and the resistance value satisfies either condition A or B. (R 1 ,
A first resistor (58) and a second resistor (59) are adjusted for R 2 ), respectively. Further, the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52) are each sealed by the resin sealing body (64, 74). The threshold value (V TH1 , V TH2 ) in the present invention is
When the first and second amplifying elements (53, 55) are bipolar transistors, it means the base-emitter voltage when an idling current of a predetermined value is passed, and the first and second amplifying elements (53, 55) Is a MISFET, MESFET or the like, it means a gate-source voltage when an idling current of a predetermined value is passed.

【0007】第1の抵抗(58)と第2の抵抗(59)とが前記
の条件を満足するため、下記の作用効果が得られる。 [1] 第1の半導体装置(51)内の第1の増幅素子(53)の
閾値(VTH1)のばらつきを第2の半導体装置(52)側で吸収
できる。 [2] 電気的特性にばらつきのある第1の半導体装置(5
1)及び第2の半導体装置(52)をどのように組み合せて
も、第1の半導体装置(51)と第2の半導体装置(52)とを
接続した後に、第1及び第2の増幅素子(53, 55)に常に
一定値のアイドリング電流(IC)を流すことができる。 [3] したがって、アイドリング電流調整用の外付け抵
抗(7)が不要となり、SEPP回路を製造する際にアイ
ドリング電流の調整工程を省略できる。 [4] 第1の半導体装置(51)と第2の半導体装置(52)と
に第1の抵抗(58)及び第2の抵抗(59)をそれぞれ製造時
に内蔵できる。 [5] 第1の半導体装置(51)と第2の半導体装置(52)の
一方側の電圧レベルの増加分(V0)を他方側で吸収でき
る。 [6] 第1の抵抗(58)を有する第1の半導体装置(51)と
第2の抵抗(59)を有する第2の半導体装置(52)とを個別
に樹脂封止体により封止できる。 [7] 第1の半導体装置(51)と第2の半導体装置(52)の
アイドリング電流を予め所定値に設定することができ
る。 [8] 第1の抵抗(58)と第2の抵抗(59)の各抵抗値を厳
密に制御することができ、SEPP回路の信頼性を向上
することができる。
Since the first resistor (58) and the second resistor (59) satisfy the above conditions, the following operational effects can be obtained. [1] Variations in the threshold value (V TH1 ) of the first amplifying element (53) in the first semiconductor device (51) can be absorbed by the second semiconductor device (52) side. [2] The first semiconductor device (5
No matter how the 1) and the second semiconductor device (52) are combined, the first and second amplifying elements are connected after connecting the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52). A constant idling current (I C ) can always be applied to (53, 55). [3] Therefore, the external resistor (7) for adjusting the idling current becomes unnecessary, and the step of adjusting the idling current can be omitted when manufacturing the SEPP circuit. [4] The first resistor (58) and the second resistor (59) may be incorporated in the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52) at the time of manufacturing. [5] The increase (V 0 ) of the voltage level on one side of the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52) can be absorbed on the other side. [6] The first semiconductor device (51) having the first resistor (58) and the second semiconductor device (52) having the second resistor (59) can be individually sealed with a resin sealing body. . [7] The idling currents of the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52) can be set to predetermined values in advance. [8] The resistance values of the first resistor (58) and the second resistor (59) can be strictly controlled, and the reliability of the SEPP circuit can be improved.

【0008】本発明の実施の形態では、第1の抵抗(58)
の抵抗値(R1)は下式(1)又は(2): R1=[(VTH1)+(V0)−(VF1)]/(ID) (1) R1=[(VTH1)−(V0)]/(ID) (2) を満足する。また、第2の抵抗(59)の抵抗値(R2)は下
式(3)又は(4): R2=[(VTH2)−(V0)]/(ID) (3) R2=[(VTH2)+(V0)−(VF1)]/(ID) (4) を満足する。
In the embodiment of the present invention, the first resistor (58)
The resistance value (R 1 ) of the following formula (1) or (2): R 1 = [(V TH1 ) + (V 0 ) − (V F1 )] / (I D ) (1) R 1 = [( Satisfies V TH1 ) − (V 0 )] / (I D ) (2). Further, the resistance value (R 2 ) of the second resistor (59) is expressed by the following formula (3) or (4): R 2 = [(V TH2 ) − (V 0 )] / (I D ) (3) R 2 = [(V TH2 ) + (V 0 ) − (V F1 )] / ( ID ) (4) is satisfied.

【0009】第1及び第2の抵抗(58, 59)は、面積を減
少できる厚膜抵抗体(58a, 59a)を有し、第1の半導体装
置(51)及び第2の半導体装置(52)は個別に樹脂封止体(6
4, 74)により封止される。厚膜抵抗体(58a, 59a)の面積
を変化させることにより第1又は第2の抵抗(58, 59)の
抵抗値を調整することができる。また、第1及び第2の
半導体装置(51, 52)は検出用端子(62, 72)を有するの
で、例えば測定器のプローブを検出用端子(62, 72)に接
触させて第1又は第2の半導体装置(51, 52)に内蔵の各
増幅素子(53, 55)及び温度補償用素子(54)の電気的特性
を正確に測定できると共に、第1又は第2の抵抗(58, 5
9)の抵抗値を測定しながら抵抗値を高精度に調整できる
利点がある。
The first and second resistors (58, 59) have thick film resistors (58a, 59a) whose area can be reduced, and the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52). ) Are individually sealed resin (6
4, 74). The resistance value of the first or second resistor (58, 59) can be adjusted by changing the area of the thick film resistor (58a, 59a). Further, since the first and second semiconductor devices (51, 52) have the detection terminals (62, 72), for example, the probe of the measuring instrument is brought into contact with the detection terminals (62, 72) to make the first or second semiconductor device. The electrical characteristics of the amplifier elements (53, 55) and the temperature compensating element (54) built in the second semiconductor device (51, 52) can be accurately measured, and the first or second resistor (58, 5)
There is an advantage that the resistance value can be adjusted with high accuracy while measuring the resistance value in 9).

【0010】本発明によるSEPP回路の製法は、第1
の増幅素子(53)、第1の増幅素子(53)の制御端子に印加
される電圧を制御する第1の抵抗(58)、第1の抵抗(58)
に直列に接続された温度補償素子(54)、第1の外部リー
ド(66)、第1の増幅素子(53)と温度補償素子(54)等との
間を電気的に接続する第1のリード細線(61)を有する第
1のリードフレーム組立体(51a)と、第2の増幅素子(5
5)、第2の増幅素子(55)の制御端子に印加される電圧を
制御する第2の抵抗(59)、第2の外部リード(76)、第2
の増幅素子(55)と第2の抵抗(59)等との間を電気的に接
続する第2のリード細線(71)を有する第2のリードフレ
ーム組立体(52a)とを準備する工程と、第1の増幅素子
(53)に通電して、温度補償素子(54)に流れる電流(ID)と
第1の抵抗(58)の抵抗値(R1)との積と温度補償素子(5
4)の端子間電圧(VF1)との和が第1の増幅素子(53)の閾
値(VTH1)より一定レベル(V0)だけ高い状態に第1の抵抗
(58)を調整する工程と、第2の増幅素子(55)に通電し
て、第2の抵抗(59)に流れる電流(ID)と第2の抵抗(59)
の抵抗値(R2)との積が第2の増幅素子(55)の閾値
(VTH2)より一定レベル(V0)だけ低い状態に第2の抵抗(5
9)を調整する工程と、第1のリードフレーム組立体(51
a)及び第2のリードフレーム組立体(52a)を樹脂封止体
(64, 74)により個別に封止して、樹脂封止体(64, 74)か
ら外部リード(66)の端部を導出する第1の半導体装置(5
1)と第2の半導体装置(52)とを形成する工程と、第1の
増幅素子(53)と第2の増幅素子(55)とを直列に接続する
と共に、第1の抵抗(58)、温度補償素子(54)及び第2の
抵抗(59)を直列に接続する工程とを含む。更に、第1の
抵抗(58)の抵抗値が調整された第1の半導体装置(51)及
び第2の抵抗(59)の抵抗値が調整された第2の半導体装
置(52)をそれぞれ樹脂封止した後に、第1の半導体装置
(51)と第2の半導体装置(52)とを接続するので、外的要
因でアイドリング電流(IC0)の値が変化せず、安定性が
増加する利点がある。
The manufacturing method of the SEPP circuit according to the present invention is as follows.
Amplifier element (53), a first resistor (58) for controlling the voltage applied to the control terminal of the first amplifier element (53), a first resistor (58)
A temperature compensation element (54), a first external lead (66), a first amplification element (53) and a temperature compensation element (54) which are connected in series to A first lead frame assembly (51a) having a thin lead wire (61) and a second amplification element (5
5), a second resistor (59) for controlling the voltage applied to the control terminal of the second amplification element (55), a second external lead (76), a second
And a second lead frame assembly (52a) having a second thin lead wire (71) for electrically connecting between the amplifying element (55) and the second resistor (59) and the like. , The first amplification element
When the current (53) is energized, the product of the current ( ID ) flowing through the temperature compensation element (54) and the resistance value (R 1 ) of the first resistor (58) and the temperature compensation element (5
When the sum of the voltage between terminals (V F1 ) of 4) is higher than the threshold value (V TH1 ) of the first amplifying element (53) by a certain level (V 0 ), the first resistance
A step of adjusting (58), and a current (I D ) flowing through the second resistor (59) by energizing the second amplifying element (55) and the second resistor (59).
The product of the resistance value (R 2 ) and the threshold value of the second amplification element (55)
(V TH2) than a predetermined level (V 0) only a low state a second resistor (5
9) adjusting the first lead frame assembly (51
a) and the second lead frame assembly (52a) with a resin sealing body
The first semiconductor device (5) in which the ends of the external leads (66) are led out from the resin encapsulant (64, 74) by individually encapsulating them with (64, 74).
1) and the step of forming the second semiconductor device (52), the first amplifying element (53) and the second amplifying element (55) are connected in series, and the first resistor (58) , The temperature compensating element (54) and the second resistor (59) are connected in series. Further, the first semiconductor device (51) in which the resistance value of the first resistor (58) is adjusted and the second semiconductor device (52) in which the resistance value of the second resistor (59) is adjusted are respectively made of resin. After sealing, the first semiconductor device
Since the (51) and the second semiconductor device (52) are connected, there is an advantage that the value of the idling current (I C0 ) does not change due to external factors and the stability increases.

【0011】本発明による他の実施の形態では、第1の
増幅素子(53)、第1の増幅素子(53)の制御端子に印加さ
れる電圧を制御する第1の抵抗(58)、第1の外部リード
(66)、第1の増幅素子(53)と第1の抵抗(58)等との間を
電気的に接続する第1のリード細線(61)を有する第1の
リードフレーム組立体(51a)と、第2の増幅素子(55)、
第2の増幅素子(55)の制御端子に印加される電圧を制御
する第2の抵抗(59)、第2の抵抗(59)に直列に接続され
た温度補償素子(54)、第2の外部リード(76)、第2の増
幅素子(55)と第2の抵抗(59)等との間を電気的に接続す
る第2のリード細線(71)を有する第2のリードフレーム
組立体(52a)とを準備する工程と、第1の増幅素子(53)
に通電して、温度補償素子(54)に流れる電流(ID)と第1
の抵抗(58)の抵抗値(R1)との積が第1の増幅素子(53)
の閾値(VTH1)より一定レベル(V0)だけ低い状態に第1の
抵抗(58)を調整する工程と、第2の増幅素子(55)に通電
して、第2の抵抗(59)に流れる電流(ID)と第2の抵抗(5
9)の抵抗値(R2)との積と温度補償素子(54)の端子間電
圧(VF1)との和が第2の増幅素子(55)の閾値(VTH2)より
一定レベル(V0)だけ高い状態に第2の抵抗(59)を調整す
る工程と、第1のリードフレーム組立体(51a)及び第2
のリードフレーム組立体(52a)を樹脂封止体(64, 74)に
より個別に封止して、樹脂封止体(64, 74)から外部リー
ド(66)の端部を導出する第1の半導体装置(51)と第2の
半導体装置(52)とを形成する工程と、第1の増幅素子(5
3)と第2の増幅素子(55)とを直列に接続すると共に、第
1の抵抗(58)、温度補償素子(54)及び第2の抵抗(59)を
直列に接続する工程とを含む。
In another embodiment of the present invention, the first amplifying element (53), the first resistor (58) for controlling the voltage applied to the control terminal of the first amplifying element (53), and the first resistor (58) 1 external lead
(66), a first lead frame assembly (51a) having a first lead wire (61) for electrically connecting the first amplifying element (53) and the first resistor (58), etc. And the second amplification element (55),
A second resistor (59) for controlling the voltage applied to the control terminal of the second amplifier element (55), a temperature compensation element (54) connected in series with the second resistor (59), and a second resistor (59). A second lead frame assembly (2) having a second lead wire (71) for electrically connecting the external lead (76), the second amplifying element (55) and the second resistor (59), etc. 52a) and the step of preparing the first amplification element (53)
The current (I D ) flowing through the temperature compensation element (54)
And the resistance value (R 1 ) of the resistor (58) of the first amplifier element (53)
Adjusting the first resistor (58) to a state lower than the threshold value (V TH1 ) by a constant level (V 0 ), and energizing the second amplifier element (55) to supply the second resistor (59). Current (I D ) and the second resistance (5
The product of the resistance value (R 2 ) of 9) and the voltage (V F1 ) between the terminals of the temperature compensation element (54) is at a constant level (V TH2 ) from the threshold value (V TH2 ) of the second amplification element (55). The step of adjusting the second resistance (59) so that it is higher than the first lead frame assembly (51a) and the second resistance (59).
The lead frame assembly (52a) is individually sealed by the resin sealing bodies (64, 74), and the ends of the external leads (66) are led out from the resin sealing bodies (64, 74). A step of forming a semiconductor device (51) and a second semiconductor device (52), and a first amplification element (5
3) and the second amplification element (55) are connected in series, and the first resistance (58), the temperature compensation element (54) and the second resistance (59) are connected in series. .

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】次に、本発明によるSEPP回路
及びその製法の実施の形態を図1〜図6について説明す
る。図1では、図7に示す箇所と同一の部分には同一の
符号を付し、説明を省略する。図1に示す本実施の形態
によるSEPP回路は、直流電源(9)に直列に接続され
る第1の半導体装置(51)及び第2の半導体装置(52)と、
第1の半導体装置(51)と第2の半導体装置(52)との接続
点と直流電源(9)の負側端子との間に直列に且つ第2の
半導体装置(52)と並列に接続されたコンデンサ(11)及び
負荷(10)とを備えている。第1の半導体装置(51)は、n
チャンネルMISFETにより構成される第1の増幅素
子(53)と、第1の増幅素子(53)のゲートに接続された温
度補償素子としての温度補償用のダイオード(54)及び第
1の抵抗(58)を有する。第1の増幅素子(53)のドレイン
は直流電源(9)の正側端子に接続され、ソースはコンデ
ンサ(11)に接続される。第2の半導体装置(52)は、pチ
ャンネルMISFETにより構成される第2の増幅素子
(55)と、第2の増幅素子(55)のゲートに接続された第2
の抵抗(59)とを有するが、温度補償用のダイオードは備
えていない。第2の増幅素子(55)のソースはコンデンサ
(11)に接続され、ドレインは直流電源(9)の負側端子に
接続される。破線で示すように、第1の半導体装置(51)
と第2の半導体装置(52)はそれぞれ樹脂封止された個別
の樹脂封止電子部品として構成される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, an embodiment of the SEPP circuit and its manufacturing method according to the present invention will be described with reference to FIGS. In FIG. 1, the same parts as those shown in FIG. 7 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. The SEPP circuit according to the present embodiment shown in FIG. 1 includes a first semiconductor device (51) and a second semiconductor device (52) connected in series to a DC power supply (9),
Connected in series between the connection point between the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52) and the negative terminal of the DC power supply (9) and in parallel with the second semiconductor device (52). And a load (10). The first semiconductor device (51) has n
A first amplification element (53) composed of a channel MISFET, a temperature compensation diode (54) as a temperature compensation element connected to the gate of the first amplification element (53), and a first resistance (58). ) Has. The drain of the first amplification element (53) is connected to the positive terminal of the DC power supply (9), and the source is connected to the capacitor (11). The second semiconductor device (52) is a second amplification element composed of a p-channel MISFET.
(55) and a second amplifier connected to the gate of the second amplifying element (55)
Resistance (59), but not a diode for temperature compensation. The source of the second amplification element (55) is a capacitor
The drain is connected to the negative side terminal of the DC power supply (9). As indicated by the broken line, the first semiconductor device (51)
The second semiconductor device (52) and the second semiconductor device (52) are individually resin-sealed electronic components.

【0013】図1に示すSEPP回路では、第1の抵抗
(58)の抵抗値(R1)、ダイオード(54)に流れる電流
(ID)、第1の増幅素子(53)の閾値(VTH1)、固定値(V0)及
びダイオード(54)の端子間電圧(VF1)との間に下記の関
係が必要である。 R1・ID+VF1=VTH1+V0 即ち、ダイオード(54)に流れる電流(ID)と第1の抵抗(5
8)の抵抗値(R1)との積とダイオード(54)の端子間電圧
(VF1)との和は第1の増幅素子(53)の閾値(VTH1)より一
定レベル(V0)だけ高い。図6(A)に示すように、第1の
半導体チップ(53a)に約100mAのドレイン電流を流し
たとき、ダイオード(54)に印加される電圧と第1の抵抗
(58)に印加される電圧の和は、第1の増幅素子(53)の閾
値(VTH1)である第1の半導体チップ(53a)のゲート・ソ
ース間電圧(VGS1)より一定レベル(V0)だけ高い。このよ
うに、一定レベル(V0)だけ高く設定することにより、第
1の増幅素子(53)の閾値(VTH1)のばらつきによる影響を
補償することができる。一定レベル(V0)は、抵抗値を調
整するトリミング前に測定される第1の抵抗(58)の初期
抵抗値に電流値3mAを乗じた電圧値にダイオード(54)の
順方向最大電圧を加えた値から第1の増幅素子(53)のゲ
ート・ソース間電圧(VGS1)の最小値を減じた固定値であ
る。具体的に、一定レベル(V0)は、0.05〜3.0Vの
間で種々の値を取ることができる。順方向電流3mAを流
したときに発生するダイオード(54)の順方向電圧の最大
値及びドレイン電流100mAを流したときに発生する第
1の増幅素子(53)のゲート・ソース間電圧(VGS1)の最小
値は、複数の第1のリードフレーム組立体(51a)から平
均値として予め算出することができる。第1の抵抗(58)
の初期抵抗値は、周知の厚膜形成技術によって抵抗を形
成する際に計算上求められる。
In the SEPP circuit shown in FIG. 1, the first resistor
Resistance value of (58) (R1), The current flowing through the diode (54)
(ID), The threshold value of the first amplifying element (53) (VTH1), Fixed value (V0) And
And the voltage between the terminals of the diode (54) (VF1) And
A person in charge is required. R1・ ID+ VF1= VTH1+ V0 That is, the current (ID) And the first resistance (5
8) Resistance value (R1) And the voltage across the diode (54)
(VF1) Is the threshold (V of the first amplifying element (53)TH1) More
Constant level (V0) Only expensive. As shown in FIG. 6 (A), the first
A drain current of about 100mA is applied to the semiconductor chip (53a).
Voltage applied to the diode (54) and the first resistance
The sum of the voltages applied to (58) is the threshold of the first amplifying element (53).
Value (VTH1) Of the first semiconductor chip (53a)
Source voltage (VGS1) From a certain level (V0) Only expensive. This
A certain level (V0) Is set higher,
The threshold value (VTH1)
Can be compensated. Constant level (V0) Adjust the resistance
Initial of first resistance (58) measured before trimming to trim
The voltage value obtained by multiplying the resistance value by the current value 3mA
From the value of the maximum forward voltage applied, the gain of the first amplification element (53)
Gate-source voltage (VGS1) Is a fixed value less the minimum value of
It Specifically, a certain level (V0) Is of 0.05-3.0V
Various values can be taken between. Forward current of 3mA
Maximum forward voltage of diode (54) generated when
Value and the number that occurs when a drain current of 100 mA is applied
Gate-source voltage (VGS1) Minimum
Values are calculated from multiple first leadframe assemblies (51a).
It can be calculated in advance as an average value. First resistance (58)
The initial resistance value of the
It is calculated when it is completed.

【0014】更に、図1に示すSEPP回路では、第2
の抵抗(59)に流れる電流(ID)と、第2の抵抗(59)の抵抗
値(R2)と、第2の増幅素子(55)の閾値(VTH2)と、固定
値(V0)との間に下記の関係が必要である。 R2・ID=VTH2−V0 即ち、第2の抵抗(59)に流れる電流(ID)と第2の抵抗(5
9)の抵抗値(R2)との積は、第2の増幅素子(55)の閾値
(VTH2)より一定レベル(V0)だけ低い。図6(B)に示すよ
うに、第2の半導体チップ(55a)に約100mAのドレイ
ン電流を流したとき、第2の抵抗(59)に流れる電流(ID)
と第2の抵抗(59)の抵抗値(R2)との積は第2の増幅素
子(55)の閾値(VTH2)である第2の半導体チップ(55a)の
ゲート・ソース間電圧(VGS2)より一定レベル(V0)だけ低
い。このように、一定レベル(V0)だけ低く設定すること
により、第2の増幅素子(55)の閾値(VTH2)のばらつきに
よる影響を補償することができる。
Further, in the SEPP circuit shown in FIG.
Of the current (ID) And the resistance of the second resistor (59)
Value (R2) And the threshold value of the second amplification element (55) (VTH2) And fixed
Value (V0) And the following relations are necessary. R2・ ID= VTH2−V0 That is, the current (ID) And the second resistor (5
9) Resistance value (R2) Is the threshold of the second amplification element (55)
(VTH2) From a certain level (V0) Only low. As shown in Figure 6 (B)
Drain of about 100mA on the second semiconductor chip (55a)
Current flowing in the second resistor (59) (ID)
And the resistance value of the second resistor (59) (R2) Is the product of the second
Child (55) threshold (VTH2) Of the second semiconductor chip (55a)
Gate-source voltage (VGS2) From a certain level (V0) Only low
Yes. Thus, a constant level (V0) Should be set lower
Causes the threshold value of the second amplifying element (55) (VTH2)
The effect of this can be compensated.

【0015】組立の際に、図3に示す第1の増幅素子(5
3)の各外部端子(66b)、(66d)及び(66e)はそれぞれ図5
に示す第2の増幅素子(55)の各外部端子(76b)、(76d)及
び(76e)に接続され、図1に示すSEPP回路が構成さ
れる。
At the time of assembly, the first amplifying element (5
The external terminals (66b), (66d) and (66e) in 3) are shown in Fig. 5 respectively.
2 is connected to the external terminals (76b), (76d) and (76e) of the second amplifying element (55) to construct the SEPP circuit shown in FIG.

【0016】動作の際に、対称に接続した第1の増幅素
子(53)及び第2の増幅素子(55)の各ゲート端子に大きさ
が同じで位相が180度異なる制御信号が付与される。
正の半サイクルで第1の増幅素子(53)がオンになると、
直流電源(9)から第1の増幅素子(53)、コンデンサ(11)
及び負荷(10)に電流が流れ、コンデンサ(11)が充電され
る。負の半サイクルで第2の増幅素子(55)がオンになる
と、コンデンサ(11)に蓄積されたエネルギは第2の増幅
素子(55)を通じて負荷(10)に供給される。第1の増幅素
子(53)及び第2の増幅素子(55)は、所定のアイドリング
電流を流すことによってトランジスタ(MISFET)
の特性曲線の非直線性を互いに補正し合いながら相補的
に動作するので、直線性が改善され、歪みの無い大きな
出力電力を得ることができる。温度補償用のダイオード
(54)は第1の増幅素子(53)及び第2の増幅素子(55)のゲ
ート・ソース端子間の電圧の温度依存性を補償する作用
がある。また、第1の半導体装置(51)内の第1の増幅素
子(53)の閾値(VTH1)のばらつきが第2の半導体装置(52)
側で吸収されるので、電気的特性にばらつきのある第1
及び第2の半導体装置(51, 52)をどのように組み合せて
も第1及び第2の増幅素子(53, 55)に常に一定値のアイ
ドリング電流を流すことができる。
In operation, control signals having the same size but different phases by 180 degrees are applied to the gate terminals of the first amplifying element 53 and the second amplifying element 55 which are connected symmetrically. .
When the first amplification element (53) is turned on in the positive half cycle,
DC power supply (9) to the first amplification element (53), capacitor (11)
And a current flows through the load (10) and the capacitor (11) is charged. When the second amplification element (55) is turned on in the negative half cycle, the energy stored in the capacitor (11) is supplied to the load (10) through the second amplification element (55). The first amplifying element (53) and the second amplifying element (55) are transistors (MISFET) by flowing a predetermined idling current.
Since the non-linearity of the characteristic curve is mutually compensated, they operate in a complementary manner, so that the linearity is improved and a large output power without distortion can be obtained. Diode for temperature compensation
(54) has a function of compensating for the temperature dependence of the voltage between the gate and source terminals of the first amplifying element (53) and the second amplifying element (55). Further, variations in the threshold value (V TH1 ) of the first amplifying element (53) in the first semiconductor device (51) are caused by the second semiconductor device (52).
Since it is absorbed by the side, the first
Also, no matter how the semiconductor devices (51, 52) are combined, an idling current of a constant value can always flow through the first and second amplifying elements (53, 55).

【0017】第1の半導体装置(51)を製造する際に、ま
ず図2に示すように、支持板(63)上にnチャンネルMI
SFETの第1の半導体チップ(53a)と回路基板(60)の
固着された第1のリードフレーム組立体(51a)を準備す
る。第1の半導体装置(51)を構成する第1のリードフレ
ーム組立体(51a)は、支持板(63)と、支持板(63)の一方
の縁部に沿って配置された複数本の外部端子(66)と、支
持板(63)の一方の主面に固着された第1の半導体チップ
(53a)及び回路基板(60)と、第1の半導体チップ(53a)と
回路基板(60)との間を電気的に接続する第1のリード細
線(61a〜61d)とを備えている。第1のリードフレーム組
立体(51a)では、第1の半導体チップ(53a)と回路基板(6
0)との間は第1のリード細線(61a〜61d)によって電気的
に接続されるが、回路基板(60)と外部端子(66)との間は
第1の接続細線(67)によって電気的に接続されない。外
部端子(66)は、配列の左から順番にゲート端子(66a)、
抵抗接続端子(66b)、ドレイン端子(66c)、2本のソース
端子(66d, 66e)である。第1の抵抗(58)となる抵抗体
(厚膜抵抗)(58a)と、配線導体(65)と、接続用端子(65
a〜65c)と、検出用端子(62a〜62d)とが回路基板(60)の
一方の主面に形成される。
When manufacturing the first semiconductor device (51), first, as shown in FIG. 2, an n-channel MI is formed on the support plate (63).
A first lead frame assembly (51a) in which the first semiconductor chip (53a) of the SFET and the circuit board (60) are fixed is prepared. The first lead frame assembly (51a) constituting the first semiconductor device (51) includes a support plate (63) and a plurality of external parts arranged along one edge of the support plate (63). First semiconductor chip fixed to the terminal (66) and one main surface of the support plate (63)
(53a) and the circuit board (60), and the first lead thin wires (61a to 61d) for electrically connecting the first semiconductor chip (53a) and the circuit board (60). In the first lead frame assembly (51a), the first semiconductor chip (53a) and the circuit board (6
0) is electrically connected by the first lead thin wires (61a to 61d), while the circuit board (60) and the external terminals (66) are electrically connected by the first connection thin wires (67). Not connected. The external terminal (66) is, in order from the left of the array, the gate terminal (66a),
They are a resistance connection terminal (66b), a drain terminal (66c), and two source terminals (66d, 66e). The resistor (thick film resistor) (58a) that becomes the first resistor (58), the wiring conductor (65), and the connection terminal (65
a to 65c) and detection terminals (62a to 62d) are formed on one main surface of the circuit board (60).

【0018】次に、クロスオーバ歪みの除去に必要なア
イドリング電流を100mAに設定した後、中央の外部端
子(66c)と電極(62d)との間に定電流源を接続して、半導
体チップ(53a)に約100mAのドレイン電流を流す。第
1のリード細線(61a, 61d)を介して半導体チップ(53a)
のゲート電極とソース電極に電気的に接続される検出用
端子(62a, 62d)に測定器のプローブを接触させてゲート
・ソース間電圧(VGS)を測定する。検出用端子(62a, 62
d)及び検出用端子(62b, 62c)はプローブを当接させるに
十分な面積で形成される。
Next, after setting the idling current required for removing the crossover distortion to 100 mA, a constant current source is connected between the central external terminal (66c) and the electrode (62d), and the semiconductor chip ( A drain current of about 100 mA is applied to 53a). Semiconductor chip (53a) through the first thin lead wire (61a, 61d)
A probe of the measuring instrument is brought into contact with the detection terminals (62a, 62d) electrically connected to the gate electrode and the source electrode of and the gate-source voltage (V GS ) is measured. Detection terminals (62a, 62a
The d) and the detection terminals (62b, 62c) are formed in an area sufficient for abutting the probe.

【0019】続いて、第1のリードフレーム組立体(51
a)に構成されたダイオード(54)に約3mAの順方向電流を
流して、それぞれダイオード(54)のアノード電極とカソ
ード電極に第1のリード細線(61a, 61b)を介して電気的
に接続される検出用端子(62a, 62b)に測定器のプローブ
を接触させてダイオード(54)の順方向電圧(VF1)を測定
する。本実施の形態では、ダイオード(54)は、半導体チ
ップ(53a)の半導体基板内に形成された拡散層又は半導
体基板の上面に形成されたポリシリコンによって形成さ
れる。第1の増幅素子(53)及び第2の増幅素子(55)の2
つの半導体チップ(53a, 55a)のゲート・ソース間電圧の
温度依存性を補償するため、8個のダイオード(54)全て
を第1のリードフレーム組立体(51a)に組み込み、8個
のダイオード(54)の順方向総電圧を測定する。3mAの順
方向電流を流したときのダイオード(54)の電圧降下に依
存して、暗電流、即ちアイドリング電流となる約100
mAのドレイン電流が半導体チップ(53a)に流れたとき、
第1の半導体チップ(53a)のゲート・ソース間電圧
(VGS)、即ち閾値(VTH1)を測定し、ダイオード(54)の順
方向電圧を利用して、第1の抵抗(58)の抵抗値(R1)を
次式(1)に基づいて算出する。式(1)では、ダイオード(5
4)に流れる電流を(ID)、ダイオード(54)の端子電圧を(V
F1)、第1の増幅素子(53)の閾値を(VTH1)、一定レベル
である固定値(V0)とする。 R1=[(VTH1)+(V0)−(VF1)]/(ID) (1) 従って、第1の半導体チップ(53)の測定したゲート・ソ
ース間電圧(VGS1)とダイオード(54)の順方向電圧と、予
め算出された固定値(V0)とを式(1)に代入して第1の抵
抗(58)の抵抗値(R1)を算出することができる。
Then, the first lead frame assembly (51
A forward current of about 3mA is applied to the diode (54) configured in a) and electrically connected to the anode electrode and cathode electrode of the diode (54) via the first thin lead wires (61a, 61b). The forward voltage (V F1 ) of the diode (54) is measured by bringing the probe of the measuring instrument into contact with the detection terminals (62a, 62b). In the present embodiment, the diode (54) is formed of a diffusion layer formed in the semiconductor substrate of the semiconductor chip (53a) or polysilicon formed on the upper surface of the semiconductor substrate. 2 of the first amplification element (53) and the second amplification element (55)
In order to compensate the temperature dependence of the gate-source voltage of one semiconductor chip (53a, 55a), all eight diodes (54) are incorporated in the first lead frame assembly (51a), and eight diodes ( Measure the total forward voltage of 54). Depending on the voltage drop of the diode (54) when a forward current of 3 mA is applied, it becomes a dark current, that is, an idling current of about 100.
When the mA drain current flows to the semiconductor chip (53a),
Gate-source voltage of the first semiconductor chip (53a)
(V GS ), that is, the threshold value (V TH1 ) is measured, and the forward voltage of the diode (54) is used to determine the resistance value (R 1 ) of the first resistor (58) based on the following equation (1). To calculate. In equation (1), the diode (5
The current flowing in (4) is ( ID ) and the terminal voltage of the diode (54) is (V
F1 ), the threshold value of the first amplifying element (53) is (V TH1 ), and a fixed value (V 0 ) which is a constant level. R 1 = [(V TH1 ) + (V 0 ) − (V F1 )] / (I D ) (1) Therefore, the measured gate-source voltage (V GS1 ) of the first semiconductor chip (53) The resistance value (R 1 ) of the first resistor (58) can be calculated by substituting the forward voltage of the diode (54) and the fixed value (V 0 ) calculated in advance into the equation (1). .

【0020】次に、図2に示す第1のリードフレーム組
立体(51a)の回路基板(60)上に形成された第1の抵抗(5
8)の両端に電気的にそれぞれ接続された検出用端子(62
b, 62c)に測定器のプローブを接触させて、第1の抵抗
(58)の抵抗値(R1)を測定しながら周知のトリミングを
施し、第1の抵抗(58)を高精度に抵抗値Rに調整する
ことができる。例えば、厚膜抵抗体(58a)の一部をレー
ザトリミング等により切除して第1の抵抗(58)を正確な
抵抗値に調整できると共に、調整作業を自動化できる利
点がある。
Next, the first resistor (5) formed on the circuit board (60) of the first lead frame assembly (51a) shown in FIG.
8) Detection terminals (62
b, 62c) by touching the probe of the measuring instrument to the first resistance
Well-known trimming can be performed while measuring the resistance value (R 1 ) of (58) to adjust the first resistance (58) to the resistance value R 1 with high accuracy. For example, there is an advantage that the first resistor (58) can be adjusted to an accurate resistance value by cutting off a part of the thick film resistor (58a) by laser trimming or the like, and the adjustment work can be automated.

【0021】第1の抵抗(58)を抵抗値R1に調整した
後、第1のリードフレーム組立体(51a)の回路基板(60)
と外部端子(66)との間に第1の接続細線(67a〜67d)を接
続する。その後、第1のリードフレーム組立体(51a)に
周知のトランスファモールド方法によって樹脂封止体(6
4)を形成することによって、樹脂封止体(64)により支持
板(63)、支持板(63)に固定された部品及び外部リード(6
6a〜66e)の内端部を被覆し、図3に示す第1の半導体装
置(51)を完成させる。
After adjusting the resistance value R 1 of the first resistor 58, the circuit board 60 of the first lead frame assembly 51a.
The first connection thin wires (67a to 67d) are connected between the external connection terminal (66) and the external terminal (66). After that, the first lead frame assembly (51a) is provided with a resin sealing body (6
4) to form the support plate (63) by the resin encapsulant (64), the components fixed to the support plate (63) and the external leads (6).
The inner end portions of 6a to 66e) are covered to complete the first semiconductor device (51) shown in FIG.

【0022】次に、第2の半導体装置(52)を製造する際
に、図4に示すように、pチャンネルMISFETの第
2の半導体チップ(55a)と回路基板(70)が支持板(73)上
に固着された第2のリードフレーム組立体(52a)を準備
する。第2の半導体装置(52)を構成する第2のリードフ
レーム組立体(52a)は、図4に示すように、支持板(73)
と、支持板(73)の一方の縁部に沿って配置された複数本
の外部端子(76a〜76e)と、支持板(73)の一方の主面に固
着された第2の半導体チップ(55a)及び回路基板(70)
と、第2の半導体チップ(55a)と回路基板(70)との間を
電気的に接続する第2のリード細線(71a〜71d)とを備え
ている。第2のリードフレーム組立体(52a)では、第2
の半導体チップ(55a)と回路基板(70)との間は第2のリ
ード細線(71a〜71d)によって電気的に接続されるが、回
路基板(70)と外部端子(76)との間は第2の接続細線(77)
によって電気的に接続されない。外部端子(76)は、配列
の右から順番にゲート端子(76a)、抵抗接続端子(76b)、
ドレイン端子(76c)、2本のソース端子(76d, 76e)であ
る。第2の抵抗(59)となる抵抗体(厚膜抵抗)(59a)
と、配線導体(75)と、接続用端子(75a〜75c)と、検出用
端子(72a〜72d)とが回路基板(70)の一方の主面に形成さ
れる。
Next, when manufacturing the second semiconductor device (52), as shown in FIG. 4, the second semiconductor chip (55a) of the p-channel MISFET and the circuit board (70) are supported by the support plate (73). ) Prepare a second lead frame assembly (52a) secured on top. The second lead frame assembly (52a) constituting the second semiconductor device (52) has a support plate (73) as shown in FIG.
A plurality of external terminals (76a to 76e) arranged along one edge of the support plate (73), and a second semiconductor chip fixed to one main surface of the support plate (73). 55a) and circuit board (70)
And the second lead wires (71a to 71d) for electrically connecting the second semiconductor chip (55a) and the circuit board (70). In the second lead frame assembly (52a), the second
The semiconductor chip (55a) and the circuit board (70) are electrically connected by the second thin lead wires (71a to 71d), but between the circuit board (70) and the external terminal (76). Second connection thin wire (77)
Not electrically connected by. The external terminal (76) is a gate terminal (76a), a resistor connection terminal (76b), in order from the right of the array.
A drain terminal (76c) and two source terminals (76d, 76e). Second resistor (59) resistor (thick film resistor) (59a)
The wiring conductor (75), the connection terminals (75a to 75c), and the detection terminals (72a to 72d) are formed on one main surface of the circuit board (70).

【0023】次に、クロスオーバ歪みの除去に必要なア
イドリング電流を100mAに設定した後、中央の外部端
子(76c)と電極(72d)との間に定電流源を接続して、第2
の半導体チップ(55a)に約100mAのドレイン電流を流
す。第2のリード細線(71a, 71d)を介して第2の半導体
チップ(55a)のゲート電極とソース電極に電気的に接続
される検出用端子(72a, 72d)に測定器のプローブを接触
させてゲート・ソース間電圧(VGS)を測定する。検出用
端子(72a, 72d)及び検出用端子(72b, 72c)はプローブを
当接させるに十分な面積で形成される。
Next, after setting the idling current required for removing the crossover distortion to 100 mA, a constant current source is connected between the external terminal (76c) at the center and the electrode (72d), and the second
A drain current of about 100 mA is applied to the semiconductor chip (55a). The probe of the measuring instrument is brought into contact with the detection terminals (72a, 72d) electrically connected to the gate electrode and the source electrode of the second semiconductor chip (55a) through the second thin lead wires (71a, 71d). And measure the gate-source voltage (V GS ). The detection terminals (72a, 72d) and the detection terminals (72b, 72c) are formed in an area sufficient for abutting the probe.

【0024】続いて、暗電流又はアイドリング電流とな
る約100mAのドレイン電流が第2の半導体チップ(55
a)に流れたとき、第2の半導体チップ(55a)のゲート・
ソース間電圧(VGS) 、即ち閾値(VTH2)を測定し、第2の
抵抗(59)の抵抗値(R2)を次式(3)に基づいて算出する。 R2=[(VTH2)−(V0)]/(ID) (3) 式(3)では、第2の抵抗(59)に流れる電流を(ID)、第2
の増幅素子(55)の閾値を(VTH2)、一定レベル(V0)を固定
値とする。従って、第2の半導体チップ(55a)の測定し
たゲート・ソース間電圧(VGS)と予め算出された固定値
(V0)とを式(3)に代入して第2の抵抗(59)の抵抗値R2
算出することができる。
Then, a drain current of about 100 mA, which is a dark current or an idling current, is applied to the second semiconductor chip (55).
When flowing to a), the gate of the second semiconductor chip (55a)
The voltage between sources (V GS ), that is, the threshold value (V TH2 ) is measured, and the resistance value (R 2 ) of the second resistor (59) is calculated based on the following equation (3). R 2 = [(V TH2 ) − (V 0 )] / (I D ) (3) In equation (3), the current flowing through the second resistor (59) is changed to (I D ), second
The threshold value of the amplification element (55) is set to (V TH2 ), and a fixed level (V 0 ) is set to a fixed value. Therefore, the measured gate-source voltage (V GS ) of the second semiconductor chip (55a) and the fixed value calculated in advance
The resistance value R 2 of the second resistor (59) can be calculated by substituting (V 0 ) and equation (3).

【0025】次に、図4に示す第2のリードフレーム組
立体(52a)の回路基板(70)上に形成された第2の抵抗(5
9)の両端に電気的にそれぞれ接続された検出用端子(72
b, 72c)に測定器のプローブを接触させて、第2の抵抗
(59)の抵抗値を測定しながら周知のトリミングを施し、
第2の抵抗(59)を高精度に抵抗値R2に調整することが
できる。例えば、厚膜抵抗体(59a)の一部をレーザトリ
ミング等により切除して第2の抵抗(59)を正確な抵抗値
に調整できると共に、調整作業を自動化できる利点があ
る。
Next, the second resistor (5) formed on the circuit board (70) of the second lead frame assembly (52a) shown in FIG.
9) The detection terminals (72
b, 72c) by touching the probe of the measuring instrument to the second resistance
Performing well-known trimming while measuring the resistance value of (59),
The second resistor (59) can be adjusted to the resistance value R 2 with high precision. For example, there is an advantage that the second resistor (59) can be adjusted to an accurate resistance value by cutting off a part of the thick film resistor (59a) by laser trimming and the adjustment work can be automated.

【0026】第2の抵抗(59)を抵抗値R2に調整した
後、図5に示すように、第2のリードフレーム組立体(5
2a)の回路基板(70)と外部端子(76)との間に第2の接続
細線(77a〜77d)を接続する。その後、第2のリードフレ
ーム組立体(52a)に周知のトランスファモールド方法に
よって樹脂封止体(74)を形成することによって、樹脂封
止体(74)により支持板(73)、支持板(73)に固定された部
品及び外部リード(76a〜76e)の内端部を被覆し、図5に
示す第2の半導体装置(52)を完成させる。図3及び図5
に示すように、第1の半導体装置(51)と第2の半導体装
置(52)は、外部端子(66, 76)の配列が反対になるので、
両半導体装置を主回路基板上に実装する場合に、第1の
半導体装置(51)と第2の半導体装置(52)のソース端子を
短い配線導体によって接続することができる。
After adjusting the second resistor 59 to the resistance value R 2 , as shown in FIG. 5, the second lead frame assembly 5
The second connection thin wires (77a to 77d) are connected between the circuit board (70) of 2a) and the external terminals (76). After that, a resin sealing body (74) is formed on the second lead frame assembly (52a) by a known transfer molding method, so that the resin sealing body (74) supports the supporting plate (73) and the supporting plate (73). ) And the inner ends of the external leads (76a to 76e) fixed thereto are completed to complete the second semiconductor device (52) shown in FIG. 3 and 5
As shown in, since the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52) have opposite arrangements of the external terminals (66, 76),
When both semiconductor devices are mounted on the main circuit board, the source terminals of the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52) can be connected by a short wiring conductor.

【0027】本発明の前記実施の形態は変更が可能であ
る。例えば、第1の抵抗(58)と第1の増幅素子(53)の制
御端子との間にダイオード(54)を接続する代わりに、第
1の抵抗(58)と第2の抵抗(59)との間にダイオード(54)
を接続してもよい。また、ダイオード(54)を第1の半導
体装置(51)内に内蔵する代わりに、第2の半導体装置(5
2)内に第2の抵抗(59)と直列に接続することができる。
この場合に、第1の抵抗(58)の抵抗値(R1)は下式(2): R1=[(VTH1)−(V0)]/(ID) (2) を満足し、第2の抵抗(59)の抵抗値(R2)は下式(4): R2=[(VTH2)+(V0)−(VF1)]/(ID) (4) を満足する。
The above embodiment of the present invention can be modified. For example, instead of connecting the diode (54) between the first resistor (58) and the control terminal of the first amplifying element (53), the first resistor (58) and the second resistor (59) Between diode (54)
May be connected. Further, instead of incorporating the diode (54) in the first semiconductor device (51), the second semiconductor device (5
It can be connected in series with the second resistor (59) in 2).
In this case, the resistance value (R 1 ) of the first resistor (58) satisfies the following equation (2): R 1 = [(V TH1 ) − (V 0 )] / (I D ) (2) , The resistance value (R 2 ) of the second resistor (59) is expressed by the following formula (4): R 2 = [(V TH2 ) + (V 0 ) − (V F1 )] / (I D ) (4) Be satisfied.

【0028】本発明の前記実施の形態では、MISFE
Tを使用する例を示したが、MISFETの代わりに、
バイポーラトランジスタ、MESFET、IGBT等他
の増幅素子を使用してもよい。また、ダイオード(54)を
第1の半導体装置(51)と第2の半導体装置(52)の両方に
形成しても良い。ダイオード(54)を第1の半導体装置(5
1)にのみ形成した場合、又は第2の半導体装置(52)にお
けるダイオード(54)の数に比べて第1の半導体装置(51)
におけるダイオード(54)の数を多くした場合には、第1
の抵抗(58)と第2の抵抗(59)は請求項1に記載されたA
の条件を満たすようにする。一方、ダイオード(54)を第
2の半導体装置(52)にのみ形成した場合、または第1の
半導体装置(51)におけるダイオード(54)の数に比べて第
2の半導体装置(52)におけるダイオード(54)の数を多く
した場合には、第1の抵抗(58)と第2の抵抗(59)は請求
項1に記載されたBの条件を満たすようにする。更に、
前記実施の形態では第2の半導体装置(52)と並列にコン
デンサ(11)を接続した回路例を示したが、コンデンサ(1
1)は省略することもできる。この場合は、負荷(10)を接
地し、且つ第1の増幅素子(53)のコレクタまたはドレイ
ンに正の電圧を印加し、第2の増幅素子(55)のコレクタ
またはドレインに負の電圧を印加する。また、第1及び
第2の増幅素子(53, 55)のエミッタ又はソースに抵抗を
接続することもできる。この抵抗は第1又は第2の半導
体装置(51, 52)に内蔵しても良いし、外付けで形成して
も良い。
In the above embodiment of the present invention, MISFE is used.
Although an example using T is shown, instead of MISFET,
Other amplification elements such as bipolar transistors, MESFETs, IGBTs may be used. Further, the diode (54) may be formed in both the first semiconductor device (51) and the second semiconductor device (52). The diode (54) is connected to the first semiconductor device (5
1) or only the first semiconductor device (51) in comparison with the number of diodes (54) in the second semiconductor device (52).
If the number of diodes (54) in
The resistance (58) and the second resistance (59) of A are as set forth in claim 1.
Satisfy the condition of. On the other hand, when the diode (54) is formed only in the second semiconductor device (52), or when compared to the number of diodes (54) in the first semiconductor device (51), the diode in the second semiconductor device (52) When the number of (54) is increased, the first resistor (58) and the second resistor (59) satisfy the condition of B described in claim 1. Furthermore,
In the above-described embodiment, the circuit example in which the capacitor (11) is connected in parallel with the second semiconductor device (52) has been described.
1) can be omitted. In this case, the load (10) is grounded, a positive voltage is applied to the collector or drain of the first amplification element (53), and a negative voltage is applied to the collector or drain of the second amplification element (55). Apply. Further, resistors can be connected to the emitters or sources of the first and second amplifying elements (53, 55). This resistor may be built in the first or second semiconductor device (51, 52) or may be formed externally.

【0029】[0029]

【発明の効果】前記のように、本発明では、ユーザ側で
抵抗値を調整する必要がなく、暗電流、即ちアイドリン
グ電流調整用の抵抗を樹脂封止体により一体に封止でき
るので、組立が容易であり、信頼性の高い長寿命のSE
PP回路が得られる。
As described above, according to the present invention, it is not necessary to adjust the resistance value on the user side, and the dark current, that is, the resistor for adjusting the idling current can be integrally sealed by the resin sealing body. Easy and reliable SE with long life
A PP circuit is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明によるSEPP回路の一実施の形態を
示す回路図
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a SEPP circuit according to the present invention.

【図2】 第1の半導体装置の製造に使用する第1のリ
ードフレーム組立体の平面図
FIG. 2 is a plan view of a first lead frame assembly used for manufacturing a first semiconductor device.

【図3】 第1の半導体装置の断面図FIG. 3 is a sectional view of a first semiconductor device.

【図4】 第2の半導体装置の製造に使用する第2のリ
ードフレーム組立体の平面図
FIG. 4 is a plan view of a second lead frame assembly used for manufacturing a second semiconductor device.

【図5】 第2の半導体装置の断面図FIG. 5 is a sectional view of a second semiconductor device.

【図6】 第1及び第2の増幅素子の動作電圧と電流と
の関係を示すグラフ
FIG. 6 is a graph showing the relationship between operating voltage and current of the first and second amplifying elements.

【図7】 従来のSEPP回路の回路図FIG. 7 is a circuit diagram of a conventional SEPP circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(51)・・第1の半導体装置、 (52)・・第2の半導体装
置、 (53)・・第1の増幅素子、 (54)・・ダイオード
(温度補償素子)、 (55)・・第2の増幅素子、 (58)
・・第1の抵抗、 (59)・・第2の抵抗、
(51) ・ ・ First semiconductor device, (52) ・ ・ Second semiconductor device, (53) ・ ・ First amplification element, (54) ・ ・ Diode (temperature compensation element), (55) ・ ・Second amplification element, (58)
..First resistance, (59) .. Second resistance,

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H03K 17/66 H03K 17/66 C 17/687 17/687 F Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI H03K 17/66 H03K 17/66 C 17/687 17/687 F

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 第1の増幅素子及び該第1の増幅素子の
制御端子に印加される電圧を制御する第1の抵抗を有す
る第1の半導体装置と、第2の増幅素子及び該第2の増
幅素子の制御端子に印加される電圧を制御する第2の抵
抗を有する第2の半導体装置とを備え、前記第1の半導
体装置と前記第2の半導体装置が直列に接続されたSE
PP回路において、 前記第1の増幅素子の制御端子と前記第2の増幅素子の
制御端子との間に前記第1の抵抗と第2の抵抗と直列に
温度補償素子を接続し、 A 前記温度補償素子に流れる電流と前記第1の抵抗の
抵抗値との積と前記温度補償素子の端子間電圧との和は
前記第1の増幅素子の閾値より一定レベルだけ高く、前
記第2の抵抗に流れる電流と前記第2の抵抗の抵抗値と
の積は前記第2の増幅素子の閾値より前記一定レベルだ
け低いこと、又は B 前記温度補償素子に流れる電流と前記第1の抵抗の
抵抗値との積は前記第1の増幅素子の閾値より一定レベ
ルだけ低く、前記第2の抵抗に流れる電流と前記第2の
抵抗の抵抗値との積と前記温度補償素子の端子電圧との
和は前記第2の増幅素子の閾値より前記一定レベルだけ
高いことのA又はBのいずれかの条件を満足する抵抗値
に前記第1の抵抗及び第2の抵抗がそれぞれ調整され、
前記第1の半導体装置と第2の半導体装置とはそれぞれ
樹脂封止体により封止されていることを特徴とするSE
PP回路。
1. A first semiconductor device having a first amplifying element and a first resistor for controlling a voltage applied to a control terminal of the first amplifying element, a second amplifying element and the second amplifying element. And a second semiconductor device having a second resistance for controlling a voltage applied to the control terminal of the amplifying element of SE, in which the first semiconductor device and the second semiconductor device are connected in series.
In the PP circuit, a temperature compensation element is connected in series with the first resistor and the second resistor between the control terminal of the first amplification element and the control terminal of the second amplification element, The sum of the product of the current flowing through the compensating element and the resistance value of the first resistor and the voltage across the terminals of the temperature compensating element is higher than the threshold value of the first amplifying element by a certain level, and The product of the flowing current and the resistance value of the second resistor is lower than the threshold value of the second amplifying element by the certain level, or B the current flowing through the temperature compensating element and the resistance value of the first resistor. Is lower than the threshold value of the first amplifying element by a certain level, and the sum of the product of the current flowing through the second resistor and the resistance value of the second resistor and the terminal voltage of the temperature compensating element is A higher than the threshold value of the second amplifying element by the certain level Alternatively, the first resistance and the second resistance are respectively adjusted to have resistance values satisfying either condition B.
SE, wherein the first semiconductor device and the second semiconductor device are each sealed with a resin sealing body.
PP circuit.
【請求項2】 前記第1の抵抗の抵抗値は下式(1)又は
(2): R1=[(VTH1)+(V0)−(VF1)]/(ID) (1) R1=[(VTH1)−(V0)]/(ID) (2) を満足し、 前記第2の抵抗の抵抗値は下式(3)又は(4): R2=[(VTH2)−(V0)]/(ID) (3) R2=[(VTH2)+(V0)−(VF1)]/(ID) (4) を満足する請求項1に記載のSEPP回路。
2. The resistance value of the first resistor is expressed by the following formula (1) or
(2): R 1 = [(V TH1 ) + (V 0 ) − (V F1 )] / (I D ) (1) R 1 = [(V TH1 ) − (V 0 )] / (I D ) (2) is satisfied, and the resistance value of the second resistor is expressed by the following formula (3) or (4): R 2 = [(V TH2 ) − (V 0 )] / (I D ) (3) R 2 2. The SEPP circuit according to claim 1, which satisfies the following formula : [[V TH2 ) + (V 0 ) − (V F1 )] / (I D ) (4).
【請求項3】 前記第1及び第2の抵抗は、面積を減少
できる厚膜抵抗体を有し、前記第1の半導体装置及び第
2の半導体装置は個別に樹脂封止体により封止される請
求項1又は2に記載のSEPP回路。
3. The first and second resistors have thick film resistors capable of reducing the area, and the first semiconductor device and the second semiconductor device are individually sealed with a resin sealing body. The SEPP circuit according to claim 1 or 2, further comprising:
【請求項4】 前記第1の半導体装置及び第2の半導体
装置は、検出用端子を有する請求項1〜3の何れか1項
に記載のSEPP回路。
4. The SEPP circuit according to claim 1, wherein each of the first semiconductor device and the second semiconductor device has a detection terminal.
【請求項5】 第1の増幅素子、該第1の増幅素子の制
御端子に印加される電圧を制御する第1の抵抗、該第1
の抵抗に直列に接続された温度補償素子、第1の外部リ
ード、前記第1の増幅素子と第1の抵抗との間を電気的
に接続する第1のリード細線を有する第1のリードフレ
ーム組立体と、第2の増幅素子、該第2の増幅素子の制
御端子に印加される電圧を制御する第2の抵抗、第2の
外部リード、前記第2の増幅素子と第2の抵抗との間を
電気的に接続する第2のリード細線を有する第2のリー
ドフレーム組立体とを準備する工程と、 前記第1の増幅素子に通電して、前記温度補償素子に流
れる電流と前記第1の抵抗の抵抗値との積と前記温度補
償素子の端子間電圧との和が前記第1の増幅素子の閾値
より一定レベルだけ高い状態に前記第1の抵抗を調整す
る工程と、 前記第2の増幅素子に通電して、前記第2の抵抗に流れ
る電流と前記第2の抵抗の抵抗値との積を前記第2の増
幅素子の閾値より前記一定レベルだけ低い状態に前記第
2の抵抗を調整する工程と、 前記第1のリードフレーム組立体及び第2のリードフレ
ーム組立体を樹脂封止体により個別に封止して、該樹脂
封止体から前記外部リードの端部を導出する第1の半導
体装置と第2の半導体装置とを形成する工程と、 前記第1の増幅素子と前記第2の増幅素子とを直列に接
続すると共に、前記第1の抵抗、前記温度補償素子及び
前記第2の抵抗を直列に接続する工程とを含むことを特
徴とするSEPP回路の製法。
5. A first amplifier element, a first resistor for controlling a voltage applied to a control terminal of the first amplifier element, and the first resistor.
Lead frame having a temperature compensating element, a first external lead, and a first lead thin wire electrically connecting between the first amplifying element and the first resistor connected in series to the resistor An assembly, a second amplification element, a second resistance for controlling a voltage applied to a control terminal of the second amplification element, a second external lead, the second amplification element and the second resistance. A step of preparing a second lead frame assembly having a second lead thin wire that electrically connects between the first lead element and the second lead frame assembly; Adjusting the first resistance such that the sum of the product of the resistance value of the first resistance and the voltage across the temperature compensation element is higher than the threshold value of the first amplification element by a certain level. When the second amplifying element is energized, the current flowing in the second resistor and the second resistor Adjusting the second resistance so that the product of the resistance value and the resistance value of the second amplification element is lower than the threshold value of the second amplifying element by the certain level, and the first lead frame assembly and the second lead frame set. Forming a first semiconductor device and a second semiconductor device that individually seal the solid body with a resin encapsulant and lead out the end portions of the external leads from the resin encapsulant; Connecting the first amplifying element and the second amplifying element in series, and connecting the first resistor, the temperature compensating element, and the second resistor in series, the SEPP circuit. Manufacturing method.
【請求項6】 第1の増幅素子、該第1の増幅素子の制
御端子に印加される電圧を制御する第1の抵抗、第1の
外部リード、前記第1の増幅素子と第1の抵抗との間を
電気的に接続する第1のリード細線を有する第1のリー
ドフレーム組立体と、第2の増幅素子、該第2の増幅素
子の制御端子に印加される電圧を制御する第2の抵抗、
該第2の抵抗に直列に接続された温度補償素子、外部リ
ード、第2の増幅素子と第2の抵抗との間を電気的に接
続する第2のリード細線を有する第2のリードフレーム
組立体とを準備する工程と、 前記第1の増幅素子に通電して、前記温度補償素子に流
れる電流と前記第1の抵抗の抵抗値との積が前記第1の
増幅素子の閾値より一定レベルだけ低い状態に前記第1
の抵抗を調整する工程と、 前記第2の増幅素子に通電して、前記第2の抵抗に流れ
る電流と前記第2の抵抗の抵抗値との積と前記温度補償
素子の端子間電圧との和が前記第2の増幅素子の閾値よ
り前記一定レベルだけ高い状態に前記第2の抵抗を調整
する工程と、 前記第1のリードフレーム組立体及び第2のリードフレ
ーム組立体を樹脂封止体により個別に封止して、該樹脂
封止体から前記外部リードの端部を導出する第1の半導
体装置と第2の半導体装置とを形成する工程と、 前記第1の増幅素子と前記第2の増幅素子とを直列に接
続すると共に、前記第1の抵抗、前記温度補償素子及び
前記第2の抵抗を直列に接続する工程とを含むことを特
徴とするSEPP回路の製法。
6. A first amplifier element, a first resistor for controlling a voltage applied to a control terminal of the first amplifier element, a first external lead, the first amplifier element and the first resistor. A first lead frame assembly having a first thin lead wire for electrically connecting between the second amplifying element and a second amplifying element, and a second controlling a voltage applied to a control terminal of the second amplifying element. Resistance of
A second lead frame set having a temperature compensating element connected in series to the second resistor, an external lead, and a second lead thin wire electrically connecting the second amplifying element and the second resistor. A step of preparing a solid, and a product of a current flowing through the temperature compensating element and a resistance value of the first resistor when the first amplifying element is energized to have a constant level higher than a threshold value of the first amplifying element. Only the first to the low state
A step of adjusting the resistance of the second amplification element, and a product of a current flowing through the second resistance and a resistance value of the second resistance and a voltage between terminals of the temperature compensation element. Adjusting the second resistance so that the sum is higher than the threshold value of the second amplifying element by the constant level, and the first lead frame assembly and the second lead frame assembly are sealed with resin. Forming a first semiconductor device and a second semiconductor device, which are individually sealed by means of, and lead out the end portions of the external leads from the resin sealing body; Connecting the two amplifying elements in series, and connecting the first resistor, the temperature compensating element and the second resistor in series, the SEPP circuit manufacturing method.
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