JP3372982B2 - Thermosetting resin composition and prepreg and laminate using the same - Google Patents

Thermosetting resin composition and prepreg and laminate using the same

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JP3372982B2
JP3372982B2 JP5177393A JP5177393A JP3372982B2 JP 3372982 B2 JP3372982 B2 JP 3372982B2 JP 5177393 A JP5177393 A JP 5177393A JP 5177393 A JP5177393 A JP 5177393A JP 3372982 B2 JP3372982 B2 JP 3372982B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性、低吸湿性およ
び接着性に優れた樹脂材料に関するものである。特に、
プリント配線板用積層板等に有用な樹脂材料と、これを
用いた積層板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin material having excellent heat resistance, low hygroscopicity and adhesiveness. In particular,
The present invention relates to a resin material useful as a laminated board for a printed wiring board and the like, and a laminated board using the resin material.

【0002】[0002]

【従来の技術】電気・電子機器、通信機器、計算機器等
に広く用いられているプリント配線板については、配線
密度の高度化、高集積化が進展し、これにともなって、
配線用積層板の耐熱性の向上による信頼性向上への要求
が強まっている。従来より、プリント配線板用積層板を
構成する樹脂材料としては、エポキシ樹脂、不飽和ポリ
エステル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂等が用
いられてきており、これらの樹脂のうちのエポキシ樹
脂、そしてビスマレイミドと芳香族ジアミンを反応させ
て得られるポリアミノビスマレイミド樹脂は高密度実
装、高多層化積層板に広く使用されている。
2. Description of the Related Art With regard to printed wiring boards widely used in electric / electronic devices, communication devices, computing devices, etc., the wiring density has become more sophisticated and highly integrated.
There is an increasing demand for improved reliability by improving the heat resistance of laminated wiring boards. BACKGROUND ART Conventionally, epoxy resins, unsaturated polyester resins, polyimide resins, phenol resins, etc. have been used as resin materials for forming laminated boards for printed wiring boards. Of these resins, epoxy resins and bismaleimides have been used. The polyamino bismaleimide resin obtained by reacting a diamine with an aromatic diamine is widely used for high-density packaging and high-multilayer laminates.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、エポキ
シ樹脂はその耐熱性が比較的良好であるものの、近年の
プリント配線板の高密度実装、高多層化構成にともなう
耐熱性向上への要請に対応するには、どうしてもその耐
熱性の上昇には限界がある。また、ポリアミノビスマレ
イミド樹脂の場合には、その耐熱性は非常に優れている
ものの、吸湿性が高く、接着性に難点があり、また、ワ
ニス化する際ジメチルホルムアミド等の高沸点溶剤を用
いる必要があり、プリプレグ中に残溶剤が多くなり、積
層時にボイドが発生しやすい。さらに、積層時にエポキ
シ樹脂に比べ高温、長時間を必要とするため、コスト高
になるという課題があった。また、このポリアミノビス
マレイミド樹脂の欠点を補う為に、ポリアミノビスマレ
イミド樹脂にエポキシ樹脂を加えたイミド変性エポキシ
樹脂があるが、この樹脂も溶剤に高沸点溶剤を必要と
し、プリプレグ中に残溶剤が多くなる問題があったり、
また、耐熱性がポリアミノビスマレイミド樹脂より大幅
に劣るという問題があった。
However, although the epoxy resin has relatively good heat resistance, it meets the recent demand for higher heat resistance due to high density mounting of printed wiring boards and high multilayer structure. Inevitably, there is a limit to the increase in heat resistance. Further, in the case of a polyamino bismaleimide resin, although its heat resistance is very excellent, it has high hygroscopicity and has a difficulty in adhesion, and it is necessary to use a high boiling point solvent such as dimethylformamide when forming a varnish. Therefore, the residual solvent is increased in the prepreg, and voids are easily generated during lamination. Furthermore, there is a problem in that the cost becomes high because higher temperature and longer time are required for stacking than the epoxy resin. Further, in order to compensate for the drawbacks of this polyamino bismaleimide resin, there is an imide-modified epoxy resin obtained by adding an epoxy resin to a polyamino bismaleimide resin, but this resin also requires a high boiling point solvent, and the residual solvent in the prepreg is There are many problems,
Further, there is a problem that the heat resistance is significantly inferior to that of the polyamino bismaleimide resin.

【0004】このため、今後の高密度実装、高多層化の
進展に対応できる、耐熱性に優れ、低吸湿性であり、し
かも接着性等の性能も良好で、積層時にボイドが発生し
にくく、安価なコストの積層板用樹脂材料が強く求めら
れていた。本発明は、このような事情に鑑みてなされた
ものであり、従来のエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂の欠
点を解消し、耐熱性に優れ、他の特性についても満足す
ることのできる新しい積層板用樹脂材料を提供すること
を目的としている。
For this reason, it is possible to cope with future progress in high-density mounting and multi-layering, has excellent heat resistance, has low hygroscopicity, and has excellent performance such as adhesiveness, and voids are less likely to occur during lamination. There has been a strong demand for resin materials for laminated boards at low cost. The present invention has been made in view of such circumstances, eliminates the drawbacks of conventional epoxy resins and polyimide resins, is excellent in heat resistance, and is a new resin for laminates that can satisfy other properties as well. The purpose is to provide the material.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意研究を重ねた結果、ポリマレイミ
ド樹脂をナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂、ナフタ
レン骨格を有するフェノール樹脂および、一分子中にO
H基とエポキシ基を有する分子量300以下の化合物で
変性し、メチルエチルケトン等の汎用溶剤に可溶であ
り、エポキシ樹脂、フェノール樹脂にナフタレン骨格を
導入したことにより、耐熱性に優れ、しかも低吸湿性で
あり、接着性に優れたことを特徴とする変性イミド樹脂
を主体とする熱硬化性樹脂組成物を提供する。また、本
発明は、この樹脂組成物を基材に含浸されたプリプレ
グ、およびこのプリプレグを複数枚積層形成してなるこ
とを特徴とする熱硬化性樹脂積層板をも提供する。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that polymaleimide resin is an epoxy resin having a naphthalene skeleton, a phenol resin having a naphthalene skeleton, and one molecule. O inside
It is modified with a compound having an H group and an epoxy group and having a molecular weight of 300 or less, is soluble in general-purpose solvents such as methyl ethyl ketone, and has excellent heat resistance and low hygroscopicity due to the introduction of a naphthalene skeleton into epoxy resin and phenol resin. And a thermosetting resin composition mainly composed of a modified imide resin, which is characterized by excellent adhesiveness. The present invention also provides a prepreg in which a base material is impregnated with this resin composition, and a thermosetting resin laminated plate characterized by being formed by laminating a plurality of prepregs.

【0006】本発明で使用されるポリマレイミド化合物
としては、1分子中に2個以上のマレイミド基を有する
化合物ならば全て使用可能である。このようなポリマレ
イミド化合物としては、例えば、N,N'−エチレンビスマ
レイミド、N,N'−ヘキサメチレンビスマレイミド、N,N'
-(1,3-フェニレン)ビスマレイミド、N,N'-[1,3-(2−メ
チルフェニレン)]ビスマレイミド、N,N'-(1,4-フェニレ
ン)ビスマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)メ
タン、ビス(3−メチル-4−マレイミドフェニル)メタ
ン、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4−
マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4−マレイミドフ
ェニル)スルフィド、ビス(4−マレイミドフェニル)ケ
トン、ビス(4−マレイミドシクロヘキシル)メタン、1,
4-ビス(4−マレイミドフェニル)シクロヘキサン、1,4-
ビス(マレイミドメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス
(マレイミドメチル)ベンゼン、1,3-ビス(4−マレイミ
ドフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3−マレイミドフェ
ノキシ)ベンゼン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)
フェニル] メタン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)
フェニル] メタン、1,1-ビス[4-(3-マレイミドフェノキ
シ)フェニル] エタン、1,1-ビス[4-(4-マレイミドフェ
ノキシ)フェニル] エタン、1,2-ビス[4-(3-マレイミド
フェノキシ)フェニル] エタン、1,2-ビス[4-(4-マレイ
ミドフェノキシ)フェニル] エタン、2,2-ビス[4-(3-マ
レイミドフェノキシ)フェニル] プロパン、2,2-ビス[4
-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-
ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル] ブタン、
2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル] ブタ
ン、2,2-ビス[4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4
-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘ
キサフルオロプロパン、4,4'−ビス(3−マレイミドフェ
ノキシ)ビフェニル、4,4'−ビス(4−マレイミドフェノ
キシ)ビフェニル、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)
フェニル] ケトン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)
フェニル] ケトン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)
フェニル] スルフィド、ビス[4-(4-マレイミドフェノキ
シ)フェニル] スルフィド、ビス[4-(3-マレイミドフェ
ノキシ)フェニル] スルホキシド、ビス[4-(4 −マレイ
ミドフェノキシ)フェニル] スルホキシド、ビス[4-(3-
マレイミドフェノキシ)フェニル] スルホン、ビス[4-
(4-マレイミドフェノキシ)フェニル] スルホン、ビス
[4-(3 −マレイミドフェノキシ)フェニル] エーテル、
ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル] エーテ
ル、1,4-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-α, α−ジ
メチルベンジル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイミド
フェノキシ)-α, α−ジメチルベンジル] ベンゼン、1,
4-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-α, α−ジメチル
ベンジル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-マレイミドフェノ
キシ)-α, α−ジメチルベンジル] ベンゼン、1,4-ビス
[4-(4-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル- α, α−
ジメチルベンジル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイミ
ドフェノキシ)-3,5-ジメチル−α, α−ジメチルベンジ
ル] ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-
3,5 −ジメチル−α, α−ジメチルベンジル] ベンゼ
ン、1,3-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチ
ル−α, α−ジメチルベンジル] ベンゼン、一般式
(2)(化2)
As the polymaleimide compound used in the present invention, any compound having two or more maleimide groups in one molecule can be used. Examples of such a polymaleimide compound include N, N'-ethylene bismaleimide, N, N'-hexamethylene bismaleimide, N, N '.
-(1,3-phenylene) bismaleimide, N, N '-[1,3- (2-methylphenylene)] bismaleimide, N, N'-(1,4-phenylene) bismaleimide, bis (4- Maleimidophenyl) methane, bis (3-methyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (4-maleimidophenyl) ether, bis (4-
Maleimidophenyl) sulfone, bis (4-maleimidophenyl) sulfide, bis (4-maleimidophenyl) ketone, bis (4-maleimidocyclohexyl) methane, 1,
4-bis (4-maleimidophenyl) cyclohexane, 1,4-
Bis (maleimidomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (maleimidomethyl) benzene, 1,3-bis (4-maleimidophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-maleimidophenoxy) benzene, bis [4- (3 -Maleimidophenoxy)
Phenyl] methane, bis [4- (4-maleimidophenoxy)
Phenyl] methane, 1,1-bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] ethane, 1,1-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (3 -Maleimidophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] ethane, 2,2-bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [ Four
-(4-maleimidophenoxy) phenyl] propane, 2,2-
Bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] butane,
2,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] butane, 2,2-bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl
Le] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4
-(4-maleimidophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 4,4'-bis (3-maleimidophenoxy) biphenyl, 4,4'-bis (4-maleimide Phenoxy) biphenyl, bis [4- (3-maleimidophenoxy)
Phenyl] ketone, bis [4- (4-maleimidophenoxy)
Phenyl] ketone, bis [4- (3-maleimidophenoxy)
Phenyl] sulfide, bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (3-
Maleimidophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4-
(4-Maleimidophenoxy) phenyl] sulfone, bis
[4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] ether,
Bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] ether, 1,4-bis [4- (4-maleimidophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-maleimide) Phenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,
4-bis [4- (3-maleimidophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-maleimidophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4- Screw
[4- (4-maleimidophenoxy) -3,5-dimethyl-α, α-
Dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-maleimidophenoxy) -3,5-dimethyl-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4-bis [4- (3-maleimidophenoxy)-
3,5-Dimethyl-α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-maleimidophenoxy) -3,5-dimethyl-α, α-dimethylbenzyl] benzene, general formula (2) (Chemical formula 2)

【0007】[0007]

【化2】 (式中、nは平均値で 0〜10である)で表されるポリマ
レイミド化合物、及び一般式(3)(化3)
[Chemical 2] (In the formula, n is 0 to 10 on average), and a polymaleimide compound represented by the general formula (3)

【0008】[0008]

【化3】 (式中、mは平均値で 0〜10である)で表されるポリマ
レイミド化合物等が挙げられる。また、これらのポリマ
レイミド化合物は、単独で用いても2種類以上を混合し
て用いてもよい。
[Chemical 3] (In the formula, m is an average value of 0 to 10) and the like. These polymaleimide compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0009】本発明で用いる(a)成分のエポキシ樹脂
としては1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有
し、少なくとも一つのナフタレン骨格を有する物であれ
ば全て使用可能である。これらについて、以下に例示す
る。ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトー
ル類とナフトール類またはフェノール、クレゾール、レ
ゾルシノール等のフェノール類とホルムアルデヒド、ア
セトアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズ
アルデヒド、グルオキザール、アルカンジアール等のア
ルデヒド類との反応生成物であるノボラック樹脂から誘
導されるノボラック型エポキシ樹脂、および上記ナフト
ール類、フェノール類とアラルキルアルコール誘導体と
の反応生成物であるアラルキル樹脂から誘導されるアラ
ルキル型エポキシ樹脂。 その他、1分子中に2個以上
の活性水素およびナフタレン骨格を有する化合物から誘
導されるエポキシ樹脂、例えば、ジヒドロキシナフタレ
ン、ジアミノナフタレン等とエピクロルヒドリンまたは
2−メチルエピクロルヒドリンを反応させて得られるエ
ポキシ樹脂等が挙げられ、これらのエポキシ樹脂の1種
類または2種類以上が使用される。
As the epoxy resin of the component (a) used in the present invention, any epoxy resin having at least two epoxy groups in one molecule and having at least one naphthalene skeleton can be used. These are illustrated below. From a novolak resin which is a reaction product of naphthols such as naphthol and dihydroxynaphthalene and naphthols or phenols such as phenol, cresol and resorcinol, and aldehydes such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, gluoxal and alkanedial. Derived novolak type epoxy resins and aralkyl type epoxy resins derived from aralkyl resins which are reaction products of the above naphthols, phenols and aralkyl alcohol derivatives. In addition, an epoxy resin derived from a compound having two or more active hydrogens and a naphthalene skeleton in one molecule, for example, an epoxy resin obtained by reacting dihydroxynaphthalene, diaminonaphthalene and the like with epichlorohydrin or 2-methylepichlorohydrin One or two or more of these epoxy resins are used.

【0010】(b)成分としては、分子中に少なくとも
二つ以上のOH基を有し、少なくとも一つのナフタレン
骨格を有するフェノール樹脂であれば全て使用すること
ができる。これらについて、以下に例示する。ナフトー
ル、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とナフト
ール類またはフェノール、クレゾール、レゾルシノール
等のフェノール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、
グルオキザール、アルカンジアール等のアルデヒド類と
の反応生成物であるノボラック樹脂、および上記ナフト
ール類、フェノール類とアラルキルアルコール誘導体と
の反応生成物であるアラルキル樹脂が挙げられ、これら
フェノール樹脂の1種類または2種類が使用される。
As the component (b), any phenol resin having at least two OH groups in the molecule and having at least one naphthalene skeleton can be used. These are illustrated below. Naphthols such as naphthol and dihydroxynaphthalene and naphthols or phenols such as phenol, cresol and resorcinol and formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde,
Examples include novolak resins, which are reaction products with aldehydes such as gluoxal and alkanedials, and aralkyl resins, which are reaction products with naphthols, phenols and aralkyl alcohol derivatives. One of these phenolic resins or Two types are used.

【0011】(c)成分としては、グリシドール、グリ
セリンジグリシジルエーテル、エチレングリコールモノ
グリシジルエーテル、レゾルシノールモノグリシジルエ
ーテル、ナフトレゾルシノールモノグリシジルエーテル
等、一分子中に一つのアルコール性もしくは、フェノー
ル性OH基と、一つ以上のエポキシ基とを含む分子量3
00以下の化合物があげられる。一分子中に一つのアル
コール性もしくはフェノール性OH基と、一つ以上のエ
ポキシ基を含む化合物であっても、分子量300以上で
は、目的のメチルエチルケトン等の汎用溶剤に可溶な変
性イミド樹脂を製造することはできない。
As the component (c), glycidol, glycerin diglycidyl ether, ethylene glycol monoglycidyl ether, resorcinol monoglycidyl ether, naphthresorcinol monoglycidyl ether, etc., one alcoholic or phenolic OH group in one molecule, , Molecular weight 3 containing one or more epoxy groups
Examples of the compounds are 00 or less. Even if it is a compound containing one alcoholic or phenolic OH group and one or more epoxy group in one molecule, if the molecular weight is 300 or more, it produces a modified imide resin soluble in a general-purpose solvent such as methyl ethyl ketone. You cannot do it.

【0012】上記のポリマレイミド樹脂、(a)、
(b)および(c)成分を同時に100〜200℃で、
0.1〜10時間加熱混合するのが一般的であるが、ポ
リマレイミド樹脂に対して、(c)成分のみでは、短時
間の加熱(例えば、130℃、10分間)でゲル化して
しまい、安定な変性イミド樹脂の製造は困難である。一
方、ポリマレイミド樹脂に対して、(a)(c)成分を
加えて加熱混合すると長時間の加熱でもゲル化を起こす
ことなく安定に変性イミド樹脂を製造することができ
る。さらに、ポリマレイミド樹脂に対して、(a)
(b)(c)成分を加えて加熱混合すると、(a)
(c)成分を加えた場合よりもより短時間で目的の変性
イミド樹脂を製造することができる。
The above polymaleimide resin, (a),
The components (b) and (c) at the same time at 100 to 200 ° C.,
Generally, the mixture is heated and mixed for 0.1 to 10 hours, but with respect to the polymaleimide resin, the component (c) alone causes gelation by heating for a short time (for example, 130 ° C., 10 minutes), The production of stable modified imide resins is difficult. On the other hand, when the components (a) and (c) are added to the polymaleimide resin and mixed by heating, the modified imide resin can be stably produced without gelation even when heated for a long time. Further, for the polymaleimide resin, (a)
When components (b) and (c) are added and mixed by heating, (a)
The target modified imide resin can be produced in a shorter time than when the component (c) is added.

【0013】(c)成分としては、ポリマレイミド樹脂
100重量部に対し、5〜100重量部用いるのが好ま
しいが、特に、耐熱性の保持およびメチルエチルケトン
等の汎用溶剤への可溶性の目的では、15〜50重量部
を用いるのが好ましい。
The component (c) is preferably used in an amount of 5 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymaleimide resin. In particular, for the purpose of maintaining heat resistance and solubility in a general-purpose solvent such as methyl ethyl ketone, it is 15 parts by weight. It is preferable to use ˜50 parts by weight.

【0014】(a)成分のエポキシ樹脂は、ポリマレイ
ミド樹脂100重量部に対し、一般的には、10〜50
0重量部用いられるが、製造時の安定性および耐熱性と
いう目的では、20〜200重量部が好ましい。
The epoxy resin as the component (a) is generally 10 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymaleimide resin.
Although 0 part by weight is used, 20 to 200 parts by weight is preferable for the purpose of stability during production and heat resistance.

【0015】(b)成分のフェノール樹脂は、(a)成
分のエポキシ樹脂100重量部に対して、1〜500重
量部の範囲、好ましくは10〜200重量部の範囲であ
る。本発明の樹脂組成物は、この変性イミド樹脂を主成
分とするものであって、必要に応じて、クレゾールノボ
ラック型エポキシ、ビスフェノール型エポキシ等のナフ
タレン骨格を含まないエポキシ、および/または、フェ
ノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂等の
ナフタレン骨格を含まないフェノール樹脂、ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジシア
ンジアミド等に代表されるアミン類、無水フタル酸、無
水ピロメリット酸等の酸無水物を併用することもでき
る。
The amount of the phenol resin as the component (b) is in the range of 1 to 500 parts by weight, preferably 10 to 200 parts by weight, based on 100 parts by weight of the epoxy resin of the component (a). The resin composition of the present invention contains the modified imide resin as a main component, and if necessary, a cresol novolac type epoxy, a bisphenol type epoxy-free epoxy which does not include a naphthalene skeleton, and / or a phenol novolac. Resin, phenol resin not containing naphthalene skeleton such as phenol aralkyl resin, amines typified by diaminodiphenylmethane, diaminodiphenyl sulfone, dicyandiamide, etc., and acid anhydrides such as phthalic anhydride, pyromellitic dianhydride, etc. may be used in combination. .

【0016】本発明において、樹脂組成物を硬化するに
あたっては、硬化促進剤を含有させることが望ましく、
かかる硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾール、
2−メチル−4−エチルイミダゾール、2−ヘプタデシ
ルイミダゾール等のイミダゾール類;トリエタノールア
ミン、トリエチレンジアミン、N−メチルモルホリン等
のアミン類;トリブチルホスフィン、トリフェニルホス
フィン、トリトリルホスフィン等の有機ホスフィン類;
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、
トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート等のテ
トラフェニルボロン塩類;1,8−ジアザ−ビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7およびその誘導体が挙げ
られる。これらの硬化促進剤は、単独で用いても2種類
以上を併用してもよく、また、必要に応じて、有機過酸
化物やアゾ化合物を併用することもできる。これら硬化
促進剤の含有量は、樹脂100 重量部に対して、0.01〜10
重量部の範囲で用いられる。
In the present invention, when curing the resin composition, it is desirable to include a curing accelerator,
As such a curing accelerator, 2-methylimidazole,
Imidazoles such as 2-methyl-4-ethylimidazole and 2-heptadecylimidazole; amines such as triethanolamine, triethylenediamine and N-methylmorpholine; organic phosphines such as tributylphosphine, triphenylphosphine and tritolylphosphine ;
Tetraphenylphosphonium tetraphenylborate,
And tetraphenylboron salts such as triethylammonium tetraphenylborate; 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7 and its derivatives. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more, and if necessary, an organic peroxide or an azo compound may be used in combination. The content of these curing accelerators is 0.01 to 10 with respect to 100 parts by weight of the resin.
Used in the range of parts by weight.

【0017】本発明の樹脂材料は上記各種成分の他、必
要に応じてジアリルフタレート、トリアリルイソシアヌ
レート、o,o'- ジアリルビスフェノールA等のイミド樹
脂に対して一般的に使用される反応性希釈剤;各種シリ
コーンオイル;ブロム化合物、アンチモン、リン等の難
燃剤;充填剤;その他の適宜な添加物等を配合してもよ
い。以上のようなこの発明の樹脂組成物を積層板用樹脂
材料として用いる場合には、この樹脂を溶剤に溶かし樹
脂ワニスとして、基材に含浸させて乾燥し、プリプレグ
とし、これを複数枚、加熱加圧して積層一体化すること
により、所定の積層板とすることができる。
In addition to the above-mentioned various components, the resin material of the present invention has a reactivity that is generally used for imide resins such as diallyl phthalate, triallyl isocyanurate and o, o'-diallyl bisphenol A, if necessary. Diluents; various silicone oils; flame retardants such as bromine compounds, antimony and phosphorus; fillers; other suitable additives may be added. When the resin composition of the present invention as described above is used as a resin material for laminates, the resin is dissolved in a solvent to form a resin varnish, the base material is impregnated and dried, and a prepreg is prepared. A predetermined laminated plate can be obtained by pressurizing and laminating and integrating.

【0018】基材としては、ガラスマット、ガラスシー
ト、不織布、紙等の適宜なものが使用でき、また積層成
形において最外層に銅、アルミニウム、ステンレス等の
金属箔を配して成形し、プリント配線板用積層板とする
ことができる。内層コア材を用いて多層プリント配線板
用積層板としてもよい。
As the base material, a suitable material such as glass mat, glass sheet, non-woven fabric, paper or the like can be used, and in lamination molding, a metal foil of copper, aluminum, stainless steel or the like is placed on the outermost layer, and molding is carried out. It can be a laminate for wiring boards. You may use it as a laminated board for multilayer printed wiring boards using an inner layer core material.

【0019】[0019]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、実施例における性能の試験方法は次の通りで
ある。 ・揮発分:JIS C−6487・ガラス転移温度:動
的粘弾性法・銅箔ピール試験:JIS C−6481・
吸水率:JIS C−6481・はんだ耐熱性:JIS
C−6481に準じて、試験片を1時間煮沸後、300
℃のはんだ浴に120秒浸漬し、積層板の異常の有無を
調べた。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples. The test method of the performance in the examples is as follows.・ Volatile content: JIS C-6487 ・ Glass transition temperature: Dynamic viscoelasticity method ・ Copper foil peel test: JIS C-6482 ・
Water absorption rate: JIS C-6481, Solder heat resistance: JIS
According to C-6481, after boiling the test piece for 1 hour, 300
It was dipped in a solder bath at ℃ for 120 seconds, and the presence or absence of abnormality of the laminated plate was examined.

【0020】また、実施例および比較例で使用した原料
は、次のものを使用した。 ・ポリマレイミド化合物;ビス(4−マレイミドフェニ
ル)メタン(三井東圧化学(株)製) ・エポキシ樹脂;ナフタレン含有エポキシ樹脂(EOCN-7
000 、日本化薬(株)製)
The following raw materials were used as the raw materials used in the examples and comparative examples.・ Polymaleimide compound; bis (4-maleimidophenyl) methane (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) ・ Epoxy resin; naphthalene-containing epoxy resin (EOCN-7)
000, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

【0021】[0021]

【化4】 ・エポキシ樹脂;ナフタレン含有エポキシ樹脂(EPICLO
N-4032、大日本インキ化学工業(株)製)
[Chemical 4] ・ Epoxy resin; naphthalene-containing epoxy resin (EPICLO
N-4032, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.

【0022】[0022]

【化5】 ・エポキシ樹脂;o−クレゾールノボラック型エポキシ
樹脂(EOCN-1020 、日本化薬(株)製) ・エポキシ樹脂;ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エ
ピコート1001、油化シェルエポキシ(株)製) ・フェノール樹脂;ナフタレン含有フェノール樹脂(OC
N-7000、日本化薬(株)製)
[Chemical 5] -Epoxy resin; o-cresol novolac type epoxy resin (EOCN-1020, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)-Epoxy resin: Bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 1001, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)-Phenol resin; Naphthalene-containing phenolic resin (OC
N-7000, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

【0023】[0023]

【化6】 ・フェノール樹脂;ナフトールザイロック樹脂(NX,三
井東圧化学(株)製)
[Chemical 6] -Phenol resin; Naphthol ziloc resin (NX, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.)

【0024】[0024]

【化7】 ・フェノール樹脂;ノボラック型フェノール樹脂(PN-8
0 、日本化薬(株)製) ・グリシドール;エピオールOH(日本油脂(株)製) ・硬化促進剤;2エチル4メチルイミダゾール(2E4MZ
、四国化成(株)製) ・ポリアミノビスマレイミド樹脂;ケルイミド601A(ロ
ーヌ・プーラン社製)
[Chemical 7] -Phenolic resin; novolac type phenolic resin (PN-8
0, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.-Glycidol; Epiol OH (manufactured by NOF CORPORATION) -Curing accelerator: 2 ethyl 4-methyl imidazole (2E4MZ)
, Shikoku Kasei Co., Ltd. ・ Polyamino bismaleimide resin; Kelimide 601A (Rhone Poulenc Company)

【0025】実施例1〜4 および比較例1〜(変性
イミド樹脂A〜の製造)撹拌機、温度計および冷却器
を装着した反応容器に、第1表のA〜の組成になるよ
うに原材料を挿入して、130℃、30分間または1時
間反応せしめ、変性イミド樹脂A〜Jを得た。
Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 6 (Production of modified imide resins A to J ) A reactor equipped with a stirrer, a thermometer and a cooler has the compositions of A to J in Table 1. Thus, the raw materials were inserted and reacted at 130 ° C. for 30 minutes or 1 hour to obtain modified imide resins AJ.

【0026】(メチルエチルケトンへの溶解性) 変性イミド樹脂A〜100重量部に対してメチルエチ
ルケトン100重量部を加え、室温での変性イミド樹脂
A〜のメチルエチルケトンへの溶解性を調べた。その
結果を第1表に示す。
[0026] 100 parts by weight of methyl ethyl ketone added to modified imide resin A to J 100 parts by weight (solubility in methyl ethyl ketone), was examined solubility in methyl ethyl ketone-modified imide resin A to J at room temperature. The results are shown in Table 1.

【0027】実施例1〜4および比較例1,2に示した
ように、ポリマレイミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノー
ル樹脂、および(c)成分が適切な配合であると、13
0℃、30分間の加熱でメチルエチルケトンに可溶な変
性イミド樹脂を得ることができる。
As shown in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2, when the polymaleimide resin, the epoxy resin, the phenol resin, and the component (c) have a proper composition, 13
A modified imide resin soluble in methyl ethyl ketone can be obtained by heating at 0 ° C. for 30 minutes.

【0028】比較例はフェノール樹脂を変性時に使用
しない場合であるが、加熱時間30分では、沈澱物が生
じる。従って、フェノール樹脂を用いることにより、短
時間に目的の変性イミド樹脂を得ることができることが
わかる。また、比較例3,4,6に示したように、ポリ
マレイミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂および
(c)成分が適切な配合で変性されないと、得られる変
性イミド樹脂は、変性中にゲル化したり、沈澱物が発生
することがわかる。さらに、比較例6で用いたエポキシ
樹脂エピコート1001は一分子中に一つのOH基と二
つのエポキシ基を含む化合物であるにもかかわらず、分
子量が900であるために、メチルエチルケトンに溶解
した場合沈澱物が生じる。
Comparative Example 5 is a case where the phenol resin is not used during the modification, but a precipitate is formed when the heating time is 30 minutes. Therefore, it is understood that the intended modified imide resin can be obtained in a short time by using the phenol resin. Further, as shown in Comparative Examples 3, 4, and 6, when the polymaleimide resin, the epoxy resin, the phenol resin, and the component (c) are not modified with an appropriate composition, the modified imide resin obtained does not gel during modification. It can be seen that precipitation occurs. Furthermore, since the epoxy resin Epicoat 1001 used in Comparative Example 6 is a compound containing one OH group and two epoxy groups in one molecule, it has a molecular weight of 900, and therefore it precipitates when dissolved in methyl ethyl ketone. A thing arises.

【0029】実施例5〜8 および比較例11 実施例1〜4および比較例1,2で製造した変性イミド
を第2表に示す組成(重量部)の配合で、フラスコ中で
溶解し、熱硬化性樹脂組成物ワニスを得た。なお、ポリ
アミノビスマレイミド樹脂はメチルエチルケトンに不溶
であるため、溶剤にジメチルホルムアミドを用いた。こ
のようにして得られた変性イミド樹脂ワニスを、104
g/m2 のガラスクロスに含浸し、140℃で5分間乾
燥して、約190g/m2 のプリプレグを得た。このプ
リプレグを5枚重ね合わせ、さらに上下の最外層に銅箔
を配して、40kg/cm2 の圧力で、170℃、60
分の加熱条件で成形し、0.5mm厚の銅張積層板を得
た。
Examples 5 to 8 and Comparative Examples 7 to 11 The modified imides prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were dissolved in a flask with the composition (parts by weight) shown in Table 2. A thermosetting resin composition varnish was obtained. Since polyamino bismaleimide resin is insoluble in methyl ethyl ketone, dimethylformamide was used as the solvent. The modified imide resin varnish thus obtained was treated with 104
A glass cloth of g / m 2 was impregnated and dried at 140 ° C. for 5 minutes to obtain a prepreg of about 190 g / m 2 . Five sheets of this prepreg were stacked, copper foil was placed on the upper and lower outermost layers, and the pressure was 40 kg / cm 2 at 170 ° C. and 60 ° C.
Molding was performed under heating conditions for a minute to obtain a copper clad laminate having a thickness of 0.5 mm.

【0030】得られたプリプレグ、積層板の試験結果を
第2表に示す。比較のために、フェノール樹脂にナフタ
レン骨格を含まない変性イミド樹脂E(比較例)、エ
ポキシ樹脂にナフタレン骨格を含まない変性イミド樹脂
F(比較例)、ポリアミノビスマレイミド樹脂(比較
)、ポリアミノビスマレイミド樹脂とナフタレン骨
格を有するエポキシ樹脂とナフタレン骨格を有するフェ
ノール樹脂の混合樹脂(比較例10)、およびエポキシ
樹脂(比較例11)についても、プリプレグ、積層板を
製造し、その樹脂特性について同様に評価した。なお、
比較例9のポリアミノビスマレイミド樹脂の場合は20
0℃、120分の加熱条件で成形した。
Table 2 shows the test results of the obtained prepreg and laminated plate. For comparison, a modified imide resin E containing no naphthalene skeleton in the phenol resin (Comparative Example 7 ) and a modified imide resin containing no naphthalene skeleton in the epoxy resin
F (Comparative Example 8 ), polyamino bismaleimide resin (Comparative Example 9 ), mixed resin of polyamino bismaleimide resin and epoxy resin having naphthalene skeleton and phenol resin having naphthalene skeleton (Comparative Example 10 ), and epoxy resin (Comparative Example) Also for 11 ), a prepreg and a laminated board were manufactured, and the resin characteristics thereof were evaluated in the same manner. In addition,
In the case of the polyamino bismaleimide resin of Comparative Example 9, 20
It was molded under heating conditions of 0 ° C. and 120 minutes.

【0031】この発明の実施例5〜8に較べ、ポリアミ
ノビスマレイミド樹脂の場合はプリプレグ中の揮発分が
多くなる。比較例の場合エポキシ樹脂またはフェ
ノール樹脂がナフタレン骨格を含まないため、実施例に
較べ吸水率が高くはんだ耐熱性に劣る。以上、本実施例
に較べ、吸湿性、接着性およびはんだ耐熱性全てを満足
するレベルではなかった。
Compared with Examples 5 to 8 of the present invention, in the case of the polyamino bismaleimide resin, the volatile content in the prepreg is large. In Comparative Examples 7 and 8, since the epoxy resin or the phenol resin does not contain a naphthalene skeleton, the water absorption rate is higher and the solder heat resistance is inferior to the Examples. As described above, the levels were not satisfied with all of the hygroscopicity, the adhesiveness, and the solder heat resistance as compared with the present example.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】[0033]

【表2】 [Table 2]

【0034】[0034]

【発明の効果】実施例および比較例にて説明したごと
く、本発明による熱硬化性樹脂組成物は、メチルエチル
ケトン等の汎用溶剤に可溶で、プリプレグ中の揮発分が
少なく作業性に優れ、しかもエポキシ樹脂、フェノール
樹脂にナフタレン骨格を導入したことにより、高Tgを
有しながら、吸湿性が低く接着性も良好ではんだ耐熱性
に優れた新しい熱硬化性樹脂組成物であり、積層板用樹
脂材料として有効なものである。
As described in Examples and Comparative Examples, the thermosetting resin composition according to the present invention is soluble in a general-purpose solvent such as methyl ethyl ketone, has a low volatile content in the prepreg, and is excellent in workability. By introducing a naphthalene skeleton into epoxy resin and phenol resin, it is a new thermosetting resin composition that has high Tg, low hygroscopicity, good adhesiveness, and excellent solder heat resistance. It is an effective material.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C08L 63/00 C08L 63/00 (72)発明者 朝比奈 浩太郎 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三 井東圧化学株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−112630(JP,A) 特開 平6−145299(JP,A) 特開 昭63−86758(JP,A) 特開 平4−328120(JP,A) 特開 平4−328119(JP,A) 特開 平6−233486(JP,A) 特開 昭58−125717(JP,A) 特開 昭58−65718(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 59/40 - 59/66 B32B 15/08 C08G 59/24 C08J 5/24 C08L 63/00 - 63/10 Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI C08L 63/00 C08L 63/00 (72) Inventor Kotaro Asahina 1190 Kasamacho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. (56) Reference Documents JP-A 5-112630 (JP, A) JP-A 6-145299 (JP, A) JP-A 63-86758 (JP, A) JP-A 4-328120 (JP, A) JP-A 4- 328119 (JP, A) JP-A-6-233486 (JP, A) JP-A-58-125717 (JP, A) JP-A-58-65718 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C08G 59/40-59/66 B32B 15/08 C08G 59/24 C08J 5/24 C08L 63/00-63/10

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式(1)(化1)で示されるポリマレ
イミド樹脂 【化1】 (式中、R1 はl価の有機基、Xa,Xbは水素原子、
ハロゲン原子および有機基から選ばれた同一または異な
る一価の原子または基、lは2以上の整数)を、(a)
分子中に少なくとも二つ以上のエポキシ基を有し、少な
くとも一つのナフタレン骨格を有するするエポキシ樹
脂、(b)分子中に少なくとも二つ以上のOH基を有
し、少なくとも一つのナフタレン骨格を有するフェノー
ル樹脂、および(c)分子中に一つのアルコール性もし
くはフェノール性OH基と、一つ以上のエポキシ基とを
有する分子量300以下の化合物、により変性してなる
変性イミド樹脂であって、(c)の化合物の量がポリマ
レイミド樹脂100重量部に対し5〜100重量部、
(a)成分のエポキシ樹脂の量がポリマレイミド樹脂1
00重量部に対し10〜500重量部、(b)成分のフ
ェノール樹脂が(a)成分のエポキシ樹脂100重量部
に対して、1〜500重量部である変性イミド樹脂を主
成分とする熱硬化性樹脂組成物。
1. A polymaleimide resin represented by the general formula (1) (Chemical Formula 1): (In the formula, R 1 is a monovalent organic group, Xa and Xb are hydrogen atoms,
Same or different monovalent atom or group selected from halogen atom and organic group, l is an integer of 2 or more),
An epoxy resin having at least two or more epoxy groups in the molecule and having at least one naphthalene skeleton, and (b) a phenol having at least two or more OH groups in the molecule and having at least one naphthalene skeleton. A modified imide resin obtained by modifying a resin and (c) a compound having a molecular weight of 300 or less and having one alcoholic or phenolic OH group and one or more epoxy groups in the molecule , (c) The amount of compounds in the polymer
5 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the reimide resin,
The amount of the epoxy resin (a) is polymaleimide resin 1
10 to 500 parts by weight per 100 parts by weight of the component (b)
100 parts by weight of epoxy resin of component (a)
On the other hand, a thermosetting resin composition containing 1 to 500 parts by weight of a modified imide resin as a main component.
【請求項2】 硬化促進剤、難燃剤、充填剤等を配合し
てなる請求項1の熱硬化性樹脂組成物。
2. The thermosetting resin composition according to claim 1, which comprises a curing accelerator, a flame retardant, a filler and the like.
【請求項3】 請求項1または2の樹脂材料を基材に含
浸させたことを特徴とするプリプレグ。
3. A prepreg comprising a base material impregnated with the resin material according to claim 1.
【請求項4】請求項3のプリプレグを複数枚、積層形成
してなること特徴とする熱硬化性樹脂積層板。
4. A thermosetting resin laminate comprising a plurality of the prepregs according to claim 3 laminated.
【請求項5】 最外層金属箔と積層一体化成形してなる
請求項4の熱硬化性樹脂積層板。
5. The thermosetting resin laminate according to claim 4, which is integrally formed with the outermost metal foil.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08259668A (en) * 1995-03-24 1996-10-08 Mitsui Toatsu Chem Inc Resin composition for printed circuit board
JPH1051136A (en) * 1996-05-28 1998-02-20 Mitsui Petrochem Ind Ltd Manufacture of printed-wiring board
JP3399774B2 (en) * 1996-05-31 2003-04-21 三井化学株式会社 Thermosetting resin composition and prepreg and laminate using the same
JPH1065293A (en) * 1996-05-31 1998-03-06 Mitsui Petrochem Ind Ltd Method for mounting flip-chip bga
JP3807789B2 (en) * 1996-08-23 2006-08-09 三井化学株式会社 Photosensitive resin composition
JP3442240B2 (en) * 1996-11-29 2003-09-02 三井化学株式会社 Thermosetting resin composition and prepreg and laminate using the same
JP2004168930A (en) * 2002-11-21 2004-06-17 Mitsui Chemicals Inc Modified polyimide resin composition and its use
JP4676739B2 (en) * 2003-11-12 2011-04-27 三井化学株式会社 Resin composition and prepreg and laminate using the same
KR102142753B1 (en) 2009-03-27 2020-09-14 히타치가세이가부시끼가이샤 Thermosetting resin composition, and prepreg, insulating film with support, laminate plate, and printed wiring board, each obtained using same
KR102127581B1 (en) 2011-01-18 2020-06-26 히타치가세이가부시끼가이샤 Resin composition, and printed wiring board, laminated sheet, and prepreg using same
KR101927723B1 (en) 2011-01-18 2019-03-12 히타치가세이가부시끼가이샤 Modified silicone compound, and thermosetting resin composition, prepreg, laminate plate and printed wiring board using same
US9331536B2 (en) 2011-04-18 2016-05-03 Mitsubishi Electric Corporation Rotator coil and method of manufacturing the same
JP6369134B2 (en) * 2014-05-28 2018-08-08 日立化成株式会社 Thermosetting resin composition, prepreg, film with resin, laminate, multilayer printed wiring board, and semiconductor package
JP6493745B2 (en) * 2015-03-31 2019-04-03 日立化成株式会社 Thermosetting resin composition, prepreg, film with resin, laminate, printed wiring board and semiconductor package

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